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JP4137422B2 - 半導体生産シミュレーション方法 - Google Patents
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JP4137422B2 - 半導体生産シミュレーション方法 - Google Patents

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  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、計算上の生産エリア内における複数の処理装置および複数の自走式搬送装置および半導体製品の各種情報を用いた半導体生産シミュレーション方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体装置の生産ラインは、多品種少量生産への対応が強く要求されているのに加え、半導体製品のライフサイクル自体もますます短くなってきており、固定的な生産ラインよりも柔軟な生産ラインの構築が必要となってきている。
【0003】
このような状況に対応して、生産ラインにおける生産効率を向上させるためには、一般に以下の手法が必要とされる。
(1)製品の品種数/生産量、設備の故障/メンテナンス/段取り替え等の生産における環境変動に柔軟に対応できる生産システム設計手法
(2)製品の流れを制御し、リアルタイムにスケジューリングできる計画手法(3)上記(2)のスケジューリングを受けて、仕掛かり量を適正にコントロールするディスパッチ手法
【0004】
また、半導体装置においては、一般に大規模で処理工程数が多く、さらに同じ工程を繰り返す複合プロセスであることが特徴となっており、特に上記各手法の実現が難しく、たとえ製造する製品が1種類であっても製品の流し方の制御は非常に難解である。
【0005】
このような問題を解決する観点から、特開平7−237095号公報では、類似の品種を集約下降するために類似の加工順序を持つ品種を集約し、これに対応した処理設備をモジュール(グループ)化して生産ラインを構成する生産システム設計手法が開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、処理工程数が多く、品種ごとに工程順序も異なる半導体装置の製造においては、上記手法によるモジュール数が膨大となり、効率の良い生産ラインの設計を行うのは非常に困難である。さらに、モジュールを構成するために専門家の知識と経験が必要となり、膨大な時間と工数を要するという問題がある。
【0007】
また、上記(2)(3)の手法に関しては市販のソフトウェアが存在するが、リスケジューリングのリアルタイム性に乏しく、また、故障やメンテナンス状況に対応するリアルタイム性は備えておらず、生産効率を向上させるには不十分である。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような課題を解決するために成されたものである。すなわち、本発明は、生産エリア内における複数の処理装置および複数の自走式搬送装置を用いた半導体生産システムである。
【0009】
この半導体生産システムにおける処理装置として、自走式搬送装置から発信される情報を受信する処理装置受信手段と、生産エリア内での自身の位置情報および自身の状態情報を発信する処理装置発信手段とを備え、自走式搬送装置として、搬送する半導体製品の工程情報および処理装置発信手段から発信される情報を受信する搬送装置受信手段と、生産エリア内の自身の位置情報および自身の状態情報を発信する搬送装置発信手段とを備えている。
【0010】
しかも、自走式搬送装置が半導体製品を搬送している場合、搬送装置受信手段にて受信した半導体製品の工程情報から搬送先となり得る処理装置を特定し、その処理装置から発信される位置情報および状態情報を受信して、自身の位置情報および状態情報に基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成することでそのベクトルに応じた移動を行い、自走式搬送装置が半導体製品を搭載していない場合、処理装置発信手段から発信される搬送要求信号を搬送装置受信手段にて受信し、その搬送要求信号を発信した処理装置の位置情報および状態情報を受信して、自身の位置情報および状態情報に基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成することでそのベクトルに応じた移動を行っている。
【0011】
また、本発明は、計算上の生産エリア内における複数の処理装置の位置情報、状態情報および複数の自走式搬送装置の位置情報、状態情報および半導体製品の工程情報を用いた半導体生産シミュレーション方法であり、自走式搬送装置が半導体製品を搬送している場合、その半導体製品の工程情報から搬送先となり得る処理装置を特定し、その処理装置の位置情報および状態情報と、自身の位置情報および状態情報とに基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じて生産エリア内を移動し、自走式搬送装置が半導体製品を搭載していない場合、処理装置からの搬送要求があるか否かを判断し、搬送要求のある処理装置の位置情報および状態情報と、自身の位置情報および状態情報とに基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じて生産エリア内を移動する。
【0012】
このように本発明では、生産エリア内における複数の処理装置および複数の自走式搬送装置が各々の位置と状態とに基づき、移動すべき方向および量を示すベクトルを生成して移動するため、生産エリア内で移動できる処理装置や自走式搬送装置が自律的にレイアウトを生成し、製品の仕掛かり状態をリアルタイムに把握できるようになる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。図1は、本実施形態に係る半導体生産システムの概要を説明する模式図である。すなわち、本実施形態の半導体生産システムは、生産エリア内における複数の処理装置(図1ではM1、M2)および複数の自走式の搬送装置(図1ではT1〜T4)を用いて半導体製品(図1ではP1〜P4)を生産するシステムである。
【0014】
処理装置M1、M2としては、半導体製品P1〜P4の生産における各工程で必要な装置であり、洗浄装置、レジスト塗布装置、加熱炉、露光装置、エッチング装置等である。
【0015】
また、搬送装置T1〜T4は、各々生産エリア内を自走して製品P1〜P4を製品投入口SGから必要な処理装置M1、M2へ搬送したり、処理済みの製品P1〜P4を次ぎの処理装置M1、M2へ搬送したり、完成した製品P1〜P4を製品払い出し口EGへ搬送したりする。
【0016】
このような半導体生産システムにおいて、製品P1〜P4は、自らの工程情報(全プロセスフローデータおよび現在仕掛かっている工程のフロー上の位置)と投入されてからの時系列情報(処理履歴)とを保有している。なお、工程情報や時系列情報の保有の仕方は、製品P1〜P4を各々収納するマガジンに取り付けられたICカードなどの記録媒体に記録しておく方法と、バーコードなどの読み取り媒体を介してホストコンピュータで集中管理する方法等があるが、いずれでもよい。
【0017】
処理装置M1、M2は、自らの状態である処理中、待機中、故障中、メンテナンス中などの状態情報(ステータス情報)を保有するとともに、生産エリア内における自身の位置情報を保有している。これらの情報の保有の仕方は、自身の持つ記憶手段に記憶しても、外部のデータベース等に記憶しておいてもよい。
【0018】
また、処理装置M1、M2は、搬送装置T1〜T4から発信される情報を受信する処理装置受信手段(図示せず)と、自身のステータス情報や位置情報を発信する処理装置送信手段(図示せず)とを備えている。なお、本実施形態における半導体生産システムでは、処理装置M1、M2として配置が固定のものと、配置を自由に移動できる移動手段を備えているものとの両方を含む。
【0019】
搬送装置T1〜T4は、自身の状態である製品搬送中、待機中、故障中、メンテナンス中などの状態情報(ステータス情報)を保有するとともに、生産エリア内における自身の位置情報を保有している。これらの情報の保有の仕方は、自身の持つ記憶手段に記憶しても、外部のデータベース等に記憶しておいてもよい。
【0020】
また、搬送装置T1〜T4は、搬送する製品P1〜P4の保有する工程情報および処理装置M1、M2、M3の処理装置発信手段から発信される情報を受信する搬送装置受信手段(図示せず)と、生産エリア内の自身の位置情報および自身の状態情報を発信する搬送装置発信手段(図示せず)とを備えている。
【0021】
ここで、図1の処理装置M1、M2、M3および搬送装置T1〜T4に付随する()内の文字は各々の状態情報を示し、製品P1〜P4に付随する()内の文字は各々の時系列情報を示している。また、図1の<>内の文字は、処理装置M1、M2および搬送装置T1〜T4の各々が発信する情報の種類を示している。
【0022】
このような半導体生産システムにおいて、搬送装置が製品を搬送している場合には、搬送装置受信手段にて受信した製品の工程情報から搬送先となり得る処理装置を特定し、その処理装置から発信される位置情報およびステータス情報を受信して、自身の位置情報およびステータス情報に基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成する。そして、この生成されたベクトルに従い移動を行う。
【0023】
一方、搬送装置が製品を搭載していない場合には、製品投入口からの搬送要求信号および処理装置発信手段から発信される処理装置の製品投入口(処理装置自体の投入口もしくは処理装置から離れた位置にある投入口)および製品払出口(処理装置自体の投入口もしくは処理装置から離れた位置にある投入口)への搬送要求信号を搬送装置受信手段にて受信し、その搬送要求信号を発信した処理装置の位置情報および状態情報を受信して、自身の位置情報および状態情報に基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成する。そして、生成されたベクトルに従い移動を行う。
【0024】
このようなベクトルに基づく移動によって、処理装置M1、M2や搬送装置T1〜T4は自律的にレイアウトを変化させてリアルタイムで効率の良い生産を行うことができるようになる。
【0025】
ここで、各装置の具体的な動作を説明する。処理装置M1は、自身のステータス情報が(待機中)であるので、処理可能信号<B1>を発信する。一方、搬送装置T1は、製品P1を搬送中であるが、取得した製品P1の工程情報から次工程を実行できる処理装置M1の発信している処理可能信号<B1>を受信し、自身の移動方向および移動距離を示すベクトルV−T1を生成する。
【0026】
なお、処理装置M1に移動手段が設けられている場合には、搬送装置T1から発信される製品P1に関する処理要求信号<A1>を受信して、自身の位置情報およびステータス情報に基づき移動手段の移動方向および移動距離を示すベクトルV−M1を生成する。
【0027】
搬送装置T1および処理装置M1の各々が生成するベクトルV−T1、V−M1は随時変化していき、各ベクトルV−T1、V−M1に基づき移動する搬送装置T1および処理装置M1の距離が近づくほど、ベクトルが大きくなって移動距離が増していく。やがて搬送装置T1は処理装置M1に対する製品P1の搬送を完了する。
【0028】
搬送装置T1が処理装置M1に到達して、製品P1を渡した段階で処理装置M1による製品P1の処理が開始される。その時点で処理装置M1のステータス情報は(処理中)、搬送装置T1のステータス情報は(待機中)となる。
【0029】
ここで処理装置が発信する各種信号について説明する。図2は距離に対する信号の強さを示す図である。本実施形態では、処理装置M1から発信する信号として、距離が離れるほど信号の強さが弱くなる電波等を利用している。つまり、処理装置から遠い位置にある搬送装置等では信号の強さが弱いため、この信号に基づき生成されるベクトルの大きさは小さくなる。一方、処理装置から近いほど信号が強くなるため、生成されるベクトルの大きさは大きくなる。
【0030】
これにより、処理装置からの要求を受けることができ複数の搬送装置のうち、処理装置から最も近い位置にある搬送装置がいち早く要求元の処理装置へ向かうようになる。なお、図2に示す関係は、処理装置と搬送装置との位置関係のみならず、製品投入口や製品払出口など信号を発信する全ての物と信号を受ける全ての物との2者間の関係に適用される。
【0031】
また、図2は2者間を近づけるための関係を示しているが、図3は距離に対する信号のマイナス側の強さを示す図である。つまり、2者間を遠ざけるための関係を示している。これは、生産エリア内で搬送装置等が移動できない場所、例えば壁や固定の処理装置がある部分に適用される関係で、その物との距離が近づくほどマイナスの信号が強くなり、衝突を避けることができる。例えば、搬送装置が壁に近づくと、マイナスの信号が強くなって壁から遠ざける方向のベクトルが大きく生成される。マイナスの信号は斥力フィールド(Repulsion field)と呼ばれ、例えば、図中に示す式によって求められる。
【0032】
このような図2、図3に示す関係から、障害物を避けながら適切な動線となるベクトルが随時生成される。したがって、搬送装置T1で搬送中の製品P1を処理することができる処理装置としてM1、M2の複数が存在し、各々から処理可能信号<B1>が発信されている場合、搬送装置T1で生成されるベクトルとしては処理装置M1と処理装置M2との両方に向けたもの生成されるが、最終的にはこれらのベクトルの合力であるベクトルV−T1によって移動方向が決まる。図1に示す例では搬送装置T1から近い位置にある処理装置M1へのベクトルが大きいため、処理装置M1へ近づくよう搬送されることになる。
【0033】
次に、製品投入口SGから搬送要求信号<B2>が発信されている場合を説明する。この場合、ステータス情報が(待機中)となっている搬送装置T2、T3で搬送要求信号<B2>を受信できる位置にある搬送装置T2によりベクトルV−T2が生成され、このベクトルV−T2に従って搬送装置T2が移動していく。
【0034】
なお、図1に示すように、製品投入口SGから発信される搬送要求信号<B2>を受信する搬送装置がT2のみである場合、搬送装置T2で生成されるベクトルV−T2は製品投入口SGの重心方向へ真っ直ぐ向くことになる。また、製品投入口SG自身に移動手段が設けられている場合には、製品投入口SGでもベクトルV−SGが生成され、搬送装置T2の方向へ向けて移動していくことになる。
【0035】
処理装置M2は、自身のステータス情報が(待機中)であるが、処理済みの製品P3を保持している状態であるため、搬送要求信号<B2>を発信している。この搬送要求信号<B2>を受信できるのは(待機中)の搬送装置T3であり、<B2>を受信した後に搬送装置T3は自らの移動方向を決定するベクトルV−T3を生成する。
【0036】
なお、処理装置M2に移動手段が設けられている場合には、次工程の処理装置M3から発信される位置情報およびステータス情報を受信して、自身の位置情報およびステータス情報に基づき移動手段の移動方向および移動距離を示すベクトルV−M2を随時生成し、これに従い移動する。
【0037】
搬送装置T3が処理装置M2まで到達して製品P3を受け取ると、搬送装置T3はその製品P3の工程情報を読み取り、次工程の処理を行うための処理装置へ向かって移動する。
【0038】
製品P4は時系列情報が(終了)であり、この生産エリアでの処理が完了した状態となっている。これを搬送する搬送装置T4は、製品払出口EGの発信する処理可能信号<B1>を受信してベクトルV−T4を生成し、このベクトルV−T4に従い移動する。
【0039】
なお、製品払出口EG自身に移動手段が設けられている場合には、製品払出口EGでもベクトルV−EGが生成され、搬送装置T4の方向へ向けて移動していくことになる。
【0040】
このように、各処理装置M1、M2、搬送装置T1〜T4、製品投入口SG、製品払出口EGでは移動のためのベクトルを随時生成し、このベクトルに従い移動することで、リアルタイムに最適なレイアウト、搬送経路を決定し、自律的に効率の良い生産を行うことが可能となる。
【0041】
次に、処理装置が処理済みの製品を一時保管できるバッファを備えている場合の移動について説明する。図4は、処理装置がバッファを備えている場合の移動を説明する模式図である。図4に示す例では、処理装置M2にバッファBFが設けられており、処理済みの製品P3がバッファBFに保管されている。
【0042】
処理装置M2は、その製品P3の工程情報を読み取り、次工程を実行できる処理装置への搬送要求信号<B2>を発信する。さらに、バッファBFを備える処理装置M2では、製品P3の処理が終了してバッファBFへ保管した時点から処理が可能となることから、処理可能信号<B1>を発信することができる。
【0043】
処理装置M2のステータス情報は(待機中)となり、処理可能信号<B1>と搬送要求信号<B2>との両方を発信している状態となる。ここで、搬送装置T2は製品P2を搬送中であるが、製品P2の次の処理を行うために工程情報を取得し、処理要求信号<A1>を発信している。また、ステータス情報が(待機中)となっている空の搬送装置T3は、処理装置M2が発信する搬送要求信号<B2>を受信して、バッファBFの重心に向けたベクトルV−T3を随時生成し、これに従い移動していく。
【0044】
また、搬送装置T2は、処理装置M2から発信される処理可能信号<B1>を受信して、ベクトルV−T2を随時生成し、これに従い移動していく。
【0045】
ここで、処理装置M2に移動手段が設けられている場合、処理装置M2は搬送装置T2が搬送する製品P2の処理要求信号<A1>を受信してベクトルV−M2aを随時生成する。これとともにバッファBFを備える処理装置M2は、次工程の処理装置M3に向けてベクトルV−M2bを随時生成する。
【0046】
図5は、バッファを備えた処理装置のベクトルによる移動を説明する模式図である。処理装置M2では、先に説明したように搬送装置T2に向けたベクトルV−M2aと次工程の処理装置M3に向けたベクトルV−M2bとを生成している。このように複数のベクトルが生成された場合には、これらを合成して成るベクトルV−M2abに向けて処理装置M2は移動していくことになる。
【0047】
なお、上記説明ではバッファBFが処理装置M2に設けられている例を示したが、例えば生産エリア内に独立した一時保管装置を有する場合でも、保管装置から発信される搬送要求信号や処理可能信号に基づき搬送装置がベクトルを生成して移動する。もしくは自走可能な保管装置であれば自身の移動方向を決定するベクトルを生成し、移動するようになる。
【0048】
ここで、図6の模式図に基づいて生産システム全体の移動について説明する。なお、図6では、生産エリア内に5台の処理装置M1〜M5があり、全て自走可能となっている。また、各処理装置M1〜M5にはバッファBFが設けられている。搬送装置はT1〜T3の3台があり、搬送装置T1、T2が各々製品種A、Bの製品を搬送中、搬送装置T3が待機中となっている。生産エリアには製品の搬入口、搬出口が設けられており、ここでは生産エリアの隅に設定されている。また、図6に示す各処理装置の()内は処理可能工程を示している。
【0049】
製品種Aは、工程情報a、b、c、E(ENDの意味)を保有し、製品種Bは、工程情報a、b、Eを保有している。図中処理装置M1〜M5、搬送装置T1〜T3の各要素から延出する矢印は生成されるベクトルを示しており、一つの要素から複数のベクトルが生成されている場合にはそれらの合成ベクトルに従って移動することになる。
【0050】
例えば、搬送装置T1は製品種Aの製品を搬送中であり、この製品の工程情報から(a)の処理を実行できる処理装置M1、M2の両方に対してベクトルが生成される。各ベクトルの大きさは搬送装置T1と各処理装置M1、M2との距離に応じて決まる。搬送装置T1は、処理装置M1、M2に向かう各ベクトルの合成ベクトルに従って移動する。
【0051】
一方、処理装置M1は、搬送装置T1が搬送している製品種Aの製品の処理を実行可能であるため、搬送装置T1に向けてベクトルが生成される。これとともに製品種Bの製品を搬送中の搬送装置T2についても、その製品に対する(a)の処理が可能であるため、搬送装置T2に向けてのベクトルも生成される。処理装置M1は、搬送装置T1、T2に向けて各々生成されるベクトルの合成ベクトルに従い移動する。
【0052】
さらに、処理装置M1のバッファBFには処理済みの製品種Aの製品が一時格納されている。この製品の次の処理は(b)であるため、処理(b)を実行できる処理装置M4へ向けてベクトルが生成される。なお、処理装置M3も処理(b)を実行できるが、現段階では他の製品の処理中であるので処理可能信号は発信されておらず、処理装置M1のバッファBFから処理装置M2へ向けたベクトルは生成されない。
【0053】
結局、処理装置M1は、処理装置M1から搬送装置T1、T2へ向けて生成される各ベクトルの合成ベクトルと、バッファBFから処理装置M4へ向けて生成されるベクトルとの合成ベクトルによって移動方向および移動距離が決定されることになる。
【0054】
他の搬送装置および処理装置についても、搬送装置T1や処理装置M1と同様にベクトルを生成し、複数のベクトルが生成された場合にはそれらの合成ベクトルに従って移動方向および移動距離を決定する。また、搬入口や搬出口からも搬送要求信号が発信され、ベクトル生成のために使用される。通常は、搬送装置T1〜T3のうち製品を搭載していないものが搬入口からの搬送要求信号を受信することで、それに向けてのベクトルを生成して移動し、製品を搭載しているものが搬出口からの搬送要求信号を受信することで、それに向けてベクトルを生成して移動するが、処理装置M1〜M5自身が搬入口、搬出口からの搬送要求信号を受信して搬入口、搬出口へ移動するようにしてもよい。
【0055】
このように生産エリア内で移動できる搬送装置T1〜T3や処理装置M1〜M5が自律的に移動方向および移動距離をリアルタイムで生成することで、常に良好な条件で生産を行うことが可能となる。
【0056】
次に、本実施形態に係る半導体生産シミュレーション方法を説明する。この半導体生産シミュレーション方法は、先に説明した自律型の半導体生産システムを計算上の生産エリア内、および計算上の搬送装置、処理装置等で実現するためのものである。つまり、コンピュータによるシミュレーションによって最適な半導体生産システムを構築するための方法であり、入力情報として、例えば生産エリアであるフロアサイズ、処理装置等の設備仕様、生産する製品の仕様、搬送装置の仕様、搬送装置の数、生産計画、ディスパッチルールがある。
【0057】
また、これらの入力情報を基にしてシミュレーションを行い、例えば、所定のステップ時間毎のフロアレイアウト、ジョブ毎の動線長さ、ジョブ毎のリードタイム、スループットを計算して出力する。以下、入力された情報を基に搬送装置、処理装置の各動作をシミュレーションする処理を順に説明する。
【0058】
図7、図8は、搬送装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャートである。先ず、図7に示すように、製品を搭載しているか否かを判断する(ステップS1)。搭載していない場合には図8に示すステップS10以降の処理へ進む(後述)。
【0059】
搬送装置が製品を搭載している場合には、その製品の工程情報(次工程の情報)を読み取る(ステップS2)。次に、読み取った工程情報から最終工程が終了しているか否かを判断し(ステップS3)、終了している場合には払出口からの信号を受信して移動方向、移動距離を示すベクトルを計算し、払出口へ製品を搬送する(ステップS4)。
【0060】
終了工程でない場合には、次工程の処理が可能な処理装置からの信号を受信したか否かを判断する(ステップS5)。受信していない場合には現在位置で搬送要求信号を必要に応じて回転しながらセンシングする(ステップS6)。一方、処理装置からの信号を受信した場合には、受信した信号に基づいて処理装置への移動方向、移動距離を示すベクトルを計算して移動するとともに、処理要求信号を発信する(ステップS7)。
【0061】
次に、処理可能な装置に到着したか否かを判断し(ステップS8)、到着していない場合にはステップS5〜S7を繰り返す。搬送装置が処理可能な装置に到着した場合には製品の引き渡しを行う(ステップS9)。
【0062】
次に、図8に示すステップS10以降の処理へ移る。この状態では搬送装置に製品が搭載されていないため、先ず、投入口または処理装置からの搬送要求信号を受信したか否かを判断する(ステップS10)。
【0063】
受信していない場合には、現在位置で搬送要求信号を必要に応じて回転しながらセンシングする(ステップS11)。一方、搬送要求信号を受信した場合には、その信号を基に移動方向、移動距離を示すベクトルを計算して移動を行う(ステップS12)。
【0064】
次に、投入口または目標となる処理装置に到達したか否かを判断し(ステップS13)、到達していない場合にはステップS12〜S13を繰り返す。一方、到達した場合には製品を搭載し(ステップS14)、図7に示すステップS2へ戻って搭載後の処理を行う。
【0065】
次に、処理装置の移動についてのシミュレーション方法を図9〜図13のフローチャートに基づいて説明する。先ず、図9に示すように、処理装置のステータス情報によって処理が分かれる。すなわち、処理装置がアイドル状態であれば図10に示す処理、故障中であれば図11に示す処理、メンテナンス中であれば図12に示す処理、処理中であれば図13に示す処理を行う。
【0066】
はじめにアイドル状態の場合の処理を説明する(図10参照)。先ず、処理可能信号をONにする(ステップS101)。次に、A:バッファに製品が有るか否か、B:搬送装置からの処理要求が有るか否かの各々によって処理を分ける。
【0067】
A:バッファに製品が有り(Yes)、B:搬送装置からの処理要求有り(Yes)の場合、搬送要求信号をONにして(ステップS103)、搬送装置に搭載されている製品の工程情報を読み取る(ステップS104)。
【0068】
次いで、バッファに格納されている製品の工程情報から次工程の処理が可能か否かを判断し(ステップS105)、不可能な場合には処理要求を出している搬送装置に向けてのベクトルを計算して移動を行い(ステップS106)、次工程の処理が可能な場合には搬送装置および次工程処理可能な装置に対するベクトルを計算して移動を行う(ステップS107)。
【0069】
そして、製品が到着したか否かを判断し(ステップS108)、到着した場合には処理可能信号をOFFにして(ステップS109)、ステップS400の処理中における処理へ移行する。
【0070】
一方、製品が到着していない場合には搬送が完了したか否かを判断し、していない場合にはステップS105へ戻る。搬送装置の搬送が完了している場合には搬送要求信号をOFFにしてステップS118へ進む。
【0071】
また、ステップS102の判断で、A:バッファに製品が有り(Yes)で、B:搬送装置からの処理要求がない(No)の場合には、搬送要求信号をONにして(ステップS112)、バッファに格納されている製品の工程情報を読み取り(ステップS113)、次工程の処理が可能か否かを判断する(ステップS114)。
【0072】
そして、次工程の処理が可能になった段階で次工程の処理を実行する処理装置に向けてのベクトルを計算し、そのベクトルに従って移動を行う(ステップS115)。その後、搬送が完了したか否かを判断し(ステップS116)、完了していないばあいにはステップS114〜S115を繰り返し、新たなベクトルの計算および移動を順次行っていく。搬送が完了した場合には搬送要求信号をOFFにして(ステップS117)、ステップS118へ進む。
【0073】
また、A:バッファに製品がなく(No)、B:搬送装置からの処理要求があり(Yes)の場合もステップS118へ進む。ここでは搬送装置に向けてベクトル計算を行い、そのベクトルに従った移動を行う(ステップS118)。
【0074】
次に、製品が到着したか否かを判断し(ステップS119)、到着していない場合にはステップS118へ戻る。一方、到着している場合には、処理可能信号をOFFにして(ステップS120)、ステップS400の処理中における処理へ移行する。
【0075】
次に、処理装置のステータス情報が故障中の場合(ステップS200)の処理について説明する(図11参照)。先ず、処理可能信号をOFFにする(ステップS201)。その後、バッファに製品が格納されているか否かを判断し(ステップS202)、格納されている場合にはステップS203〜S209の処理、格納されていない場合にはステップS210〜ステップS212の処理を行う。
【0076】
先ず、バッファに製品が格納されている場合には、搬送要求信号をONにして(ステップS203)、その製品の工程情報を読み取り(ステップS204)、次工程が処理可能か否かを判断する(ステップS205)。処理可能になった段階で次工程の処理を実行する処理装置へのベクトルを計算し、移動を行う(ステップS206)。
【0077】
次いで、次工程の処理装置への搬送が完了したか否か判断し(ステップS207)、完了した場合には搬送要求信号をOFFにして(ステップS208)、ステップS202へ戻る。
【0078】
一方、搬送が完了していない場合には修理が完了したか否かを判断し(ステップS209)、完了していない場合にはステップS204へ戻る。また、修理が完了している場合には図9に示すルート▲1▼へ戻る。
【0079】
また、バッファに製品が格納されていない場合には、修理が完了したか否かを判断し(ステップS210)、修理が完了した段階で処理中の製品があるか否かを判断する(ステップS211)。処理中の製品がない場合には図9に示すルートの▲1▼へ戻る。一方、処理中の製品がある場合には最初から処理をやり直し(ステップS212)、図9の処理中(ステップS400)の処理へ進む。
【0080】
次に、処理装置のステータス情報がメンテナンス中の場合(ステップS300)の処理について説明する(図12参照)。先ず、処理可能信号をOFFにして(ステップS301)、バッファに製品が格納されているか否かを判断する(ステップS302)。格納されていない場合にはメンテナンスが完了したか否かを判断し(ステップS303)、完了したら図9に示すルートの▲1▼へ戻る。
【0081】
一方、バッファに製品が格納されている場合には、搬送要求信号をONにして(ステップS304)、その製品の工程情報を読み取り(ステップS305)、次工程の処理が可能か否かを判断する(ステップS306)。次工程の処理に可能になった段階で、その処理を実行する処理装置へ向けてのベクトルを計算し、移動を行う(ステップS307)。
【0082】
そして、製品の搬送が完了したか否かを判断し(ステップS308)、完了した場合には搬送要求信号をOFFにして(ステップS309)、ステップS302へ戻る。一方、搬送が完了していない場合にはメンテナンスが完了したか否かを判断し(ステップS310)、完了していない場合にはステップS305へ戻り、完了している場合には図9に示すルートの▲1▼へ戻る。
【0083】
次に、処理装置のステータス情報が処理中の場合(ステップS400)の処理について説明する(図13参照)。先ず、バッファに製品が格納されているか否かを判断し(ステップS401)、格納されている場合にはステップS402〜S408の処理、格納されていない場合にはステップS409〜S416の処理を行う。
【0084】
先ず、バッファに製品が格納されている場合には、搬送要求信号をONにして(ステップS402)、その製品の工程情報を読み取り(ステップS403)、次工程が処理可能か否かを判断する(ステップS404)。処理可能になった段階で次工程の処理を実行する処理装置へのベクトルを計算し、移動を行う(ステップS405)。
【0085】
次いで、次工程の処理装置への搬送が完了したか否か判断し(ステップS406)、完了した場合には搬送要求信号をOFFにして(ステップS407)、図9に示すルートの▲1▼へ戻る。
【0086】
一方、搬送が完了していない場合には処理が完了したか否かを判断し(ステップS408)、完了していない場合にはステップS403へ戻る。また、処理が完了している場合には図9に示すルート▲1▼へ戻る。
【0087】
また、バッファに製品が格納されていない場合には、処理が終了したか否かを判断し(ステップS409)、処理が終了した段階でバッファに空きがあるか否かを判断する(ステップS410)。そして、バッファに空きができた段階で処理済みの製品をバッファに移し、搬送要求信号をONにする(ステップS411)。
【0088】
次に、バッファに移した製品の工程情報を読み取り(ステップS412)、次工程の処理が可能か否かを判断し、(ステップS413)、可能になった段階で次工程の処理を実行する処理装置に向けてベクトルを計算し、そのベクトルに従った移動を行う(ステップS414)。
【0089】
この移動の結果、製品の搬送が完了したか否かを判断し(ステップS415)、完了していない場合にはステップS413〜S414の処理を繰り返して随時ベクトルの計算および移動を行う。また、搬送が完了した場合には、搬送要求信号をOFFにして(ステップS416)、図9に示すルートの▲1▼へ戻る。
【0090】
以上説明した搬送装置および処理装置の移動におけるシミュレーションを自律的に行うと、予め設定した生産エリア内で所定のステップ毎に搬送装置と処理装置とが逐次移動していくことになる。
【0091】
図14は、出力結果の一つであるシミュレーション後のレイアウトを示す模式図である。すなわち、初期値では生産エリア内に配置された各搬送装置、各処理装置(いずれも図中ドットで示す)が、上記のシミュレーション方法によって所定のステップ毎に最適なレイアウトへ自律的に移動する。シミュレーション後には、各ステップTime1〜5…毎に最適なレイアウトが表示され、その後もステップ毎に各搬送装置、各処理装置が順次移動していく様子が分かるようになる。
【0092】
次に、本実施形態の半導体生産シミュレーション方法における具体例を説明する。先ず、半導体生産シミュレーション方法を行うための入力情報を設定する。設定する入力情報には、フロアサイズ、設備仕様、製品仕様、搬送仕様、生産計画、ディスパッチルールがある。
【0093】
フロアサイズとしては、生産エリアとなるフロアの縦、横の長さ、投入口、払出口の位置などがある。なお、一つの生産エリア内でサブエリアを設定して、そこから処理装置や搬送装置が外へ出ないように設定することもできる。
【0094】
また、設備仕様としては、処理装置の種類、台数、1台のみの処理装置の台数、バッチ処理を行うことができる処理装置の台数、代替可能な処理装置(サブエリア間でも代替可能なもの。但し、サブエリア専属の処理装置は各サブエリアから外へ出ない。)などである。
【0095】
さらに、設備仕様として、各処理装置の大きさ(例えば、長方形で表現)、各処理装置の故障頻度と停止時間(故障頻度としては例えばMTTF(Mean Time To Failures)、停止時間としては例えばMTTR(Mean Time To Repair))を設定する。
【0096】
また、各処理装置のメンテナンスについては、処理中の場合は処理終了後に行い、代替可能装置は複数同時にメンテナンスしないというルールを設ける。さらに、処理装置がバッファを備えている場合には、バッファの大きさ、最大格納数を設定する。
【0097】
処理装置については、各処理装置毎の処理時間(段取り時間を含む)、ジョブ投入口(通常は正面中央、洗浄装置のみ左側など)、初期レイアウト、シミュレーション上の移動速度(例えば、搬送車の1/10程度)を設定する。
【0098】
また、生産エリア内に製品のストッカがある場合には、その位置、台数、バッファの位置を設定する。さらに、処理装置がバッチ処理可能な場合には、最大処理ロット数を設定する。
【0099】
製品仕様および生産計画としては、対象製品の種類、オーダ(ロット数)、投入エリア(投入サブエリア)、納期、各商品に対する工程情報などを設定する。
【0100】
搬送仕様としては、搬送車の台数、各搬送車の移動速度などを設定する。ディスパッチルールとしては、クリティカル・レシオ(納期優先・工程進捗を考慮など)を設定する。
【0101】
これらの入力情報を設定し、上記説明した本実施形態の半導体生産シミュレーション方法を実行すると、出力情報として所定ステップ毎のフロアレイアウト、ジョブ毎の動線長さ、ジョブ毎のリードタイム、スループット等が表示される。
【0102】
図15は、あるステップでのフロアレイアウトの表示例を示す図で、(a)は処理装置に故障がない状況(全て正常に稼働している場合)でのレイアウト、(b)は処理装置に故障が発生している状況でのレイアウトとなっている。
【0103】
また、図16は、ジョブ毎の動線の長さを示す図で、(a)は処理装置に故障がない状況、(b)は処理装置に故障がある状況での動線長さである。この図では、横軸がジョブ番号、縦軸が動線である。ディスプレイ等の表示装置には、ジョブ毎の動線の長さを示すグラフと平均値とが、所定ステップ毎に逐次変化して表示される。
【0104】
図17は、ジョブ毎のリードタイムを示す図で、(a)は処理装置に故障がない状況、(b)は処理装置に故障がある状況でのリードタイムである。この図では、横軸がジョブ番号、縦軸がリードタイムである。ディスプレイ等の表示装置には、ジョブ毎のリードタイムを示すグラフと平均値とが、所定ステップ毎に逐次変化して表示される。
【0105】
図18は、スループットを示す図で、(a)は処理装置に故障がない状況、(b)は処理装置に故障がある状況でのスループットである。この図では、横軸が日数、縦軸がスループット(ジョブ数)である。ディスプレイ等の表示装置には、スループットが所定ステップ毎に逐次変化して表示される。
【0106】
このように、本実施形態の半導体生産シミュレーション方法を用いることで、所定ステップでの最適レイアウトや、処理装置の故障の有無によるレイアウト、動線長さ、リードタイム、スループットの差を的確に把握でき、最適な生産システムを容易に構築できるようになる。
【0107】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば次のような効果がある。すなわち、生産における環境の変動(製品の品種数、生産量、設備の故障、メンテナンス、段取り替え等)に柔軟に対応することができ、各処理装置の位置や状態情報をリアルタイムに把握することが可能となる。しかも、このような半導体生産システムを、専門知識を必要としないで構築できるとともに、シミュレーションでも容易に算出することが可能となる。これによって、生産向上の設備計画、レイアウト策定、スケジューリング/レイアウト/設備計画案の評価等を容易に行うことが可能となる。特に、半導体装置のような大規模で処理工程数が多く、さらに同じ工程を繰り返す複合プロセスを必要とする場合では本発明が有効となり、リードタイムの短縮による省エネルギー化および動線長さの短縮による品質向上等を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る半導体生産システムの概要を説明する模式図である。
【図2】距離に対する信号の強さを示す図である。
【図3】距離に対する信号のマイナス側の強さを示す図である。
【図4】処理装置がバッファを備えている場合の移動を説明する模式図である。
【図5】バッファを備えた処理装置のベクトルによる移動を説明する模式図である。
【図6】生産システム全体の移動について説明する模式図である。
【図7】搬送装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その1)である。
【図8】搬送装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その2)である。
【図9】処理装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その1)である。
【図10】処理装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その2)である。
【図11】処理装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その3)である。
【図12】処理装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その4)である。
【図13】処理装置の移動についてのシミュレーション方法を説明するフローチャート(その5)である。
【図14】出力結果の一つであるシミュレーション後のレイアウトを示す模式図である。
【図15】あるステップでのフロアレイアウトの表示例を示す図である。
【図16】ジョブ毎の動線の長さを示す図である。
【図17】ジョブ毎のリードタイムを示す図である。
【図18】スループットを示す図である。
【符号の説明】
M1〜M5…処理装置、P1〜P4…製品、T1〜T4…搬送装置

Claims (5)

  1. 計算上の生産エリア内における複数の処理装置の位置情報、状態情報および複数の自走式搬送装置の位置情報、状態情報および半導体製品の工程情報を用いた半導体生産シミュレーション方法において、
    前記自走式搬送装置が半導体製品を搬送している場合、その半導体製品の工程情報から搬送先となり得る処理装置を特定し、その処理装置の位置情報および状態情報と、自身の位置情報および状態情報とに基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じた前記生産エリア内での移動を行い、
    前記自走式搬送装置が半導体製品を搭載していない場合、前記処理装置からの搬送要求があるか否かを判断し、搬送要求のある処理装置の位置情報および状態情報と、自身の位置情報および状態情報とに基づき移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じた前記生産エリア内での移動を行う
    ことを特徴とする半導体生産シミュレーション方法。
  2. 前記処理装置が移動手段を備えている場合、前記自走式搬送装置の位置情報および状態情報と、前記処理装置の位置情報および状態情報とに基づき前記移動手段の移動方向および移動距離を示すベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じた前記生産エリア内での移動を行う
    ことを特徴とする請求項記載の半導体生産シミュレーション方法。
  3. 前記処理装置および前記搬送装置の各々の位置情報は、各装置からの距離が遠くなるほど弱くなる関係を用いる
    ことを特徴とする請求項記載の半導体生産シミュレーション方法。
  4. 前記処理装置に、処理済みの半導体製品を保管するバッファが設けられている場合、前記バッファに保管されている半導体製品の工程情報から次の工程で用いられる処理装置を判断し、その処理装置の位置情報および状態情報に基づき、自身の前記ベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じた前記生産エリア内での移動を行う
    ことを特徴とする請求項記載の半導体生産シミュレーション方法。
  5. 前記生産エリア内に製品投入口および製品払出口が設けられている場合、前記搬送装置は前記製品投入口もしくは前記製品払出口からの搬送要求を受信して、自身の前記ベクトルを随時生成し、そのベクトルに応じた前記生産エリア内での移動を行う
    ことを特徴とする請求項記載の半導体生産シミュレーション方法。
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