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JP4157537B2 - Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents
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JP4157537B2 - Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing color filter and method for manufacturing liquid crystal display device Download PDF

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Description

本発明はカラーフィルタおよび液晶表示装置に係り、特に表示品質に優れた液晶表示装置と、これに用いるカラーフィルタに関する。   The present invention relates to a color filter and a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device excellent in display quality and a color filter used therefor.

近年、フラットディスプレイとして、カラー液晶表示装置が注目されている。カラー液晶表示装置の一例として、ブラックマトリックス、複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色)からなる着色層、共通透明電極層および配向層を備えたカラーフィルタと、薄膜トランジスタ(TFT素子)、画素電極および配向層を備えた対向電極基板とを所定の間隙をもたせて向かい合わせ、この間隙部に液晶材料を注入して液晶層とした透過型の液晶表示装置がある。また、上記のカラーフィルタの基板と着色層との間に反射層を設けた反射型の液晶表示装置もある。   In recent years, a color liquid crystal display device has attracted attention as a flat display. As an example of a color liquid crystal display device, a black matrix, a colored layer composed of a plurality of colors (usually three primary colors of red (R), green (G), and blue (B)), a common transparent electrode layer, and an alignment layer are provided. A transmissive liquid crystal in which a color filter and a counter electrode substrate including a thin film transistor (TFT element), a pixel electrode, and an alignment layer face each other with a predetermined gap and a liquid crystal material is injected into the gap to form a liquid crystal layer. There is a display device. There is also a reflective liquid crystal display device in which a reflective layer is provided between the color filter substrate and the colored layer.

このようなカラー液晶表示装置では、液晶の配向不良、液晶に印加される電圧変化、表示面内の電圧のバラツキ等により液晶の配向状態が変化すると、表示不良が生じる。この表示不良には、次の焼付きと白ムラとがある。   In such a color liquid crystal display device, when the alignment state of the liquid crystal changes due to a liquid crystal alignment failure, a voltage change applied to the liquid crystal, a voltage variation in the display surface, or the like, a display failure occurs. This display defect includes the following image sticking and white unevenness.

焼付きは、同一画素に一定時間電圧を印加した後、電圧を低下、あるいは、切った場合、この画素の透過率が周辺の一定時間電圧を印加しなかった画素の透過率と異なるため、見た目にムラ状態が認識され、さらに、長時間放置してもムラ状態が継続する現象である。ノーマリーホワイトパネルにおける焼付き現象では、一定時間電圧を印加した画素が周辺画素よりも暗く見える。このような焼付き現象は、電圧印加の間にイオン性物質が電極に付着し、次に電圧を解除してもイオン性物質が電極上に吸着したままとなり、このイオン性物質による電圧が液晶に作用し続けることが原因と考えられる。   Image sticking occurs when the voltage is lowered or turned off after a voltage is applied to the same pixel for a certain period of time, so that the transmittance of this pixel differs from the transmittance of the surrounding pixels for which the voltage was not applied for a certain period of time. This is a phenomenon in which the uneven state is recognized, and the uneven state continues even after being left for a long time. In a burn-in phenomenon in a normally white panel, a pixel to which a voltage is applied for a certain time appears darker than surrounding pixels. Such seizure phenomenon is caused by the fact that the ionic substance adheres to the electrode during voltage application, and the ionic substance remains adsorbed on the electrode even if the voltage is released next, and the voltage due to this ionic substance is liquid crystal. It is thought that this is caused by continuing to act on

また、白ムラは、電圧を印加して黒画面を表示した際、表示領域の一部が透過率ゼロとならないため、ムラ状態が認識される現象である。これは、本来電極間に印加された電圧が一定に維持されるべきところ、液晶中にイオン性物質が存在すると、このイオン性物質が移動する、すなわち、電流が流れるため、電極間の電圧が降下することが原因と考えられる。   Further, the white unevenness is a phenomenon in which the uneven state is recognized because a part of the display area does not become zero transmittance when a black screen is displayed by applying a voltage. This is because the voltage applied between the electrodes should be kept constant, but if there is an ionic substance in the liquid crystal, the ionic substance moves, that is, the current flows, so the voltage between the electrodes The cause is thought to be descending.

上記のような表示不良現象を引き起こすイオン性物質は、電極上に留まらず、液晶層の中を容易に移動すると考えられている。このイオン性物質の発生源としては種々の発生源が考えられ、表示不良を防止するために、製造工程で使用する薬液、大気、純水等に含まれる不純物管理や、装置、人体等からの発塵管理や、プロセス条件の最適化が行なわれている。また、カラーフィルタや対向電極基板の表面洗浄や、製造工程での紫外線照射・表面研磨等による残さ等の不純物の除去が行なわれている。   It is considered that the ionic substance that causes the display defect phenomenon as described above does not stay on the electrode but easily moves in the liquid crystal layer. Various sources can be considered as the source of this ionic substance. In order to prevent display defects, impurities from chemicals, air, pure water, etc. used in the manufacturing process, management from equipment, human bodies, etc. Dust generation management and process conditions are optimized. Further, impurities such as residues are removed by cleaning the surface of the color filter or the counter electrode substrate, or by irradiating with ultraviolet rays or polishing the surface in the manufacturing process.

このような対応により、表示不良現象は発生しにくくなったものの、長時間表示や高温高湿下等の厳しい表示条件下では、依然として発生する確率が高いという問題がある。   Although such a response makes it difficult for the display failure phenomenon to occur, there is a problem that the probability of the display failure is still high under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity.

本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、液晶層へのイオン性物質の混入防止がより確実になされるカラーフィルタと、表示品質に優れた液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and provides a color filter that can more reliably prevent an ionic substance from being mixed into a liquid crystal layer, and a liquid crystal display device excellent in display quality. With the goal.

本発明は、液晶表示装置の液晶層と接触する樹脂部材を上記のようなイオン性物質の発生源の一つと考え、樹脂部材から液晶層中に移行したイオン性物質による表示不良と相関のある特性として、樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)に着目してなされたものである。   The present invention considers a resin member that is in contact with the liquid crystal layer of a liquid crystal display device as one of the sources of the ionic substance as described above, and has a correlation with a display defect due to the ionic substance transferred from the resin member into the liquid crystal layer. As a characteristic, attention is paid to the voltage holding ratio and the residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process from the resin member.

すなわち、上記のような目的を達成するために、本発明は、基板と、該基板上に所定のパターンで形成された複数色からなる着色層と、少なくとも前記着色層を覆うように形成された透明な樹脂保護層と、複数の所定部位に形成され前記樹脂保護層よりも突出した透明な樹脂柱状凸部とを備えるカラーフィルタの製造方法において電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂保護層および前記樹脂柱状凸部を形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、樹脂保護層上に共通透明電極層を形成するような構成とした
That is, in order to achieve the above object, the present invention is formed so as to cover a substrate, a colored layer formed of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the substrate, and at least the colored layer. a transparent resin protective layer, in the manufacturing method of a color filter in which a plurality of Ru and a transparent resin pillar-shaped convex portion protruding than the resin protective layer formed on the predetermined portion, a voltage holding ratio of 95% or more and a residual A liquid crystal having a DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the liquid crystal has a voltage holding ratio of 80% or more after being immersed in the liquid crystal and subjected to impurity extraction treatment, and residual DC. A resin member having (ΔE) of 0.5 V or less was selected, and the resin protective layer and the resin columnar protrusion were formed using the resin member .
As another aspect of the present invention, the common transparent electrode layer is formed on the resin protective layer .

本発明は、シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記カラーフィルタは上述のカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを使用するような構成とした。 The present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal display device , comprising: a color filter and a counter electrode substrate facing each other so as to provide a gap through a seal member; and a liquid crystal layer sealed in the gap. Is configured to use a color filter manufactured by the above-described method for manufacturing a color filter .

また、本発明は、シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記対向電極基板は樹脂遮光層を具備した半導体駆動素子を備えた液晶表示装置の製造方法において、前記カラーフィルタは上述のカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを使用し電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂遮光層を形成するような構成とした。 Further, the present invention includes a color filter and an opposite electrode substrate opposite to each other to provide a gap via a sealing member, and a liquid crystal layer sealed in the gap, the opposite electrode substrate a resin light shielding layer In the method of manufacturing a liquid crystal display device including a semiconductor driving element, the color filter uses a color filter manufactured by the above-described method for manufacturing a color filter, has a voltage holding ratio of 95% or more, and residual DC (ΔE ) Is 0.05 V or less, and the liquid crystal has a voltage holding ratio of 80% or more after being immersed in the liquid crystal and subjected to impurity extraction treatment as a resin member, and residual DC (ΔE) A resin member having a voltage of 0.5 V or less is selected, and the resin light shielding layer is formed using the resin member .

本発明によればカラーフィルタを構成する樹脂保護層および樹脂柱状凸部を、この樹脂部材による不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)が所定の範囲となるような樹脂部材としており、また、液晶表示装置において本発明のカラーフィルタを用いるとともに、液晶層と接触する、あるいは、液晶層に薄膜を介して最近傍となる樹脂部材を、この樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)が所定の範囲となるような樹脂部材としているので、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れた液晶表示装置が可能となる。 According to the present invention, the resin protective layer and the resin columnar protrusions that constitute the color filter are made of resin in which the voltage holding ratio and the residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process by the resin member are within a predetermined range In addition, the color filter of the present invention is used in the liquid crystal display device, and the resin member that is in contact with the liquid crystal layer or is closest to the liquid crystal layer through a thin film is extracted from the resin member. Since the resin material is such that the voltage holding ratio and residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to is within a predetermined range, even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity, Occurrence of display defects such as unevenness is prevented, and a liquid crystal display device having excellent display quality is possible.

以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して説明する。
[カラーフィルタ]
図1は本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示す概略断面図である。図1において、本発明のカラーフィルタ31は、基板32と、この基板32上に形成されたブラックマトリックス34および着色層35を備え、ブラックマトリックス34および着色層35を覆うように透明な樹脂保護層36が形成されており、さらに、ブラックマトリックス34の所定の複数の箇所には透明な樹脂柱状凸部37が上記の樹脂保護層36から突出するように形成されている。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
[Color filter]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of an embodiment of a color filter of the present invention. In FIG. 1, a color filter 31 of the present invention includes a substrate 32, a black matrix 34 and a colored layer 35 formed on the substrate 32, and a transparent resin protective layer so as to cover the black matrix 34 and the colored layer 35. Further, transparent resin columnar convex portions 37 are formed at predetermined locations of the black matrix 34 so as to protrude from the resin protective layer 36.

このカラーフィルタ31は、樹脂保護層36上に共通透明電極層や配向層を設けた状態で液晶表示装置に用いられ、この場合、樹脂部材としては、樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37が液晶に対して最近傍、あるいは、接触する位置となる。本発明では、液晶表示装置の液晶層と接触する樹脂部材をイオン性物質等の不純物の発生源の一つと考え、樹脂部材から液晶層中に移行した不純物による表示不良と相関のある特性として、樹脂部材からの不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率と残留DC(ΔE)に着目した。   The color filter 31 is used in a liquid crystal display device in a state where a common transparent electrode layer and an alignment layer are provided on the resin protective layer 36. In this case, the resin member includes a resin protective layer 36 and a resin columnar convex portion 37. It is the closest position to the liquid crystal or a position in contact with the liquid crystal. In the present invention, the resin member that is in contact with the liquid crystal layer of the liquid crystal display device is considered as one of the sources of impurities such as ionic substances, and as a characteristic that correlates with display defects due to impurities transferred from the resin member into the liquid crystal layer, We paid attention to the voltage holding ratio and residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment from the resin member.

すなわち、表示不良の一つである白ムラを防止するには、液晶層の両側に位置する電極間に印加された電圧を維持することが必要であり、本発明では、樹脂保護層36および樹脂柱状凸部37を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上となるものと規定する。また、表示不良の一つである焼付きを防止するには、残留DC(ΔE)をできる小さくして、液晶層に印加した電圧を解除したときに、不要な電圧が液晶層にかかり続けることを防止することが必要である。本発明では、樹脂保護層36および樹脂柱状凸部37を、不純物抽出処理を施した液晶の残留DC(ΔE)が0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下となるものと規定する。これにより、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れた液晶表示装置が可能となる。   That is, in order to prevent white unevenness, which is one of display defects, it is necessary to maintain the voltage applied between the electrodes located on both sides of the liquid crystal layer. In the present invention, the resin protective layer 36 and the resin The columnar protrusion 37 is defined as a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment being 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more. In order to prevent image sticking, which is one of display defects, an unnecessary voltage continues to be applied to the liquid crystal layer when the residual DC (ΔE) is reduced as much as possible and the voltage applied to the liquid crystal layer is released. It is necessary to prevent this. In the present invention, the residual DC (ΔE) of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment between the resin protective layer 36 and the resin columnar protrusion 37 is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. Stipulate that Thereby, even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity, display defects such as image sticking and white unevenness can be prevented, and a liquid crystal display device with excellent display quality can be achieved.

ここで、上記の不純物抽出処理、電圧保持率の測定条件、残留DC(ΔE)の測定条件について説明する。
(不純物抽出処理)
表面積が4cm2である樹脂部材を容量0.2mlの液晶中に浸漬し、105℃に5時間保持して抽出を行う。尚、使用する液晶は、不純物抽出処理前の状態において、下記の電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、下記の残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶とする。
Here, the impurity extraction process, the measurement condition of the voltage holding ratio, and the measurement condition of the residual DC (ΔE) will be described.
(Impurity extraction process)
A resin member having a surface area of 4 cm 2 is immersed in a liquid crystal having a volume of 0.2 ml and extracted at a temperature of 105 ° C. for 5 hours. In addition, the liquid crystal to be used has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the following voltage holding ratio measuring conditions in the state before the impurity extraction treatment, and a residual measured under the following residual DC (ΔE) measuring conditions. A liquid crystal having a DC (ΔE) of 0.05 V or less is used.

(電圧保持率測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からなる測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・印加電圧パルス振幅 :5V
・印加電圧パルス周波数:60Hz
・印加電圧パルス幅 :16.67msec
(Voltage holding ratio measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
・ Applied voltage pulse amplitude: 5V
・ Applied voltage pulse frequency: 60 Hz
・ Applied voltage pulse width: 16.67 msec

(残留DC(ΔE)測定条件)
残留DC(ΔE)とは、図2に例示する電圧−静電容量ヒステリシスループにおいて、最大静電容量(Cs)と最小静電容量(C0)から式(C0+Cs)/2で規定される静電容量における電圧シフト量(図2に矢印で示す)のことである。測定は、層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からなる測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・使用液晶 :静電容量飽和電圧(図2のVs′)が10V
以下のもの
・電圧−静電容量ヒステリシスループ測定電圧範囲 :−10V〜+10V
(Residual DC (ΔE) measurement conditions)
In the voltage-capacitance hysteresis loop illustrated in FIG. 2, the residual DC (ΔE) is an electrostatic capacity defined by the formula (C0 + Cs) / 2 from the maximum capacitance (Cs) and the minimum capacitance (C0). This is a voltage shift amount in the capacitor (indicated by an arrow in FIG. 2). For the measurement, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared as a layer structure, and the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
Liquid crystal used: Capacitance saturation voltage (Vs ′ in FIG. 2) is 10V
・ Voltage-Capacitance hysteresis loop measurement voltage range: -10V to + 10V

尚、カラーフィルタ31を液晶表示装置に用いる場合、樹脂保護層36上に共通透明電極層や配向層が設けられた状態で使用されるが、このような共通透明電極層や配向層の厚みは、通常0.01〜1μmと薄く、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できないため、樹脂保護層36を上記特性を有するものとする必要がある。   When the color filter 31 is used in a liquid crystal display device, it is used in a state where a common transparent electrode layer or alignment layer is provided on the resin protective layer 36. The thickness of the common transparent electrode layer or alignment layer is as follows. However, since it is usually as thin as 0.01 to 1 μm and an effect of shielding impurities cannot be expected, the resin protective layer 36 needs to have the above characteristics.

上記のカラーフィルタ31を構成する基板32としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。   The substrate 32 constituting the color filter 31 has flexibility such as a transparent rigid material such as quartz glass, pyrex glass, or synthetic quartz plate, or a transparent resin film, an optical resin plate, or the like. A transparent flexible material can be used. Among them, Corning 7059 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the active matrix. Suitable for color filters for color liquid crystal display devices.

カラーフィルタ31を構成するブラックマトリックス34は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
尚、本発明では、上記のカラーフィルタ31においてブラックマトリックス34を備えないものであってもよい。
The black matrix 34 constituting the color filter 31 is formed by forming a metal thin film such as chromium having a thickness of about 1000 to 2000 mm by a sputtering method, a vacuum vapor deposition method or the like, and patterning this thin film, and shielding light such as carbon fine particles. Forming a resin layer made of polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin or the like containing particles and patterning the resin layer, photosensitive resin containing light-shielding particles such as carbon fine particles or metal oxides It may be any one formed by forming a layer and patterning the photosensitive resin layer.
In the present invention, the color filter 31 may not include the black matrix 34.

また、着色層35は、赤色パターン35R、緑色パターン35Gおよび青色パターン35Bが所望のパターン形状で配列されており、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成することができる。また、着色層35を、例えば、赤色パターン35Rが最も薄く、緑色パターン35G、青色パターン35Bの順に厚くすることにより、着色層35の各色ごとに最適な液晶層厚みを設定するようにしてもよい。   Further, the colored layer 35 may be formed by a pigment dispersion method using a photosensitive resin containing a desired colorant, in which a red pattern 35R, a green pattern 35G, and a blue pattern 35B are arranged in a desired pattern shape. Further, it can be formed by a known method such as a printing method, an electrodeposition method, or a transfer method. In addition, for example, by increasing the thickness of the colored layer 35 in the order of the red pattern 35R, the green pattern 35G, and the blue pattern 35B, an optimal liquid crystal layer thickness may be set for each color of the colored layer 35. .

尚、本発明は、上述のように、液晶に対して最近傍、あるいは、接触する位置の樹脂部材である樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上であり、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となることを必須とする。したがって、液晶に対して最近傍でなく、また、接触する位置でもない着色層35は、上記必須要件を満足する必要はなく、上述のような公知の方法で形成したものとすることができる。しかし、本発明は、この着色層35を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上であり、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるものとすることを排除するものではない。このように着色層35に上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を付与するには、アクリル共重合体等の樹脂材料を使用することができる。   In the present invention, as described above, the voltage holding of the liquid crystal in which the resin protective layer 36 and the resin columnar protrusion 37 which are the resin members closest to or in contact with the liquid crystal are subjected to the impurity extraction process is performed. It is essential that the rate is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less. Therefore, the colored layer 35 that is not closest to the liquid crystal and not in contact with the liquid crystal does not need to satisfy the above essential requirements, and can be formed by a known method as described above. However, the present invention excludes that the colored layer 35 is such that the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less. Not what you want. In order to impart the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment to 80% or more and the residual DC (ΔE) to 0.5 V or less) to the colored layer 35 in this way, an acrylic copolymer Etc. can be used.

樹脂保護層36は、カラーフィルタ31の表面を平坦化するとともに、着色層35に含有される成分の液晶層への溶出を防止するために設けられたものであり、カラーフィルタ31が液晶表示装置に用いられたときに、液晶層と接するようなブラックマトリックス34および着色層35を少なくとも覆うように形成される。この樹脂保護層36を、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものとするには、アクリル共重合体等の樹脂材料を用いて形成することができる。樹脂保護層36の厚みは、使用される材料の光透過率、カラーフィルタ31の表面状態等考慮して設定することができ、例えば、0.1〜3.0μmの範囲で設定することができる。   The resin protective layer 36 is provided to flatten the surface of the color filter 31 and to prevent the components contained in the colored layer 35 from eluting into the liquid crystal layer. The color filter 31 is a liquid crystal display device. When used, the black matrix 34 and the colored layer 35 are formed so as to cover at least the liquid crystal layer. In order to make this resin protective layer 36 have the above-mentioned characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less), acrylic resin is used. It can be formed using a resin material such as a polymer. The thickness of the resin protective layer 36 can be set in consideration of the light transmittance of the material used, the surface state of the color filter 31, and the like, and can be set, for example, in the range of 0.1 to 3.0 μm. .

カラーフィルタ31を構成する樹脂柱状凸部37は、カラーフィルタ31を対向電極基板と貼り合わせたときにスペーサーとして作用するものである。この樹脂柱状凸部37は、例えば、感光性樹脂塗料を塗布し、所定のパターンで露光、現像し硬化することにより形成することができる。樹脂柱状凸部37は、上記の樹脂保護層36よりも2〜10μm程度の範囲で突出するように一定の高さをもつものであり、突出量は液晶表示装置の液晶層に要求される厚み等から適宜設定することができる。また、樹脂柱状凸部37の形成密度は、液晶層の厚みムラ、開口率、柱状凸部37の形状、材質等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、着色層35を構成する赤色パターン35R、緑色パターン35Gおよび青色パターン35Bの1組に1個の割合で必要十分なスペーサー機能を発現する。このような樹脂柱状凸部37の形状は特に制限はなく、円柱形状、角柱形状、截頭錐体形状等であってもよい。   The resin columnar convex portion 37 constituting the color filter 31 functions as a spacer when the color filter 31 is bonded to the counter electrode substrate. This resin columnar convex part 37 can be formed by, for example, applying a photosensitive resin paint, exposing, developing, and curing in a predetermined pattern. The resin columnar convex portion 37 has a certain height so as to protrude in the range of about 2 to 10 μm from the resin protective layer 36, and the protruding amount is a thickness required for the liquid crystal layer of the liquid crystal display device. It can set suitably from the above. Further, the formation density of the resin columnar protrusions 37 can be appropriately set in consideration of the thickness unevenness of the liquid crystal layer, the aperture ratio, the shape, material, and the like of the columnar protrusions 37. For example, the colored layer 35 is formed. Necessary and sufficient spacer functions are expressed at a ratio of one for each of the red pattern 35R, the green pattern 35G, and the blue pattern 35B. The shape of the resin columnar convex portion 37 is not particularly limited, and may be a columnar shape, a prismatic shape, a truncated cone shape, or the like.

このような樹脂柱状凸部37を、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものとするには、アクリル共重合体等の樹脂材料を用いて形成することができる。
上述の実施形態では、ブラックマトリックス34を覆うように複数色からなる着色層35を備えているが、ブラックマトリックス34の非形成部位に着色層35を備えるものであってもよい。
In order to make such a resin columnar protrusion 37 have the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less). It can be formed using a resin material such as an acrylic copolymer.
In the above-described embodiment, the colored layer 35 including a plurality of colors is provided so as to cover the black matrix 34, but the colored layer 35 may be provided in a non-formation portion of the black matrix 34.

[液晶表示装置]
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。
図3は本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。図3において、液晶表示装置101は、カラーフィルタ31と対向電極基板111とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層105が形成されたものである。尚、図示されていないが、カラーフィルタ31と対向電極基板111の外側には、それぞれ偏光板が配設されている。
[Liquid Crystal Display]
Next, the liquid crystal display device of the present invention will be described.
FIG. 3 is a schematic sectional view showing an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 3, the liquid crystal display device 101 has the color filter 31 and the counter electrode substrate 111 facing each other at a predetermined interval, the periphery is sealed with a seal member (not shown), and the liquid crystal layer 105 is formed in the gap portion. It has been done. Although not shown, polarizing plates are disposed outside the color filter 31 and the counter electrode substrate 111, respectively.

本発明の液晶表示装置101を構成するカラーフィルタ31は、上述の本発明のカラーフィルタ31である。したがって、カラーフィルタ31を構成する樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37は、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものである。また、カラーフィルタ31の樹脂保護層36の上には、液晶駆動用の共通透明電極層106、配向層107が形成されている。   The color filter 31 constituting the liquid crystal display device 101 of the present invention is the above-described color filter 31 of the present invention. Therefore, the resin protective layer 36 and the resin columnar protrusion 37 constituting the color filter 31 have the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process is 80% or more, and the residual DC (ΔE) is 0. 5V or less). In addition, a common transparent electrode layer 106 for driving liquid crystal and an alignment layer 107 are formed on the resin protective layer 36 of the color filter 31.

一方、本発明の液晶表示装置101を構成する対向電極基板111は、透明基板112上に液晶駆動用の透明画素電極113および薄膜トランジスタ(TFT)114を備え、透明画素電極113を覆うように配向層115が形成されている。この対向電極基板111には、薄膜トランジスタ(TFT)114を開閉するゲート線群(図示せず)、映像信号を供給する信号線群(図示せず)、および、カラーフィルタ31側の共通透明電極層106への電圧供給線(図示せず)が配設されている。これらのリード線は、通常、薄膜トランジスタ(TFT)114の製造工程で一括して形成されたアルミニウム等の金属からなるものである。   On the other hand, the counter electrode substrate 111 constituting the liquid crystal display device 101 of the present invention includes a transparent pixel electrode 113 and a thin film transistor (TFT) 114 for driving a liquid crystal on a transparent substrate 112, and an alignment layer so as to cover the transparent pixel electrode 113. 115 is formed. The counter electrode substrate 111 includes a gate line group (not shown) for opening and closing a thin film transistor (TFT) 114, a signal line group (not shown) for supplying a video signal, and a common transparent electrode layer on the color filter 31 side. A voltage supply line (not shown) to 106 is provided. These lead wires are usually made of a metal such as aluminum formed in a lump in the manufacturing process of the thin film transistor (TFT) 114.

上記の対向電極基板111を構成する透明基板112としては、上述のカラーフィルタ用の基板32として挙げたものを使用することができる。   As the transparent substrate 112 constituting the counter electrode substrate 111, those described as the color filter substrate 32 can be used.

また、液晶表示装置101を構成する共通透明電極層106、透明画素電極層113は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、その外側に位置する部材から発生した不純物が液晶層105に移行するのを遮蔽する作用はほとんど期待できない。   The common transparent electrode layer 106 and the transparent pixel electrode layer 113 constituting the liquid crystal display device 101 are made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The film is formed by a general film formation method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and the effect of blocking the migration of impurities generated from a member located outside the electrode layer to the liquid crystal layer 105 cannot be expected.

さらに、液晶表示装置101を構成する配向層107,115は、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系等の有機化合物により形成することができ、厚みは0.01〜1μm程度とすることができる。このような配向層107,115は、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布した後、焼成してから配向処理(ラビング)が行なわれる。尚、このような有機化合物からなる配向層107,115は、その厚みが極めて小さいことから、表示不良の原因となるような液晶層105中への不純物混入は考慮しなくてもよく、同時に、このような配向層107,115は、その外側に位置する部材から発生した不純物が液晶層105に移行するのを遮蔽する作用をほとんど期待できない。   Furthermore, the alignment layers 107 and 115 constituting the liquid crystal display device 101 can be formed of an organic compound such as polyimide, polyamide, polyurethane, and polyurea, and the thickness is about 0.01 to 1 μm. Can do. Such alignment layers 107 and 115 are coated by various printing methods and known coating methods, and then fired and then subjected to alignment treatment (rubbing). Incidentally, since the alignment layers 107 and 115 made of such an organic compound have a very small thickness, it is not necessary to consider the mixing of impurities into the liquid crystal layer 105 which causes display defects. Such alignment layers 107 and 115 can hardly be expected to shield the migration of impurities generated from the members located outside of the alignment layers 107 to the liquid crystal layer 105.

液晶表示装置101を構成する液晶層105は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。   The liquid crystal layer 105 constituting the liquid crystal display device 101 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the above voltage holding ratio measurement conditions in the state before the impurity extraction process, and It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.

このような本発明の液晶表示装置101では、液晶層105の厚みが樹脂柱状凸部37により設定され、液晶層105に直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層105の最近傍に位置する樹脂部材は、カラーフィルタ31を構成する樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37のみである。そして、この樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置101は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。   In such a liquid crystal display device 101 of the present invention, the thickness of the liquid crystal layer 105 is set by the resin columnar convex portion 37, and the liquid crystal layer 105 is directly in contact with the liquid crystal layer 105 or through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode. The resin members located closest to the liquid crystal layer 105 are only the resin protective layer 36 and the resin columnar protrusions 37 constituting the color filter 31. As described above, the resin protective layer 36 and the resin columnar convex portion 37 set the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment to 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more. And the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. Accordingly, the liquid crystal display device 101 is excellent in display quality by preventing occurrence of display defects such as image sticking and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. .

図4は本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。図4において、液晶表示装置201は、カラーフィルタ31′と対向電極基板211とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層205が形成されたものである。尚、図示されていないが、カラーフィルタ31′と対向電極基板211の外側には、それぞれ偏光板が配設されている。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 4, a liquid crystal display device 201 has a color filter 31 ′ and a counter electrode substrate 211 facing each other at a predetermined interval, a peripheral portion is sealed with a seal member (not shown), and a liquid crystal layer 205 is formed in the gap portion. It is formed. Although not shown, polarizing plates are provided outside the color filter 31 ′ and the counter electrode substrate 211, respectively.

本発明の液晶表示装置201を構成するカラーフィルタ31′は、ブラックマトリックス34を備えていない点を除いて、上述の本発明のカラーフィルタ31と同じであり、各部材は同じ部材番号で示してある。したがって、カラーフィルタ31′を構成する樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37は、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものである。また、カラーフィルタ31′の樹脂保護層36の上には、液晶駆動用の共通透明電極層206、配向層207が形成されている。   The color filter 31 ′ constituting the liquid crystal display device 201 of the present invention is the same as the color filter 31 of the present invention described above except that the black matrix 34 is not provided, and each member is denoted by the same member number. is there. Therefore, the resin protective layer 36 and the resin columnar protrusion 37 constituting the color filter 31 ′ have the above-described characteristics (the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction process is 80% or more and the residual DC (ΔE) is 0. .5V or less). Further, a common transparent electrode layer 206 for driving liquid crystal and an alignment layer 207 are formed on the resin protective layer 36 of the color filter 31 ′.

一方、本発明の液晶表示装置201を構成する対向電極基板211は、透明基板212上に一体的に形成された半導体駆動素子220と、透明画素電極213と、半導体駆動素子220上に形成された樹脂遮光層215と、透明画素電極213、半導体駆動素子220および樹脂遮光層215を覆う形成された配向層216とを備えている。   On the other hand, the counter electrode substrate 211 constituting the liquid crystal display device 201 of the present invention is formed on the semiconductor driving element 220, the transparent pixel electrode 213, and the semiconductor driving element 220 integrally formed on the transparent substrate 212. A resin light shielding layer 215 and an alignment layer 216 formed to cover the transparent pixel electrode 213, the semiconductor driving element 220, and the resin light shielding layer 215 are provided.

半導体駆動素子220は、ゲート電極221、ゲート絶縁膜222、アモルファスシリコン等の半導体層223、ソース電極224およびドレイン電極225とから構成された薄膜トランジスタ(TFT)である。また、ドレイン電極225は、一端を半導体層223に接続され、他端を透明画素電極213に接続されている。   The semiconductor driving element 220 is a thin film transistor (TFT) including a gate electrode 221, a gate insulating film 222, a semiconductor layer 223 such as amorphous silicon, a source electrode 224, and a drain electrode 225. The drain electrode 225 has one end connected to the semiconductor layer 223 and the other end connected to the transparent pixel electrode 213.

上記の樹脂遮光層215は、半導体層223を遮光するようにソース電極224およびドレイン電極225上に形成され、半導体駆動素子220の光リーク電流を抑制する作用をなす。この樹脂遮光層215は、液晶表示装置201において、配向層216を介して液晶層205に接触している樹脂部材であり、本発明では、樹脂遮光層215を、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上となるものであり、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下となるものとする。   The resin light shielding layer 215 is formed on the source electrode 224 and the drain electrode 225 so as to shield the semiconductor layer 223, and functions to suppress the light leakage current of the semiconductor driving element 220. The resin light-shielding layer 215 is a resin member that is in contact with the liquid crystal layer 205 via the alignment layer 216 in the liquid crystal display device 201. In the present invention, the resin light-shielding layer 215 is made of liquid crystal that has been subjected to impurity extraction processing. The voltage holding ratio is 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and the residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0. .1V or less.

このような樹脂遮光層215は、Cu−Fe−Mn複合酸化物等の絶縁性の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
上記の対向電極基板211を構成する透明基板212としては、上述のカラーフィルタ用の基板32として挙げたものを使用することができる。
Such a resin light-shielding layer 215 is formed by forming a photosensitive resin layer containing insulating light-shielding particles such as Cu—Fe—Mn composite oxide, and patterning the photosensitive resin layer. Any of these may be used.
As the transparent substrate 212 constituting the counter electrode substrate 211, those described as the color filter substrate 32 can be used.

また、液晶表示装置201を構成する共通透明電極層206、透明画素電極213は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。   The common transparent electrode layer 206 and the transparent pixel electrode 213 constituting the liquid crystal display device 201 are made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The film is formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and an effect of shielding impurities can hardly be expected.

さらに、液晶表示装置201を構成する配向層207,216は、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系等の有機化合物により形成することができ、厚みは0.01〜1μm程度とすることができる。このような配向層207,216は、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布した後、焼成してから配向処理(ラビング)が行なわれる。尚、このような有機化合物からなる配向層207,216は、その厚みが極めて小さいことから、表示不良の原因となるような液晶層205中への不純物混入は考慮しなくてもよく、同時に、このような配向層207,216は、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。   Furthermore, the alignment layers 207 and 216 constituting the liquid crystal display device 201 can be formed of an organic compound such as polyimide, polyamide, polyurethane, or polyurea, and the thickness is about 0.01 to 1 μm. Can do. Such alignment layers 207 and 216 are coated by various printing methods and known coating methods, and then fired and then subjected to alignment treatment (rubbing). Since the alignment layers 207 and 216 made of such an organic compound have a very small thickness, it is not necessary to consider the mixing of impurities into the liquid crystal layer 205 that causes display defects. Such alignment layers 207 and 216 can hardly be expected to act to shield impurities.

液晶表示装置201を構成する液晶層205は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。   The liquid crystal layer 205 constituting the liquid crystal display device 201 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the voltage holding ratio measuring condition as described above in the state before the impurity extraction process, and It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.

このような本発明の液晶表示装置201では、液晶層205の厚みが樹脂柱状凸部37により設定され、液晶層205に直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層205の最近傍に位置する樹脂部材は、カラーフィルタ31′を構成する樹脂保護層36、樹脂柱状凸部37と、対向電極基板211の樹脂遮光層215のみである。そして、この樹脂保護層36、樹脂柱状凸部37および樹脂遮光層215が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置201は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。   In such a liquid crystal display device 201 of the present invention, the thickness of the liquid crystal layer 205 is set by the resin columnar convex portion 37, and the liquid crystal layer 205 is directly in contact with the liquid crystal layer 205 or through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode. The resin members located closest to the liquid crystal layer 205 are only the resin protective layer 36, the resin columnar protrusion 37, and the resin light-shielding layer 215 of the counter electrode substrate 211 that constitute the color filter 31 ′. The resin protective layer 36, the resin columnar convex portion 37, and the resin light shielding layer 215 have a voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment of 80% or more, preferably 90% or more, more preferably as described above. The residual DC (ΔE) is 0.5 V or less, preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less. Thereby, the liquid crystal display device 201 is excellent in display quality by preventing occurrence of display defects such as image sticking and white unevenness even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. .

図5は本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。図5において、液晶表示装置501は反射型の液晶表示装置であり、カラーフィルタ31″と対向電極基板511とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材(図示せず)により封止し、間隙部分に液晶層505が形成されたものである。尚、図示されていないが、観察者側である対向電極基板511の外側には、位相差板と偏光板が配設されている。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 5, a liquid crystal display device 501 is a reflective liquid crystal display device, in which a color filter 31 ″ and a counter electrode substrate 511 are opposed to each other at a predetermined interval, and a peripheral portion is sealed with a seal member (not shown). A liquid crystal layer 505 is formed in the gap portion, although not shown, a retardation plate and a polarizing plate are disposed outside the counter electrode substrate 511 on the viewer side.

本発明の液晶表示装置501を構成するカラーフィルタ31″は、基板32とブラックマトリックス34および着色層35との間に反射層38を備えている点を除いて、上述の本発明のカラーフィルタ31と同じであり、各部材は同じ部材番号で示してある。したがって、カラーフィルタ31″を構成する樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37は、上述のような特性(不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率が80%以上、残留DC(ΔE)が0.5V以下)を有するものである。   The color filter 31 ″ constituting the liquid crystal display device 501 of the present invention is provided with the reflective layer 38 between the substrate 32, the black matrix 34, and the colored layer 35, and the color filter 31 of the present invention described above. Each member is indicated by the same member number. Therefore, the resin protective layer 36 and the resin columnar convex portion 37 constituting the color filter 31 ″ have the above-described characteristics (liquid crystal subjected to impurity extraction processing). Voltage holding ratio of 80% or more and residual DC (ΔE) of 0.5 V or less).

カラーフィルタ31″を構成する反射層38は、アルミニウム等の金属薄膜を蒸着法、スパッタリング法等の公知の成膜手段により形成することにより作成することができる。
尚、カラーフィルタ31″の樹脂保護層36の上には、液晶駆動用の共通透明電極層506、配向層507が形成されている。
The reflective layer 38 constituting the color filter 31 ″ can be formed by forming a metal thin film such as aluminum by a known film forming means such as a vapor deposition method or a sputtering method.
A common transparent electrode layer 506 for driving liquid crystal and an alignment layer 507 are formed on the resin protective layer 36 of the color filter 31 ″.

一方、本発明の液晶表示装置501を構成する対向電極基板511は、透明基板512上に液晶駆動用の透明画素電極513および薄膜トランジスタ(TFT)514を備え、透明画素電極513を覆うように配向層515が形成されている。この対向電極基板511には、薄膜トランジスタ(TFT)514を開閉するゲート線群(図示せず)、映像信号を供給する信号線群(図示せず)、および、カラーフィルタ31″側の共通透明電極層506への電圧供給線(図示せず)が配設されている。これらのリード線は、通常、薄膜トランジスタ(TFT)514の製造工程で一括して形成されたアルミニウム等の金属からなるものである。   On the other hand, a counter electrode substrate 511 constituting the liquid crystal display device 501 of the present invention includes a transparent pixel electrode 513 and a thin film transistor (TFT) 514 for driving liquid crystal on a transparent substrate 512, and an alignment layer covering the transparent pixel electrode 513. 515 is formed. The counter electrode substrate 511 includes a gate line group (not shown) for opening and closing a thin film transistor (TFT) 514, a signal line group (not shown) for supplying a video signal, and a common transparent electrode on the color filter 31 ″ side. A voltage supply line (not shown) is provided to the layer 506. These lead wires are usually made of a metal such as aluminum formed in a lump in the manufacturing process of the thin film transistor (TFT) 514. is there.

上記の対向電極基板511を構成する透明基板512としては、上述のカラーフィルタ用の基板32として挙げたものを使用することができる。
また、液晶表示装置501を構成する共通透明電極層506、透明画素電極層513は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成されたものである。このような電極層の厚みは0.01〜1μm程度であり、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。
As the transparent substrate 512 that constitutes the counter electrode substrate 511, those described as the color filter substrate 32 can be used.
The common transparent electrode layer 506 and the transparent pixel electrode layer 513 constituting the liquid crystal display device 501 are made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The film is formed by a general film formation method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD. The thickness of such an electrode layer is about 0.01 to 1 μm, and an effect of shielding impurities can hardly be expected.

さらに、液晶表示装置501を構成する配向層507,515は、ポリイミド系、ポリアミド系、ポリウレタン系およびポリ尿素系等の有機化合物により形成することができ、厚みは0.01〜1μm程度とすることができる。このような配向層507,515は、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布した後、焼成してから配向処理(ラビング)が行なわれる。尚、このような有機化合物からなる配向層507,515は、その厚みが極めて小さいことから、表示不良の原因となるような不純物の液晶層505中への混入は考慮しなくてもよく、同時に、このような配向層507,515は、不純物を遮蔽する作用がほとんど期待できない。   Furthermore, the alignment layers 507 and 515 constituting the liquid crystal display device 501 can be formed of an organic compound such as polyimide, polyamide, polyurethane, or polyurea, and the thickness is about 0.01 to 1 μm. Can do. Such alignment layers 507 and 515 are coated by various printing methods and known coating methods, and then fired and then subjected to alignment treatment (rubbing). Since the alignment layers 507 and 515 made of such an organic compound are extremely small in thickness, it is not necessary to consider the mixing of impurities into the liquid crystal layer 505 that cause display defects. Such alignment layers 507 and 515 can hardly be expected to act to shield impurities.

液晶表示装置501を構成する液晶層505は、上述の不純物抽出処理前の状態において、上述のような電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が95%以上であり、かつ、上述のような残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を用いて形成することができる。   The liquid crystal layer 505 constituting the liquid crystal display device 501 has a voltage holding ratio of 95% or more measured under the voltage holding ratio measuring condition as described above in the state before the impurity extraction process described above, and as described above. It can be formed using a liquid crystal having a residual DC (ΔE) measured under a residual DC (ΔE) measurement condition of 0.05 V or less.

このような本発明の液晶表示装置501では、液晶層505の厚みが樹脂柱状凸部37により設定され、液晶層505と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極のような薄膜を介して液晶層505の最近傍に位置する樹脂部材は、カラーフィルタ31″を構成する樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37のみである。そして、この樹脂保護層36と樹脂柱状凸部37が、上述のように、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上とするものであり、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下、好ましくは0.2V以下、より好ましくは0.1V以下とするものである。これにより、液晶表示装置501は、長時間表示や高温高湿等の厳しい表示条件下であっても、焼付きや白ムラ等の表示不良の発生が防止され、表示品質に優れたものである。
尚、上述のカラーフィルタ、液晶表示装置の実施形態は例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the liquid crystal display device 501 of the present invention as described above, the thickness of the liquid crystal layer 505 is set by the resin columnar convex portion 37, and the liquid crystal layer 505 is in direct contact with the liquid crystal layer 505 or through a thin film such as an alignment layer or a transparent electrode. The resin member located closest to the liquid crystal layer 505 is only the resin protective layer 36 and the resin columnar convex portion 37 constituting the color filter 31 ″. The resin protective layer 36 and the resin columnar convex portion 37 are As described above, the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment is 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and the residual DC (ΔE) is 0.5 V. In the following, it is preferably 0.2 V or less, more preferably 0.1 V or less, so that the liquid crystal display device 501 can display images even under severe display conditions such as long-time display and high temperature and high humidity. With Viewing failure such as uneven whiteness is prevented, is excellent in display quality.
The embodiments of the color filter and the liquid crystal display device described above are examples, and the present invention is not limited to these.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
不純物抽出処理試験
A.試料の作製
不純物抽出処理に供するために、以下のようにガラス基板(コーニング社製7059ガラス)上にカラー液晶表示装置に用いられる種々の材料を用いて塗膜を形成した。
(1)ブラックマトリックス用感光性塗料と着色層用感光性塗料
Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
Impurity extraction treatment test Preparation of sample In order to use for the impurity extraction process, a coating film was formed on a glass substrate (Corning 7059 glass) using various materials used for a color liquid crystal display device as follows.
(1) Photosensitive paint for black matrix and photosensitive paint for colored layer

ブラックマトリックス用感光性塗料および各色の着色層用感光性塗料R1、G1、G2、B1は、分散液組成物(顔料、分散剤、および溶剤を含有)にビーズを加え、分散機で3時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液と、クリアレジスト組成物(ポリマー、モノマー、添加剤、開示剤および溶剤)とを混合したものであり、その組成を下記に示す。尚、分散機としては、ペイントシェーカーを用いた。   Black matrix photosensitive paint and colored layer photosensitive paints R1, G1, G2, and B1 add beads to the dispersion composition (containing pigment, dispersant, and solvent) and disperse with a disperser for 3 hours. Then, the dispersion from which the beads have been removed and the clear resist composition (polymer, monomer, additive, disclosure agent and solvent) are mixed, and the composition is shown below. A paint shaker was used as the disperser.

次に、調製したブラックマトリックス用感光性塗料および各色の着色層用感光性塗料R1、G1、G2、B1を、それぞれガラス基板上にスピンコート法で1.5μmの厚さに塗布、90℃、3分間の条件でプリベーク、全面露光(500mJ/cm2)、0.05%KOH水溶液を用いたスプレー現像を60秒行った後、200℃、30分間ポストベークすることで、塗膜付きのガラス基板を作製した。
(ブラックマトリックス用感光性塗料)
・黒顔料 … 14.0重量部
(大日精化工業(株)製TMブラック#9550)
・分散剤(ビックケミー(株)製Disperbyk111)… 1.2重量部
・ポリマー(昭和高分子(株)製VR60) … 2.8重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 3.5重量部
・添加剤(綜研化学(株)製L−20) … 0.7重量部
・開始剤 … 1.6重量部
(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)−ブタノン−1)
・開始剤 … 0.3重量部
(4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン)
・開始剤(2,4−ジエチルチオキサントン) … 0.1重量部
・溶剤(エチレングリコールモノブチルエーテル) … 75.8重量部
Next, the prepared black matrix photosensitive paint and colored layer photosensitive paints R1, G1, G2, and B1 were each applied to a glass substrate to a thickness of 1.5 μm by spin coating, 90 ° C., Pre-baked under conditions of 3 minutes, whole surface exposure (500 mJ / cm 2 ), spray development using 0.05% KOH aqueous solution for 60 seconds, and then post-baked at 200 ° C. for 30 minutes, glass with a coating film A substrate was produced.
(Photosensitive paint for black matrix)
Black pigment: 14.0 parts by weight (TM Black # 95550 manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
-Dispersant (Disperbyk 111 manufactured by Big Chemie Co., Ltd.) ... 1.2 parts by weight-Polymer (VR60 manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) ... 2.8 parts by weight-Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) ... 3.5 weights Parts ・ Additive (L-20, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.7 parts by weight Initiator 1.6 parts by weight (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino)
Phenyl) -butanone-1)
・ Initiator: 0.3 part by weight (4,4′-diethylaminobenzophenone)
Initiator (2,4-diethylthioxanthone) 0.1 part by weight Solvent (ethylene glycol monobutyl ether) 75.8 parts by weight

(赤色パターン用感光性塗料R1)
・赤顔料 … 4.8重量部
(チバガイギー社製クロモフタールレッドA2B)
・黄顔料 … 1.2重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint R1 for red pattern)
・ Red pigment: 4.8 parts by weight (Chromotal Red A2B manufactured by Ciba Geigy)
・ Yellow pigment: 1.2 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(緑色パターン用感光性塗料G1)
・緑顔料 … 4.2重量部
(ゼネカ(株)製モナストラルグリーン9Y−C)
・黄顔料 … 1.8重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint G1 for green pattern)
Green pigment: 4.2 parts by weight (Monestral Green 9Y-C manufactured by Zeneca)
・ Yellow pigment: 1.8 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(緑色パターン用感光性塗料G2)
・緑顔料 … 4.2重量部
(ゼネカ(株)製モナストラルグリーン6Y−CL)
・黄顔料 … 1.8重量部
(BASF社製パリオトールイエローD1819)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 3.0重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint G2 for green pattern)
Green pigment: 4.2 parts by weight (Zeneca Co., Ltd. Monastral Green 6Y-CL)
・ Yellow pigment: 1.8 parts by weight (PASFOL Yellow D1819 manufactured by BASF)
Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 3.0 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

(青色パターン用感光性塗料B1)
・青顔料 … 6.0重量部
(BASF社製ヘリオゲンブルーL6700F)
・顔料誘導体 … 0.6重量部
(ゼネカ(株)製ソルスパース12000)
・分散剤(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)… 2.4重量部
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 4.0重量部
・ポリマー1 … 5.0重量部
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 0.6重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 80.0重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
(Photosensitive paint B1 for blue pattern)
・ Blue pigment: 6.0 parts by weight (BASF Heliogen Blue L6700F)
-Pigment derivative: 0.6 parts by weight (Solsperse 12000 manufactured by Zeneca)
・ Dispersant (Solsperse 24000 manufactured by Zeneca Corporation) 2.4 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 4.0 parts by weight Polymer 1 5.0 parts by weight Initiator (manufactured by Ciba Geigy) Irgacure 907) 1.4 parts by weight Initiator 0.6 parts by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

尚、上記のポリマー1は、ベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2−ヒドロキシエチルメタクリレート=15.6:37.0:30.5:16.9(モル比)の共重合体100モル%に対して、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9モル%付加したものであり、重量平均分子量は42500である。以下の他の塗料に用いられるポリマー1も同様である。   The polymer 1 is based on 100 mol% of a copolymer of benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate = 15.6: 37.0: 30.5: 16.9 (molar ratio). 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added at 16.9 mol%, and the weight average molecular weight was 42500. The same applies to the polymer 1 used in the following other paints.

(2)保護層用塗料
下記組成の保護層用塗料を調製し、上記と同様にして塗膜付きのガラス基板を作製した。
(保護層用塗料)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 7.1重量部
・ポリマー1 … 8.8重量部
・エポキシ樹脂 … 9.7重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア907) … 1.4重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤(ジメチルジグリコール) … 38.0重量部
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 34.0重量部
(2) Coating for protective layer A coating for protective layer having the following composition was prepared, and a glass substrate with a coating film was prepared in the same manner as described above.
(Protective layer paint)
・ Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 7.1 parts by weight Polymer 1 8.8 parts by weight Epoxy resin 9.7 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
Initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) ... 1.4 parts by weight Initiator ... 1.0 part by weight (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent (dimethyldiglycol): 38.0 parts by weight ・ Solvent (3-methoxybutyl acetate): 34.0 parts by weight

(3)柱状凸部用感光性塗料
下記組成の2種の柱状凸部用感光性塗料S1、S2を調製した。次いで、調製した各柱状凸部用感光性塗料をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、100℃、3分間の条件でプリベーク、全面露光、0.01%KOH水溶液を用いたスプレー現像を行った後、200℃、30分間ポストベークすることで、塗膜付きのガラス基板を作製した。
(柱状凸部用感光性塗料S1)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 8.7重量部
・ポリマー1 … 10.9重量部
・エポキシ樹脂 … 12.1重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・界面活性剤 … 1.0重量部
(日本油化(株)製ノニオンHS−210)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア369) … 1.2重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 29.1重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 36.0重量部
(3) Photosensitive paint for columnar projections Two types of photosensitive coatings S1 and S2 for columnar projections having the following compositions were prepared. Next, the prepared photosensitive coatings for columnar protrusions are applied onto a glass substrate by a spin coating method, prebaked at 100 ° C. for 3 minutes, exposed to the whole surface, and spray-developed using a 0.01% KOH aqueous solution. Then, a glass substrate with a coating film was produced by post-baking at 200 ° C. for 30 minutes.
(Photosensitive paint S1 for columnar protrusions)
Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 8.7 parts by weight Polymer 1 10.9 parts by weight Epoxy resin 12.1 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
-Surfactant: 1.0 part by weight (Nippon Yuka nonionic HS-210)
・ Initiator (Irgacure 369 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1.2 parts by weight Initiator 1.0 part by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 29.1 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Solvent (Acetic acid-3-methyoxybutyl) 36.0 parts by weight

(柱状凸部用感光性塗料S2)
・モノマー(サートマー(株)製SR399) … 8.7重量部
・ポリマー1 … 10.9重量部
・エポキシ樹脂 … 12.1重量部
(油化シェルエポキシ(株)製エピコート180S70)
・界面活性剤 … 2.0重量部
(日本油化(株)製ノニオンHS−210)
・開始剤(チバガイギー社製イルガキュア369) … 1.2重量部
・開始剤 … 1.0重量部
(2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−
テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール)
・溶剤 … 28.1重量部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
・溶剤(酢酸−3−メトチキブチル) … 36.0重量部
(Photosensitive paint S2 for columnar protrusions)
Monomer (SR399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.) 8.7 parts by weight Polymer 1 10.9 parts by weight Epoxy resin 12.1 parts by weight (Epicoat 180S70 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
・ Surfactant ... 2.0 parts by weight (Nippon Yuka nonionic HS-210)
・ Initiator (Irgacure 369 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1.2 parts by weight Initiator 1.0 part by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole)
・ Solvent: 28.1 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Solvent (Acetic acid-3-methyoxybutyl) 36.0 parts by weight

B.不純物抽出処理と電圧保持率・残留DC(ΔE)の測定
上記のA.で作製した各種の塗膜付きガラス基板について、液晶(メルクジャパン社製MLC−6846−000)に対する不純物抽出処理を下記の方法で行い、その後、この液晶の電圧保持率、残留DC(ΔE)を下記に示す測定条件で測定し、結果を下記の表1に示した。
B. Impurity extraction treatment and measurement of voltage holding ratio / residual DC (ΔE) For the various glass substrates with a coating film produced in step 1, the impurity extraction treatment for liquid crystal (MLC-6846-000 manufactured by Merck Japan Co., Ltd.) is performed by the following method, and then the voltage holding ratio and residual DC (ΔE) of this liquid crystal are determined. The measurement was performed under the following measurement conditions, and the results are shown in Table 1 below.

尚、使用した液晶は、不純物抽出処理前の状態において、下記の電圧保持率測定条件で測定した電圧保持率が98%以上となり、下記の残留DC(ΔE)測定条件で測定した残留DC(ΔE)が0.01V以下となるものであった。
(不純物抽出処理方法)
表面積が4cm2である塗膜付きガラス基板を容量0.2mlの液晶中に
浸漬し、105℃に5時間保持して抽出を行う。
The liquid crystal used had a voltage holding ratio of 98% or more measured under the following voltage holding ratio measurement conditions in the state before the impurity extraction treatment, and the residual DC (ΔE) measured under the following residual DC (ΔE) measuring conditions. ) Was 0.01 V or less.
(Impurity extraction method)
A glass substrate with a coating having a surface area of 4 cm 2 is immersed in a liquid crystal having a capacity of 0.2 ml, and extraction is carried out by holding at 105 ° C. for 5 hours.

(電圧保持率測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からな
る測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の
条件で測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・印加電圧パルス振幅 :5V
・印加電圧パルス周波数:60Hz
・印加電圧パルス幅 :16.67msec
(Voltage holding ratio measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell consisting of substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected and measured under the following conditions.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
・ Applied voltage pulse amplitude: 5V
・ Applied voltage pulse frequency: 60 Hz
・ Applied voltage pulse width: 16.67 msec

(残留DC(ΔE)測定条件)
層構成として、基板/電極/配向層/液晶/配向層/電極/基板からな
る測定用セルを準備し、不純物抽出処理を行った液晶を注入して下記の
条件で残留DC(ΔE)(電圧−静電容量ヒステリシスループにおいて、
最大静電容量(Cs)と最小静電容量(C0)から式(C0+Cs)/
2で規定される静電容量における電圧シフト量(図2に矢印で示す)の
こと)を測定する。
・電極間距離 :5〜15μm
・使用液晶 :静電容量飽和電圧(図2のVs′)が10V
以下のもの
・電圧−静電容量ヒステリシスループ測定電圧範囲:−10V〜+10V
(Residual DC (ΔE) measurement conditions)
As a layer structure, a measurement cell comprising a substrate / electrode / alignment layer / liquid crystal / alignment layer / electrode / substrate is prepared, and liquid crystal subjected to impurity extraction treatment is injected, and residual DC (ΔE) ( In the voltage-capacitance hysteresis loop,
From the maximum capacitance (Cs) and the minimum capacitance (C0), the formula (C0 + Cs) /
Measure the voltage shift amount (indicated by the arrow in FIG. 2) in the capacitance specified in 2.
・ Distance between electrodes: 5 to 15 μm
Liquid crystal used: Capacitance saturation voltage (Vs ′ in FIG. 2) is 10V
・ Voltage-capacitance hysteresis loop measurement voltage range: -10V to + 10V

Figure 0004157537
Figure 0004157537

カラーフィルタの作製
(1)カラーフィルタ試料1
カラーフィルタ用の基板として、100mm×100mm、厚さ0.7mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面に上記組成のブラックマトリックス用感光性塗料を塗布し、マスク露光、現像、ポストベークを行ってブラックマトリックス(厚み1.5μm)を形成した。
Production of color filter (1) Color filter sample 1
As a substrate for a color filter, a glass substrate (Corning 7059 glass) having a size of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. After this substrate was washed according to a conventional method, a black matrix photosensitive paint having the above composition was applied to the entire surface of one side of the substrate, and mask exposure, development, and post-baking were performed to form a black matrix (thickness: 1.5 μm).

次に、上記組成の3種の着色層用感光性塗料R1、G1、B1を用いて着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリックスが形成された上記の基板全面に、赤色パターン用の感光性塗料R1をスピンコート法により塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、プリベーク(90℃、3分間)を行った。その後、所定の着色パターン用フォトマスクを用いて赤色感光性樹脂層をアライメント露光し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に赤色パターン(厚み1.5μm)を形成した。   Next, a colored layer was formed using the three types of photosensitive paints R1, G1, and B1 for the colored layer having the above composition. That is, a red pattern photosensitive paint R1 was applied to the entire surface of the substrate on which the black matrix was formed by spin coating to form a red photosensitive resin layer, and prebaked (90 ° C., 3 minutes). . Thereafter, the red photosensitive resin layer is alignment-exposed using a photomask for a predetermined colored pattern, developed with a developer (0.05% KOH aqueous solution), and then post-baked (200 ° C., 30 minutes). Then, a red pattern (thickness: 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern.

同様に、緑色パターン用の感光性塗料G1を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に緑色パターン(厚み1.5μm)を形成した。さらに、青色パターン用の感光性塗料B1を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に青色パターン(厚み1.5μm)を形成した。
これにより図1に示すような構造のカラーフィルタ(試料1)を得た。
Similarly, a green pattern (thickness of 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern using the photosensitive paint G1 for the green pattern. Further, a blue pattern (thickness: 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern by using the photosensitive paint B1 for the blue pattern.
As a result, a color filter (sample 1) having a structure as shown in FIG. 1 was obtained.

(2)カラーフィルタ試料2
着色層用感光性塗料として、上記組成の3種の感光性塗料R1、G2、B1を用いた他は、上記の試料1と同様にしてカラーフィルタ(試料2)を作製した。
(2) Color filter sample 2
A color filter (Sample 2) was produced in the same manner as Sample 1 except that three types of photosensitive paints R1, G2, and B1 having the above compositions were used as the photosensitive paint for the colored layer.

(3)カラーフィルタ試料3
上記のカラーフィルタ(試料2)のブラックマトリックスおよび着色層を覆うように上記組成の保護層用塗料をスピンコート法により塗布し、乾燥して、厚みが1.5μmの保護層を形成して、図4に示されるような構造のカラーフィルタ(試料3)を得た。
(3) Color filter sample 3
The protective layer paint having the above composition is applied by spin coating so as to cover the black matrix and the colored layer of the color filter (sample 2), and dried to form a protective layer having a thickness of 1.5 μm. A color filter (sample 3) having a structure as shown in FIG. 4 was obtained.

(4)カラーフィルタ試料4
上記のカラーフィルタ(試料3)の保護層を覆うように上記組成の柱状凸部用感光性塗料S1をスピンコート法により塗布し、プレベーク(100℃、3分間)を行った。その後、所定の柱状凸部用フォトマスクを用いて露光し、現像液(0.01%KOH水溶液)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、高さ5μmの柱状凸部を複数形成して、図5に示されるような構造のカラーフィルタ(試料4)を得た。
(4) Color filter sample 4
The columnar convex photosensitive paint S1 having the above composition was applied by spin coating so as to cover the protective layer of the color filter (sample 3), and prebaked (100 ° C., 3 minutes). Thereafter, exposure is performed using a predetermined columnar convex photomask, development is performed with a developer (0.01% KOH aqueous solution), and then post-baking (200 ° C., 30 minutes) is performed, and the height is 5 μm. A plurality of columnar protrusions were formed to obtain a color filter (sample 4) having a structure as shown in FIG.

(5)カラーフィルタ試料5
柱状凸部用感光性塗料として、上記組成の感光性塗料S2を用いた他は、上記の試料4と同様にして、カラーフィルタ(試料5)とした。
(5) Color filter sample 5
A color filter (Sample 5) was prepared in the same manner as Sample 4 except that the photosensitive coating S2 having the above composition was used as the photosensitive coating for columnar convex portions.

液晶表示装置の作製
上記の各カラーフィルタ(試料1〜5)上に酸化インジウムスズ(ITO)からなる透明共通電極を形成した。
また、透明基板として100mm×100mm、厚さ0.7mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板上の所定の複数の個所に薄膜トランジスタ(TFT)を形成し、各TFTのドレイン電極に接続するように透明画素電極を酸化インジウムスズ(ITO)により形成して、対向電極基板を作製した。
Production of Liquid Crystal Display Device A transparent common electrode made of indium tin oxide (ITO) was formed on each of the color filters (samples 1 to 5).
Further, a glass substrate (Corning 7059 glass) having a size of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared as a transparent substrate. After this substrate is cleaned according to a standard method, thin film transistors (TFTs) are formed at a plurality of predetermined locations on the substrate, and transparent pixel electrodes are formed of indium tin oxide (ITO) so as to be connected to the drain electrodes of each TFT. Thus, a counter electrode substrate was produced.

次に、上記のカラーフィルタの透明共通電極上と対向電極基板の透明画素電極を覆うようにポリイミド樹脂塗料を塗布、乾燥して配向層(厚み0.07μm)を設け、配向処理を施した。
次いで、これらのカラーフィルタと対向電極基板を用いて液晶表示装置(試料1〜5)を作製した。尚、液晶としてメルクジャパン社製MLC−6846−000を使用した。
Next, a polyimide resin coating was applied and dried to cover the transparent common electrode of the color filter and the transparent pixel electrode of the counter electrode substrate, and an alignment layer (thickness 0.07 μm) was provided to perform alignment treatment.
Next, liquid crystal display devices (Samples 1 to 5) were produced using these color filters and the counter electrode substrate. In addition, Merck Japan MLC-6846-000 was used as liquid crystal.

液晶表示装置の評価
作製した5種の液晶表示装置(試料1〜5)について、23℃、60%RHの条件下で72時間連続で画像表示を行い、下記の基準で表示品質を評価して結果を下記の表2に示した。
(表示品質の評価基準)
○:焼付き及び白ムラがなく表示品質が極めて良好
×:焼付き及び白ムラがみられ、表示不良現象が認められる
Evaluation of liquid crystal display devices For the five types of liquid crystal display devices (samples 1 to 5) produced, image display was continuously performed for 72 hours under the conditions of 23 ° C. and 60% RH, and the display quality was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 2 below.
(Evaluation criteria for display quality)
○: Display quality is extremely good without image sticking and white unevenness ×: Image sticking and white unevenness are observed, and a display defect phenomenon is observed.

Figure 0004157537
Figure 0004157537

表2に示されるように、試料1、3、4の各液晶表示装置は、構成するカラーフィルタがいずれも、液晶層と直接に接触する位置、あるいは、配向層や透明電極を介して液晶層の最近傍に位置する樹脂部材が、不純物抽出処理を施した液晶の電圧保持率を80%以上、かつ、残留DC(ΔE)を0.5V以下に保つ本発明のカラーフィルタであるため、高温高湿下における長時間表示を行っても、表示不良現象が生じないものであった。
これに対し、試料2の液晶表示装置では、電圧保持率が80%未満で残留DC(ΔE)が0.5Vを超える着色層の緑色パターンが液晶層と直接に接触し、また、試料5の液晶表示装置では、電圧保持率が80%未満で残留DC(ΔE)が0.5Vを超える柱状凸部が液晶層と直接に接触するので、共に焼付き及び白ムラがみられ、表示不良現象が認められた。
As shown in Table 2, each of the liquid crystal display devices of Samples 1, 3, and 4 has a liquid crystal layer in a position where each of the constituting color filters is in direct contact with the liquid crystal layer or through an alignment layer or a transparent electrode Is the color filter of the present invention that maintains the voltage holding ratio of the liquid crystal subjected to the impurity extraction treatment at 80% or more and the residual DC (ΔE) at 0.5 V or less. Even when the display is performed for a long time under high humidity, the display failure phenomenon does not occur.
On the other hand, in the liquid crystal display device of sample 2, the green pattern of the colored layer having a voltage holding ratio of less than 80% and a residual DC (ΔE) exceeding 0.5 V is in direct contact with the liquid crystal layer. In a liquid crystal display device, columnar protrusions having a voltage holding ratio of less than 80% and a residual DC (ΔE) of more than 0.5 V are in direct contact with the liquid crystal layer, so both image sticking and white unevenness are observed, resulting in a display failure phenomenon. Was recognized.

発明の産業上の利用分野Industrial use of the invention

液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造と、液晶表示装置の製造において有用である。   This is useful in the production of color filters used in liquid crystal display devices and in the production of liquid crystal display devices.

本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of embodiment of the color filter of this invention. 残留DC(ΔE)を説明するための電圧−静電容量ヒステリシスループを示す図である。It is a figure which shows the voltage-capacitance hysteresis loop for demonstrating residual DC ((DELTA) E). 本発明の液晶表示装置の一実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the liquid crystal display device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

31,31′,31″…カラーフィルタ
32…基板
34…ブラックマトリックス
35…着色膜
36…樹脂保護層
37…樹脂柱状凸部
101,201,501…液晶表示装置
105,205,505…液晶層
111,211,511…対向電極基板
114,220,514…半導体駆動素子(薄膜トランジスタ)
215…樹脂遮光層
106,206,506…共通透明電極
113,213,513…透明画素電極
31, 31 ', 31 "... Color filter 32 ... Substrate 34 ... Black matrix 35 ... Colored film 36 ... Resin protective layer 37 ... Resin columnar protrusion 101, 201, 501 ... Liquid crystal display device 105, 205, 505 ... Liquid crystal layer 111 , 211, 511 ... counter electrode substrate 114, 220, 514 ... semiconductor drive element (thin film transistor)
215: Resin light shielding layer 106, 206, 506 ... Common transparent electrode 113, 213, 513 ... Transparent pixel electrode

Claims (4)

基板と、該基板上に所定のパターンで形成された複数色からなる着色層と、少なくとも前記着色層を覆うように形成された透明な樹脂保護層と、複数の所定部位に形成され前記樹脂保護層よりも突出した透明な樹脂柱状凸部とを備えるカラーフィルタの製造方法において
電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂保護層および前記樹脂柱状凸部を形成することを特徴としたカラーフィルタの製造方法
A substrate, a colored layer composed of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the substrate, a transparent resin protective layer formed so as to cover at least the colored layer, and the resin protection formed at a plurality of predetermined sites in the manufacturing method of the color filter to be a transparent resin pillar-shaped convex portion protruding than layer,
A liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the voltage of the liquid crystal after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal A resin member having a retention rate of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less is selected, and the resin protective layer and the resin columnar protrusion are formed using the resin member. The manufacturing method of the color filter characterized by this.
樹脂保護層上に共通透明電極層を形成することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a common transparent electrode layer is formed on the resin protective layer. シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備えた液晶表示装置の製造方法において
前記カラーフィルタは請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを使用することを特徴とした液晶表示装置の製造方法
In a manufacturing method of a liquid crystal display device comprising a color filter and a counter electrode substrate facing each other so as to provide a gap portion via a seal member, and a liquid crystal layer sealed in the gap portion,
A method for manufacturing a liquid crystal display device , wherein the color filter uses a color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to claim 1.
シール部材を介して間隙部を設けるように相対向したカラーフィルタおよび対向電極基板と、前記間隙部に密封された液晶層とを備え、前記対向電極基板は樹脂遮光層を具備した半導体駆動素子を備えた液晶表示装置の製造方法において、
前記カラーフィルタは請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを使用し
電圧保持率が95%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.05V以下である液晶を準備し、樹脂部材として、該液晶中に浸漬して不純物抽出処理を行った後の前記液晶の電圧保持率が80%以上、かつ、残留DC(ΔE)が0.5V以下となるような樹脂部材を選択し、該樹脂部材を使用して前記樹脂遮光層を形成することを特徴とした液晶表示装置の製造方法
A color filter and a counter electrode substrate facing each other so as to provide a gap portion through a seal member, and a liquid crystal layer sealed in the gap portion, wherein the counter electrode substrate includes a semiconductor driving element having a resin light shielding layer. In the manufacturing method of the liquid crystal display device provided,
The color filter using a color filter manufactured by the method for producing a color filter according to claim 1 or claim 2,
A liquid crystal having a voltage holding ratio of 95% or more and a residual DC (ΔE) of 0.05 V or less is prepared, and as a resin member, the voltage of the liquid crystal after being subjected to impurity extraction treatment by being immersed in the liquid crystal A liquid crystal display characterized by selecting a resin member having a retention rate of 80% or more and a residual DC (ΔE) of 0.5 V or less, and forming the resin light-shielding layer using the resin member Device manufacturing method .
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