JP4158466B2

JP4158466B2 - 電気光学パネルの製造方法及び製造装置、並びに電子機器

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Publication number: JP4158466B2
Application number: JP2002265747A
Authority: JP
Inventors: 正弘手塚
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-09-11
Filing date: 2002-09-11
Publication date: 2008-10-01
Anticipated expiration: 2022-09-11
Also published as: JP2004102057A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置などの電気光学装置に関し、特に液晶表示パネルの貼り合せ工程におけるシール材の検査方法および製造方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
近年、携帯電話機、ビデオカメラ、その他種々の電子機器の表示部分に電気光学装置、例えば、液晶表示装置が広く用いられている。この液晶表示装置は、液晶に所定の電圧を印加する方法によって、その液晶を制御することにより、光を変調し、文字や画像などを表示する。
【０００３】
上記液晶表示装置の表示方法は、例えば、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）−ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）モード、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）−ＬＣＤモードおよびＴＦＤ（Thin Film Diode）−ＬＣＤモードなどが挙げられる。上記液晶表示装置は、例えば、ＴＦＴ−ＬＣＤモードの場合、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタなどが設けられた対向基板とが対向配置され、両基板間に液晶層が挟持されて構成されている。両基板は基板の周辺部に配置される接着要素（シール材）により接着され、液晶層は両基板及びシール材により形成された空間内に保持されている。
【０００４】
ＴＦＴアレイ基板においては、例えば、ガラスなどの透明基板上に、縦横に夫々配列された多数の走査線及びデータ線並びにこれらの各交点に対応して多数のＴＦＴ、該ＴＦＴに接続してなる画素電極が設けられている。一方、対向基板においては、例えば、ガラスなどの透明基板上に対向電極が設けられている。
【０００５】
そして、ＴＦＴのゲート電極に走査線を介して走査信号が供給されると、ＴＦＴは、オン状態とされ、ソース電極にデータ線を介して供給される画像信号が当該ＴＦＴのソースードレイン間を介して画素電極に供給される。そして、液晶表示装置においては、画素電極に供給された電圧と対向電極に供給される電圧との電位差により対応する液晶層の光学特性を変化させ、液晶層に入射する光を変調して表示を行う。液晶層の光学特性は、液晶層の厚みに大きく影響されるため、表示品位を高くするには液晶層の厚みの制御が重要となる。
【０００６】
上述したように、液晶層の厚みの制御は、液晶表示装置の表示品位に大きく影響する。上記液晶層の厚み制御は、セル内に散布されたスペーサの散布状態、封入された液晶量および基板周辺に配置されたシール形状などに関係している。
【０００７】
したがって、高品質かつ高品位な液晶表示装置の製造方法のために、液晶層の厚み制御に関する検査工程が必要である。現在、効率的な検査方法として、液晶表示パネルの状態で、液晶の配向性の検査およびパネルの点灯検査などが広く実施されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−７１３１９号公報（第４頁―第６頁、【図１】）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
液晶の配向性の検査では、セル厚ムラなどの不良が抽出される。不良原因は、例えば、スペーサの凝集、基板上のごみ、シール形状不良などが挙げられる。
【００１０】
また、液晶表示パネルの点灯検査では、スイッチング素子不良によるドットの点灯不良及び貼り合せられた基板間による上下リークなどの不良が検出される。
【００１１】
上述したように、液晶の配向性の検査では、シール形状不良に起因するものがある。上記シール材は、液晶表示パネル周辺に配置され、基板の貼り合せのみではなく、液晶材料を封入するためにも、接着要素として使用されている。
【００１２】
このシール形状が、シール形成工程で切れた形状になっている空セルに、液晶を真空注入し、そのまま製造工程を続けた場合、液晶材料がセルから漏れてしまう。漏れてしまった液晶材料は、無駄となってしまう。また、上記のように、シール形状が切れている場合、不良となってしまった液晶表示パネルを廃棄処分するだけでなく、同じ母基板で生産された、良品の液晶表示パネルまでもが漏れてしまった液晶材料により汚れてしまうため、十分な洗浄工程を要する。上記洗浄工程は、シール形状が良好ならば、不必要な工程であり、また、上記洗浄工程を追加することにより、洗浄用の溶剤を要するため、液晶表示パネルのコスト高にもつながってしまう。
【００１３】
シール形状が、例えば、規定値よりも太い形状になっている場合、液晶材料は、工程で、漏れるという不良は、発生しない。しかし、基板が貼り合せられた空セルにおいて、液晶層の体積が小さくなるため、液晶セルが若干膨らんだ形となり、部分的に液晶セル厚が厚くなってしまうという不具合が生じる。
【００１４】
また、シール形状が、例えば、規定値よりも細い形状になっている場合、空セルにおいて、液晶層の体積が大きくなるため、液晶セルが若干窪んだ形となり、部分的に液晶セル厚が薄くなってしまうという不具合が生じる。
【００１５】
本発明の目的は、液晶表示パネルの貼り合せ前に接着要素であるシール材の検査工程を設けることにより、洗浄工程を省略することを可能としたプロセスを提供し、液晶層の厚みが均一で、光学特性の優れた、高品位かつ高品質な液晶表示装置を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の１つの観点では、電気光学パネルの製造方法において、電気光学パネルを構成する２枚の基板のうちの一方に接着要素を形成する接着要素形成工程と、前記接着要素の形状を検査する検査工程と、前記一方の基板と前記接着要素により形成された領域内に電気光学物質を滴下する滴下工程と、前記検査工程後に、前記２枚の基板を貼り合わせる工程と、を有し、前記検査工程は、前記欠落部分を検出する第１の検査工程と、前記接着要素の高さ及び幅を検出する第２の検査工程と、を有し、前記滴下工程は、前記第２の検査工程により得られた前記接着要素の高さ及び幅に基づいて、滴下する電気光学物質の量を調整し、前記検査工程により、前記接着要素の形状が欠落部分を有することが検出された場合には、前記滴下工程は、当該欠落部分を有する接着要素により形成される領域には前記電気光学物質を滴下しないことを特徴とする。
【００１７】
上記の電気光学パネルの製造方法によれば、液晶などの電気光学物質を挟持する２枚の基板のうちの一方に、例えばシール材などの接着要素が形成され、その形状が検査される。そして、接着要素の内部の領域に電気光学物質が滴下され、他方の基板と貼り合わされる。これにより、２枚の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルが作成される。ここで、検査工程において接着要素の形状に欠落部分が検出された場合には、その接着要素の部分には電気光学物質を滴下しないこととする。接着要素が欠落部分を有する場合に、電気光学物質を滴下してしまうと、接着要素の欠落部分から電気光学物質が流れ出てしまい、その後の工程を行う前に洗浄などが必要となる。よって、欠落部分を有する接着要素を検出し、その部分には電気光学物質を滴下しないこととして、不要な洗浄工程などを行わないようにし、製造工程の効率化を図る。
【００１８】
上記の電気光学パネルの製造方法の一態様では、前記検査工程は、前記欠落部分を検出する第１の検査工程と、前記接着要素の高さ及び幅を検出する第２の検査工程と、を有する。これにより、接着要素の欠落部分の検出に加えて、接着要素が正しい高さや幅で形成されているかを検出することができる。
【００１９】
上記の電気光学パネルの製造方法の他の一態様は、前記第２の検査工程により得られた前記接着要素の高さ及び幅が予め決められた許容範囲外である場合、次回の接着要素の描画工程にて形成する接着要素の高さ及び幅を調節する。これにより、製造ラインにおいて継続的に製作される電気光学パネルの形状を適切な状態に維持していくことができる。
【００２０】
上記の電気光学パネルの製造方法の他の一態様では、前記滴下工程は、前記第２の検査工程により得られた前記接着要素の高さ及び幅に基づいて、滴下する電気光学物質の量を調整する。これにより、規定の高さや幅に適合しない部分については、滴下する電気光学物質の量を調整して、正しいセル厚を確保することができる。
【００２１】
上記の電気光学パネルの製造方法の他の一態様では、前記検査工程は、前記接着要素が形成された基板上にレーザ光を照射する工程と、前記基板により反射された前記レーザ光の受光量に基づいて前記接着要素の形状を検査する工程と、を有する。これにより、接着要素の欠落部分の有無や、幅、高さなどの形状を非接触で光学的に検出することができる。
【００２２】
また、上記の製造方法で製造された電気光学パネルを表示部として備える電子機器を構成することができる。
【００２３】
本発明の他の観点では、電気光学パネルの製造装置は、電気光学パネルを構成する２枚の基板うちの一方に接着要素を形成する接着要素形成部と、前記接着要素の形状を検査する検査部と、前記一方の基板と前記接着要素により形成された領域内に電気光学物質を滴下する滴下部と、前記検査工程後に、前記２枚の基板を貼り合わせる貼り合わせ部と、を有し、前記検査部により、前記接着要素の形状が欠落部分を有することが検出された場合には前記滴下部は当該欠落部分を有する接着要素により形成される領域には前記電気光学物質を滴下しないことを特徴とする。
【００２４】
上記の電気光学パネルの製造装置によれば、液晶などの電気光学物質を挟持する２枚の基板のうちの一方に、例えばシール材などの接着要素が形成され、その形状が検査される。そして、接着要素の内部の領域に電気光学物質が滴下され、他方の基板と貼り合わされる。これにより、２枚の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルが作成される。ここで、検査工程において接着要素の形状に欠落部分が検出された場合には、その接着要素の部分には電気光学物質を滴下しないこととする。これにより、欠落部分を有する接着要素を検出し、その部分には電気光学物質を滴下しないこととして、不要な洗浄工程などを行わないようにし、製造工程の効率化を図ることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００２６】
本実施形態は、液晶表示パネルのシール材において、予め設定されたシール材の検査基準に基づいて、評価を実施する自動検査装置と上記自動検査装置において抽出され得られた検査データを、シール描画装置と基板貼り合せ装置に転送することにより、生産性の高い生産プロセスを提供し、液晶層の厚みが均一で光学特性に優れた良好な液晶表示パネルを提供することを特徴とする。
【００２７】
［液晶表示パネル］
図１に本実施形態を利用した液晶表示装置の構成を示す。なお、図１に示した液晶表示装置１００は、透過型液晶表示装置を示しているが、本発明は、半透過反射型液晶表示装置および反射型表示装置にも使用することができる。また、液晶表示装置１００は、大きく分けて液晶表示パネル２００とバックライトユニット３００で構成されている。
【００２８】
まず、液晶表示パネル２００の構成について説明する。
【００２９】
ガラスなどの絶縁性基板１ａ、１ｂの表面に透明電極２ａ、２ｂがそれぞれ形成される共に、液晶分子を一定方向に配向させる図示しない配向膜がさらに設けられる。２枚の絶縁性基板１ａ、１ｂは、図示しないスペーサにより一定の間隔を保持しながら、上述の透明電極膜が対向するように、その周囲をシール材３により貼着されている。
【００３０】
本実施形態のシール材３の形状は、液晶の注入口のない、液晶表示パネルの周辺部すべてをシール形状で形成している、所謂、封口レス技術を利用している。このシール材３は、例えば、一枚の基板上に、ディスペンサーなどの装置を用いて、設計されたシール形状を塗布することにより形成される。また、スクリーン版などを用いて、シール形状を印刷しても良い。
【００３１】
上述したような封口レス技術を用いた液晶表示パネル２００の場合、従来のように、液晶注入口からの液晶の漏れや、注入口を封止している封止材の未反応物質による液晶層への汚染が発生しない。また、上記注入口を封止する工程も必要としない。上記注入口用の封止材は、一般的に、光硬化樹脂を利用することが多い。そのため、上記光硬化樹脂を硬化させる紫外線は、液晶の配向性に悪影響を与え液晶配向不良を引き起こす原因となることがある。しかし、上記封口レス技術は、注入口を設けていないので、封止する工程も必要とせず、また、紫外線を照射する必要もないので、液晶配向不良を発生することもない。よって、上記封口レス技術は、製造工程を減らし、液晶表示パネル２００の表示品位を向上することができる。
【００３２】
上述したように、例えば、基板１ａに設計されたシール材３を塗布し、正しく形成されたシール材３の内部にのみ、液晶材料を滴下する。そして、他方の基板１ｂと貼り合せることにより、２枚の絶縁性基板１ａ、１ｂの隙間に液晶材料が設けられ、液晶層４が２枚の絶縁性基板１ａ、１ｂにより挟持される。さらに絶縁性基板１ａ、１ｂの外側には、それぞれ偏光板５ａ、５ｂや位相差板６ａ、６ｂが貼着され、これらにより液晶表示パネル２００が形成されている。
【００３３】
なお、例えば、絶縁性基板１ｂには、スイッチング素子などが形成されていても良いし、また、例えば、絶縁性基板１ａには、カラーフィルタ７、８、９や、保護膜１０などが形成されていても良い。
【００３４】
上記透明電極膜２ａ、２ｂに電圧が印加されることにより、その間に挟持されている液晶分子の配列が変化し、偏光板５ａ、５ｂの吸収軸の方向と共にバックライトユニット３００からの光の透過および不透過が制御され、所望の表示を得ることができる。
【００３５】
［液晶パネルの製造装置］
次に、上述の液晶パネルの製造装置の概略について説明する。図２に、液晶パネルの製造工程を示す。液晶パネルの製造装置は、大別して、シール描画装置５１と、シール形状検査装置５２と、液晶滴下装置５３と、基板貼り合せ装置５４を有する。また、図２には、各装置による処理後に得られる母基板Ｍの状態を概略的に図示している。
【００３６】
シール描画装置５１は、ディスペンサーなどを用いて、設計されたサイズのシール材３を母基板Ｍ上に塗布する。上記ディスペンサーは、１本でも良いし、数本使用してもよい。また、ディスペンサーを使用する代わりにスクリーン版を用いて、シール材３を母基板Ｍ上に印刷してもよい。また、シール描画装置５１は、基板貼り合せ装置５４による基板貼り合わせ時に２枚の母基板を仮止めするため光硬化樹脂１１を母基板の端部に塗布しておく。シール描画装置５１により、シール材３および仮止め用の光硬化樹脂１１が塗布された母基板Ｍ１が得られる。
【００３７】
シール形状検査装置５２は、シールの形状について光学センサを用いて検査及び評価を実施する。光学センサは、例えば、ＣＣＤやレーザビームを用いており、塗布されたシールの高さ、幅及びシール形状について測定された反射光を用いて、評価を行う。シール形状検査装置５２は、具体的には、シール形状良否評価とシール状態評価の２つの評価を行う。シール形状良否評価とは、シール材３が設計サイズ通りに正しく形成されているか否かの評価であり、特に矩形のシール形状に切れ目などの欠落部分が生じていないかを検出する。一方、シール状態評価とは、切れ目などがなく、正しく矩形にシール形状が形成されている場合に、そのシール材の高さや幅などが設計値からの許容範囲内であるか否かを検出する。図２中の母基板Ｍ２は全てのシール材３が正しいシール形状を有している場合を示している。
【００３８】
なお、シール形状良否評価の結果、シール形状に切れ目が生じていると判定された場合には、そのシール材３の内側には液晶を滴下しない。また、シール状態評価の結果、シール材３の高さや幅が不足していると判定された場合は、その情報をシール材描画装置に供給し、その後のシール描画工程において正しい高さや幅のシール材３が形成されるようにする。
【００３９】
液晶滴下装置５３は、シール形状検査装置５２により、欠落部分がなく、正しく形成されたシール材３の内側領域に液晶を滴下する装置である。図２中の母基板Ｍ３は、各シール材３の内側領域に液晶４を滴下した状態を模式的に示している。
【００４０】
基板貼り合せ装置５４は、シール材３の内側領域に所定量の液晶が滴下された後、母基板Ｍを貼り合わせて、複数個分の液晶パネル部分を含む貼り合わせ母基板を作製する。図２の貼り合わせ母基板Ｍ４は、液晶を挟んで２枚の母基板を貼り合わせた状態を示している。
【００４１】
［シール材の形状］
次に、シール材描画装置５１により塗布された、個々のシール材３のシール形状の例を図３に示す。
【００４２】
図３（ａ）は、設計値通りに形成されたシール材３の形状３ａを示す。設計値によれば、シール材３の外周は幅Ｘ、高さＹとする。また、設計値通りのシール形状３ａの幅は規定値がｈ、設計マージンがαとする。したがって、設計値に照らして良好と判断されるシール材３の幅の許容範囲は、ｈ−α≦ｈ≦ｈ＋αである。また、図示しないが、シール材の高さの設計値をｋとする。
【００４３】
図３（ｂ）は、シール材３が途中で切れているシール材３のシール形状３ｂを示す。この場合には、シール形状検査装置５２はシール形状３ｂに欠落部分があるとして不良と判定し、その後の液晶滴下装置５３は当該シール材３の内側領域には液晶を滴下しない。
【００４４】
図３（ｃ）は、シール材３の幅が細すぎるシール形状３ｃを示す。上記シール形状３ｃの外周は幅Ｘ、高さＹであり設計値通りであるがシール材３の幅はｉは、ｉ＜ｈ−αであるために、シール材３の幅が許容範囲外となっている。一方、図３（ｄ）は、シール材３の幅が太すぎるシール形状３ｄを示す。シール形状３ｄの外周は幅Ｘ、高さＹであり設計値通りであるが、シール材３の幅はｊは、ｊ≧ｈ＋αであるため、シール材３の幅が許容範囲外となっている。図３（ｃ）及び（ｄ）の場合は、シール材３の幅の情報がシール材描画装置５１へ供給され、その後に形成されるシール材の幅が設計値となるように修正がなされる。
【００４５】
[液晶表示パネルの製造方法]
次に、図１に示した液晶表示パネル２００を製造する方法について、図４乃至図６を参照して説明する。
【００４６】
図４は、液晶表示パネル２００の主な製造工程を示すフローチャートを示す。図５は、セル作製工程（図４における工程Ｓ７）、つまりシール描画、シール形状検査、液晶滴下、基板貼り合せの各工程について詳細を示す。図６（ａ）〜（ｄ）は、図５における各工程で作製された母基板の状態を模式的に示す。
【００４７】
図４を参照すると、まず、上記の実施形態による基板１ａの母基板１ａＭが製造される（工程Ｓ１）。さらに、赤色カラーフィルタ７、緑色カラーフィルタ８、青色カラーフィルタ９の上に設けられたオーバーコート層１０の上に透明導電膜２ａをスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ方式によってパターニングを実施し、透明電極膜２ａを形成する（工程Ｓ２）。その後、透明電極膜２ａ上に図示しないポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ３）。
【００４８】
一方、基板１ｂの母基板１ｂＭを製作し（工程Ｓ４）、同様の方法で透明電極膜２ｂを形成し（工程Ｓ５）、さらに透明電極上に図示しない配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ６）。
【００４９】
次に、こうしてできた２枚の母基板１ａＭと１ｂＭをセル作製工程において貼り合わせる。セル作製工程（工程Ｓ７）の詳細を図５に示す。
【００５０】
まず、シール描画工程（工程Ｔ１）において、シール描画装置５１が母基板１ａＭ上にシール材３を塗布する。これにより、母基板１ａＭ上に、複数個のシール材３が形成される。いま、図６（ａ）に示すように、母基板１ａＭ上に９個のシール材３が形成され、中央の１つに切れ目が生じてしまったと仮定する。図６（ａ）において、正しく形成されたシール材を３ａで示し、切れ目が生じたシール材を３ｂで示している。
【００５１】
次に、シール形状検査装置５２がシール形状の検査工程Ｔ２を行う。以下、図３に示す各シール形状３ａ〜３ｄの場合について順に説明する。上記のシール形状３ａは、設計値通りのシール材３の幅ｈ、高さｋを有する。よって、液晶滴下工程（工程Ｔ３）を行う。工程Ｔ２において、シール形状３ａは良好であると判定されたため、シール形状検査装置５２は液晶滴下装置５３に液晶を滴下する信号を送信する。そして、液晶滴下装置５３が必要量の液晶をディスペンサーにて図６（ｃ）に示すようにそのシール材３の内側領域に液晶４を滴下する。
【００５２】
次に、基板貼り合せ装置５４は、スペーサが散布された他方の基板１ｂの母基板１ｂＭと、上記シール材３が塗布され、液晶４が滴下された母基板１ａＭとを貼り合せる（工程Ｔ４）。工程Ｔ４は、例えば、シール材３が塗布され、液晶材料が滴下された母基板１ａＭを貼り合せ装置内に置き、位置決めを実施する。次に、スペーサを散布した母基板１ｂＭを貼り合せ装置内に置き、位置決めを実施する。位置決め終了後、貼り合せ装置内の真空チャンバー内の真空引きを実施する。規定された真空度に到達後、装置上側に設置された基板、例えば、母基板１ｂＭを下降させ、貼り合せを実行し加圧する。次に、母基板の端部に設けられた、母基板仮止め用の光硬化樹脂１１に紫外線を照射して、仮止めを実施する。そして、真空チャンバー内の真空度を大気圧までもどし、基板を取り出す。
【００５３】
次に、図３（ｂ）で示したシール切れの形状３ｂの結果が得られた場合のセル作製工程について、説明する。
【００５４】
上記のシール形状３ｂは、シール材３に切れ目が生じているので、シール形状検査工程Ｔ２において不良と判定されている。工程Ｔ２において、シール形状３ｂは不良という結果が得られているため、液晶滴下装置５３には、シール材検査装置５２から、当該シール材３の内部領域には液晶４の滴下を禁止する信号が送信される。よって、図６（ｃ）に示すように、シール材３ｂの内側領域には液晶４が滴下されない。仮にシール材３ｂ内に液晶４を滴下してしまうと、液晶４がシール材４の外部に染み出し、周辺の液晶セルまで液晶で汚れてしまうことになる。このような場合は、良品の液晶セル２００ａに対して、十分な洗浄を必要とすることになる。つまり、シール形状がすべて良好であるならば不必要となるはずの洗浄工程を行う必要が生じてしまうことになる。また、上記洗浄工程を追加することにより、洗浄用の溶剤が必要になり、液晶表示パネルのコスト高にもつながってしまう。この点、上記検査方法を用いることにより、シール切れのシール材３ｂの内部には液晶４は滴下されない。そのため、シール材３の外部に液晶が漏れることもなく、周辺の液晶セル２００ａを汚すこともないため、洗浄工程も不必要となる。
【００５５】
シール切れの形状３ｂの場合も、上述した工程Ｔ４と同様に、基板の貼り合せが実施される。しかし、シール切れの形状３ｂを有するシール材の内部には液晶の滴下が行われていないので、液晶の入っていない空セルの状態で作製される。
【００５６】
次に、図３（ｃ）に示す、許容範囲より細いシール材３ｃの場合のセル作成工程について説明する。上記シール材３ｃの幅は、ｉであり、この値は、ｉ＜ｈ−αであるため、規定値に不足している。この場合には、シール形状検査装置５２は、シール描画装置５１にシール材３の形成データ、例えば塗出精度を変更するデータを供給する。そして、シール描画装置５１は、次回シール形状を塗布する場合、圧力を上げ、シール幅を太くするように調整する。
【００５７】
工程Ｔ２において、シール材３の形状３ｃは規定値よりも幅が細いという結果が得られ、この結果に基づき、滴下する液晶の量を変更する内容のデータが液晶滴下装置５３に供給される。例えば、シール材３ａにおける液晶４ａの面積（Ｘ−２ｈ）（Ｙ−２ｈ）と比較すると、シール材３ｃにおける液晶４ｃの面積（Ｘ−２ｉ）（Ｙ−２ｉ）は、大きい。ここで、例えば、シール材３ａおよび３ｃのシール形状内に同じ分量の液晶を滴下し、基板の貼り合せを実施したとすると、シール形状３ａを有する液晶セル２００ａの液晶層の厚みは、シール形状３ａが規定値内であり良好なため、作製された液晶セルは、均一な厚みを有する。しかし、シール形状３ｃを有する液晶セルの液晶層の厚みは、シール材３の幅が細いため、シール形状３ａと同様の液晶量を滴下し、基板の貼り合せを実施すると液晶セルの中央部が特に薄くなり、全体的に均一な厚みを得ることができない。要するに、シール形状３ｃを有する液晶セルは、均一な液晶層の厚みを有さないため、均一な光学特性を得ることができず、良好な表示品位を得ることができない。
【００５８】
この点、本実施形態では、シール形状検査工程（工程Ｔ２）において、シール形状の検査を実施し、その検査データを液晶滴下装置５３に供給する。そして、液晶滴下工程（工程Ｔ３）では、そのシール形状に適した量の液晶を滴下する。シール材３ｃでは、シール幅が細いため、規定値の液晶滴下量よりも、多い滴下量をディスペンサーにて、滴下する。そして、基板の貼り合せを実施することにより、良好な液晶セル２００ａを得ることができる。
【００５９】
次に、図３（ｄ）で示した規定値よりも太いシール形状３ｄの結果が得られた場合のセル作成工程について説明する。上記シール形状３ｄの幅は、ｊであり、この値は、ｊ＞ｈ＋αであるため幅が大きすぎるために、許容範囲外である。このような場合、シール形状検査装置５２は、シール描画装置５３にシール材３の塗出精度を変更するデータを転送する。そして、シール描画装置は、次回シール形状を塗布する場合、圧力を下げ、シール幅を細くするように調整する。
【００６０】
工程Ｔ２において、シール形状３ｄは、規定値よりも太いという結果が得られたので、この結果に基づき、滴下する液晶の分量を変更する内容のデータが、液晶滴下装置５３に、転送される。例えば、シール材３ａにおける液晶４ａの面積（Ｘ−２ｈ）（Ｙ−２ｈ）と比較すると、シール材３ｄにおける液晶４ｄの面積（Ｘ−２ｊ）（Ｙ−２ｊ）は、大きい。よって、シール形状３ｄに対しては、シール幅が太いため、規定値の液晶滴下量よりも、少ない滴下量をディスペンサーにて、滴下する。そして、基板の貼り合せを実施することにより、良好な液晶セル２００ａを得ることができる。
【００６１】
以上のようにしてセル作成工程（Ｓ７）が終了した後、母基板が貼り合せられたパネル構造に対して、分断工程Ｓ８を実施する。具体的には、母基板を構成している基板１ａと基板１ｂを切断し、個々の液晶パネル部分が１つずつ分断される。
【００６２】
こうして主要なパネル構造が完成した後に、偏光板５ａ、５ｂや位相差板６ａ、６ｂなどを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ９）、図１に示す液晶表示パネル２００が完成する。
【００６３】
以上説明したように、本発明は、シール形状検査装置により母基板に塗布されたシール材形状を検査する。そして、シール材に切れ目などの欠落部分が生じている場合には、そのシール材の内側領域には液晶を滴下しない。また、シールの高さ及び幅が規定値外であれば、シール描画装置に、シール塗出変更データを転送する工程と、上記シール形状に応じた液晶滴下を実施する工程とを有することにより、均一な液晶層を得ることができ、表示品位の高い液晶表示パネルを提供することができる。
【００６４】
［電子機器］
図７は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置１００と、これを制御する制御手段１１０を有する。ここでは、液晶表示装置１００を、パネル構造体１００Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路１００Ｂとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１１０は、表示情報出力源１１１と、表示情報処理回路１１２と、電源回路１１３と、タイミングジェネレータ１１４と、を有する。
【００６５】
表示情報出力源１１１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１１４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路１１２に供給するように構成されている。
【００６６】
表示情報処理回路１１２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路１００Ｂへ供給する。駆動回路１００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１１３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００６７】
次に、本発明に係る液晶表示装置を適用可能な電子機器の具体例について図８を参照して説明する。
【００６８】
まず、本発明に係る液晶表示装置を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図８（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ２１０は、キーボード２１１を備えた本体部２１２と、本発明に係る液晶表示装置を適用した表示部２１３とを備えている。
【００６９】
続いて、本発明に係る液晶表示装置を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図８（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機２２０は、複数の操作ボタン２２１のほか、受話口２２２、送話口２２３とともに、本発明に係る液晶表示装置を適用した表示部２２４を備える。
【００７０】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図８（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図８（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００７１】
［変形例］
また、本発明の電気光学装置は、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけではなく、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ（電界放出表示装置）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る液晶表示装置の例を示す。
【図２】本発明を適用した液晶表示装置のセル作製に関する装置を示す図である。
【図３】本発明によるシール形状の例を示す。
【図４】本発明を適用した液晶表示装置の製造工程を示す図である。
【図５】セル作製工程を示す図である。
【図６】セル作製工程における母基板の状態を示す図である。
【図７】本発明を適用した液晶表示装置を利用する電子機器の構成を示す。
【図８】本発明を適用した液晶表示装置を備えた電子機器の例を示す。
【符号の説明】
１ａ、１ｂ絶縁性基板
２ａ、２ｂ透明電極膜
３、３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄシール材
４、４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ液晶層
５ａ、５ｂ偏光板６ａ、６ｂ位相差板
７赤色カラーフィルタ
８緑色カラーフィルタ
９青色カラーフィルタ
１０保護膜
１１光硬化樹脂
１００液晶表示装置
２００液晶表示パネル
２００ａ液晶セル
３００バックライトユニット

Claims

電気光学パネルを構成する２枚の基板のうちの一方に接着要素を形成する接着要素形成工程と、
前記接着要素の形状を検査する検査工程と、
前記一方の基板と前記接着要素により形成された領域内に電気光学物質を滴下する滴下工程と、
前記検査工程後に、前記２枚の基板を貼り合わせる工程と、を有し、
前記検査工程は、
前記欠落部分を検出する第１の検査工程と、
前記接着要素の高さ及び幅を検出する第２の検査工程と、を有し、
前記滴下工程は、前記第２の検査工程により得られた前記接着要素の高さ及び幅に基づいて、滴下する電気光学物質の量を調整し、
前記検査工程により、前記接着要素の形状が欠落部分を有することが検出された場合には、前記滴下工程は、当該欠落部分を有する接着要素により形成される領域には前記電気光学物質を滴下しないことを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
前記第２の検査工程により得られた前記接着要素の高さ及び幅が予め決められた許容範囲外である場合、次回接着要素形成工程にて形成する接着要素の高さ及び幅を調節することを特徴とする請求項１に記載の電気光学パネルの製造方法。