JP4158482B2 - Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member - Google Patents
Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member Download PDFInfo
- Publication number
- JP4158482B2 JP4158482B2 JP2002306700A JP2002306700A JP4158482B2 JP 4158482 B2 JP4158482 B2 JP 4158482B2 JP 2002306700 A JP2002306700 A JP 2002306700A JP 2002306700 A JP2002306700 A JP 2002306700A JP 4158482 B2 JP4158482 B2 JP 4158482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- die
- application
- coating liquid
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、たとえばプラズマディスプレイ、カラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、光学フィルタ、プリント基板、集積回路、半導体等の製造分野に使用されるものであり、詳しくはガラス基板などの被塗布部材表面に非接触で塗布液を吐出しながら塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、ディスプレイはその方式において次第に多様化してきているが、現在注目されているものの一つが、従来のブラウン管よりも大型で薄型軽量化が可能なプラズマディスプレイである。これは、一定ピッチでストライプ状に一方向にのびる溝をもつ隔壁をガラス基板上に構成し、さらにこの隔壁の溝にR、G、Bの蛍光体を充填し、任意の部位を紫外線により発光させ、所定のカラーパターンを写し出すものである。通常隔壁のある方が背面板、紫外線を発生する部位のある方が前面板と呼ばれており、両者を貼りあわせてプラズマディスプレイとして構成される。
【0003】
ここで重要な背面板上の隔壁のパターンの形成方法としては、隔壁用ペーストを均一に塗布し、乾燥して均一膜厚に成型してから、所定ピッチのストライプ状の溝を、サンドブラスト法やフォトリソグラフィー法等の後加工によって彫り込み、焼成するのが主流である。隔壁の塗布膜の厚さは焼成後でも100〜200μmと厚く、この膜厚に隔壁用ペーストを均一に塗布する手段に、ダイコート法が多く導入されている。
【0004】
このダイコート法において生産性を向上させるために、1枚のガラス基板から複数の製品がとれるように、基板上の複数の領域に塗布して塗布膜を形成すること(多面取り)が行われている。この多面取りは、製造工程全体の生産性向上という点からも有効な技術である。
【0005】
この種の多面取りに対応するダイコータとしては、複数の吐出口を有するダイ(例えば特許文献1、2)や、複数のダイ(例えば特許文献3)によって、ガラス基板等の被塗布部材の複数の塗布領域に塗布することが示されている。また一つのダイで塗布液の吐出、停止を繰り返し複数面の塗布を行なう手段(間欠塗布)(例えば特許文献2)もある。
【0006】
【特許文献1】
特開平10−113595号公報(第3欄9行目〜第3欄27行目、第4欄47行目〜第6欄1行目、図2)
【0007】
【特許文献2】
特開平10−43659号公報(第3欄8行目〜第4欄12行目、図1。第1欄42行目〜第2欄15行目、図3)
【0008】
【特許文献3】
特開平10−216599号公報(第7欄32行目〜第8欄28行目、図2)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
多面取りで製品を製造すると、100%全ての面に欠点なく、良品を製造することは困難である。欠点はどの工程で生じるかはわからず、すでに不良とわかっている面にも加工を施して、製造コストを増加させてしまうことがある。
【0010】
例えば、プラズマディスプレイの背面板の製造工程で、電極、あるいは誘電体を形成する工程である面(領域)で欠点が生じても、それとは関係なく隔壁形成工程で、ダイコータにて隔壁を形成するためのガラスペーストを所定厚塗布することがある。ガラスペーストは高価なものであるので、製品とならないむだな面(領域)に塗布することにより、大幅なコストアップをすることになる。
【0011】
本発明の目的は上記の多面取りにおける不具合を解消し、すでに製品として欠点のある面(領域)には塗布を実施せず、ペースト、エネルギーロス等を節約して、コストダウンの図れるシステムを作り、それを活用した塗布方法および塗布装置、ならびにプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記本発明の目的は、以下に述べる手段によって達成される。
【0013】
本発明の塗布方法は、複数の独立して形成されかつ長手方向に並んだスリットの出口である吐出口を有するダイと被塗布部材を相対移動させながら、前記吐出口数に対応した数の塗布液供給手段より塗布液をダイに供給し、塗布液を前記ダイより吐出して、被塗布部材上の重ならない複数の前記吐出口に位置的に対応した塗布領域に塗布膜を形成する塗布方法において、前工程からの各塗布領域ごとの良品あるいは不良品情報に基づき、良品である塗布領域では塗布膜を形成する一方、不良品である塗布領域では塗布膜を形成しないように選択して前記塗布液供給手段を独立に制御し、塗布を行うことを特徴とする。
【0015】
また本発明の塗布装置は、塗布液を供給する塗布液供給手段と、この塗布液供給手段から供給される塗布液を被塗布部材上に吐出する複数の独立して形成されかつ長手方向に並んだスリットの出口である吐出口を有するダイと、被塗布部材およびダイを相対的に移動させる移動手段、を備えた塗布装置であって、前記塗布液供給手段はダイの吐出口数に対応した数を備え、さらに前工程からの情報を電気的通信により伝達される伝達器と、被塗布部材上の重ならない複数の前記吐出口に位置的に対応した塗布領域に形成される塗布膜の中から、伝達された情報に基づき、実際に塗布を行って形成する塗布膜を前記各塗布領域ごとに選択する判定器、をさらに備えたことを特徴とする。
【0017】
さらに本発明になるプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、上述の塗布方法を用いてプラズマディスプレイ用部材を製造することを特徴とする。
【0018】
本発明になる塗布方法および塗布装置を用いれば、前工程からの情報に基づき、被塗布部材上の複数の塗布領域ごとに形成する塗布膜を選択して、被塗布部材に塗布を行うのであるから、前工程までの良品部分にのみ塗布でき、不良品部分にむだに塗布することを回避できるので、コストダウンを図ることが可能となる。
【0019】
本発明になるプラズマディスプレイ用部材の製造方法によれば、上記の優れた塗布方法を用いてプラズマディスプレイ用部材を製造するのであるから、高い品質のプラズマディスプレイ用部材を低コストで製造することが可能となる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好ましい実施形態を図面に基づいて説明する。。
【0021】
図1は、この発明に係る塗布装置であるダイコータ1の全体斜視図、図2は、図1のダイコータ1を塗布液の供給系をも含めて示した概略構成図、図3は、別の実施態様になる塗布装置であるダイコータ200の全体斜視図、図4は、図3のダイコータ200を塗布液の供給系をも含めて示した概略構成図である。
【0022】
図1を参照すると、本発明になるプラズマディスプレイの隔壁製造に適用されるダイコータ1が示されている。ダイコータ1は基板A(被塗布部材)の塗布領域R1、R2ごとにダイ40A、Bより塗布液を吐出して塗布を行い、塗布膜C1、C2(図2)を形成するものである。このダイコータ1は基台2を備えており、その上に一対のガイド溝レール4が設けられている。これらガイド溝レール4には、一対のスライド脚8を介してガイド溝レール4上を水平方向に自在に往復動する載置台6が配置されている。この載置台6の上面は図示しない吸着孔がある吸着面90であり、真空吸引によって基板Aが吸着固定可能である。また載置台6の先頭部には、ダイ40の下端面位置を検出するセンサー92A、92Bが取り付けられている。なおガイド溝レール4は、カバー10に覆われている。
【0023】
一対のガイド溝レール4間には、図2に示す送りねじ機構14、16、18を内蔵したケーシング12が配置されている。このケーシング12はガイド溝レール4に沿って水平方向に延びている。送りねじ機構14、16、18は、図2に示されているように、ボールねじであるフィードスクリュー14を有している。フィードスクリュー14は載置台6の下面に固定されたナット状のコネクタ16にねじ込まれ、このコネクタ16を貫通して延びている。フィードスクリュー14の両端部は図示しない軸受に回転自在に支持されており、その一端にはACサーボモータ18が連結されている。
【0024】
図1に示されているように、基台2の上面のほぼ中央には2基のダイ支柱24A、Bが配置されており、このダイ支柱24A、Bはいずれも逆L字形をなしている。ダイ支柱24A、Bの先端は、載置台6の往復動経路の上方に設置されているが、そこには各々昇降機構26A、Bが取り付けられている。昇降機構26A、Bは昇降可能な昇降ブラケット(図示しない)を備えており、この昇降ブラケットはケーシング28A、B内の一対のガイドロッドによって昇降自在に案内される。また、ケーシング28A、B内にはガイドロッド間に位置してボールねじからなるフィードスクリュー(図示しない)もまた回転自在にして配置されており、このフィードスクリューに対してナット型のコネクタを介して昇降ブラケットが連結されている。この構成によって、昇降ブラケットは昇降自在に移動することができる。さらにフィードスクリューの上端にはACサーボモータ30A、Bが接続されている。このACサーボモータ30A、Bはケーシング28A、Bの上面に取り付けられている。
【0025】
各々の昇降ブラケットには支持軸(図示しない)を介してダイホルダ32A、Bが取り付けられている。このダイホルダ32A、Bはコの字形をなしかつ一対のガイド溝レール4の上方を基板幅方向(載置台6の往復動方向と直交する方向)に水平に延びている。ダイホルダ32A、Bの支持軸は昇降ブラケット内にて回転自在に支持されており、これにより、ダイホルダ32A、Bは支持軸とともに垂直面内で回転することができる。
【0026】
また昇降ブラケットには水平バー36A、Bも固定されており、この水平バー36A、Bはダイホルダ32A、Bの上方に位置し、ダイホルダ32A、Bに沿って延びている。水平バー36A、Bの両端部には、その下面から突出する伸縮ロッドを有する電磁作動型のリニアアクチュエータ38A、Bがそれぞれ取り付けられている。これらの伸縮ロッドは下端がダイホルダ32A、Bの両端にそれぞれ当接するように配置されている。
【0027】
ダイホルダ32A、Bには塗布器であるダイ40A、Bが保持されている。図1から明らかなように、スリットダイ40A、Bは載置台6の往復動方向と直交する方向、つまり、ダイホルダ32A、Bの長手方向に水平に延びて、その両端がダイホルダ32A、Bに支持されている。以上の構造によって、ダイ40A、Bは各々独立して昇降させることができる。
【0028】
その他基台2の上面にはダイ支柱24A、Bよりも手前側にセンサ柱20が配置されている。このセンサ支柱20もまた逆L字形をなしている。センサ支柱20の先端には、載置台6の往復動経路の上方になるように厚みセンサ22がブラケット21を介して取り付けられている。
【0029】
さてダイ40A、Bは図2に概略的に示されているように、それぞれ長尺なブロック形状のリアリップ60A、B、フロントリップ66A、Bを、載置台6の往復動方向に図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体的に結合して構成されている。リアリップ60A、B、フロントリップ66A、Bの最下面は、塗布領域R1、R2にそれぞれ形成される塗布膜C1、C2を保持する吐出口面74A、Bとなっている。吐出口面74A、B〜基板Aのすきまであるクリアランスは塗布性から最適な値に設定される。
【0030】
またダイ40A、Bの内部では、リアリップ60A、Bとフロントリップ66A、Bとの間で、塗布膜C1、C2を形成する塗布液の流路となるスリット64A、Bが形成される。このスリット64A、Bは、ダイ40A、Bの下面では塗布液の出口である吐出口72A、Bとなる。またスリット64A、Bの間隙はリアリップ60A、B、フロントリップ66A、Bの平行部との間に挟み込まれた図示しないシムによって確保されており、任意の大きさに設定できる。ダイ40A、B長手方向(図2の紙面に垂直な方向)での吐出量分布は、ダイ40長手方向のリップ間隙分布によって定まる。すなわち、リップ間隙が広いと吐出量は多くなり、リップ間隙が狭いと吐出量は少なくなる。さらにスリット64A、Bの上流側には、これに連通してダイ40A、Bの長手方向(基板幅方向)に水平に延びているマニホールド62A、Bが形成されている。そしてこのマニホールド62A、Bはダイ40A、Bの内部通路を介して吐出配管42A、Bに接続される。
【0031】
ダイ40A、Bの上流には吐出配管42A、B、吐出バルブ84A、B、シリンジポンプ44A、B、吸引配管82A、B、吸引バルブ86A、B、タンク50A、Bがあり、タンク50A、B内の塗布液76A、Bをダイ40A、Bに供給することができる。これらが塗布液供給手段を構成している。
【0032】
シリンジポンプ44A、Bはシリンジ80A、B、ピストン52A、B、分岐管46A、Bより構成されている。吸引バルブ86A、Bを開、吐出バルブ84A、Bを閉の状態でピストン52A、Bを図示されていない駆動装置によって下降させると、塗布液が分岐管46A、Bを経てシリンジ80A、Bに充満する。ついで吸引バルブ86A、Bを閉、吐出バルブ84A、Bを開の状態にしてからピストン52A、Bを上昇させると、シリンジ80A、B内に充満された塗布液が分岐管46A、Bを通じてダイ40A、Bへ送られる。
【0033】
これら吸引バルブ86A、B、吐出バルブ84A、Bの切替タイミング、シリンジポンプ44A、Bの動作タイミング、塗布液吐出量、吐出速度等の動作条件は、各々の装置が電気的に接続されているコンピュータ54によって各装置ごとに独立に制御される。さらに、シリンジポンプ44A、Bを載置台6等と連動して動作制御するため、コンピュータ54には厚みセンサー22の他に、シーケンサ56も電気的に接続されている。このシーケンサ56は、載置台6側のフィードスクリュー14のACサーボモータ18や、昇降機構26A、BのACサーボモータ30A、Bやリニアアクチュエータ38A、Bの作動をシーケンス制御するものであり、そのシーケンス制御のために、シーケンサ56にはACサーボモータ18、30A、Bの作動状態を示す信号、載置台6の移動位置を検出する位置センサ58からの信号、ダイ40A、Bの作動状態を検出するセンサ(図示しない)からの信号などが入力される。一方、シーケンサ56からはシーケンス動作を示す信号がコンピュータ54に出力されるようになっている。以上の構成によって、ダイ40A、Bからの塗布液76A、Bの吐出と、ダイ40A、Bの昇降動作を任意に行わせることができる。なお、位置センサ58を使用する代わりに、ACサーボモータ18にエンコーダを組み込み、このエンコーダから出力されるパルス信号に基づき、シーケンサ56にて載置台6の移動位置を検出することも可能である。また、シーケンサ56自体にコンピュータ54による制御を組み込むことも可能である。
【0034】
コンピュータ54はさらにホストコンピュータ100に電気的に接続されている。ホストコンピュータ100には、ダイコータ1以外の製造工程を構成する各装置のメイン制御部とも電気的に接続されており、各工程や装置での状況を示す情報や、各基板ごとの状況(欠点その他)を示す情報が蓄えられている。そしてコンピュータ100からは、コンピュータ54に、これから塗布する基板Aの、基板番号の他、前工程で生じた欠点情報、良品/不良品等の情報が伝えられる。一方コンピュータ54からホストコンピュータ100には、ダイコータ1での塗布条件等の塗布状況、塗布を完了した基板番号等が伝えられる。さらにコンピュータ54には、ホストコンピュータ100から伝達された欠点情報、良品/不良品情報を解析して判定し、特定の欠点のあるものや、不良品に対しては塗布領域R1、R2ごとに塗布を行わないようにする機能も有している。特に基板上の2ヶ所以上の塗布領域に塗布を行う多面取りでは、情報は各塗布領域ごとに伝達され、その情報に基づき、不良品とされている塗布領域は塗布せず、良品とされている塗布領域のみ塗布するようコンピュータ54によって選択的に制御される。
【0035】
次にこのダイコータ1を使って図1に示す基板Aの2つの塗布領域R1、R2に塗布する方法について説明する。
【0036】
まず塗布装置における各作動部の原点復帰が行われると載置台6、ダイ40A、Bはスタンバイの位置に移動する。この時までに、タンク50A、Bに塗布液を供給してタンク50A、B〜ダイ40A、Bまでの塗布液供給ライン内の残留エアーの排出(エアー抜き)はすでに完了しており、塗布液供給ライン内には塗布液が充満されている。
【0037】
次に、載置台6の先端にあるセンサー92A、92Bを用いて、載置台6の吸着面90を基準にしたダイ40A、Bの吐出口面74A、Bの基板幅方向の高さ分布を測定し、吐出口面74A、Bが載置台6の吸着面90と平行になるように、各々のリニアアクチュエータ38A、Bの伸縮量を調整する。この時、載置台6の吸着面90を基準点とした吐出口面74A、Bと昇降機構26A、Bの上下方向座標軸(Z軸)値との関連づけ、いわゆる各々の吐出口面74A、Bの原点出しも同時に実行、完了される。この上下方向座標軸値に基づいてダイ40の昇降位置を制御すれば、吐出口面74A、Bを吸着面90から任意の高さ位置に移動させることができる。これらの作業が完了すれば、載置台6、ダイ40A、Bを原点復帰させる。
【0038】
この準備動作が完了した後、載置台6の表面に図示していないリフトピンを上昇させ、その上部に図示しないローダから基板Aを載置したら、リフトピンを下降させて載置台上面に基板Aを載置して吸着する。
【0039】
次に載置台6を所定速度で移動させ、基板Aの中央部が厚みセンサ22の真下にきたら停止させる。この停止状態の時に厚みセンサ22で基板Aの基板厚みを測定し、その厚さとあらかじめ条件として与えておいたクリアランスから、ダイ40A、Bの下降すべき値をそれぞれ演算して、その位置にダイ40A、Bを下降させる。
【0040】
一方、シリンジポンプ44A、Bはこの間にタンク50A、Bから所定量の塗布液を吸引して、待機の状態にある。
【0041】
次にコンピュータ54からの請求により、ホストコンピュータ100からコンピュータ54に、載置台6に移載された基板Aの基板番号と、基板A上の塗布領域R1、R2ごとの良品/不良品情報が伝達される。コンピュータ54では、伝達された情報を塗布領域R1、R2ごとに解析し、不良品である場合は、塗布しないように制御する。具体的な動作としては、載置台6の移動や、ダイ40A、40Bの昇降は行うが、不良品と指定された領域を受け持つシリンジポンプ44A、Bを動作させないよう、コンピュータ54内部でパラメータ設定を行う。この結果、塗布領域R1、R2ごとの良品/不良品情報によって、4種類の組合せで塗布/非塗布(R1、R2:塗布、R1:塗布&R2:非塗布、R1:非塗布&R2:塗布、R1、R2:非塗布)が行われることになる。
【0042】
次に、塗布領域R2はダイ40Aで、塗布領域R1はダイ40Bで塗布するために、まず載置台6を所定の塗布速度で移動開始させる。各々の塗布領域の塗布開始点S2、S1がダイ40Aの吐出口72A、ダイ40Bの吐出口72Bの真下にきたら、塗布を行う場合は、シリンジポンプ44A、44Bを各々独立して起動させて、塗布液76A、76Bをダイ40A、40Bに送り込み、塗布が開始される。そして、基板A上の塗布領域R2、R1の塗布終了点E2、E1が各々ダイ40Aの吐出口72A、ダイ40Bの吐出口72Bの真下の位置にきたら、コンピュータ54から信号を出して、シリンジポンプ44A、44Bの停止と、ダイ40A、44Bの上昇をそれぞれ独立して行い、塗布液76A、76Bを基板Aから完全にたちきって、塗布を終了する。
【0043】
なお塗布を行わない場合は、領域R2、R1に対応するシリンジポンプ44A、44Bを駆動しない。
【0044】
一方載置台6はさらに動きつづけ、基板Aをアンローダで移載する終点位置にきたら停止し、基板Aの吸着を解除してリフトピンを上昇させて基板Aを持ち上げる。
【0045】
この時図示されないアンローダによって基板Aの下面を保持して、次の工程に基板Aを搬送する。アンローダへの受け渡しが完了したら、載置台6はリフトピンを下降させ原点位置に復帰する。
【0046】
この間にシリンジポンプ44A、Bは、吸引動作を行ってタンク50A、Bから新たに塗布液76A、Bを充満させる。なお塗布を行わなかった領域R2、R1に対応するシリンジポンプ44A、44Bは、当然ながら、この吸引動作は行わない。ついで次の基板Aが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。
【0047】
次に本発明の別の実施態様例であるダイコータ200を図3を用いて説明する。
【0048】
ダイコータ200は、1台のダイ210で基板幅方向に並んだ領域R3、R4に塗布液を吐出して塗布し、塗布膜C3、C4を形成するものである。ダイコータ200はダイコータ1と基本的な機器構成は同じであるが、ダイ210が1台となっていることと、基板幅方向(載置台206の往復動方向に直交する方向)が長くなることによって、図1のダイコータ1と一部違いが生じている。異なる部分は次の通りである。まずダイ210を保持するダイホルダー224が1台であるので、それを昇降させる昇降機構26、及び昇降機構26を構成するケーシング28、ACサーボモータ30は1台となる。さらにダイを垂直面内で回転させるために必要な水平バー226は1台、リニアアクチュエータ38左右各々1台である。これらは台数が1台となっただけで、構造的には全くダイコータ1で示したものと同じである。
【0049】
さらに基板Aの幅方向が長くなったために、基板Aを保持する載置台206も幅方向に長くなり、それに伴い昇降機構26を支持するダイ支柱204は基台202からの張り出しが長くなっている。さらに厚みセンサー22を保持するブラケット230も、それが保持されるセンサー支柱20と厚みセンサー22との距離が長くなったのに対応して大きくなっている。またケーシング228も幅方向に長い構造になっている。
【0050】
その他図3では、ガイドレール溝4、スライド脚8、カバー10は、センサー92A、Bは、ダイコータ1で示したものと全く同じである。
【0051】
それに対し、ダイ210は、図4に示すように、それぞれ長尺なブロック形状のリアリップ212とフロントリップ214を、載置台206の往復動方向に図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体的に結合して構成されている。リアリップ212、フロントリップ214の最下面は、塗布領域R3、R4にそれぞれ形成される塗布膜C3、C4(図4)を保持する吐出口面222となっている。
【0052】
またダイ210の内部では、リアリップ212とフロントリップ214との間で、塗布膜C3、C4を形成する塗布液の流路となるスリット216A、Bが形成される。このスリット216A、Bは、吐出口面222で塗布液の出口である吐出口220A、Bとなる。この吐出口220A、Bは、塗布領域R3、R4に位置的に対応して配置されている。またスリット216A、Bの間隙はリアリップ212とフロントリップ214の平行部との間に挟み込まれた図示しないシムによって確保されている。
【0053】
さらにスリット216A、Bの上流側には、これに連通してダイ210の長手方向(基板幅方向)に水平に延びているマニホールド218A、Bが独立して形成されている。そしてこのマニホールド218A、Bはダイ210の内部通路を介して吐出配管42A、Bに接続される。吐出配管42A、Bより上流は、ダイコータ1と同じく、吐出バルブ84A、B、シリンジポンプ44A、B、吸引配管82A、B、吸引バルブ86A、B、タンク50A、Bに連結されている。これによって、タンク50A、B内の塗布液76A、Bをダイ210の2つの吐出口220A、Bから吐出して、基板Aの塗布領域R3、R4に塗膜C3、C4を形成できる。吐出バルブ84A、B、シリンジポンプ44A、B、吸引配管82A、B、吸引バルブ86A、B、タンク50A、Bは、図2に示すダイコータ1のものと全く同じであるが、それぞれ制御用のシーケンサ234に電気的に接続されており、バルブの切替タイミング、シリンジポンプの動作タイミング、塗布液吐出量、吐出速度等の動作条件は、シーケンサ234によって各々独立に制御される。シーケンサ234はまた、載置台206側のフィードスクリュー14のACサーボモータ18、昇降機構26のACサーボモータ30、リニアアクチュエータ38の動作を、各々シーケンス制御する。そのために、シーケンサ234にはACサーボモータ18、30の作動状態を示す信号、載置台206の移動位置を検出する位置センサ58からの信号、ダイ210の作動状態を検出するセンサ(図示しない)、厚みセンサー22からの信号などが入力される。以上の構成によって、ダイ210からの塗布液76A、Bの吐出と、ダイ210の昇降動作を載置台206の移動にあわせて任意に行わせることができる。
【0054】
さらにシーケンサ234には、前工程の装置のシーケンサ236と後工程の装置のシーケンサ238も、さらに電気的に接続されており、前工程で加工された基板の受け渡しと共に、基板番号、製品欠点、良品/不良品等の基板情報を受けとると共に、ダイ210での塗布終了後に、基板とともに後工程に、前工程からの情報とダイコータ200での追加情報を伝達する。
【0055】
そしてシーケンサ234は前工程から受け取った情報に対しては解析を行って判定し、その結果、例えば不良品とされている塗布領域は塗布を行わず、良品とされている塗布領域にのみ塗布する機能も備えている。、
このダイコータ200によって、幅方向に並列する塗布領域R3、R4の塗布方法は、概略次の通りである。
【0056】
まずダイコータ200の載置台6、ダイ210はスタンバイの位置に移動する。この時までに、タンク50A、Bに塗布液を供給してタンク50A、B〜ダイ210までの塗布液供給ライン内には塗布液が充満されている。
【0057】
また、センサー92A、92Bを用いての、ダイ210の載置台206との平行調整と原点出しも、ダイコータ1と同様に行って完了している。
【0058】
まず、図示しないローダから基板Aを載置台206上面に載置して吸着する。基板がローダから移載されるのと同時に、ローダのシーケンサから、ダイコータ200のシーケンサ234に、基板番号と、基板A上の塗布領域R3、R4ごとの良品/不良品情報が伝達される。
【0059】
次に載置台206を塗布速度で移動させ、基板Aが厚みセンサ22の真下にきたら基板Aの基板厚みを測定し、その厚さとあらかじめ条件として与えておいたクリアランスから、ダイ210を所定位置に下降させる。
【0060】
基板の塗布領域R3、R4の塗布開始点S3、S4がダイ210の吐出口220A、Bの真下にきたら、シリンジポンプ44A、Bをそれぞれ駆動して、塗布液76A、76Bをダイ210に送り込み、塗布を開始する。
【0061】
この時、伝達された塗布領域R3、R4の良品/不良品情報から、不良品である塗布領域に対しては、シーケンサ234から、塗布領域R3、R4に対応するシリンジポンプ44A、Bには駆動指令が出されず動作しないので、不良品である塗布領域は塗布されない。逆に良品である塗布領域R3、R4に対しては、対応するシリンジポンプ44A、Bに駆動指令が出されるので、塗液がダイ210より吐出されて塗布が行われる。
【0062】
そして、基板A上の塗布領域R3、R4の塗布終了点E3、E4がダイ210の吐出口220A、Bの真下の位置にきたら、シーケンサ234から信号を出して、シリンジポンプ44A、44Bの停止と、ダイ210の上昇をそれぞれ独立して行い、塗布液76A、76Bを基板Aから完全にたちきって、塗布を終了する。
【0063】
なお塗布を行わない場合は、塗布領域R3、R4に対応するシリンジポンプ44A、44Bを駆動しないので、シリンジポンプの停止動作はなく、ダイ210が上昇するだけとなる。
【0064】
一方載置台206はさらに動きつづけ、基板Aをアンローダで移載する終点位置にきたら停止し、基板Aの吸着を解除する。そして図示されないアンローダによって基板Aを次の工程に搬送し、載置台206を原点に復帰させる。基板Aを次工程に搬送するのにあわせて、シーケンサ234から次工程の装置のシーケンサに、基板番号と良品/不良品情報、さらに塗布中にえられた情報を伝達する。
【0065】
この間にシリンジポンプ44A、Bは、吸引動作を行ってタンク50A、Bから新たに塗布液76A、Bを充満させる。なお塗布を行わなかった領域R3、R4に対応するシリンジポンプ44A、44Bは、当然ながら、この吸引動作は行わない。ついで次の基板Aが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。
【0066】
なお、本発明が適用できる塗布液としては粘度が1cps〜100000cps、望ましくは10cps〜50000cpsであり、ニュートニアンでもチキソ性を有する塗布液にも適用できる。基板Aとしてはガラスの他にアルミ等の金属板、セラミック板、樹脂板、シリコンウェハー等を用いてもよい。さらに使用する塗布条件としては、基板Aとダイの吐出口面間のクリアランスが40〜500μm、より好ましくは80〜300μm、塗布速度が0.1m/分〜10m/分、より好ましくは0.5m/分〜6m/分、ダイの吐出口の間隙は50〜1000μm、より好ましくは100〜600μm、塗布厚さが5〜400μm、より好ましくは20〜250μmである。
【0067】
なお本発明は上記の実施態様にのみ限定されるのではなく、前工程からの情報に基づき、複数の塗布領域の中から塗布する領域と塗布しない領域を選択するなら、いかなる場合にも適用できる。
【0068】
例えば、図1のダイコータ1で、ダイ40B、ダイホルダー32B、昇降機構26B、ACサーボモータ30B、ダイ支柱24B等、ダイ40Bに関わるものがなく、ダイ40Aだけで、塗布領域R1、R2を間欠塗布する場合にも本発明は適用できる。この場合、塗布領域R1、R2を塗布するときは、それぞれの塗布領域R1、R2が、ダイ40Aの吐出口72Aの真下を通過中に、シリンジポンプ44Aを作動させる。
また、塗布領域R1、R2のうち、前工程の不良品情報等から、塗布しない塗布領域がある場合は、その塗布領域がダイ40Aの吐出口72Aを通過するときに、シリンジポンプ44Aを動作させないよう、コンピュータ54によって制御される。
【0069】
【実施例】
440mm幅×750mm長×2.8mm厚のソーダガラス基板上の全面に感光性銀ペーストを5μmの厚みにスクリーン印刷した後で、340mm長×440mm幅の2つの領域に分離できるようにフォトマスクを用いて露光し、現像および焼成の各工程を経て、ピッチ220μmで長さが330mmのストライプ状の1920本の銀電極を2箇所に形成した。その電極上にガラスとバインダーからなるガラスペーストをスクリーン印刷した後に、焼成して誘電体層を上記の領域2箇所に形成した。次に図1のダイコータに吐出幅430mm、リップ間隙(シム厚さ)500μmのダイを2台取付け、タンク〜ダイまでの塗布液供給ラインに、ガラス粉末と感光性有機成分からなる粘度20000cpsの感光性ガラスペーストを充満させた。ダイ40〜誘電体層の間のクリアランスが350μmになるようにそれぞれのダイを下降させた後に、塗布厚さ300μm、塗布速度1m/分で上記の感光性ガラスペーストを塗布した。塗布は図2の領域R1に相当する部分をダイ40Aに相当するダイで、領域R2に相当する部分をダイ40Bに相当するダイで塗布し、2カ所の340mm長×440mm幅の領域に感光性ガラスペーストの塗布膜を分離して形成した。この基板を移載機で取り出して、輻射ヒータを用いた乾燥炉に投入し、100℃で30分間乾燥した。乾燥後の塗布厚み分布を基板全面にわたって測定したところ、140μm±3μmの範囲に収まった。次いで隣あった電極間に隔壁が形成されるように設計されたフォトマスクを用いて露光し、現像と焼成を行って隔壁を形成した。隔壁の形状はピッチ220μm、線幅30μm、高さ130μmであり、各領域での隔壁本数は1921本であった。この後、R、G、Bの蛍光体ペーストを順次スクリーン印刷によって塗布して、80℃15分で乾燥後、最後に460℃15分の焼成を行って、プラズマディスプレイの背面板を作製した。得られたプラズマディスプレイ背面板の表面品位は申し分ないものであった。次にこのプラズマディスプレイ背面板と前面板を合わせ、封着後、Xe5%、Ne95%の混合ガスを封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを得た。
【0070】
なお、上記の感光性ガラスペーストの塗布工程では、基板は1000枚投入されたが、各基板ごとにホストコンピュータ100から、塗布の前工程で発生した不良品情報が各基板の塗布領域R1、R2ごとに、コンピュータ54に伝達された。そして不良品と伝えられた基板上の塗布領域R1、R2は、塗布しないように制御した。その結果、1000枚の基板のうち、塗布領域R1を塗布したのは990枚(非塗布は10枚)、塗布領域R2を塗布したのは985枚(非塗布は15枚)であった。さらに1枚の基板で塗布領域R1、R2とも塗布しなかったのは3枚であった。
【0071】
【発明の効果】
本発明になる塗布方法および塗布装置を用いれば、前工程からの情報に基づき、複数の塗布領域ごとに形成する塗布膜を選択して、被塗布部材に塗布を行うのであるから、前工程までの良品部分にのみ塗布をすることが可能で、不良品部分に塗布することによるコストダウンを防止することが可能となる。
【0072】
本発明になるプラズマディスプレイ用部材の製造方法によれば、上記の優れた塗布方法を用いてプラズマディスプレイ用部材を製造するのであるから、高い品質のプラズマディスプレイ用部材を低コストで製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のダイコータを概略的に示した斜視図である。
【図2】図1のダイコータを塗布液の供給系も含めて示した概略構成図である。
【図3】本発明の別の実施例のダイコータを概略的に示した斜視図である。
【図4】図3のダイコータを塗布液の供給系も含めて示した概略構成図である。
【符号の説明】
1:ダイコータ
2:基台
4:ガイド溝レール
6:載置台
8:スライド脚
10:カバー
12:ケーシング
14:フィードスクリュー
16:コネクタ
18:ACサーボモータ
20:センサー支柱
21:ブラケット
22:厚みセンサ
24:ダイ支柱
26、26A、26B:昇降機構
28、28A、28B:ケーシング
30、30A、30B:ACサーボモータ
32、32A、32B:ダイホルダ
36、36A、36B:水平バー
38、38A、38B:リニアアクチュエータ
40A、40B:ダイ(塗布器)
42A、42B:吐出配管
44A、44B:シリンジポンプ
46A、46B:分岐管
50A、50B:タンク
52A、52B:ピストン
54:コンピュータ
56:シーケンサ
58:位置センサ
60A、60B:リアリップ
62A、62B:マニホールド
64A、B:スリット
66A、64B:フロントリップ
72A、72B:吐出口
74A、74B:吐出口面
76A、76B:塗布液
80A、80B:シリンジ
84A、84B:吐出バルブ
86A、86B:吸引バルブ
90:吸着面
92A、92B:センサー
100:ホストコンピュータ
200:ダイコータ
202:基台
204:ダイ支柱
206:載置台
210:ダイ(塗布器)
212:リアリップ
214:フロントリップ
216A、216B:スリット
218A、218B:マニホールド
220A、220B:吐出口
222:吐出口面
228:ケーシング
230:ブラケット
234:シーケンサ
236:前工程の装置のシーケンサ
238:後工程の装置のシーケンサ238
A:基板
C1、C2、C3、C4:塗布膜
R1、R2、R3、R4:塗布領域[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is used, for example, in the field of manufacturing plasma displays, color filters for color liquid crystal displays, optical filters, printed circuit boards, integrated circuits, semiconductors, and the like. And a coating apparatus for forming a coating film while discharging a coating solution.
[0002]
[Prior art]
In recent years, displays have gradually become diversified in their systems, and one of the current attention is a plasma display that is larger than a conventional cathode ray tube and can be reduced in thickness and weight. This is because a partition having grooves extending in one direction in a striped pattern at a constant pitch is formed on a glass substrate, and further, phosphors of R, G, and B are filled in the grooves of the partition, and an arbitrary portion is emitted by ultraviolet rays. And a predetermined color pattern is projected. Usually, the side with the partition walls is called the back plate, and the side with the part that generates ultraviolet rays is called the front plate.
[0003]
Here, as an important method of forming a partition pattern on the back plate, a partition paste is uniformly applied, dried and molded to a uniform film thickness, and then stripe-shaped grooves having a predetermined pitch are formed by a sandblasting method or the like. The mainstream is engraving and baking by post-processing such as photolithography. The coating film of the partition walls is as thick as 100 to 200 μm even after firing, and many die coating methods are introduced as means for uniformly coating the partition wall paste with this film thickness.
[0004]
In order to improve productivity in this die coating method, a coating film is formed by applying to a plurality of regions on a substrate so that a plurality of products can be obtained from a single glass substrate (multiple drawing). Yes. This multi-chamfering is an effective technique from the viewpoint of improving the productivity of the entire manufacturing process.
[0005]
As a die coater corresponding to this type of multiple chamfering, a plurality of coated members such as a glass substrate can be formed by a die having a plurality of discharge ports (for example,
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-10-113595 (third column, ninth line to third column, 27th line, fourth column, 47th line to sixth column, first line, FIG. 2)
[0007]
[Patent Document 2]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-43659 (third column,
[0008]
[Patent Document 3]
JP 10-216599 A (column 7, line 32 to
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
When a product is manufactured with multiple chamfers, it is difficult to manufacture a good product without defects on all 100% surfaces. It is not known in which process the defect occurs, and processing may be performed on a surface already known to be defective, which may increase the manufacturing cost.
[0010]
For example, even if a defect occurs on the surface (region) where the electrode or dielectric is formed in the manufacturing process of the back plate of the plasma display, the partition is formed by a die coater in the partition forming process regardless of the defect. For this purpose, a predetermined thickness of glass paste may be applied. Since the glass paste is expensive, applying it to a waste surface (region) that does not become a product increases the cost significantly.
[0011]
The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in multi-chamfering, do not apply to the surface (area) that already has a defect as a product, save paste, energy loss, etc., and create a system that can reduce costs. Another object of the present invention is to provide a coating method and a coating apparatus using the same, and a method for manufacturing a member for a plasma display.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention is achieved by the means described below.
[0013]
The coating method of the present invention comprises: A die having a discharge port which is an outlet of a plurality of independently formed slits arranged in the longitudinal direction While relatively moving the coated member and The number corresponding to the number of discharge ports Apply the coating liquid from the coating liquid supply means. Die And supplying the coating liquid Die Discharge more than a plurality of non-overlapping parts Corresponding to the outlet In the coating method of forming a coating film in the coating area, Good or defective products for each application area Based on information Good product Application area Then Coating film On the other hand, do not form a coating film in the defective coating area Select Independently controlling the coating liquid supply means Application is performed.
[0015]
Further, the coating apparatus of the present invention discharges the coating liquid supply means for supplying the coating liquid and the coating liquid supplied from the coating liquid supply means onto the member to be coated. It is the exit of a plurality of independently formed slits arranged in the longitudinal direction Has discharge port Die And the coated member and Die An applicator comprising a moving means for relatively moving, The coating liquid supply means has a number corresponding to the number of discharge ports of the die, Furthermore, a transmitter that transmits information from the previous process by electrical communication, and a plurality of non-overlapping parts on the coated member Corresponding to the outlet Based on the transmitted information, the coating film formed by actually applying the coating film formed in the coating region each The apparatus further includes a determination device that selects each application region.
[0017]
Furthermore, the manufacturing method of the member for plasma display which becomes this invention, Above A member for a plasma display is manufactured using the coating method.
[0018]
If the coating method and the coating apparatus according to the present invention are used, a coating film to be formed for each of a plurality of coating regions on the coated member is selected based on information from the previous process, and coating is performed on the coated member. Therefore, it can be applied only to the non-defective part until the previous process, and it can be avoided to apply it to the defective part. Therefore, the cost can be reduced.
[0019]
According to the method for producing a member for plasma display according to the present invention, since the member for plasma display is produced using the above-described excellent coating method, it is possible to produce a member for plasma display with high quality at a low cost. It becomes possible.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. .
[0021]
1 is an overall perspective view of a
[0022]
Referring to FIG. 1, there is shown a
[0023]
Between the pair of
[0024]
As shown in FIG. 1, two die
[0025]
Die
[0026]
Further,
[0027]
The
[0028]
In addition, a
[0029]
As shown schematically in FIG. 2, the dies 40 </ b> A and 40 </ b> B each have a long block-shaped rear lip 60 </ b> A and B and a front lip 66 </ b> A and B that are not illustrated in the reciprocating direction of the mounting table 6. The connecting bolts are integrally connected to each other. The lowermost surfaces of the
[0030]
Inside the dies 40A and B, slits 64A and B serving as a flow path for the coating liquid for forming the coating films C1 and C2 are formed between the
[0031]
Upstream of the dies 40A and B are
[0032]
The syringe pumps 44A and B are composed of
[0033]
The operating conditions such as the switching timing of the
[0034]
The
[0035]
Next, a method for coating the two coating regions R1 and R2 of the substrate A shown in FIG. 1 using the
[0036]
First, when the origin of each operation unit in the coating apparatus is returned, the mounting table 6 and the dies 40A and 40B move to the standby position. By this time, the coating liquid has been supplied to the
[0037]
Next, using the
[0038]
After this preparation operation is completed, lift pins (not shown) are raised on the surface of the mounting table 6, and when the substrate A is placed on the upper portion of the loader from the loader (not shown), the lift pins are lowered to place the substrate A on the upper surface of the placement table. Place and adsorb.
[0039]
Next, the mounting table 6 is moved at a predetermined speed, and is stopped when the central portion of the substrate A comes under the
[0040]
On the other hand, the syringe pumps 44A and 44B are in a standby state while sucking a predetermined amount of coating liquid from the
[0041]
Next, upon request from the
[0042]
Next, in order to apply the application region R2 with the
[0043]
When application is not performed, the syringe pumps 44A and 44B corresponding to the regions R2 and R1 are not driven.
[0044]
On the other hand, the mounting table 6 continues to move, stops when the substrate A reaches the end point position where the substrate A is transferred by the unloader, releases the suction of the substrate A, raises the lift pins, and lifts the substrate A.
[0045]
At this time, the lower surface of the substrate A is held by an unloader (not shown), and the substrate A is transported to the next step. When the delivery to the unloader is completed, the mounting table 6 lowers the lift pins and returns to the origin position.
[0046]
During this time, the syringe pumps 44A, B perform a suction operation to newly fill the
[0047]
Next, a
[0048]
The
[0049]
Further, since the width direction of the substrate A has become longer, the mounting table 206 that holds the substrate A also becomes longer in the width direction, and accordingly, the
[0050]
In FIG. 3, the
[0051]
On the other hand, in the
[0052]
Inside the
[0053]
Further, on the upstream side of the
[0054]
Furthermore, the
[0055]
Then, the
The application method of the application regions R3 and R4 arranged in parallel in the width direction by the
[0056]
First, the mounting table 6 and the die 210 of the
[0057]
Further, the parallel adjustment and origin search of the die 210 with the mounting table 206 using the
[0058]
First, the substrate A is placed on the top surface of the mounting table 206 and sucked from a loader (not shown). At the same time that the substrate is transferred from the loader, the loader sequencer transmits the substrate number and the non-defective / defective product information for each of the coating areas R3 and R4 on the substrate A to the
[0059]
Next, the mounting table 206 is moved at a coating speed, and when the substrate A comes directly below the
[0060]
When the application start points S3, S4 of the application regions R3, R4 of the substrate are directly below the
[0061]
At this time, the
[0062]
When the application end points E3 and E4 of the application regions R3 and R4 on the substrate A come to a position immediately below the
[0063]
When application is not performed, the syringe pumps 44A and 44B corresponding to the application regions R3 and R4 are not driven, so there is no stop operation of the syringe pump, and the
[0064]
On the other hand, the mounting table 206 continues to move, stops when the substrate A reaches the end point position where the substrate A is transferred by the unloader, and releases the suction of the substrate A. Then, the substrate A is transported to the next process by an unloader (not shown), and the mounting table 206 is returned to the origin. As the substrate A is transported to the next process, the substrate number, non-defective / defective product information, and information obtained during coating are transmitted from the
[0065]
During this time, the syringe pumps 44A, B perform a suction operation to newly fill the
[0066]
The coating liquid to which the present invention can be applied has a viscosity of 1 cps to 100000 cps, preferably 10 cps to 50000 cps, and can be applied to both Newtonian and thixotropic coating liquids. As the substrate A, in addition to glass, a metal plate such as aluminum, a ceramic plate, a resin plate, a silicon wafer, or the like may be used. Further, as application conditions to be used, the clearance between the substrate A and the discharge port surface of the die is 40 to 500 μm, more preferably 80 to 300 μm, and the application speed is 0.1 m / min to 10 m / min, more preferably 0.5 m. / Min to 6 m / min, the die discharge gap is 50 to 1000 μm, more preferably 100 to 600 μm, and the coating thickness is 5 to 400 μm, more preferably 20 to 250 μm.
[0067]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be applied to any case as long as a region to be applied and a region not to be applied are selected from a plurality of application regions based on information from the previous process. .
[0068]
For example, in the
In addition, when there is an application region that is not applied from the defective product information in the previous process among the application regions R1 and R2, the
[0069]
【Example】
Photosensitive silver paste is screen-printed on the entire surface of a soda glass substrate of 440 mm width × 750 mm length × 2.8 mm thickness to a thickness of 5 μm, and then a photomask is formed so that it can be separated into two regions of 340 mm length × 440 mm width. The striped 1920 silver electrodes having a pitch of 220 μm and a length of 330 mm were formed in two places through each of the steps of development and baking. A glass paste made of glass and a binder was screen-printed on the electrode and then baked to form a dielectric layer at two locations in the region. Next, two dies having a discharge width of 430 mm and a lip gap (shim thickness) of 500 μm are mounted on the die coater shown in FIG. The glass paste was filled. Each die was lowered so that the clearance between the die 40 and the dielectric layer was 350 μm, and then the photosensitive glass paste was applied at a coating thickness of 300 μm and a coating speed of 1 m / min. The portion corresponding to the region R1 in FIG. 2 is coated with a die corresponding to the
[0070]
In the above-described photosensitive glass paste application process, 1000 substrates were loaded, but information on defective products generated in the pre-application process from the
[0071]
【The invention's effect】
If the coating method and the coating apparatus according to the present invention are used, a coating film to be formed for each of a plurality of coating regions is selected on the basis of information from the previous process, and coating is performed on a member to be coated. It is possible to apply only to the non-defective part, and it is possible to prevent the cost reduction due to the application to the defective part.
[0072]
According to the method for producing a member for plasma display according to the present invention, since the member for plasma display is produced using the above-described excellent coating method, it is possible to produce a member for plasma display with high quality at a low cost. It becomes possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a die coater according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic configuration diagram showing the die coater of FIG. 1 including a coating liquid supply system. FIG.
FIG. 3 is a perspective view schematically showing a die coater according to another embodiment of the present invention.
4 is a schematic configuration diagram showing the die coater of FIG. 3 including a coating liquid supply system. FIG.
[Explanation of symbols]
1: Die coater
2: Base
4: Guide groove rail
6: Mounting table
8: Slide leg
10: Cover
12: Casing
14: Feed screw
16: Connector
18: AC servo motor
20: Sensor support
21: Bracket
22: Thickness sensor
24: Die support
26, 26A, 26B: lifting mechanism
28, 28A, 28B: casing
30, 30A, 30B: AC servo motor
32, 32A, 32B: Die holder
36, 36A, 36B: Horizontal bar
38, 38A, 38B: Linear actuator
40A, 40B: Die (applicator)
42A, 42B: Discharge piping
44A, 44B: Syringe pump
46A, 46B: Branch pipe
50A, 50B: Tank
52A, 52B: Piston
54: Computer
56: Sequencer
58: Position sensor
60A, 60B: Rear lip
62A, 62B: Manifold
64A, B: Slit
66A, 64B: Front lip
72A, 72B: Discharge port
74A, 74B: Discharge port surface
76A, 76B: Coating liquid
80A, 80B: Syringe
84A, 84B: Discharge valve
86A, 86B: Suction valve
90: Adsorption surface
92A, 92B: Sensor
100: Host computer
200: Die coater
202: Base
204: Die support
206: Mounting table
210: Die (applicator)
212: Rear lip
214: Front lip
216A, 216B: Slit
218A, 218B: Manifold
220A, 220B: Discharge port
222: Discharge port surface
228: casing
230: Bracket
234: Sequencer
236: Sequencer for previous process equipment
238:
A: Substrate
C1, C2, C3, C4: coating film
R1, R2, R3, R4: Application area
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002306700A JP4158482B2 (en) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002306700A JP4158482B2 (en) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004141707A JP2004141707A (en) | 2004-05-20 |
| JP4158482B2 true JP4158482B2 (en) | 2008-10-01 |
Family
ID=32453381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002306700A Expired - Fee Related JP4158482B2 (en) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4158482B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7660014B2 (en) | 2006-01-17 | 2010-02-09 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image processing apparatus capable of extracting rule from document image with high precision |
| US8208744B2 (en) | 2006-01-23 | 2012-06-26 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image processing apparatus capable of accurately and quickly determining character part included in image |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4718130B2 (en) * | 2004-05-21 | 2011-07-06 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Paste coating apparatus and coating method |
| KR100628275B1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-09-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Printing nozzle |
| KR100737541B1 (en) | 2006-04-10 | 2007-07-10 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | Printing film forming equipment |
| WO2018116508A1 (en) * | 2016-12-23 | 2018-06-28 | 株式会社サンツール | Suck back intermittent application system, remote operating method for suck back intermittent application system, and remote operating device for suck back intermittent application system |
| US20200035512A1 (en) * | 2018-07-24 | 2020-01-30 | Illinois Tool Works Inc. | Method of transitioning from synchronous to asynchronous dispensing |
| KR102430631B1 (en) * | 2020-09-03 | 2022-08-09 | 주식회사 지아이텍 | slot die capable of controlling discharging coating liquid |
-
2002
- 2002-10-22 JP JP2002306700A patent/JP4158482B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7660014B2 (en) | 2006-01-17 | 2010-02-09 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image processing apparatus capable of extracting rule from document image with high precision |
| US8208744B2 (en) | 2006-01-23 | 2012-06-26 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Image processing apparatus capable of accurately and quickly determining character part included in image |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004141707A (en) | 2004-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7622004B2 (en) | Slit die, and method and device for producing base material with coating film | |
| JP4366757B2 (en) | Coating apparatus, coating method, and method for manufacturing plasma display or display member | |
| JP4158482B2 (en) | Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing plasma display member | |
| JP2014180604A (en) | Intermittent coating apparatus and intermittent coating method and method for manufacturing displaying member | |
| JP4419203B2 (en) | COATING APPARATUS, COATING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY MEMBER AND APPARATUS | |
| JP2002086044A (en) | Coating method and coating apparatus, display member, and plasma display manufacturing method and apparatus | |
| KR100683688B1 (en) | Dielectric layer forming apparatus and manufacturing method of plasma display panel using same | |
| JPH11262714A (en) | Method and apparatus for applying coating liquid to uneven substrate and method and apparatus for manufacturing member for plasma display | |
| JP4324998B2 (en) | Coating apparatus and coating method, and plasma display manufacturing method and manufacturing apparatus | |
| JP2000102759A (en) | Coating method and coating apparatus, and method and apparatus for manufacturing plasma display and display member | |
| JP2001000907A (en) | Coating apparatus and method, and plasma display and display member manufacturing apparatus and method | |
| JP2001062371A (en) | Coating apparatus and method, and plasma display and display member manufacturing apparatus and method | |
| JPH11239750A (en) | Apparatus and method for applying coating liquid to uneven substrate, and apparatus and method for manufacturing plasma display | |
| JP4127096B2 (en) | Coating head, coating liquid coating apparatus and coating method | |
| JP4006799B2 (en) | Coating apparatus, coating method, and color filter manufacturing method and manufacturing apparatus | |
| JPH11239751A (en) | Apparatus and method for applying coating liquid to uneven substrate, and apparatus and method for manufacturing plasma display | |
| JP2000157905A (en) | Coating apparatus and coating method, and method and apparatus for manufacturing plasma display member | |
| JPH11300257A (en) | Apparatus for applying coating liquid to uneven substrate and apparatus for manufacturing plasma display | |
| JP2013208521A (en) | Method for applying coating liquid and method for producing member for display | |
| JP2000167463A (en) | Nozzle, coating device and method for coating liquid, and method for manufacturing member for plasma display panel | |
| JPH11314061A (en) | Apparatus and method for applying coating liquid to uneven substrate, apparatus and method for manufacturing plasma display and plasma display member | |
| JP2001000904A (en) | Coating apparatus and method, and plasma display and display member manufacturing apparatus and method | |
| JP3994357B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY | |
| JP2000140741A (en) | Coating apparatus, coating method, and method and apparatus for manufacturing display member | |
| JP2000354810A (en) | Coating apparatus and method, and plasma display and display member manufacturing apparatus and method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051019 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080117 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080226 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080424 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080624 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080707 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110725 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110725 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110725 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120725 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130725 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |