JP4172019B2 - Target material manufacturing method - Google Patents
Target material manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP4172019B2 JP4172019B2 JP2003347225A JP2003347225A JP4172019B2 JP 4172019 B2 JP4172019 B2 JP 4172019B2 JP 2003347225 A JP2003347225 A JP 2003347225A JP 2003347225 A JP2003347225 A JP 2003347225A JP 4172019 B2 JP4172019 B2 JP 4172019B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- filling port
- target material
- filling
- material powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000013077 target material Substances 0.000 title claims description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 49
- 239000002775 capsule Substances 0.000 claims description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 39
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 38
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 claims description 7
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 5
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、熱間静水圧プレスによるターゲット材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a target material by hot isostatic pressing.
薄膜デバイスを作製する液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display、以下、LCDという)の電気配線膜、電極等の形成に利用されるターゲット材は、LCD基板の大型化に伴い大型化が要求されている。このような大型基板に薄膜を形成する場合は、これまでは要求スパッタリング面積を実現するために2分割や3分割の大きさで製造したターゲット材を貼り合わせて用いていたが、分割したターゲット材ではスパッタリング時にその継ぎ目から異物が発生し不良となるため、一体物のターゲット材が要求されている。 A target material used for forming an electric wiring film, an electrode, and the like of a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD) for manufacturing a thin film device is required to be increased in size as the LCD substrate is increased in size. In the case of forming a thin film on such a large substrate, the target material manufactured in the size of 2 or 3 divisions has been used so far to achieve the required sputtering area. However, since a foreign matter is generated from the joint at the time of sputtering and becomes defective, an integral target material is required.
このような大型一体物のターゲット材を粉末の加圧焼結法で作製する際に重要なのは高密度化の達成と大型化への対応である。加圧焼結法には、主に2次元的な加圧を行うホットプレス法と3次元的にプレス圧力を付加できる熱間静水圧プレス(Hot Isostatic Press、以下、HIPという)法が存在するが、焼結素材に等方的に圧力を付加できることから焼結素材を均一に高密度化する上で、HIP法が優れている。 When producing such a large-sized target material by the pressure sintering method of powder, it is important to achieve high density and cope with large size. The pressure sintering method mainly includes a hot press method that performs two-dimensional pressurization and a hot isostatic press (hereinafter referred to as HIP) method that can apply press pressure in three dimensions. However, since the isotropic pressure can be applied to the sintered material, the HIP method is excellent in uniformly densifying the sintered material.
大型ターゲット材をHIP法で作製することに関しては、HIP用の金属カプセルの大型化に伴い粉末を充填する際に発生する充填むらを解消するために、充填する際に振動とプレス圧力を充填した粉末に与えることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1に記載の技術は、開口部面積が広く、深さの浅い金属カプセルを用いているがターゲットの大型化(大面積化)の要求により金属カプセルが大型化し、これによって開口部面積が広くなることで、密封時の溶接距離が長くなることで溶接部の不良発生の確率が高くなるという問題があった。
また、金属カプセルへの粉末の充填の際に、原料粉末を均一に堆積させなければ、HIP処理において変形等の原因になるが、特許文献1では、振動とプレス圧力を充填した原料粉末に与えてはいるが、堆積させる部分が大面積になればなるほど均一に堆積させることは難しいという問題がある。
The technique described in
In addition, when the raw material powder is not uniformly deposited when the powder is filled into the metal capsule, the HIP process may cause deformation or the like. However, in
本発明の目的は、充填むらを発生しにくく、容易に焼結密度を向上させることができるターゲット材の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a method for producing a target material that is less likely to cause uneven filling and can easily improve the sintered density.
本発明は、充填深さが最も深くなる方向に対向する一方の面が、充填口として解放された実質的に直方体形状であり、かつその長辺の長さが1000mm以上である金属カプセルを、前記充填口が上方となるように載置した後、前記充填口より、原料粉末を充填し、次いで脱気孔を有する上蓋をもって充填された原料粉末を押し付けた状態で減圧封止し、その後、金属カプセルの充填口が上方となる状態で熱間静水圧プレスを施し、焼結体を得るターゲット材の製造方法である。 The present invention provides a metal capsule having a substantially rectangular parallelepiped shape in which one surface facing in the direction in which the filling depth is deepest is released as a filling port, and a long side length of 1000 mm or more. After placing so that the filling port is on the upper side, the raw material powder is filled from the filling port, and then the filled raw material powder is pressed with an upper lid having a deaeration hole, and then sealed under reduced pressure. This is a method for producing a target material, which is subjected to hot isostatic pressing with the capsule filling port facing upward, to obtain a sintered body.
また、本発明は、前記の原料粉末に振動を与えながら充填する前記に記載のターゲット材の製造方法である。
また、本発明は、熱間静水圧プレスを施した焼結体を充填口面に対して垂直方向に複数に切断する前記に記載のターゲット材の製造方法である。
また、本発明は、原料粉末を平均一次粒子径が10μm以下のMoを主体とする金属粉末とする前記に記載のターゲット材の製造方法である。
Moreover, this invention is a manufacturing method of the said target material as described above filled with giving vibration to the said raw material powder.
Moreover, this invention is a manufacturing method of the said target material as described in the above which cut | disconnects the sintered compact which gave the hot isostatic pressing to multiple in the orthogonal | vertical direction with respect to a filling port surface.
Moreover, this invention is a manufacturing method of the target material as described above which makes raw material powder the metal powder which mainly has Mo whose average primary particle diameter is 10 micrometers or less.
本発明により、大型の焼結ターゲット材をHIP法により製造する方法において、金属カプセルへ原料粉末を充填する際に、充填むらを発生させることなく、均一に充填させることで、HIP焼結後の変形を防止できるので、大面積の焼結ターゲット材を製造するのに有効である。 According to the present invention, in the method of manufacturing a large sintered target material by the HIP method, when filling the raw material powder into the metal capsule, it is uniformly filled without generating filling unevenness, so that after the HIP sintering Since deformation can be prevented, it is effective for producing a sintered target material having a large area.
本発明の重要な特徴の一つは、充填深さが最も深くなる方向に対向する一方の面を充填口とすることで、原料粉末の自重による充填の均一化を図ることにある。本発明を適用する実質的に直方体形状であり、その長辺が1000mm以上金属カプセルへ原料粉末を充填する際には、深さが1000mm以上となり、自重による原料粉末の充填の均一性に対する効果が明確になる。
さらに、本発明においては、脱気孔を有する上蓋を原料粉末に押し付けた状態で封止することで高い充填密度を実現した点にも特徴がある。すなわち上蓋で押し付けることにより、自重の作用が利かない上層部から空間を排除することができ、上層部から下層部に渡って均一かつ緻密な充填状態となり、HIPによる変形等の発生が防止できる。なお、上蓋で押し付けることは、上蓋と粉末との間の間隙も殆ど皆無とすることができ、間隙の存在による凹みの発生も防止できる。特に本発明を適用する高価な大型ターゲットにあっては、エッジの変形や凹みの存在による不良部分の発生は、所定のスパッタ面積分のターゲット形状が確保出来ないことに直結するため、本発明の方法による変形等の防止は極めて重要なものとなる。
One of the important features of the present invention is to make the filling uniform by the dead weight of the raw material powder by using one surface facing the direction where the filling depth is deepest as a filling port. When a raw material powder is filled into a metal capsule having a substantially rectangular parallelepiped shape to which the present invention is applied and its long side is 1000 mm or more, the depth is 1000 mm or more, and the effect on the uniformity of filling of the raw material powder by its own weight is obtained. Become clear.
Furthermore, the present invention is also characterized in that a high packing density is realized by sealing an upper lid having deaeration holes while pressed against the raw material powder. That is, by pressing with the upper lid, it is possible to eliminate the space from the upper layer part where the action of its own weight does not work, and it becomes a uniform and dense filling state from the upper layer part to the lower layer part, and the occurrence of deformation or the like due to HIP can be prevented. Note that pressing with the upper lid can eliminate almost no gap between the upper lid and the powder, and can prevent the occurrence of a dent due to the presence of the gap. In particular, in an expensive large target to which the present invention is applied, the occurrence of a defective portion due to the deformation of the edge or the presence of a dent is directly connected to the fact that the target shape for a predetermined sputter area cannot be secured. Prevention of deformation and the like by the method is extremely important.
本発明においては、金属カプセルの充填口が上方となる状態で熱間静水圧プレスを施することが必要である。これは、いったん封止した後は粉の偏り、移動等をなくすため充填したそのままの状態でHIP処理まで完了することが理想であるからである。
図1乃至図4に示す金属カプセルの模式図を参考にして、本発明の製造方法の手順に関して説明する。本発明において、熱間静水圧プレスを施すための金属カプセル1は、図1に示す通り、実質的に直方体形状で長辺Zを充填の深さ方向として充填口2が開放されている。この充填口2が開放された状態で上方となるように金属カプセル1を戴置した後、図2に示す通り、原料粉末3を充填する。そして、図3に示す通り、原料粉末3の充填が完了した後、脱気孔5を有する上蓋4を金属カプセル1の充填口2に原料粉末3を押し付けた状態で密閉し、上蓋4を溶接し次いで脱気孔から減圧をしてさらに脱気孔を封止する。その後、図4に示す通り、金属カプセル1を上蓋4で封止した充填口2を上方にした状態でHIPによって焼結体を得る。上記の方法で焼結ターゲット材を得ることで、高密度で反りを低減したターゲット材を得ることが可能となる。
In the present invention, it is necessary to perform hot isostatic pressing with the filling port of the metal capsule facing upward. This is because, after sealing, it is ideal to complete the HIP process as it is filled in order to eliminate powder bias and movement.
The procedure of the production method of the present invention will be described with reference to the schematic diagrams of the metal capsule shown in FIGS. In the present invention, as shown in FIG. 1, the
なお、原料粉末の充填中に外部応力を金属カプセルに付与することで原料粉末間の隙間を小さくし、原料粉末の充填密度を向上させることが望ましい。この外部応力としては振動、タッピングあるいは原料粉末を直接加圧する等の方法が利用できる。その中でも、原料粉末の供給と外部応力付与を連続的に行えるため振動がより好ましい。 In addition, it is desirable to reduce the gap between the raw material powders by applying an external stress to the metal capsule during the filling of the raw material powders, and to improve the packing density of the raw material powders. As this external stress, methods such as vibration, tapping or direct pressing of the raw material powder can be used. Among them, vibration is more preferable because the supply of the raw material powder and the application of external stress can be performed continuously.
現在、LCDの大型化に伴いスパッタリング面の面積がより大きいターゲット材が求められている。本発明は、充填深さが最も深くなる方向に対向する一方面を充填口としているので、HIPを施した焼結体を充填口面に対して垂直方向に切断することで、切断面を焼結体の最大面積とすることができるため、スパッタリング面を大面積とするターゲット材を得る上で好ましい。
また、ターゲット材において、スパッタリング面に対する垂直方向の厚さは、スパッタリング装置により異なるが、殆どの場合に20mm以下である。そこで、HIP後の焼結体の最大面積をターゲット材のスパッタリング面として焼結体の形状を設計した上で、焼結体を充填口面に対して垂直に所定の板厚に切断してターゲット材を作製することは一度のHIP処理で多数枚のターゲット材を作製することができるため生産効率の点でも好ましい。
Currently, a target material having a larger area of the sputtering surface is demanded as the LCD becomes larger. In the present invention, since one side facing the direction in which the filling depth is deepest is used as the filling port, the cut surface is sintered by cutting the sintered body subjected to HIP in a direction perpendicular to the filling port surface. Since it can be set to the maximum area of a bonded body, it is preferable when obtaining the target material which makes a sputtering surface a large area.
In the target material, the thickness in the direction perpendicular to the sputtering surface varies depending on the sputtering apparatus, but in most cases is 20 mm or less. Therefore, after designing the shape of the sintered body using the maximum area of the sintered body after HIP as the sputtering surface of the target material, the sintered body is cut into a predetermined plate thickness perpendicular to the filling port surface and the target. Producing a material is preferable from the viewpoint of production efficiency because a large number of target materials can be produced by a single HIP process.
本発明の原料粉末としては平均一次粒子径が10μm以下の高融点金属により効果的である。それは、高融点金属の中でも、特に、Mo、Wといった原料粉末は一般に水素還元法によって製造されるため、製法上の理由から必然的に細かくなり、比表面積の増大にともなう凝集化傾向を有し、金属カプセルに充填する場合に充填密度を高めるのが困難であるためである。
また、一次粒子径とは凝集した見かけ上のサイズではなく、個々の粉末の粒径を指している。本発明においては、この平均一次粒径が10μm以下の場合に、より凝集しやすくなるために、本発明に好適である。
As the raw material powder of the present invention, a refractory metal having an average primary particle size of 10 μm or less is more effective. Among refractory metals, especially raw material powders such as Mo and W are generally produced by a hydrogen reduction method, and therefore are inevitably fine for manufacturing reasons and have a tendency to agglomerate with an increase in specific surface area. This is because it is difficult to increase the packing density when filling the metal capsule.
Further, the primary particle size is not the aggregated apparent size but the particle size of each powder. In this invention, when this average primary particle diameter is 10 micrometers or less, since it becomes easy to aggregate, it is suitable for this invention.
本発明において、金属カプセルの寸法は、使用するスパッタリング装置の種類やHIP装置の内径サイズにより異なるが、充填口面の寸法に関しては、厚さ(図1におけるX)は50〜800mm、幅(図1におけるY)は50mm以上であることが望ましい。それは、焼結体を充填口面に対して垂直方向に切断することによって、厚さ20mm以下のターゲットを一度のHIPで多数枚作製できるので低コストで効率的な生産を可能となるためである。また、充填口面の厚さが大きくなるほど、充填の面積が広くなり均一に粉末を堆積させるのが困難になるので800mm以下であることが望ましい。また、充填口面の幅寸法に関しては、ターゲットの厚さ寸法に依存するが、厚さ以上の寸法である必要があるので50mm以上であることが望ましい。 In the present invention, the dimensions of the metal capsule vary depending on the type of sputtering apparatus used and the inner diameter of the HIP apparatus, but regarding the dimensions of the filling port surface, the thickness (X in FIG. 1) is 50 to 800 mm and the width (FIG. Y in 1 is preferably 50 mm or more. This is because by cutting the sintered body in a direction perpendicular to the filling port surface, a large number of targets having a thickness of 20 mm or less can be produced by one HIP, thereby enabling efficient production at low cost. . Further, as the thickness of the filling port surface is increased, the filling area is increased and it is difficult to deposit the powder uniformly. Further, the width dimension of the filling port surface depends on the thickness dimension of the target, but is required to be a dimension equal to or greater than the thickness, so that it is preferably 50 mm or greater.
また、本発明で金属カプセルに原料粉末を充填する際に、金属カプセルの変形を防止するために、金属カプセルの側面を側板で補強して充填することも可能である。 In addition, when filling the raw material powder into the metal capsule in the present invention, it is also possible to reinforce and fill the side surface of the metal capsule with a side plate in order to prevent deformation of the metal capsule.
本発明の実施例について以下に説明する。
寸法135×605×2300(mm)で充填口寸法135×605(mm)の軟鋼製の金属カプセルに振動を与えながら充填口から原料粉末の平均一次粒子径6μmのMoを充填した。原料粉末の充填が完了した後、脱気孔を有する上蓋を該金属カプセルの充填口にハンマーで衝撃を加えて嵌め込むことで、原料粉末を押し付けた状態で密閉し、さらに上蓋を溶接した上で、脱気孔から減圧脱気して封止した。その後金属カプセルの充填口を上方にした状態で、HIP処理を行い、それぞれ機械加工により金属カプセルを除去して焼結体を得て、さらに機械加工して所定形状のターゲット材とした。以下本発明例1とする。
比較例1として、上記と同様に金属カプセルに原料粉末の平均一次粒子径6μmのMoを充填した後、脱気孔を有する上蓋を該金属カプセルの充填口に合わせて密閉し、上蓋を溶接した上で、脱気孔から減圧脱気して封止した。その後、上記と同様にHIP処理を行い、ターゲット材を作製した。
Examples of the present invention will be described below.
While applying vibration to a metal capsule made of mild steel having a size of 135 × 605 × 2300 (mm) and a filling port size of 135 × 605 (mm), Mo having an average primary particle diameter of 6 μm was filled from the filling port. After the filling of the raw material powder is completed, the upper lid having a deaeration hole is fitted into the filling port of the metal capsule by impact with a hammer so that the raw material powder is pressed and sealed, and the upper lid is welded. The deaeration hole was deaerated under reduced pressure and sealed. Thereafter, HIP treatment was performed with the filling port of the metal capsule facing upward, and the metal capsule was removed by machining to obtain a sintered body, which was further machined to obtain a target material having a predetermined shape. Hereinafter, it is referred to as Invention Example 1.
As Comparative Example 1, after the metal capsule was filled with Mo having an average primary particle diameter of 6 μm in the same manner as described above, the upper lid having deaeration holes was sealed in accordance with the filling port of the metal capsule, and the upper lid was welded. Then, the deaeration hole was deaerated under reduced pressure and sealed. Then, the HIP process was performed similarly to the above, and the target material was produced.
本発明例1および比較例1の原料粉末の金属カプセルへの充填密度を測定し、また、作製したMoターゲット材の図5に示す箇所から10×10(mm)の試料を採取し、相対密度を測定して表1に示す。ここで、充填密度とは、(原料粉末の充填重量)/(容積重量)×100で表した数値であり、相対密度とは、(ターゲット材の密度)/(理論密度)×100で表した数値である。
また、表1にHIP処理後の焼結体の変形量の結果を示す。金属カプセルの反り量は、図7の模式図に示す通り、焼結体7の長さ方向の中央部8の底面にある基準点9と端部10の底面との差から算出した変形量11のことである。
The packing density of the raw material powder of Invention Example 1 and Comparative Example 1 into the metal capsule was measured, and a sample of 10 × 10 (mm) was taken from the location shown in FIG. Are shown in Table 1. Here, the packing density is a numerical value represented by (filling weight of raw material powder) / (volume weight) × 100, and the relative density is represented by (density of target material) / (theoretical density) × 100. It is a numerical value.
Table 1 shows the results of the deformation amount of the sintered body after the HIP treatment. As shown in the schematic diagram of FIG. 7, the warp amount of the metal capsule is a deformation amount 11 calculated from the difference between the reference point 9 on the bottom surface of the central portion 8 in the longitudinal direction of the sintered body 7 and the bottom surface of the end portion 10. That is.
表1に示した通り、本発明例1のように、充填深さが最も深くなる方向に対向する一方の面を充填口とし、その長辺の長さが1000mm以上である金属カプセルに原料粉末を充填し、金属カプセルの上蓋に外部応力を加えて金属カプセルに嵌め込むことで原料粉末を押し付けた状態で密閉封止する方法によれば、原料粉末の充填を向上するとともに、ターゲット材の相対密度も高くかつ均一なレベルを実現でき、さらにHIP後の焼結体の変形もない。また、比較例1では、金属カプセルの上蓋に外部応力を加えて金属カプセルに嵌め込むことで原料粉末を押し付けた状態で密閉封止していないため、上蓋と原料粉末の生じる隙間を起因として、HIP後に充填口側の焼結体端面に図6に示す通り凹みが生じる場合があるので、大型ターゲット材を作製する上で問題がある。 As shown in Table 1, as in Example 1 of the present invention, a raw material powder is applied to a metal capsule whose one side facing the direction in which the filling depth is deepest is a filling port and whose long side is 1000 mm or more. According to the method of sealing and sealing the raw material powder in a state where the raw material powder is pressed by applying external stress to the upper part of the metallic capsule and fitting it into the metallic capsule, the filling of the raw material powder is improved and the relative amount of the target material is increased. The density is high and a uniform level can be realized, and there is no deformation of the sintered body after HIP. Further, in Comparative Example 1, since the material powder is not hermetically sealed in a state of pressing the raw material powder by applying external stress to the metal capsule and fitting it into the metal capsule, due to the gap generated by the upper lid and the raw material powder, Since there may be a dent as shown in FIG. 6 on the end face of the sintered body on the filling port side after HIP, there is a problem in producing a large target material.
本発明例1と同様に作製したMo焼結体を、縦型鋸盤で充填口面に垂直に切断して、それぞれ機械加工することで6枚のターゲット材を作製した。6枚のターゲット材の図5に示す箇所から10×10(mm)の試料をそれぞれから採取し、実施例1と同様に相対密度を測定した。どの箇所の試料も相対密度は99.3〜99.4%であり、均一な密度状態となっているため、本発明の製造方法によれば、一度のHIP処理によって同様の相対密度を有する多数のターゲット材が作製できる。 The Mo sintered body produced in the same manner as Example 1 of the present invention was cut perpendicularly to the filling port surface with a vertical saw and machined to produce six target materials. Samples of 10 × 10 (mm) were taken from each of the six target materials shown in FIG. 5, and the relative density was measured in the same manner as in Example 1. Since the relative density of each sample is 99.3 to 99.4% and is in a uniform density state, according to the manufacturing method of the present invention, a large number of samples having the same relative density by one HIP treatment. Target material can be produced.
1 金属カプセル、2 充填孔、3 原料粉末、4 上蓋、5 脱気口、6 溶接部、7 焼結体、8 中央部、9 基準点、10 端面、11 反り量、12 凹み、13 ターゲット材
DESCRIPTION OF
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003347225A JP4172019B2 (en) | 2003-10-06 | 2003-10-06 | Target material manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003347225A JP4172019B2 (en) | 2003-10-06 | 2003-10-06 | Target material manufacturing method |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005113188A JP2005113188A (en) | 2005-04-28 |
| JP2005113188A5 JP2005113188A5 (en) | 2006-10-26 |
| JP4172019B2 true JP4172019B2 (en) | 2008-10-29 |
Family
ID=34539880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003347225A Expired - Lifetime JP4172019B2 (en) | 2003-10-06 | 2003-10-06 | Target material manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4172019B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5550328B2 (en) * | 2009-12-22 | 2014-07-16 | 株式会社東芝 | Mo sputtering target and manufacturing method thereof |
-
2003
- 2003-10-06 JP JP2003347225A patent/JP4172019B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005113188A (en) | 2005-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101407907B (en) | Sheath for producing target material by hot isostatic pressing and method for producing target material | |
| US20050191202A1 (en) | Method of producing target material of Mo alloy | |
| JP5954196B2 (en) | Cylindrical Cu-Ga alloy sputtering target and manufacturing method thereof | |
| US5963778A (en) | Method for producing near net shape planar sputtering targets and an intermediate therefor | |
| CN108202180A (en) | The manufacturing method of target material assembly | |
| JP4312431B2 (en) | Target material | |
| EP0399772A2 (en) | Diffusion bonding and superplastic forming | |
| US9034246B2 (en) | Method and assembly for forming a component by isostatic pressing | |
| KR20130043690A (en) | Tungsten target and method for producing same | |
| JP3748221B2 (en) | Mo-based sputtering target and method for producing the same | |
| US11253916B2 (en) | Method of production using melting and hot isostatic pressing | |
| JP2003342720A (en) | Method for producing molybdenum target for sputtering and molybdenum target | |
| JP4172019B2 (en) | Target material manufacturing method | |
| JP4027733B2 (en) | Target material | |
| US20100178525A1 (en) | Method for making composite sputtering targets and the tartets made in accordance with the method | |
| EP2268434A1 (en) | A method for making composite sputtering targets and the targets made in accordance with the method | |
| US9346119B2 (en) | Object forming assembly | |
| JP2013204051A (en) | Method for manufacturing cylindrical sputtering target material | |
| CN108746980A (en) | Hot isostatic press welding titanium target and aluminium jacket partition method | |
| JP2015175035A (en) | Method of manufacturing cylinder type sputtering target material | |
| CN108788434A (en) | Hot isostatic press welding included a tantalum target and aluminium jacket partition method | |
| US20230415229A1 (en) | Method for creating an object | |
| DE4234004C1 (en) | Process for the production of sheets or ceramic plates | |
| JP2020183554A (en) | Manufacturing method of sputtering target | |
| CA2033489C (en) | Method of making plate-shaped material |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060912 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060912 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080708 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080718 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080731 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4172019 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120822 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120822 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130822 Year of fee payment: 5 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |