JP4189255B2

JP4189255B2 - Atmospheric pressure plasma processing equipment

Info

Publication number: JP4189255B2
Application number: JP2003104380A
Authority: JP
Inventors: 政樹岩崎; 佐野　　健三
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2003-04-08
Filing date: 2003-04-08
Publication date: 2008-12-03
Anticipated expiration: 2023-04-08
Also published as: JP2004311256A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一対の電極間に板状のワークを通してプラズマ表面処理を行なう装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、特許文献１に記載の装置は、板状ワークを一対の電極間に通しながら表面処理を行なうようになっている。
特許文献２に記載の装置は、ワークの送り方向に沿って一方の電極の手前側の傍らから処理ガスを電極間のプラズマ処理空間に向けて吹出すようになっている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００３−３１５５０号公報（第１頁）
【特許文献２】
特開２００２−９４２２１号公報（第１頁）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
処理ガスを一方の電極の傍らから電極間のプラズマ処理空間に向けて吹出す装置で板状ワークを処理する場合、ワークが処理空間に未だ入っていない時に、まわりの雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に入る可能性がある。そうすると、良好な表面処理の妨げとなる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、本発明の第１態様は、上側と下側に対向し、間に略常圧（大気圧近傍の圧力）のプラズマ処理空間を形成する一対の電極ユニットと、板状のワークを上記電極ユニットどうしの対向方向と直交する姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを上側の電極ユニットの傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備え、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する平面より下側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられ、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に下から沿うように配された板状をなし、その端面が、下側の電極ユニットの側面に突き当てられており、上記ワーク送り機構が、上記縁切り部材の下側に回転軸を配したコロを有し、このコロが、上記縁切り部材に形成された挿通孔を介して上に僅かに突出されていることを特徴とする。
これによって、ワーク移動平面より他方の電極ユニット側（下側）の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができ、良好なプラズマ表面処理を行うことができる。
【０００６】
また、本発明の第２態様は、間に略常圧（大気圧近傍の圧力）のプラズマ処理空間を形成する上下一対の電極ユニットと、板状のワークを水平姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを上側の電極ユニットの上記ワークの送り方向に沿う手前側の傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備えたプラズマ処理装置であって、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する水平面より下側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられ、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に下から沿うように配された板状をなし、その端面が、下側の電極ユニットの手前側の面に突き当てられており、上記ワーク送り機構が、上記縁切り部材の下側に回転軸を配したコロを有し、このコロが、上記縁切り部材に形成された挿通孔を介して上に僅かに突出されていることを特徴とする。
これによって、ワーク移動平面より下側の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができる。しかも、板状ワークの送り方向とガスの流れ方向とを一致させることができ、ワークの搬送でガス流が乱れたりワークの幅方向（送り方向と直交する方向）に沿ってガス状態が不均一になったりするのを防止でき、処理ムラを確実に防止できる。この結果、プラズマ表面処理を一層確実に良好に行なうことができる。
【０００７】
上記第１態様において、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に沿うように配された板状をなし、その端面が、下側の電極ユニットの側面に突き当てられていることによって、板状ワークを縁切り部材に沿って案内できるとともに、上記雰囲気の巻き込みを確実に防止でき、プラズマ表面処理を確実に良好に行うことができる。
【０００８】
上記第２態様において、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に下から沿うように配された板状をなし、その端面が、下側の電極ユニットの手前側の面に突き当てられており、上記ワーク送り機構が、上記縁切り部材の下側に回転軸を配したコロを有し、このコロが、上記縁切り部材に形成された挿通孔を介して上に僅かに突出されていることによって、板状ワークと縁切り部材に沿って案内できるとともに、縁切り部材の下側からは勿論、縁切り部材とワークとの間からも処理ガス流への巻き込みが起きないようにすることができ、プラズマ表面処理を確実に良好に行うことができる。
【０００９】
上記処理ガス吹出し手段と縁切り部材との間の空間における上記処理空間に連なる端部と直交する両端部には、そこを塞ぐ閉塞部材が、処理ガス吹出し手段と縁切り部材とに挟まれるようにして設けられていることが望ましい。
これによって、処理ガス吹出し手段と縁切り部材との間の両端部より外側の雰囲気についても処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止でき、良好なプラズマ表面処理を一層確実に行うことができる。
【００１０】
上記処理ガス吹出し手段を挟んで上記一方の電極ユニットとは逆側（第２態様においては処理ガス吹出し手段の手前側）に、カーテンガスの吹出し手段が設けられ、上記縁切り部材が、上記カーテンガスの吹出し軸を横切っていることが望ましい。
これによって、上記逆側の雰囲気についても処理ガス流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止でき、良好なプラズマ表面処理を一層確実に行うことができる。
【００１１】
本発明における略常圧とは、１．３３３×１０⁴〜１０．６６４×１０⁴Ｐａの範囲を言う。中でも、９．３３１×１０⁴〜１０．３９７×１０⁴Ｐａの範囲は、圧力調整が容易で装置構成が簡便になり、好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面にしたがって説明する。
図１は、例えば液晶パネル用の石英ガラスなどの板状物をワークＷ（被処理物）とし、これを例えばプラズマ洗浄するための常圧プラズマ処理装置Ｍ１を示したものである。常圧プラズマ処理装置Ｍ１は、一対の電極ユニット１０，２０と、ガス源３０，３１と、電界印加手段４０と、ワーク送り機構５０とを備えている。電界印加手段４０によって電極ユニット１０，２０間に例えばパルス状の電界が印加される。これによって、グロー放電が起き、電極ユニット１０，２０間が常圧プラズマ空間１ａとなる。このプラズマ空間１ａにガス源１０の処理ガスが導入されてプラズマ化されるとともに、送り機構５０によってワークＷが送られて来、常圧下でプラズマ洗浄（プラズマ処理）が行なわれることになる。
【００１３】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１の電極構造について説明する。
図１および図２に示すように、装置Ｍ１の電極ユニット１０，２０は、上下に一対をなす平行平板電極構造をなしている。上側（一側）の電極ユニット１０（一方の電極）の電極本体１１には、上記電界印加手段４０に接続され、下側（他側）の電極ユニット２０（他方の電極）の電極本体２１は、アース線４１を介して接地されている。これによって、上側が電界印加電極（ホット電極）となり、下側が接地電極（アース電極）となっている。なお、この極性は、上下逆になっていてもよい。
【００１４】
上側の電極ユニット１０について詳述する。
図１〜図３に示すように、ユニット１０は、上記電極本体１１と、この電極本体１１を保持するホルダ１２と、誘電体板１３とを有している。上側電極本体１１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして左右（図１において紙面と直交する方向）に長く延びている。
【００１５】
電極本体１１の内部には、１条の冷媒通路１１ａと、２条の吸引路１１ｂが形成されている。なお、これら路１１ａ，１１ｂの数は、上記に限定されるものではないことは言うまでもない。冷媒通路１１ａには、電極本体１１を温調するための冷媒（例えば水）が通されるようになっている。各吸引路１１ｂは、電極本体１１の長手方向に沿って延びるヘッダ路１１ｃと、このヘッダ路１１ｃから分岐された多数の吸引孔１１ｄとを有している。ヘッダ路１１ｃの一端部は、吸引管６１を介して真空吸引ポンプ６０に接続されている。吸引孔１１ｄは、ヘッダ路１１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。各吸引路１１ｄは、ヘッダ路１１ｃから下方に延び、電極本体１１の下面へ達している。
【００１６】
上側電極の固体誘電体層としての誘電体板１３は、電極本体１１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。この誘電体板１３が、電極本体１１の下面に宛がわれるとともに、その左右両端部が下側電極ユニット２０に誘電スペーサ２９を介して支持されている。この誘電体板１３によって、電極本体１１からのアーク放電が防止されるようになっている。誘電体板１３は、電極本体１１の下面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体１１の周縁から大きく突出されている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路１１ｂが真空引きされ、誘電体板１３が電極本体１１の下面に吸着されるようになっている。これによって、誘電体板１３の左右両側部だけでなく、中央側においても電極本体１１に密着させて隙間が空かないようにすることができ、電極本体１１と誘電体板１３との間でアークが発生するのを確実に防止することができる。
【００１７】
上側電極のホルダ１２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ１２の下面には、本体収容凹部１２ａが形成され、この凹部１２ａに電極本体１１が収容されている。凹部１２ａの周縁には、浅い凹部１２ｂが形成されている。この凹部１２ｂに、誘電体板１３の本体１１周縁部からの突出部分が収容されている。
【００１８】
次に、下側の電極ユニット２０について詳述する。
図１、図２、図４に示すように、ユニット２０は、上記の電極本体２１と、この電極本体２１を保持するホルダ２２と、誘電体板２３とを有している。下側電極本体２１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして上側の本体１１と同方向（左右）に長く延びている。
【００１９】
電極本体２１の内部には、１条の冷媒通路２１ａと、２条の吸引路２１ｂが形成されている。勿論、これら路２１ａ，２１ｂの数は任意である。冷媒通路２１ａには、水などの温調用冷媒が通されるようになっている。各吸引路２１ｂは、電極本体２１の長手方向に沿って延びるヘッダ路２１ｃと、このヘッダ路２１ｃから分岐された多数の吸引孔２１ｄとを有している。ヘッダ路２１ｃの一端部は、吸引管６２を介して上記真空ポンプ６０に接続されている。吸引孔２１ｄは、ヘッダ路２１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。これら吸引路２１ｄは、ヘッダ路２１ｃから上方に延び、電極本体２１の上面へ達している。
【００２０】
下側電極の固体誘電体層としての誘電体板２３は、電極本体２１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。誘電体板２３は、電極本体２１の上面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体２１の周縁から大きく突出されている。この誘電体板２３が、電極本体２１の上面に宛がわれている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路２１ｂが真空引きされ、誘電体板２３が電極本体２１の下面に吸着されるようになっている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっているのは、上側電極と同様である。
【００２１】
下側電極のホルダ２２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ２２の上面には、本体収容凹部２２ａが形成され、この凹部２２ａに電極本体２１が収容されている。凹部２２ａの周縁には、浅い凹部２２ｂが形成されている。この凹部２２ｂに、誘電体板２３の周縁部分が収容されている。
【００２２】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１における電極支持構造を説明する。
装置Ｍ１のベースＢに下側電極ユニット２０が支持されている。この下側電極ユニット２０に上側電極ユニット１０が支持されている。詳述すると、図２、図４、図５に示すように、下側の電極ホルダ２２の左右両端部には、嵌合凸部２２ｘ（受け部）が上に突出するようにして形成されている。一方、図２、図３、図５に示すように、上側の電極ホルダ１２の左右両端部には、段差１２ｃが形成されるとともに、この段差１２ｃと面一の下面を有するサイドプレート１５が宛がわれている。この段差１２ｃとサイドプレート１５の中間部とによって、上側電極ユニット１０の嵌合凹部１０ｘ（被受け部）が構成されている。この嵌合凹部１０ｘに嵌合凸部２２ｘが嵌め込まれるようにして、上側電極ユニット１０の両端部が、下側電極ユニット２０上に位置決め状態で載置されている。これによって、上側電極ユニット１０の位置決め固定の容易化が図られている。
なお、下側電極のホルダ２２と上側電極のサイドプレート１５とは、垂直サイドプレート２５によって連結されている。
【００２３】
上記位置決め載置状態で、上下の電極ユニット１０（具体的には上下の誘電体板１３，２３）の長手方向の中間部どうしの間には、薄く左右に細長い隙間が形成されている。この隙間が、上記プラズマ処理空間１ａとなっている。図１に示すように、この空間１ａの前後の縁は、開口されている。空間１ａの手前側（図１において左側）の開口が、ワークWの挿入口および処理ガスの流入口となり、向こう側（図１において右側）の開口が、ワークWの送出口および処理済みのガスの排出口となっている。
【００２４】
次に、プラズマ処理空間１ａへのガス導入構造について説明する。
図１および図３に示すように、上側電極ユニット１０には、ガス吹出し・吸込みユニット１６，１７が一体化されている。すなわち、上側電極ユニット１０の手前側には、ガス吹出しユニット１６が当接され、向こう側には、吸込みユニット１７が当接されている。一方、図３に示すように、上記左右一対のサイドプレート１５は、水平をなして、上側電極ユニット１０の前後に延出されている。そして、これら水平サイドプレート１５の手前側への延出部分にガス吹出しユニット１６が連結されて支持され、向こう側（後側）への延出部分に吸込みユニット１７が連結されて支持されている。これによって、吹出しユニット１６と吸込みユニット１７が、上側電極ユニット１０を介して下側電極ユニット２０に支持されている。
【００２５】
ガス吹出しユニット１６には、処理ガス導入路１６ｘ（処理ガス吹出し手段）と、カーテンガス導入路１６ｙ（カーテンガス吹出し手段）とが形成されている。処理ガス導入路１６ｘは、上記処理ガス源３０に処理ガス供給管３２を介して連なる受容れポート１６ａと、このポート１６ａに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｂと、このチャンバー１６ｂの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｃとを有している。吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂから後方のプラズマ処理空間１ａへ向けて斜め下に延び、吹出しユニット１６の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の手前側（一側部）の傍ら）に開口している。これによって、処理ガス源３０の処理ガスが、ポート１６ａを経てチャンバー１６ｂで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｃから斜め下後方へ吹出され、プラズマ処理空間１ａに導入されるようになっている。
なお、吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂの略全長域にわたるスリット状をなしていてもよい。後述する吹出し孔１６ｆおよび吸込み孔１７ｃにおいても同様である。
【００２６】
ガス吹出しユニット１６の内部において処理ガス導入路１６ｘの手前側に上記カーテンガス導入路１６ｙが配されている。カーテンガス導入路１６ｙは、上記カーテンガス源３１にカーテンガス供給管３３を介して連なる受容れポート１６ｄと、このポート１６ｄに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｅと、このチャンバー１６ｅの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｆとを有している。吹出し孔１６ｆは、チャンバー１６ｂからまっすぐ下に延び、上記処理ガスの吹出し孔１６ｃより手前側のユニット１６下面に開口している。これによって、ガス源３１のカーテンガスが、ポート１６ｄを経てチャンバー１６ｅで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｆから下方へ吹出されるようになっている。
なお、カーテンガスには、窒素などの不活性ガスを用いるのが望ましい。処理ガスとして窒素などを用いる場合には、２つのガス源３０，３１に共通の単一ガス源を設け、この単一ガス源から各導入路１６ｘ、１６ｙに分配されるようにしてもよい。
【００２７】
吸込みユニット１７には、ガス吸込み路１７ｘが形成されている。ガス吸込み路１７ｘは、上記ガス導入路１６ｘを前後に反転させた形状をなしている。すなわち、ガス吸込み路１７ｘは、吸込みユニット１７の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の向こう側（他側部）の傍ら）から斜めに延びる吸込み孔１７ｃと、左右に長いチャンバー１７ｂと、排出ポート１７ａとを有し、この排出ポート１７ａが、排気管６４を介して排気ポンプ６５に連ねられている。排気ポンプ６５の駆動によって、空間１ａの処理済みのガスが、吸込み路１７ｘを経て排出されるようになっている。
なお、ポンプ６５は、上記誘電体板１３，２３の吸着用ポンプ６０と共通の真空吸引ポンプを用いることにしてもよい。
【００２８】
次に、ワーク送り機構５０について説明する。
図１および図４に示すように、ワーク送り機構５０は、下側電極ユニット２０の手前側（ガス吹出しユニット１６の下側）に設けられた左右一対のフレーム５５と、これらフレーム５５間に水平に架け渡されるとともに互いに前後に離間配置された複数の軸部材５１（回転軸）と、各軸部材５１の長手方向に離れて複数配置されたコロ５２とを有している。板状ワークＷは、これらコロ５２の上に水平に置かれ、コロ５２の回転によって処理空間１ａへ向けて水平に送られるようになっている。
なお、同様の送り機構が、下側電極ユニット２０の向こう側（後側）にも設けられ、ワークＷを水平姿勢を維持したままで処理空間１ａから排出できるようになっている。
【００２９】
ワーク送り機構５０の下側部、すなわちワークＷの水平移動平面より下側であって下側電極ユニット２０の手前側は、空間ｓ１になっている。ワーク送り機構５０は、この空間ｓ１の雰囲気を処理ガス流から隔てる縁切り構造になっている。
詳述すると、ワーク送り機構５０の左右のフレーム５５には、縁切り板５３（縁切り部材）が水平に架け渡されている。縁切り板５３の電極ユニット側の端面（後端面）は、下側電極ユニット２０のホルダ２２の手前側の側面に突き当てられている。縁切り板５３の上面は、下側電極ユニット２０の上面と略面一をなしている。
【００３０】
さらに、縁切り板５３の電極ユニットとは逆側の端面（前端面）は、ガス吹出しユニット１６より突出されている。これによって、縁切り板５３が、吹出し孔１６ｆから真下へ向かうカーテンガスの吹出し軸ｇ１を横切っている。
なお、ワーク送り機構５０の軸部材５１およびコロ５２は、縁切り板５３より手前にも延々と配置されている。
【００３１】
縁切り板５３には、前後に細長い挿通孔５３ａが複数、分散して形成されている。各孔５３ａにコロ５２が通されている。これらコロ５２が、縁切り板５３の上面から僅かに突出されている。これによって、コロ５２上のワークＷと縁切り板５３の上面との間の隙間が可及的に小さく設定されている。すなわち、縁切り板５３は、ワークＷの移動する水平面に下側から可及的に近接して配されている。
【００３２】
さらに、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間に形成された空間の左右両端部（処理空間１ａ）に連なる端部と直交する両端部）には、閉塞部材５４が、ガス吹出しユニット１６と縁切り部材５３とに挟まれるようにして設けられている。閉塞部材５４は、ガス吹出しユニット１６の前後方向の全長に及んでいる。これによって、該空間の左右両端部が、閉塞部材５４によって塞がれている。
【００３３】
作用を説明する。
常圧プラズマ処理装置Ｍ１において、ワークＷは、縁切り板５３から僅かに浮いた状態で処理空間１ａへ向けて送られる。処理空間１ａには、ワークＷが未だ入って来ていない段階から処理ガスが導入されている。この処理ガスの吹出し孔１６ｃからの吹出し流は、縁切り板５３によって、ワーク送り機構５０の下側部空間ｓ１から縁切りされている。特に縁切り板５３は下側電極ユニット２０に突き当てられているため、縁切りを確実に行なうことができる。したがって、空間ｓ１の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間１ａに流入することはない。しかも、ワークＷと縁切り板５３は可及的に近接し、両者間の隙間が非常に小さいので、ワークＷの先端部が吹出し孔１６ｃの真下にさしかかった時にこの隙間の空気が処理ガス吹出し流に引き込まれることもない。これによって、処理空間１ａを純度の高い処理ガスで満たしておくことができる。そして、ワークＷの送り方向に沿う先端部が処理空間１ａに入って来た時、このワーク先端部を確実に良好にプラズマ洗浄することができる。
ワークＷの先端部が処理空間に入った以降は、当該ワークＷによってそれより上側と下側とが隔てられるので、処理空間１ａでの処理ガス純度を高く維持でき、プラズマ洗浄の良好性を維持できる。
【００３４】
また、常圧プラズマ処理装置Ｍ１においては、閉塞部材５４によって、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間の左右両端部より外側の雰囲気についても処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止することができる。これによって、ワークＷの特に先端部の左右両側部について、確実に良好にプラズマ洗浄することができる。
さらに、吹出し孔１６ｆからカーテンガスを吹出すことにより、処理ガス流より手前側にガスカーテンを形成できる。これによって、縁切り板５３ないしはワークＷの上側の雰囲気が、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３ないしはワークＷとの間を通って処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止することができる。よって、プラズマ洗浄を一層良好に行うことができる。
【００３５】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１においては、ワークＷの送り方向と処理ガスの流れ方向とが一致しており、例えば対向していたり直交していたりしていないので、ワークＷの移動に伴ってガス流が乱れたりワークＷの幅方向（送り方向と直交する方向）に沿ってガス状態が不均一になったりすることがなく、処理ムラを確実に防止できる。この結果、プラズマ表面処理を一層確実に良好に行なうことができる。
【００３６】
本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の改変をなすことができる。
例えば、ワーク形状の「板状」には、シート状ないしはフィルム状も含まれる。
一対の電極は、上下に対向している場合に限られず、水平や斜めに対向していてもよい。
処理ガスの流れ方向とワークの送り方向が、互いに対向していたり、交差（直交）していたりしてもよい。
本発明は、グロー放電だけでなく、コロナ放電や沿面放電によるプラズマ処理にも適用され、洗浄だけでなく、成膜、表面改質、アッシング、エッチング等の種々のプラズマ処理に遍く適用される。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、まわりの雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができ、良好なプラズマ表面処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を前後に切断した概略断面図である。
【図２】上記常圧プラズマ処理装置の上下の電極ユニットを左右に切断した断面図である。
【図３】上記常圧プラズマ処理装置の上側電極ユニットとガス吹出しユニットと吸込みユニットの底面図である。
【図４】上記常圧プラズマ処理装置の上側電極ユニットとワーク送り機構の平面図である。
【図５】上記上下の電極ユニットを分離して示す図２相当の断面図である。
【符号の説明】
Ｍ１常圧プラズマ処理装置
１ａ常圧プラズマ処理空間
１０上側電極ユニット（一方の電極ユニット）
１６ガス吹出ユニット
１６ｘ処理ガス導入路（処理ガス吹出し手段）
１６ｙカーテンガス導入路（カーテンガス吹出し手段）
２０下側電極ユニット（他方の電極ユニット）
５０ワーク送り機構
５１軸部材（回転軸）
５２コロ
５３縁切り板（縁切り部材）
５３ａ挿通孔
５４閉塞部材
ｇ１カーテンガスの吹出し軸
Ｗ板状ワーク[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus for performing plasma surface treatment through a plate-like workpiece between a pair of electrodes.
[0002]
[Prior art]
For example, the apparatus described in Patent Document 1 performs surface treatment while passing a plate-shaped workpiece between a pair of electrodes.
The apparatus described in Patent Document 2 blows a processing gas toward the plasma processing space between the electrodes from the front side of one electrode along the workpiece feeding direction.
[0003]
[Patent Document 1]
JP 2003-31550 A (first page)
[Patent Document 2]
JP 2002-94221 A (first page)
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
When processing a plate-shaped workpiece with a device that blows the processing gas from the side of one electrode toward the plasma processing space between the electrodes, the surrounding atmosphere is blown out of the processing gas when the workpiece is not yet in the processing space. May get into the processing space. If it does so, it will interfere with favorable surface treatment.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, a first aspect of the present invention is opposed to the upper side and the lower side, a pair of electrode unit substantially forms a plasma processing space atmospheric pressure (pressure of approximately atmospheric pressure) between , blowing plate-shaped workpiece toward the processing space from the side of the upper side of the electrode unit and the work feeding mechanism for sending toward the plasma processing space in a posture orthogonal to the opposing direction of each other the electrode unit, the process gas A processing gas blowing means, and the workpiece feeding mechanism is provided with an edge cutting member for cutting an atmosphere below the plane in which the workpiece moves from the blowing flow of the processing gas, and the edge cutting member is configured to move the workpiece. plane without an arranged a plate shape along the bottom, distribution end face thereof, which abuts on the side surface of the lower electrode unit, the work feeding mechanism, a rotary shaft on the lower side of the edge cutting member did Has a b, the roller, characterized in that it is slightly protrude above through the insertion hole formed in the edge cutting member.
As a result, the atmosphere on the other electrode unit side ( lower side) from the workpiece moving plane can be prevented from being caught in the blow-out flow of the processing gas and flowing into the processing space, and an excellent plasma surface treatment can be performed. it can.
[0006]
Further, the second aspect of the present invention provides a pair of upper and lower electrode units that form a plasma processing space at a substantially normal pressure (pressure near atmospheric pressure) and a plate-shaped workpiece in a horizontal posture toward the plasma processing space. A plasma processing apparatus comprising: a workpiece feeding mechanism that feeds the processing gas; and a processing gas blowing means that blows the processing gas toward the processing space from the near side along the workpiece feeding direction of the upper electrode unit, The workpiece feeding mechanism is provided with an edge cutting member that cuts off the atmosphere below the horizontal plane in which the workpiece moves from the blow-out flow of the processing gas, and the edge cutting member is arranged along the workpiece moving plane from below. The end face of the plate is abutted against the front surface of the lower electrode unit, and the work feeding mechanism has a roller with a rotating shaft disposed under the edge cutting member. This roller is characterized in that it is slightly protrude above through the insertion hole formed in the edge cutting member.
Accordingly, it is possible to prevent the atmosphere below the workpiece moving plane from being caught in the flow of the processing gas and flowing into the processing space. Moreover, the feeding direction of the plate-like workpiece and the gas flow direction can be matched, and the gas flow is disturbed by the workpiece conveyance, or the gas state is not uniform along the workpiece width direction (direction perpendicular to the feeding direction). Can be prevented, and processing unevenness can be reliably prevented. As a result, the plasma surface treatment can be performed more reliably and reliably.
[0007]
In the first aspect, the edge cutting member has a plate-like shape arranged along the workpiece moving plane, and its end surface is abutted against the side surface of the lower electrode unit, whereby a plate-like workpiece is obtained. Can be guided along the edge cutting member, the entrainment of the atmosphere can be surely prevented, and the plasma surface treatment can be reliably performed satisfactorily.
[0008]
In the second aspect, the edge cutting member has a plate-like shape arranged along the workpiece moving plane from below, and its end surface is abutted against the front surface of the lower electrode unit, The workpiece feeding mechanism has a roller having a rotating shaft disposed on the lower side of the edge cutting member, and this roller is slightly protruded upward through an insertion hole formed in the edge cutting member. It can be guided along the plate-shaped workpiece and the edge cutting member, and it is possible to prevent the process gas flow from being caught not only from the lower side of the edge cutting member but also from between the edge cutting member and the workpiece. Can be reliably performed.
[0009]
At both end portions of the space between the processing gas blowing means and the edge cutting member, which are orthogonal to the end portion connected to the processing space, a closing member for closing the gap is sandwiched between the processing gas blowing means and the edge cutting member. It is desirable to be provided.
As a result, it is possible to prevent the atmosphere outside the both end portions between the processing gas blowing means and the edge cutting member from being caught in the blowing flow of the processing gas and flowing into the processing space, thereby further ensuring a good plasma surface treatment. It can be carried out.
[0010]
Curtain gas blowing means is provided on the side opposite to the one electrode unit across the processing gas blowing means (on the front side of the processing gas blowing means in the second mode), and the edge cutting member is the curtain gas. It is desirable to cross the blowout axis.
As a result, the atmosphere on the opposite side can also be prevented from being caught in the processing gas flow and flowing into the processing space, and a good plasma surface treatment can be performed more reliably.
[0011]
The substantially normal pressure in the present invention refers to a range of 1.333 × 10 ^{4 to} 10.664 × 10 ⁴ Pa. Among these, the range of 9.331 × 10 ^{4 to} 10.9797 × 10 ⁴ Pa is preferable because pressure adjustment is easy and the apparatus configuration is simple.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an atmospheric pressure plasma processing apparatus M1 for performing, for example, plasma cleaning on a plate W such as quartz glass for a liquid crystal panel as a workpiece W (object to be processed). The atmospheric pressure plasma processing apparatus M <b> 1 includes a pair of electrode units 10, 20, gas sources 30, 31, an electric field applying unit 40, and a work feeding mechanism 50. For example, a pulsed electric field is applied between the electrode units 10 and 20 by the electric field applying means 40. As a result, glow discharge occurs and the space between the electrode units 10 and 20 becomes an atmospheric pressure plasma space 1a. The processing gas from the gas source 10 is introduced into the plasma space 1a to be turned into plasma, and the workpiece W is sent by the feed mechanism 50, and plasma cleaning (plasma processing) is performed under normal pressure.
[0013]
The electrode structure of the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1 will be described.
As shown in FIGS. 1 and 2, the electrode units 10 and 20 of the device M1 have a parallel plate electrode structure that forms a pair in the vertical direction. The electrode body 11 of the upper (one side) electrode unit 10 (one electrode) is connected to the electric field applying means 40, and the electrode body 21 of the lower (other side) electrode unit 20 (the other electrode) is , And grounded via the ground wire 41. Thereby, the upper side is an electric field application electrode (hot electrode), and the lower side is a ground electrode (earth electrode). This polarity may be reversed upside down.
[0014]
The upper electrode unit 10 will be described in detail.
As shown in FIGS. 1 to 3, the unit 10 includes the electrode body 11, a holder 12 that holds the electrode body 11, and a dielectric plate 13. The upper electrode body 11 is made of a conductive metal such as stainless steel or aluminum, and has a rectangular cross section and extends long in the right and left direction (in the direction orthogonal to the paper surface in FIG. 1).
[0015]
Inside the electrode body 11, one refrigerant passage 11 a and two suction paths 11 b are formed. Needless to say, the number of the paths 11a and 11b is not limited to the above. A refrigerant (for example, water) for adjusting the temperature of the electrode body 11 is passed through the refrigerant passage 11a. Each suction path 11b has a header path 11c extending along the longitudinal direction of the electrode body 11, and a plurality of suction holes 11d branched from the header path 11c. One end of the header path 11 c is connected to the vacuum suction pump 60 via the suction pipe 61. The suction holes 11d are arranged at equal intervals along the length direction of the header path 11c. Each suction path 11 d extends downward from the header path 11 c and reaches the lower surface of the electrode body 11.
[0016]
The dielectric plate 13 as the solid dielectric layer of the upper electrode is made of a dielectric material such as ceramic or quartz glass that is separate from the electrode body 11 and has a flat plate shape that is elongated to the left and right. The dielectric plate 13 is addressed to the lower surface of the electrode body 11, and both left and right ends thereof are supported by the lower electrode unit 20 via dielectric spacers 29. This dielectric plate 13 prevents arc discharge from the electrode body 11. The dielectric plate 13 has a larger area than the lower surface of the electrode main body 11, and the peripheral edge thereof protrudes greatly from the peripheral edge of the electrode main body 11. As a result, arc discharge can be reliably prevented. When the vacuum pump 60 is driven, the suction path 11 b is evacuated and the dielectric plate 13 is attracted to the lower surface of the electrode body 11. As a result, not only the right and left side portions of the dielectric plate 13 but also the center side can be brought into close contact with the electrode main body 11 so that no gap is left, and an arc is generated between the electrode main body 11 and the dielectric plate 13. Can be reliably prevented.
[0017]
The upper electrode holder 12 is made of an insulating resin and has an elongated container shape on the left and right. More specifically, a body housing recess 12a is formed on the lower surface of the holder 12, and the electrode body 11 is housed in the recess 12a. A shallow recess 12b is formed at the periphery of the recess 12a. A protruding portion from the peripheral edge of the main body 11 of the dielectric plate 13 is accommodated in the recess 12b.
[0018]
Next, the lower electrode unit 20 will be described in detail.
As shown in FIGS. 1, 2, and 4, the unit 20 includes the electrode body 21, a holder 22 that holds the electrode body 21, and a dielectric plate 23. The lower electrode body 21 is made of a conductive metal such as stainless steel or aluminum, and has a rectangular cross section and extends long in the same direction (left and right) as the upper body 11.
[0019]
Inside the electrode body 21, a single refrigerant passage 21a and two suction passages 21b are formed. Of course, the number of these paths 21a and 21b is arbitrary. A temperature adjusting refrigerant such as water is passed through the refrigerant passage 21a. Each suction path 21b has a header path 21c extending along the longitudinal direction of the electrode body 21, and a plurality of suction holes 21d branched from the header path 21c. One end of the header path 21 c is connected to the vacuum pump 60 through the suction pipe 62. The suction holes 21d are arranged at equal intervals along the length direction of the header path 21c. These suction paths 21 d extend upward from the header path 21 c and reach the upper surface of the electrode body 21.
[0020]
The dielectric plate 23 as a solid dielectric layer of the lower electrode is made of a dielectric material such as ceramic or quartz glass that is separate from the electrode body 21 and has a flat plate shape that is elongated to the left and right. The dielectric plate 23 has a larger area than the upper surface of the electrode main body 21, and the peripheral edge of the dielectric plate 23 protrudes greatly from the peripheral edge of the electrode main body 21. This dielectric plate 23 is directed to the upper surface of the electrode body 21. When the vacuum pump 60 is driven, the suction path 21 b is evacuated, and the dielectric plate 23 is attracted to the lower surface of the electrode body 21. As a result, it is possible to reliably prevent arc discharge as in the case of the upper electrode.
[0021]
The holder 22 of the lower electrode is made of an insulating resin and has a container shape that is elongated to the left and right. More specifically, a body housing recess 22a is formed on the upper surface of the holder 22, and the electrode body 21 is housed in the recess 22a. A shallow recess 22b is formed on the periphery of the recess 22a. The peripheral portion of the dielectric plate 23 is accommodated in the recess 22b.
[0022]
The electrode support structure in the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1 will be described.
The lower electrode unit 20 is supported on the base B of the device M1. The upper electrode unit 10 is supported by the lower electrode unit 20. More specifically, as shown in FIGS. 2, 4 and 5, the left and right ends of the lower electrode holder 22 are formed with fitting protrusions 22x (receiving portions) protruding upward. Yes. On the other hand, as shown in FIGS. 2, 3, and 5, a step 12c is formed at the left and right ends of the upper electrode holder 12, and a side plate 15 having a lower surface flush with the step 12c is addressed. It has been broken. The step 12 c and the intermediate portion of the side plate 15 constitute a fitting recess 10 x (received portion) of the upper electrode unit 10. Both end portions of the upper electrode unit 10 are placed on the lower electrode unit 20 in a positioned state so that the fitting convex portion 22x is fitted into the fitting concave portion 10x. This facilitates the positioning and fixing of the upper electrode unit 10.
The lower electrode holder 22 and the upper electrode side plate 15 are connected by a vertical side plate 25.
[0023]
In the positioning and mounting state, thin and narrow gaps are formed between the middle portions in the longitudinal direction of the upper and lower electrode units 10 (specifically, the upper and lower dielectric plates 13 and 23). This gap is the plasma processing space 1a. As shown in FIG. 1, the front and rear edges of the space 1a are opened. The opening on the front side (left side in FIG. 1) of the space 1a becomes the insertion port for the workpiece W and the inlet for the processing gas, and the opening on the other side (right side in FIG. 1) is the outlet for the workpiece W and the processed gas. It has become a discharge outlet.
[0024]
Next, the structure for introducing gas into the plasma processing space 1a will be described.
As shown in FIGS. 1 and 3, gas blowing / suction units 16 and 17 are integrated with the upper electrode unit 10. That is, the gas blowing unit 16 is in contact with the front side of the upper electrode unit 10 and the suction unit 17 is in contact with the other side. On the other hand, as shown in FIG. 3, the pair of left and right side plates 15 extends horizontally and before and after the upper electrode unit 10. The gas blowing unit 16 is connected to and supported by the portion of the horizontal side plate 15 extending toward the front side, and the suction unit 17 is connected to and supported by the portion extending to the other side (rear side). . Thus, the blowout unit 16 and the suction unit 17 are supported by the lower electrode unit 20 via the upper electrode unit 10.
[0025]
The gas blowing unit 16 is formed with a processing gas introduction path 16x (processing gas blowing means) and a curtain gas introduction path 16y (curtain gas blowing means). The processing gas introduction path 16x includes a receiving port 16a that is connected to the processing gas source 30 via a processing gas supply pipe 32, a chamber 16b that is connected to the port 16a and is long to the left and right, and substantially the entire length of the chamber 16b. It has many blowing holes 16c arranged at intervals. The blowout hole 16c extends obliquely downward from the chamber 16b toward the rear plasma processing space 1a, and opens on the lower surface of the blowout unit 16 near the electrode unit 10 (side the front side (one side) of one electrode). ing. As a result, the processing gas of the processing gas source 30 is made uniform in the left and right longitudinal directions in the chamber 16b through the port 16a, and then blown obliquely downward and rearward from the blowing hole 16c so as to be introduced into the plasma processing space 1a. It has become.
Note that the blowout hole 16c may have a slit shape over substantially the entire length of the chamber 16b. The same applies to a blowout hole 16f and a suction hole 17c described later.
[0026]
Inside the gas blowing unit 16, the curtain gas introduction path 16y is disposed on the front side of the processing gas introduction path 16x. The curtain gas introduction path 16y includes a receiving port 16d connected to the curtain gas source 31 via a curtain gas supply pipe 33, a chamber 16e connected to the port 16d and long to the left and right, and substantially the entire length of the chamber 16e. It has a large number of blowing holes 16f arranged at intervals. The blowout holes 16f extend straight down from the chamber 16b and open to the lower surface of the unit 16 on the near side of the process gas blowout holes 16c. Thereby, the curtain gas of the gas source 31 is made uniform in the left and right longitudinal directions in the chamber 16e through the port 16d, and then blown out downward from the blowing hole 16f.
It is desirable to use an inert gas such as nitrogen as the curtain gas. When nitrogen or the like is used as the processing gas, a common single gas source may be provided for the two gas sources 30 and 31, and the single gas source may be distributed to the introduction paths 16x and 16y.
[0027]
A gas suction path 17x is formed in the suction unit 17. The gas suction path 17x has a shape obtained by inverting the gas introduction path 16x back and forth. That is, the gas suction path 17x includes a suction hole 17c extending obliquely from the lower surface of the suction unit 17 near the electrode unit 10 (side the other electrode (on the other side)), a left and right chamber 17b, and a discharge The exhaust port 17a is connected to an exhaust pump 65 through an exhaust pipe 64. By driving the exhaust pump 65, the processed gas in the space 1a is discharged through the suction passage 17x.
The pump 65 may be a vacuum suction pump common to the suction pump 60 for the dielectric plates 13 and 23.
[0028]
Next, the workpiece feeding mechanism 50 will be described.
As shown in FIG. 1 and FIG. 4, the work feeding mechanism 50 includes a pair of left and right frames 55 provided on the front side of the lower electrode unit 20 (below the gas blowing unit 16), and a horizontal position between these frames 55. And a plurality of shaft members 51 (rotating shafts) spaced apart from each other in the front-rear direction, and a plurality of rollers 52 spaced apart in the longitudinal direction of each shaft member 51. The plate-like workpiece W is placed horizontally on the rollers 52 and is sent horizontally toward the processing space 1 a by the rotation of the rollers 52.
A similar feeding mechanism is also provided on the other side (rear side) of the lower electrode unit 20 so that the workpiece W can be discharged from the processing space 1a while maintaining the horizontal posture.
[0029]
The lower side of the work feeding mechanism 50, that is, the lower side of the horizontal movement plane of the work W and the front side of the lower electrode unit 20 is a space s1. The work feeding mechanism 50 has an edge cutting structure that separates the atmosphere of the space s1 from the processing gas flow.
More specifically, an edge cutting plate 53 (edge cutting member) is stretched horizontally on the left and right frames 55 of the workpiece feeding mechanism 50. An end face (rear end face) on the electrode unit side of the edge cutting plate 53 is abutted against a side face on the near side of the holder 22 of the lower electrode unit 20. The upper surface of the edge cutting plate 53 is substantially flush with the upper surface of the lower electrode unit 20.
[0030]
Furthermore, the end face (front end face) opposite to the electrode unit of the edge cutting plate 53 protrudes from the gas blowing unit 16. As a result, the edge cutting plate 53 crosses the blowout axis g1 of the curtain gas that goes straight from the blowout hole 16f.
Note that the shaft member 51 and the roller 52 of the workpiece feeding mechanism 50 are disposed in an extended manner in front of the edge cutting plate 53.
[0031]
The edge cutting plate 53 is formed with a plurality of elongated insertion holes 53a in the front-rear direction. A roller 52 is passed through each hole 53a. These rollers 52 slightly protrude from the upper surface of the edge cut plate 53. Thus, the gap between the workpiece W on the roller 52 and the upper surface of the edge cutting plate 53 is set as small as possible. In other words, the edge cutting plate 53 is disposed as close as possible to the horizontal plane on which the workpiece W moves from below.
[0032]
Further, a closing member 54 is connected to the gas blowing unit 16 at both left and right end portions of the space formed between the gas blowing unit 16 and the edge cutting plate 53 (both ends orthogonal to the end portion connected to the processing space 1a). It is provided so as to be sandwiched between the edge cutting member 53. The closing member 54 extends over the entire length of the gas blowing unit 16 in the front-rear direction. As a result, the left and right ends of the space are closed by the closing member 54.
[0033]
The operation will be described.
In the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1, the workpiece W is sent toward the processing space 1a while slightly floating from the edge cutting plate 53. A processing gas is introduced into the processing space 1a from the stage where the workpiece W has not yet entered. The blowout flow of the processing gas from the blowout hole 16 c is edge-cut from the lower side space s <b> 1 by the edge cutting plate 53. In particular, since the edge cutting plate 53 is abutted against the lower electrode unit 20, the edge cutting can be reliably performed. Therefore, the atmosphere of the space s1 is not caught in the flow of the processing gas and does not flow into the processing space 1a. In addition, since the workpiece W and the edge cutting plate 53 are as close as possible and the gap between them is very small, the air in this gap flows into the processing gas blow-off flow when the tip of the workpiece W approaches just below the blowout hole 16c. It is not drawn into. As a result, the processing space 1a can be filled with a high-purity processing gas. And when the front-end | tip part along the feed direction of the workpiece | work W enters into the process space 1a, this work front-end | tip part can be reliably plasma-cleaned reliably.
After the tip of the workpiece W enters the processing space, the upper side and the lower side are separated by the workpiece W, so that the processing gas purity in the processing space 1a can be maintained high, and the plasma cleaning is maintained in good condition. it can.
[0034]
Further, in the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1, the closing member 54 prevents the atmosphere outside the left and right end portions between the gas blowing unit 16 and the edge cutting plate 53 from being caught in the processing gas blowing flow. it can. Accordingly, it is possible to reliably and satisfactorily perform plasma cleaning on both the left and right side portions of the workpiece W, particularly the left and right sides.
Furthermore, by blowing out curtain gas from the blow holes 16f, a gas curtain can be formed on the front side of the process gas flow. Accordingly, it is possible to prevent the atmosphere above the edge cutting plate 53 or the workpiece W from being caught in the processing gas blowing flow between the gas blowing unit 16 and the edge cutting plate 53 or the workpiece W. Therefore, plasma cleaning can be performed more satisfactorily.
[0035]
In the atmospheric pressure plasma processing apparatus M1, the feed direction of the workpiece W and the flow direction of the processing gas coincide with each other, and are not opposed or orthogonal, for example. Therefore, the gas state does not become irregular along the width direction of the workpiece W (the direction orthogonal to the feed direction), and processing unevenness can be reliably prevented. As a result, the plasma surface treatment can be performed more reliably and reliably.
[0036]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
For example, the “plate shape” of the workpiece shape includes a sheet shape or a film shape.
The pair of electrodes is not limited to the case where the electrodes are opposed to each other in the vertical direction, and may be opposed horizontally or obliquely.
The flow direction of the processing gas and the feed direction of the workpiece may be opposed to each other or may intersect (orthogonal).
The present invention is applied not only to glow discharge but also to plasma processing by corona discharge or creeping discharge, and is widely applied not only to cleaning but also to various plasma processing such as film formation, surface modification, ashing, and etching.
[0037]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the surrounding atmosphere from being entrained in the blowing flow of the processing gas and flowing into the processing space, and to perform a good plasma surface treatment.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a normal pressure plasma processing apparatus according to an embodiment of the present invention cut back and forth.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the upper and lower electrode units of the atmospheric pressure plasma processing apparatus cut to the left and right.
FIG. 3 is a bottom view of an upper electrode unit, a gas blowing unit, and a suction unit of the atmospheric pressure plasma processing apparatus.
FIG. 4 is a plan view of an upper electrode unit and a workpiece feeding mechanism of the atmospheric pressure plasma processing apparatus.
FIG. 5 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing the upper and lower electrode units separately.
[Explanation of symbols]
M1 Normal pressure plasma processing apparatus 1a Normal pressure plasma processing space 10 Upper electrode unit (one electrode unit)
16 gas blowing unit 16x processing gas introduction path (processing gas blowing means)
16y Curtain gas introduction path (curtain gas blowing means)
20 Lower electrode unit (the other electrode unit)
50 Work feed mechanism 51 Shaft member (Rotating shaft)
52 Roller 53 Edge cutting plate (Edge cutting member)
53a Insertion hole 54 Closing member g1 Curtain gas outlet shaft W

Claims

Faces the upper side and the lower side, a pair of electrode units forming the normal pressure plasma treatment space substantially, the plate-shaped workpiece in a posture orthogonal to the opposing direction of each other the electrode unit while towards the plasma processing space a work feeding mechanism sending Te, and a processing gas blowing means for blowing the processed gas from the side of the electrode unit of the upper side toward the processing space, the said work feeding mechanism, below the plane of movement of the workpiece The edge cutting member is provided with an edge cutting member that cuts off the atmosphere of the processing gas from the blowing flow of the processing gas, and the edge cutting member has a plate-like shape arranged along the workpiece moving plane from below , and its end surface is the lower electrode unit. of which abuts on the side surface, the workpiece feeding mechanism has a roller which arranged rotating shaft on the lower side of the edge cutting member, the roller is, the upper through the insertion hole formed in the edge cutting member Atmospheric plasma processing apparatus characterized by being crab projected.

Substantially a pair of upper and lower electrode unit for forming a normal pressure plasma processing space between a workpiece feeding mechanism for sending to the plate-shaped workpiece in a horizontal posture toward the plasma processing space, the work of the upper electrode unit a processing gas And a processing gas blowing means for blowing out toward the processing space from the near side along the feeding direction, and the work feeding mechanism blows out the atmosphere below the plane on which the workpiece moves. An edge cutting member is provided for cutting off from the flow, and the edge cutting member has a plate shape arranged along the workpiece moving plane from below, and its end surface abuts against the front surface of the lower electrode unit. The workpiece feeding mechanism has a roller having a rotating shaft disposed on the lower side of the edge cutting member, and this roller is slightly protruded upward through an insertion hole formed in the edge cutting member. Atmospheric plasma processing apparatus characterized by there.

At both end portions of the space between the processing gas blowing means and the edge cutting member, which are orthogonal to the end portion connected to the processing space, a closing member for closing the gap is sandwiched between the processing gas blowing means and the edge cutting member. the plasma processing apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that are provided.

The curtain gas blowing means is provided on the opposite side of the one electrode unit across the processing gas blowing means, and the edge cutting member crosses the curtain gas blowing shaft. The plasma processing apparatus according to any one of 1 to 3 .