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JP4190763B2 - Conductive adhesive sheet having anisotropy and method for producing the same - Google Patents
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JP4190763B2 - Conductive adhesive sheet having anisotropy and method for producing the same - Google Patents

Conductive adhesive sheet having anisotropy and method for producing the same Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シート面内に分散配置された導電性微粒子により、シートの厚さ方向のみに導電性を付与する導電性接着シート、およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、液晶ディスプレイの配線とフレキシブル基板との接続や、集積回路部品の基板への高密度実装等の際に、厚さ方向のみに導電性を付与する導電性接着シートが使用されている。従来の導電性接着シートの一例を図15に示す。この例では、接着剤層からなるシート20内に導電性微粒子4がランダムに分散配置されている。このシートには以下の問題点がある。
【0003】
近年、接続される配線パターンやランドパターンの寸法は益々微細化されている。接続されるパターンの寸法が小さくなると、導電性微粒子がランダムに分散配置されているシートでは、図15(b)に示すように、接続されるパターンが導電性微粒子の存在しない位置Aに配置される確率が高くなる。その結果、接続されるパターン間が電気的に接続されない恐れがある。
【0004】
この問題点を解決するためには、より小さな導電性微粒子を高密度でシート内に分散させることが有効であるが、導電性微粒子の寸法を小さくすると、図16(a)に示すように、接続パターンP1,P2の基板B1,B2の面からの突出高さのバラツキを吸収できないという問題点がある。また、シート20内での導電性粒子4の密度を高くすると、図16(b)に示すように、パターンP1,P2がファインピッチで配列されている場合に、隣り合うパターン間にショート(短絡)が生じる確率が高くなる。すなわち、これらの方法では、導電性微粒子がランダムに分散配置されている導電性接着シートの接続信頼性が改善されない。
【0005】
一方、特開平5−67480号公報および特開平10−256701号公報には、シート内に導電性微粒子を所定配置で分散させることが記載されている。
特開平5−67480号公報に記載されている方法では、導電性微粒子をシート(接着剤層)に分散させる前に帯電させ、導電性微粒子間の反発力を利用して導電性微粒子をシート内に均一に分散させている。また、導電性微粒子と支持体の各位置を異なる電荷で帯電させ、支持体上に所定配置で導電性微粒子を配置させた後に、この配置を保持した状態で導電性微粒子を接着剤層に転写することが記載されている。
【0006】
しかしながら、この方法では、帯電した導電性微粒子同士の反発力によって配置を保持するため、シート面内で隣り合う導電性微粒子間の距離を20μm以下まで接近させることは不可能である。
特開平10−256701号公報には、磁性を有する導電性粒子を使用して、ゴム材料と導電性粒子とからなる組成物をシート状に形成し、このシート状物の厚さ方向に磁場をかけて導電性粒子を配向させ、この状態でゴムを硬化させることが記載されている。
【0007】
しかしながら、この方法には以下の問題点がある。磁場を極めて狭い領域に集中させることが困難であるため、シート面内で隣り合う導電性微粒子間の距離を20μm以下まで接近させることができない。導電性粒子がゴムシートの厚さ方向で重なって配列される場合がある。導電性粒子を規則的に(隣り合う粒子間に所定間隔を保持しながら)配置することが困難である。使用できる導電性粒子が磁性体に限られる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような従来技術の問題点に着目してなされたものであり、シート面内に分散配置された導電性微粒子により、シートの厚さ方向のみに導電性を付与する導電性接着シートにおいて、導電性微粒子がシート面内に、規則的に且つ高密度で(隣り合う導電性微粒子間の距離が20μm以下となるように)配置された導電性接着シートを提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、シート面内に分散配置された導電性微粒子により、シートの厚さ方向のみに導電性を付与する導電性接着シートにおいて、厚さ方向の中央に配置したコアフィルムの両面に接着剤層が配置され、前記コアフィルムおよび接着剤層は絶縁性であり、コアフィルムには厚さ方向に貫通する貫通孔がフィルム面内に所定配置で複数個形成され、当該貫通孔に導電性微粒子が配置されていることを特徴とする異方性を有する導電性接着シートを提供する。
【0010】
本発明の導電性接着シートにおいて、導電性微粒子の平均粒子径は0.5μm以上50μm以下であり、導電性微粒子の粒子径分布の標準偏差は平均粒子径の50%以下であり、コアフィルムの厚さは0.5μm以上50μm以下であり、接着剤層の厚さは1μm以上50μm以下であり、貫通孔の大きさは導電性微粒子の平均粒子径の1倍以上1.5倍以下であることが好ましい。
【0011】
本発明の導電性接着シートにおいて、導電性微粒子は、銅、金、銀、ニッケル、パラジウム、インジウム、錫、鉛、亜鉛、またはビスマス、またはこれらいずれかの金属の合金、または炭素からなる微粒子、あるいは表面に金属被覆を有する微粒子であることが好ましい。
本発明はまた、本発明の導電性接着シートにおいて、コアフィルムの両面に配置された接着剤層の少なくとも一方は、軟化温度の差が20℃以上である二種類の接着剤層が、軟化温度の高い方をコアフィルム面側に配置して積層されたものを提供する。
【0012】
本発明はまた、本発明の導電性接着シートを製造する第1の方法として、支持体の上に形成された第1の接着剤層の上に、コアフィルムをなす感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィで感光性樹脂層をパターニングすることにより、コアフィルムに所定の配置で貫通孔を形成し、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの上に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法を提供する。
【0013】
本発明はまた、本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法として、貫通孔を有するコアフィルムの一方の面に第1の接着剤層を形成し、次いで、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの他方の面に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法を提供する。
この第2の方法において、貫通孔を有するコアフィルムを形成する方法としては、▲1▼コアフィルムにレーザ照射(レーザ照射により、熱でコアフィルムを溶解させる、あるいはコアフィルムをなすポリマー分子鎖を切断する:レーザアブレーション)を行う方法、▲2▼貫通孔の配置に対応させた突起を有する雄型と、前記突起を受ける凹部を有する雌型とからなるプレス用金型を用いて、コアフィルムをプレスで打ち抜く方法を採用することが好ましい。
【0014】
本発明はまた、本発明の導電性接着シートを製造する第3の方法として、導電性基板の上に、貫通孔を有するコアフィルムを形成し、次いで、前記貫通孔に電解めっき法により導電性微粒子を成長させた後、コアフィルムの導電性基板とは反対側の面に、第1の接着剤層を形成するとともに、導電性基板を除去して、この導電性基板が除去されたコアフィルムの面に、第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法を提供する。
【0015】
本発明はまた、本発明の導電性接着シートを製造する第4の方法として、一方の面に第1の接着剤層が形成されたコアフィルムを用意し、このコアフィルムの他方の面側からレーザ照射を行うことにより、このコアフィルムに貫通孔を形成し、次いで、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの他方の面に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法を提供する。
【0016】
この第4の方法において、コアフィルムにレーザ照射により貫通孔を形成する際に、第1の接着剤層に貫通孔を開けないようにする必要がある。
この方法で使用するレーザ光としては、炭酸ガスレーザ、YAGレーザの基本波等のように、赤外線領域に発振波長を持つもの、YAGレーザの第3、第4高調波や、エキシマレーザ等のように、紫外線あるいは真空紫外線領域の光を照射できるものが挙げられる。例えば、YAGレーザの第3、第4高調波あるいはエキシマレーザを用いることにより、直径20μm以下の微小な貫通孔を容易に形成することができる。
【0017】
特に、微小ビームで加工できるYAGレーザでは、ビーム形状をテーパ状にすることによって貫通孔をテーパ状にすることができる。これにより、導電性微粒子をテーパ状貫通孔の窄まった部分で保持して、第1の接着剤層にはみ出さないようにすることもできる。
[コアフィルムについて]
本発明で用いるコアフィルムの材料は特に限定されず、種々のエンジニアリングプラスチックを用いることができる。例えは、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、などである。
【0018】
また、コアフィルムとしては寸法安定性の良いものが好ましい。そのため、コアフィルムの材料としては、ポリマー骨格として、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン等の芳香族系の骨格あるいはシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、ビシクロヘキセン、アダマンタン等の脂環式系骨格等を含むポリマーを使用することが好ましい。
【0019】
コアフィルムとしては、熱可塑性樹脂または加熱により軟化した後に硬化する成分を含有した熱硬化性樹脂を用いることもできる。熱により軟化するコアフィルムを用いる場合には、コアフィルムの軟化温度を接着剤層の軟化温度よりも20℃以上高くする。この軟化温度の差は50℃以上であることが好ましく、80℃以上であることがさらに好ましい。
【0020】
ここで、コアフィルムおよび接着剤層の軟化温度とは、コアフィルムをなす樹脂および接着剤層をなす接着剤の温度を室温から上昇させた際に粘性率が大きく低下する(粘性率曲線の傾きが変化する)最初の温度を意味する。この軟化温度は、例えばレオメーター等の粘弾性測定装置を用いて、前記樹脂および接着剤の温度を室温から一定速度で上昇させながら、粘性率を測定することによって調べることができる。
【0021】
本発明の導電性接着シートを第1の方法で作製する場合には、コアフィルムの材料として感光性樹脂を用いる。本発明の導電性接着シートを第2の方法および第3の方法で作製する場合にも、コアフィルムの材料として感光性樹脂を用いることができる。第2の方法でコアフィルムの材料として感光性樹脂を用いる場合には、剥離性を有する基板面に感光性樹脂層を形成し、フォトリソグラフィで感光性樹脂層をパターニングすることで貫通孔を形成した後に基板を除去することによって、貫通孔を有するコアフィルムを得ることができる。
【0022】
コアフィルムの材料とする感光性樹脂としては、例えば、光重合性ポリイミド樹脂、光重合性エポキシ樹脂、光重合性ポリエステル樹脂などが有用である。また、本発明の導電性接着シートでは、感光性樹脂層に微小な導電性微粒子を微小なピッチで配列させるために、微小な貫通孔を微小なピッチで形成する必要がある。そのため、線幅が数μm以下のパターンが形成可能な、解像度の極めて高い感光性樹脂を用いる必要がある。
【0023】
コアフィルムの厚さは、用いる導電性微粒子の大きさに大きく依存する。すなわち、本発明の導電性接着シートは、使用時に、コアフィルムを変形させずに、接続する両パターンに導電性微粒子を接触させる必要があるため、コアフィルムの厚さは、導電性接着シートの導電性微粒子の平均粒子径と同じかそれより小さい寸法にする必要がある。例えば、用いる導電性微粒子の平均粒子径が0.5〜50μmの場合、コアフィルムの厚さは0.5μm〜50μmとする。コアフィルムの厚さが50μmを越えると、用いる粒子も平均粒子径が50μmを超える大きさにする必要があるため、ファインパターンの接続には不向きとなる。
【0024】
また、接着剤層との密着性を向上させる目的で、フィルム内に直径1μm以下の細孔がランダムに配置されているスポンジ状の微多孔性フィルムを、コアフィルムとして使用することもできる。この微多孔性フィルムをコアフィルムとして使用すれば、接着剤がこの微多孔性フィルムの細孔に入るアンカー効果により、コアフィルムと接着剤層との接着強度の向上が期待できる。
【0025】
コアフィルムに形成する貫通孔の大きさは、用いる導電性微粒子の大きさに依存するが、導電性粒子の平均粒子径の1〜1.5倍とする。貫通孔の配列については、接続パターンの配列ピッチや配線幅に依存するが、配列ピッチの0.3倍〜1倍の間隔で貫通孔を配列することが好ましい。また、接続する部分のパターンにのみ貫通孔を形成することも可能である。ただし、この場合には、接続パターンと接続部品との位置合わせが必要となる。
[導電性微粒子について]
本発明で使用する導電性微粒子の大きさは、平均粒子径が0.5μmから50μm、好ましくは1μmから20μm、更に好ましくは2μmから10μmとする。導電性微粒子の平均粒子径が0.5μm未満であると、接続パターンの高さのバラツキを吸収できない場合がある。また、50μmを越える大きさでは、ファインパターンの接続には不向きとなる。
【0026】
本発明で使用する導電性微粒子の形状は、特に球形である必要はなく、多面体、球形粒子に多数の突起状物があるものでも構わない。ただし、扁平状のものは貫通孔に入れ難いので好ましくない。圧縮時に潰れやすい、変形し易い導電性微粒子は、接続パターンとの接触面積を大きくでき、接続パターンの高さのバラツキを吸収できるため好ましい。
【0027】
前述の本発明の導電性接着シートを製造する第3の方法では、コアフィルムの貫通孔に、電解めっき法により導電性微粒子を成長させるが、その際に、以下の方法で、導電性微粒子を圧縮時に潰れ易い形状および構造にすることができる。電解めっきの電流密度を調整して、導電性微粒子の先端を丸くあるいは突起状にする。あるいは、電解めっき時およびその後の処理により、導電性微粒子を多孔質化する。
【0028】
また、前記第3の方法で、貫通孔を有するコアフィルムを導電性基板の上に形成する際に、導電性基板の上に感光性樹脂層を形成してこの感光性樹脂層にフォトリソグラフィで貫通孔を形成する方法を採用した場合には、以下の方法で、導電性微粒子内に孔を形成することができる。
先ず、ネガ型の感光性樹脂組成物中に、現像液に溶解(あるいは分散)しにくい有機化合物を混合し、この組成物による感光性樹脂層を形成する。次に、この感光性樹脂層に、貫通孔に対応する部分が遮光部となっているマスクを用いた露光を行って、貫通孔の部分に前記樹脂組成物をそのまま残存させる。この状態で現像および電解めっきを行う。この際、貫通孔内に有機化合物が存在するため、導電性微粒子はこの有機化合物を含有した状態で成長する。次に、導電性微粒子中の有機物を溶解あるいは焼成工程によって除去する。これにより、内部に多数の孔を有する導電性微粒子が貫通孔内に形成される。
【0029】
また、電解めっきのめっき浴中に有機物を混合しておき、金属が析出する過程で金属中に有機物を取り込ませる複合めっき法などの処理を行った後、導電性微粒子内に取り込まれた有機物を溶解あるいは焼成工程で除去する方法によっても、導電性微粒子内に孔を形成することができる。
本発明で使用する導電性微粒子の粒子径分布は、標準偏差が平均粒子径の50%以下となるようにする。好ましくは標準偏差が平均粒子径の20%以下となるように、更に好ましくは10%以下となるようにする。導電性微粒子の粒子径分布が標準偏差が平均粒子径の50%を越えて広く分布すると、粒子径の小さな導電性微粒子により貫通孔に詰まりが発生したり、貫通孔以外の場所に存在する不要な小さな導電性微粒子を取り除くことが難しくなる。また、接続パターンの高さばらつきを吸収することが難しくなる。そのため、接続パターン間の電気的な接続信頼性の低下につながる。また、一つの貫通孔に一つの導電性微粒子が入っていることが好ましい。
【0030】
導電性微粒子の分級方法としては通常の方法、例えばサイクロン、クラシクロン等の遠心分級機、重力分級機、慣性分級機、気流分級機、あるいはふるい分けによる分級機等を用いることができる。粒子径が10μm以下の微細な導電性微粒子を分級して粒子径分布の狭い導電性微粒子を得るためには、先ず、気流分級機で粗い分級を行った後、精密ふるいで分級することが好ましい。なお、精密ふるいによる分級を空気中で行うと、ふるい孔に導電性微粒子が詰まることがあるため、精密ふるいに超音波振動を加えたり、超音波振動させた液体中で分級を行ったりすることが好ましい。
[接着剤層について]
本発明の導電性接着シートを構成する接着剤層をなす接着剤としては、例えば、熱硬化性接着剤、熱可塑性接着剤あるいは感圧接着剤等を好適に使用することができる。特に、マイクロカプセル中に硬化剤を含有する化合物を閉じ込め、圧力あるいは熱によりマイクロカプセルが潰れることにより硬化が開始するいわゆる潜在性硬化剤を含有するタイプの接着剤を使用することが好ましい。
【0031】
また、この接着剤層の材質としては、例えば、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、尿素樹脂、アミノ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、フラン樹脂、イソシアネート樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等を挙げることができる。特に、寸法安定性、耐熱性等の観点からは、使用する接着剤を構成する樹脂が、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、ビフェニル、フェニレンエーテル等の芳香族化合物やシクロヘキサン、シクロヘキセン、ビシクロオクタン、ビシクロオクテン、アダマンタン等の脂肪族環状化合物の骨格を分子鎖中に有する化合物からなることが好ましい。
【0032】
また、溶剤に可溶な樹脂からなる接着剤を使用すれば、接着剤を溶剤に溶かした状態で支持体上に塗布した後に乾燥することによって、接着剤層を得ることができる。この乾燥(溶媒除去)後の接着剤層の厚さを1μm〜50μmに、好ましくは5μm〜20μmとする。1μm未満の厚さでは、接着後の密着強度を得ることが難しい。接着剤層の厚さが50μmを越えると、接着剤の量が多すぎて、導電性微粒子と接続パターンとの間を電気的に接続し難くなる。
【0033】
本発明の導電性接着シートでは、コアフィルムの両面に接着剤層(コアフィルムの一方の面側の接着剤層:第1の接着剤層と、他方の面側の接着剤層:第2の接着剤層)が形成されているが、これらの接着剤層は組成の同じものであっても異なるものであっても構わない。また、第1および第2の接着剤層は、それぞれ機能の異なる複数の接着剤層が積層されたものであってもかまわない。
【0034】
本発明の導電性接着シートにおいて、第1の接着剤層および/または第2の接着剤層を、軟化温度の差が20℃以上である二種類の接着剤層が、軟化温度の高い方をコアフィルム面側に配置して積層されたものとすることにより、導電性接着シートを加熱圧縮して使用する際に、導電性微粒子がコアフィルムの貫通孔から外れて、シート面内の所定位置からずれた位置に移動することを防止できる。
【0035】
例えば、本発明の導電性接着シートを、隣接するパターンの間隔が10μm以下と狭い基板の接続に使用する場合、導電性微粒子がシート面内の所定位置からずれた位置に移動すると、ショートの原因になることがある。このような場合に前記二層構造の接着剤層を有する導電性接着シートを使用すると、ショートを確実に防ぐことができるようになるため好ましい。前記軟化温度の差は50℃以上であることが好ましく、80℃以上であることが更に好ましい。
【0036】
なお、コアフィルムにテーパ状の貫通孔を、導電性微粒子がテーパ状貫通孔の窄まった部分(開口寸法の小さい部分)で保持される寸法で設けた場合には、テーパ状貫通孔の開口寸法の大きい側のコアフィルム面に接着する接着剤層のみを前記二層構造にすればよい。
本発明の導電性接着シートが製造工程において酸性水溶液や水などに曝される場合には、水系処理液で変質や反応が生じない接着剤層を使用する必要がある。また、粘着性あるいはタック性を有する接着剤層を使用することによって、本発明の導電性接着シートを被接続物に対して仮止め可能とすることができる。
【0037】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
本発明の導電性接着シートの一実施形態について、図1を用いて説明する。
この導電性接着シートは、厚さ方向の中央に配置したコアフィルム1と、コアフィルム1の両面に配置された接着剤層2,3と、球状の導電性微粒子4とで構成されている。コアフィルム1はポリイミド樹脂または不飽和ポリエステル樹脂からなり、厚さは4μmである。接着剤層2,3は、潜在性硬化剤を含有するエポキシ系の熱硬化型接着剤からなり、厚さは12μmである。導電性微粒子4は、銅と銀との合金からなる粉末であって、平均粒径が6μm、粒子径分布の標準偏差が1.5μmである。
【0038】
コアフィルム1には、厚さ方向に貫通する貫通孔10が、フィルム面内に多数個、規則的に配置されている。この実施形態では、図1(b)に示すように、フィルム面内の格子点(格子の縦線と横線との交点)の位置および単位格子の面心位置に、貫通孔10が配置されている。縦線に沿って隣り合う格子点の間隔は15μmであり、横線に沿って隣り合う格子点の間隔は15μmである。貫通孔10の平面形状(フィルム面に沿った断面形状)は円形であり、この円の直径は8μm(導電性微粒子4の平均粒径の1.33倍)である。また、コアフィルム1の全ての貫通孔10内に、各1個の導電性微粒子4が配置されている。
【0039】
この導電性接着シートは、使用時に、接続する基板間に挟んで加圧する。これにより、接着剤層2,3を変形させて、接続する両パターンに導電性微粒子4を接触させる。この時、コアフィルム1によって、シート面内での導電性微粒子4の配置が固定される。また、この導電性接着シートでは、上述のように、導電性微粒子4がシート面内に、規則的に且つ高密度で(隣り合う導電性微粒子間の距離が20μm以下となるように)配置されている。
【0040】
したがって、この実施形態の導電性接着シートによれば、接続するパターンの寸法が小さい場合や、ファインピッチで配列されているパターンを接続する場合でも、信頼性の高い接続を行うことができる。特に、貫通孔10のピッチおよび大きさを、接続するパターンの配列ピッチおよび配線幅に対応させて設定することにより、接続するパターンが導電性微粒子4の存在しない位置(図15に符号Aで表示)に配置される、という恐れがなくなる。
【0041】
なお、この実施形態の導電性接着シートによれば、導電性微粒子が規則的に配置されているため、ランダムに配置されている場合のように導電性微粒子を極端に小さく(例えば、直径2μm以下に)しなくても、接続するパターンが導電性微粒子の存在しない位置(図15に符号Aで表示)に配置される確率が原理的にはゼロになる。したがって、この実施形態の導電性接着シートは、導電性微粒子をある程度の大きさにすることによって、導電性微粒子がランダムに配置されている導電性接着シートよりも、接続パターンの基板面からの突出高さのバラツキを吸収し易くなる。
【0042】
図1(c)に、コアフィルム1の面内での貫通孔10の配置が上記とは異なる導電性接着シートを示す。この例では、貫通孔10がフィルム面内の格子点の位置に配置されている。これらの全ての貫通孔10内に、各1個の導電性微粒子4が配置されている。
本発明の導電性接着シートを製造する第1の方法の実施形態について、図2を用いて説明する。
【0043】
先ず、プラスチックフィルム等からなる支持体5の上に、接着剤溶液(接着剤を溶剤に溶かした液体)を所定の厚さで塗布した後、溶剤を乾燥除去することにより、第1の接着剤層2を形成する。接着剤溶液の塗布方法としては、通常の方法、例えば、ブレードコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコート法などが採用できる。
【0044】
次に、第1の接着剤層2の上に、液状のネガ型感光性樹脂を塗布し、溶剤を含む感光性樹脂の場合には溶剤を乾燥させることによって、コアフィルム1をなす感光性樹脂層11を形成する。
次に、フォトリソグラフィでこの感光性樹脂層11をパターニングする。すなわち、図2(a)に示すように、先ず、コアフィルム1に形成する貫通孔10に対応させた(形状とシート面内での配置)光遮蔽部を有する露光マスクMを、ネガ型の感光性樹脂層11の上方に配置し、この露光マスクMの上から高エネルギー光を照射する。次に、所定の現像処理を行うことによって、感光性樹脂層11の光が当たらなかった部分を除去する。
【0045】
この実施形態では、ネガ型感光性樹脂の重合度を高くして不溶化することができる高エネルギー光を照射するが、その光源としては、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプなどが挙げられる。孔径が20μm以下の微細なパターンを形成するためには、平行光線を照射することが好ましい。なお、ポジ型感光性樹脂を使用する場合には、貫通孔10に対応させた光照射部を有する露光マスクを用いる。この場合には、前述の光源を使用する方法以外に、シンクロトロン軌道放射光から取り出したX線、あるいは電子線等を照射することで、光照射部のポリマー鎖の結合を切断する方法が採用できる。
【0046】
これにより、感光性樹脂層11に所定の配置で貫通孔10が形成される。その結果、所定配置の貫通孔10を有するコアフィルム1が、第1接着剤層2の上に形成される。図2(b)はこの状態を示す。
次に、この状態でコアフィルム1の上方から、多数の導電性微粒子4からなる粉末を散布した後、支持体5と第1の接着剤層2とコアフィルム1とからなるシート全体を振動させることにより、コアフィルム1の貫通孔10内に導電性微粒子4を入れる。また、図2(c)に示すように、貫通孔10内に入らず、コアフィルム1の上面に存在する導電性微粒子4aは、接着剤の付いたフィルムなどで押し当てることによって除去する。
【0047】
シート全体を振動させることで、全ての貫通孔10に導電性微粒子4が入り易くなる。また、導電性微粒子の入った容器内にシート全体を複数回くぐらせることによって、コアフィルム1の貫通孔10内に導電性微粒子4を入れてもよい。
次に、コアフィルム1の上に接着剤溶液を所定の厚さで塗布した後、溶剤を乾燥除去することにより、コアフィルム1の上に第2の接着剤層3を形成する。さらに、この第2の接着剤層3の上にカバーフィルム6を被覆する。これにより、導電性接着シートが、図2(d)に示すように、一方の面に支持体5が、他方の面にカバーフィルム6がそれぞれ接合された状態で得られる。
【0048】
これに代えて、接着剤層3が形成されたカバーフィルム6を、接着剤層3をコアフィルム1側に向けて、コアフィルム1の上に置いて加熱することにより、図2(d)の状態としてもよい。ただし、この場合の加熱温度は、接着剤層3をなす接着剤が硬化しない温度とする必要がある。
なお、導電性接着シートは、支持体5とカバーフィルム6を剥離した状態で使用される。そのため、支持体5の第1の接着剤層2を形成する面と、カバーフィルム6の第2の接着剤層3側となる面に、シリコン系等の剥離剤を塗布しておくことが好ましい。
【0049】
以上説明したように、この第1の方法によれば、フォトリソグラフィを採用することによって、コアフィルム1に直径20μm以下の微小な貫通孔10を容易に形成することができる。
本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法の実施形態について、図3〜6を用いて説明する。
【0050】
先ず、支持体5の上に接着剤溶液を所定の厚さで塗布した後、乾燥することによって、支持体5の上に第1の接着剤層2を形成する。図3(a)はこの状態を示す。この第1の接着剤層2の上に、図3(b)に示すような、貫通孔10を有するコアフィルム1を接合する。図3(c)はこの状態を示す。この接合は、第1の接着剤層2の上にコアフィルム1を載せて加熱することで行う。この加熱温度は、接着剤層2をなす接着剤が硬化しない温度とする。
【0051】
次に、第1の方法と同じ方法で、導電性微粒子4をコアフィルム1の貫通孔10内に充填する。次に、第1の方法と同じ方法で、コアフィルム1上への第2の接着剤層3の形成およびカバーフィルム6の被覆を行う。これにより、導電性接着シートが、図3(d)に示すように、一方の面に支持体5が、他方の面にカバーフィルム6がそれぞれ接合された状態で得られる。
【0052】
この第2の方法において、図3(b)に示すような、貫通孔10を有するコアフィルム1を形成する方法としては、▲1▼図4に示すように、コアフィルム1にレーザ照射を行う方法と、▲2▼図5に示すように、プレス用金型90,170を用いてコアフィルム1をプレスで打ち抜く方法を採用することが好ましい。
▲1▼の方法の実施形態としては、先ず、図4(a)に示すように、コアフィルム1に形成する貫通孔10に対応させた開口部K1を有する金属マスクKを、支持体5の上に固定したポリイミド樹脂からなるコアフィルム1の上方に配置し、このマスクKの上からエキシマレーザを照射する。これにより、コアフィルム1のエキシマレーザが照射された部分が除去されて、貫通孔10が形成される。図4(b)はこの状態を示す。次に、コアフィルム1から支持体5を除去する。
【0053】
▲2▼の方法では、先ず、プレス用金型を作製する。この作製方法の実施形態について図6を用いて説明する。
先ず、アルミニウム板やステンレス板等の導電性基板7を用意し、その表面に亜鉛置換めっき処理を施して、厚さ200μm程度のメッキ層を形成する。このメッキ層の上に、前述の感光性樹脂層11の形成方法と同じ方法で、ネガ型の感光性樹脂層8を形成する。
【0054】
次に、コアフィルム1の貫通孔10に対応させた光遮蔽部を有する露光マスクMを用意し、この露光マスクMを感光性樹脂層8の上方に配置する。この露光マスクMの上から高エネルギー光の平行光を照射する。平行光は、光源からの光をフライアイレンズと数枚の反射鏡で加工することによって得られる。図6(a)はこの状態を示す。
【0055】
次に、所定の現像処理を行うことによって、感光性樹脂層8の光が当たらなかった部分を除去する。これにより、コアフィルム1の貫通孔10に対応する貫通孔81が感光性樹脂層8に形成される。図6(b)はこの状態を示す。
次に、めっき前処理として、この導電性基板7と感光性樹脂層8とからなる板状物の表面を、反応性イオンエッチング等で清浄化する。すなわち、現像後にこの板状物に残存する現像残査を完全に除去する。
【0056】
次に、この導電性基板7と感光性樹脂層8とからなる板状物をめっき浴内に入れて、導電性基板7に通電することにより、リンを含有するニッケルの電解めっきを行う。これにより、感光性樹脂層8の上と貫通孔81内にメッキ層9を形成する。この状態を図6(c)に示す。メッキ層9の厚さは、プレス用金型として必要な強度を発揮できる厚さとする。例えば、貫通孔81の深さの50倍程度とする。
【0057】
次に、導電性基板7と感光性樹脂層8とメッキ層9とからなる板状物から、導電性基板7を、エッチング法であるいは物理的に剥離することによって除去する。次に、メッキ層9から感光性樹脂層8を剥離する。このメッキ層9が、図6(d)に示すように、コアフィルム1の貫通孔10の配置に対応させた突起91を有する雄型90となる。
【0058】
次に、電解ニッケルめっきの代わりに電解銅めっきを行うことを除いて、この雄型90の形成方法と同じ方法を実施することにより、雄型90と同じ形状の銅製の型15を作製する。すなわち、この型15は、コアフィルム1の貫通孔10の配置に対応させた突起15aを有する。次に、この型15の突起15a側の面に、リンを含有するニッケルの電解めっきを行ってメッキ層17を形成する。この状態を図6(e)に示す。メッキ層17の厚さは、プレス用金型として必要な強度を発揮できる厚さとする。例えば、突起15aの突出長さの50倍程度とする。
【0059】
次に、銅製の型15を、過硫酸アンモニウム、塩化第二鉄塩酸水溶液、または塩化第二銅水溶液等の銅を溶解する溶液を用いてエッチングすることにより、メッキ層17から除去する。このメッキ層17が、図6(f)に示すように、雄型90の突起91を受ける凹部171を有する雌型170となる。
このようにして得られた雄型90と雌型170とをプレス装置に装着し、雄型90の突起91と雌型170の凹部171が正確に噛み合うように、上下両側のパターンを同時に観察できるCCDカメラで見ながら、少なくとも2カ所で位置合わせを行う。次に、図5に示すように、雄型90と雌型170との間にコアフィルム1を設置してプレスすることにより、コアフィルムの突起91と凹部171とで挟まれた部分に貫通孔が形成される。このプレス装置としては、LSIベアチップを反転して基板へ実装するときに用いられるフリップチップボンダー等を改造して使用することができる。
【0060】
以上説明したように、この第2の方法によれば、レーザ照射法または微細金型によるプレス加工法を採用することによって、コアフィルム1に直径20μm以下の微小な貫通孔10を容易に形成することができる。
なお、この実施形態では、本発明の第2の方法における、貫通孔10を有するコアフィルム1の一方の面に第1接着剤層2を形成する方法として、支持体5の上に形成された第1接着剤層2の上に、貫通孔10を有するコアフィルム1を接合する方法を採用しているが、これに代えて、例えば、貫通孔10を有するコアフィルム1の上に接着剤溶液を塗布・乾燥する方法を採用してもよい。
【0061】
この場合、コアフィルム上に第1の接着剤層を形成した後にコアフィルム側を上にして、貫通孔内に導電性微粒子を入れた後、このコアフィルムの上に第2の接着剤層を形成する。なお、第1の接着剤層の形成時に、コアフィルムの貫通孔内に接着剤が入った場合でも、この接着剤も第1の接着剤層と同様に未硬化状態に保持されるため、導電性微粒子を貫通孔に押し込むこと等によって、導電性微粒子を貫通孔内に入れることができる。
【0062】
本発明の導電性接着シートを製造する第3の方法の実施形態について、図7を用いて説明する。
先ず、図7(a)に示すように、導電性基板7の上に、第1の方法と同じ方法で、ネガ型の感光性樹脂層11の形成、感光性樹脂層11に対する露光マスクMを介した高エネルギー光の照射、および現像処理を行う。これにより、導電性基板7の上に、貫通孔10を有するコアフィルム1が形成される。図7(b)はこの状態を示す。
【0063】
次に、コアフィルム1の貫通孔10内に、電解めっき法により導電性微粒子4を成長させる。この実施形態では、電解めっき時の電流密度を調整することによって、図7(c)に示すように、導電性微粒子4を、貫通孔10の中央部でコアフィルム1から突出する高さで、しかも先端が丸くなるように成長させる。
次に、コアフィルム1の導電性基板7とは反対側の面に、第1の方法で第2の接着剤層3を形成した方法と同じ方法で、第1の接着剤層2を形成する。次に、この第1の接着剤層2の上にカバーフィルム6を被覆する。これに代えて、接着剤層2が形成されたカバーフィルム6を、接着剤層2をコアフィルム1側に向けて、コアフィルム1の上に置いて加熱することにより、図7(c)の状態としてもよい。ただし、この場合の加熱温度は、接着剤層2をなす接着剤が硬化しない温度とする必要がある。
【0064】
次に、導電性基板7を、エッチング法によりあるいは引き剥がすことにより除去する。図7(d)はこの状態を示す。
次に、導電性基板7が除去されたコアフィルム1の面に第2の接着剤層3を形成し、この第2の接着剤層3にカバーフィルム6を被覆する。このようにして、図7(e)に示すように、両面にカバーフィルム6が接合されている導電性接着シートが得られる。
【0065】
この第3の方法によれば、電解めっき法により貫通孔10内に導電性微粒子4を成長させるため、貫通孔10への導電性微粒子4の配置を容易に行うことができる。
【0066】
【実施例1】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第1の方法の実施例に相当する方法で導電性接着シートを作製する。この実施例を図2に基づいて説明する。
先ず、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意し、このPETフィルムの表面に、剥離剤としてポリジメチルシロキサンを約50nmの膜厚で被覆した。このPETフィルム(支持体)5の剥離剤が被覆された面に、熱可塑性ポリイミド溶液をブレードコーターを用いて塗布した。次に、この塗布膜から溶剤を乾燥除去することにより、PETフィルム5上に、厚さ10μmの熱可塑性ポリイミドからなる接着剤層(第1の接着剤層)2を形成した。
【0067】
熱可塑性ポリイミド溶液としては、宇部興産社製の熱可塑性ポリイミド溶液「UPA−N−111C」100重量部に対して、ペンタエリスリトールトリメタクリレートを1重量部の割合で添加して30分間混合し、泡が消えるまで放置したものを使用した。
この接着剤層2の上に、ブレードコーターを用いて液状のネガ型感光性樹脂を塗布することによって、感光性樹脂層11を厚さ4μmで形成した。この感光性樹脂層11の上に厚さ10μmのPETフィルムを載せた。
【0068】
使用した感光性樹脂は、数平均分子量が2000である不飽和ポリエステルプレポリマー:100重量部に、テトラエチレングリコールジメタクリレート:10.7重量部、ジエチレングリコールジメタクリレート:4.3重量部、ペンタエリスリトールトリメタクリレート:15重量部、リン酸(モノメタクリロイルオキシエチル):3.6重量部、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン:2重量部、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール:0.04重量部、およびオリヱント化学製「OPLASイエロー140」:0.11重量部を加えて、攪拌混合することにより得られたものである。
【0069】
数平均分子量が2000である不飽和ポリエステルプレポリマーは、アジピン酸、イソフタル酸、イタコン酸、フマル酸と、ジエチレングリコールとの仕込み比を調整し、脱水重縮合反応により得た。数平均分子量は、島津製作所社製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー装置を用いて測定し、ポリスチレン標準品で検量化した。
【0070】
この感光性樹脂は溶剤を含有しないが、前述の膜厚ではそのまま塗布することができる。ただし、2μm以下の膜厚で塗布する場合には、溶剤を加えて粘度を低くして使用することが好ましい。その場合には、塗布後に溶剤を乾燥させることによって感光性樹脂層が得られる。
次に、露光マスクMとして、直径8μmである円形のクロムパターンが、図1(b)に示す貫通孔10の配置と同じ配置で、格子点間隔が15μmピッチで、規則的に配列されているガラス製フォトマスクを用意した。この露光マスクMを感光性樹脂層11の上に配置し、この露光マスクMの上から超高圧水銀ランプの光を照射した。この照射光は、光源からの光を光学系で平行にした平行光線である。図2(a)はこの状態を示す。但し、この図では、厚さ10μmのPETカバーフィルムが省略されている。
【0071】
次に、PETカバーフィルムを剥離し、現像処理を行った。その結果、感光性樹脂層11の光の当たらなかった部分が除去されて、図2(b)に示すように、多数の貫通孔10を有するコアフィルム1が、熱可塑性ポリイミド接着剤層(第1の接着剤層)2の上に形成された。このコアフィルム1には、直径が8μmである円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されている。
【0072】
このコアフィルム1上に、多数の導電性微粒子4からなる粉末を散布した後、超音波振動装置を用いてシート全体に振動を与えることにより、全ての貫通孔10内に導電性微粒子4を入れた。次に、コアフィルム1の表面に、日東電工(株)製の粘着フィルム「SPV−363」を、ローラーを用いて張り付けた後に剥がすことによって、貫通孔10に入らず、コアフィルム1の上面に存在する導電性微粒子4aを取り除いた。
【0073】
導電性微粒子4からなる粉末としては、特開平6−223633号公報に記載された、組成がAgx Cu(1-x) (0.008≦x≦0.4)であって粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.2倍より高く、表面近傍で粒子表面に向かって銀濃度が増加する領域を有する球状の導電性粒子からなり、平均粒子径が6μm、粒子径分布の標準偏差が0.6μmである粉末を使用した。
【0074】
次に、図2(d)に示すように、一方の面にエポキシ接着剤からなる接着剤層(第2の接着剤層)3が形成されているPETフィルム6を、接着剤層3をコアフィルム1側に向けて、コアフィルム1の上に置いて加熱することにより接合した。
一方の面にエポキシ接着剤からなる接着剤層3が形成されているPETフィルム6は、以下のようにして作製した。先ず、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意し、このPETフィルムの表面に、剥離剤としてポリジメチルシロキサンを約50nmの膜厚で被覆した。このPETフィルム(カバーフィルム)6の剥離剤が被覆された面に、エポキシ接着剤溶液をブレードコーターを用いて塗布した。次に、この塗布膜から溶剤を乾燥除去することにより、PETフィルム6上に、厚さ10μmのエポキシ接着剤からなる層3を形成した。
【0075】
使用したエポキシ接着剤溶液の組成は、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂:10重量部、フェノキシ樹脂:10重量部、マイクロカプセル型のイミダゾール誘導体エポキシ化合物からなる潜在性硬化剤:4.5重量部、およびトルエン/酢酸エチル混合液:5重量部である。
以上のようにして、不飽和ポリエステル樹脂からなるコアフィルム1の一方の面に熱可塑性ポリイミドからなる接着剤層2が配置され、他方の面にエポキシ接着剤からなる接着剤層3が配置され、コアフィルム1には、直径8μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
図8および図9に示す試験用基板30,40,50を用意した。
【0076】
図8(a)は試験用基板30の一部を示す平面図であり、図8(b)は図8(a)のa−a線断面図である。
試験用基板30は、絶縁性基板31の上に、200本の配線32と、各配線32毎に独立に接続された検査用パッド35とを有する。配線32の幅Wは15μmであり、配列ピッチpは30μmであり、厚さhは15μmである。
【0077】
図9(a)は試験用基板40,50の一部を示す平面図であり、図9(b)は試験用基板40の断面図であり、図9(c)は試験用基板50の断面図である。図9(b)および図9(c)は図9(a)のb−b線断面図に相当する。
試験用基板40は、ガラス基板41の上に、直線状の配線パターン42と円形のダミーパターン43と検査用パッド44とを有する。ダミーパターン43は、試験用基板30の配線32に合わせて、配線パターン42の長さ方向に200個配列されている。これらのパターンは、ガラス基板41上に薄いクロム層を形成し、その上に銅めっきを施し、この銅メッキ層およびクロム層をパターニングすることで形成されている。
【0078】
配線パターン42の幅W1は15μmであり、ダミーパターン43の直径W2は15μm、配列ピッチp10は30μmである。配線パターン42とダミーパターン43の厚さ(銅メッキ層とクロム層との合計厚さ)は15μmである。
これらの試験用基板30,40は、使用時に、試験用基板30の全ての配線32が形成された部分と、試験用基板40の配線パターン42およびダミーパターン43が形成された部分とを重ねて、配線32と配線パターン42とが直交するように配置する。
【0079】
試験用基板50は、ガラス基板51の一方の面に、試験用基板40の配線パターン42およびダミーパターン43と全く同じパターンの凸部52が、エキシマレーザ加工により形成されたものである。
試験用基板30と試験用基板50は、使用時に、試験用基板30の全ての配線32が形成された部分と、試験用基板50の凸部52が形成された部分とを重ねて、配線パターン42に対応する凸部52と配線32とが直交するように配置する。
【0080】
これらの試験用基板30,40,50を用いて、以下の方法により導電性接着シートの性能評価を行った。
先ず、上述の方法で得られた導電性接着シートの両面からPETフィルム5,6を剥がして、この導電性接着シートを前記配置の試験用基板30,40間に挟み、50MPaの圧力をかけた状態で230℃に加熱して5分間保持した。その結果、導電性接着シートにより、試験用基板30と試験用基板40とが接着された。
【0081】
図10はこの状態を示す断面図であって、(a)は配線パターン42の部分の断面図を示し、(b)はダミーパターン43の部分の断面図を示す。これらの図は、配線パターン42と平行な線での断面図である。この接着時に、導電性接着シートのコアフィルム1とその両面の接着剤層2,3は変形するため、図10ではこれらをまとめて符号23で示してある。
【0082】
このようにして得られた2個のテストピースを用いて、実施例1の導電性接着シートによる接続確認試験を行った。すなわち、各テストピースについて、試験用基板30の200個の検査用パッド35と試験用基板40の検査用パッド44との間の抵抗を測定した。その結果、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが分かった。
【0083】
次に、上述の方法で得られた導電性接着シートの両面からPETフィルム5,6を剥がして、この導電性接着シートを前記配置の試験用基板30,50間に挟み、50MPaの圧力をかけた状態で230℃に加熱して5分間保持した。その結果、導電性接着シートにより、試験用基板30と試験用基板50とが接着された。
【0084】
このようにして得られた2個のテストピースを用いて、隣接する検査用パッド35同士の間の絶縁抵抗を測定した。その結果、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが分かった。
【0085】
これらの試験結果から、この実施例の導電性接着シートによって、図10(a)に示すように、試験用基板30の配線32と試験用基板40の配線パターン42とが、導電性接着シートの導電性微粒子4によって接続され、図10(a)および図10(b)に示すように、隣り合う配線32間が導電性微粒子4で接続されていない状態になることが分かる。
【0086】
【実施例2】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第2の方法の実施例に相当する方法により、導電性接着シートを作製する。この実施例を図3および4に基づいて説明する。
先ず、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意し、このPETフィルムの表面に、剥離剤としてポリジメチルシロキサンを約50nmの膜厚で被覆した。このPETフィルムの剥離剤が被覆された面に、エポキシ接着剤溶液をブレードコーターを用いて塗布した。次に、この塗布膜から溶剤を乾燥除去することにより、PETフィルム上に、厚さ12μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層を形成した。このPETフィルムと接着剤層とからなるシートを2枚用意した。
【0087】
使用したエポキシ接着剤溶液の組成は、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂:10重量部、フェノキシ樹脂:10重量部、マイクロカプセル型のイミダゾール誘導体エポキシ化合物からなる潜在性硬化剤:4.5重量部、およびトルエン/酢酸エチル混合液:5重量部である。
一方、上記と同じPETフィルムの表面に、剥離剤としてポリジメチルシロキサンを約50nmの膜厚で被覆した。このPETフィルムの剥離剤が被覆された面に、ポリイミド樹脂溶液(宇部興産社製の「UPA−N−111C」)をブレードコーターを用いて塗布した。次に、この塗布膜から溶剤を乾燥除去することにより、図4(a)に示すように、PETフィルム(支持体)5上に、ポリイミド樹脂からなるコアフィルム1を厚さ4μmで形成した。
【0088】
次に、コアフィルム1に形成する貫通孔10に対応させた開口部K1を有するニッケル製の金属マスクKを用意し、この金属マスクKをコアフィルム1の上方に配置し、この金属マスクKの上からエキシマレーザを照射した。図4(a)はこの状態を示す。金属マスクKには、直径8μm径の円形の孔が、図1(b)に示す貫通孔の配置と同じ配置で、15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成されている。
【0089】
エキシマレーザの照射は、LUMONICS社製のエキシマレーザ「INDEX800」と住友重機械工業社製の搬送系「SIL300H」とからなるエキシマレーザ加工装置を用いて行った。レーザの波長は248nm(フッ化クリプトンガス)であり、レーザビームの寸法は8mm×25mmであり、発振周波数は200Hzであった。
【0090】
これにより、コアフィルム1のエキシマレーザが照射された部分(開口部K1の下側の部分)が除去されて、コアフィルム1の所定位置に貫通孔10が形成された。このコアフィルム1には、直径が8μmである円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されている。図4(b)はこの状態を示す。次に、コアフィルム1からPETフィルム(支持体)5を剥離する。
【0091】
次に、上述の方法で予め用意した、PETフィルムと接着剤層とからなるシートを、図3(a)に示すように、接着剤層(第1の接着剤層)2側を上に向けて置き、その上に、貫通孔10を有するコアフィルム1を載せて、加熱により接合した。この状態を図3(c)に示す。
このコアフィルム1上に、多数の導電性微粒子4からなる粉末を散布した後、超音波振動装置を用いてシート全体に振動を与えることにより、全ての貫通孔10内に導電性微粒子4を入れた。この状態を図3(d)に示す。次に、コアフィルム1の表面に、日東電工(株)製の粘着フィルム「SPV−363」を、ローラーを用いて張り付けた後に剥がすことによって、貫通孔10に入らず、コアフィルム1の上面に存在する導電性微粒子4aを取り除いた。
【0092】
導電性微粒子4からなる粉末としては、特開平6−223633号公報に記載された、組成がAgx Cu(1-x) (0.008≦x≦0.4)であって粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.2倍より高く、表面近傍で粒子表面に向かって銀濃度が増加する領域を有する球状の導電性粒子からなり、平均粒子径が6μm、粒子径分布の標準偏差が0.6μmである粉末を使用した。
【0093】
次に、上述の方法で予め用意した、PETフィルム上にエポキシ接着剤からなる接着剤層が形成されたシートを、図3(e)に示すように、接着剤層(第2の接着剤層)3側を下側に向けてコアフィルム1の上に載せて、加熱により接合した。
これにより、ポリイミド樹脂からなる厚さ4μmのコアフィルム1の両面に、厚さ12μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層2,3が配置され、コアフィルム1には直径8μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
この実施例2で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0094】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0095】
【実施例3】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第2の方法の実施例に相当する方法により、導電性接着シートを作製する。この実施例を図3、図5、および図6に基づいて説明する。
【0096】
実施例2と同じ方法で、PETフィルム(支持体)5上に、ポリイミド樹脂からなるコアフィルム1を形成した。ただし、厚さは7μmとした。次に、コアフィルム1からPETフィルム(支持体)5を剥離した。
次に、図5に示すように、このコアフィルム1を、雄型90および雌型170からなるプレス用金型(加圧面:2.5cm角)の間に挟み、プレスで打ち抜くことにより、コアフィルム1に貫通孔10を開けた。プレス装置としてはフリップチップボンダーを用い、雄型90および雌型170の位置合わせはCCDカメラを用いた方法で行った。また、プレス圧は3MPaとした。
【0097】
雄型90および雌型170は、前述の実施形態で図6を用いて説明した方法により作製した。
具体的には、導電性基板7として厚さ200μmのアルミニウム板を用意し、その表面に対して亜鉛置換めっき処理を施した。感光性樹脂層8は、実施例1と同じ感光性樹脂溶液を用いて、同じ方法により、厚さ100μmで形成した。露光マスクMとしては、直径10μmの円形のクロムパターンが、図1(b)に示す貫通孔10の配置と同じ配置で、格子点間隔が20μmピッチで規則的に配列されているガラス製フォトマスクを用意した。露光方法は実施例1の感光性樹脂層11に対する方法と同じとした。
【0098】
めっき前処理の反応性イオンエッチングは、ヤマト科学社製の「PC−1000−5030」を用いて、酸素ガスを系内に導入しながら行った。ニッケルめっきによるメッキ層9の厚さは5mmとした。導電性基板7の除去は、塩酸を用いたウエットエッチングにより行った。また、硫酸銅を使用した電解銅めっき処理によって銅製の型15を作製した。ニッケルめっきによるメッキ層17の厚さは5mmとした。銅製の型15の除去は、過硫酸アンモニウム水溶液および濃硝酸を用いたウエットエッチングにより行った。
【0099】
このようにして、直径10μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で、20μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されているコアフィルム1を得た。このコアフィルム1の両面に、以下の方法で接着剤層を形成した。
先ず、実施例2と同じ方法で予め用意した、PETフィルムと接着剤層(10μm)とからなるシートを、図3(a)に示すように、接着剤層(第1の接着剤層)2側を上に向けて置いた。次に、この接着剤層2の上に、得られた貫通孔10を有するコアフィルム1を載せて、加熱により接合した。この状態を図3(c)に示す。
【0100】
これ以降は実施例2と同じ方法で、貫通孔10への導電性微粒子4の配置および第2接着剤層3とカバーフィルム6の接合を行った。ただし、導電性微粒子4からなる粉末としては、同じ材料からなるが、平均粒子径8μm、粒子径分布の標準偏差0.8μmのものを使用した。
これにより、ポリイミド樹脂からなる厚さ10μmのコアフィルム1の両面に、10μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層2,3が配置され、コアフィルム1には直径10μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で20μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
試験用基板30の配線32の幅Wを20μmとし、配列ピッチpを40μmとした。試験用基板40の配線パターン42の幅を20μmとし、ダミーパターン43の直径W2を20μm、配列ピッチp10を40μmとした。試験用基板50の凸部52のパターンをこれに合わせた。これ以外の点は実施例1と同じである試験用基板30,40,50を作製した。
【0101】
この試験用基板30,40,50と、この実施例3で作製された導電性接着シートとを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
【0102】
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0103】
【実施例4】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第2の方法の実施例に相当する方法により、導電性接着シートを作製する。この実施例を図11に基づいて説明する。
先ず、プラスチック製フィルム45の表面に剥離層(熱により発泡が生じて接着力が極端に低下する樹脂層)46が形成されている熱剥離シート(日東電工社製「リバアルファ」)400を用意した。次に、このシート400の剥離層46の上に、ブレードコーターを用いて、実施例1と同じネガ型の感光性樹脂溶液を塗布することによって、感光性樹脂層11を厚さ4μmで形成した。この感光性樹脂層11の上に、厚さ10μmのPETフィルム47を載せた。
【0104】
次に、露光マスクMとして、直径が8μmである円形のクロムパターンが、図1(b)に示す貫通孔10の配置と同じ配置で、格子点間隔が15μmピッチで規則的に配列されているガラス製フォトマスクを用意した。この露光マスクMを感光性樹脂層11の上に配置し、この露光マスクMの上から超高圧水銀ランプの光を照射した。この照射光は、光源からの光を光学系で平行にした平行光線である。図11(a)はこの状態を示す。
【0105】
次に、PETフィルム47を剥離した後、現像処理を行った。その結果、感光性樹脂層11の光の当たらなかった部分が除去されて、図11(b)に示すように、多数の貫通孔10を有するコアフィルム1が、剥離層46を介してフィルム45上に形成された。このコアフィルム1には、直径が8μmである円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されている。
【0106】
このようにして得られた貫通孔10を有するコアフィルム1の両面に、以下の方法で接着剤層を形成した。
先ず、図11(b)の状態でコアフィルム1およびシート400からなる積層シートを加熱することにより、シート400の剥離層46に発泡を生じさせた。これにより、シート400のフィルム45はコアフィルム1から容易に剥離可能となっている。
【0107】
次に、実施例2と同じ方法で予め用意した、PETフィルム5と接着剤層(10μm)2とからなるシート300を、接着剤層(第1の接着剤層)2側を上に向けて置き、その上に、図11(b)の状態の積層シートを、コアフィルム1側を接着剤層2側に向けて載せ、加熱により接合した。この状態を図11(c)に示す。次に、フィルム45をコアフィルム1から剥離した。この状態を図11(d)に示す。この状態は図3(c)に示す状態と同じである。
【0108】
これ以降は実施例2と同じ方法で、図3(d)および(e)に示すように、貫通孔10への導電性微粒子4の配置および第2接着剤層3とカバーフィルム6の接合を行った。導電性微粒子4からなる粉末についても、実施例2と同じものを使用した。
これにより、不飽和ポリエステル樹脂からなる厚さ4μmのコアフィルム1の両面に、10μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層2,3が配置され、コアフィルム1には直径8μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
この実施例4で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0109】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0110】
【実施例5】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第3の方法の実施例に相当する方法により、導電性接着シートを作製する。この実施例を図7に基づいて説明する。
先ず、厚さ100μmのアルミニウム板(導電性基板)7を用意し、その表面に対して亜鉛置換めっき処理を施した。このアルミニウム板7のめっき処理面に、ブレードコーターを用いて実施例1と同じネガ型の感光性樹脂溶液を塗布し、乾燥させることによって、ネガ型の感光性樹脂層11を厚さ10μmで形成した。この感光性樹脂層11の上に厚さ10μmのPETフィルムを載せた。図7(a)はこの状態を示す。ただし、この図では感光性樹脂層11上のPETフィルムが省略されている。
【0111】
次に、露光マスクMとして、直径が5μmである円形のクロムパターンが、図1(b)に示す貫通孔10の配置と同じ配置で、格子点間隔が10μmピッチで規則的に配列されているガラス製フォトマスクを用意した。この露光マスクMを感光性樹脂層11の上に配置し、この露光マスクMの上から超高圧水銀ランプの光を照射した。この照射光は、光源からの光を光学系で平行にした平行光線である。
【0112】
次に、PETフィルムを剥離した後、現像処理を行った。その結果、感光性樹脂層11の光の当たらなかった部分が除去されて、図7(b)に示すように、多数の貫通孔10を有するコアフィルム1がアルミニウム板7の上に形成された。このコアフィルム1には、直径が5μmである円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で10μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されている。
【0113】
次に、めっき前処理として、この導電性基板7と感光性樹脂層11とからなる板状物の表面に、反応性イオンエッチング処理を施し、現像後にこの板状物に残存する現像残査を完全に除去した。
次に、この板成物をピロリン酸銅めっき浴に入れて、アルミニウム板7に通電することにより、コアフィルム1の貫通孔10内に電解めっき法で銅製の導電性微粒子4を成長させた。めっき時の電流密度を3A/dm2 と高めに設定することで、銅は、貫通孔10から上に突出するまで成長して先端が丸くなった。その結果、コアフィルム1の全ての貫通孔10に、銅製で先端の丸い柱状物からなる導電性微粒子4が形成された。導電性微粒子4をなす柱状物の高さは、最も高い中心部でコアフィルム1の厚さ10μmより高い12μmであった。
【0114】
次に、実施例2と同じ方法で予め用意した、PETフィルムと接着剤層(10μm)とからなるシートを、図7(c)に示すように、接着剤層(第1の接着剤層)2をコアフィルム1側に向けて、コアフィルム1の上に置いて加熱することにより接合した。
次に、接着剤層2に液体が入ることを防ぐために、接着剤層2の4端面を塞いだ。次に、アルミニウム板7に塩酸を噴霧することにより、ウエットエッチング法でアルミニウム板7を完全に除去した。図7(d)はこの状態を示す。
【0115】
次に、実施例2と同じ方法で予め用意した、PETフィルムと接着剤層(10μm)とからなるシートを、接着剤層(第2の接着剤層)3をコアフィルム1側に向けて、コアフィルム1の上に置いて加熱することにより接合した。この状態を図7(e)に示す。
これにより、不飽和ポリエステル樹脂からなる厚さ10μmのコアフィルム1の両面に、10μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層2,3が配置され、コアフィルム1に直径5μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で10μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
この実施例5で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0116】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0117】
【実施例6】
[導電性接着シートの作製]
この実施例では、本発明の第4の方法の実施例に相当する方法により、導電性接着シートを作製する。この実施例を図12に基づいて説明する。
先ず、実施例1に示す方法で予め用意した、PETフィルム(支持体)5とエポキシ接着剤からなる厚さ10μmの接着剤層2とからなるシートを、図12(a)に示すように、接着剤層(第1の接着剤層)2側を上に向けて置き、その上に厚さ4μmのポリイミド樹脂からなるコアフィルム1を形成した。コアフィルム1の形成は、実施例2で使用したポリイミド樹脂溶液を接着剤層2の上に塗布した後、塗膜から溶剤を乾燥させることで行った。これにより、一方の面に第1の接着剤層が形成されたコアフィルム1を得た。
【0118】
次に、コアフィルム1の上に5μmのPETフィルム6aを載せ、その上方に実施例2と同じ金属マスクを配置し、この金属マスクの上からエキシマレーザを照射した。この照射は、PETフィルム6aとコアフィルム1が厚さ方向全体で除去され、接着剤2の表面も少し除去されるまで(深さ12μmの孔が形成されるまで)行った。
【0119】
これにより、PETフィルム6aとコアフィルム1のエキシマレーザが照射された部分が除去されて、コアフィルム1の所定位置に貫通孔10が形成された。このコアフィルム1には、直径が8μmである円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に配列されている。図12(b)はこの状態を示す。
【0120】
次に、PETフィルム6aの上に、実施例1と同じ、多数の導電性微粒子4からなる粉末を散布した後、超音波振動装置を用いてシート全体に振動を与えることにより、コアフィルム1の全ての貫通孔10内に導電性微粒子4を入れた。この状態を図12(c)に示す。次に、PETフィルム6aをコアフィルム1から剥離することにより、コアフィルム1の上面を露出させた。この際に、貫通孔10に入らず、PETフィルム6aの上面に存在する導電性微粒子4aが取り除かれた。
【0121】
次に、実施例1に示す方法で予め用意した、PETフィルム(カバーフィルム)6とエポキシ接着剤からなる厚さ10μmの接着剤層3とからなるシートを、図12(d)に示すように、接着剤層(第2の接着剤層)3側を下側に向けてコアフィルム1の上に載せて、加熱により接合した。
これにより、ポリイミド樹脂からなる厚さ4μmのコアフィルム1の両面に、厚さ10μmのエポキシ接着剤からなる接着剤層2,3が配置され、コアフィルム1には直径8μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム5,6が接合されている。
[性能評価]
この実施例6で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0122】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0123】
【実施例7】
[導電性接着シートの作製]
図13(a)に示すように、先ず、実施例2と同じ方法により、厚さ25μmのPETフィルム500上に、厚さ6μmのエポキシ接着剤層510を形成した。このPETフィルム500とエポキシ接着剤層510とからなるシートを2枚用意した。
【0124】
次に、コアフィルム1として、厚さ4.5μmの全芳香族ポリアミドフィルム(旭化成(株)製の「アラミカ(商品名)」)を用意した。また、ポリスルホン樹脂(Amoco Polymer社製「Udel P−1700」)80重量部と、シアネートエステル樹脂(Ciba−Geigy社製「B−30」)20重量部と、テトラヒドロフラン400重量部とを撹拌混合することにより、接着剤溶液を得た。この接着剤溶液をコアフィルム1の上に塗布して乾燥することにより、コアフィルム1の上に、厚さ6μmのポリスルホン/シアネートエステル接着剤層530を形成した。図13(b)はこの状態を示す。
【0125】
各接着剤層510,530をなす接着剤の軟化温度を、レオメトリックス・サイエンティフィック・エフ・イー社製の粘弾性測定装置である回転型の「レオメーター」を用いて測定した。測定条件は、回転速度:10rad/秒、昇温開始温度:室温、昇温速度:10℃/分とし、粘性率曲線の傾きが変化する最初の温度を軟化温度として求めた。その結果、エポキシ接着剤の軟化温度は約80℃であり、ポリスルホン/シアネートエステル接着剤の軟化温度は160℃であった。
【0126】
次に、PETフィルム500およびエポキシ接着剤層510からなるシートと、コアフィルム1およびポリスルホン/シアネートエステル接着剤層530とからなるシートを、図13(c)に示すように、接着剤層510,530同士を向かい合わせて、60℃に加熱しながら貼り合わせた。これにより、軟化温度の差が20℃以上である二種類の接着剤層510,530とPETフィルム500とコアフィルム1とからなる積層シートを得た。
【0127】
次に、この積層シートのコアフィルム1に、実施例2と同じ方法でエキシマレーザにより貫通孔10を形成した。図13(d)はこの状態を示す。貫通孔の配置も、実施例2と同様に、図1(b)に示す配置とした。貫通孔10の孔径は7.5μmとした。
エキシマレーザの照射は、コアフィルム1の各位置に確実に貫通孔10を形成する条件で行う必要があるため、接着剤層530の表面にもエキシマレーザが照射される。しかし、エキシマレーザによる除去速度は、全芳香族ポリアミドからなるコアフィルム1の方がポリスルホン/シアネートエステル接着剤層530より速いため、前記条件で照射を行った場合でも、接着剤層530の表面に生じる凹部を1μm未満の深さに抑えることができる。
【0128】
次に、実施例2と同じ方法により、コアフィルム1の貫通孔10に実施例2と同じ導電性微粒子4を充填した。次に、この状態のコアフィルム1上に、前述の接着剤溶液を塗布して乾燥することにより、厚さ6μmのポリスルホン/シアネートエステルからなる接着剤層530を形成した。
次に、このポリスルホン/シアネートエステル接着剤層530の上に、図13(a)に示すPETフィルム500とエポキシ接着剤層510とからなるシートを、エポキシ接着剤層510側を下に向けて載せ、60℃に加熱して接着した。図13(e)はこの状態を示す。
【0129】
これにより、全芳香族ポリアミド樹脂からなる厚さ4.5μmのコアフィルム1の両面に、厚さ6μmのポリスルホン/シアネートエステルからなる接着剤層530と厚さ6μmのエポキシ樹脂からなる接着剤層510が、コアフィルム1側からこの順に配置され、コアフィルム1には直径7.5μmの円形の貫通孔10が、図1(b)に示す配置で15μmピッチ(格子点間隔)で規則的に形成され、各貫通孔10に各1個の銅−銀合金製の導電性微粒子4が配置されている導電性接着シートが得られた。この導電性接着シートの両面にはPETフィルム500が接合されている。
[性能評価]
この実施例7で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0130】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0131】
【実施例8】
[導電性接着シートの作製]
図14に示すように、コアフィルム1にテーパ状の貫通孔10aを形成した以外は実施例7と同じ方法で、導電性接着シートを得た。
テーパ状の貫通孔10aは、マスクパターンを10分の1まで縮小投影することのできるエキシマレーザを用い、図4(a)で、孔径8μmの開口部K1を徐々に縮小しながらレーザ照射を行った。これにより、フィルム面に平行な断面が円形であり、大径部の直径が8μmで小径部の直径が4μmであるテーパ状の貫通孔10aを形成した。
【0132】
図14(a)に示すように、この貫通孔10aの小径部側を第1の接着剤層2に向けて、コアフィルム1を第1の接着剤層2に接着した。この状態で貫通孔10aの大径部側が露出面となっており、この状態で貫通孔10a内に導電性微粒子4を充填した。導電性微粒子としては、実施例2と同じ材質で、平均粒子径が6μm、粒子径分布の標準偏差が0.6μmであるものを用いた。
【0133】
これにより、導電性微粒子4はテーパ状の貫通孔10の窄まった部分で保持されるため、下側の接着剤層(第1の接着剤層)2にはみ出さずに、コアフィルム1内に確実に存在するようになる。
[性能評価]
この実施例8で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0134】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないものは無いことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0135】
【比較例1】
[導電性接着シートの作製]
実施例1で使用したエポキシ接着剤溶液に、実施例1で使用した導電性微粒子4を、1.2体積%の割合で添加して混合した。この液体を、剥離剤としてポリジメチルシロキサンが被覆されたPETフィルムの表面に、ブレードコーターを用いて塗布した。次に、この塗布膜から溶剤を乾燥除去することにより、PETフィルム上に、厚さ28μmの導電性接着シートを形成した。この導電性接着シートはPETフィルムを剥がして使用する。
【0136】
なお、導電性微粒子4のエポキシ接着剤溶液への添加率は、導電性接着シート内での導電性微粒子4の含有率が実施例2と同程度となるように設定した。
[性能評価]
この比較例1で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0137】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32のうち4箇所が、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていないことが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間について、全ての絶縁抵抗が1012Ω以上であった。これにより、2個のテストピースの合計400個の全ての配線32について、隣接する全ての配線32間にショートが発生していないことが確認された。
【0138】
【比較例2】
導電性微粒子4のエポキシ接着剤溶液への添加率を20体積%とした以外は、比較例1と同じ方法で、同じ構成の導電性接着シートを作製した。
この比較例2で作製された導電性接着シートと、実施例1と同じ試験用基板30,40,50とを用いて、実施例1と同じ方法で各2個のテストピースを作製し、実施例1と同じ方法で接続確認試験とショート確認試験を行った。
【0139】
その結果、接続確認試験では、2個のテストピースの合計400個の試験用基板30の配線32の全てが、試験用基板40の配線パターン42と電気的に接続されていることが確認された。
また、ショート確認試験では、2個のテストピースの合計398組の検査用パッド間のうち10箇所で、絶縁抵抗が108 Ω以下となった。これにより、これらの10箇所で隣接する配線32間にショートが発生していることが分かった。
【0140】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の導電性接着シートによれば、コアフィルム面内に所定配置で複数個の貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性微粒子を配置するため、貫通孔のピッチおよび大きさを、接続するパターンの配列ピッチおよび配線幅等に対応させて設定することが可能となる。また、使用時に、コアフィルムによってシート面内での導電性微粒子の配置が固定される。
【0141】
そのため、貫通孔のピッチおよび大きさを、接続するパターンの配列ピッチおよび配線幅等に対応させて設定することによって、ファインピッチで配列されているパターンを接続する場合でも、隣り合うパターン間にショートが生じないようにすることができる。また、接続するパターンが導電性微粒子の存在しない位置に配置される、という恐れを無くすことができる。
【0142】
その結果、本発明の導電性接着シートによれば、接続するパターンの寸法が小さい場合や、ファインピッチで配列されているパターンを接続する場合でも、信頼性の高い接続を行うことができる。
また、本発明の導電性接着シートの製造方法によれば、導電性微粒子がシート面内に、規則的に且つ高密度で(隣り合う導電性微粒子間の距離が20μm以下となるように)配置された導電性接着シートを容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の導電性接着シートの一実施形態を示す断面図(a)と平面図(b,c)である。
【図2】本発明の導電性接着シートを製造する第1の方法の実施形態、および実施例1を説明する図である。
【図3】本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法の実施形態、および実施例2〜4を説明する図である。
【図4】本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法の実施形態、および実施例2を説明する図である。
【図5】本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法の実施形態、および実施例3を説明する図である。
【図6】本発明の導電性接着シートを製造する第2の方法の実施形態、および実施例3を説明する図である。
【図7】本発明の導電性接着シートを製造する第3の方法の実施形態、および実施例7を説明する図である。
【図8】本発明の実施例1〜8および比較例1,2で性能評価に使用した試験用基板30を示す平面図(a)と断面図(b)である。
【図9】本発明の実施例1〜8および比較例1,2で性能評価に使用した試験用基板40,50を示す平面図(a)と、断面図(b),(c)である。
【図10】導電性接着シートにより、試験用基板30と試験用基板40とが接着された状態を示す断面図であって、(a)は配線パターン42の部分の断面図を示し、(b)はダミーパターン43の部分の断面図を示す。
【図11】本発明の実施例4(導電性接着シートを製造する第2の方法)を説明する図である。
【図12】本発明の実施例6(導電性接着シートを製造する第4の方法)を説明する図である。
【図13】本発明の実施例7の導電性接着シートを説明する図である。
【図14】本発明の実施例8の導電性接着シートを説明する図である。
【図15】従来の導電性接着シートの一例を示す断面図(a)と平面図(b)である。
【図16】従来の導電性接着シートの問題点を説明するための断面図である。
【符号の説明】
1 コアフィルム
2 接着剤層(第1の接着剤層)
3 接着剤層(第2の接着剤層)
4 導電性微粒子
5 支持体
6 カバーフィルム
6a PETフィルム
7 導電性基板
8 感光性樹脂層
9 メッキ層
10 貫通孔
10a テーパ状の貫通孔
11 感光性樹脂層
15 銅製の型
15a 突起
17 メッキ層
20 接着剤層からなるシート
23 接着時のコアフィルムとその両面の接着剤層
30 試験用基板
31 絶縁性基板
32 配線
35 検査用パッド
40 試験用基板
41 ガラス基板
42 配線パターン
43 ダミーパターン
44 検査用パッド
45 フィルム
46 剥離層
47 PETフィルム
50 試験用基板
51 ガラス基板
52 凸部
81 貫通孔
90 雄型(プレス用金型)
91 突起
170 雌型(プレス用金型)
171 凹部
500 PETフィルム
510 エポキシ接着剤層(軟化温度の低い接着剤層)
530 ポリスルホン/シアネートエステル接着剤層
(軟化温度の高い接着剤層)
A 導電性微粒子の存在しない位置
B1 基板
B2 基板
h 配線の厚さ
K1 開口部
K 金属マスク
M 露光マスク
P1 接続パターン
P2 接続パターン
p 接続の配列ピッチ
p10 ダミーパターンの配列ピッチ
W 配線の幅
W1 配線パターンの幅
W2 ダミーパターンの直径
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a conductive adhesive sheet that imparts conductivity only in the thickness direction of a sheet by conductive fine particles dispersedly arranged in the sheet surface, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, a conductive adhesive sheet that imparts conductivity only in the thickness direction has been used at the time of connection between a liquid crystal display wiring and a flexible substrate, high density mounting of an integrated circuit component on a substrate, or the like. An example of a conventional conductive adhesive sheet is shown in FIG. In this example, the conductive fine particles 4 are randomly arranged in the sheet 20 made of an adhesive layer. This sheet has the following problems.
[0003]
In recent years, the dimensions of connected wiring patterns and land patterns have been increasingly miniaturized. When the dimension of the connected pattern is reduced, in the sheet in which the conductive fine particles are randomly dispersed and arranged, the connected pattern is arranged at the position A where the conductive fine particles do not exist as shown in FIG. The probability that As a result, the connected patterns may not be electrically connected.
[0004]
In order to solve this problem, it is effective to disperse smaller conductive fine particles in the sheet at a high density. However, when the size of the conductive fine particles is reduced, as shown in FIG. There is a problem that variations in the protruding height of the connection patterns P1, P2 from the surfaces of the substrates B1, B2 cannot be absorbed. Further, when the density of the conductive particles 4 in the sheet 20 is increased, as shown in FIG. 16B, when the patterns P1 and P2 are arranged at a fine pitch, a short (short circuit) occurs between adjacent patterns. ) Is likely to occur. That is, in these methods, the connection reliability of a conductive adhesive sheet in which conductive fine particles are randomly dispersed and arranged is not improved.
[0005]
On the other hand, JP-A-5-67480 and JP-A-10-256701 describe that conductive fine particles are dispersed in a predetermined arrangement in a sheet.
In the method described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-67480, the conductive fine particles are charged before being dispersed in the sheet (adhesive layer), and the repulsive force between the conductive fine particles is utilized to make the conductive fine particles in the sheet. Are uniformly dispersed. In addition, each position of the conductive fine particles and the support is charged with different charges, and after the conductive fine particles are arranged on the support in a predetermined arrangement, the conductive fine particles are transferred to the adhesive layer in a state in which this arrangement is maintained. It is described to do.
[0006]
However, in this method, since the arrangement is maintained by the repulsive force between the charged conductive fine particles, it is impossible to bring the distance between the adjacent conductive fine particles within the sheet surface closer to 20 μm or less.
In JP-A-10-256701, a composition comprising a rubber material and conductive particles is formed into a sheet using conductive particles having magnetism, and a magnetic field is applied in the thickness direction of the sheet. It is described that the conductive particles are oriented to cure the rubber in this state.
[0007]
However, this method has the following problems. Since it is difficult to concentrate the magnetic field in a very narrow region, the distance between adjacent conductive fine particles in the sheet surface cannot be brought close to 20 μm or less. In some cases, the conductive particles are arranged so as to overlap in the thickness direction of the rubber sheet. It is difficult to arrange the conductive particles regularly (while maintaining a predetermined interval between adjacent particles). The conductive particles that can be used are limited to magnetic materials.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made paying attention to such problems of the prior art, and conductive adhesion imparting conductivity only in the thickness direction of the sheet by conductive fine particles dispersed and arranged in the sheet surface. It is an object of the present invention to provide a conductive adhesive sheet in which conductive fine particles are regularly and densely arranged in a sheet surface so that the distance between adjacent conductive fine particles is 20 μm or less. To do.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a conductive adhesive sheet that imparts conductivity only in the thickness direction of the sheet by conductive fine particles dispersed in the sheet surface, and is disposed in the center in the thickness direction. Adhesive layers are disposed on both surfaces of the core film, the core film and the adhesive layer are insulative, and the core film has a plurality of through-holes penetrating in the thickness direction in a predetermined arrangement in the film surface. An electrically conductive adhesive sheet having anisotropy, characterized in that conductive fine particles are disposed in the through holes.
[0010]
In the conductive adhesive sheet of the present invention, the average particle size of the conductive fine particles is 0.5 μm or more and 50 μm or less, and the standard deviation of the particle size distribution of the conductive fine particles is 50% or less of the average particle size. The thickness is 0.5 μm or more and 50 μm or less, the thickness of the adhesive layer is 1 μm or more and 50 μm or less, and the size of the through hole is 1 to 1.5 times the average particle diameter of the conductive fine particles. It is preferable.
[0011]
In the conductive adhesive sheet of the present invention, the conductive fine particles include copper, gold, silver, nickel, palladium, indium, tin, lead, zinc, or bismuth, or an alloy of any of these metals, or fine particles made of carbon, Alternatively, fine particles having a metal coating on the surface are preferable.
In the conductive adhesive sheet of the present invention, at least one of the adhesive layers disposed on both surfaces of the core film has two types of adhesive layers having a difference in softening temperature of 20 ° C. or more. The higher one is arranged on the core film surface side to provide a laminated product.
[0012]
In the present invention, as a first method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention, a photosensitive resin layer forming a core film is formed on the first adhesive layer formed on the support. Thereafter, by patterning the photosensitive resin layer by photolithography, through holes are formed in a predetermined arrangement in the core film, and conductive fine particles are put into the through holes, and then a second film is formed on the core film. Provided is a method for producing a conductive adhesive sheet, wherein an adhesive layer is formed.
[0013]
In the present invention, as a second method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention, a first adhesive layer is formed on one surface of a core film having a through hole, and then the conductive film is formed in the through hole. And a second adhesive layer is formed on the other surface of the core film after the conductive fine particles have been added.
In this second method, a core film having a through-hole is formed by (1) irradiating the core film with laser (the core film is dissolved by heat or the polymer molecular chain forming the core film is heated). Cutting: laser ablation), (2) a core film using a pressing mold comprising a male mold having a protrusion corresponding to the arrangement of the through-hole and a female mold having a recess for receiving the protrusion. It is preferable to employ a method of punching out with a press.
[0014]
In the present invention, as a third method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention, a core film having a through hole is formed on a conductive substrate, and then the through hole is made conductive by an electrolytic plating method. After the fine particles are grown, the first adhesive layer is formed on the surface of the core film opposite to the conductive substrate, the conductive substrate is removed, and the conductive substrate is removed. A method for producing a conductive adhesive sheet is provided, wherein a second adhesive layer is formed on the surface.
[0015]
The present invention also provides, as a fourth method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention, a core film in which a first adhesive layer is formed on one surface, and from the other surface side of the core film. By forming a through hole in the core film by performing laser irradiation, and then placing conductive fine particles in the through hole, a second adhesive layer is formed on the other surface of the core film. A method for producing a conductive adhesive sheet is provided.
[0016]
In the fourth method, it is necessary to prevent the through hole from being formed in the first adhesive layer when the through hole is formed in the core film by laser irradiation.
The laser light used in this method is a laser beam having an oscillation wavelength in the infrared region, such as a fundamental wave of a carbon dioxide laser or a YAG laser, a third or fourth harmonic of a YAG laser, an excimer laser, or the like. And those capable of emitting light in the ultraviolet or vacuum ultraviolet region. For example, by using a third or fourth harmonic of an YAG laser or an excimer laser, a minute through hole having a diameter of 20 μm or less can be easily formed.
[0017]
In particular, in a YAG laser that can be processed with a minute beam, the through hole can be tapered by making the beam shape tapered. Accordingly, the conductive fine particles can be held at the portion where the tapered through hole is narrowed so that the conductive fine particles do not protrude from the first adhesive layer.
[About core film]
The material of the core film used in the present invention is not particularly limited, and various engineering plastics can be used. For example, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polysulfone resin, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyallyl resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyphenylene ether resin, and the like.
[0018]
Moreover, as a core film, a thing with good dimensional stability is preferable. Therefore, as the material of the core film, as the polymer skeleton, a polymer containing an aromatic skeleton such as benzene, naphthalene, anthracene or pyrene or an alicyclic skeleton such as cyclohexane, bicyclohexane, bicyclohexene or adamantane is used. It is preferable to do.
[0019]
As the core film, a thermoplastic resin or a thermosetting resin containing a component that hardens after being softened by heating can also be used. In the case of using a core film that is softened by heat, the softening temperature of the core film is set to 20 ° C. or more higher than the softening temperature of the adhesive layer. The difference in softening temperature is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher.
[0020]
Here, the softening temperature of the core film and the adhesive layer means that the viscosity decreases greatly when the temperature of the resin forming the core film and the adhesive forming the adhesive layer is increased from room temperature (the slope of the viscosity curve). Means the first temperature that changes. This softening temperature can be examined by measuring the viscosity using a viscoelasticity measuring device such as a rheometer while increasing the temperature of the resin and adhesive from room temperature at a constant rate.
[0021]
When the conductive adhesive sheet of the present invention is produced by the first method, a photosensitive resin is used as the material for the core film. Even when the conductive adhesive sheet of the present invention is produced by the second method and the third method, a photosensitive resin can be used as the material of the core film. When photosensitive resin is used as the core film material in the second method, a photosensitive resin layer is formed on the surface of the substrate having peelability, and through holes are formed by patterning the photosensitive resin layer by photolithography. Then, by removing the substrate, a core film having a through hole can be obtained.
[0022]
As the photosensitive resin used as the material of the core film, for example, a photopolymerizable polyimide resin, a photopolymerizable epoxy resin, a photopolymerizable polyester resin, and the like are useful. Further, in the conductive adhesive sheet of the present invention, in order to arrange minute conductive fine particles in the photosensitive resin layer with a minute pitch, it is necessary to form minute through holes with a minute pitch. Therefore, it is necessary to use a photosensitive resin with extremely high resolution that can form a pattern with a line width of several μm or less.
[0023]
The thickness of the core film greatly depends on the size of the conductive fine particles used. That is, when the conductive adhesive sheet of the present invention is used, it is necessary to contact the conductive fine particles with both patterns to be connected without deforming the core film. Therefore, the thickness of the core film is the same as that of the conductive adhesive sheet. The size needs to be the same as or smaller than the average particle size of the conductive fine particles. For example, when the average particle diameter of the conductive fine particles used is 0.5 to 50 μm, the thickness of the core film is set to 0.5 μm to 50 μm. When the thickness of the core film exceeds 50 μm, it is necessary to make the average particle diameter larger than 50 μm, so that it is not suitable for connecting a fine pattern.
[0024]
For the purpose of improving the adhesion with the adhesive layer, a sponge-like microporous film in which pores having a diameter of 1 μm or less are randomly arranged in the film can also be used as the core film. If this microporous film is used as a core film, an improvement in the adhesive strength between the core film and the adhesive layer can be expected due to the anchor effect that the adhesive enters the pores of the microporous film.
[0025]
The size of the through-hole formed in the core film depends on the size of the conductive fine particles used, but is 1 to 1.5 times the average particle size of the conductive particles. The arrangement of the through holes depends on the arrangement pitch of the connection patterns and the wiring width, but it is preferable to arrange the through holes at intervals of 0.3 to 1 times the arrangement pitch. It is also possible to form a through hole only in the pattern of the connected portion. However, in this case, it is necessary to align the connection pattern and the connection component.
[Conductive fine particles]
The conductive fine particles used in the present invention have an average particle size of 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 10 μm. If the average particle size of the conductive fine particles is less than 0.5 μm, the variation in the height of the connection pattern may not be absorbed. On the other hand, when the size exceeds 50 μm, it is not suitable for connecting a fine pattern.
[0026]
The shape of the conductive fine particles used in the present invention is not particularly required to be spherical, and polyhedral and spherical particles may have a large number of protrusions. However, a flat shape is not preferable because it is difficult to enter the through hole. Conductive fine particles that are easily crushed during compression and that are easy to deform are preferable because they can increase the contact area with the connection pattern and absorb variations in the height of the connection pattern.
[0027]
In the above-described third method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention, conductive fine particles are grown in the through holes of the core film by electrolytic plating. At that time, the conductive fine particles are formed by the following method. The shape and structure can be easily crushed during compression. The current density of electrolytic plating is adjusted so that the tips of the conductive fine particles are rounded or protruded. Alternatively, the conductive fine particles are made porous by electrolytic plating and subsequent treatment.
[0028]
In addition, when the core film having a through hole is formed on the conductive substrate by the third method, a photosensitive resin layer is formed on the conductive substrate, and the photosensitive resin layer is formed by photolithography. When the method of forming the through hole is adopted, the hole can be formed in the conductive fine particles by the following method.
First, in the negative photosensitive resin composition, an organic compound that is difficult to dissolve (or disperse) in a developer is mixed, and a photosensitive resin layer is formed from this composition. Next, the photosensitive resin layer is exposed using a mask in which the portion corresponding to the through hole is a light shielding portion, and the resin composition remains as it is in the through hole portion. In this state, development and electrolytic plating are performed. At this time, since the organic compound exists in the through hole, the conductive fine particles grow in a state containing this organic compound. Next, the organic matter in the conductive fine particles is removed by a dissolution or firing process. Thereby, conductive fine particles having a large number of holes therein are formed in the through holes.
[0029]
In addition, organic substances are mixed in the plating bath for electrolytic plating, and after processing such as a composite plating method in which organic substances are incorporated into the metal in the process of metal precipitation, the organic substances incorporated into the conductive fine particles are removed. The pores can be formed in the conductive fine particles also by the method of removing in the dissolution or firing step.
The particle size distribution of the conductive fine particles used in the present invention is such that the standard deviation is 50% or less of the average particle size. Preferably, the standard deviation is 20% or less of the average particle diameter, more preferably 10% or less. If the particle size distribution of the conductive fine particles is widely distributed with a standard deviation exceeding 50% of the average particle size, the conductive fine particles having a small particle size may cause clogging of the through holes, or may not be present in places other than the through holes. It becomes difficult to remove such small conductive fine particles. Moreover, it becomes difficult to absorb the height variation of the connection pattern. This leads to a decrease in electrical connection reliability between connection patterns. Moreover, it is preferable that one conductive fine particle is contained in one through hole.
[0030]
As a method for classifying the conductive fine particles, a conventional method, for example, a centrifugal classifier such as cyclone or clacyclon, a gravity classifier, an inertia classifier, an air classifier, or a classifier by sieving can be used. In order to classify fine conductive fine particles having a particle size of 10 μm or less to obtain conductive fine particles having a narrow particle size distribution, first, coarse classification is performed with an airflow classifier, followed by classification with a precision sieve. . In addition, if classification is performed in the air with a precision sieve, conductive fine particles may be clogged in the sieve hole. Therefore, ultrasonic vibration is applied to the precision sieve or classification is performed in a liquid that has been subjected to ultrasonic vibration. Is preferred.
[About adhesive layer]
As the adhesive forming the adhesive layer constituting the conductive adhesive sheet of the present invention, for example, a thermosetting adhesive, a thermoplastic adhesive, a pressure sensitive adhesive, or the like can be suitably used. In particular, it is preferable to use a type of adhesive containing a so-called latent curing agent in which a compound containing a curing agent is confined in a microcapsule and curing starts when the microcapsule is crushed by pressure or heat.
[0031]
Examples of the material for the adhesive layer include epoxy resins, polyimide resins, urea resins, amino resins, melamine resins, phenol resins, xylene resins, furan resins, isocyanate resins, benzocyclobutene resins, polyphenylene ethers. Examples thereof include a resin, a polysulfone resin, and a polyethersulfone resin. In particular, from the viewpoint of dimensional stability, heat resistance, etc., the resin constituting the adhesive used is an aromatic compound such as benzene, naphthalene, anthracene, pyrene, biphenyl, phenylene ether, cyclohexane, cyclohexene, bicyclooctane, bicyclo It is preferably composed of a compound having a skeleton of an aliphatic cyclic compound such as octene or adamantane in the molecular chain.
[0032]
In addition, if an adhesive made of a resin soluble in a solvent is used, an adhesive layer can be obtained by applying the adhesive on a support in a state dissolved in a solvent and then drying. The thickness of the adhesive layer after drying (solvent removal) is set to 1 μm to 50 μm, preferably 5 μm to 20 μm. When the thickness is less than 1 μm, it is difficult to obtain adhesion strength after bonding. When the thickness of the adhesive layer exceeds 50 μm, the amount of the adhesive is too large and it is difficult to electrically connect the conductive fine particles and the connection pattern.
[0033]
In the conductive adhesive sheet of the present invention, an adhesive layer (adhesive layer on one side of the core film: first adhesive layer and adhesive layer on the other side: second layer on both sides of the core film. Adhesive layers) are formed, but these adhesive layers may be the same or different in composition. In addition, the first and second adhesive layers may be formed by laminating a plurality of adhesive layers having different functions.
[0034]
In the conductive adhesive sheet of the present invention, the first adhesive layer and / or the second adhesive layer has two types of adhesive layers having a difference in softening temperature of 20 ° C. or higher. By arranging and laminating on the core film surface side, when the conductive adhesive sheet is used after being heated and compressed, the conductive fine particles are removed from the through-holes of the core film, and a predetermined position in the sheet surface is obtained. It can prevent moving to the position which shifted | deviated from.
[0035]
For example, when the conductive adhesive sheet of the present invention is used for connecting a substrate having a narrow interval between adjacent patterns of 10 μm or less, if the conductive fine particles move to a position deviated from a predetermined position in the sheet surface, the cause of a short circuit is caused. May be. In such a case, it is preferable to use a conductive adhesive sheet having the two-layered adhesive layer because a short circuit can be surely prevented. The difference in the softening temperature is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher.
[0036]
In addition, when the taper-shaped through hole is provided in the core film in such a size that the conductive fine particles are held in the portion where the taper-shaped through hole is narrowed (the portion having a small opening size), the opening of the taper-shaped through hole Only the adhesive layer that adheres to the core film surface on the larger dimension side may have the two-layer structure.
When the conductive adhesive sheet of the present invention is exposed to an acidic aqueous solution, water, or the like in the production process, it is necessary to use an adhesive layer that does not cause alteration or reaction in the aqueous processing solution. Further, by using an adhesive layer having tackiness or tackiness, the conductive adhesive sheet of the present invention can be temporarily fixed to an object to be connected.
[0037]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
One embodiment of the conductive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG.
This conductive adhesive sheet is composed of a core film 1 disposed in the center in the thickness direction, adhesive layers 2 and 3 disposed on both surfaces of the core film 1, and spherical conductive fine particles 4. The core film 1 is made of polyimide resin or unsaturated polyester resin and has a thickness of 4 μm. The adhesive layers 2 and 3 are made of an epoxy thermosetting adhesive containing a latent curing agent and have a thickness of 12 μm. The conductive fine particles 4 are powders made of an alloy of copper and silver, and have an average particle size of 6 μm and a standard deviation of the particle size distribution of 1.5 μm.
[0038]
In the core film 1, a large number of through holes 10 penetrating in the thickness direction are regularly arranged in the film plane. In this embodiment, as shown in FIG.1 (b), the through-hole 10 is arrange | positioned in the position of the lattice point (intersection of the vertical line and horizontal line of a grating | lattice) in a film surface, and the face center position of a unit cell. Yes. The interval between adjacent lattice points along the vertical line is 15 μm, and the interval between adjacent lattice points along the horizontal line is 15 μm. The planar shape (cross-sectional shape along the film surface) of the through hole 10 is circular, and the diameter of this circle is 8 μm (1.33 times the average particle diameter of the conductive fine particles 4). In addition, one conductive fine particle 4 is disposed in every through hole 10 of the core film 1.
[0039]
The conductive adhesive sheet is pressed between the substrates to be connected in use. Thereby, the adhesive layers 2 and 3 are deformed, and the conductive fine particles 4 are brought into contact with both patterns to be connected. At this time, the arrangement of the conductive fine particles 4 in the sheet surface is fixed by the core film 1. In this conductive adhesive sheet, as described above, the conductive fine particles 4 are regularly and densely arranged in the sheet surface (so that the distance between adjacent conductive fine particles is 20 μm or less). ing.
[0040]
Therefore, according to the conductive adhesive sheet of this embodiment, even when the dimension of the pattern to be connected is small or when patterns arranged at a fine pitch are connected, highly reliable connection can be performed. In particular, by setting the pitch and size of the through holes 10 in accordance with the arrangement pitch and wiring width of the pattern to be connected, the position where the conductive fine particles 4 do not exist (indicated by symbol A in FIG. 15). ) Is eliminated.
[0041]
According to the conductive adhesive sheet of this embodiment, since the conductive fine particles are regularly arranged, the conductive fine particles are extremely small (for example, a diameter of 2 μm or less, as in the case of being randomly arranged). Even if it is not, the probability that the pattern to be connected is arranged at a position where the conductive fine particles do not exist (indicated by symbol A in FIG. 15) is zero in principle. Therefore, in the conductive adhesive sheet of this embodiment, the conductive fine particles are made to have a certain size, so that the connection pattern protrudes from the substrate surface more than the conductive adhesive sheet in which the conductive fine particles are randomly arranged. It becomes easy to absorb the variation in height.
[0042]
FIG. 1C shows a conductive adhesive sheet in which the arrangement of the through holes 10 in the plane of the core film 1 is different from the above. In this example, the through holes 10 are arranged at the positions of lattice points in the film plane. One conductive fine particle 4 is disposed in each of these through holes 10.
An embodiment of the first method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG.
[0043]
First, after applying an adhesive solution (a liquid in which an adhesive is dissolved in a solvent) to a predetermined thickness on a support 5 made of a plastic film or the like, the first adhesive is removed by drying and removing the solvent. Layer 2 is formed. As a method for applying the adhesive solution, a usual method such as a blade coating method, a spray coating method, a spin coating method, a roll coating method, or the like can be employed.
[0044]
Next, a liquid negative photosensitive resin is applied onto the first adhesive layer 2, and in the case of a photosensitive resin containing a solvent, the photosensitive resin forming the core film 1 is dried by drying the solvent. Layer 11 is formed.
Next, the photosensitive resin layer 11 is patterned by photolithography. That is, as shown in FIG. 2A, first, an exposure mask M having a light shielding portion corresponding to the through hole 10 formed in the core film 1 (shape and arrangement in the sheet surface) is a negative type. It arrange | positions above the photosensitive resin layer 11, and irradiates high energy light from on this exposure mask M. FIG. Next, a predetermined development process is performed to remove a portion of the photosensitive resin layer 11 that was not exposed to light.
[0045]
In this embodiment, high-energy light that can be insolubilized by increasing the degree of polymerization of the negative photosensitive resin is irradiated. As the light source, an ultra-high pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, etc. Is mentioned. In order to form a fine pattern with a pore diameter of 20 μm or less, it is preferable to irradiate parallel rays. In addition, when using positive photosensitive resin, the exposure mask which has the light irradiation part corresponding to the through-hole 10 is used. In this case, in addition to the method of using the above-mentioned light source, a method of cutting the polymer chain bond of the light irradiation part by irradiating X-rays or electron beams extracted from synchrotron orbital radiation is adopted. it can.
[0046]
Thereby, the through holes 10 are formed in the photosensitive resin layer 11 in a predetermined arrangement. As a result, the core film 1 having the through holes 10 in a predetermined arrangement is formed on the first adhesive layer 2. FIG. 2B shows this state.
Next, in this state, a powder made of a large number of conductive fine particles 4 is sprayed from above the core film 1, and then the entire sheet made of the support 5, the first adhesive layer 2, and the core film 1 is vibrated. Thus, the conductive fine particles 4 are put into the through holes 10 of the core film 1. Further, as shown in FIG. 2C, the conductive fine particles 4a that do not enter the through hole 10 and exist on the upper surface of the core film 1 are removed by pressing with a film or the like with an adhesive.
[0047]
By vibrating the entire sheet, the conductive fine particles 4 can easily enter all the through holes 10. Alternatively, the conductive fine particles 4 may be put into the through-holes 10 of the core film 1 by passing the entire sheet through a plurality of times in a container containing the conductive fine particles.
Next, after the adhesive solution is applied on the core film 1 at a predetermined thickness, the solvent is dried and removed, thereby forming the second adhesive layer 3 on the core film 1. Further, the cover film 6 is covered on the second adhesive layer 3. Thereby, as shown in FIG.2 (d), a conductive adhesive sheet is obtained in the state by which the support body 5 was joined to one surface, and the cover film 6 was joined to the other surface, respectively.
[0048]
Instead of this, the cover film 6 on which the adhesive layer 3 is formed is heated by placing the adhesive layer 3 on the core film 1 with the adhesive layer 3 facing the core film 1 side, as shown in FIG. It is good also as a state. However, the heating temperature in this case needs to be a temperature at which the adhesive forming the adhesive layer 3 is not cured.
In addition, a conductive adhesive sheet is used in the state which peeled the support body 5 and the cover film 6. FIG. Therefore, it is preferable to apply a silicone-based release agent to the surface of the support 5 on which the first adhesive layer 2 is formed and the surface of the cover film 6 on the second adhesive layer 3 side. .
[0049]
As described above, according to the first method, the micro through-hole 10 having a diameter of 20 μm or less can be easily formed in the core film 1 by adopting photolithography.
Embodiment of the 2nd method of manufacturing the electroconductive adhesive sheet of this invention is described using FIGS.
[0050]
First, the first adhesive layer 2 is formed on the support 5 by applying an adhesive solution with a predetermined thickness on the support 5 and then drying. FIG. 3A shows this state. On the first adhesive layer 2, a core film 1 having a through hole 10 as shown in FIG. FIG. 3C shows this state. This joining is performed by placing the core film 1 on the first adhesive layer 2 and heating. This heating temperature is set to a temperature at which the adhesive forming the adhesive layer 2 is not cured.
[0051]
Next, the conductive fine particles 4 are filled into the through holes 10 of the core film 1 by the same method as the first method. Next, the second adhesive layer 3 is formed on the core film 1 and the cover film 6 is coated by the same method as the first method. Thereby, as shown in FIG.3 (d), a conductive adhesive sheet is obtained in the state by which the support body 5 was joined to one surface, and the cover film 6 was joined to the other surface, respectively.
[0052]
In this second method, as a method of forming the core film 1 having the through holes 10 as shown in FIG. 3B, (1) As shown in FIG. 4, the core film 1 is irradiated with laser. Method (2) As shown in FIG. 5, it is preferable to employ a method of punching the core film 1 with a press using press dies 90, 170.
As an embodiment of the method (1), first, as shown in FIG. 4A, a metal mask K having an opening K1 corresponding to the through-hole 10 formed in the core film 1 is formed on the support 5. It arrange | positions above the core film 1 which consists of a polyimide resin fixed on the top, and excimer laser is irradiated from on this mask K. FIG. Thereby, the part irradiated with the excimer laser of the core film 1 is removed, and the through hole 10 is formed. FIG. 4B shows this state. Next, the support 5 is removed from the core film 1.
[0053]
In the method {circle around (2)}, first, a press mold is prepared. An embodiment of this manufacturing method will be described with reference to FIGS.
First, a conductive substrate 7 such as an aluminum plate or a stainless steel plate is prepared, and a zinc substitution plating process is performed on the surface thereof to form a plating layer having a thickness of about 200 μm. On this plated layer, the negative photosensitive resin layer 8 is formed by the same method as the method for forming the photosensitive resin layer 11 described above.
[0054]
Next, an exposure mask M having a light shielding portion corresponding to the through hole 10 of the core film 1 is prepared, and this exposure mask M is disposed above the photosensitive resin layer 8. High-energy parallel light is irradiated from above the exposure mask M. Parallel light is obtained by processing light from a light source with a fly-eye lens and several reflecting mirrors. FIG. 6A shows this state.
[0055]
Next, a predetermined development process is performed to remove a portion of the photosensitive resin layer 8 that was not exposed to light. Thereby, a through hole 81 corresponding to the through hole 10 of the core film 1 is formed in the photosensitive resin layer 8. FIG. 6B shows this state.
Next, as a pretreatment for plating, the surface of the plate-like material composed of the conductive substrate 7 and the photosensitive resin layer 8 is cleaned by reactive ion etching or the like. That is, the development residue remaining on the plate after development is completely removed.
[0056]
Next, a plate-like material composed of the conductive substrate 7 and the photosensitive resin layer 8 is placed in a plating bath, and the conductive substrate 7 is energized, whereby electrolytic plating of nickel containing phosphorus is performed. Thereby, the plating layer 9 is formed on the photosensitive resin layer 8 and in the through hole 81. This state is shown in FIG. The thickness of the plating layer 9 is set to a thickness that can exhibit the strength required for a press mold. For example, the depth of the through hole 81 is about 50 times.
[0057]
Next, the conductive substrate 7 is removed from the plate-like material composed of the conductive substrate 7, the photosensitive resin layer 8, and the plating layer 9 by an etching method or physically peeling. Next, the photosensitive resin layer 8 is peeled from the plating layer 9. As shown in FIG. 6D, the plated layer 9 becomes a male mold 90 having protrusions 91 corresponding to the arrangement of the through holes 10 of the core film 1.
[0058]
Next, a copper mold 15 having the same shape as the male mold 90 is produced by performing the same method as the male mold 90 except that electrolytic copper plating is performed instead of electrolytic nickel plating. That is, the mold 15 has a protrusion 15 a corresponding to the arrangement of the through holes 10 of the core film 1. Next, the plating layer 17 is formed on the surface of the mold 15 on the side of the protrusions 15a by performing electrolytic plating of nickel containing phosphorus. This state is shown in FIG. The thickness of the plating layer 17 is set to a thickness that can exhibit the strength required for a press mold. For example, it is about 50 times the protruding length of the protrusion 15a.
[0059]
Next, the copper mold 15 is removed from the plating layer 17 by etching using a solution that dissolves copper, such as ammonium persulfate, ferric chloride aqueous solution, or cupric chloride aqueous solution. As shown in FIG. 6 (f), the plated layer 17 becomes a female die 170 having a recess 171 that receives the protrusion 91 of the male die 90.
The male mold 90 and the female mold 170 obtained in this way are mounted on a press device, and the patterns on both the upper and lower sides can be observed simultaneously so that the projection 91 of the male mold 90 and the recess 171 of the female mold 170 are accurately engaged with each other. While looking at the CCD camera, align at least two locations. Next, as shown in FIG. 5, the core film 1 is placed between the male mold 90 and the female mold 170 and pressed, so that a through hole is formed in a portion sandwiched between the projection 91 and the concave portion 171 of the core film. Is formed. As this pressing apparatus, a flip chip bonder or the like used when reversing an LSI bare chip and mounting it on a substrate can be used by modifying it.
[0060]
As described above, according to the second method, a minute through hole 10 having a diameter of 20 μm or less is easily formed in the core film 1 by employing a laser irradiation method or a press working method using a fine mold. be able to.
In this embodiment, as a method for forming the first adhesive layer 2 on one surface of the core film 1 having the through holes 10 in the second method of the present invention, the first adhesive layer 2 is formed on the support 5. Although the method of joining the core film 1 having the through holes 10 on the first adhesive layer 2 is adopted, instead of this, for example, an adhesive solution is formed on the core film 1 having the through holes 10. You may employ | adopt the method of apply | coating and drying.
[0061]
In this case, after forming the first adhesive layer on the core film, the core film side is turned up, and conductive fine particles are put in the through holes, and then the second adhesive layer is formed on the core film. Form. In addition, even when an adhesive enters the through-hole of the core film when the first adhesive layer is formed, the adhesive is also kept in an uncured state like the first adhesive layer. The conductive fine particles can be put into the through holes by, for example, pushing the conductive fine particles into the through holes.
[0062]
An embodiment of a third method for producing the conductive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 7A, the negative photosensitive resin layer 11 is formed on the conductive substrate 7 by the same method as the first method, and an exposure mask M for the photosensitive resin layer 11 is formed. High-energy light irradiation and development processing are performed. As a result, the core film 1 having the through holes 10 is formed on the conductive substrate 7. FIG. 7B shows this state.
[0063]
Next, the conductive fine particles 4 are grown in the through holes 10 of the core film 1 by electrolytic plating. In this embodiment, by adjusting the current density at the time of electrolytic plating, as shown in FIG. 7C, the conductive fine particles 4 have a height protruding from the core film 1 at the center of the through-hole 10, Moreover, it is grown so that the tip is rounded.
Next, the first adhesive layer 2 is formed on the surface of the core film 1 opposite to the conductive substrate 7 by the same method as the method in which the second adhesive layer 3 is formed by the first method. . Next, the cover film 6 is covered on the first adhesive layer 2. Instead of this, the cover film 6 on which the adhesive layer 2 is formed is heated by placing the cover layer 6 on the core film 1 with the adhesive layer 2 facing the core film 1 side, thereby heating the cover film 6 of FIG. It is good also as a state. However, the heating temperature in this case needs to be a temperature at which the adhesive forming the adhesive layer 2 is not cured.
[0064]
Next, the conductive substrate 7 is removed by an etching method or peeling. FIG. 7D shows this state.
Next, the second adhesive layer 3 is formed on the surface of the core film 1 from which the conductive substrate 7 has been removed, and the cover film 6 is covered on the second adhesive layer 3. Thus, as shown in FIG.7 (e), the electroconductive adhesive sheet with which the cover film 6 was joined on both surfaces is obtained.
[0065]
According to the third method, since the conductive fine particles 4 are grown in the through holes 10 by the electrolytic plating method, the conductive fine particles 4 can be easily arranged in the through holes 10.
[0066]
[Example 1]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the first method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIG.
First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 25 μm was prepared, and the surface of this PET film was coated with polydimethylsiloxane as a release agent to a thickness of about 50 nm. A thermoplastic polyimide solution was applied to the surface of the PET film (support) 5 coated with a release agent using a blade coater. Next, an adhesive layer (first adhesive layer) 2 made of thermoplastic polyimide having a thickness of 10 μm was formed on the PET film 5 by drying and removing the solvent from the coating film.
[0067]
As a thermoplastic polyimide solution, 100 parts by weight of a thermoplastic polyimide solution “UPA-N-111C” manufactured by Ube Industries Co., Ltd. was added in a proportion of 1 part by weight of pentaerythritol trimethacrylate and mixed for 30 minutes. I used it until it disappeared.
On this adhesive layer 2, a liquid negative photosensitive resin was applied using a blade coater to form a photosensitive resin layer 11 having a thickness of 4 μm. A PET film having a thickness of 10 μm was placed on the photosensitive resin layer 11.
[0068]
The photosensitive resin used was an unsaturated polyester prepolymer having a number average molecular weight of 2000: 100 parts by weight, tetraethylene glycol dimethacrylate: 10.7 parts by weight, diethylene glycol dimethacrylate: 4.3 parts by weight, pentaerythritol tris Methacrylate: 15 parts by weight, phosphoric acid (monomethacryloyloxyethyl): 3.6 parts by weight, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone: 2 parts by weight, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol : 0.04 parts by weight, and “OPLAS Yellow 140” manufactured by Orient Chemical Co., Ltd .: 0.11 parts by weight were added and mixed by stirring.
[0069]
The unsaturated polyester prepolymer having a number average molecular weight of 2,000 was obtained by dehydration polycondensation reaction by adjusting the charging ratio of adipic acid, isophthalic acid, itaconic acid, fumaric acid and diethylene glycol. The number average molecular weight was measured using a gel permeation chromatography apparatus manufactured by Shimadzu Corporation and calibrated with a polystyrene standard product.
[0070]
This photosensitive resin does not contain a solvent, but can be applied as it is with the above-mentioned film thickness. However, when coating with a film thickness of 2 μm or less, it is preferable to add a solvent to lower the viscosity. In that case, the photosensitive resin layer is obtained by drying the solvent after coating.
Next, as an exposure mask M, circular chrome patterns with a diameter of 8 μm are regularly arranged with the same arrangement as the arrangement of the through holes 10 shown in FIG. A glass photomask was prepared. This exposure mask M was placed on the photosensitive resin layer 11, and the light from the ultrahigh pressure mercury lamp was irradiated on the exposure mask M. This irradiation light is a parallel light beam obtained by collimating the light from the light source by the optical system. FIG. 2A shows this state. However, in this figure, a PET cover film having a thickness of 10 μm is omitted.
[0071]
Next, the PET cover film was peeled off and developed. As a result, the portion of the photosensitive resin layer 11 that was not exposed to light was removed, and as shown in FIG. 2B, the core film 1 having a large number of through holes 10 became a thermoplastic polyimide adhesive layer (first layer). 1 adhesive layer) 2. In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 8 μm are regularly arranged at a pitch of 15 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG.
[0072]
After the powder composed of a large number of conductive fine particles 4 is dispersed on the core film 1, the conductive fine particles 4 are put in all the through holes 10 by applying vibration to the entire sheet using an ultrasonic vibration device. It was. Next, the adhesive film “SPV-363” manufactured by Nitto Denko Corporation is attached to the surface of the core film 1 using a roller, and then peeled off, so that it does not enter the through-hole 10 and the upper surface of the core film 1. The existing conductive fine particles 4a were removed.
[0073]
As the powder composed of the conductive fine particles 4, the composition described in JP-A-6-223633 is Ag. x Cu (1-x) (0.008 ≦ x ≦ 0.4), the silver concentration on the particle surface is higher than 2.2 times the average silver concentration, and a spherical shape having a region in which the silver concentration increases toward the particle surface in the vicinity of the surface A powder made of conductive particles having an average particle size of 6 μm and a standard deviation of the particle size distribution of 0.6 μm was used.
[0074]
Next, as shown in FIG. 2 (d), a PET film 6 having an adhesive layer (second adhesive layer) 3 made of an epoxy adhesive on one surface is used, and the adhesive layer 3 is used as a core. The film 1 was placed on the core film 1 and heated by heating toward the film 1 side.
The PET film 6 in which the adhesive layer 3 made of an epoxy adhesive is formed on one surface was produced as follows. First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 25 μm was prepared, and the surface of this PET film was coated with polydimethylsiloxane as a release agent to a thickness of about 50 nm. An epoxy adhesive solution was applied to the surface of the PET film (cover film) 6 coated with a release agent using a blade coater. Next, a layer 3 made of an epoxy adhesive having a thickness of 10 μm was formed on the PET film 6 by drying and removing the solvent from the coating film.
[0075]
The composition of the epoxy adhesive solution used is as follows: bisphenol A type liquid epoxy resin: 10 parts by weight, phenoxy resin: 10 parts by weight, latent hardener comprising imidazole derivative epoxy compound of microcapsule type: 4.5 parts by weight Toluene / ethyl acetate mixture: 5 parts by weight.
As described above, the adhesive layer 2 made of thermoplastic polyimide is arranged on one surface of the core film 1 made of unsaturated polyester resin, and the adhesive layer 3 made of epoxy adhesive is arranged on the other surface, In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 8 μm are regularly formed at a pitch of 15 μm (lattice interval) in the arrangement shown in FIG. 1B, and one copper- A conductive adhesive sheet in which conductive fine particles 4 made of silver alloy were arranged was obtained. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Test substrates 30, 40, and 50 shown in FIGS. 8 and 9 were prepared.
[0076]
FIG. 8A is a plan view showing a part of the test substrate 30, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line aa in FIG. 8A.
The test substrate 30 has 200 wirings 32 and an inspection pad 35 connected independently for each wiring 32 on the insulating substrate 31. The wiring 32 has a width W of 15 μm, an arrangement pitch p of 30 μm, and a thickness h of 15 μm.
[0077]
9A is a plan view showing a part of the test substrates 40 and 50, FIG. 9B is a cross-sectional view of the test substrate 40, and FIG. 9C is a cross-section of the test substrate 50. FIG. FIG. 9B and FIG. 9C correspond to the cross-sectional view taken along the line bb in FIG. 9A.
The test substrate 40 has a linear wiring pattern 42, a circular dummy pattern 43, and an inspection pad 44 on a glass substrate 41. 200 dummy patterns 43 are arranged in the length direction of the wiring pattern 42 in accordance with the wiring 32 of the test substrate 30. These patterns are formed by forming a thin chromium layer on the glass substrate 41, applying copper plating thereon, and patterning the copper plating layer and the chromium layer.
[0078]
The width W1 of the wiring pattern 42 is 15 μm, the diameter W2 of the dummy pattern 43 is 15 μm, and the arrangement pitch p10 is 30 μm. The thickness of the wiring pattern 42 and the dummy pattern 43 (the total thickness of the copper plating layer and the chromium layer) is 15 μm.
When these test substrates 30 and 40 are used, a portion where all the wirings 32 of the test substrate 30 are formed and a portion where the wiring pattern 42 and the dummy pattern 43 of the test substrate 40 are formed are overlapped. The wiring 32 and the wiring pattern 42 are arranged so as to be orthogonal to each other.
[0079]
The test substrate 50 is formed by forming, on one surface of a glass substrate 51, a convex portion 52 having the same pattern as the wiring pattern 42 and the dummy pattern 43 of the test substrate 40 by excimer laser processing.
When the test substrate 30 and the test substrate 50 are used, a portion of the test substrate 30 where the wirings 32 are formed and a portion of the test substrate 50 where the convex portions 52 are formed are overlapped to form a wiring pattern. The protrusions 52 corresponding to 42 and the wirings 32 are arranged so as to be orthogonal to each other.
[0080]
Using these test substrates 30, 40, and 50, the performance of the conductive adhesive sheet was evaluated by the following method.
First, the PET films 5 and 6 were peeled from both sides of the conductive adhesive sheet obtained by the above-described method, and the conductive adhesive sheet was sandwiched between the test substrates 30 and 40 arranged as described above, and a pressure of 50 MPa was applied. The state was heated to 230 ° C. and held for 5 minutes. As a result, the test substrate 30 and the test substrate 40 were bonded by the conductive adhesive sheet.
[0081]
10A and 10B are cross-sectional views showing this state. FIG. 10A is a cross-sectional view of the wiring pattern 42 and FIG. 10B is a cross-sectional view of the dummy pattern 43. These drawings are cross-sectional views taken along a line parallel to the wiring pattern 42. At the time of bonding, the core film 1 of the conductive adhesive sheet and the adhesive layers 2 and 3 on both sides thereof are deformed, and therefore, these are collectively denoted by reference numeral 23 in FIG.
[0082]
A connection confirmation test using the conductive adhesive sheet of Example 1 was performed using the two test pieces thus obtained. That is, for each test piece, the resistance between the 200 test pads 35 of the test substrate 30 and the test pads 44 of the test substrate 40 was measured. As a result, it was found that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces.
[0083]
Next, the PET films 5 and 6 are peeled off from both sides of the conductive adhesive sheet obtained by the above-described method, the conductive adhesive sheet is sandwiched between the test substrates 30 and 50 arranged as described above, and a pressure of 50 MPa is applied. In this state, it was heated to 230 ° C. and held for 5 minutes. As a result, the test substrate 30 and the test substrate 50 were bonded by the conductive adhesive sheet.
[0084]
Using the two test pieces thus obtained, the insulation resistance between the adjacent test pads 35 was measured. As a result, the total insulation resistance is 10% between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was found that no short circuit occurred between all the adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of the two test pieces.
[0085]
From these test results, as shown in FIG. 10 (a), the conductive adhesive sheet of this example causes the wiring 32 of the test substrate 30 and the wiring pattern 42 of the test substrate 40 to be a conductive adhesive sheet. As shown in FIGS. 10A and 10B, it can be seen that the adjacent wirings 32 are not connected by the conductive fine particles 4 and are connected by the conductive fine particles 4.
[0086]
[Example 2]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the second method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIGS.
First, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 25 μm was prepared, and the surface of this PET film was coated with polydimethylsiloxane as a release agent to a thickness of about 50 nm. An epoxy adhesive solution was applied to the surface of the PET film coated with the release agent using a blade coater. Next, the solvent was dried and removed from the coating film to form an adhesive layer made of an epoxy adhesive having a thickness of 12 μm on the PET film. Two sheets comprising this PET film and an adhesive layer were prepared.
[0087]
The composition of the epoxy adhesive solution used is as follows: bisphenol A type liquid epoxy resin: 10 parts by weight, phenoxy resin: 10 parts by weight, latent hardener comprising imidazole derivative epoxy compound of microcapsule type: 4.5 parts by weight Toluene / ethyl acetate mixture: 5 parts by weight.
On the other hand, the surface of the same PET film as described above was coated with polydimethylsiloxane as a release agent in a film thickness of about 50 nm. A polyimide resin solution (“UPA-N-111C” manufactured by Ube Industries, Ltd.) was applied to the surface of the PET film coated with the release agent using a blade coater. Next, by removing the solvent from the coating film by drying, a core film 1 made of polyimide resin was formed on the PET film (support) 5 with a thickness of 4 μm as shown in FIG.
[0088]
Next, a nickel metal mask K having an opening K1 corresponding to the through-hole 10 formed in the core film 1 is prepared, and the metal mask K is disposed above the core film 1. Excimer laser was irradiated from above. FIG. 4A shows this state. In the metal mask K, circular holes having a diameter of 8 μm are regularly formed at a pitch of 15 μm (lattice interval) with the same arrangement as the arrangement of the through holes shown in FIG.
[0089]
Excimer laser irradiation was performed using an excimer laser processing apparatus including an excimer laser “INDEX800” manufactured by LUMONICS and a transport system “SIL300H” manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. The wavelength of the laser was 248 nm (krypton fluoride gas), the size of the laser beam was 8 mm × 25 mm, and the oscillation frequency was 200 Hz.
[0090]
As a result, the portion of the core film 1 irradiated with the excimer laser (the lower portion of the opening K1) was removed, and the through hole 10 was formed at a predetermined position of the core film 1. In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 8 μm are regularly arranged at a pitch of 15 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG. FIG. 4B shows this state. Next, the PET film (support) 5 is peeled from the core film 1.
[0091]
Next, the sheet made of the PET film and the adhesive layer prepared in advance by the above-described method is directed upward with the adhesive layer (first adhesive layer) 2 side upward as shown in FIG. The core film 1 having the through hole 10 was placed thereon and joined by heating. This state is shown in FIG.
After the powder composed of a large number of conductive fine particles 4 is dispersed on the core film 1, the conductive fine particles 4 are put in all the through holes 10 by applying vibration to the entire sheet using an ultrasonic vibration device. It was. This state is shown in FIG. Next, the adhesive film “SPV-363” manufactured by Nitto Denko Corporation is attached to the surface of the core film 1 using a roller, and then peeled off, so that it does not enter the through-hole 10 and the upper surface of the core film 1. The existing conductive fine particles 4a were removed.
[0092]
As the powder composed of the conductive fine particles 4, the composition described in JP-A-6-223633 is Ag. x Cu (1-x) (0.008 ≦ x ≦ 0.4), the silver concentration on the particle surface is higher than 2.2 times the average silver concentration, and a spherical shape having a region in which the silver concentration increases toward the particle surface in the vicinity of the surface A powder made of conductive particles having an average particle size of 6 μm and a standard deviation of the particle size distribution of 0.6 μm was used.
[0093]
Next, as shown in FIG. 3 (e), an adhesive layer (second adhesive layer) prepared in advance by the above-mentioned method and having an adhesive layer made of an epoxy adhesive formed on a PET film is formed. ) It was placed on the core film 1 with the 3 side facing down and joined by heating.
Thus, adhesive layers 2 and 3 made of 12 μm thick epoxy adhesive are arranged on both surfaces of the core film 1 made of polyimide resin and having a thickness of 4 μm. The core film 1 has a circular through hole 10 having a diameter of 8 μm. However, in the arrangement shown in FIG. 1B, the conductive film is regularly formed at a pitch of 15 μm (interval between lattice points), and one conductive fine particle 4 made of copper-silver alloy is arranged in each through hole 10. An adhesive sheet was obtained. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet prepared in Example 2 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were prepared in the same manner as in Example 1 and performed. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0094]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0095]
[Example 3]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the second method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIGS. 3, 5, and 6. FIG.
[0096]
In the same manner as in Example 2, a core film 1 made of polyimide resin was formed on a PET film (support) 5. However, the thickness was 7 μm. Next, the PET film (support) 5 was peeled from the core film 1.
Next, as shown in FIG. 5, the core film 1 is sandwiched between pressing dies (pressing surface: 2.5 cm square) composed of a male mold 90 and a female mold 170, and punched with a press. A through hole 10 was opened in the film 1. A flip chip bonder was used as the pressing device, and the alignment of the male mold 90 and the female mold 170 was performed by a method using a CCD camera. The press pressure was 3 MPa.
[0097]
The male mold 90 and the female mold 170 were produced by the method described with reference to FIG. 6 in the above-described embodiment.
Specifically, an aluminum plate having a thickness of 200 μm was prepared as the conductive substrate 7, and the surface thereof was subjected to zinc substitution plating. The photosensitive resin layer 8 was formed with a thickness of 100 μm by the same method using the same photosensitive resin solution as in Example 1. As the exposure mask M, a glass photomask in which circular chrome patterns having a diameter of 10 μm are arranged in the same manner as the arrangement of the through holes 10 shown in FIG. Prepared. The exposure method was the same as the method for the photosensitive resin layer 11 of Example 1.
[0098]
Reactive ion etching of the plating pretreatment was performed using “PC-1000-5030” manufactured by Yamato Kagaku while introducing oxygen gas into the system. The thickness of the plating layer 9 formed by nickel plating was 5 mm. The conductive substrate 7 was removed by wet etching using hydrochloric acid. Moreover, the copper type | mold 15 was produced by the electrolytic copper plating process which uses copper sulfate. The thickness of the plating layer 17 by nickel plating was 5 mm. The copper mold 15 was removed by wet etching using an aqueous ammonium persulfate solution and concentrated nitric acid.
[0099]
In this way, a core film 1 was obtained in which circular through holes 10 having a diameter of 10 μm were regularly arranged at a pitch of 20 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG. An adhesive layer was formed on both surfaces of the core film 1 by the following method.
First, as shown in FIG. 3A, an adhesive layer (first adhesive layer) 2 prepared from a PET film and an adhesive layer (10 μm) prepared in advance by the same method as in Example 2 was used. Placed side up. Next, the core film 1 having the obtained through holes 10 was placed on the adhesive layer 2 and joined by heating. This state is shown in FIG.
[0100]
Thereafter, the conductive fine particles 4 were arranged in the through holes 10 and the second adhesive layer 3 and the cover film 6 were joined in the same manner as in Example 2. However, the powder made of the conductive fine particles 4 was made of the same material but had an average particle diameter of 8 μm and a standard deviation of particle diameter distribution of 0.8 μm.
As a result, the adhesive layers 2 and 3 made of 10 μm epoxy adhesive are arranged on both surfaces of the core film 1 made of polyimide resin and having a thickness of 10 μm. The core film 1 has circular through holes 10 having a diameter of 10 μm, Conductive adhesion, which is regularly formed with a pitch of 20 μm (lattice spacing) in the arrangement shown in FIG. 1B, and each conductive fine particle 4 made of copper-silver alloy is arranged in each through hole 10. A sheet was obtained. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
The width W of the wiring 32 of the test substrate 30 was 20 μm, and the arrangement pitch p was 40 μm. The width of the wiring pattern 42 of the test substrate 40 was 20 μm, the diameter W2 of the dummy pattern 43 was 20 μm, and the arrangement pitch p10 was 40 μm. The pattern of the convex part 52 of the test substrate 50 was matched with this. Except for this point, test substrates 30, 40, and 50, which are the same as those in Example 1, were prepared.
[0101]
Using the test substrates 30, 40, 50 and the conductive adhesive sheet prepared in Example 3, two test pieces were prepared in the same manner as in Example 1, and the same as in Example 1 The connection confirmation test and the short confirmation test were conducted by the above method.
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
[0102]
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0103]
[Example 4]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the second method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIG.
First, a thermal release sheet (“Riva Alpha” manufactured by Nitto Denko Corporation) 400 is prepared in which a release layer (resin layer in which foaming is generated by heat and the adhesive strength is extremely reduced) 46 is formed on the surface of the plastic film 45. did. Next, on the release layer 46 of this sheet 400, the same negative photosensitive resin solution as in Example 1 was applied by using a blade coater to form the photosensitive resin layer 11 with a thickness of 4 μm. . A PET film 47 having a thickness of 10 μm was placed on the photosensitive resin layer 11.
[0104]
Next, as an exposure mask M, a circular chrome pattern having a diameter of 8 μm is regularly arranged at a pitch of 15 μm with the same arrangement as that of the through holes 10 shown in FIG. A glass photomask was prepared. This exposure mask M was placed on the photosensitive resin layer 11, and the light from the ultrahigh pressure mercury lamp was irradiated on the exposure mask M. This irradiation light is a parallel light beam obtained by collimating the light from the light source by the optical system. FIG. 11A shows this state.
[0105]
Next, after the PET film 47 was peeled off, development processing was performed. As a result, the portion of the photosensitive resin layer 11 that was not exposed to light was removed, and the core film 1 having a large number of through-holes 10 passed through the release layer 46 as shown in FIG. Formed on top. In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 8 μm are regularly arranged at a pitch of 15 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG.
[0106]
An adhesive layer was formed on both surfaces of the core film 1 having the through-holes 10 thus obtained by the following method.
First, in the state of FIG. 11B, foaming was caused in the release layer 46 of the sheet 400 by heating the laminated sheet composed of the core film 1 and the sheet 400. Thereby, the film 45 of the sheet 400 can be easily peeled from the core film 1.
[0107]
Next, the sheet 300 made of the PET film 5 and the adhesive layer (10 μm) 2 prepared in advance by the same method as in Example 2 is placed with the adhesive layer (first adhesive layer) 2 side facing up. The laminated sheet in the state of FIG. 11B was placed on the core film 1 with the core film 1 side facing the adhesive layer 2 side, and joined by heating. This state is shown in FIG. Next, the film 45 was peeled from the core film 1. This state is shown in FIG. This state is the same as the state shown in FIG.
[0108]
Thereafter, as shown in FIGS. 3D and 3E, the conductive fine particles 4 are disposed in the through holes 10 and the second adhesive layer 3 and the cover film 6 are joined in the same manner as in Example 2. went. The same powder as in Example 2 was used for the powder composed of conductive fine particles 4.
Thereby, the adhesive layers 2 and 3 made of 10 μm epoxy adhesive are arranged on both surfaces of the core film 1 made of unsaturated polyester resin and having a thickness of 4 μm. The core film 1 has a circular through hole 10 having a diameter of 8 μm. However, in the arrangement shown in FIG. 1B, the conductive film is regularly formed at a pitch of 15 μm (interval between lattice points), and one conductive fine particle 4 made of copper-silver alloy is arranged in each through hole 10. An adhesive sheet was obtained. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet produced in Example 4 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were produced in the same manner as in Example 1 and carried out. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0109]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0110]
[Example 5]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the third method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIG.
First, an aluminum plate (conductive substrate) 7 having a thickness of 100 μm was prepared, and the surface was subjected to zinc substitution plating. A negative photosensitive resin layer 11 having a thickness of 10 μm is formed on the plated surface of the aluminum plate 7 by applying the same negative photosensitive resin solution as in Example 1 using a blade coater and drying. did. A PET film having a thickness of 10 μm was placed on the photosensitive resin layer 11. FIG. 7A shows this state. However, in this figure, the PET film on the photosensitive resin layer 11 is omitted.
[0111]
Next, as an exposure mask M, circular chrome patterns having a diameter of 5 μm are regularly arranged at a pitch of 10 μm with the same arrangement as the arrangement of the through holes 10 shown in FIG. A glass photomask was prepared. This exposure mask M was placed on the photosensitive resin layer 11, and the light from the ultrahigh pressure mercury lamp was irradiated on the exposure mask M. This irradiation light is a parallel light beam obtained by collimating the light from the light source by the optical system.
[0112]
Next, after the PET film was peeled off, development processing was performed. As a result, the portion of the photosensitive resin layer 11 that was not exposed to light was removed, and the core film 1 having a large number of through holes 10 was formed on the aluminum plate 7 as shown in FIG. . In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 5 μm are regularly arranged at a pitch of 10 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG.
[0113]
Next, as a pretreatment for plating, the surface of the plate-like material composed of the conductive substrate 7 and the photosensitive resin layer 11 is subjected to reactive ion etching treatment, and the development residue remaining on the plate-like material after development is removed. Completely removed.
Next, this plate product was put in a copper pyrophosphate plating bath and energized to the aluminum plate 7 to grow copper conductive fine particles 4 in the through holes 10 of the core film 1 by electrolytic plating. By setting the current density at the time of plating as high as 3 A / dm @ 2, the copper grew until it protruded upward from the through hole 10 and the tip was rounded. As a result, conductive fine particles 4 made of a columnar body made of copper and having a rounded tip were formed in all the through holes 10 of the core film 1. The height of the columnar material forming the conductive fine particles 4 was 12 μm, which was higher than the thickness of 10 μm of the core film 1 at the highest central portion.
[0114]
Next, a sheet made of a PET film and an adhesive layer (10 μm) prepared in advance by the same method as in Example 2 is used, as shown in FIG. 7C, an adhesive layer (first adhesive layer). 2 was put on the core film 1 with the core film 1 side facing and joined by heating.
Next, in order to prevent liquid from entering the adhesive layer 2, the four end surfaces of the adhesive layer 2 were closed. Next, the aluminum plate 7 was completely removed by wet etching by spraying hydrochloric acid onto the aluminum plate 7. FIG. 7D shows this state.
[0115]
Next, a sheet made of a PET film and an adhesive layer (10 μm) prepared in advance by the same method as in Example 2, with the adhesive layer (second adhesive layer) 3 facing the core film 1 side, It put on the core film 1 and joined by heating. This state is shown in FIG.
Thereby, the adhesive layers 2 and 3 made of 10 μm epoxy adhesive are arranged on both surfaces of the core film 1 made of unsaturated polyester resin and having a thickness of 10 μm, and the circular through-hole 10 having a diameter of 5 μm is formed in the core film 1. A conductive adhesive sheet is obtained which is regularly formed at a pitch of 10 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG. 1 (b), and each copper fine particle 4 is arranged in each through hole 10. It was. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet produced in Example 5 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were produced in the same manner as in Example 1 and carried out. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0116]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0117]
[Example 6]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
In this example, a conductive adhesive sheet is produced by a method corresponding to the example of the fourth method of the present invention. This embodiment will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 12 (a), a sheet made of a PET film (support) 5 and an adhesive layer 2 having a thickness of 10 μm made of an epoxy adhesive, prepared in advance by the method shown in Example 1, An adhesive layer (first adhesive layer) 2 side was placed facing upward, and a core film 1 made of polyimide resin having a thickness of 4 μm was formed thereon. The core film 1 was formed by applying the polyimide resin solution used in Example 2 onto the adhesive layer 2 and then drying the solvent from the coating film. This obtained the core film 1 in which the 1st adhesive bond layer was formed in one surface.
[0118]
Next, a 5 μm PET film 6 a was placed on the core film 1, and the same metal mask as in Example 2 was placed thereon, and an excimer laser was irradiated from above the metal mask. This irradiation was performed until the PET film 6a and the core film 1 were removed in the entire thickness direction, and the surface of the adhesive 2 was also removed a little (until a hole having a depth of 12 μm was formed).
[0119]
Thereby, the portions of the PET film 6 a and the core film 1 irradiated with the excimer laser were removed, and the through holes 10 were formed at predetermined positions of the core film 1. In the core film 1, circular through holes 10 having a diameter of 8 μm are regularly arranged at a pitch of 15 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG. FIG. 12B shows this state.
[0120]
Next, the same powder as in Example 1 was sprayed on the PET film 6a, and then the whole sheet was vibrated using an ultrasonic vibration device, whereby the core film 1 was coated. The conductive fine particles 4 were put in all the through holes 10. This state is shown in FIG. Next, the upper surface of the core film 1 was exposed by peeling the PET film 6 a from the core film 1. At this time, the conductive fine particles 4a present on the upper surface of the PET film 6a without removing the through holes 10 were removed.
[0121]
Next, as shown in FIG. 12 (d), a sheet made of a PET film (cover film) 6 and an adhesive layer 3 having a thickness of 10 μm made of an epoxy adhesive prepared in advance by the method shown in Example 1 is used. The adhesive layer (second adhesive layer) 3 was placed on the core film 1 with the side facing downward and joined by heating.
Thus, adhesive layers 2 and 3 made of an epoxy adhesive having a thickness of 10 μm are arranged on both surfaces of the core film 1 made of polyimide resin and having a thickness of 4 μm. The core film 1 has a circular through hole 10 having a diameter of 8 μm. However, in the arrangement shown in FIG. 1B, the conductive film is regularly formed at a pitch of 15 μm (interval between lattice points), and one conductive fine particle 4 made of copper-silver alloy is arranged in each through hole 10. An adhesive sheet was obtained. PET films 5 and 6 are bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet produced in Example 6 and the same test substrates 30, 40, 50 as in Example 1, two test pieces were produced in the same manner as in Example 1, and the test was carried out. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0122]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0123]
[Example 7]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
As shown in FIG. 13A, first, an epoxy adhesive layer 510 having a thickness of 6 μm was formed on a PET film 500 having a thickness of 25 μm by the same method as in Example 2. Two sheets comprising the PET film 500 and the epoxy adhesive layer 510 were prepared.
[0124]
Next, as the core film 1, a wholly aromatic polyamide film (“Aramika (trade name)” manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) having a thickness of 4.5 μm was prepared. Also, 80 parts by weight of a polysulfone resin (“Udel P-1700” manufactured by Amoco Polymer), 20 parts by weight of a cyanate ester resin (“B-30” manufactured by Ciba-Geigy), and 400 parts by weight of tetrahydrofuran are mixed with stirring. As a result, an adhesive solution was obtained. The adhesive solution was applied onto the core film 1 and dried to form a polysulfone / cyanate ester adhesive layer 530 having a thickness of 6 μm on the core film 1. FIG. 13B shows this state.
[0125]
The softening temperature of the adhesive forming each of the adhesive layers 510 and 530 was measured using a rotary “rheometer” which is a viscoelasticity measuring device manufactured by Rheometrics Scientific F.E. The measurement conditions were a rotation speed: 10 rad / sec, a temperature rise start temperature: room temperature, a temperature rise speed: 10 ° C./min, and the first temperature at which the slope of the viscosity curve changed was determined as the softening temperature. As a result, the softening temperature of the epoxy adhesive was about 80 ° C., and the softening temperature of the polysulfone / cyanate ester adhesive was 160 ° C.
[0126]
Next, as shown in FIG. 13C, a sheet made of the PET film 500 and the epoxy adhesive layer 510 and a sheet made of the core film 1 and the polysulfone / cyanate ester adhesive layer 530 are bonded to the adhesive layer 510, 530 were faced to each other and bonded together while heating to 60 ° C. Thereby, the laminated sheet which consists of two types of adhesive bond layers 510 and 530 with which the softening temperature difference is 20 degreeC or more, PET film 500, and the core film 1 was obtained.
[0127]
Next, through holes 10 were formed in the core film 1 of the laminated sheet by an excimer laser in the same manner as in Example 2. FIG. 13D shows this state. The arrangement of the through holes was the same as that shown in FIG. The hole diameter of the through hole 10 was 7.5 μm.
Since the excimer laser irradiation needs to be performed under the condition that the through holes 10 are reliably formed at each position of the core film 1, the surface of the adhesive layer 530 is also irradiated with the excimer laser. However, the removal rate by the excimer laser is higher in the core film 1 made of wholly aromatic polyamide than in the polysulfone / cyanate ester adhesive layer 530. Therefore, even when irradiation is performed under the above conditions, the surface of the adhesive layer 530 is removed. The resulting recess can be suppressed to a depth of less than 1 μm.
[0128]
Next, the same conductive fine particles 4 as in Example 2 were filled in the through holes 10 of the core film 1 by the same method as in Example 2. Next, an adhesive layer 530 made of polysulfone / cyanate ester having a thickness of 6 μm was formed on the core film 1 in this state by applying the above-described adhesive solution and drying it.
Next, on this polysulfone / cyanate ester adhesive layer 530, a sheet comprising the PET film 500 and the epoxy adhesive layer 510 shown in FIG. 13A is placed with the epoxy adhesive layer 510 side facing down. And heated to 60 ° C. for bonding. FIG. 13 (e) shows this state.
[0129]
As a result, an adhesive layer 530 made of polysulfone / cyanate ester having a thickness of 6 μm and an adhesive layer 510 made of epoxy resin having a thickness of 6 μm are formed on both surfaces of the core film 1 made of wholly aromatic polyamide resin and having a thickness of 4.5 μm. Are arranged in this order from the core film 1 side, and circular through holes 10 having a diameter of 7.5 μm are regularly formed in the core film 1 at a pitch of 15 μm (lattice point spacing) in the arrangement shown in FIG. Thus, a conductive adhesive sheet was obtained in which one conductive fine particle 4 made of copper-silver alloy was disposed in each through-hole 10. A PET film 500 is bonded to both surfaces of the conductive adhesive sheet.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet prepared in Example 7 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were prepared in the same manner as in Example 1, and the test was performed. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0130]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0131]
[Example 8]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
As shown in FIG. 14, a conductive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 7 except that the taper-shaped through hole 10 a was formed in the core film 1.
The taper-shaped through hole 10a uses an excimer laser capable of projecting a mask pattern down to 1/10. In FIG. 4A, laser irradiation is performed while gradually reducing the opening K1 having a hole diameter of 8 μm. It was. Thereby, a tapered through hole 10a having a circular cross section parallel to the film surface, a diameter of the large diameter portion of 8 μm, and a diameter of the small diameter portion of 4 μm was formed.
[0132]
As shown in FIG. 14A, the core film 1 was bonded to the first adhesive layer 2 with the small-diameter portion side of the through hole 10 a facing the first adhesive layer 2. In this state, the large diameter portion side of the through hole 10a is an exposed surface, and the conductive fine particles 4 are filled in the through hole 10a in this state. As the conductive fine particles, those having the same material as in Example 2 and having an average particle diameter of 6 μm and a standard deviation of the particle diameter distribution of 0.6 μm were used.
[0133]
As a result, the conductive fine particles 4 are held in the narrowed portion of the tapered through-hole 10, so that they do not protrude into the lower adhesive layer (first adhesive layer) 2, and the inside of the core film 1 Will definitely exist.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet produced in Example 8 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were produced in the same manner as in Example 1 and carried out. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0134]
As a result, in the connection confirmation test, it is confirmed that there is no one that is not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40 among the total of 400 wirings 32 of the test substrate 30 of the two test pieces. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0135]
[Comparative Example 1]
[Preparation of conductive adhesive sheet]
The conductive fine particles 4 used in Example 1 were added to the epoxy adhesive solution used in Example 1 at a ratio of 1.2% by volume and mixed. This liquid was applied to the surface of a PET film coated with polydimethylsiloxane as a release agent using a blade coater. Next, by removing the solvent from the coating film by drying, a conductive adhesive sheet having a thickness of 28 μm was formed on the PET film. This conductive adhesive sheet is used after peeling off the PET film.
[0136]
The addition rate of the conductive fine particles 4 to the epoxy adhesive solution was set so that the content of the conductive fine particles 4 in the conductive adhesive sheet was approximately the same as that in Example 2.
[Performance evaluation]
Using the conductive adhesive sheet produced in Comparative Example 1 and the same test substrates 30, 40, 50 as in Example 1, two test pieces were produced in the same manner as in Example 1, A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0137]
As a result, in the connection confirmation test, it was confirmed that four of the two test pieces in total of the wiring 32 of the test substrate 30 were not electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40. It was done.
Further, in the short check test, all the insulation resistances are 10 between the total of 398 test pads of the two test pieces. 12 It was more than Ω. As a result, it was confirmed that no short circuit occurred between all adjacent wirings 32 with respect to all 400 wirings 32 in total of two test pieces.
[0138]
[Comparative Example 2]
A conductive adhesive sheet having the same configuration was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the addition ratio of the conductive fine particles 4 to the epoxy adhesive solution was 20% by volume.
Using the conductive adhesive sheet prepared in Comparative Example 2 and the same test substrates 30, 40, and 50 as in Example 1, two test pieces were prepared in the same manner as in Example 1 and performed. A connection confirmation test and a short confirmation test were performed in the same manner as in Example 1.
[0139]
As a result, in the connection confirmation test, it was confirmed that all the wirings 32 of the total 400 test substrates 30 of the two test pieces are electrically connected to the wiring pattern 42 of the test substrate 40. .
Further, in the short check test, the insulation resistance is 10 at 10 locations among the total of 398 test pads of 2 test pieces. 8 It became below Ω. As a result, it was found that a short circuit occurred between the adjacent wirings 32 at these ten locations.
[0140]
【The invention's effect】
As described above, according to the conductive adhesive sheet of the present invention, a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement in the core film surface, and conductive fine particles are arranged in the through holes. It is possible to set the size and the size corresponding to the arrangement pitch of the pattern to be connected, the wiring width, and the like. In use, the arrangement of the conductive fine particles in the sheet surface is fixed by the core film.
[0141]
Therefore, by setting the pitch and size of the through holes corresponding to the arrangement pitch and wiring width of the pattern to be connected, even when connecting patterns arranged at a fine pitch, short-circuits between adjacent patterns. Can be prevented from occurring. Further, it is possible to eliminate the fear that the pattern to be connected is disposed at a position where no conductive fine particles are present.
[0142]
As a result, according to the conductive adhesive sheet of the present invention, a highly reliable connection can be performed even when the dimension of the pattern to be connected is small or when a pattern arranged at a fine pitch is connected.
Further, according to the method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention, the conductive fine particles are regularly and densely arranged in the sheet surface (so that the distance between adjacent conductive fine particles is 20 μm or less). The manufactured conductive adhesive sheet can be easily manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view (a) and a plan view (b, c) showing an embodiment of a conductive adhesive sheet of the present invention.
FIG. 2 is a diagram for explaining an embodiment of a first method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Example 1;
FIG. 3 is a diagram illustrating an embodiment of a second method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Examples 2 to 4.
4 is a diagram for explaining an embodiment of a second method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Example 2. FIG.
5 is a diagram for explaining an embodiment of a second method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Example 3. FIG.
6 is a diagram for explaining an embodiment of a second method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Example 3. FIG.
7 is a diagram for explaining an embodiment of a third method for producing a conductive adhesive sheet of the present invention and Example 7. FIG.
FIGS. 8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view showing a test substrate 30 used for performance evaluation in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 of the present invention. FIGS.
FIG. 9 is a plan view (a) and sectional views (b) and (c) showing test substrates 40 and 50 used for performance evaluation in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 of the present invention. .
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state where the test substrate 30 and the test substrate 40 are bonded by the conductive adhesive sheet, where (a) shows a cross-sectional view of a portion of the wiring pattern 42; ) Shows a cross-sectional view of the dummy pattern 43 portion.
FIG. 11 is a view for explaining Example 4 (second method for producing a conductive adhesive sheet) of the present invention.
FIG. 12 is a diagram illustrating Example 6 (fourth method for producing a conductive adhesive sheet) of the present invention.
FIG. 13 is a diagram illustrating a conductive adhesive sheet of Example 7 of the present invention.
FIG. 14 is a diagram illustrating a conductive adhesive sheet of Example 8 of the present invention.
FIG. 15 is a cross-sectional view (a) and a plan view (b) showing an example of a conventional conductive adhesive sheet.
FIG. 16 is a cross-sectional view for explaining problems of a conventional conductive adhesive sheet.
[Explanation of symbols]
1 Core film
2 Adhesive layer (first adhesive layer)
3 Adhesive layer (second adhesive layer)
4 Conductive fine particles
5 Support
6 Cover film
6a PET film
7 Conductive substrate
8 Photosensitive resin layer
9 Plating layer
10 Through hole
10a Tapered through hole
11 Photosensitive resin layer
15 Copper mold
15a protrusion
17 Plating layer
20 Sheet made of adhesive layer
23 Core film during bonding and adhesive layers on both sides
30 Test substrate
31 Insulating substrate
32 Wiring
35 Inspection pad
40 Test substrate
41 glass substrate
42 Wiring pattern
43 Dummy pattern
44 Inspection pad
45 films
46 Release layer
47 PET film
50 test substrate
51 glass substrate
52 Convex
81 Through hole
90 Male (press mold)
91 protrusion
170 Female (press mold)
171 recess
500 PET film
510 Epoxy adhesive layer (adhesive layer with low softening temperature)
530 Polysulfone / cyanate ester adhesive layer
(Adhesive layer with high softening temperature)
A Position where conductive fine particles do not exist
B1 board
B2 board
h Wiring thickness
K1 opening
K metal mask
M exposure mask
P1 connection pattern
P2 connection pattern
p Connection pitch
p10 Dummy pattern arrangement pitch
W Wiring width
W1 Wiring pattern width
W2 Dummy pattern diameter

Claims (8)

シート面内に分散配置された導電性微粒子により、シートの厚さ方向のみに導電性を付与する接着シートにおいて、厚さ方向の中央に配置したコアフィルムの両面に接着剤層が配置され、前記コアフィルムおよび接着剤層は絶縁性であり、コアフィルムには厚さ方向に貫通するテーパ状の貫通孔がフィルム面内に所定配置で複数個形成され、当該貫通孔に導電性微粒子が配置され、導電性微粒子の平均粒子径は0.5μm以上50μm以下であり、導電性微粒子の粒子径分布の標準偏差は平均粒子径の50%以下であり、コアフィルムの厚さは0.5μm以上50μm以下であり、接着剤層の厚さは1μm以上50μm以下であり、テーパ状の貫通孔の大径部の直径は導電性微粒子の平均粒子径の1倍以上1.5倍以下であり、テーパ状の貫通孔の小径部の直径は、導電性微粒子が当該小径部側で保持される寸法であることを特徴とする異方性を有する導電性接着シート。In the adhesive sheet that imparts conductivity only in the thickness direction of the sheet by the conductive fine particles dispersed and arranged in the sheet surface, an adhesive layer is disposed on both surfaces of the core film disposed in the center in the thickness direction, The core film and the adhesive layer are insulative, and a plurality of tapered through holes penetrating in the thickness direction are formed in the film surface in a predetermined arrangement in the core film, and conductive fine particles are arranged in the through holes. The average particle size of the conductive fine particles is 0.5 μm or more and 50 μm or less, the standard deviation of the particle size distribution of the conductive fine particles is 50% or less of the average particle size, and the thickness of the core film is 0.5 μm or more and 50 μm. The thickness of the adhesive layer is 1 μm or more and 50 μm or less, and the diameter of the large diameter portion of the tapered through hole is 1 to 1.5 times the average particle diameter of the conductive fine particles. Through hole The diameter of the small diameter portion, the conductive adhesive sheet having an anisotropic conductive particles and wherein the dimensions der Rukoto held in the small diameter portion side. 導電性微粒子は、銅、金、銀、ニッケル、パラジウム、インジウム、錫、鉛、亜鉛、またはビスマス、またはこれらいずれかの金属の合金、または炭素からなる微粒子、あるいは表面に金属被覆を有する微粒子である請求項1記載の導電性接着シート。The conductive fine particles are copper, gold, silver, nickel, palladium, indium, tin, lead, zinc, bismuth, or an alloy of any of these metals, fine particles made of carbon, or fine particles having a metal coating on the surface. The conductive adhesive sheet according to claim 1. コアフィルムの両面に配置された接着剤層の少なくとも一方は、軟化温度の差が20℃以上である二種類の接着剤層が、軟化温度の高い方をコアフィルム面側に配置して積層されたものであることを特徴とする請求項1記載の導電性接着シート。 At least one of the adhesive layers arranged on both surfaces of the core film is laminated with two types of adhesive layers having a difference in softening temperature of 20 ° C. or more arranged with the higher softening temperature on the core film surface side. conductive adhesive sheet according to claim 1, characterized in that the. 請求項1記載の導電性接着シートを製造する方法において、支持体の上に形成された第1の接着剤層の上に、コアフィルムをなす感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィで感光性樹脂層をパターニングすることにより、コアフィルムに所定の配置で貫通孔を形成し、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの上に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法。The method for producing a conductive adhesive sheet according to claim 1, wherein a photosensitive resin layer forming a core film is formed on the first adhesive layer formed on the support, and then exposed by photolithography. By patterning the conductive resin layer, through holes are formed in a predetermined arrangement in the core film, and conductive fine particles are put in the through holes, and then a second adhesive layer is formed on the core film. A method for producing a conductive adhesive sheet. 請求項1記載の導電性接着シートを製造する方法において、貫通孔を有するコアフィルムの一方の面に第1の接着剤層を形成し、次いで、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの他方の面に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法。2. The method for producing a conductive adhesive sheet according to claim 1 , wherein a first adhesive layer is formed on one surface of a core film having a through hole, and then conductive fine particles are placed in the through hole. A method for producing a conductive adhesive sheet, comprising forming a second adhesive layer on the other surface of the core film . レーザ照射によってコアフィルムに貫通孔を形成する工程を含む請求項5記載の導電性接着シートの製造方法。 The manufacturing method of the electroconductive adhesive sheet of Claim 5 including the process of forming a through-hole in a core film by laser irradiation . 貫通孔の配置に対応させた突起を有する雄型と、前記突起を受ける凹部を有する雌型とからなるプレス用金型を用いて、プレスで打ち抜くことにより、コアフィルムに貫通孔を形成する工程を含む請求項5記載の導電性接着シートの製造方法。 A step of forming a through-hole in the core film by punching with a press using a pressing mold comprising a male mold having a projection corresponding to the arrangement of the through-hole and a female mold having a recess for receiving the projection. The manufacturing method of the electroconductive adhesive sheet of Claim 5 containing this . 請求項1記載の導電性接着シートを製造する方法において、一方の面に第1の接着剤層が形成されたコアフィルムを用意し、このコアフィルムの他方の面側からレーザ照射を行うことにより、このコアフィルムに貫通孔を形成し、次いで、前記貫通孔内に導電性微粒子を入れた後に、このコアフィルムの他方の面に第2の接着剤層を形成することを特徴とする導電性接着シートの製造方法。 The method for producing a conductive adhesive sheet according to claim 1, wherein a core film having a first adhesive layer formed on one surface is prepared, and laser irradiation is performed from the other surface side of the core film. And forming a through hole in the core film, and then forming a second adhesive layer on the other surface of the core film after putting conductive fine particles in the through hole . Manufacturing method of adhesive sheet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005343908A (en) * 2004-05-31 2005-12-15 Lintec Corp Pressure-sensitive adhesive sheet and its manufacturing method
WO2006002634A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Coloplast A/S Skin plate adhesive product and method for its manufacture
JP5985414B2 (en) * 2013-02-19 2016-09-06 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive adhesive, light emitting device, and method of manufacturing anisotropic conductive adhesive
US20160155717A1 (en) * 2013-07-31 2016-06-02 Dexerials Corporation Anisotropic conductive film and manufacturing method therefor
JP2015079586A (en) 2013-10-15 2015-04-23 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film
CN110499119B (en) * 2013-11-19 2023-07-18 迪睿合株式会社 Anisotropic conductive film and connection structure
JP6119718B2 (en) * 2013-11-19 2017-04-26 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film and connection structure
JP6707835B2 (en) * 2014-10-28 2020-06-10 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film
JP6661997B2 (en) * 2015-11-26 2020-03-11 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film
WO2017191772A1 (en) * 2016-05-05 2017-11-09 デクセリアルズ株式会社 Filler alignment film
KR101818569B1 (en) * 2016-06-23 2018-02-21 포항공과대학교 산학협력단 Thin film composite and method for preparing the same
JP6900741B2 (en) * 2017-03-31 2021-07-07 昭和電工マテリアルズ株式会社 Growing method of anisotropic conductive film, connection structure and connection structure
JP2020050797A (en) * 2018-09-27 2020-04-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and printed wiring board
JP2024136125A (en) * 2023-03-23 2024-10-04 デクセリアルズ株式会社 Filler-containing film
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