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JP4190978B2 - Laminated polyester film for dry film resist - Google Patents
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JP4190978B2 - Laminated polyester film for dry film resist - Google Patents

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Description

本発明は、電子回路基板の製造等に使用されるドライフィルムレジストに用いられるドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムに関するものである。より詳しくは、巻取り性に優れ、回路欠陥の発生をより確実に防止することができるとともに、解像度をより向上させることができるドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムに関するものである。   The present invention relates to a laminated polyester film for dry film resist used for a dry film resist used for manufacturing an electronic circuit board. More specifically, the present invention relates to a laminated polyester film for dry film resist that is excellent in winding property, can more reliably prevent the occurrence of circuit defects, and can further improve the resolution.

近年、電子回路基板の製造等にはドライフィルムレジスト法(DFR法)が用いられ、ドライフィルムレジストは支持体層、感光性樹脂材料より成るフォトレジスト層及び保護層が積層されて形成されている。そして、電子回路基板を製造するときには、まずドライフィルムレジストから保護層を剥離した後、表面に例えば銅層が積層されているエポキシ樹脂基板の銅層表面に露出したフォトレジスト層を貼付ける。次いで、回路が印刷されたガラス板を支持体層表面に密着させた後、ガラス板側から光を照射する。この光は、ガラス板において印刷された回路の画像で透明な部分及び支持体層内を透過した後、フォトレジスト層に照射される。このため、フォトレジスト層において光が照射された箇所は、光によって硬化する。続いて、ガラス板及び支持体層を取除いた後にフォトレジスト層の未硬化部分を除去し、酸等を用いてエッチングを行う。このとき、フォトレジスト層の未硬化部分の除去によりそれに対応する箇所の銅層が露出され、エッチングにより露出された銅層がエポキシ樹脂基板から除去されてエポキシ樹脂基板上に回路が形成される。そして、硬化したフォトレジスト層を除去することにより、電子回路基板を製造する。   In recent years, the dry film resist method (DFR method) is used for manufacturing electronic circuit boards, and the dry film resist is formed by laminating a support layer, a photoresist layer made of a photosensitive resin material, and a protective layer. . And when manufacturing an electronic circuit board, after peeling a protective layer from dry film resist first, the photoresist layer exposed on the copper layer surface of the epoxy resin board | substrate with which the copper layer is laminated | stacked on the surface is affixed, for example. Next, after the glass plate on which the circuit is printed is adhered to the surface of the support layer, light is irradiated from the glass plate side. This light is irradiated on the photoresist layer after passing through the transparent portion and the support layer in the circuit image printed on the glass plate. For this reason, the portion irradiated with light in the photoresist layer is cured by light. Subsequently, after removing the glass plate and the support layer, the uncured portion of the photoresist layer is removed, and etching is performed using an acid or the like. At this time, the removal of the uncured portion of the photoresist layer exposes the corresponding copper layer, and the copper layer exposed by etching is removed from the epoxy resin substrate to form a circuit on the epoxy resin substrate. Then, the electronic circuit board is manufactured by removing the cured photoresist layer.

支持体層としては、機械的性質、光学的性質、耐薬品性、耐熱性、寸法安定性、平面性等に優れているために、主にポリエステルフィルムが用いられている。従来、この種のポリエステルフィルムは、少なくとも片側の最表層に平均粒子径が0.01〜3.0μmの粒子を含有する二軸配向積層ポリエステルフィルムであって、当該最表層の中心線平均粗さRaが0.005μm以上及び最大高さRtが1.5μm未満であり、ヘーズ値が1.5%以下に設定されている(例えば、特許文献1参照。)。そして、最表層に含有されている粒子によりポリエステルフィルムの表面に突起を形成し、ポリエステルフィルムの滑り性を向上させてその取扱い性を向上させる。さらに、平均粒子径、中心線平均粗さRa及び最大高さRtを前記範囲に設定することにより、ポリエステルフィルムの滑り性をより向上させてその取扱い性をより向上させるとともに、ポリエステルフィルム及びガラス板の密着性を向上させてそれらの間に気泡が形成されるを防止し解像度を向上させる。加えて、ヘーズ値を前記範囲に設定することにより、ポリエステルフィルムの透明性を向上させて解像度をより向上させる。   As the support layer, a polyester film is mainly used because it is excellent in mechanical properties, optical properties, chemical resistance, heat resistance, dimensional stability, flatness and the like. Conventionally, this type of polyester film is a biaxially oriented laminated polyester film containing particles having an average particle diameter of 0.01 to 3.0 μm in at least one outermost layer, and the centerline average roughness of the outermost layer. Ra is 0.005 μm or more, the maximum height Rt is less than 1.5 μm, and the haze value is set to 1.5% or less (see, for example, Patent Document 1). And the processus | protrusion is formed in the surface of a polyester film with the particle | grains contained in the outermost layer, the slipperiness of a polyester film is improved, and the handleability is improved. Furthermore, by setting the average particle diameter, the center line average roughness Ra, and the maximum height Rt within the above ranges, the slipperiness of the polyester film is further improved to improve the handleability, and the polyester film and the glass plate To improve the resolution by preventing the formation of bubbles between them. In addition, by setting the haze value in the above range, the transparency of the polyester film is improved and the resolution is further improved.

また、波長365nmの光線透過率が86%以上に設定されるとともに、直径20μm以上のフライスペックの個数が10個/10cm2以下に設定されているものもある(例えば、特許文献2参照。)。そして、光線透過率を前記範囲に設定することにより解像度を向上させ、フライスペックの含有量を前記範囲に設定することにより、製造された電子回路基板においてフライスペックに起因する回路欠陥が発生するのを抑制する。
特開平7−333853号公報(第2〜6頁) 特開2002−62661号公報(第2〜5頁)
In addition, the light transmittance at a wavelength of 365 nm is set to 86% or more, and the number of fly specs having a diameter of 20 μm or more is set to 10/10 cm 2 or less (see, for example, Patent Document 2). . And, by setting the light transmittance to the above range, the resolution is improved, and by setting the content of the fly spec to the above range, a circuit defect caused by the fly spec occurs in the manufactured electronic circuit board. Suppress.
JP-A-7-333853 (pages 2 to 6) JP 2002-62661 A (pages 2 to 5)

ところが、フィルムを構成するポリエチレンテレフタレート等のポリエステルの製造に際し、用いられる金属触媒や添加粒子が凝集体を生成することがある。このため、前者のポリエステルフィルムにおいては、中心線平均粗さRa等が前記範囲であることを特徴とすることにより解像度を向上させることはできるが、前記凝集体によってガラス板を透過した光が遮光され、回路欠陥が発生したり解像度が低下する場合があるという問題があった。一方、後者のポリエステルフィルムにおいては、フライスペックの個数を前記範囲にすることによりフライスペックに起因した回路欠陥の発生を抑制することはできるが、巻取り性の付与のために用いられる多孔質シリカ等の凝集粒子はフィルム成型時の2軸延伸においてフィルム面内方向に大きく扁平し、フライスペックとなる。このため、フライスペックの抑制は粒子添加量を少なくすることとなり、巻取り性が悪化するという問題があった。   However, in the production of polyester such as polyethylene terephthalate constituting the film, the metal catalyst and additive particles used may produce aggregates. For this reason, in the former polyester film, the resolution can be improved by having the center line average roughness Ra or the like in the above range, but the light transmitted through the glass plate by the aggregate is blocked. There is a problem that a circuit defect may occur or the resolution may be lowered. On the other hand, in the latter polyester film, the occurrence of circuit defects due to fly specs can be suppressed by making the number of fly specs within the above range, but porous silica used for imparting winding property Agglomerated particles such as, etc., are largely flattened in the in-plane direction of the film in biaxial stretching during film molding, and become fly spec. For this reason, the suppression of fly specs reduces the amount of added particles, and there is a problem that the winding property is deteriorated.

本発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、巻取り性に優れ、回路欠陥の発生をより確実に防止することができるとともに、解像度をより向上させることができるドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供することにある。   The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. An object of the present invention is to provide a laminated polyester film for dry film resist that is excellent in winding property, can more reliably prevent the occurrence of circuit defects, and can further improve the resolution.

上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムは、少なくとも2層のポリエステル層から成るドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムであって、少なくとも一方の最表層は、平均粒子径が0.01〜3.0μmの粒子を含有し、表面の中心線平均粗さRaが0.002〜0.030μmであるとともに最大高さRtが0.05〜1.0μmであり、ポリエステル層全体において、長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数が5個/10cm2以下であり、前記金属含有凝集体がアンチモンを含有し、前記ポリエステル層全体中のアンチモンの含有量が30〜120ppmであるIn order to achieve the above object, the laminated polyester film for dry film resist according to claim 1 is a laminated polyester film for dry film resist comprising at least two polyester layers, and is at least one outermost layer. Contains particles having an average particle diameter of 0.01 to 3.0 μm, the center line average roughness Ra of the surface is 0.002 to 0.030 μm, and the maximum height Rt is 0.05 to 1.0 μm. , and the in the whole polyester layer, the major axis is the number of 10μm or more metal-containing aggregates 5/10 cm 2 Ri der below contains the metal-containing aggregates antimony content of antimony in entire polyester layer The amount is 30-120 ppm .

請求項に記載の発明のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムは、請求項1に記載の発明において、ヘーズ値が3.0%以下である。 The laminated polyester film for dry film resist according to claim 2 has a haze value of 3.0% or less in the invention according to claim 1 .

以上詳述したように、本発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項1に記載の発明のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムによれば、巻取り性に優れ、回路欠陥の発生をより確実に防止することができるとともに、解像度をより向上させることができる。
As described in detail above, the present invention has the following effects.
According to the laminated polyester film for dry film resist of the invention described in claim 1, it is excellent in winding property, can more reliably prevent the occurrence of circuit defects, and can further improve the resolution.

請求項に記載の発明のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムによれば、請求項1に記載の発明の効果に加えて、解像度をさらに向上させることができる。 According to the laminated polyester film for dry film resist of the invention described in claim 2 , in addition to the effect of the invention described in claim 1 , the resolution can be further improved.

以下、本発明を具体化した実施形態について説明する。
本実施形態のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルム(以下、積層フィルムともいう。)は、複数のポリエステル層が積層されることにより形成されている。この積層フィルムはフォトレジスト層に重ねられてドライフィルムレジストを形成し、プリント配線板等の電子回路基板の製造等に用いられる。尚、以下においては、ポリエステル層(A)(以下、A層ともいう。)とポリエステル層(B)(以下、B層ともいう。)とが、A/B/Aの順番で積層されることにより形成されている積層フィルムについて説明する。
Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described.
The laminated polyester film for dry film resist of the present embodiment (hereinafter also referred to as a laminated film) is formed by laminating a plurality of polyester layers. This laminated film is overlaid on a photoresist layer to form a dry film resist, which is used for manufacturing an electronic circuit board such as a printed wiring board. In the following, the polyester layer (A) (hereinafter also referred to as A layer) and the polyester layer (B) (hereinafter also referred to as B layer) are laminated in the order of A / B / A. The laminated film formed by will be described.

積層フィルムを構成するA層は、次のポリエステルにより形成されている。即ち、ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸又はそのエステルとグリコールとのポリエステルを主成分、即ち50質量%以上含有するものであり、繰返し構造単位の80%以上がエチレンテレフタレート単位又はエチレン−2,6−ナフタレート単位を有するものが好適である。芳香族ジカルボン酸の具体例としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバシン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、p−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸等が挙げられる。一方、グリコールの具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等が挙げられる。   The A layer constituting the laminated film is formed of the following polyester. That is, the polyester contains a polyester of an aromatic dicarboxylic acid or its ester and glycol as a main component, that is, 50% by mass or more, and 80% or more of the repeating structural units are ethylene terephthalate units or ethylene-2,6- Those having naphthalate units are preferred. Specific examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, isophthalic acid, phthalic acid, adipic acid, sebacic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, p-oxyethoxybenzoic acid, and the like. Examples include oxycarboxylic acid. On the other hand, specific examples of glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol and the like.

このポリエステルは、第三成分を含有する共重合ポリエステルとして構成されてもよい。このときの第三成分の具体例としては、主成分とは異なる芳香族ジカルボン酸として、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバシン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、p−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、ジフェニルスルホジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、エイコ酸、ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸、ポリエーテルジカルボン酸等が挙げられる。これら芳香族ジカルボン酸は単独で含有してもよいし、二種以上を組み合せて含有してもよい。   This polyester may be configured as a copolyester containing a third component. Specific examples of the third component at this time include terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, isophthalic acid, phthalic acid, adipic acid, sebacic acid, 4,4 ′ as an aromatic dicarboxylic acid different from the main component. -Oxycarboxylic acids such as diphenyldicarboxylic acid and p-oxyethoxybenzoic acid, diphenylsulfodicarboxylic acid, diphenyletherdicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, diphenylthioetherdicarboxylic acid, diphenylketonedicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid Eicoic acid, dodecanedicarboxylic acid, dimer acid, aromatic dicarboxylic acid having metal sulfonate, polyether dicarboxylic acid and the like. These aromatic dicarboxylic acids may be contained alone or in combination of two or more.

一方、主成分と異なるグリコールの具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール、ポリアルキレングリコール等が挙げられる。これらグリコールは単独で含有してもよいし、二種以上を組み合せて含有してもよい。   On the other hand, specific examples of glycols different from the main component include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, tetramethylene glycol, 1,4-cyclohexanedi Examples include methanol, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, hydroquinone, cyclohexanediol, and polyalkylene glycol. These glycols may be contained alone or in combination of two or more.

このポリエステルは、芳香族ジカルボン酸とグリコールのエステル化合物を重縮合させることにより得られる。また、芳香族ジカルボン酸ジアルキルエステルとグリコールとをエステル交換反応させた後に重縮合させる方法、又は、芳香族ジカルボン酸のジグリコールエステルを重縮合させる等の方法によっても得られる。   This polyester can be obtained by polycondensing an ester compound of an aromatic dicarboxylic acid and a glycol. It can also be obtained by a method in which an aromatic dicarboxylic acid dialkyl ester and a glycol are subjected to a transesterification reaction and then polycondensed, or a method in which a diglycol ester of an aromatic dicarboxylic acid is polycondensed.

エステル交換反応や重縮合反応には触媒が用いられ、エステル交換反応に用いられる触媒の具体例としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛、鉛、マンガン、アルミニウム等の金属化合物又はその反応生成物を含んだもの等が挙げられる。一方、重縮合反応に用いられる触媒の具体例としては、酸化アンチモン等のアンチモン化合物、酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、有機チタン化合物等の金属化合物又はその反応生成物を含んだもの等が挙げられる。酸化アンチモンの具体例としては三酸化アンチモン等が挙げられ、酸化アンチモンの反応生成物の具体例としては、その還元体であるアンチモン金属等が挙げられる。これらは単独で触媒を構成してもよいし、二種以上を組み合わせて触媒を構成してもよい。   A catalyst is used in the transesterification reaction or polycondensation reaction. Specific examples of the catalyst used in the transesterification reaction include metal compounds such as alkali metals, alkaline earth metals, zinc, lead, manganese, and aluminum, or reaction products thereof. And the like including On the other hand, specific examples of the catalyst used for the polycondensation reaction include an antimony compound such as antimony oxide, a germanium compound such as germanium oxide, a metal compound such as an organic titanium compound or a reaction product thereof. Specific examples of antimony oxide include antimony trioxide and the like, and specific examples of the reaction product of antimony oxide include antimony metal which is a reduced form thereof. These may constitute a catalyst alone, or a combination of two or more may constitute a catalyst.

ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(PEN)、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート(PCT)等が挙げられる。このポリエステルには、その全量に対して1質量%以下のポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド又はポリイミドを含有させてもよいし、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、染料、顔料等を含有させてもよい。   Specific examples of the polyester include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate (PEN), polycyclohexanedimethylene terephthalate (PCT), and the like. This polyester may contain polyethylene, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamide or polyimide in an amount of 1% by mass or less based on the total amount, antioxidant, heat stabilizer, antistatic agent, lubrication. Agents, dyes, pigments and the like may be included.

ポリエステルの極限粘度は0.45〜1.0が好ましく、0.50〜0.80がより好ましい。極限粘度が0.45未満では、積層フィルムを製造するときにフィルム破断が発生するおそれがある。一方、1.0を超えると、ポリエステルが高粘度となり、ポリエステルの製造及び積層フィルムの製造が煩雑となってその効率が低下するおそれがある。   The intrinsic viscosity of the polyester is preferably 0.45 to 1.0, more preferably 0.50 to 0.80. If the intrinsic viscosity is less than 0.45, film breakage may occur when a laminated film is produced. On the other hand, when the ratio exceeds 1.0, the polyester has a high viscosity, and the production of the polyester and the production of the laminated film become complicated, which may reduce the efficiency.

ポリエステルは、A層を形成するものがB層を形成するものよりも低融点である等のように、融点が異なるものにより各ポリエステル層を形成してもよい。このとき、A層を形成するポリエステルは、B層を形成するポリエステルの構成成分を50モル%以上含有する共重合ポリエステルが、A層及びB層の剥離を防止することができるために好ましい。   Each polyester layer may be formed of polyesters having different melting points, such as those forming the A layer having a lower melting point than those forming the B layer. At this time, the polyester forming the A layer is preferably a copolyester containing 50 mol% or more of the constituent components of the polyester forming the B layer because peeling of the A layer and the B layer can be prevented.

A層は積層フィルムの最表層として構成され、粒子を含有することにより表面には粒子に起因する突起が形成されている。粒子の具体例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ(二酸化ケイ素)、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ(酸化アルミニウム)、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子等が挙げられる。これらは単独で含有されてもよいし、二種以上を組み合わせて含有されてもよい。さらに、同種の粒子で平均粒子径の異なるものが組み合わされて含有されてもよい。これらの中でも、ポリエステルとの親和性が高いとともに光の屈折率が低く積層フィルムの透明性の低下を抑制することができるために、不定形シリカ粒子、球状シリカ粒子等のシリカ粒子又は球状架橋高分子粒子等の架橋高分子粒子が好ましい。   A layer is comprised as the outermost layer of a laminated | multilayer film, and the processus | protrusion resulting from particle | grains is formed in the surface by containing particle | grains. Specific examples of particles include inorganic particles such as calcium carbonate, calcium phosphate, silica (silicon dioxide), kaolin, talc, titanium dioxide, alumina (aluminum oxide), barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, and molybdenum sulfide. And organic particles such as crosslinked polymer particles and calcium oxalate. These may be contained alone or in combination of two or more. Furthermore, the same kind of particles having different average particle diameters may be combined and contained. Among these, silica particles such as amorphous silica particles and spherical silica particles or high spherical cross-linking are used because they have high affinity with polyester and low refractive index of light and can suppress a decrease in transparency of the laminated film. Crosslinked polymer particles such as molecular particles are preferred.

ここで、例えば脱塩水に過硫酸カリウム等の水溶性重合開始剤及びラウリルナトリウム等の分散安定剤を溶解させた後、その溶液にスチレン、メチルメタクリレート及びジビニルベンゼンの混合溶液を加えて重合反応を行う。そして、ポリアクリル酸ナトリウム−メトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノメタクリレート共重合体の部分アンモニウム中和物及びエチレングリコールを加え、加熱減圧下で水を留去することにより、架橋高分子粒子が得られる。   Here, for example, after dissolving a water-soluble polymerization initiator such as potassium persulfate and a dispersion stabilizer such as sodium lauryl in demineralized water, a mixed solution of styrene, methyl methacrylate and divinylbenzene is added to the solution to conduct a polymerization reaction. Do. Then, a partially ammonium neutralized product of sodium polyacrylate-methoxypolyethylene glycol-polypropylene glycol monomethacrylate copolymer and ethylene glycol are added, and water is distilled off under heating and reduced pressure to obtain crosslinked polymer particles.

粒子の平均粒子径は0.01〜3.0μm、好ましくは0.1〜3.0μm、より好ましくは0.1〜2.0μmである。平均粒子径が0.01μm未満では、A層表面に突起を形成することができず、積層フィルムの滑り性が低下してその巻取り性が低下する。さらに、A層表面にガラス板を密着させたときにはA層及びガラス板の間に空気の一部が残存して気泡を形成し、この気泡により光が屈折して解像度が低下する。一方、3.0μmを超えると、A層表面に形成される突起が大きくなり、A層表面及びガラス板の密着不良が発生して解像度が低下する。   The average particle diameter of the particles is 0.01 to 3.0 μm, preferably 0.1 to 3.0 μm, more preferably 0.1 to 2.0 μm. When the average particle diameter is less than 0.01 μm, no protrusions can be formed on the surface of the layer A, the slipperiness of the laminated film is lowered and the winding property is lowered. Further, when the glass plate is brought into close contact with the surface of the A layer, a part of air remains between the A layer and the glass plate to form bubbles, and the light is refracted by the bubbles to reduce the resolution. On the other hand, if the thickness exceeds 3.0 μm, the protrusions formed on the surface of the A layer become large, causing poor adhesion between the surface of the A layer and the glass plate, resulting in a decrease in resolution.

ここで、A層中に含有される粒子の平均粒子径d(μm)とA層の厚みt(μm)との比(d/t)は0.5〜10が好ましく、0.5〜8がより好ましく、0.8〜5がさらに好ましい。d/tが0.5未満では、A層表面に形成される突起数が減少し、積層フィルムの滑り性が低下してその巻取り性が低下するおそれがある。一方、10を超えると、A層から粒子が脱落するおそれがある。   Here, the ratio (d / t) between the average particle diameter d (μm) of the particles contained in the A layer and the thickness t (μm) of the A layer is preferably 0.5 to 10, and preferably 0.5 to 8 Is more preferable, and 0.8 to 5 is more preferable. If d / t is less than 0.5, the number of protrusions formed on the surface of the A layer is reduced, and the slipperiness of the laminated film is lowered, and the winding property may be lowered. On the other hand, if it exceeds 10, the particles may fall off from the A layer.

A層中の粒子の含有量は、A層を形成するポリエステルに対して好ましくは0.1〜20.0質量%、より好ましくは0.1〜5.0質量%、さらに好ましくは0.2〜2.0質量%である。粒子の含有量が0.1質量%未満では、A層表面に形成される突起数が不十分となり、積層フィルムの滑り性を十分に向上させることができないとともに、A層表面にガラス板を密着させたときにそれらの間に気泡が形成されるおそれがある。一方、20.0質量%を超えると、A層から粒子が脱落するおそれがあるとともに、粒子が凝集して粗大突起を形成するおそれがある。   The content of the particles in the A layer is preferably 0.1 to 20.0% by mass, more preferably 0.1 to 5.0% by mass, and still more preferably 0.2% with respect to the polyester forming the A layer. It is -2.0 mass%. When the content of the particles is less than 0.1% by mass, the number of protrusions formed on the surface of the A layer becomes insufficient, and the slipperiness of the laminated film cannot be sufficiently improved, and the glass plate is adhered to the surface of the A layer. There is a possibility that bubbles may be formed between them when they are made. On the other hand, if it exceeds 20.0% by mass, the particles may fall off from the A layer, and the particles may aggregate to form coarse protrusions.

粒子は常法に従ってポリエステルに配合される。例えば、ポリエステルを製造する任意の工程において粒子が添加される。即ち、エステル化の工程又はエステル交換反応終了後重縮合反応開始前の工程において、粒子をエチレングリコール等に分散させてスラリーとして添加するのが好ましい。また、乾燥された粒子又はそのスラリーとポリエステルとを溶融練り混みしてもよい。ポリエステルに粒子を配合するときには、事前に粒子に対して解砕等の処理を施してもよい。   The particles are blended into the polyester according to conventional methods. For example, particles are added in any process that produces polyester. That is, it is preferable to disperse the particles in ethylene glycol or the like and add them as a slurry in the esterification step or the step after the end of the transesterification reaction and before the start of the polycondensation reaction. Moreover, you may melt-knead the dry particle | grains or its slurry, and polyester. When blending the particles with the polyester, the particles may be subjected to a treatment such as crushing in advance.

A層表面の中心線平均粗さRaは0.002〜0.030μm、好ましくは0.005〜0.025μmであり、最大高さRtは0.05〜1.0μm、好ましくは0.1〜0.8μmである。中心線平均粗さRaが0.002μm未満又は最大高さRtが0.05μm未満では、A層表面の平面性が高すぎるために積層フィルムの滑り性が低下し、巻取り性が低下する。一方、中心線平均粗さRaが0.030μmを超える場合、又は最大高さRtが1.0μmを超える場合には、A層表面及びガラス板の密着不良が発生して解像度が低下する。   The center line average roughness Ra of the surface of the A layer is 0.002 to 0.030 μm, preferably 0.005 to 0.025 μm, and the maximum height Rt is 0.05 to 1.0 μm, preferably 0.1 to 0.1 μm. 0.8 μm. When the center line average roughness Ra is less than 0.002 μm or the maximum height Rt is less than 0.05 μm, the planarity of the surface of the A layer is too high, so that the slipping property of the laminated film is lowered and the winding property is lowered. On the other hand, when the center line average roughness Ra exceeds 0.030 μm, or when the maximum height Rt exceeds 1.0 μm, a poor adhesion between the surface of the layer A and the glass plate occurs and the resolution decreases.

続いて、積層フィルムを構成するB層は、A層と同様に前記ポリエステルにより形成されている。B層には、A層と同様に粒子を含有させてもよい。このとき、B層中の粒子の含有量はA層中の粒子の含有量以下が好ましく、かつ積層フィルム全体中の粒子の含有量はポリエステル全体に対して0.2質量%以下が好ましく、0.1質量%以下がより好ましい。B層中の粒子の含有量又は積層フィルム全体中の粒子の含有量が前記範囲を超えると、積層フィルムの透明性が低下するおそれがある。   Then, the B layer which comprises a laminated | multilayer film is formed with the said polyester like the A layer. The B layer may contain particles in the same manner as the A layer. At this time, the content of the particles in the B layer is preferably equal to or less than the content of the particles in the A layer, and the content of the particles in the entire laminated film is preferably 0.2% by mass or less based on the entire polyester. .1% by mass or less is more preferable. When the content of the particles in the B layer or the content of the particles in the entire laminated film exceeds the above range, the transparency of the laminated film may be lowered.

積層フィルムは共押出し法、ドライラミネート法等によって製造されるが、積層フィルムの製造効率が高いために共押出し法が好ましい。積層フィルムの厚みは5〜30μmが好ましく、A層の厚みは0.005〜3μmが好ましい。積層フィルムの厚みが5μm未満では、製膜性が低下しやすい。また、A層の厚みが0.005μm未満では、A層から粒子が脱落するおそれがある。一方、積層フィルムの厚みが30μmを超える場合、又はA層の厚みが3μmを超える場合には、製造コストが嵩むおそれがあるとともに、省資源化しにくい。   The laminated film is produced by a co-extrusion method, a dry lamination method, or the like, but the co-extrusion method is preferred because the production efficiency of the laminated film is high. The thickness of the laminated film is preferably 5 to 30 μm, and the thickness of the A layer is preferably 0.005 to 3 μm. When the thickness of the laminated film is less than 5 μm, the film forming property tends to be lowered. Further, if the thickness of the A layer is less than 0.005 μm, the particles may fall off from the A layer. On the other hand, when the thickness of the laminated film exceeds 30 μm, or when the thickness of the A layer exceeds 3 μm, the manufacturing cost may increase and it is difficult to save resources.

ポリエステル層全体、即ち積層フィルム中における長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数は5個/10cm2以下、より好ましくは3個/10cm2以下である。ここで、金属含有凝集体は、ポリエステルを製造するときに添加される触媒が析出、凝集し積層フィルム中に残存する事により形成され、遮光性を有している。例えば、ポリエステルの製造において三酸化アンチモンを用いたときには、残存したアンチモンが析出、凝集することにより、アンチモンを含有する凝集体、即ちアンチモン含有凝集体がポリエステル中に形成される。このため、ポリエステルを用いた積層フィルム中には遮光性を有するアンチモン含有凝集体が存在し、二軸延伸されることによりフィルム面内で拡大される。よって、長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数が5個/10cm2を超えると、積層フィルム内を透過する光が金属含有凝集体によって遮光される割合が高くなり、積層フィルムの解像度が低下するとともに製造された電子回路基板に回路欠陥が多数発生する。 The number of metal-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more in the entire polyester layer, that is, in the laminated film is 5/10 cm 2 or less, more preferably 3/10 cm 2 or less. Here, the metal-containing aggregate is formed by depositing and aggregating the catalyst added when the polyester is produced and remaining in the laminated film, and has a light shielding property. For example, when antimony trioxide is used in the production of polyester, the remaining antimony precipitates and aggregates to form an antimony-containing aggregate, that is, an antimony-containing aggregate. For this reason, the antimony containing aggregate which has light-shielding property exists in the laminated | multilayer film using polyester, and it expands in a film plane by biaxially stretching. Therefore, when the number of metal-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more exceeds 5/10 cm 2 , the ratio of light transmitted through the laminated film being blocked by the metal-containing aggregates increases, and the resolution of the laminated film decreases. In addition, many circuit defects occur in the manufactured electronic circuit board.

金属含有凝集体の長径は、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡等を用いて金属含有凝集体の最大直径を測定することにより求められる。ここで、ドライフィルムレジストにより形成される回路の幅は例えば10〜50μmであり、光は積層フィルム内を例えば10〜50μmの幅で透過する。このため、長径が10μm未満の金属含有凝集体は、10〜50μmの幅で積層フィルム内を透過する光に対して遮光の程度が低く、この金属含有凝集体に起因する回路欠陥は発生しない。よって、積層フィルム中の金属含有凝集体については、長径が10μm以上のものを前記範囲に設定する必要がある。   The major axis of the metal-containing aggregate is determined by measuring the maximum diameter of the metal-containing aggregate using an optical microscope, a scanning electron microscope, or the like. Here, the width of the circuit formed by the dry film resist is, for example, 10 to 50 μm, and light is transmitted through the laminated film with a width of, for example, 10 to 50 μm. For this reason, the metal-containing aggregates having a major axis of less than 10 μm have a low light shielding degree with respect to light transmitted through the laminated film with a width of 10 to 50 μm, and circuit defects due to the metal-containing aggregates do not occur. Therefore, about the metal containing aggregate in a laminated film, it is necessary to set the thing whose major axis is 10 micrometers or more in the said range.

金属含有凝集体に含有される金属の具体例としては前記触媒として用いられる金属が挙げられるが、これらの中でもアンチモンは、他の金属に比べて遮光性が高い。このため、金属含有凝集体の中でもアンチモン含有凝集体の含有量を前記範囲に設定することが、回路欠陥を確実に防止することができるために好ましい。ここで、金属含有凝集体に含有される金属の種類は、電子線プローブX線マイクロアナライザー(EPMA)、走査型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線分析装置(SEM−EDX)等を用いた元素分析法により特定することができる。   Specific examples of the metal contained in the metal-containing aggregate include metals used as the catalyst, and among these, antimony has higher light shielding properties than other metals. For this reason, it is preferable to set the content of the antimony-containing aggregate in the above-mentioned range among the metal-containing aggregates, because circuit defects can be reliably prevented. Here, the type of metal contained in the metal-containing aggregate is elemental analysis using an electron beam probe X-ray microanalyzer (EPMA), a scanning electron microscope-energy dispersive X-ray analyzer (SEM-EDX), or the like. It can be specified by law.

積層フィルム中のアンチモンの含有量は150ppm以下が好ましく、30〜120ppmがより好ましい。アンチモンの含有量が150ppmを超えると、積層フィルム中のアンチモン含有凝集体の個数が増加し、透過する光がアンチモン含有凝集体によって遮光される割合が高くなることにより、積層フィルムの解像度が低下するとともに製造された電子回路基板に回路欠陥が発生する。積層フィルム中のアンチモンの含有量は、ポリエステルを製造するときの重縮合触媒としてのアンチモンの量に起因している。このため、アンチモンの含有量が30ppm未満では、触媒量が少ないためにポリエステルの製造効率が低下するおそれがある。積層フィルム中のアンチモンの含有量は、蛍光X線分析法等により定量することができる。ここで、A層及びB層が異なるポリエステルにより形成されているときには、積層フィルム中のアンチモンの含有量は各ポリエステルの製造時におけるアンチモンの量及び各層の厚みに起因している。   The content of antimony in the laminated film is preferably 150 ppm or less, and more preferably 30 to 120 ppm. When the content of antimony exceeds 150 ppm, the number of antimony-containing aggregates in the laminated film increases, and the rate at which transmitted light is shielded by the antimony-containing aggregates increases, thereby reducing the resolution of the laminated film. A circuit defect occurs in the electronic circuit board manufactured together. The content of antimony in the laminated film is due to the amount of antimony as a polycondensation catalyst when producing polyester. For this reason, when the content of antimony is less than 30 ppm, there is a possibility that the production efficiency of the polyester is lowered because the amount of the catalyst is small. The content of antimony in the laminated film can be quantified by fluorescent X-ray analysis or the like. Here, when the A layer and the B layer are formed of different polyesters, the content of antimony in the laminated film is attributed to the amount of antimony and the thickness of each layer in the production of each polyester.

積層フィルムのヘーズ(Haze)値は好ましくは3.0%以下、より好ましくは0.2〜2.5%である。このヘーズ値は、散乱光透過率を全光線透過率で割ることにより求められ、積層フィルムの透明性を示す。このため、ヘーズ値が3.0%を超えると、積層フィルム中の散乱光が大となり解像度が低下するおそれがある。一方、ヘーズ値が0.2%未満では、A層表面の中心線平均粗さRaや最大高さRtを低くする必要があり、A層表面の平面性が高くなることによって積層フィルムの滑り性が低下し、巻取り性が低下するおそれがある。   The haze value of the laminated film is preferably 3.0% or less, more preferably 0.2 to 2.5%. This haze value is obtained by dividing the scattered light transmittance by the total light transmittance, and indicates the transparency of the laminated film. For this reason, if the haze value exceeds 3.0%, the scattered light in the laminated film becomes large and the resolution may be lowered. On the other hand, if the haze value is less than 0.2%, it is necessary to reduce the center line average roughness Ra and the maximum height Rt on the surface of the A layer, and the flatness of the surface of the A layer increases, so that the slipperiness of the laminated film is increased. May be reduced, and the winding property may be reduced.

ドライフィルムレジストを構成するフォトレジスト層は感光性樹脂材料により形成され、紫外線等の光と反応して硬化する。感光性樹脂材料の具体例としては、カルボン酸含有ビニル共重合体等のアルカリ可溶性高分子、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート等のエチレン性不飽和付加重合性モノマー、ベンジルジメチルケタール等の光重合開始剤等が挙げられる。一方、ドライフィルムレジストを構成する保護層はポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエステル等により形成され、フォトレジスト層において積層フィルムの反対側の表面に積層されることにより、ドライフィルムレジストを保護する。   The photoresist layer constituting the dry film resist is formed of a photosensitive resin material, and is cured by reacting with light such as ultraviolet rays. Specific examples of the photosensitive resin material include alkali-soluble polymers such as carboxylic acid-containing vinyl copolymers, ethylenically unsaturated addition polymerizable monomers such as 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and light such as benzyldimethyl ketal. A polymerization initiator etc. are mentioned. On the other hand, the protective layer constituting the dry film resist is formed of a polyolefin such as polyethylene or polypropylene, polyester, or the like, and is laminated on the opposite surface of the laminated film in the photoresist layer, thereby protecting the dry film resist.

次に、積層フィルム及びドライフィルムレジストの製造方法について説明する。尚、積層フィルムの製造においては共押出し法について説明する。
積層フィルムを製造するときには、まずA層を形成するポリエステルと、B層を形成するポリエステルとを別々の押出し機に供給し、各ポリエステルの融点以上の温度に加熱してそれぞれ溶融させる。次いで、各ポリエステルをA/B/Aの順で積層されるようにTダイからシートとして押出す。続いて、このシートを回転冷却ドラム上でガラス転移温度未満にまで急冷し、非晶質の未延伸フィルムを得る。このとき、未延伸フィルムの平面性を向上させるために、静電印加密着法や液体塗布密着法等によって、未延伸フィルムと回転冷却ドラムとの密着性を向上させてもよい。
Next, the manufacturing method of a laminated film and a dry film resist is demonstrated. In the production of the laminated film, the coextrusion method will be described.
When producing a laminated film, first, the polyester for forming the A layer and the polyester for forming the B layer are supplied to separate extruders, heated to a temperature equal to or higher than the melting point of each polyester, and melted. Next, each polyester is extruded as a sheet from a T-die so as to be laminated in the order of A / B / A. Subsequently, the sheet is rapidly cooled to below the glass transition temperature on a rotary cooling drum to obtain an amorphous unstretched film. At this time, in order to improve the flatness of the unstretched film, the adhesion between the unstretched film and the rotating cooling drum may be improved by an electrostatic application adhesion method, a liquid application adhesion method, or the like.

そして、ロール延伸機を用いて、未延伸フィルムをその長手方向に延伸(縦延伸)することにより一軸延伸フィルムを得る。このとき、延伸温度はポリエステルのガラス転移温度以上、好ましくは70〜150℃、より好ましくは75〜130℃である。また、延伸倍率は3.0〜7倍が好ましく、3.2〜6倍がより好ましい。さらに、縦延伸を一段階のみで行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。次いで、テンター延伸機を用いて、一軸延伸フィルムをその短手方向に延伸(横延伸)することにより二軸延伸フィルムを得る。このとき、延伸温度は75〜150℃が好ましく、80〜140℃がより好ましい。また、延伸倍率は3.2〜7倍が好ましく、3.5〜6倍がより好ましい。さらに、横延伸を一段階のみで行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。   And a uniaxially stretched film is obtained by extending | stretching an unstretched film in the longitudinal direction (longitudinal stretching) using a roll stretching machine. At this time, the stretching temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the polyester, preferably 70 to 150 ° C, more preferably 75 to 130 ° C. Moreover, 3.0-7 times is preferable and, as for a draw ratio, 3.2-6 times are more preferable. Furthermore, longitudinal stretching may be performed in only one stage, or may be performed in two or more stages. Subsequently, a biaxially stretched film is obtained by extending | stretching a uniaxially stretched film in the transversal direction (lateral stretching) using a tenter stretching machine. At this time, the stretching temperature is preferably 75 to 150 ° C, more preferably 80 to 140 ° C. The draw ratio is preferably 3.2 to 7 times, more preferably 3.5 to 6 times. Further, the transverse stretching may be performed only in one stage, or may be performed in two or more stages.

続いて、二軸延伸フィルムを例えば150〜250℃の温度で熱処理することにより積層フィルムが製造される。ここで、A層が低融点ポリエステルにより形成されているときには、熱処理における温度は、A層を形成するポリエステルの融点T℃に対して(T−10)℃以上が、積層フィルムの透明性及び滑り性を向上させることができるために好ましい。これは、熱処理によりポリエステルが溶融することによって、A層中のポリエステルの配向性が低下するとともに、延伸により粒子の周囲に形成されるボイド(空隙)が消滅し、さらにA層表面に形成されている突起の形状が急峻になることによるものである。二軸延伸フィルムを熱処理するときには、二軸延伸フィルムを30%以内の伸長等を行ってもよい。次いで、製造された積層フィルムにより支持体層を構成し、支持体層と常法に従って製造されたフォトレジスト層及び保護層とを、支持体層/フォトレジスト層/保護層の順で常法に従い積層させることにより、ドライフィルムレジストが製造される。   Then, a laminated film is manufactured by heat-processing a biaxially stretched film at the temperature of 150-250 degreeC, for example. Here, when the A layer is formed of a low-melting polyester, the temperature in the heat treatment is (T-10) ° C. or higher with respect to the melting point T ° C. of the polyester forming the A layer. It is preferable because the property can be improved. This is because the orientation of the polyester in the A layer is lowered by the melting of the polyester by heat treatment, and voids (voids) formed around the particles by the extinction disappear and are further formed on the surface of the A layer. This is because the shape of the protrusion is steep. When the biaxially stretched film is heat-treated, the biaxially stretched film may be stretched within 30%. Next, a support layer is constituted by the manufactured laminated film, and the support layer and the photoresist layer and the protective layer manufactured according to a conventional method are added in the order of support layer / photoresist layer / protective layer according to a conventional method. A dry film resist is manufactured by laminating.

ドライフィルムレジストを用いて電子回路基板を製造するときには、まずエポキシ樹脂基板やガラス布基板等の基板表面に例えば銅層を積層する。次いで、ドライフィルムレジストから保護層を剥離した後、露出したフォトレジスト層を銅層表面に貼付ける。続いて、積層フィルム表面に回路が印刷されたガラス板を密着させた後、ガラス板側から例えば紫外線を照射する。照射された紫外線は、ガラス板において印刷された回路の画像で透明な部分及び積層フィルム内を透過した後、感光性樹脂フィルムに照射される。そして、フォトレジスト層において紫外線が照射された箇所は、紫外線によって硬化する。   When manufacturing an electronic circuit board using a dry film resist, first, for example, a copper layer is laminated on a substrate surface such as an epoxy resin substrate or a glass cloth substrate. Next, after peeling off the protective layer from the dry film resist, the exposed photoresist layer is attached to the copper layer surface. Subsequently, after a glass plate on which a circuit is printed is brought into close contact with the laminated film surface, for example, ultraviolet rays are irradiated from the glass plate side. The irradiated ultraviolet rays are irradiated to the photosensitive resin film after passing through the transparent portion and the laminated film in the circuit image printed on the glass plate. And the location irradiated with ultraviolet rays in the photoresist layer is cured by ultraviolet rays.

このとき、積層フィルム表面、即ちA層表面において中心線平均粗さRaが0.002〜0.030μm及び最大高さRtが0.05〜1.0μmに設定されているために、積層フィルム表面とガラス板との密着性を高め、それらの間に気泡が形成されるのを防止することができる。このため、ガラス板を透過した紫外線はガラス板内を透過した後に気泡等によって散乱することなく積層フィルム内を透過することができ、解像度を向上させることができる。さらに、長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数が5個/10cm2以下に設定されているために、ガラス板内を透過した紫外線が金属含有凝集体によって遮光されることなく積層フィルム内を透過することができる。このため、積層フィルムの解像度を向上させることができるとともに、ガラス板において印刷された回路の画像で透明な部分に対応する箇所のフォトレジスト層を、未硬化部分が生じることなく全て硬化させることができる。 At this time, since the center line average roughness Ra is set to 0.002 to 0.030 μm and the maximum height Rt is set to 0.05 to 1.0 μm on the surface of the laminated film, that is, the surface of the A layer, the surface of the laminated film It is possible to improve the adhesion between the glass plate and the glass plate and prevent the formation of bubbles between them. For this reason, the ultraviolet rays that have passed through the glass plate can pass through the laminated film without being scattered by bubbles after passing through the glass plate, and the resolution can be improved. Furthermore, since the number of metal-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more is set to 5/10 cm 2 or less, the ultraviolet rays transmitted through the glass plate are not shielded by the metal-containing aggregates, and the inside of the laminated film is blocked. Can penetrate. For this reason, it is possible to improve the resolution of the laminated film, and to cure all of the photoresist layer corresponding to the transparent portion in the circuit image printed on the glass plate without generating an uncured portion. it can.

続いて、ガラス板及び積層フィルムを取除いた後にフォトレジスト層の未硬化部分を除去する。このとき、フォトレジスト層の未硬化部分の除去によりそれに対応する箇所の銅層が露出される。次いで、酸等を用いて銅層のエッチングを行う。このとき、エッチングにより露出された銅層が基板から除去されて基板上に回路が形成される。その後、硬化した感光性樹脂フィルムを除去することにより、電子回路基板を製造する。このとき、ガラス板において印刷された回路の画像で透明な部分に対応する箇所のフォトレジスト層を全て硬化させることにより、回路に対応する箇所の銅層がエッチングにより除去されることによる回路欠陥の発生を防止することができる。   Subsequently, after removing the glass plate and the laminated film, the uncured portion of the photoresist layer is removed. At this time, removal of the uncured portion of the photoresist layer exposes the corresponding copper layer. Next, the copper layer is etched using acid or the like. At this time, the copper layer exposed by etching is removed from the substrate, and a circuit is formed on the substrate. Then, the electronic circuit board is manufactured by removing the cured photosensitive resin film. At this time, by curing all of the photoresist layer in the portion corresponding to the transparent portion in the image of the circuit printed on the glass plate, the copper layer in the portion corresponding to the circuit is removed by etching. Occurrence can be prevented.

前記の実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・ 本実施形態の積層フィルムのA層は、平均粒子径が0.01〜3.0μmの粒子を含有し、表面の中心線平均粗さRaが0.002〜0.030μmであるとともに最大高さRtが0.05〜1.0μmであり、積層フィルム中において、長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数が5個/10cm2以下である。このため、回路欠陥に起因する金属含有凝集体の積層フィルム中の個数を低下させることにより、従来のポリエステルフィルムに比べて回路欠陥の発生をより確実に防止することができる。さらに、粒子の平均粒子径と、A層表面の中心線平均粗さRa及び最大高さRtとを上記範囲に設定することにより、電子回路基板を製造するときにA層及びガラス板の間に気泡が形成されるのを抑制するとともにA層表面及びガラス板の密着不良が発生するのを抑制することができる。このため、積層フィルムの解像度をより向上させることができるとともに、積層フィルムの滑り性を向上させてその巻取り性を向上させることができる。
The effects exhibited by the above embodiment will be described below.
-Layer A of the laminated film of this embodiment contains particles having an average particle diameter of 0.01 to 3.0 [mu] m, and has a centerline average roughness Ra of 0.002 to 0.030 [mu] m and a maximum height. The thickness Rt is 0.05 to 1.0 μm, and the number of metal-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more in the laminated film is 5/10 cm 2 or less. For this reason, generation | occurrence | production of a circuit defect can be prevented more reliably compared with the conventional polyester film by reducing the number in the laminated | multilayer film of the metal containing aggregate resulting from a circuit defect. Furthermore, by setting the average particle diameter of the particles, the centerline average roughness Ra and the maximum height Rt of the surface of the layer A within the above ranges, bubbles are generated between the layer A and the glass plate when the electronic circuit board is manufactured. It is possible to suppress the formation of poor adhesion between the surface of the layer A and the glass plate while suppressing the formation. For this reason, while being able to improve the resolution of a laminated film more, the slipperiness of a laminated film can be improved and the winding-up property can be improved.

・ 積層フィルム中のアンチモンの含有量は150ppm以下が好ましい。この場合には、積層フィルム中のアンチモン含有凝集体の個数が減少し、透過する光がアンチモン含有凝集体によって遮光される割合が低くなることにより、回路欠陥の発生をさらに確実に防止することができるとともに、解像度をさらに向上させることができる。   -The content of antimony in the laminated film is preferably 150 ppm or less. In this case, the number of antimony-containing aggregates in the laminated film is reduced, and the rate at which transmitted light is shielded by the antimony-containing aggregates can be reduced, thereby further reliably preventing the occurrence of circuit defects. In addition, the resolution can be further improved.

・積層フィルムのヘーズ値は3.0%以下が好ましい。この場合には、積層フィルムの透明性を向上させることにより、解像度をより一層向上させることができる。
・金属含有凝集体の中では特にアンチモン含有凝集体に着目している。即ち、積層フィルム中の長径が10μm以上のアンチモン含有凝集体の個数は5個/10cm2以下が好ましい。この場合には、金属含有凝集体に含有される金属の中でも遮光性の高いアンチモンを含有する凝集体の含有量を低下させることにより、回路欠陥の発生をより一層確実に防止することができるとともに、解像度をさらに一層向上させることができる。
-The haze value of the laminated film is preferably 3.0% or less. In this case, the resolution can be further improved by improving the transparency of the laminated film.
-Among metal-containing aggregates, we are focusing on antimony-containing aggregates. That is, the number of antimony-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more in the laminated film is preferably 5/10 cm 2 or less. In this case, the occurrence of circuit defects can be more reliably prevented by reducing the content of the agglomerates containing antimony having a high light shielding property among the metals contained in the metal-containing agglomerates. , The resolution can be further improved.

尚、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・前記積層フィルムを、A層及びB層をA/Bの順番で積層することにより2層のポリエステル層によって形成してもよいし、4層以上のポリエステル層を積層することにより形成してもよい。このとき、最表層はA層により構成されている。また、A層、B層及びポリエステル層(C)をA/B/Cの順番で積層することにより積層フィルムを形成してもよい。このとき、ポリエステル(C)層中に粒子を含有させてもよい。
In addition, this embodiment can also be changed and embodied as follows.
-The laminated film may be formed of two polyester layers by laminating the A layer and the B layer in the order of A / B, or may be formed by laminating four or more polyester layers. Good. At this time, the outermost layer is composed of the A layer. Moreover, you may form a laminated | multilayer film by laminating | stacking A layer, B layer, and a polyester layer (C) in order of A / B / C. At this time, particles may be contained in the polyester (C) layer.

・前記積層フィルムを未延伸フィルムとして構成してもよいし、縦延伸又は横延伸のみで形成される一軸延伸フィルムとして構成してもよい。さらに、縦延伸及び横延伸を同時に行う同時二軸延伸により積層フィルムを形成してもよい。   -You may comprise the said laminated | multilayer film as an unstretched film, and you may comprise as a uniaxially stretched film formed only by longitudinal stretch or horizontal stretch. Further, the laminated film may be formed by simultaneous biaxial stretching in which longitudinal stretching and lateral stretching are simultaneously performed.

・前記積層フィルムを支持体層とするドライレフィルレジストをPDP(Plasma Display Panel)の隔壁等のパターン形成に用いてもよい。PDPの隔壁を形成するときには、まずドライフィルムレジストから保護層を剥離した後、表面に隔壁材層が積層されているプラズマディスプレイ基板の隔壁材層表面に露出したフォトレジスト層を貼付ける。次いで、ネガフィルム等のフォトマスクを支持体層表面に密着させてフォトマスク側から光を照射することにより所定箇所のフォトレジスト層を硬化させた後、フォトマスク及び支持体層を取除くとともにフォトレジスト層の未硬化部分を除去して硬化被膜のパターンを形成する。続いて、硬化被膜のパターンをマスクとしてサンドブラスト処理することによりパターン間に露出している隔壁材層をエッチングして所定のパターンを形成した後、硬化被膜を除去するとともに残存する隔壁材層に焼成処理を行うことにより、PDPの隔壁を製造する。このように構成した場合には、形成されたPDPの隔壁等のパターンにパターン欠陥が発生するのを防止することができる。   A dry refill resist having the laminated film as a support layer may be used for pattern formation of partition walls of a PDP (Plasma Display Panel). When forming the PDP barrier ribs, first, the protective layer is peeled off from the dry film resist, and then a photoresist layer exposed on the barrier rib material layer surface of the plasma display substrate on which the barrier rib material layer is laminated is pasted. Next, a photomask such as a negative film is brought into close contact with the surface of the support layer and light is irradiated from the photomask side to cure the photoresist layer at a predetermined location, and then the photomask and the support layer are removed and the photo is removed. The uncured portion of the resist layer is removed to form a cured film pattern. Subsequently, the barrier rib material layer exposed between the patterns is etched by sand blasting using the pattern of the hard coating film as a mask to form a predetermined pattern, and then the hard coating film is removed and the remaining barrier rib material layer is baked. By performing the process, the partition wall of the PDP is manufactured. When configured in this way, it is possible to prevent pattern defects from occurring in the pattern of the formed PDP partition walls.

次に、試験例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。まず、以下の各例における測定方法又は評価方法について説明する。
(1)層厚み
各例において、フィルムサンプルの小片を、エポキシ樹脂に硬化剤、加速剤を配合した樹脂で包埋処理し、ウルトラミクロトームを用いて厚み約200nmの切片を作成した。そして、得られた切片の断面の顕微鏡写真を、透過型電子顕微鏡H−9000(日立株式会社製の製品名)を用いて撮影し、顕微鏡写真から各層の厚みを測定した。ここで、加速電圧は300kVとし、倍率は各層の厚みに応じて1万倍〜10万倍の範囲で設定した。さらに、厚み測定は50点行い、測定値の厚い方から10点、薄い方から10点を削除して30点を平均して測定値とした。
Next, the embodiment will be described more specifically with reference to test examples and comparative examples. First, a measurement method or an evaluation method in each of the following examples will be described.
(1) Layer thickness In each example, a small piece of a film sample was embedded with a resin in which an epoxy resin was mixed with a curing agent and an accelerator, and a slice having a thickness of about 200 nm was prepared using an ultramicrotome. And the microscope picture of the cross section of the obtained section | slice was image | photographed using the transmission electron microscope H-9000 (product name made from Hitachi, Ltd.), and the thickness of each layer was measured from the microscope picture. Here, the acceleration voltage was 300 kV, and the magnification was set in the range of 10,000 to 100,000 times according to the thickness of each layer. Furthermore, the thickness measurement was performed at 50 points, and 10 points from the thicker measurement values and 10 points from the thinner ones were deleted, and 30 points were averaged to obtain a measurement value.

(2)積層フィルムのアンチモンの含有量(Sb量)
各例において、フィルムサンプル2gを硫酸+過酸化水素水で分解し、試料溶液を作成した。続いて、当該試料溶液100mlをプラズマ発光分析機にかけ、発光スペクトルを測定した。そして、あらかじめ作成したアンチモン元素のスペクトル別検量線を利用し、上記発光スペクトルのスペクトル強度からアンチモンの含有量を求めた。
(2) Antimony content of laminated film (Sb amount)
In each example, 2 g of the film sample was decomposed with sulfuric acid + hydrogen peroxide solution to prepare a sample solution. Subsequently, 100 ml of the sample solution was applied to a plasma emission analyzer, and an emission spectrum was measured. And the antimony content was calculated | required from the spectrum intensity | strength of the said emission spectrum using the calibration curve according to the spectrum of the antimony element created beforehand.

(3)アンチモン含有凝集体の個数
各例において、光学顕微鏡(倍率100倍)を用い、50cm2の面積に渡って積層フィルム内部を観察し、長径が10μm以上の凝集体をマーキングした後に走査型電子顕微鏡−エネルギー分散型X線分析装置(SEM−EDX)を用いてアンチモン含有凝集体を特定し、その個数を10cm2に換算して示した。
(3) Number of antimony-containing aggregates In each example, an optical microscope (magnification 100 times) was used to observe the inside of the laminated film over an area of 50 cm 2 , and after marking an aggregate having a major axis of 10 μm or more, scanning type Antimony-containing aggregates were identified using an electron microscope-energy dispersive X-ray analyzer (SEM-EDX), and the number thereof was converted to 10 cm 2 .

(4)A層面の表面粗度
<中心線平均粗さRa>
各例において、表面粗さ測定機SE−3F(株式会社小坂研究所製の製品名)を用いてA層面の表面粗さを測定した。即ち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の方向をy軸として粗さ曲線y=f(x)で表したとき、下記式(1)で求められる値を中心線平均粗さRa(μm)とした。測定は10本の断面曲線について行い、それらの平均を測定値とした。尚、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mmとした。
(4) Surface roughness of layer A surface <Center line average roughness Ra>
In each example, the surface roughness of the A layer surface was measured using a surface roughness measuring device SE-3F (product name, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). That is, a portion having a reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-sectional curve in the direction of the center line, the roughness line y = f with the center line of the extracted portion as the x axis and the direction of the vertical magnification as the y axis. When represented by (x), the value obtained by the following formula (1) was defined as the center line average roughness Ra (μm). The measurement was performed on 10 cross-sectional curves, and the average was taken as the measured value. The tip radius of the stylus was 2 μm, the load was 30 mg, and the cutoff value was 0.08 mm.

Figure 0004190978
<最大高さRt>
各例において、中心線平均粗さRaの測定時に得られた断面曲線の抜き取り部分のその平均線に平行な2直線で挟み、この2直線の最大値と最小値の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定してその値を最大高さRt(μm)とした。測定は10本の断面曲線について行い、それらの平均を測定値とした。
Figure 0004190978
<Maximum height Rt>
In each example, the section of the section curve obtained at the time of measuring the center line average roughness Ra is sandwiched by two straight lines parallel to the average line, and the interval between the maximum and minimum values of the two lines is the vertical magnification of the section curve. The value was measured as the maximum height Rt (μm). The measurement was performed on 10 cross-sectional curves, and the average was taken as the measured value.

(5)ヘーズ値
各例において、JIS K 6741に準じ、分球式濁度計NDH−20D(日本電色工業株式会社製の製品名)により積層フィルムの濁度を測定してその値をヘーズ値とした。
(5) Haze value In each example, according to JIS K6741, the turbidity of the laminated film was measured with a spheroid turbidimeter NDH-20D (product name, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and the haze value was obtained. Value.

(6)ドライフィルムレジストの実用性評価
各例のフィルムを用いてドライフィルムレジストを製造した。即ち、フィルムのA層面側にフォトレジスト層を塗布した。但し、参考例3についてはフィルムのB層面側にフォトレジスト層を塗布した。引き続き、ポリオレフィンフィルムの保護層をフォトレジスト層の表面にラミネートしてドライフィルムレジストを製造した。次いで、得られたドライフィルムレジストを用いて、プリント回路の製造を行った。即ち、まずガラス繊維含有エポキシ樹脂板上に積層された銅層表面に、保護層を剥離したドライフィルムレジストのフォトレジスト層表面を密着させた。続いて、積層フィルム表面に回路が印刷されたガラス板を密着させ、当該ガラス板側から紫外線の露光を行った。そして、洗浄、エッチング等の一連の現像操作を行って回路を形成した。そして、得られた回路を目視又は顕微鏡を用いて観察し、回路欠陥及び解像度について下記の評価基準に従って評価するとともに、ドライフィルムレジストの巻取り性について以下の評価基準に従って評価した。
(6) Evaluation of practicality of dry film resist A dry film resist was produced using the film of each example. That is, a photoresist layer was applied to the A layer side of the film. However, for Reference Example 3, a photoresist layer was applied to the B layer side of the film. Subsequently, a protective layer of polyolefin film was laminated on the surface of the photoresist layer to produce a dry film resist. Subsequently, the printed circuit was manufactured using the obtained dry film resist. That is, first, the photoresist layer surface of the dry film resist from which the protective layer was peeled was adhered to the surface of the copper layer laminated on the glass fiber-containing epoxy resin plate. Subsequently, a glass plate on which a circuit was printed was brought into close contact with the laminated film surface, and ultraviolet light exposure was performed from the glass plate side. Then, a series of development operations such as washing and etching were performed to form a circuit. And the obtained circuit was observed visually or using a microscope, and while evaluating the circuit defect and the resolution according to the following evaluation criteria, the winding property of the dry film resist was evaluated according to the following evaluation criteria.

<回路欠陥>
回路欠陥は見られない(○)、まれに回路欠陥が見られる(△)、回路欠陥が発生し、実用上支障がある(×)の3段階で評価した。
<Circuit defects>
Evaluation was made in three stages: no circuit defect was observed (◯), rarely a circuit defect was observed (Δ), a circuit defect occurred, and there was a practical problem (x).

<解像度>
極めて高度な解像度を有し、鮮明な回路が得られる(○)、鮮明度がやや劣り回路の線が多少太くなる等の現象が見られる(△)、鮮明度が劣り高密度の回路には使用できない(×)の3段階で評価した。
<Resolution>
With extremely high resolution, a clear circuit can be obtained (○), and the sharpness is slightly inferior and the circuit lines are somewhat thick (△). The evaluation was made in three stages of (x) which cannot be used.

<巻取り性>
フィルムが十分な滑り性を有し、巻取り性は良好(○)、フィルムの滑り性はやや不足し、巻取り性は多少劣る(△)、フィルムの滑り性は不足し、巻取り性に問題がある(×)の3段階で評価した。
<Winding property>
The film has sufficient slipperiness, the winding property is good (○), the film slipping property is slightly insufficient, the winding property is somewhat inferior (△), the film slipping property is insufficient, and the winding property is good Evaluation was made in three stages: (x) where there was a problem.

次いで、各ポリエステルの製造方法について説明する。尚、以下の説明における粒子の平均粒子径については、粒子径及び形状が均一な粒子の場合は電子顕微鏡による写真法によって測定した。即ち、約1000個の粒子の粒子径を測定して大粒子側から体積を積算し、総体積に対して50%の点の粒子径を平均粒子径とした。一方、その他の粒子の場合は、遠心沈殿式粒度分布測定装置SA−CP3型(株式会社島津製作所製の製品名)で測定した等価球形分布における積算体積分布50%の粒径を平均粒子径とした。また、ポリエステルの極限粘度は、ポリエステルをフェノール:テトレクロロエタン=50:50(重量比)の混合溶媒100ml中に溶解し30℃で測定した。さらに、「重量部」を「部」で示す。   Subsequently, the manufacturing method of each polyester is demonstrated. In the following description, the average particle size of the particles was measured by a photographic method using an electron microscope in the case of particles having a uniform particle size and shape. That is, the particle diameter of about 1000 particles was measured and the volume was integrated from the large particle side, and the particle diameter at 50% of the total volume was taken as the average particle diameter. On the other hand, in the case of other particles, the average particle size is the particle size of 50% of the integrated volume distribution in the equivalent spherical distribution measured with a centrifugal precipitation type particle size distribution analyzer SA-CP3 type (product name, manufactured by Shimadzu Corporation). did. The intrinsic viscosity of the polyester was measured at 30 ° C. by dissolving the polyester in 100 ml of a mixed solvent of phenol: tetrechloroethane = 50: 50 (weight ratio). Further, “parts by weight” is indicated by “parts”.

(ポリエステルA)
ポリエステルAにおいては、まずジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部及び酢酸マグネシウム4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステル交換反応を行った。ここで、反応開始から4時間を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。
(Polyester A)
In polyester A, first, 100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate were placed in a reactor, and the temperature was raised while heating, and methanol was distilled off to conduct a transesterification reaction. Here, 4 hours from the start of the reaction, the temperature was raised to 230 ° C., and the transesterification reaction was substantially completed.

次いで、平均粒子径が2.0μmの不定形シリカ粒子0.1部をエチレングリコールスラリーとして添加した。スラリー添加後、さらにリン酸0.03部及び三酸化アンチモン0.013部を加えて重縮合反応を行いポリエステルAを得た。ここで、反応溶液を加熱するとともに系内の圧力を低下させ、重縮合反応を開始してから4時間後に重縮合反応を停止した。ポリエステルAの極限粘度は0.645dl/gであり、ポリエステルA中の不定形シリカ粒子の含有量は0.10質量%であった。   Next, 0.1 part of amorphous silica particles having an average particle diameter of 2.0 μm was added as an ethylene glycol slurry. After adding the slurry, 0.03 part of phosphoric acid and 0.013 part of antimony trioxide were further added to carry out a polycondensation reaction to obtain polyester A. Here, the reaction solution was heated and the pressure in the system was decreased, and the polycondensation reaction was stopped 4 hours after the start of the polycondensation reaction. The intrinsic viscosity of polyester A was 0.645 dl / g, and the content of amorphous silica particles in polyester A was 0.10% by mass.

(ポリエステルB)
ポリエステルBにおいては、不定形シリカ粒子を架橋高分子粒子に変更し、三酸化アンチモンの配合量を0.0096部に変更した以外は、ポリエステルAと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応を行った。ポリエステルBの極限粘度は0.635dl/gであった。架橋高分子粒子の平均粒子径及びポリエステルB中の含有量を表1に示す。
(Polyester B)
In Polyester B, transesterification and polycondensation reactions were performed in the same manner as Polyester A, except that the amorphous silica particles were changed to crosslinked polymer particles and the blending amount of antimony trioxide was changed to 0.0096 parts. It was. The intrinsic viscosity of polyester B was 0.635 dl / g. Table 1 shows the average particle diameter of the crosslinked polymer particles and the content in polyester B.

ここで、架橋高分子粒子は、まず脱塩水800部に水溶性重合開始剤としての過硫酸カリウム1.5部及び分散安定剤としてのラウリルナトリウム(花王株式会社製;エマール0)0.5部を添加して均一に溶解させた。次いで、溶解液に、スチレン40部、メチルメタクリレート30部及びジビニルベンゼン30部の混合溶液を加え、窒素ガス雰囲気下で撹拌しながら70℃で15時間重合反応を行い、ほぼ球状の粒子を得た。ここで、反応率は98%であり、得られた粒子の平均粒子径は1.2μmであった。続いて、粒子の水スラリーを50℃に冷却し、ポリアクリル酸ナトリウム−メトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノメタクリレート共重合体の部分アンモニウム中和物1部を加えて1時間撹拌した後、エチレングリコール2000部を加え、加熱減圧下で水を留去して架橋高分子粒子を得た。   Here, the crosslinked polymer particles were prepared by first adding 800 parts of demineralized water to 1.5 parts of potassium persulfate as a water-soluble polymerization initiator and 0.5 parts of lauryl sodium (manufactured by Kao Corporation; EMAL 0) as a dispersion stabilizer. Was added and dissolved uniformly. Next, a mixed solution of 40 parts of styrene, 30 parts of methyl methacrylate and 30 parts of divinylbenzene was added to the solution, and the polymerization reaction was performed at 70 ° C. for 15 hours with stirring in a nitrogen gas atmosphere to obtain substantially spherical particles. . Here, the reaction rate was 98%, and the average particle diameter of the obtained particles was 1.2 μm. Subsequently, the aqueous slurry of particles was cooled to 50 ° C., 1 part of a partially ammonium neutralized product of sodium polyacrylate-methoxypolyethylene glycol-polypropylene glycol monomethacrylate copolymer was added and stirred for 1 hour, and then ethylene glycol 2000. Then, water was distilled off under reduced pressure by heating to obtain crosslinked polymer particles.

(ポリエステルC及びE)
ポリエステルC及びEにおいては、ポリエステルC又はE中の不定形シリカ粒子の含有量を表1に示すようにそれぞれ変更した。さらに、ポリエステルCにおいては三酸化アンチモンの配合量を0.017部に変更し、ポリエステルEにおいては三酸化アンチモンの配合量を0.036部に変更した以外は、ポリエステルAと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応をそれぞれ行った。ポリエステルCの極限粘度は0.657dl/gであり、ポリエステルEの極限粘度は0.664dl/gであった。
(Polyester C and E)
In polyesters C and E, the content of amorphous silica particles in polyester C or E was changed as shown in Table 1. Furthermore, in the polyester C, the amount of antimony trioxide is changed to 0.017 parts, and in the polyester E, the amount of antimony trioxide is changed to 0.036 parts, and the ester exchange is performed in the same manner as the polyester A. Reaction and polycondensation reaction were performed respectively. The intrinsic viscosity of polyester C was 0.657 dl / g, and the intrinsic viscosity of polyester E was 0.664 dl / g.

(ポリエステルD)
ポリエステルDにおいては、架橋高分子粒子の平均粒子径及びポリエステルD中の含有量を表1に示すように変更し、三酸化アンチモンの配合量を0.0072部に変更した以外は、ポリエステルBと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応を行った。ポリエステルDの極限粘度は0.628dl/gであった。
(Polyester D)
In the polyester D, the average particle diameter of the crosslinked polymer particles and the content in the polyester D were changed as shown in Table 1, and the amount of antimony trioxide was changed to 0.0072 parts, except for the polyester B and Similarly, a transesterification reaction and a polycondensation reaction were performed. The intrinsic viscosity of polyester D was 0.628 dl / g.

(ポリエステルF及びG)
ポリエステルF及びGにおいては、不定形シリカ粒子の平均粒子径及びポリエステルF又はG中の含有量を表1に示すようにそれぞれ変更した。さらに、ポリエステルFにおいては三酸化アンチモンの配合量を0.017部に変更し、ポリエステルGにおいては三酸化アンチモンの配合量を0.023部に変更した以外は、ポリエステルAと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応をそれぞれ行った。ポリエステルFの極限粘度は0.640dl/gであり、ポリエステルGの極限粘度は0.653dl/gであった。
(Polyester F and G)
In polyester F and G, the average particle diameter of the amorphous silica particles and the content in polyester F or G were changed as shown in Table 1, respectively. Furthermore, transesterification was carried out in the same manner as for polyester A, except that the blending amount of antimony trioxide in polyester F was changed to 0.017 parts, and the blending amount of antimony trioxide in polyester G was changed to 0.023 parts. Reaction and polycondensation reaction were performed respectively. The intrinsic viscosity of polyester F was 0.640 dl / g, and the intrinsic viscosity of polyester G was 0.653 dl / g.

(ポリエステルH)
ポリエステルHにおいては、不定形シリカ粒子を球状シリカ粒子に変更し、三酸化アンチモンの配合量を0.012部に変更した以外は、ポリエステルAと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応を行った。ポリエステルHの極限粘度は0.644dl/gであった。球状シリカ粒子の平均粒子径及びポリエステルH中の含有量を表1に示す。
(Polyester H)
In the polyester H, the transesterification reaction and the polycondensation reaction were performed in the same manner as the polyester A except that the amorphous silica particles were changed to spherical silica particles and the blending amount of antimony trioxide was changed to 0.012 parts. . Polyester H had an intrinsic viscosity of 0.644 dl / g. Table 1 shows the average particle diameter of the spherical silica particles and the content in the polyester H.

これらポリエステルA及びC〜Hについて、顕微鏡で観察した結果、各粒子は各ポリエステル中に均一に分散していた。
(粒子未添加ポリエステル)
試験例1〜4、参考例3、比較例1、比較例3及び比較例4のB層を形成する各粒子未添加ポリエステルにおいては、粒子を添加しない以外は各例のA層を形成するポリエステルと同様にしてエステル交換反応及び重縮合反応をそれぞれ行った。このため、各粒子未添加ポリエステルにおける三酸化アンチモンの配合量は各A層を形成するポリエステルと同量であり、各粒子未添加ポリエステルの極限粘度はそれぞれ0.630dl/gであった。
(試験例1〜4,参考例3及び比較例1〜4)
試験例1においては、まずA層を形成するポリエステルAをベント付き二軸押出し機を用いて溶融し、B層を形成しポリエステルAに対応する粒子未添加ポリエステルをポリエステルAとは別個の押出し機を用いて溶融した。次いで、TダイよりA/B/Aの2種3層で共押出したものを直ちにガラス転移温度未満にまで急冷し、非晶質の未延伸フィルムを得た。続いて、この未延伸フィルムをロール延伸機を用いて93℃で3.6倍に縦延伸して一軸延伸フィルムを得た後、一軸延伸フィルムをテンター延伸機を用いて110℃で4.2倍に横延伸して二軸延伸フィルムを得た。そして、二軸延伸フィルムを220℃で6秒間熱処理し、積層フィルムを得た。
As a result of observing these polyesters A and C to H with a microscope, each particle was uniformly dispersed in each polyester.
(Particle-free polyester)
In each non-particle-added polyester that forms the B layer of Test Examples 1 to 4 , Reference Example 3 , Comparative Example 1, Comparative Example 3, and Comparative Example 4, the polyester that forms the A layer of each example except that no particles are added The transesterification reaction and the polycondensation reaction were carried out in the same manner as above. For this reason, the compounding amount of antimony trioxide in each non-particle-added polyester was the same as the polyester forming each A layer, and the intrinsic viscosity of each non-particle-added polyester was 0.630 dl / g.
(Test Examples 1 to 4 , Reference Example 3 and Comparative Examples 1 to 4)
In Test Example 1, the polyester A forming the A layer was first melted using a vented twin screw extruder, and the B layer was formed and the particle-unadded polyester corresponding to the polyester A was separated from the polyester A extruder. Was melted. Next, a co-extruded A / B / A type 2 layer from a T die was immediately cooled to below the glass transition temperature to obtain an amorphous unstretched film. Subsequently, this unstretched film was longitudinally stretched 3.6 times at 93 ° C. using a roll stretcher to obtain a uniaxially stretched film, and then the uniaxially stretched film was 4.2 at 110 ° C. using a tenter stretcher. A biaxially stretched film was obtained by transverse stretching. The biaxially stretched film was heat treated at 220 ° C. for 6 seconds to obtain a laminated film.

試験例2においては、A層をポリエステルBにより形成するとともにB層をポリエステルBに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成し、積層フィルムの厚み構成を表1に示すように変更した以外は試験例1と同様にして積層フィルムを得た。参考例3においては、A層をポリエステルCにより形成するとともにB層をポリエステルCに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成し、積層フィルムの層構成及び厚み構成を表1に示すように変更した以外は試験例1と同様にして積層フィルムを得た。試験例4においては、A層をポリエステルDにより形成するとともにB層をポリエステルDに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成し、厚み構成を表1に示すように変更した以外は試験例1と同様に
して積層フィルムを得た。
In Test Example 2, Test layer 1 except that layer A was formed from polyester B and layer B was formed from a non-particle-added polyester corresponding to polyester B, and the thickness configuration of the laminated film was changed as shown in Table 1. In the same manner, a laminated film was obtained. In Reference Example 3, except that the A layer was formed of polyester C and the B layer was formed of particle-unadded polyester corresponding to polyester C, and the layer configuration and thickness configuration of the laminated film were changed as shown in Table 1. A laminated film was obtained in the same manner as in Test Example 1. In Test Example 4, the same procedure as in Test Example 1 was conducted, except that the A layer was formed from polyester D and the B layer was formed from a non-particle-added polyester corresponding to polyester D, and the thickness configuration was changed as shown in Table 1. To obtain a laminated film.

比較例1においては、A層をポリエステルEにより形成するとともにB層をポリエステルEに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成した以外は、試験例1と同様にして積層フィルムを得た。比較例2においては、ポリエステルFにより形成するとともに縦延伸及び横延伸を試験例1と同様にして、層厚みが16.0μmのA層単一層のみからなるポリエステルフィルムを得た。比較例3においては、A層をポリエステルGにより形成するとともにB層をポリエステルGに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成し、厚み構成を表1に示すように変更した以外は、試験例1と同様にして積層フィルムを得た。比較例4においては、A層をポリエステルHにより形成するとともにB層をポリエステルHに対応する粒子未添加ポリエステルにより形成した以外は、試験例1と同様にして積層フィルムを得た。   In Comparative Example 1, a laminated film was obtained in the same manner as in Test Example 1 except that the A layer was formed from polyester E and the B layer was formed from a non-particle-added polyester corresponding to polyester E. In Comparative Example 2, a polyester film formed of polyester F and having only a single A layer having a layer thickness of 16.0 μm was obtained in the same manner as in Test Example 1 in the longitudinal and lateral stretching. Comparative Example 3 is the same as Test Example 1 except that the A layer is formed of polyester G and the B layer is formed of non-particle-added polyester corresponding to polyester G, and the thickness configuration is changed as shown in Table 1. Thus, a laminated film was obtained. In Comparative Example 4, a laminated film was obtained in the same manner as in Test Example 1 except that the A layer was formed from polyester H and the B layer was formed from a non-particle-added polyester corresponding to polyester H.

試験例1〜4、参考例3及び比較例1〜4について、前記(1)〜(6)の各項目に関して測定又は評価を行った。それらの結果を表1及び表2に示す。尚、表1において、各層の厚みの数値はμmで示す。 About Test example 1-4 , Reference example 3, and Comparative examples 1-4, it measured or evaluated regarding each item of said (1)-(6). The results are shown in Tables 1 and 2. In Table 1, the numerical value of the thickness of each layer is expressed in μm.

Figure 0004190978
Figure 0004190978

Figure 0004190978
表2に示すように、試験例1〜4、参考例3においては、回路欠陥、解像度及び巻取り性について優れた評価となった。一方、表1及び表2に示すように、比較例1及び比較例3においては、アンチモン含有凝集体の個数が5個/10cm2を超えているために、回路欠陥が発生し、実用上支障があると評価された。比較例2においては、不定形シリカ粒子の平均粒子径が3.0μmを超え、中心線平均粗さRaが0.030μmを超えるとともに最大高さRtが1.0μmを超えているために、解像度が劣り高密度の回路には使用できないと評価された。比較例4においては、中心線平均粗さRaが0.002μm未満であるとともに最大高さRtが0.05μm未満であるために、フィルムの滑り性が不足し、巻取り性に問題があると評価された。
Figure 0004190978
As shown in Table 2, in Test Examples 1 to 4 and Reference Example 3 , the circuit defect, resolution, and winding property were excellent. On the other hand, as shown in Tables 1 and 2, in Comparative Example 1 and Comparative Example 3, the number of antimony-containing aggregates exceeds 5/10 cm 2 , so that a circuit defect occurs, which is a practical problem. It was evaluated that there was. In Comparative Example 2, since the average particle diameter of the irregular-shaped silica particles exceeds 3.0 μm, the center line average roughness Ra exceeds 0.030 μm, and the maximum height Rt exceeds 1.0 μm, the resolution However, it was evaluated that it could not be used for high-density circuits. In Comparative Example 4, since the center line average roughness Ra is less than 0.002 μm and the maximum height Rt is less than 0.05 μm, the slipping property of the film is insufficient, and there is a problem in the winding property. It was evaluated.

さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
ライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムからなる支持体層と、感光性樹脂材料により成るフォトレジスト層とを積層することにより形成されていることを特徴とするドライフィルムレジスト。この構成によれば、回路欠陥の発生をより確実に防止することができるとともに、解像度をより向上させることができる。
Further, the technical idea that can be grasped from the embodiment will be described below.
De Lai film and the resist laminated a polyester film support layer, a dry film resist, characterized in that it is formed by laminating a photoresist layer comprising a photosensitive resin material. According to this configuration, it is possible to more reliably prevent the occurrence of a circuit defect and to further improve the resolution.

Claims (2)

少なくとも2層のポリエステル層から成るドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルムであって、少なくとも一方の最表層は、平均粒子径が0.01〜3.0μmの粒子を含有し、表面の中心線平均粗さRaが0.002〜0.030μmであるとともに最大高さRtが0.05〜1.0μmであり、ポリエステル層全体において、長径が10μm以上の金属含有凝集体の個数が5個/10cm2以下であり、前記金属含有凝集体がアンチモンを含有し、前記ポリエステル層全体中のアンチモンの含有量が30〜120ppmであることを特徴とするドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルム。 A laminated polyester film for dry film resist comprising at least two polyester layers, wherein at least one outermost layer contains particles having an average particle diameter of 0.01 to 3.0 μm, and the center line average roughness of the surface Ra is 0.002 to 0.030 μm and the maximum height Rt is 0.05 to 1.0 μm, and the number of metal-containing aggregates having a major axis of 10 μm or more is 5/10 cm 2 or less in the entire polyester layer. der is, containing the metal-containing aggregates antimony, dry film resist laminated polyester film, wherein the content of antimony of the polyester layer overall in is 30~120Ppm. ヘーズ値が3.0%以下であることを特徴とする請求項1に記載のドライフィルムレジスト用積層ポリエステルフィルム。 Laminated polyester film for dry film resist according to claim 1 haze value is characterized by der Rukoto 3.0% or less.
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JP2007328331A (en) * 2006-05-09 2007-12-20 Fujifilm Corp Photosensitive thermal transfer material, image forming method, display device member, color filter, and display device
JP2008068497A (en) * 2006-09-13 2008-03-27 Mitsubishi Polyester Film Copp Laminated biaxially stretched polyester film
JP2008239743A (en) * 2007-03-27 2008-10-09 Toray Ind Inc Polyester film for dry film resist support
JP2008255236A (en) * 2007-04-05 2008-10-23 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Optical polyester film
MY208690A (en) 2018-04-18 2025-05-24 Mitsubishi Chem Corp Polyester film for dry film resist
JP7298665B2 (en) * 2018-04-18 2023-06-27 三菱ケミカル株式会社 Polyester film for dry film resist
JP7342246B2 (en) * 2020-03-25 2023-09-11 富士フイルム株式会社 Photosensitive transfer material, resin pattern manufacturing method, circuit wiring manufacturing method, and touch panel manufacturing method
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