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JP4192597B2 - Fine shape transfer method - Google Patents
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JP4192597B2 - Fine shape transfer method - Google Patents

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JP4192597B2 JP2002376769A JP2002376769A JP4192597B2 JP 4192597 B2 JP4192597 B2 JP 4192597B2 JP 2002376769 A JP2002376769 A JP 2002376769A JP 2002376769 A JP2002376769 A JP 2002376769A JP 4192597 B2 JP4192597 B2 JP 4192597B2
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  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面に微細な凹凸形状を有するディスプレイを量産複製する製造方法に係り、特に回折格子パターンを有するディスプレイを複製する際に用いる、回折格子の凹凸形状を有する原版から凹凸形状を転写した複製版の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、回折格子パターンを有するディスプレイを複製する場合に、原版の回折格子の凹凸形状を複数個面付け転写した複製版(スタンパー)を用いて複製を行う方法が多く採用されてきている。
【0003】
2光束干渉による回折格子パターンを有するディスプレイの原版を作製する工程としては、例えば2光束干渉による干渉縞を、そのピッチ、方向、および光強度を変化させて、感光材料基板の表面に次々に露光していく方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
しかし、このような原版作製工程は多くの時間を必要とすることから、大きい面積のスタンパーを作製するのは困難であり、原版の回折格子の凹凸形状を精密に複数転写する方法が必要となる。
【0005】
原版の凹凸形状を転写する方法としては、熱可塑性樹脂に原版を密着し、加熱加圧して原版の凹凸形状を転写する方法がある。
【0006】
しかし、この方法では凹凸の細部まで樹脂を充填することが困難であり、また成形性も充分ではなく精密な凹凸形状の転写は行えない。
【0007】
また、その他の方法として、光硬化樹脂もしくは紫外線硬化樹脂を用いて原版に樹脂が密着した状態で、紫外線照射により樹脂を硬化させて原版の凹凸形状を転写する方法がある(例えば、特許文献2参照。)。
【0008】
しかしながら、紫外線硬化樹脂は硬化するときに硬化収縮が起こることから、この方法で成形膜厚を厚くすると硬化収縮による歪みが生じ、細かいひび割れ(マイクロクラック)が発生してしまう。
【0009】
また、硬化収縮が大きいと成形性が充分ではなくなり、微細な凹凸形状を精度良く転写成形することができない。
【0010】
【特許文献1】
特許02139127号
【特許文献2】
特許02789597号
【0011】
図1は従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、装置の断面を示した概要図である。
【0012】
図1において、ガラス基板1の面に対して上下方向に移動する昇降ヘッド2が配置してある。昇降ヘッド2のガラス基板1に対向する面には、表面に凹凸形状のあるNi原版3が貼り付けてある。
【0013】
ここで、Ni原版の表面にある凹凸形状は、鋸刃状のブレーズド回折格子の形状を図示しているが、実際の回折格子の間隔は1μm程度であり、便宜上拡大して図示している。
【0014】
ガラス基板1の表面にはシランカップリング剤によるシランカップリング処理4が施されている。
【0015】
シランカップリング処理とは、ガラスと紫外線硬化樹脂との密着性を向上させるもので、シランカップリング剤は、分子中に無機質材料と化学的結合をする反応基と、有機材料と化学的結合をする反応基の2種以上の異なった反応基を持っている。
【0016】
このため、シランカップリング剤で表面処理を行ったガラスは、硬化後の紫外線硬化樹脂との密着が非常に強固なものとなる。
【0017】
以上のような表面処理を行ったガラス基板1の表面上で、Ni原版3の降下する位置に、未硬化の紫外線硬化樹脂5を滴下する。
【0018】
次に、図2に従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、圧着、紫外線照射による硬化工程の断面を示した概要図を示す。
【0019】
紫外線硬化樹脂5に、昇降ヘッド2を降下させ、Ni原版3を密着し、ガラス基板1とNi原版3を平行状態に保ち、ガラス基板1を透過する紫外線6を照射し、紫外線硬化樹脂5を硬化する。
【0020】
ここで、紫外線6に使用する紫外線光源としては、高圧水銀ランプを用い、反射板により、ファイバー内部に導き、ファイバー出口には平行光にする光学系(コリメーター)を配置して、平行光として照射する。
【0021】
また、照射する範囲としては、Ni原版の大きさと同じ領域を照射するため、平行光とした後にマスクを配置して照射する範囲を決定するようにしている。
【0022】
次に、図3に従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、剥離工程の断面を示した概要図を示す。
【0023】
ここで、昇降ヘッド2とNi原版3を上昇し、硬化した転写パターン7からNi原版3を剥離することで、転写パターン7にはNi原版3の凹凸形状が転写成形される。
【0024】
次に、図4に従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、移動工程と第2の紫外線硬化樹脂滴下工程の断面を示した概要図を示す。
【0025】
転写パターン7が形成されたガラス基板1を移動して、ガラス基板1のNi原版3の位置に、新たに未硬化の紫外線硬化樹脂8を滴下する。
【0026】
次に、図5に従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、第2の圧着、紫外線照射による硬化工程の断面を示した概要図を示す。
【0027】
図2に示した工程と同様に、紫外線硬化樹脂8に、昇降ヘッド2を降下させ、Ni原版3を密着し、ガラス基板1とNi原版3を平行状態に保ち、ガラス基板1を透過する紫外線9を照射し、紫外線硬化樹脂8を硬化する。
【0028】
ここで、紫外線9としては図2に示した紫外線6と同様な平行光を照射する。
【0029】
次に、図6に従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、第2の剥離工程の断面を示した概要図を示す。
【0030】
昇降ヘッド2とNi原版3を上昇し、硬化した転写パターン10からNi原版3を剥離することで転写パターン10にはNi原版3の凹凸形状が転写成形される。
【0031】
以上説明した工程を経て、ガラス基板1の表面に紫外線硬化樹脂を硬化して転写形成された、転写パターン7と転写パターン10が隣接して配置される。
【0032】
さらに、同様な工程を繰り返すことでNi原版3の凹凸形状をガラス基板上に複数個配置して転写形成できる。
【0033】
しかしながら、以上のような工程で転写成形を行う際に、成形膜厚を厚くすると紫外線硬化樹脂が硬化するときに、硬化収縮で樹脂内部に歪みが発生して、細かいひび割れ(マイクロクラック)が発生してしまう。
【0034】
また、硬化収縮が大きいと成形性が充分ではなくなり、微細な凹凸形状を精度良く転写成形することができない。
【0035】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、従来の方法としては、成形膜厚を厚くすると硬化収縮による歪みが生じ、マイクロクラックが発生し、成形性が充分ではなくなり、微細な凹凸形状を精度良く転写成形することができないという問題があった。
【0036】
本発明は、上記のような問題を解決するために成されたもので、その目的は平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に徐々に密着させ、当該透明基板と原版を平行に近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、成形膜厚を厚くしてもマイクロクラックが発生しないと共に、高精度に微細な凹凸形状を転写成形することができる転写方法を提供することにある。
【0037】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、
平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に密着させ、当該透明基板と原版を近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、前記光線を照射する方法として、スリット状の光線を照射し、当該光線の照射位置を当該スリット方向と略直交する方向に移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにした微細形状の転写方法である。
【0039】
請求項2に記載の発明は、
平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に密着させ、当該透明基板と原版を近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、
前記光線を照射する方法として、ビーム状の光線を走査して移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにした微細形状の転写方法である。
【0040】
請求項3に記載の発明は、
請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状が表面レリーフ型ホログラムであることを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0041】
請求項4に記載の発明は、
請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状が回折格子であることを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0042】
請求項5に記載の発明は、
請求項4に記載の微細形状の転写方法において、前記回折格子が鋸刃状のブレーズド型回折格子であることを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0043】
請求項6に記載の発明は、
請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状がマイクロレンズアレイであることを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0044】
請求項7に記載の発明は、
請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の微細形状の転写方法において、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板表面に砂消し処理もしくはノングレア処理を施したことを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0045】
請求項8に記載の発明は、
請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の微細形状の転写方法において、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の表面にシランカップリング処理を施したことを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0046】
請求項9に記載の発明は、
請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の微細形状の転写方法により作成された微細形状を有する版を複製版とし、支持体上に前記微細形状の逆型の微細形状を作成することを特徴とする微細形状の転写方法である。
【0047】
【作用】
従って、本発明の微細形状の転写方法において、前記光硬化樹脂を硬化するために、前記光線を照射する方法として、スリット状の光線を照射し、当該スリット方向と略直交する方向に移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにしたことで、スリット状の硬化部分に硬化収縮した分量の未硬化樹脂が、未硬化部分から供給され、硬化収縮による歪みが抑えられ、マイクロクラックは発生せず、高精度に微細形状を転写成形することができる。
【0048】
また、前記光線を照射する方法として、スリット状の光線を照射し、当該スリット方向と略直交する方向に前記透明基板と前記原版を共に移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにしたことでも、スリット状の硬化部分に硬化収縮した分量の未硬化樹脂が、未硬化部分から供給され、硬化収縮による歪みが抑えられ、マイクロクラックは発生せず、高精度に微細形状を転写成形することができる。
【0049】
さらに、前記光線を照射する方法として、ビーム状の光線を走査して移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにしたことで、ビーム状の硬化部分に硬化収縮した分量の未硬化樹脂が、未硬化部分から供給され、硬化収縮による歪みが抑えられ、マイクロクラックは発生せず、より高精度に微細形状を転写成形することができる。
【0050】
また、前記原版の微細な凹凸形状が表面レリーフ型ホログラムとしたことで、従来の転写方法では転写成形が困難であった、高空間周波数の表面レリーフ型ホログラムを、回折効率の低下なく高精度に転写成形することができる。
【0051】
また、前記原版の微細な凹凸形状が回折格子としたことで、従来の転写方法では転写成形が困難であった、高空間周波数の回折格子を、回折効率の低下なく高精度に転写成形することができる。
【0052】
さらに、前記原版の微細な凹凸形状が鋸刃状のブレーズド型回折格子としたことで、従来の転写方法では転写成形が困難であった、鋸刃状のブレーズド型回折格子を、回折効率の低下なく高精度に転写成形することができる。
【0053】
また、前記原版の微細な凹凸形状がマイクロレンズアレイとしたことで、従来の転写方法では転写成形が困難であった、マイクロレンズアレイ形状を、変形なく高精度に転写成形することができる。
【0054】
また、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板表面に砂消し処理もしくはノングレア処理を施したことで、転写成形した光硬化樹脂とガラス基板とを強固に密着できる。
【0055】
また、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の表面にシランカップリング処理を施したことで、転写成形した光硬化樹脂とガラス基板とをより強固に密着できる。
【0056】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0057】
図7は本発明による微細形状の転写方法の一実施形態においての構成要素を示す斜視図である。
【0058】
ノングレアガラス基板11の成形面はノングレア(アンチグレア)処理されたガラスを使用し、さらにシランカップリング処理が施されている。
【0059】
ところで、ノングレア処理とは、ガラス表面を薬液により溶解し表面を細かく荒らした状態にして、ガラスの表面反射を防ぐような処理方法であり、この方法により、ガラス表面を荒らして、硬化した樹脂とガラスの密着を強めるためにこのような処理を行った。
【0060】
また、ガラス表面を荒らす別の方法としては、細かい鉄粉や砂をガラス面に吹き付けて表面を荒らす様な方法でも実現でき、このような方法は砂消し処理などと呼ばれている。
【0061】
次に、ノングレアガラス基板11の表面に紫外線硬化樹脂12を塗布(滴下)し、Ni原版13を貼り付けた昇降ヘッド14を徐々に降下し、ノングレアガラス基板11と平行になるように近接配置する。
【0062】
次に、発振する光の波長が紫外線であるHe-Cdレーザー15から発振したレーザー光をミラー16にて反射し、シャッター17を経て、Xスキャナー18のミラーに入射する。
【0063】
さらに、Xスキャナー18により走査されたレーザー光を、Yスキャナー19のミラーに入射し、Xスキャナー18の走査方向と直交する方向に走査する。
【0064】
ところで、ノングレアガラス基板11の表面のノングレア処理による微細な凹凸は、表面に塗布した紫外線硬化樹脂12によって埋められて、見かけ上は透明な基板となる。
【0065】
ここで、図7においてはノングレアガラス基板11とNi原版13は離れたように図示しているが、実際にレーザー光を照射するときは、紫外線硬化樹脂12とNi原版13は密着して近接配置している。
【0066】
また、ここでの近接配置しているNi原版13とノングレアガラス基板11との距離が、硬化して成形される樹脂層の厚みとなる。
【0067】
上記の説明は、ビーム状の光線を照射する実施形態であるが、シリンドリカルレンズを用いたり、スリットを介した光線を照射するなどして、スリット状の光線を照射することが可能である。
【0068】
次に、図8は本発明による微細形状の転写方法の一実施形態においての構成要素を示す断面図である。
【0069】
ノングレアガラス基板21にシランカップリング処理22を施し、紫外線硬化樹脂23を滴下し、Ni原版24を貼り付けた昇降ヘッド25を、紫外線硬化樹脂23に密着して配置したところを示す。
【0070】
ここで、紫外線26をノングレアガラス基板21の紫外線硬化樹脂23を滴下した面と反対側から照射しながら移動する。
【0071】
紫外線硬化樹脂23の紫外線26が照射された部分で樹脂の硬化が起こり、樹脂硬化部分27の範囲が硬化する。
【0072】
ここで、樹脂硬化部分27で硬化するときに生じた収縮は、樹脂硬化部分27の周囲の樹脂未硬化部分28から未硬化樹脂として供給されることで、樹脂硬化部分27は収縮なく硬化することができる。
【0073】
つまり、紫外線26を移動することで次から次へ未硬化部分28から未硬化樹脂が供給されることで、紫外線硬化樹脂23の全体も収縮なく硬化することが可能となった。
【0074】
そして、Ni原版24をノングレアガラス基板21から剥がすが、この際は、硬化した紫外線硬化樹脂は、ノングレアガラス基板21上に残るようになる。
したがって、硬化収縮による歪みが抑えられ、マイクロクラックは発生せず、より高精度に微細形状を転写成形することができる。
【0075】
次に、以上説明した工程により樹脂面付けされたノングレアガラス基板の表面に、導電化処理を施し、さらに電鋳メッキ、もしくは化学メッキを行うことで、複製版(スタンパー)を作製することができる。
【0076】
なお、原版に予め複数の回折格子などを多面付けしておけば、もちろん、多面付けされた複製版を作製することができる。
【0077】
次に、上記のように作製された複製版を使用して、回折格子などを作製する実施形態について説明する。
例えば、支持体として、透明基板あるいは透明フィルムを用い、その上に、紫外線硬化性樹脂を塗布し、この紫外線硬化性樹脂に複製版を密着させる。そして、透明基板あるいは、透明フィルム側から紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、複製版を剥がすことにより、回折格子などが作製できる。
【0078】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に密着させ、当該透明基板と原版を近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、前記光線を照射する方法として、スリット状の光線を照射し、もしくはビーム状の光線を走査して移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにしたことで、スリット状もしくはビーム状の硬化部分に硬化収縮した分量の未硬化樹脂が、未硬化部分から供給されることにより、硬化収縮による歪みが抑えられ、マイクロクラックが発生せず、より高精度に微細形状を転写成形する方法が提供できる。
【0079】
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、装置の断面を示した概要図。
【図2】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、圧着、紫外線照射による硬化工程の断面を示した概要図。
【図3】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、剥離工程の断面を示した概要図。
【図4】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、移動工程と第2の紫外線硬化樹脂滴下工程の断面を示した概要図。
【図5】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、第2の圧着、紫外線照射による硬化工程の断面を示した概要図。
【図6】従来の紫外線硬化樹脂を用いた多面付け方法における、第2の剥離工程の断面を示した概要図。
【図7】本発明による微細形状の転写方法の一実施例においての構成要素を示す斜視図。
【図8】本発明による微細形状の転写方法の一実施例においての構成要素を示す断面図。
【符号の説明】
1…ガラス基板
2、14、25…昇降ヘッド
3、13、24…Ni原版
4、22…シランカップリング処理
5、8、12、23…紫外線硬化樹脂
6、9、26…紫外線
7、10…転写パターン
11、21…ノングレアガラス基板
15…He-Cdレーザー
16…ミラー
17…シャッター
18…Xスキャナー
19…Yスキャナー
27…樹脂硬化部分
28…樹脂未硬化部分
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a production method for mass production and reproduction of a display having a fine uneven shape on the surface, and in particular, the uneven shape is transferred from an original plate having an uneven shape of a diffraction grating, which is used when replicating a display having a diffraction grating pattern. The present invention relates to a method for producing a duplicate plate.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when a display having a diffraction grating pattern is replicated, a method of performing replication using a replica (stamper) obtained by imposing and transferring a plurality of concave and convex shapes of a diffraction grating of an original plate has been widely employed.
[0003]
As a process for producing an original display having a diffraction grating pattern by two-beam interference, for example, interference fringes by two-beam interference are successively exposed on the surface of the photosensitive material substrate by changing the pitch, direction and light intensity. The method of doing is proposed (for example, refer patent document 1).
[0004]
However, since such a master production process requires a lot of time, it is difficult to produce a stamper with a large area, and a method for accurately transferring a plurality of concave and convex shapes of the diffraction grating of the master is necessary. .
[0005]
As a method for transferring the concavo-convex shape of the original plate, there is a method of transferring the concavo-convex shape of the original plate by bringing the original plate into close contact with a thermoplastic resin and applying heat and pressure.
[0006]
However, with this method, it is difficult to fill the resin with the details of the unevenness, and the moldability is not sufficient, so that the precise uneven shape transfer cannot be performed.
[0007]
In addition, as another method, there is a method of transferring the concave / convex shape of the original by curing the resin by ultraviolet irradiation while the resin is in close contact with the original using a photo-curing resin or an ultraviolet-curing resin (for example, Patent Document 2). reference.).
[0008]
However, since the ultraviolet curable resin undergoes curing shrinkage when cured, if the molded film thickness is increased by this method, distortion due to curing shrinkage occurs, and fine cracks (microcracks) are generated.
[0009]
Further, if the curing shrinkage is large, the moldability becomes insufficient, and a fine uneven shape cannot be transferred and molded with high accuracy.
[0010]
[Patent Document 1]
Patent 02139127 [Patent Document 2]
Patent 027989597
FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of an apparatus in a conventional multi-surface imposition method using an ultraviolet curable resin.
[0012]
In FIG. 1, an elevating head 2 that moves in the vertical direction with respect to the surface of the glass substrate 1 is disposed. On the surface of the elevating head 2 facing the glass substrate 1, a Ni original plate 3 having an uneven shape on the surface is attached.
[0013]
Here, the uneven shape on the surface of the Ni original plate shows the shape of a saw blade-shaped blazed diffraction grating, but the actual distance between the diffraction gratings is about 1 μm and is enlarged for convenience.
[0014]
The surface of the glass substrate 1 is subjected to silane coupling treatment 4 using a silane coupling agent.
[0015]
Silane coupling treatment is to improve the adhesion between glass and UV curable resin.Silane coupling agent has a reactive group that chemically bonds with inorganic material in the molecule and a chemical bond with organic material. It has two or more different reactive groups.
[0016]
For this reason, the glass which surface-treated with the silane coupling agent becomes very strong adhesion with the ultraviolet curable resin after hardening.
[0017]
On the surface of the glass substrate 1 subjected to the above surface treatment, an uncured ultraviolet curable resin 5 is dropped at a position where the Ni original plate 3 is lowered.
[0018]
Next, FIG. 2 shows a schematic diagram showing a cross section of a curing process by pressure bonding and ultraviolet irradiation in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
[0019]
The raising / lowering head 2 is lowered to the ultraviolet curable resin 5, the Ni original plate 3 is brought into close contact, the glass substrate 1 and the Ni original plate 3 are kept in a parallel state, and the ultraviolet ray 6 passing through the glass substrate 1 is irradiated. Harden.
[0020]
Here, a high-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet light source used for the ultraviolet ray 6, and an optical system (collimator) that guides the inside of the fiber by a reflector and makes it parallel light at the fiber exit is arranged as parallel light. Irradiate.
[0021]
Further, as the irradiation range, since the same area as the Ni original plate is irradiated, the irradiation range is determined by arranging the mask after the parallel light.
[0022]
Next, FIG. 3 shows a schematic diagram showing a cross section of the peeling process in the conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
[0023]
Here, the ascending / descending head 2 and the Ni original plate 3 are raised, and the Ni original plate 3 is peeled off from the cured transfer pattern 7, so that the uneven shape of the Ni original plate 3 is transferred and formed on the transfer pattern 7.
[0024]
Next, FIG. 4 shows a schematic diagram showing a cross section of a moving step and a second ultraviolet curable resin dropping step in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
[0025]
The glass substrate 1 on which the transfer pattern 7 is formed is moved, and an uncured ultraviolet curable resin 8 is newly dropped onto the position of the Ni original plate 3 on the glass substrate 1.
[0026]
Next, FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross section of a second crimping and curing process by ultraviolet irradiation in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
[0027]
Similar to the process shown in FIG. 2, the elevating head 2 is lowered to the ultraviolet curable resin 8, the Ni original plate 3 is brought into close contact, the glass substrate 1 and the Ni original plate 3 are kept in a parallel state, and ultraviolet rays that pass through the glass substrate 1 are transmitted. 9 is irradiated to cure the ultraviolet curable resin 8.
[0028]
Here, the ultraviolet light 9 is irradiated with the same parallel light as the ultraviolet light 6 shown in FIG.
[0029]
Next, FIG. 6 shows a schematic diagram showing a cross section of the second peeling step in the conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
[0030]
The ascending / descending head 2 and the Ni original plate 3 are raised, and the Ni original plate 3 is peeled from the cured transfer pattern 10, whereby the uneven shape of the Ni original plate 3 is transferred and formed on the transfer pattern 10.
[0031]
Through the steps described above, the transfer pattern 7 and the transfer pattern 10 that are transferred and formed by curing the ultraviolet curable resin on the surface of the glass substrate 1 are disposed adjacent to each other.
[0032]
Furthermore, by repeating the same process, a plurality of uneven shapes of the Ni original plate 3 can be arranged and transferred on the glass substrate.
[0033]
However, when transfer molding is performed in the above process, if the molded film thickness is increased, when the UV curable resin is cured, distortion occurs inside the resin due to curing shrinkage, and micro cracks occur. Resulting in.
[0034]
Further, if the curing shrinkage is large, the moldability becomes insufficient, and a fine uneven shape cannot be transferred and molded with high accuracy.
[0035]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, as a conventional method, if the molding film thickness is increased, distortion due to curing shrinkage occurs, microcracks occur, moldability is not sufficient, and fine uneven shapes cannot be accurately transferred and molded. There was a problem.
[0036]
The present invention has been made to solve the above-described problems. The purpose of the present invention is to provide a step of applying a photo-curing resin to the surface of a flat transparent substrate and a flat master plate having a fine uneven shape. The step of gradually adhering to the photo-curing resin, placing the transparent substrate and the original plate close in parallel, and irradiating the transparent substrate from the opposite side of the original plate to cure the photo-curing resin, In a fine shape transfer method comprising a step of peeling from a transparent substrate, there is provided a transfer method capable of transferring and forming a fine concavo-convex shape with high accuracy while preventing generation of microcracks even when the molding film thickness is increased. It is in.
[0037]
[Means for Solving the Problems]
The invention described in claim 1
A step of applying a photocurable resin to the surface of a flat transparent substrate, a step of closely adhering a fine concavo-convex planar original plate to the photocurable resin, and arranging the transparent substrate and the original plate close to each other, and the transparent In a fine shape transfer method comprising a step of irradiating a substrate with a light beam from the side opposite to the original plate to cure the photo-curing resin and peeling the original plate from the transparent substrate, as a method of irradiating the light beam, a slit-shaped light beam is used. , The light irradiation position is moved in a direction substantially perpendicular to the slit direction, and the photo-curing resin is sequentially cured.
[0039]
The invention described in claim 2
A step of applying a photocurable resin to the surface of a flat transparent substrate, a step of closely adhering a fine concavo-convex planar original plate to the photocurable resin, and arranging the transparent substrate and the original plate close to each other, and the transparent In the fine shape transfer method comprising the steps of irradiating the substrate from the opposite side of the original and irradiating light to cure the photocurable resin, and peeling the original from the transparent substrate,
The method of irradiating the light beam is a fine shape transfer method in which a beam-like light beam is scanned and moved to sequentially cure the photocurable resin.
[0040]
The invention according to claim 3
3. The fine shape transfer method according to claim 1 or 2 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a surface relief hologram.
[0041]
The invention according to claim 4
3. The fine shape transfer method according to claim 1 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a diffraction grating.
[0042]
The invention described in claim 5
5. The fine shape transfer method according to claim 4 , wherein the diffraction grating is a saw blade blazed diffraction grating.
[0043]
The invention described in claim 6
3. The fine shape transfer method according to claim 1 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a microlens array.
[0044]
The invention described in claim 7
The fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the transparent substrate is a glass substrate, and the surface of the glass substrate is subjected to sand erasing treatment or non-glare treatment. This is a transfer method.
[0045]
The invention according to claim 8 provides:
The fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 7 , wherein the transparent substrate is a glass substrate, and the surface of the glass substrate is subjected to silane coupling treatment. This is a transfer method.
[0046]
The invention according to claim 9 is:
A plate having a fine shape produced by the fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 8 is used as a duplicate plate, and a reverse fine shape of the fine shape is produced on a support. This is a feature of a fine shape transfer method.
[0047]
[Action]
Therefore, in the fine shape transfer method of the present invention, in order to cure the photo-curing resin, as a method of irradiating the light beam, irradiate a slit-shaped light beam, moved in a direction substantially perpendicular to the slit direction, By sequentially curing the photo-curing resin, an amount of uncured resin cured and shrunk into the slit-shaped cured part is supplied from the uncured part, distortion due to curing shrinkage is suppressed, and microcracks are not generated. Therefore, a fine shape can be transferred and molded with high accuracy.
[0048]
In addition, as a method of irradiating the light beam, a slit-shaped light beam is irradiated, the transparent substrate and the original plate are moved together in a direction substantially orthogonal to the slit direction, and the photo-curing resin is sequentially cured. However, the amount of uncured resin that has been cured and shrunk to the slit-shaped cured part is supplied from the uncured part, distortion due to curing shrinkage is suppressed, microcracks are not generated, and a fine shape is transferred and molded with high accuracy. Can do.
[0049]
Further, as a method of irradiating the light beam, the beam-shaped light beam is scanned and moved, and the photo-curing resin is sequentially cured, so that an amount of uncured resin that has been cured and shrunk into the beam-shaped cured portion is obtained. Supplied from an uncured portion, distortion due to curing shrinkage is suppressed, microcracks are not generated, and a fine shape can be transferred and molded with higher accuracy.
[0050]
In addition, since the fine uneven shape of the original plate is a surface relief hologram, a high spatial frequency surface relief hologram, which has been difficult to transfer with the conventional transfer method, can be obtained with high accuracy without a decrease in diffraction efficiency. Can be transfer molded.
[0051]
In addition, since the fine uneven shape of the original plate is a diffraction grating, a high spatial frequency diffraction grating, which has been difficult to transfer with the conventional transfer method, can be transferred with high accuracy without a reduction in diffraction efficiency. Can do.
[0052]
Furthermore, since the fine irregular shape of the original plate is a saw blade-shaped blazed diffraction grating, a saw blade-shaped blazed diffraction grating, which has been difficult to transfer with the conventional transfer method, is reduced in diffraction efficiency. Transfer molding with high accuracy.
[0053]
In addition, since the fine uneven shape of the original plate is a microlens array, the microlens array shape, which has been difficult to transfer by the conventional transfer method, can be transferred and molded with high accuracy without deformation.
[0054]
In addition, the transparent substrate is a glass substrate, and the surface of the glass substrate is subjected to sand erasing treatment or non-glare treatment, so that the transfer-cured photo-curing resin and the glass substrate can be firmly adhered.
[0055]
Further, the transparent substrate is a glass substrate, and the surface of the glass substrate is subjected to a silane coupling treatment, whereby the photo-curing resin and the glass substrate that have been transfer-molded can be more firmly adhered to each other.
[0056]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.
[0057]
FIG. 7 is a perspective view showing components in one embodiment of the fine shape transfer method according to the present invention.
[0058]
The molding surface of the non-glare glass substrate 11 uses non-glare (anti-glare) -treated glass, and is further subjected to silane coupling treatment.
[0059]
By the way, non-glare treatment is a treatment method in which the glass surface is dissolved with a chemical solution and the surface is finely roughened to prevent reflection of the surface of the glass. By this method, the glass surface is roughened and cured resin is used. Such treatment was performed to strengthen the adhesion of the glass.
[0060]
Further, as another method of roughening the glass surface, a method of spraying fine iron powder or sand on the glass surface to roughen the surface can be realized, and such a method is called a sand removal treatment.
[0061]
Next, the ultraviolet curable resin 12 is applied (dropped) on the surface of the non-glare glass substrate 11, and the lifting head 14 to which the Ni original plate 13 is attached is gradually lowered and placed close to the non-glare glass substrate 11 in parallel. .
[0062]
Next, the laser light oscillated from the He-Cd laser 15 whose wavelength of the oscillating light is ultraviolet light is reflected by the mirror 16 and enters the mirror of the X scanner 18 through the shutter 17.
[0063]
Further, the laser beam scanned by the X scanner 18 enters the mirror of the Y scanner 19 and scans in a direction orthogonal to the scanning direction of the X scanner 18.
[0064]
By the way, the fine unevenness | corrugation by the non-glare process of the surface of the non-glare glass substrate 11 is filled with the ultraviolet curable resin 12 apply | coated to the surface, and it becomes a transparent substrate apparently.
[0065]
Here, in FIG. 7, the non-glare glass substrate 11 and the Ni original plate 13 are illustrated as being separated from each other, but when actually irradiating the laser beam, the ultraviolet curable resin 12 and the Ni original plate 13 are in close contact with each other. is doing.
[0066]
Further, the distance between the Ni original plate 13 and the non-glare glass substrate 11 that are arranged close to each other is the thickness of the resin layer that is cured and molded.
[0067]
The above description is an embodiment in which a beam-shaped light beam is irradiated. However, it is possible to irradiate a slit-shaped light beam by using a cylindrical lens or irradiating a light beam through a slit.
[0068]
Next, FIG. 8 is a cross-sectional view showing components in one embodiment of the fine shape transfer method according to the present invention.
[0069]
The figure shows that the non-glare glass substrate 21 is subjected to a silane coupling treatment 22, an ultraviolet curable resin 23 is dropped, and an elevating head 25 to which an Ni original plate 24 is attached is disposed in close contact with the ultraviolet curable resin 23.
[0070]
Here, the ultraviolet rays 26 are moved while being irradiated from the side opposite to the surface of the non-glare glass substrate 21 where the ultraviolet curable resin 23 is dropped.
[0071]
The resin is cured at the portion irradiated with the ultraviolet ray 26 of the ultraviolet curable resin 23, and the range of the resin cured portion 27 is cured.
[0072]
Here, the shrinkage that occurs when the resin cured part 27 is cured is supplied as an uncured resin from the resin uncured part 28 around the resin cured part 27, so that the resin cured part 27 is cured without contraction. Can do.
[0073]
That is, by moving the ultraviolet ray 26, the uncured resin is supplied from the uncured portion 28 to the next, so that the entire ultraviolet curable resin 23 can be cured without contraction.
[0074]
Then, the Ni original plate 24 is peeled off from the non-glare glass substrate 21. At this time, the cured ultraviolet curable resin remains on the non-glare glass substrate 21.
Therefore, distortion due to curing shrinkage is suppressed, microcracks are not generated, and a fine shape can be transferred and molded with higher accuracy.
[0075]
Next, a replica plate (stamper) can be produced by conducting a conductive treatment on the surface of the non-glare glass substrate that has been resin-imposed by the steps described above, and further performing electroforming plating or chemical plating. .
[0076]
If a plurality of diffraction gratings or the like are preliminarily provided on the original plate, it is of course possible to produce a multifaceted duplicate plate.
[0077]
Next, an embodiment in which a diffraction grating or the like is produced using the duplicate plate produced as described above will be described.
For example, a transparent substrate or a transparent film is used as a support, and an ultraviolet curable resin is applied on the transparent substrate or transparent film, and the duplicate plate is adhered to the ultraviolet curable resin. And a diffraction grating etc. can be produced by hardening an ultraviolet curable resin by irradiating an ultraviolet-ray from the transparent substrate or the transparent film side, and peeling a replication plate.
[0078]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the step of applying a photocuring resin to the surface of a flat transparent substrate, and the flat master plate having a fine uneven shape are brought into close contact with the photocuring resin, and the transparent substrate In the fine shape transfer method comprising the steps of placing the original and the original, and the step of irradiating the transparent substrate from the opposite side of the original with light to cure the photocurable resin and peeling the original from the transparent substrate. As a method of irradiating the light beam, the slit-shaped light beam is irradiated, or the beam-shaped light beam is scanned and moved, and the photo-curing resin is sequentially cured, so that the slit-shaped or beam-shaped cured portion is applied. A method of transferring and molding a fine shape with higher accuracy by suppressing the distortion caused by curing shrinkage by supplying an amount of uncured resin that has been cured and shrunk from an uncured part, and without generating microcracks. It can be provided.
[0079]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of an apparatus in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a cross-section of a curing process by pressure bonding and ultraviolet irradiation in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 3 is a schematic view showing a cross-section of a peeling process in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 4 is a schematic diagram showing a cross section of a moving step and a second ultraviolet curable resin dropping step in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross-section of a second crimping and curing process by ultraviolet irradiation in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 6 is a schematic diagram showing a cross section of a second peeling step in a conventional multi-face mounting method using an ultraviolet curable resin.
FIG. 7 is a perspective view showing components in an embodiment of a fine shape transfer method according to the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing components in an embodiment of a fine shape transfer method according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate 2, 14, 25 ... Elevating head 3, 13, 24 ... Ni original plate 4, 22 ... Silane coupling process 5, 8, 12, 23 ... UV curable resin 6, 9, 26 ... Ultraviolet 7, 10, 10 ... Transfer pattern 11, 21 ... Non-glare glass substrate 15 ... He-Cd laser 16 ... Mirror 17 ... Shutter 18 ... X scanner 19 ... Y scanner 27 ... Resin cured part 28 ... Resin uncured part

Claims (9)

平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に密着させ、当該透明基板と原版を近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、
前記光線を照射する方法として、スリット状の光線を照射し、当該光線の照射位置を当該スリット方向と略直交する方向に移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにした微細形状の転写方法。
A step of applying a photocurable resin to the surface of a flat transparent substrate, a step of closely adhering a fine concavo-convex planar original plate to the photocurable resin, and arranging the transparent substrate and the original plate close to each other, and the transparent In the fine shape transfer method comprising the step of irradiating the substrate from the opposite side of the original and irradiating light to cure the photocurable resin, and peeling the original from the transparent substrate,
As a method for irradiating the light beam, a fine shape transfer method in which a slit-shaped light beam is irradiated, the irradiation position of the light beam is moved in a direction substantially orthogonal to the slit direction, and the photo-curing resin is sequentially cured. .
平面状の透明基板表面に、光硬化樹脂を塗布する工程と、微細な凹凸形状の平面状の原版を、当該光硬化樹脂に密着させ、当該透明基板と原版を近接配置する工程と、当該透明基板に原版と反対側から、光線を照射して当該光硬化樹脂を硬化し、原版を透明基板から剥離する工程からなる微細形状の転写方法において、
前記光線を照射する方法として、ビーム状の光線を走査して移動させ、前記光硬化樹脂を順次硬化するようにした微細形状の転写方法。
A step of applying a photocurable resin to the surface of a flat transparent substrate, a step of closely adhering a fine concavo-convex planar original plate to the photocurable resin, and arranging the transparent substrate and the original plate close to each other, and the transparent In the fine shape transfer method comprising the step of irradiating the substrate from the opposite side of the original and irradiating light to cure the photocurable resin, and peeling the original from the transparent substrate,
As a method of irradiating the light beam, a fine shape transfer method in which a beam-shaped light beam is scanned and moved to sequentially cure the photocurable resin.
請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状が表面レリーフ型ホログラムであることを特徴とする微細形状の転写方法。 3. The fine shape transfer method according to claim 1 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a surface relief hologram. 請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状が回折格子であることを特徴とする微細形状の転写方法。 3. The fine shape transfer method according to claim 1 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a diffraction grating. 請求項4に記載の微細形状の転写方法において、前記回折格子が鋸刃状のブレーズド型回折格子であることを特徴とする微細形状の転写方法。5. The fine shape transfer method according to claim 4 , wherein the diffraction grating is a saw blade-shaped blazed diffraction grating. 請求項1又は請求項2に記載の微細形状の転写方法において、前記原版の微細な凹凸形状がマイクロレンズアレイであることを特徴とする微細形状の転写方法。 3. The fine shape transfer method according to claim 1 or 2 , wherein the fine uneven shape of the original plate is a microlens array. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の微細形状の転写方法において、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板表面に砂消し処理もしくはノングレア処理を施したことを特徴とする微細形状の転写方法。The fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the transparent substrate is a glass substrate, and the surface of the glass substrate is subjected to sand erasing treatment or non-glare treatment. Transfer method. 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の微細形状の転写方法において、前記透明基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の表面にシランカップリング処理を施したことを特徴とする微細形状の転写方法。The fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 7 , wherein the transparent substrate is a glass substrate, and a surface of the glass substrate is subjected to silane coupling treatment. Transcription method. 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の微細形状の転写方法により作成された微細形状を有する版を複製版とし、支持体上に前記微細形状の逆型の微細形状を作成することを特徴とする微細形状の転写方法。A plate having a fine shape produced by the fine shape transfer method according to any one of claims 1 to 8 is used as a duplicate plate, and a reverse fine shape of the fine shape is produced on a support. A fine shape transfer method characterized.
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