JP4263571B2 - 高Tgポリマー母材組成物をベースにしたLED素子用新規発光層 - Google Patents
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Description
有機EL(電界発光)材料を母材中に分散させて含む発光層であって、該有機EL材料は分子量が約2000amu未満であり、該母材はTgが170℃以上の有機非ELポリマーを含み、また該有機非ELポリマーと該有機EL材料はそれぞれ該発光層の20重量%以上を占めることを特徴とする発光層、及び
該発光層と電気的に導通させかつ該発光層に電荷を伝えて該発光層が発光するように構成した電極
を含む発光素子を提供する。
本発明の発光層はTgが170℃以上、好ましくは200℃以上である有機ポリマーを含む。従って、本明細書で使用する表現「高Tgポリマー」はガラス転移温度が170℃以上であるポリマーを意味する。この有機ポリマーは発光層の約20〜約80wt%を占めるのが好ましく、また一部の好ましい実施態様では発光層の約40〜約60wt%を占める。発光材料に至る正孔及び電子輸送用のパーコレーション経路を確保するにはEL材料の含有量を20wt%以上とする必要がある。より低い含有量では所望のEL結果を実現するに足る輸送が不可能になる。
−(−O−Ar1−O−Ar2−)m−(−O−Ar3−O−Ar4−)n−
の繰返し構造単位を含む。ただしmは0〜1、nは1−mであり、またAr1、Ar2、Ar3及びAr4は独立に二価のアリーレン基である。これらの実施態様ではAr1、Ar2、Ar3及びAr4は
本発明の発光層は、有機ポリマー母材中に分散させたEL材料を含む。本発明のEL材料はEL用途分野で電気活性特性を示す材料と定義され、発光材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含む。EL材料は電気活性種の組み合わせでもよい。本発明の好ましい実施態様では、EL材料は正孔輸送材料、発光材料及び電子輸送材料の組み合わせである。随意に、本発明のEL材料は正孔輸送材料と発光材料の組み合わせ又は電子輸送材料と発光材料の組み合わせでもよい。EL材料は発光層の約20〜約80重量%を占めるのが好ましく、場合によっては発光層の約40〜約60重量%を占めるのが好ましい。EL材料含有量がもっと低くては十分なEL輝度が実現しないおそれがあり、またもっと高くては得られる膜の物理的一体性に悪影響が及びかねない。
R1R2C=CH-Ar-CH=CR3R4
の一般構造を有する芳香族メチリジン化合物などであるが、ただしR1、R2、R3及びR4は水素、アルキル基、アルコキシ基、置換芳香族基を含む芳香族基、脂環式基などであり、またArは芳香族構造であって、芳香族基上に種々の置換基を有するものを含めたフェニル-、ビフェニル-、テルフェニル-連結芳香族構造である。その場合の置換基の例にはアルキル、アリール、アルコキシ、ヒドロキシル、ハリド、アミノなどを含めることができる。この種の組成物は種々の出光興産特許、たとえば米国特許第5,503,910号、5,121,029号及び6,214,481号明細書で開示されている。
本発明の発光素子の構造は多様に変化させることができる。たとえば好適な発光素子は、適当な基材の片面に透明陽極を設けたものにすることができる。正孔注入/輸送層は透明陽極の上に設けるが、正孔注入層と正孔輸送層の両方を含むことができる。正孔輸送層の上には発光層を設けるが、そこは正孔と電子が結合して光を発する部分である。発光層の上に電子注入/輸送層を設け、この層の上に陰極を設ける。陽極、発光及び陰極の各層は必須である。正孔注入、正孔輸送、電子注入及び電子輸送の各層は随意である。正孔輸送又は電子輸送が速すぎるような場合には発光層内の電子-正孔結合を最大限に実現するために正孔又は電子ブロッキング層を設けることができる。
片面にITO(抵抗=8〜12Ω)をコートした非磨きフロートガラスSiO2スライド(50×75×1.1mm)のITOコート面上の両端部に約0.5cm2の導電性銀ペースト(Ted Pella, Inc.のコロイド銀ペースト)を塗布した。銀ペースト凝固後、スライドをスピンプロセッサー(Laurell Model WS-400-8FTM-Full/HPD)にセットし、イソプロパノールでスピン洗浄した。Baytron P[3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホネート(CAS# 1555090-83-8)の固形分1.3wt%水溶液]をBayer社から入手し、1μmフィルターでろ過し、ITOコート・ガラススライド表面に2000rpmで45秒間スピンコートした。この試料を乾燥させ、次いで0.4179gのローダミンB、0.4152gのポリスルホン(P-1700; Amoco)及び40gのCHCl3の溶液約1mlをコート・ガラススライドに1000rpmでスピンコートした。次いでこのサンプルにマスクを施し、Al陰極部を熱真空蒸着法で設けた。Al陰極の端部には前記の導電性銀ペーストをコートした。室内(相対湿度50%、23℃)で数週間乾燥、硬化させた後、陰極と陽極を電圧源に接続し、素子に20Vと40Vの電圧を印加した。
片面にITO(抵抗=8〜12Ω)をコートした非磨きフロートガラスSiO2スライド(50×75×1.1mm)をオゾンに20分間さらし、次いでITOコート面上の両端部(75mm間隔)に約0.5cm2の導電性銀ペースト(Ted Pella, Inc.のコロイド銀ペースト)を塗布した。銀ペースト凝固後、スライドをスピンプロセッサー(Laurell Model WS-400-8FTM-Full/HPD)にセットした。0.2550gのクマリン6と0.2410gのPAE-2とを40gのシクロペンタノン(0.45μmフィルターでろ過処理)に溶解した溶液約1mlをガラススライドに1000rpmで45秒間スピンコートした。
片面にITO(抵抗=8〜12Ω)をコートした非磨きフロートガラスSiO2スライド(50×75×1.1mm)をオゾンに20分間さらし、次いでITOコート面上の両端部(75mm間隔)に約0.5cm2の導電性銀ペースト(Ted Pella, Inc.のコロイド銀ペースト)を塗布した。銀ペースト凝固後、スライドをスピンプロセッサー(Laurell Model WS-400-8FTM-Full/HPD)にセットした。Baytron P[3,4-ポリエチレンジオキシチオフェン-ポリスチレンスルホネート(CAS# 1555090-83-8)]の水溶液(固形分1.3wt%)をBayer社から入手し、等量の蒸留水で希釈し、1μmフィルターでろ過し、ITOコート・ガラススライド表面に1000rpmで45秒間スピンコートした。次いでガラススライドを空気循環炉で(ガラスカバーをかぶせて)125℃に5分間加熱した。冷却後、0.1705gのローダミンBと0.1520gのPAE-2とを30gのシクロペンタノンに溶解し(0.45μmフィルターでろ過処理し)た溶液約1mlをガラススライドに1000rpmで45秒間スピンコートした。この試料には再度、前記溶液をさらに1ml、1000rpmで45秒間スピンコートした。
片面にITO(抵抗=8〜12Ω)をコートした非磨きフロートガラスSiO2スライド(50×75×1.1mm)をオゾンに20分間さらし、次いでITOコート面上の両端部(75mm間隔)に約0.5cm2の導電性銀ペースト(Ted Pella, Inc.のコロイド銀ペースト)を塗布した。銀ペースト凝固後、スライドをスピンプロセッサー(Laurell Model WS-400-8FTM-Full/HPD)にセットした。0.1705gのローダミンBと0.1520gのPAE-2とを30gのシクロペンタノンに溶解し(0.45μmフィルターでろ過処理し)た溶液約1mlをガラススライドに1000rpmで45秒間スピンコートした。
実施例14の試料(0.1310gのクマリン334/0.1306gのポリスルホン/40gのテトラヒドロフラン)をペトリ皿にキャストし、室温で脱揮した。得られた薄膜は、ガラスにしっかりと接着していたが、水に浸して剥がれた。この超薄膜はポリマーが50wt%未満であるにもかかわらず機械的強度を備えていた。動的機械分析によりガラス転移温度は約50℃であると判明した。これは残留溶媒(THF)が薄膜中に残っている明らかなしるしであった。従って乾燥薄膜ならTg>50℃であろうと推定された。薄膜が透明、アモルファスで、機械的耐久性を備えるとの観測結果は、高Tgポリマーと高配合量の低分子EL化合物の組み合わせがFOLED製造法には非常に好適であることを示している。
2gのポリスルホン試料(P-3500; Amoco)と1gのクマリン6 (Aldrich)を30gのTHFに溶解し、次いで脱揮した。この脱揮薄膜を210〜220℃で圧縮成形した。3gのポリスルホン試料(P-3500; Amoco)をやはり30gのTHFに溶解し、脱揮し、230〜240℃で圧縮成形した。両薄膜試料を、Rheometrics Solid Analyzer (RSAII)を使用して変形周波数6.28rad/秒で動的機械分析にかけた。ポリスルホンのTgは当初は146℃であった(試料中にTHFが残留していることを示唆)が、完全脱揮するとTgは190℃になった。またポリスルホン/クマリン6 (2/1ブレンド)のTgは132℃であった。このブレンドは透明であり、混和性がきわめて高いように見えた。
クマリン6(対照)
第1加熱: Tm=211.3℃; ΔHf=109.8J/g
第1冷却: Tc=184.0℃; ΔHc=87.6J/g
第2加熱: Tm=211.8℃; ΔHf=94.9J/g
ポリスルホン(対照)
第1加熱: Tg=142.5℃
第1冷却: Tg=166.2℃
第2加熱: Tg=169.8℃
ポリスルホン/クマリン6 (2/1)ブレンド
第1加熱: Tg=100.4℃; Tc=159.3℃; ΔHc=16.3J/g; Tm=190.7℃; ΔHf=18.2J/g
第1冷却: Tg=107.0℃
第2加熱: Tg=110.4℃; Tc=183.3℃; ΔHc=0.75J/g; Tm=197.0℃; ΔHf=0.82J/g
35.5mgのPAE-2、16.2mgのN,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン(TPD, CAS# 65181-78-4)及び0.9mgのクマリン6(CAS# 38215-36-0)を2.61gのクロロベンゼンに溶解して溶液を調製した。片面にITO(シート抵抗15Ω/スクエア以下)をコートした磨きソーダ石灰フロートガラス(2.5×2.5×0.7cm)を洗剤、脱イオン水、メタノール、イソプロパノール及びアセトン中で順次、各5分間超音波洗浄した。ITOコート・ガラス基材は洗浄溶媒を変えるたびに乾燥させた。ITOコート・ガラス基材をUV-オゾンに10分間さらした後、Laurell Model WS-400-N6PPスピンプロセッサーのチャックにセットし、前記溶液を1200rpmの回転速度でスピンコートした。次いでサンプルをマスクし、Mg/Ag層を順次、1×10-5 Torr未満の圧力下、熱真空蒸着法で蒸着した。順バイアスをかけると(ITOは陽極に、Agは陰極にそれぞれ接続した)、緑色発光が14V超で観測され、25Vできわめて高輝度になった。図1はこの素子の電圧-電流特性である。
35.4mgのPAE-2、16.0mgの2-(4-ビフェニリル)-5-(4-tert-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール(PBD, CAS# 15082-28-7)及び0.8mgのクマリン6 (CAS# 38215-36-0)を2.59gのクロロベンゼンに溶解して溶液を調製した。片面にITO(シート抵抗15Ω/スクエア以下)をコートした磨きソーダ石灰フロートガラス(2.5×2.5×0.7cm)を洗剤、脱イオン水、メタノール、イソプロパノール及びアセトン中で順次、各5分間超音波洗浄した。ITOコート・ガラス基材は洗浄溶媒を変えるたびに乾燥させた。ITOコート・ガラス基材をUV-オゾンに10分間さらした後、Laurell Model WS-400-N6PPスピンプロセッサーのチャックにセットし、前記溶液を1200rpmの回転速度でスピンコートした。次いでサンプルをマスクし、Mg/Ag層を順次、1×10-5 Torr未満の圧力下、熱真空蒸着法で蒸着した。順バイアスをかけると(ITOは陽極に、Agは陰極にそれぞれ接続した)、緑色発光が22V超で観測され、38Vできわめて高輝度になった。図2はこの素子の電圧-電流特性である。
20.4mgのPAE-2、5.3mgのN,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン(TPD, CAS# 65181-78-4)、6.5mgの2-(4-ビフェニリル)-5-(4-tert-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール(PBD, CAS# 15082-28-7)及び0.8mgのクマリン6 (CAS# 38215-36-0)を1.60gのクロロベンゼンに溶解して溶液を調製した。片面にITO(シート抵抗15Ω/スクエア以下)をコートした磨きソーダ石灰フロートガラス(2.5×2.5×0.7cm)を洗剤、脱イオン水、メタノール、イソプロパノール及びアセトン中で順次、各5分間超音波洗浄した。ITOコート・ガラス基材は洗浄溶媒を変えるたびに乾燥させた。ITOコート・ガラス基材をUV-オゾンに10分間さらした後、Laurell Model WS-400-N6PPスピンプロセッサーのチャックにセットし、前記溶液を1200rpmの回転速度でスピンコートした。次いで基板をマスクし、Mg/Ag層を順次、1×10-5 Torr未満の圧力下、熱真空蒸着法で蒸着した。順バイアスをかけると(ITOは陽極に、Agは陰極にそれぞれ接続した)、緑色発光が18V超で観測され、38Vできわめて高輝度になった。図3はこの素子の電圧-電流特性である。
19.7mgのPAE-2と7.8mgの4-(ジシアノメチレン)-2-メチル-6-(4-ジメチルアミノスチリル)-4H-ピラン(DCM, CAS# 51325-91-8; Aldrich)を1.0781gのクロロベンゼンに溶解して溶液を調製し、0.2μm疎水性フィルターでろ過した。片面にITO(シート抵抗15Ω/スクエア以下)をコートした磨きソーダ石灰フロートガラス(2.5×2.5×0.7cm)を洗剤、脱イオン水、メタノール、イソプロパノール及びアセトン中で順次、各5分間超音波洗浄した。ITOコート・ガラス基材は洗浄溶媒を変えるたびに乾燥させた。ITOコート・ガラス基材をUV-オゾンに10分間さらした後、Laurell Model WS-400-N6PPスピンプロセッサーのチャックにセットし、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン9):ポリスチレンスルホン酸(PEDOT、当初は固形分が1.3wt%であるBayer社製品Baytron Pを脱イオン水で希釈し固形分濃度を約0.5wt%にした)水性分散液を1200rpmの回転速度でスピンコートした。次にこのPEDOTコート基材を真空炉(約25mmHg)に入れて80℃で10分間熱処理した。その後、熱処理基材を再びスピンプロセッサーにセットし、前記PAE-2:DCM溶液を回転速度1200rpmでスピンコートした。最後にサンプルをマスクし、Mg/Ag層を順次、1×10-5 Torr未満の圧力下、熱真空蒸着法で蒸着した。順バイアスをかけると(ITOは陽極に、Agは陰極にそれぞれ接続した)、赤色発光が18V超で観測され、30Vできわめて高輝度になった。図4はこの素子の電圧-電流特性である。素子はかなりの高電流になったが、これはDCMの配合率(PAE-2:DCM膜の28.4wt%)が導電に必要とされるパーコレーション閾値に到達したことを示唆する。
PAE-2と正孔輸送材料N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン(TPD, CAS# 65181-78-4)のブレンドにクマリン6 (CAS# 38215-36-0)をドープした4つの溶液を次の要領で調製した。 溶液1: 19.0mgのPAE-2と1.0mgのTPD、プラス0.3mgのクマリン6を1.00gのクロロベンゼンに溶解。溶液2: 18.0mgのPAE-2と2.0mgのTPD、プラス0.3mgのクマリン6を1.00gのクロロベンゼンに溶解。溶液3: 17.0mgのPAE-2と3.0mgのTPD、プラス0.3mgのクマリン6を1.00gのクロロベンゼンに溶解。溶液4: 16.0mgのPAE-2と4.0mgのTPD、プラス0.3mgのクマリン6を1.00gのクロロベンゼンに溶解。溶液1、2、3及び4のTPD混合率はそれぞれ5wt%、10wt%、15wt%及び20wt%であった。各溶液は0.2μm疎水性フィルターでろ過した。
15.5mgのポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシド)、5.9mgのN,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン(TPD, CAS# 65181-78-4)及び0.3mgのクマリン6 (CAS# 38215-36-0)を1.00gのクロロベンゼンに溶解して溶液を調製した。溶液を0.2μm疎水性フィルターでろ過した。片面にITO(シート抵抗15Ω/スクエア未満)をコートした磨きソーダ石灰フロートガラス(2.5×2.5×0.7cm)を洗剤、脱イオン水、メタノール、イソプロパノール及びアセトン中で順次、各5分間超音波洗浄した。ITOコート・ガラス基材は洗浄溶媒を変えるたびに乾燥させた。ITOコート・ガラス基材をUV-オゾンに10分間さらした後、Laurell Model WS-400-N6PPスピンプロセッサーのチャックにセットし、前記溶液を1200rpmの回転速度でスピンコートした。次いでサンプルをマスクし、Mg/Ag層を順次、1×10-5 Torr未満の圧力下、熱真空蒸着法で蒸着した。この素子の活性面積は約6mm2であった。順バイアスをかけると(ITOは陽極に、Agは陰極にそれぞれ接続した)、発光が25V超で観測された。図6はこの素子の電圧-電流特性である。
Claims (31)
- 有機EL(電界発光)材料を母材中に分散させて含む発光層であって、該有機EL材料は分子量が約2000amu未満であり、該母材はTgが170℃以上の有機非ELポリマーを含み、該有機非ELポリマーが
−(−O−Ar 1 −O−Ar 2 −) m −(−O−Ar 3 −O−Ar 4 −) n −
(式中mは0〜1、nは1−mであり、またAr 1 、Ar 2 、Ar 3 及びAr 4 は独立に二価のアリーレン基である。)
の繰返し構造単位を含むポリアリーレンエーテルであり、また該有機非ELポリマーと該有機EL材料はそれぞれ該発光層の20重量%以上を占めることを特徴とする発光層、及び
該発光層と電気的に導通させかつ該発光層に電荷を伝えて該発光層が発光するように構成した電極
を含む発光素子。 - mが0.5であり、nが0.5である請求項2の発光素子。
- mが1であり、Ar1がビフェニル基である請求項1の発光素子。
- 有機非ELポリマーがポリ-2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシドである請求項1の発光素子。
- 有機非ELポリマーのTgが200℃以上である請求項1の発光素子。
- 有機非ELポリマーの含有量が発光層の50重量%以下である請求項1の発光素子。
- 有機EL材料の含有量が発光層の50重量%以上である請求項1の発光素子。
- 有機EL材料がジスチレニル誘導体、クマリン6、クマリン334、クマリン343、ローダミンB、ローダミン6G、ローダミン110、フルオレセイン548、2’,7’-ジクロロフルオレセイン、過塩素酸クレシルバイオレット、過塩素酸ナイルブルーAA、p-テルフェニル、p-クアテルフェニル、エグザライト(Exalite)(376, 384r, 389)、フルオロール555、二酢酸フルオレセイン、カルボスチリル165、IR-140、チオニン、ペリレン、9-アミノアクリジンHCl、及び一般構造
R1R2C=CH-Ar-CH=CR3R4
(式中、Arは芳香族構造であり、R1、R2、R3及びR4は独立に水素、アルキル基、アルコキシ基、置換芳香族基を含む芳香族基、又は脂環式基である。)
で示される芳香族メチリジン化合物からなる群より選択される1以上の材料である請求項1の発光素子。 - 有機EL材料がナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン類、ペリレン類、クリセン類、ブタジエン類、ペリフランテン類及びテトラビニルピラジン類からなる群より選択される1以上の材料である請求項1の発光素子。
- 素子が破損又は発光能の喪失を招くことなく半径6インチの円柱の周りをなぞらせるに足るほど可とう性であることを特徴とする請求項1の発光素子。
- 電極の一方が陽極であり他方が陰極であって、陽極は発光層の第1面に設け、陰極は発光層の第2面に設け、また発光層側とは反対側の陽極面に透明基材を設けることを特徴とする請求項1の発光素子。
- 陽極と発光層の間の正孔輸送層(a); 及び発光層と陰極の間の電子輸送層(b)のうち少なくとも1つをさらに含む請求項12の発光素子。
- 請求項1の発光素子の製造方法であって、発光層を設けるステップ; 及び該発光層と電気的に導通させかつ該発光層に電荷を伝えて該発光層が発光するように構成した電極を設けるステップを含む製造方法。
- 発光層を設けるステップがスピンコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法及びロールツーロール印刷法からなる群より選択される少なくとも1つの薄膜成膜技法を含むことを特徴とする請求項14の方法。
- 電極の一方が陽極であり他方が陰極であって、陽極は発光層の第1面に設け、陰極は発光層の第2面に設け、また発光層側とは反対側の陽極面に透明基材を設けることを特徴とする請求項15の方法。
- 陽極と発光層の間に正孔輸送層を、また発光層と陰極の間に電子輸送層を、それぞれ設けるステップをさらに含むことを特徴とする請求項16の方法。
- 正孔輸送層を設けるステップがスピンコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法、インクジェット印刷法、ロールツーロール印刷法、スクリーン印刷法、スパッタリング法、蒸発成膜法及び真空蒸着法からなる群より選択される少なくとも1つの薄膜成膜技法を含むことを特徴とする請求項17の方法。
- 電子輸送層を設けるステップが真空蒸着法、スピンコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法及びロールツーロール印刷法からなる群より選択される少なくとも1つの薄膜成膜技法を含むことを特徴とする請求項18の方法。
- 電極を設けるステップがスパッタリング法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ロールツーロール印刷法、熱真空蒸発法及び熱真空蒸着法からなる群より選択される少なくとも1つの技法を含むことを特徴とする請求項19の方法。
- 発光層、正孔輸送層及び電子輸送層を印刷法で設ける請求項17の方法。
- mが0.5であり、nが0.5である請求項21の方法。
- mが1であり、Ar1がビフェニル基である請求項21の方法。
- 有機非ELポリマーがポリ-2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシドである請求項15の方法。
- 有機非ELポリマーのTgが200℃以上である請求項15の方法。
- 有機非ELポリマーの含有量が発光層の50重量%以下である請求項15の方法。
- 有機EL材料の含有量が発光層の50重量%以上である請求項15の方法。
- 有機EL材料がジスチレニル誘導体、クマリン6、クマリン334、クマリン343、ローダミンB、ローダミン6G、ローダミン110、フルオレセイン548、2’,7’-ジクロロフルオレセイン、過塩素酸クレシルバイオレット、過塩素酸ナイルブルーAA、p-テルフェニル、p-クアテルフェニル、エグザライト(Exalite)(376, 384r, 389)、フルオロール555、二酢酸フルオレセイン、カルボスチリル165、IR-140、チオニン、ペリレン、9-アミノアクリジンHCl、及び一般構造R1R2C=CH-Ar-CH=CR3R4(式中、Arは芳香族構造であり、R1、R2、R3及びR4は独立に水素、アルキル基、アルコキシ基、置換芳香族基を含む芳香族基、又は脂環式基である。)
で示される芳香族メチリジン化合物からなる群より選択される1以上の材料である請求項15の方法。 - 有機EL材料がナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン類、ペリレン類、クリセン類、ブタジエン類、ペリフランテン類及びテトラビニルピラジン類からなる群より選択される1以上の材料である請求項15の方法。
- 素子が破損又は発光能の喪失を招くことなく半径6インチの円柱の周りをなぞらせるに足るほど可とう性であることを特徴とする請求項15の方法。
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