JP4263679B2

JP4263679B2 - Photosensitive resin composition for color filter

Info

Publication number: JP4263679B2
Application number: JP2004298899A
Authority: JP
Inventors: 許博義
Original assignee: 奇美實業股▲分▼有限公司
Priority date: 2003-11-17
Filing date: 2004-10-13
Publication date: 2009-05-13
Anticipated expiration: 2024-10-13
Also published as: TW200517428A; JP2005148720A; TWI249552B

Description

本発明は液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルターを形成するためのカラーフィルター用感光性樹脂組成物に関するものであり、特に塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣を生じることがなく、現像後ポストベークされた画素が耐熱性、耐アルカリ性に優れており、顔料凝集粒子が生じないカラーフィルター用感光性樹脂組成物に関するものである。 The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter for forming a color filter used in a liquid crystal display, and in particular, on a substrate and a light-shielding layer in an unexposed part after coating, exposing and developing. The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter in which a pixel post-baked after development is excellent in heat resistance and alkali resistance without generating a residue and pigment aggregated particles are not generated.

従来よりガラス基板等の上に形成されたカラーフィルタはカラー液晶表示装置、カラーファクシミリ、カラービデオカメラ等に広く用いられてきた。このカラーフィルタの製造においては、カラー液晶表示装置のOA機器等への用途及び市場の拡大と共に技術の多様化が進み、染色法、印刷法、電着法及び分散法等が提案されているが、その中でも染色法が主流であった。 Conventionally, color filters formed on glass substrates and the like have been widely used in color liquid crystal display devices, color facsimiles, color video cameras, and the like. In the manufacture of this color filter, the use of color liquid crystal display devices for office automation equipment, etc. and the expansion of the market have led to diversification of technology, and dyeing methods, printing methods, electrodeposition methods and dispersion methods have been proposed. Among them, the dyeing method was mainstream.

染色法では感光性を付与したアクリル樹脂、ゼラチン等の水溶性レジスト剤を用いてガラス基板に所定のパターンを形成した後、染色、固着及び防染処理工程を経て着色パターンを得る。この工程を3回繰り返して赤色（R）、緑色（G）及び青色（B）の着色層を作成し、さらに着色層上に保護膜を施すのである。染色法は精細性及び分光特性等の面では優れているが、上記のように工程が複雑であり、また耐久性にやや劣るという難点がある。 In the dyeing method, a predetermined pattern is formed on a glass substrate using a water-soluble resist agent such as acrylic resin or gelatin imparted with photosensitivity, and then a colored pattern is obtained through dyeing, fixing, and anti-dyeing treatment steps. This process is repeated three times to produce red (R), green (G) and blue (B) colored layers, and a protective film is further applied on the colored layers. The dyeing method is excellent in terms of fineness and spectral characteristics, but has a drawback that the process is complicated as described above and the durability is somewhat inferior.

そこで近年は分散法が注目されている。分散法では予め着色顔料を分散してあるレジスト剤をガラス基板に塗布し、露光現像によって所定のパターンを得る。この工程を3回繰り返して赤色（R）、緑色（G）及び青色（B）の着色層を作成し、さらに必要に応じて着色層上に保護膜を施すのである。このように分散法は染色、固着工程等が不要なことから生産性の向上を図ることができ、また必ずしも着色層上に保護膜を施す必要がない等の利点を有する。 In recent years, therefore, the dispersion method has attracted attention. In the dispersion method, a resist agent in which a color pigment is dispersed in advance is applied to a glass substrate, and a predetermined pattern is obtained by exposure and development. This process is repeated three times to produce red (R), green (G) and blue (B) colored layers, and a protective film is applied on the colored layers as necessary. As described above, the dispersion method does not require a dyeing process, a fixing process, and the like, so that productivity can be improved and a protective film is not necessarily provided on the colored layer.

分散法において画素パターンを形成可能なアルカリ現像感光性樹脂として、メタクリル酸モノマーを成分とするアルカリ可溶性樹脂が報告されている。このような文献としては、特許文献１、特許文献２、特許文献３などがある。 As an alkali developing photosensitive resin capable of forming a pixel pattern by a dispersion method, an alkali-soluble resin containing a methacrylic acid monomer as a component has been reported. Such documents include Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, and the like.

しかし、分散法においても耐熱性の点においては問題がある。特に液晶カラー表示装置のカラーフィルタに用いられるレジスト剤は、ポストベークと透明導電膜の熱処理工程に晒されるため200℃以上の熱で着色しないことが求められるにもかかわらず、上記の公知の感光性樹脂は180℃、1時間程度の加熱で画素パターンの顔料凝集粒子（一般に顔料凝集粒子の粒子径は1〜10μmであった）が生じ易くなるという問題点を有している。 However, the dispersion method also has a problem in terms of heat resistance. In particular, the resist agent used for the color filter of the liquid crystal color display device is exposed to the post-baking and the heat treatment process of the transparent conductive film, so that it is required not to be colored by heat of 200 ° C. or higher, but the above-mentioned known photosensitivity. The photosensitive resin has a problem in that pigment aggregated particles having a pixel pattern (generally, the particle diameter of the pigment aggregated particles was 1 to 10 μm) are likely to occur when heated at 180 ° C. for about 1 hour.

また分散法において画素パターンを形成可能なアルカリ現像感光性樹脂として、カルボキシル基含有不飽和モノマーとその他の共重合可能なモノマーを成分とするアルカリ可溶性樹脂も報告されている。このカルボキシル基含有不飽和モノマーとしては、例えば(メタ)アクリル酸モノマー、無水マレイン酸モノマー、 (メタ)アクリル酸モノマーと無水マレイン酸モノマーの併用等が挙げられる。このような文献としては特許文献４、特許文献５などがある。 Further, as an alkali developing photosensitive resin capable of forming a pixel pattern by a dispersion method, an alkali-soluble resin containing a carboxyl group-containing unsaturated monomer and another copolymerizable monomer as a component has also been reported. Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include (meth) acrylic acid monomer, maleic anhydride monomer, and a combination of (meth) acrylic acid monomer and maleic anhydride monomer. Examples of such documents include Patent Document 4 and Patent Document 5.

しかし、上記公知の特許文献においては、（メタ）アクリル酸モノマーと無水マレイン酸モノマーとの特定含有量及び両者の比率、無水マレイン酸モノマーから誘導される構成単位の含有量／着色剤の含有量の比率及びその画素パターンの顔料凝集粒子の防止、耐熱性の向上などの作用効果が得られること等が全く示唆されていない。 However, in the above-mentioned known patent documents, the specific content of (meth) acrylic acid monomer and maleic anhydride monomer and the ratio of both, the content of constituent units derived from maleic anhydride monomer / the content of colorant It is not suggested at all that the effects such as prevention of pigment aggregated particles of the pixel pattern and improvement of heat resistance can be obtained.

また、分散法において画素パターンを形成可能なアルカリ現像感光性樹脂として、無水マレイン酸モノマー及び、無水マレイン酸モノマーと共重合可能な1種類以上のモノマーからなる共重合体に該共重合体の無水マレイン酸部がポリエチレングリコールモノメタクリレート等の化合物により、ハーフエステル化された不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂をアルカリ可溶性樹脂とする報告もある。このような文献としては特許文献６、特許文献７などがある。 In addition, as an alkali developing photosensitive resin capable of forming a pixel pattern in a dispersion method, a maleic anhydride monomer and a copolymer composed of one or more monomers copolymerizable with the maleic anhydride monomer are mixed with the anhydride of the copolymer. There is also a report that an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin whose maleic acid moiety is half-esterified with a compound such as polyethylene glycol monomethacrylate is an alkali-soluble resin. Examples of such documents include Patent Document 6 and Patent Document 7.

しかし上記公知の感光性樹脂組成物については、塗布、露光、現像処理を行った後にポストベークされた画素の耐熱性が悪く、顔料凝集粒子を生じやすいという問題があった。
特公平6-95211号公報特開平8-183819号公報特開平9-311210号公報特開平4-122934号公報特開平10-260309号公報特開平6-228239号公報特開平9-15858号公報 However, the known photosensitive resin composition has a problem in that the post-baked pixels are poor in heat resistance after being subjected to coating, exposure and development, and pigment aggregated particles are likely to be formed.
Japanese Examined Patent Publication No. 6-95211 JP-A-8-183819 JP 9-311210 A Japanese Patent Laid-Open No. 4-122934 Japanese Patent Laid-Open No. 10-260309 JP-A-6-228239 Japanese Patent Laid-Open No. 9-15858

本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、その課題は塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣を生じることがなく、現像後ポストベークされた画素が耐熱性、耐アルカリ性に優れており、顔料凝集粒子が生じないカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供することにある。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and its problem is that after application, exposure, and development processing, no residue is generated on the substrate and the light-shielding layer in the unexposed area, and after development. An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for a color filter in which post-baked pixels are excellent in heat resistance and alkali resistance, and no pigment aggregated particles are generated.

本発明は課題の解決手段として、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)溶剤及び(E)着色剤を含むカラーフィルター用感光性樹脂組成物であって、該(A)アルカリ可溶性樹脂が、無水マレイン酸モノマー(a-1)0.2〜30重量部とカルボキシル基含有不飽和モノマー(a-2)3〜40重量部と上記(a-1)、(a-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a-3)30〜96.8重量部((a-1)と(a-2)と(a-3)の合計量100重量部)を重合して得られるアルカリ可溶性樹脂(A-1)0.1〜100重量部、無水マレイン酸モノマー(a’-1)0〜0.2重量部(0.2重量部を含まない)とカルボキシル基含有不飽和モノマー(a’-2)5〜50重量部と上記(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3)49.8〜95重量部((a’-1)と(a’-2)と(a’-3)の合計量100重量部)を重合して得られるアルカリ可溶性樹脂(A-2)99.9〜0重量部とからなり((A-1)と(A-2)の合計量100重量部)、且つ上記無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位の含有量／着色剤(E)の含有量の比率が0.001〜0.015であるカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供するものである。 The present invention includes, as means for solving the problems, (A) an alkali-soluble resin, (B) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (C) a photopolymerization initiator, (D) a solvent, and (E) a colorant. A photosensitive resin composition for a color filter, wherein the (A) alkali-soluble resin comprises 0.2 to 30 parts by weight of a maleic anhydride monomer (a-1) and a carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) 3 to 40 30 parts by weight of copolymerizable unsaturated monomer (a-3) other than (a-1) and (a-2) above (a-1), (a-2) and (a- 3) (total amount 100 parts by weight) obtained by polymerizing alkali-soluble resin (A-1) 0.1-100 parts by weight, maleic anhydride monomer (a'-1) 0-0.2 parts by weight (including 0.2 parts by weight) Not) and carboxyl group-containing unsaturated monomer (a'-2) 5 to 50 parts by weight and copolymerizable unsaturated monomer (a'-3) other than (a'-1) and (a'-2) above It is obtained by polymerizing 49.8 to 95 parts by weight (total amount of (a'-1), (a'-2) and (a'-3) 100 parts by weight) It consists of 99.9-0 parts by weight of an alkali-soluble resin (A-2) (total amount of (A-1) and (A-2) 100 parts by weight), and the maleic anhydride monomer (a-1) and (a The present invention provides a photosensitive resin composition for color filters, wherein the ratio of the content of the structural unit derived from '-1) / the content of the colorant (E) is 0.001 to 0.015.

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂(A)は、アルカリ可溶性樹脂(A-1)0.1〜100重量部及び必要に応じて配合されるアルカリ可溶性樹脂(Ａ-2)99.9〜0重量部からなる((A-1)と(A-2)の合計量100重量部)。前記アルカリ可溶性樹脂(A-1)は、無水マレイン酸モノマー(a-1)0.2〜30重量部、カルボキシル基含有不飽和モノマー(a-2)3〜40重量部、及び上記(a-1)、(a-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a-3)30〜96.8重量部((a-1)と(a-2)と(a-3)の合計量100重量部)を重合して得られ、またアルカリ可溶性樹脂(A-2)は、無水マレイン酸モノマー(a’-1)0.2重量部以下(0.2重量部を含まない)、カルボキシル基含有不飽和モノマー(a’-2)5〜50重量部、及び上記(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3)49.8〜95重量部((a’-1)と(a’-2)と(a’-3)の合計量100重量部)を重合して得られる。 (A) Alkali-soluble resin The alkali-soluble resin (A) in the present invention is an alkali-soluble resin (A-1) 0.1 to 100 parts by weight, and an alkali-soluble resin (A-2) 99.9 to 0 parts blended as necessary. Parts (100 parts by weight of the total amount of (A-1) and (A-2)). The alkali-soluble resin (A-1) is a maleic anhydride monomer (a-1) 0.2 to 30 parts by weight, a carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) 3 to 40 parts by weight, and the above (a-1) Copolymerizable unsaturated monomer other than (a-2) (a-3) 30-96.8 parts by weight (total amount of (a-1), (a-2) and (a-3) 100 parts by weight) The alkali-soluble resin (A-2) is obtained by polymerization of maleic anhydride monomer (a′-1) 0.2 part by weight or less (excluding 0.2 part by weight), carboxyl group-containing unsaturated monomer (a ′ -2) 5-50 parts by weight, and copolymerizable unsaturated monomer other than (a'-1) and (a'-2) (a'-3) 49.8-95 parts by weight ((a'-1 ), (A'-2) and (a'-3) in a total amount of 100 parts by weight).

カルボキシル基含有不飽和モノマー（ａ-2）としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸、エチルアクリル酸及び桂皮酸などの不飽和モノカルボン酸類;フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸及び無水シトラコン酸などの不飽和ジカルボン酸（無水物）類;3価以上の不飽和多価カルボン酸（無水物）類などが挙げられる。 Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, ethylacrylic acid and cinnamic acid; fumaric acid, itaconic acid, Examples thereof include unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides) such as itaconic anhydride, citraconic acid and citraconic anhydride; and trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids (anhydrides).

これらのカルボキシル基含有不飽和モノマーのうち、アクリル酸、メタクリル酸等が好ましい。カルボキシル基含有不飽和モノマーは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 Of these carboxyl group-containing unsaturated monomers, acrylic acid, methacrylic acid and the like are preferable. The carboxyl group-containing unsaturated monomers can be used alone or in admixture of two or more.

カルボキシル基含有不飽和モノマー（ａ’-2）の例は、前述のカルボキシル基含有不飽和モノマー（ａ-2）と同様である。 Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a′-2) are the same as those of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) described above.

(a-1)、(a-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a-3)としては、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）、若しくは芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）と芳香族官能基を含まない共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-2）とからなる混合物である。 As the copolymerizable unsaturated monomer (a-3) other than (a-1) and (a-2), a copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group, or It is a mixture comprising a copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group and a copolymerizable unsaturated monomer (a-3-2) containing no aromatic functional group.

芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）としては、例えばスチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、クロロエチレン、メトキシスチレンなどの芳香族ビニル基化合物；ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；Ｎ-フェニルマレイミド、Ｎ-ｏ-ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ-ｍ-ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ-ｐ-ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ-ｏ-メチルフェニルマレイミド、Ｎ-ｍ-メチルフェニルマレイミド、Ｎ-ｐ-メチルフェニルマレイミド、Ｎ-ｏ-メトキシフェニルマレイミド、Ｎ-ｍ-メトキシフェニルマレイミド、Ｎ-ｐ-メトキシフェニルマレイミド、Ｎ-シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド類が挙げられる。 Examples of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group include aromatic vinyl group compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, chloroethylene, and methoxystyrene; benzyl acrylate, Unsaturated carboxylic acid esters such as benzyl methacrylate, phenyl acrylate and phenyl methacrylate; N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, N-o- Such as methylphenylmaleimide, Nm-methylphenylmaleimide, Np-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, Np-methoxyphenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, etc. Maleimides It is.

芳香族官能基を含まない共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-2）としては、例えばメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n-プロピルアクリレート、n-プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、n-ブチルアクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、sec-ブチルメタクリレート、ｔ-ブチルアクリレート、ｔ-ブチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、3-ヒドロキシブチルアクリレート、3-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、ドデシルメタクリレート、テトラデシルメタクリレート、ヘキサデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、エイコシルメタクリレート、ドコシルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；2-アミノエチルアクリレート、2-アミノエチルメタクリレート、2-アミノプロピルアクリレート、2-アミノプロピルメタクリレート、3-アミノプロピルアクリレート、3-アミノプロピルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、などのカルボン酸ビニルエステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メタリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α-クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド、α-クロロアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルメチルアクリルアミド等の不飽和アミド類；1,3-ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類などが挙げられる。 Examples of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-2) not containing an aromatic functional group include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, Isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybuty Acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, Unsaturated carboxylic acid esters such as dodecyl methacrylate, tetradecyl methacrylate, hexadecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, eicosyl methacrylate, docosyl methacrylate; 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2- Aminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as rate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl butyrate; Vinyl methyl ether and vinyl Unsaturated ethers such as ethyl ether, allyl glycidyl ether, methallyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N -Unsaturated amides such as hydroxyethylacrylamide and N-hydroxyethylmethylacrylamide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene It is done.

これらの共重合可能な不飽和モノマー(a-3)のうち、スチレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、N-フェニルマレイミド、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート等が好ましい。共重合可能な不飽和モノマー(a-3)は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 Of these copolymerizable unsaturated monomers (a-3), styrene, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, N-phenylmaleimide, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and the like are preferable. . The copolymerizable unsaturated monomer (a-3) can be used alone or in admixture of two or more.

(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3) としては、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-1）と芳香族官能基を含まない共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-2）とからなる混合物である。 Examples of copolymerizable unsaturated monomers (a'-3) other than (a'-1) and (a'-2) include copolymerizable unsaturated monomers (a'-3-) containing an aromatic functional group. It is a mixture comprising 1) and a copolymerizable unsaturated monomer (a′-3-2) which does not contain an aromatic functional group.

芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-1）と芳香族官能基を含まない共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-2）の例は、前述の芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）と芳香族官能基を含まない共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-2）と同様である。 Examples of the copolymerizable unsaturated monomer (a′-3-1) containing an aromatic functional group and the copolymerizable unsaturated monomer (a′-3-2) containing no aromatic functional group are described above. This is the same as the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group and the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-2) containing no aromatic functional group.

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂(A)は、アルカリ可溶性樹脂(A-1)、及び必要に応じて配合されるアルカリ可溶性樹脂(A-2)からなる。かかるアルカリ可溶性樹脂(A)中で、アルカリ可溶性樹脂(A-1)の含有量は0.1〜100重量部、好ましくは0.1〜99.9重量部、更に好ましくは1〜90重量部、特に好ましくは2〜80重量部であり、アルカリ可溶性樹脂(A-2)の含有量は99.9〜0重量部、好ましくは99.9〜0.1重量部、更に好ましくは99〜10重量部、特に好ましくは98〜20重量部である((A-1)と(A-2)の合計量100重量部)。アルカリ可溶性樹脂(A-1)の含有量が0.1重量部未満であるか、またはアルカリ可溶性樹脂(A-2）の含有量が99.9重量部を超えると、カラーフィルター用感光性樹脂組成物は現像後ポストベークされた画素の耐熱性が悪くなって、顔料凝集粒子が生じやすくなる。 The alkali-soluble resin (A) in the present invention comprises an alkali-soluble resin (A-1) and an alkali-soluble resin (A-2) blended as necessary. In the alkali-soluble resin (A), the content of the alkali-soluble resin (A-1) is 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.1 to 99.9 parts by weight, more preferably 1 to 90 parts by weight, particularly preferably 2 to The content of the alkali-soluble resin (A-2) is 99.9-0 parts by weight, preferably 99.9-0.1 parts by weight, more preferably 99-10 parts by weight, particularly preferably 98-20 parts by weight. (The total amount of (A-1) and (A-2) is 100 parts by weight). When the content of the alkali-soluble resin (A-1) is less than 0.1 parts by weight or the content of the alkali-soluble resin (A-2) exceeds 99.9 parts by weight, the photosensitive resin composition for the color filter is developed. The post-baked pixels have poor heat resistance, and pigment agglomerated particles are easily generated.

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（A-1）の重合において、各モノマーの含有量(モノマー(a-1)と(a-2)と(a-3)の合計量100重量部に対して)は次のとおりである。 In the polymerization of the alkali-soluble resin (A-1) in the present invention, the content of each monomer (with respect to the total amount of monomers (a-1), (a-2), and (a-3) of 100 parts by weight) is It is as follows.

無水マレイン酸モノマー（ａ-1）の含有量は0.2〜30重量部、好ましくは0.5〜25重量部、更に好ましくは1.0〜20重量部である。 The content of the maleic anhydride monomer (a-1) is 0.2 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 25 parts by weight, and more preferably 1.0 to 20 parts by weight.

カルボキシル基含有不飽和モノマー(a-2) の含有量は3〜40重量部、好ましくは5〜35重量部、更に好ましくは8〜30重量部である。 The content of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) is 3 to 40 parts by weight, preferably 5 to 35 parts by weight, and more preferably 8 to 30 parts by weight.

(a-1)、(a-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a-3)の含有量は30〜96.8重量部、好ましくは40〜94.5重量部、更に好ましくは50〜91重量部である。 The content of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3) other than (a-1) and (a-2) is 30 to 96.8 parts by weight, preferably 40 to 94.5 parts by weight, more preferably 50 to 91 parts by weight. Part.

特に上記不飽和モノマー(a-3)に含まれる、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）の含有量は、好ましくは45重量部以上、更に好ましくは55重量部以上、特に好ましくは70重量部以上である。 In particular, the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group contained in the unsaturated monomer (a-3) is preferably 45 parts by weight or more, more preferably 55 parts by weight. It is 70 parts by weight or more, particularly preferably 70 parts by weight or more.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-1）の共重合用モノマーにおいて、無水マレイン酸モノマー（ａ-1）の含有量が0.2重量部未満であると、現像後ポストベークされた画素の耐熱性が悪くなって顔料凝集粒子が生じやすくなる。一方その含有量が30重量部を超えると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じやすくなって、現像後ポストベークされた画素のアルカリ性が悪くなる。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-1) of the present invention, if the content of the maleic anhydride monomer (a-1) is less than 0.2 parts by weight, the heat resistance of the post-baked pixel after development is increased. It becomes worse and pigment aggregated particles are likely to occur. On the other hand, when the content exceeds 30 parts by weight, after application, exposure, and development treatment, a residue is likely to occur on the unexposed portion of the substrate and on the light shielding layer, and the post-baked post-development pixel becomes alkaline. Deteriorate.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-1）の共重合用モノマーにおいて、カルボキシル基含有の不飽和モノマー(ａ-2)の含有量が3重量部未満であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じやすくなる。一方その含有量が40重量部を越えると、現像後ポストベークされた画素の耐アルカリ性が悪くなる。 When the content of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) is less than 3 parts by weight in the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-1) of the present invention, coating, exposure, and development are performed. After that, a residue tends to be generated on the unexposed portion of the substrate and the light shielding layer. On the other hand, if the content exceeds 40 parts by weight, the alkali resistance of the post-baked pixels after development deteriorates.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-1）の共重合用モノマーにおいて、(a-1)、(a-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a-3) の含有量が30〜96.8重量部であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じることは少なく、現像後ポストベークされた画素の耐熱性が良好である。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-1) of the present invention, the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3) other than (a-1) and (a-2) is 30 to 96.8. When it is in parts by weight, there is little residue on the unexposed substrate and the light-shielding layer after coating, exposure, and development, and the post-baked post-development pixels have good heat resistance.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-1）の共重合用モノマーにおいて、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ-3-1）の含有量が45重量部を超えると、現像後ポストベークされた画素の耐熱性、耐アルカリ性が良好である。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-1) of the present invention, when the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a-3-1) containing an aromatic functional group exceeds 45 parts by weight, development is performed. The post-baked pixel has good heat resistance and alkali resistance.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-1）の共重合用モノマーにおいて、モノマー(ａ-1)とモノマー(ａ-2)との含有量の比率は0.01〜3.0、好ましくは0.03〜2.8、更に好ましくは0.05〜2.5である。その比率が0.01〜3.0であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じることは少なく、現像後ポストベークされた画素の耐熱性、耐アルカリ性が優れており、顔料凝集粒子は生じにくくなる。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-1) of the present invention, the content ratio of the monomer (a-1) to the monomer (a-2) is 0.01 to 3.0, preferably 0.03 to 2.8, more preferably Is 0.05 to 2.5. When the ratio is 0.01 to 3.0, there is little residue on the unexposed substrate and the light-shielding layer after coating, exposure and development, and the post-baked post-baked pixels are resistant to heat and resistance. The alkalinity is excellent, and pigment aggregated particles are hardly generated.

本発明のアルカリ可溶性樹脂(A-1)は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。その例としては、例えば無水マレイン酸モノマー／アクリル酸モノマー／ベンジルメタクリレートモノマーからなる共重合物（モノマーの比率は5／15／80）と、無水マレイン酸モノマー／メタクリル酸モノマー／ベンジルメタクリレートモノマーからなる共重合体（モノマーの比率は10／15／75）の併用が挙げられる。 The alkali-soluble resin (A-1) of the present invention can be used alone or in admixture of two or more. For example, a copolymer consisting of maleic anhydride monomer / acrylic acid monomer / benzyl methacrylate monomer (monomer ratio 5/15/80) and maleic anhydride monomer / methacrylic acid monomer / benzyl methacrylate monomer The combined use of a copolymer (monomer ratio 10/15/75) can be mentioned.

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（A-2）の重合において、各モノマーの含有量(モノマー(a’-1)と(a’-2)と(a’-3)の合計量100重量部に対して)は次のとおりである。 In the polymerization of the alkali-soluble resin (A-2) in the present invention, the content of each monomer (based on a total amount of 100 parts by weight of the monomers (a′-1), (a′-2), and (a′-3)) Is as follows.

無水マレイン酸モノマー（ａ’-1）の含有量は0.2重量部未満、好ましくは0〜0.15重量部、更に好ましくは0〜0.1重量部である。 The content of the maleic anhydride monomer (a′-1) is less than 0.2 parts by weight, preferably 0 to 0.15 parts by weight, more preferably 0 to 0.1 parts by weight.

カルボキシル基含有不飽和モノマー(a’-2) の含有量は5〜50重量部、好ましくは8〜45重量部、更に好ましくは10〜40重量部である。 The content of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a′-2) is 5 to 50 parts by weight, preferably 8 to 45 parts by weight, and more preferably 10 to 40 parts by weight.

(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3)の含有量は49.8〜95重量部、好ましくは54.85〜92重量部、更に好ましくは59.9〜90重量部である。
特に上記アルカリ可溶性樹脂（A-2）は、無水マレイン酸モノマー（ａ’-1）を配合せずに、カルボキシル基含有不飽和モノマー(a’-2) 5〜50重量部、(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3)50〜95重量部とを重合して形成することもできる。 The content of the copolymerizable unsaturated monomer (a'-3) other than (a'-1) and (a'-2) is 49.8 to 95 parts by weight, preferably 54.85 to 92 parts by weight, more preferably 59.9. ~ 90 parts by weight.
In particular, the alkali-soluble resin (A-2) contains 5 to 50 parts by weight of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a′-2) without adding the maleic anhydride monomer (a′-1), (a′- It can also be formed by polymerizing 50 to 95 parts by weight of copolymerizable unsaturated monomer (a′-3) other than 1) and (a′-2).

特に上記不飽和モノマー(a-3)に含まれる、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-1）の含有量は、好ましくは45重量部以上、更に好ましくは55重量部以上、特に好ましくは70重量部以上である。 In particular, the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a′-3-1) containing an aromatic functional group contained in the unsaturated monomer (a-3) is preferably 45 parts by weight or more, more preferably It is 55 parts by weight or more, particularly preferably 70 parts by weight or more.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-2）の共重合用モノマーにおいて、無水マレイン酸モノマー（ａ’-1）の含有量が0.2重量部未満（0.2重量部を含まない）であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じにくくなる。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-2) of the present invention, the content of the maleic anhydride monomer (a′-1) is less than 0.2 parts by weight (excluding 0.2 parts by weight), Residues are less likely to occur on the unexposed portions of the substrate and the light shielding layer after exposure and development.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-2）の共重合用モノマーにおいて、カルボキシル基含有の不飽和モノマー(ａ’-2)の含有量が5重量部未満であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じやすくなる。一方その含有量が50重量部を越えると、現像後ポストベークされた画素の耐アルカリ性が悪くなる。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-2) of the present invention, if the content of the carboxyl group-containing unsaturated monomer (a′-2) is less than 5 parts by weight, coating, exposure, and development treatment are performed. After this is done, residues are likely to occur on the unexposed substrate and the light shielding layer. On the other hand, if the content exceeds 50 parts by weight, the alkali resistance of the post-baked pixels after development deteriorates.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-2）の共重合用モノマーにおいて、(a’-1)、(a’-2)以外の共重合可能な不飽和モノマー(a’-3) の含有量が49.8〜95重量部であると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じることは少なく、現像後ポストベークされた画素の耐熱性が良好である。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-2) of the present invention, the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a'-3) other than (a'-1) and (a'-2) is When the amount is 49.8 to 95 parts by weight, there is little residue on the unexposed part of the substrate and the light-shielding layer after coating, exposure and development, and the post-baked post-development pixels have good heat resistance. is there.

本発明のアルカリ可溶性樹脂（A-2）の共重合用モノマーにおいて、芳香族官能基を含む共重合可能な不飽和モノマー（ａ’-3-1）の含有量が45重量部を超えると、現像後ポストベークされた画素の耐熱性、耐アルカリ性が良好である。 In the copolymerization monomer of the alkali-soluble resin (A-2) of the present invention, when the content of the copolymerizable unsaturated monomer (a′-3-1) containing an aromatic functional group exceeds 45 parts by weight, The heat resistance and alkali resistance of the post-baked pixel after development are good.

アルカリ可溶性樹脂(A-1)及び(A-2)の製造に使用される溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノn-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノn-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノn-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノーn-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-へプタノン、3-へプタノン等のケトン類；2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル酪酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソ酪酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド類等が挙げられる。これらの溶剤は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。これらの溶剤のうちプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-エトキシプロピオン酸エチル等が好ましい。 Solvents used in the production of alkali-soluble resins (A-1) and (A-2) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono n-propyl ether , Diethylene glycol mono n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono n- Propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as methyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate ) Alkylene glycol monoalkyl ether acetates; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; 2-hydroxy Methyl propionate, 2-hydroxypropionic acid Lactic acid alkyl esters such as chill; methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate , Ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutyrate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate , N-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl acetate, isoamyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate , Ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, Other esters such as methyl acetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutyrate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like And carboxylic acid amides. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. Of these solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl 3-ethoxypropionate and the like are preferable.

アルカリ可溶性樹脂(A-1)及び(A-2)の製造に使用される重合開始剤は一般的なラジカル重合開始剤であり、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビス−（2,4−ジメチルバレロニトリル）、2,2'−アゾビス−（4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル）、2,2'−アゾビス−2−メチルブチロニトリル等のアゾ系化合物；ベンゾイルパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。 The polymerization initiator used for the production of the alkali-soluble resins (A-1) and (A-2) is a general radical polymerization initiator, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2 ′. -Azo such as azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis- (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile System compounds; peroxides such as benzoyl peroxide.

(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物
本発明におけるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（B）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂100重量部（A）に対して好ましくは5〜220重量部、更に好ましくは50〜160重量部である。 (B) Polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond The content of the polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated bond in the present invention is preferably 5 to 100 parts by weight (A) of the alkali-soluble resin. 220 parts by weight, more preferably 50 to 160 parts by weight.

本発明におけるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（B）は、重合可能なエチレン性不飽和結合を１個以上有するモノマーからなる。 The polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated bond in the present invention comprises a monomer having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds.

エチレン性不飽和基を1個有するエチレン性不飽和化合物として、例えばアクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、7-アミノ-3,7-ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、2-エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｔ-オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、N,N-ジメチル（メタ）アクリルアミド、テトラクロロフェニル（メタ）アクリレート、2ーテトラクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、2-テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、2-トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、2-トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、2-ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、2-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ビニルカプロラクタム、N-ビニルピロリドン、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of ethylenically unsaturated compounds having one ethylenically unsaturated group include acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, Nyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, ethyldiethylene glycol (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate , Dodecyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, tetrachlorophenyl (meth) a Relate, 2-tetrachlorophenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, tetrabromophenyl (meth) acrylate, 2-tetrabromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-trichlorophenoxyethyl (meth) acrylate, Tribromophenyl (meth) acrylate, 2-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, vinylcaprolactam, N-vinylpyrrolidone, phenoxyethyl (meth) Acrylate, pentachlorophenyl (meth) acrylate, pentabromophenyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) Acrylate, bornyl (meth) acrylate.

エチレン性不飽和基を2個以上有するエチレン性不飽和化合物としては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（以下、「EO」と略記する。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド（以下、「PO」と略記する。）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、1,4-ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、1,6ーヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクロン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、EO変性ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、PO変性ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、EO変性水添ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、PO変性水添ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、PO変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、EO変性ビスフェノールFジ（メタ）アクリレート、フェノールノボラックポリグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the ethylenically unsaturated compound having two or more ethylenically unsaturated groups include ethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di ( (Meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone-modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate , Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide (hereinafter abbreviated as “EO”) modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide (hereinafter abbreviated as “PO”) Limethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolaclone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, EO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, PO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, EO-modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, PO-modified hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, PO-modified glycerol tri (meth) acrylate, EO-modified bisphenol F di (meth) acrylate, (meth) acrylate of phenol novolac polyglycidyl ether, and the like.

エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物のうち、特に好ましいものとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクロン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、PO変性グリセロールトリアクリレートが挙げられる。 Among the polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated bond, particularly preferred are trimethylolpropane triacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, PO-modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. Dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolaclone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, PO-modified glycerol triacrylate.

(C)光重合開始剤
本発明における光重合開始剤(C)の含有量は、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物(B)100重量部に対して好ましくは20〜120重量部、更に好ましくは30〜100重量部である。 (C) Photopolymerization initiator The content of the photopolymerization initiator (C) in the present invention is preferably 20 to 120 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated bond, and The amount is preferably 30 to 100 parts by weight.

光重合開始剤(C)としては、アセトフェノン系化合物とビイミダゾール系化合物が挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator (C) include acetophenone compounds and biimidazole compounds.

アセトフェノン系化合物としては例えばp−ジメチルアミノアセトフェノン、α, α'−ジメトキシアゾキシアセトフェノン、2,2'−ジメチル−2−フェニルアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノン、2−メチル−(4−メチルチオフェノール) −2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−（4−モルホリノフェニル）−1−ブタノンが挙げられる。 Examples of acetophenone compounds include p-dimethylaminoacetophenone, α, α′-dimethoxyazoxyacetophenone, 2,2′-dimethyl-2-phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenol) − 2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-N, N-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone.

ビイミダゾール系化合物としては、例えば2-（o−クロロフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（o−フルオロフェニル）−4,5,−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（o−メチルフェニル）−4,5,−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（o−メトキシフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（p−メトキシフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（2,4−ジメトキシフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（2−クロロフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−（2,4−ジクロロフェニル）−4, 5−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。 Examples of the biimidazole compound include 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5, -diphenylimidazole dimer, 2- (o -Methylphenyl) -4,5, -diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole Dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2,4- And dichlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer.

これらの中で2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−（4−モルホリノフェニル）−1−ブタノン、2−（2−クロロフェニル）−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体を併用した光重合開始剤が好ましい。 Among them, 2-benzyl-2-N, N-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone and 2- (2-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer were used in combination. Photoinitiators are preferred.

本発明の感光性樹脂組成物は、更にベンゾフェノン系化合物の光重合開始剤を添加してもよく、かかるベンゾフェノン系化合物の光重合開始剤としては、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−4−スルホン、ベンゾフェノン、4,4'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、4,4'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。 The photosensitive resin composition of the present invention may further contain a benzophenone compound photopolymerization initiator, and examples of the benzophenone compound photopolymerization initiator include thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and thioxanthone-4. -Sulfone, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and the like.

その他にベンジル、アセチル等のα−ジケトン類；ベンゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；2,4,6−トリメチル-ベンゾイルジフェニルホスフィン酸化物、ビス−（2,6−ジメトキシベンゾイル）−2,4,4−トリメチルベンジルホスフィン酸化物等のアシルホスフィン酸化物類；アントラキノン、1,4−ナフトキノン等のキノン類；塩化フェナシル、トリブロムメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）−s−トリアジン等のハロゲン化合物；ジ−t−ブチルパーオキシド等の過酸化物が挙げられる。 Other α-diketones such as benzyl and acetyl; acyloins such as benzoin; acyloin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; 2,4,6-trimethyl-benzoyldiphenylphosphine oxide; Acylphosphine oxides such as bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylbenzylphosphine oxide; quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; phenacyl chloride, tribromomethylphenylsulfone And halogen compounds such as tris (trichloromethyl) -s-triazine; peroxides such as di-t-butyl peroxide.

これらの中ではベンゾフェノン系化合物が好ましく、特に4,4'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが最も好ましい。 Of these, benzophenone compounds are preferred, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is most preferred.

(D)溶剤
本発明の感光性組成物は前記アルカリ可溶性樹脂（A）、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（B）および光重合開始剤（C）を含み、必要に応じて後記添加剤成分を配合するが、通常着色剤(E)以外の各成分を適当な溶剤(D)に溶解した液状組成物として調製される。 (D) Solvent The photosensitive composition of the present invention contains the alkali-soluble resin (A), a polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated bond, and a photopolymerization initiator (C), and is added as necessary. Ingredients are added, but are usually prepared as a liquid composition in which components other than the colorant (E) are dissolved in a suitable solvent (D).

溶剤(D)としてはアルカリ可溶性樹脂（A）、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（B）および光重合開始剤（C）を溶解し、かつこれらの成分と事実上反応せず適度の揮発性を有するものである限り、適宜選択して使用することができる。 As the solvent (D), an alkali-soluble resin (A), a polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated bond, and a photopolymerization initiator (C) are dissolved, and it does not substantially react with these components and is moderate. As long as it has volatility, it can be appropriately selected and used.

本発明における溶剤(D)の含有量は、アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して好ましくは300〜2,500重量部、更に好ましくは500〜2,000重量部である。この溶剤(D)の例は、前述のアルカリ可溶性樹脂(A)の重合の場合に述べた溶剤と同様である。 The content of the solvent (D) in the present invention is preferably 300 to 2,500 parts by weight, more preferably 500 to 2,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (A). Examples of the solvent (D) are the same as those described in the case of the polymerization of the alkali-soluble resin (A).

アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して、本発明の溶剤(D)の好ましい使用量は300〜2500重量部であって、更に好ましいのは500〜2000重量部である。 The amount of the solvent (D) of the present invention is preferably 300 to 2500 parts by weight, more preferably 500 to 2000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (A).

これらの溶剤のうちプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3-エトキシプロピオン酸エチル等が好ましい。前記溶剤は単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Of these solvents, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl 3-ethoxypropionate and the like are preferable. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.

(E) 着色剤
本発明における着色剤（E）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して好ましくは20〜500重量部、更に好ましくは50〜400重量部である。 (E) Colorant The content of the colorant (E) in the present invention is preferably 20 to 500 parts by weight, more preferably 50 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (A).

本発明の着色剤(E)は、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができる。無機顔料としては金属酸化物、金属錯塩などで示される金属化合物であり、具体的には鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモンなどの金属酸化物、及び上記金属の複合酸化物が挙げられる。 As the colorant (E) of the present invention, conventionally known various inorganic pigments or organic pigments can be used. Inorganic pigments are metal compounds such as metal oxides and metal complex salts, specifically, metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, And composite oxides of the above metals.

有機顔料としては、以下のものが挙げられる。
C.I. Pigment Yellow 1, 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175。 Examples of the organic pigment include the following.
CI Pigment Yellow 1, 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 93, 95 , 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 150, 151, 152 , 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175.

C.I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73。 C.I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73.

C.I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155 ,166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 220, 224, 226, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265。 CI Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32 , 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57 : 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104 , 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179 , 180, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 220, 224, 226, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265.

C.I. Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38, 39。 C.I. Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38, 39.

C.I. Pigment Blue1, 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 66。 C.I. Pigment Blue1, 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 66.

C.I. Pigment Green 7, 36, 37。 C.I. Pigment Green 7, 36, 37.

C.I. Pigment Palm23, 25, 28。 C.I. Pigment Palm 23, 25, 28.

C.I. Pigment Black 1, 7。 C.I. Pigment Black 1, 7.

着色剤(E)は単独で、または2種以上を混合して使用することができる。 The colorant (E) can be used alone or in admixture of two or more.

本発明の感光性樹脂組成物において、有機顔料の平均粒径は、好ましくは0.03〜0.5μｍ、更に好ましくは0.04〜0.4μｍ、特に好ましくは0.05〜0.3μｍである。 In the photosensitive resin composition of the present invention, the average particle size of the organic pigment is preferably 0.03 to 0.5 μm, more preferably 0.04 to 0.4 μm, and particularly preferably 0.05 to 0.3 μm.

本発明の感光性樹脂組成物においては、「（無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位の含有量）／（着色剤(E)の含有量）」の比率が0.001〜0.015、好ましくは0.002〜0.012、更に好ましくは0.003〜0.010である。 In the photosensitive resin composition of the present invention, “(content of structural unit derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a′-1)) / (content of colorant (E)) Is 0.001 to 0.015, preferably 0.002 to 0.012, and more preferably 0.003 to 0.010.

この比率が0.001未満であると、現像後ポストベークされた画素の耐熱性が悪くなって顔料凝集粒子が生じやすくなる。一方この比率が0.015を超えると、塗布、露光、現像処理を行った後に未露光部の基板上および遮光層上に残渣が生じやすくなって、現像後ポストベークされた画素の耐アルカリ性が悪くなる。 When this ratio is less than 0.001, the heat resistance of the post-baked pixels after development is deteriorated and pigment aggregated particles are likely to be generated. On the other hand, if this ratio exceeds 0.015, after application, exposure, and development processing, residues are likely to occur on the unexposed substrate and the light shielding layer, and the alkali resistance of the post-baked pixels after development deteriorates. .

本発明における着色剤(E)は、所望により分散剤とともに使用することができる。このような分散剤としては、例えばカチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。 The colorant (E) in the present invention can be used together with a dispersant as desired. Examples of such a dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, and fluorine surfactants.

前記界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；3級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業製）、SF−8427（東レ・ダウコーニング・シリコーン社）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業製）、エフトップ（トーケムプロダクツ製）、メガファック（大日本インキ化学工業製）、フロラード（住友スリーエム製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子製）等を挙げることができる。これらの界面活性剤は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and other polyoxyethylene alkyl ethers. Oxyethylene alkyl phenyl ethers; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; polyethyleneimines; , KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical), SF-8427 (Toray Dow Corning Silicone), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), Ftop (Manufactured by Tochem Products), Mega Fuck (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass) and the like. These surfactants can be used alone or in admixture of two or more.

本発明の感光性樹脂組成物においては、その塗布性能を高めるために界面活性剤を使用することができる。界面活性剤の配合量はアルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して好ましくは0〜6重量部、より好ましくは0〜3重量部である。その界面活性剤の例は、前述の着色剤の項に述べた界面活性剤と同様である。 In the photosensitive resin composition of the present invention, a surfactant can be used to enhance the coating performance. The compounding amount of the surfactant is preferably 0 to 6 parts by weight, more preferably 0 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (A). Examples of the surfactant are the same as those described in the section of the colorant.

本発明の感光性樹脂組成物は必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、アルカリ可溶性樹脂(A)以外の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などを配合することができる。本発明におけるこれらの添加剤の配合量はアルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して0〜10重量部、好ましくは0〜6重量部、更に好ましくは0〜3重量部である。 The photosensitive resin composition of the present invention contains various additives as necessary, for example, a filler, a polymer compound other than the alkali-soluble resin (A), an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor and the like. Can be blended. The amount of these additives in the present invention is 0 to 10 parts by weight, preferably 0 to 6 parts by weight, more preferably 0 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (A).

添加物の具体例としては、ガラス、アルミナなどの充填剤；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレートなどのカルボキシル基含有アルカリ可溶性樹脂(A)以外の高分子化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの密着促進剤；2,2-チオビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,6-ジ-t-ブチルフェノールなどの酸化防止剤；2-(3-ｔ-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどの紫外線吸収剤；ポリアクリル酸ナトリウムなどの凝集防止剤などを挙げることができる。 Specific examples of additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds other than carboxyl group-containing alkali-soluble resin (A) such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate; Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltri Methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropyl Methyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimeth Adhesion promoters such as xylsilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol Antioxidants such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone and other UV absorbers; anti-aggregation agents such as sodium polyacrylate Can be mentioned.

本発明の感光性樹脂組成物は、上記成分(A)〜(E)、さらに必要に応じて用いられるその他の界面活性剤、密着促進剤などの添加剤を溶剤(D)と混合し、各種の混合機、分散機を使用して混合分散することによって調製することができる。 The photosensitive resin composition of the present invention is a mixture of the above components (A) to (E), other surfactants used as necessary, adhesion promoters and the like with the solvent (D), and various It can be prepared by mixing and dispersing using a mixer and a disperser.

本発明の感光性樹脂組成物を基板に回転塗布法、流延塗布法或いはロールー塗布法などの塗布法を用いて塗布し、プレベークにより溶剤を除去することによって感光性樹脂組成物の塗膜が形成される。 The photosensitive resin composition of the present invention is applied to a substrate by using a coating method such as a spin coating method, a casting coating method or a roll coating method, and the solvent is removed by pre-baking to form a coating film of the photosensitive resin composition. It is formed.

基板としては例えば液晶ディスプレイなどに用いられる無アルカリ性ガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子などに用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等などが挙げられる。これらの基板には一般的に各画素を隔離するブラックマトリックスが形成されている。 As the substrate, for example, non-alkaline glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass used for liquid crystal displays and the like, and a transparent conductive film attached thereto, or a photoelectric conversion element substrate used for a solid-state imaging device, etc. Examples thereof include a silicon substrate. A black matrix for isolating each pixel is generally formed on these substrates.

プレベークの条件は各成分の種類、配合割合によっても異なるが、通常70℃〜90℃で１分〜15分間程度である。プレベークした後、感光性樹脂組成物の塗膜に所定のパターンマスクを介して露光し、例えば23±2℃の現像液で通常30秒〜５分現像することによって不要な部分を除去して所定パターンを形成する。この際に使われる光線としてはｇ線、ｈ線、ｉ線などの紫外線が好ましい。紫外線照射装置としては高圧水銀ランプ、メタルハライドランプを用いることができる。 The pre-baking conditions vary depending on the type of each component and the blending ratio, but are usually about 70 to 90 ° C. for about 1 to 15 minutes. After pre-baking, the coating film of the photosensitive resin composition is exposed through a predetermined pattern mask, and unnecessary portions are removed by developing with, for example, a developer at 23 ± 2 ° C. for 30 seconds to 5 minutes. Form a pattern. The light rays used at this time are preferably ultraviolet rays such as g-line, h-line and i-line. As the ultraviolet irradiation device, a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp can be used.

現像液としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、珪酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８-ジアザビシクロ-〔５，４，０〕-７-ウンデセン等のアルカリ性化合物を濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解させたアルカリ性水溶液が使用される。 Examples of the developer include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxy Concentrations of alkaline compounds such as copper, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene are 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass An alkaline aqueous solution dissolved so as to be used is used.

なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後に水で洗浄し、更に圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによってパターンが形成される。 When a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, the pattern is generally formed by washing with water after development and then air-drying with compressed air or compressed nitrogen.

その後このパターンをホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば150℃〜250℃で、所定時間、例えばホットプレート上なら5分〜60分間、オーブン中では30〜90分間加熱処理（ポストベーク）をすることにより、目的とする画素パターンを得ることができる。 The pattern is then heated by a heating device such as a hot plate or oven at a predetermined temperature, for example, 150 ° C. to 250 ° C. for a predetermined time, for example, 5 minutes to 60 minutes on the hot plate, and 30 to 90 minutes in the oven (post By baking, a target pixel pattern can be obtained.

各色（主に赤、緑、青の三色）についてこの工程を繰り返すことで、カラーフィルターを調製することができる。そしてこの上に220〜250℃程度の真空下で酸化インジウムスズ（ITO）蒸着膜を施し、必要に応じてITO膜をエッチング・配線形成した後、液晶配向膜用ポリイミドワニスを塗布して焼成することで、液晶ディスプレイ用カラーフィルターとして供される。 By repeating this process for each color (mainly three colors of red, green, and blue), a color filter can be prepared. Then, an indium tin oxide (ITO) vapor deposition film is applied thereon under a vacuum of about 220 to 250 ° C., and the ITO film is etched and formed as necessary, and then a polyimide varnish for liquid crystal alignment film is applied and baked. Thus, it is provided as a color filter for a liquid crystal display.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し本発明はこれらの実施例に何ら制約されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.

＜アルカリ可溶性樹脂(A-1)の合成例＞
「合成例A-1-1」
窒素ガス雰囲気の下で、窒素ガス導入口、攪拌器、加熱器、冷却管および温度計を備えた1000mlの4ツ口フラスコに、無水マレイン酸モノマー（以下ではMAnと称す）1重量部、メタクリル酸モノマー（以下ではMAAと称す）14重量部、ベンジルメタクリレートモノマー(以下ではBzMAと称す)75重量部、メチルアクリレート(以下ではMAと称す)10重量部、及び溶剤である3-エトキシプロピオン酸エチル（以下ではEEPと称する）200重量部をフィードした。各モノマーのフィード方式は一括添加とした。 <Synthesis example of alkali-soluble resin (A-1)>
"Synthesis Example A-1-1"
Under a nitrogen gas atmosphere, in a 1000 ml four-necked flask equipped with a nitrogen gas inlet, stirrer, heater, condenser and thermometer, 1 part by weight of maleic anhydride monomer (hereinafter referred to as MAn), methacrylic 14 parts by weight of acid monomer (hereinafter referred to as MAA), 75 parts by weight of benzyl methacrylate monomer (hereinafter referred to as BzMA), 10 parts by weight of methyl acrylate (hereinafter referred to as MA), and ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent 200 parts by weight (hereinafter referred to as EEP) were fed. The feed system for each monomer was batch addition.

この4ツ口フラスコの内容物が攪拌されている状態でオイルバスの温度を100℃まで上げて、しかる後に重合開始剤である2,2’―アゾビス-2-メチルブチロニトリル(以下ではAMBNと称す)4重量部を溶剤EEPに溶かし、該溶液の5等分の量を一時間ごとに4ツ口フラスコ内に分括添加した。 With the contents of the four-necked flask being stirred, the temperature of the oil bath was raised to 100 ° C, and then the polymerization initiator 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile (hereinafter referred to as AMBN) 4 parts by weight were dissolved in the solvent EEP, and an equal amount of 5 parts of the solution was added into the four-necked flask every hour.

溶液の温度を100℃に保持し、この温度を6時間保持し、重合完了後に4ツ口フラスコから重合体の溶液を取出し、溶剤を揮発してアルカリ可溶性樹脂Ａ-1-1を得た。 The temperature of the solution was maintained at 100 ° C., and this temperature was maintained for 6 hours. After completion of the polymerization, the polymer solution was taken out from the four-necked flask, and the solvent was evaporated to obtain an alkali-soluble resin A-1-1.

「合成例A-1-2〜A-1-8」
モノマーの種類及び量を変えた以外は、合成例A-1-1と同様な操作方法により樹脂A-1-2〜A-1-8を得た。使用したモノマーの種類ならびに配合割合及び反応条件を表1に示す。 `` Synthesis example A-1-2 to A-1-8 ''
Resins A-1-2 to A-1-8 were obtained in the same manner as in Synthesis Example A-1-1 except that the type and amount of the monomer were changed. Table 1 shows the types of monomers used, the mixing ratio, and the reaction conditions.

「合成例A-1-9」
窒素ガス雰囲気の下で、窒素ガス導入口、攪拌器、加熱器、冷却管および温度計を備えた1000mlの4ツ口フラスコに、スチレン−無水マレイン酸共重合物（共重合比1：1、分子量10000）500重量部をエチルセロソルブアセテート1300重量部に常温で溶解した後、トリエチルアミン10重量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル2重量部、日本油脂株式会社製ポリエチレングリコールモノメタクリレート（商品名ブレンマー PE−350）109重量部を常温で加え、90〜95℃で3時間反応させた。 Synthesis Example A-1-9
Under a nitrogen gas atmosphere, a 1000 ml four-necked flask equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a heater, a condenser tube and a thermometer was added to a styrene-maleic anhydride copolymer (copolymerization ratio 1: 1, After dissolving 500 parts by weight of molecular weight 10,000) in 1300 parts by weight of ethyl cellosolve acetate at room temperature, 10 parts by weight of triethylamine, 2 parts by weight of hydroquinone monomethyl ether, polyethylene glycol monomethacrylate (trade name Blemmer PE-350) 109 manufactured by NOF Corporation A part by weight was added at room temperature and reacted at 90 to 95 ° C. for 3 hours.

上記反応液を80℃に冷却したのち、ヒドロキシエチルアクリレートを250重量部加え、再度90〜95℃で3時間反応させた後に、4ツ口フラスコから重合体の溶液を取出し、溶剤を揮発してアルカリ可溶性樹脂A-1-9を得た。 After cooling the reaction solution to 80 ° C., add 250 parts by weight of hydroxyethyl acrylate, react again at 90-95 ° C. for 3 hours, take out the polymer solution from the 4-neck flask, and volatilize the solvent. Alkali-soluble resin A-1-9 was obtained.

「合成例A-1-10」
窒素ガス雰囲気の下で、窒素ガス導入口、攪拌器、加熱器、冷却管および温度計を備えた1000mlの4ツ口フラスコに、MAn 50重量部、スチレンモノマー（以下ではSMと称す）50重量部、溶剤であるメチルイソブチルケトン(以下はMIBKと称す)200重量部及び重合開始剤であるジクミルパーオキサイド(以下ではDCPと称す)2重量部をフィードした。各モノマーのフィード方式は一括添加とした。 Synthesis Example A-1-10
Under a nitrogen gas atmosphere, in a 1000 ml 4-neck flask equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a heater, a condenser tube and a thermometer, 50 parts by weight of MAn and 50 parts by weight of styrene monomer (hereinafter referred to as SM) In addition, 200 parts by weight of methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK) as a solvent and 2 parts by weight of dicumyl peroxide (hereinafter referred to as DCP) as a polymerization initiator were fed. The feed system for each monomer was batch addition.

溶液の温度を130℃に保持し、この温度を4時間保持し、重合完了後に4ツ口フラスコから重合体の溶液を取出し、溶剤を揮発してアルカリ可溶性樹脂A-1-10を得た。

Man 無水マレイン酸
AA アクリル酸
MAA メタクリル酸
BzMA ベンジルメタクリレート
SM スチレン
HEMA 2-ヒドロキシエチルメタクリレート
MA メチルアクリレート
AMBN 2,2’-アゾビス-2-メチルブチロニトリル
EEP 3-エトキシプロピオン酸エチル The temperature of the solution was maintained at 130 ° C., and this temperature was maintained for 4 hours. After the polymerization was completed, the polymer solution was taken out from the four-necked flask, and the solvent was evaporated to obtain an alkali-soluble resin A-1-10.

Man maleic anhydride
AA acrylic acid
MAA methacrylic acid
BzMA benzyl methacrylate
SM Styrene
HEMA 2-hydroxyethyl methacrylate
MA methyl acrylate
AMBN 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile
EEP Ethyl 3-ethoxypropionate

＜アルカリ可溶性樹脂(A-2)の合成例＞
「合成例A-2-1」
窒素ガス雰囲気の下で、窒素ガス導入口、攪拌器、加熱器、冷却管および温度計を備えた1000mlの4ツ口フラスコに、アクリル酸モノマー(以下ではAAと称す)5重量部、MAA 15重量部、SM 60重量部、MA 10重量部、及び溶剤であるEEP 200重量部をフィードした。各モノマーのフィード方式は一括添加とした。 <Synthesis example of alkali-soluble resin (A-2)>
"Synthesis Example A-2-1"
Under a nitrogen gas atmosphere, in a 1000 ml four-necked flask equipped with a nitrogen gas inlet, a stirrer, a heater, a condenser tube and a thermometer, 5 parts by weight of acrylic acid monomer (hereinafter referred to as AA), MAA 15 Part by weight, 60 parts by weight of SM, 10 parts by weight of MA, and 200 parts by weight of EEP as a solvent were fed. The feed system for each monomer was batch addition.

この4ツ口フラスコの内容物が攪拌されている状態でオイルバスの温度を100℃まで上げて、しかる後に重合開始剤であるAMBN 4重量部を溶剤EEPに溶かし、該溶液の5等分の量を一時間ごとに4ツ口フラスコ内に分括添加した。 While the contents of the four-necked flask are being stirred, the temperature of the oil bath is raised to 100 ° C., and then 4 parts by weight of the polymerization initiator AMBN is dissolved in the solvent EEP, and the solution is divided into five equal parts. The amount was batch-added into the four-necked flask every hour.

溶液の温度を100℃に保持し、この温度を6時間保持し、重合完了後に4ツ口フラスコから重合体の溶液を取出し、溶剤を揮発してアルカリ可溶性樹脂A-2-1を得た。 The temperature of the solution was maintained at 100 ° C., and this temperature was maintained for 6 hours. After the polymerization was completed, the polymer solution was taken out from the four-necked flask, and the solvent was evaporated to obtain an alkali-soluble resin A-2-1.

「合成例A-2-2〜A-2-4」
モノマーの種類及び量を変えた以外は、合成例A-2-1と同様な操作方法により樹脂A-2-2〜A-2-4を得た。使用したモノマーの種類ならびに配合割合及び反応条件を表2に示す。

MAn 無水マレイン酸
AA アクリル酸
MAA メタクリル酸
BzMA ベンジルメタクリレート
SM スチレン
MA メチルアクリレート
AMBN 2,2’-アゾビス-2-メチルブチロニトリル
EEP 3-エトキシプロピオン酸エチル `` Synthesis examples A-2-2 to A-2-4 ''
Resins A-2-2 to A-2-4 were obtained by the same operation method as in Synthesis Example A-2-1 except that the type and amount of the monomer were changed. Table 2 shows the types of monomers used, the mixing ratio, and the reaction conditions.

MAn maleic anhydride
AA acrylic acid
MAA methacrylic acid
BzMA benzyl methacrylate
SM Styrene
MA methyl acrylate
AMBN 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile
EEP Ethyl 3-ethoxypropionate

＜感光性樹脂組成物の実施例及び比較例＞
「実施例1」
(A)合成例で得られたアルカリ可溶性樹脂（A-1-1）100重量部（固形分）、(B) エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(C)光重合開始剤、(D)溶剤、(E)着色剤として、表3に示す各成分(数値は重量部)を振動かき混ぜ機で溶解、混合させた後、感光性樹脂組成物を調製した。得られた感光性樹脂組成物を用い、下記の各測定項目の評価を行った。結果を表3に示す。 <Examples and Comparative Examples of Photosensitive Resin Composition>
`` Example 1 ''
(A) 100 parts by weight (solid content) of the alkali-soluble resin (A-1-1) obtained in Synthesis Example, (B) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (C) a photopolymerization initiator, Each component shown in Table 3 (numerical values are parts by weight) as a solvent and (E) colorant was dissolved and mixed with a vibration stirrer, and then a photosensitive resin composition was prepared. Using the obtained photosensitive resin composition, the following measurement items were evaluated. The results are shown in Table 3.

＜測定項目＞ <Measurement item>

「無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位の含有量」
この含有量は下記の計算方法で求めた。下記の計算で求めた含有量の単位は重量％である。
（無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位／アルカリ可溶性樹脂(A)の含有量）×100重量%。
そのうち、無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位については、アルカリ可溶性樹脂(A-1)及び(A-2)の重合反応中の原料仕込み量、各モノマーの転化率及び回収した揮発性成分に基づき算出する。 "Content of constituent units derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a'-1)"
This content was determined by the following calculation method. The unit of content obtained by the following calculation is% by weight.
(Constituent unit derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a′-1) / content of alkali-soluble resin (A)) × 100% by weight.
Among them, for structural units derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a'-1), the raw material charge during the polymerization reaction of alkali-soluble resins (A-1) and (A-2), Calculation is based on the conversion rate of each monomer and the recovered volatile components.

「着色剤(E)の含有量」
この含有量は下記の計算式より求めた。下記の計算で求めた含有量の単位は重量％である。
（着色剤の使用量／アルカリ可溶性樹脂(A)の含有量）×100重量% `` Colorant (E) content ''
This content was calculated | required from the following formula. The unit of content obtained by the following calculation is% by weight.
(Amount of colorant used / content of alkali-soluble resin (A)) x 100% by weight

「無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位の含有量／着色剤(E)の含有量の比率」
この比値は、下記の計算式より求めた。
無水マレイン酸モノマー(a-1)と(a’-1)から誘導される構成単位の含有量／着色剤(E)含有量 “Ratio of content of structural units derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a′-1) / content of colorant (E)”
This ratio value was obtained from the following calculation formula.
Content of structural units derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a'-1) / colorant (E) content

「耐熱性」
感光性樹脂組成物を用い、回転塗布により10cm×10cmのガラス基板に8μmの厚みの塗膜を塗布し、且つ85℃で5分間プレベーキングした後、感光性樹脂組成物の塗膜を得た。そしてこの感光性樹脂組成物の塗膜に、紫外線（露光機Canon PLA-501F）200mJ／cm²を照射して、23℃の現像液に2分間浸漬した後、純水でリンスした。更に200℃で40分間ポストベークしてガラス基板上の感光性樹脂層を得た。 "Heat-resistant"
Using a photosensitive resin composition, a coating film having a thickness of 8 μm was applied to a 10 cm × 10 cm glass substrate by spin coating, and after prebaking at 85 ° C. for 5 minutes, a coating film of the photosensitive resin composition was obtained. . The coating film of the photosensitive resin composition was irradiated with 200 mJ / cm ² of ultraviolet rays (exposure machine Canon PLA-501F), immersed in a developer at 23 ° C. for 2 minutes, and rinsed with pure water. Further, post-baking was performed at 200 ° C. for 40 minutes to obtain a photosensitive resin layer on the glass substrate.

この感光性樹脂層について、ミクロアナライザー（東京電色（株）製「TC−1800M」）を用いて400〜700nmの波長における透過率を測定した後、クリーンオーブンにて250℃60分の追加ベークを実施した。追加ベーク後、再度透過率を測定して追加ベーク前後の透過率の変化率を計算した。結果を次の基準によって評価した。
○：5%未満。
△：5〜10%。
×：10%を超える。 The photosensitive resin layer was measured for transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm using a microanalyzer (“TC-1800M” manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.), and then baked at 250 ° C. for 60 minutes in a clean oven. Carried out. After the additional baking, the transmittance was measured again, and the change rate of the transmittance before and after the additional baking was calculated. The results were evaluated according to the following criteria.
○: Less than 5%.
Δ: 5 to 10%.
×: Over 10%.

「耐アルカリ性」
耐熱性測定と同様に形成した感光性樹脂層について、ミクロアナライザー（東京電色（株）製「TC−1800M」）を用いて400〜700nmの波長における透過率を測定した後、2%水酸化ナトリウム水溶液中に10分の浸漬を実施した。追加浸漬後、再度透過率を測定して追加浸漬前後の透過率の変化率を計算した。結果を次の基準によって評価した。
○：5%未満。
△：5〜10%。
×：10%を超える。 "Alkali resistance"
After measuring the transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm using a microanalyzer (“TC-1800M” manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.) for the photosensitive resin layer formed in the same manner as the heat resistance measurement, 2% hydroxylation The immersion for 10 minutes was carried out in the aqueous sodium solution. After the additional immersion, the transmittance was measured again, and the change rate of the transmittance before and after the additional immersion was calculated. The results were evaluated according to the following criteria.
○: Less than 5%.
Δ: 5 to 10%.
×: Over 10%.

「顔料凝集粒子」
耐熱性測定と同様に形成した感光性樹脂層について、顕微鏡にて顔料凝集粒子の有無を観察し以下の基準で評価した（一般の顔料凝集粒子の粒子径は1〜10μmである）。
○：顔料凝集粒子が無い。
△：顔料凝集粒子が少しある。
×：顔料凝集粒子が多い。 "Pigment aggregated particles"
About the photosensitive resin layer formed similarly to the heat resistance measurement, the presence or absence of pigment aggregated particles was observed with a microscope and evaluated according to the following criteria (the particle diameter of general pigment aggregated particles is 1 to 10 μm).
○: No pigment aggregated particles.
Δ: Little pigment aggregated particles.
X: There are many pigment aggregation particles.

「残渣」
この感光性樹脂組成物を用い、回転塗布により10cm×10cmのガラス基板に8μmの厚みの塗膜を塗布し、且つ85℃で5分間プレベーキングした後、感光性樹脂組成物の塗膜を得た。
そしてこの感光性樹脂組成物塗膜に、所定のパターンマスクを介して紫外線（露光機Canon PLA-501F）300mJ／cm²を照射して、23℃の現像液に2分間浸漬した後、純水でリンスした。
これらの操作により不要な部分は除去され、更に200℃で40分間ポストベークしてガラス基板上の画素パターンを得た。この画素パターンを電子顕微鏡で観察し、表面の残渣の有無を観察し以下の基準で評価した。
○：無残渣である。
△：少々残渣がある。
×：残渣が多数ある。 "Residue"
Using this photosensitive resin composition, a coating film having a thickness of 8 μm was applied to a 10 cm × 10 cm glass substrate by spin coating and prebaked at 85 ° C. for 5 minutes to obtain a coating film of the photosensitive resin composition. It was.
The photosensitive resin composition coating film was irradiated with ultraviolet rays (exposure machine Canon PLA-501F) 300 mJ / cm ² through a predetermined pattern mask, immersed in a developer at 23 ° C. for 2 minutes, and then purified water. Rinse with.
Unnecessary portions were removed by these operations, and further post-baked at 200 ° C. for 40 minutes to obtain a pixel pattern on the glass substrate. This pixel pattern was observed with an electron microscope, and the presence or absence of surface residue was observed and evaluated according to the following criteria.
○: No residue.
Δ: There is a little residue.
X: There are many residues.

「実施例2〜4」
アルカリ可溶性樹脂(A)の種類及び含有量を変えた以外は、実施例1と同様な操作方法により感光性樹脂組成物を得た。使用した成分の種類ならびに配合割合及び評価結果を表3に示す。 `` Examples 2 to 4 ''
A photosensitive resin composition was obtained by the same operation method as in Example 1, except that the type and content of the alkali-soluble resin (A) were changed. Table 3 shows the types of ingredients used, the blending ratio, and the evaluation results.

「実施例5〜7」
アルカリ可溶性樹脂(A)や着色剤(E)の種類及び含有量を変えた以外は、実施例1と同様な操作方法により感光性樹脂組成物を得た。使用した成分の種類ならびに配合割合及び評価結果を表3に示す。 `` Examples 5 to 7 ''
A photosensitive resin composition was obtained by the same operation method as in Example 1, except that the types and contents of the alkali-soluble resin (A) and the colorant (E) were changed. Table 3 shows the types of ingredients used, the blending ratio, and the evaluation results.

「比較例1〜9」
アルカリ可溶性樹脂(A)の種類及び含有量を変えた以外は、実施例1と同様な操作方法により感光性樹脂組成物を得た。使用した成分の種類ならびに配合割合及び評価結果を表3に示す。 `` Comparative Examples 1-9 ''
A photosensitive resin composition was obtained by the same operation method as in Example 1, except that the type and content of the alkali-soluble resin (A) were changed. Table 3 shows the types of ingredients used, the blending ratio, and the evaluation results.

「比較例10」
アルカリ可溶性樹脂(A)や着色剤(E)の含有量を変えた以外は、実施例1と同様な操作方法により感光性樹脂組成物を得た。使用した成分の種類ならびに配合割合及び評価結果を表3に示す。

B-1 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
C-1 2-ベンジル-2-N,N-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン
C-2 4,4’- ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
C-3 2,-(2-クロロフェニル)-4,5-テトラフェニルビイミダゾール二量体
D-1 3-エトキシプロピオン酸エチル
D-2 プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
E-1 顔料 CI254
E-2 顔料 G36
E-3 顔料 B15:6 `` Comparative example 10 ''
A photosensitive resin composition was obtained by the same operation method as in Example 1, except that the contents of the alkali-soluble resin (A) and the colorant (E) were changed. Table 3 shows the types of ingredients used, the blending ratio, and the evaluation results.

B-1 Dipentaerythritol hexaacrylate
C-1 2-Benzyl-2-N, N-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone
C-2 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone
C-3 2,-(2-Chlorophenyl) -4,5-tetraphenylbiimidazole dimer
D-1 Ethyl 3-ethoxypropionate
D-2 Propylene glycol methyl ether acetate
E-1 Pigment CI254
E-2 Pigment G36
E-3 Pigment B15: 6

Claims

A photosensitive resin composition for a color filter comprising (A) an alkali-soluble resin, (B) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (C) a photopolymerization initiator, (D) a solvent, and (E) a colorant. The (A) alkali-soluble resin is
Maleic anhydride monomer (a-1) 0.2-30 parts by weight, carboxyl group-containing unsaturated monomer (a-2) 3-40 parts by weight, copolymer other than (a-1) and (a-2) above Alkali-soluble resin obtained by polymerizing 30-96.8 parts by weight of possible unsaturated monomer (a-3) (total amount of (a-1) and (a-2) and (a-3) of 100 parts by weight) ( A-1) 0.1 to 100 parts by weight,
Maleic anhydride monomer (a′-1) 0 to 0.2 parts by weight (excluding 0.2 parts by weight), carboxyl group-containing unsaturated monomer (a′-2) 5 to 50 parts by weight, and (a′-1 ), Copolymerizable unsaturated monomers other than (a'-2) (a'-3) 49.8 to 95 parts by weight (of (a'-1), (a'-2) and (a'-3) (9-2 to 99.9 parts by weight) obtained by polymerizing (total amount 100 parts by weight) (total amount of (A-1) and (A-2) 100 parts by weight), and For color filters, wherein the ratio of the content of structural units derived from maleic anhydride monomers (a-1) and (a'-1) / colorant (E) is 0.003 to 0.010 Photosensitive resin composition.