JP4273135B2 - Pattern forming method and pattern forming apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、液体吐出法を用いて基材に導電性のパターンを形成するパターン形成方法およびパターン形成装置に関する。 The present invention relates to a pattern forming method and a pattern forming apparatus for forming a conductive pattern on a substrate using a liquid discharge method.
LSI等の半導体や各種電子部品等を実装した回路基板は、電子機器や通信機器、コンピュータ等の心臓部として現在広く有用されている。このような回路基板の基材としては、セラミックやガラス繊維などの補強材とエポキシ樹脂などの合成樹脂との複合材など適用していることが多い。しかし、携帯電話やディジタルカメラのように、小型な機器に組み込ませる回路基板の場合には、より実装性を向上させるために、ポリエステル樹脂やアラミド樹脂等を使用することによって、基材に屈曲性を持たせている場合も多い。回路基板の回路パターン層数についても、かつては片面基板や両面基板がほとんどであったが、装置の小型化、高密度化に従って、現在では8層や16層などの多層回路基板が主流となっている。また、電子回路の高速化に伴って、回路パターンの微細化と高密度化も急速に進んでいる。 Circuit boards on which semiconductors such as LSIs and various electronic components are mounted are now widely used as the heart of electronic devices, communication devices, computers, and the like. As a base material of such a circuit board, a composite material of a reinforcing material such as ceramic or glass fiber and a synthetic resin such as an epoxy resin is often applied. However, in the case of a circuit board to be incorporated in a small device such as a mobile phone or a digital camera, in order to further improve the mountability, by using a polyester resin, an aramid resin, etc., the base material is flexible. There are many cases that have. As for the number of circuit pattern layers of circuit boards, once they were mostly single-sided or double-sided boards, but now, with the miniaturization and higher density of devices, multilayer circuit boards such as 8 layers and 16 layers have become mainstream. ing. In addition, with the increase in the speed of electronic circuits, circuit patterns have been miniaturized and densified rapidly.
回路基板の回路パターン形成方法としては様々な方法があるが、特許文献1には、液体吐出法(インクジェット記録方法)の技術を利用して、回路パターンを形成する方法開示されている。液体吐出法によれば、従来のサブトラクテイブ法に比べて、加工費を低減でき、廃液処理の環境問題を解決することができる。さらに、高速記録が可能で、低ランニングコスト、装置の省スペース化が容易、低騒音、など様々な利点も有している。よって、記録装置として端を発した液体吐出法ではあるが、回路基板の回路パターン形成、カラーフィルタの画素形成、有機EL素子の発光層や電子源の電子放出素子の形成、マイクロレンズ製作等、様々な産業分野での活用が有望視されている。
There are various methods for forming a circuit pattern on a circuit board.
特許文献1によれば、導電パターン用溶液および絶縁パターン用溶液を液体吐出ヘッドから吐出することによって、導電パターンと絶縁パターンに基づいた描画を基材表面に形成し、これを回路パターンとする方法が開示されている。
According to
但し、液体吐出法を採用するにあたっては、それ特有の新たな問題も提起される。液体吐出法は、記録素子(発熱素子や、圧電素子等)に対応して設けられた吐出口から回路パターン用の溶液を吐出させて回路パターンの記録を行う。しかし、暫くの間吐出が実行されない記録素子に対応する吐出口では、吐出する溶液の揮発が進行し、吐出口近傍で残存成分が固着してしまうことがある。 However, when adopting the liquid ejection method, a new problem peculiar to it is also raised. In the liquid discharge method, a circuit pattern solution is recorded by discharging a solution for a circuit pattern from a discharge port provided corresponding to a recording element (such as a heating element or a piezoelectric element). However, at the ejection port corresponding to the recording element that does not perform ejection for a while, the solution to be ejected may evaporate and the remaining components may be fixed in the vicinity of the ejection port.
図1は、上記固着が発生した吐出口の様子を示した模式図である。ここで、図1(a)は固着した液体が吐出口の1つを塞ぎ、目詰まりを起こした状態を示している。また、同図(b)は、吐出口の外側に固着物が付着してしまった状態を示している。 FIG. 1 is a schematic view showing a state of the discharge port where the above-mentioned sticking has occurred. Here, FIG. 1A shows a state in which the fixed liquid blocks one of the discharge ports and is clogged. FIG. 2B shows a state in which a fixed object has adhered to the outside of the discharge port.
図2は、図1で示したような固着物が付着した吐出ヘッドを用いて記録した場合の、回路パターンに起きる弊害を説明するための模式図である。図2(a)は、吐出ヘッドに備えられた複数の吐出口に図1で説明したような目詰まりや付着が発生せず、正常に記録が実行された状態の直線パターンを示している。これに対し図2(b)は、吐出口の1つが図1(a)で示したような目詰まりを起こした状態で吐出した、図2(a)と同様の直線パターンを示している。目詰まりが発生した吐出口からは溶液を吐出することが出来ないので、直線パターンの途中では、溶液が付与されていない部分が生じてしまっている。これでは回路パターンとしては断線した状態となってしまう。以後、溶液を吐出することが出来ない状態を不吐出と称す。 FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the adverse effects that occur in the circuit pattern when recording is performed using the ejection head to which the fixed matter is attached as shown in FIG. FIG. 2A shows a linear pattern in a state where recording is normally performed without causing clogging or adhesion as described in FIG. 1 at a plurality of ejection openings provided in the ejection head. On the other hand, FIG. 2B shows a linear pattern similar to that in FIG. 2A, in which one of the discharge ports discharges in a state where clogging occurs as shown in FIG. Since the solution cannot be discharged from the discharge port where clogging has occurred, a portion to which no solution is applied has occurred in the middle of the linear pattern. As a result, the circuit pattern is disconnected. Hereinafter, the state in which the solution cannot be discharged is referred to as non-discharge.
また、図2(c)は、図2(b)に示したように、吐出口の縁に異物が付着した状態で記録した直線パターンを示している。吐出口近傍に付着物が存在したまま吐出を行うと、吐出方向にヨレが生じ、基材上の所望の位置からずれて液滴が着弾される。この結果、回路パターンが断線したり、ずれて着弾した液滴が別のパターンと接触する場合には、短絡(ショート)が発生したりする。以後、溶液をずれた位置に着弾させてしまう状態を着弾ずれと称す。尚、図1(b)や図2(c)では、吐出口近傍に固着物が付着している状態で説明を行ったが、吐出した溶液の一部が吐出口近傍に付着している状態であっても、吐出口から吐出される溶液がその吐出方向に影響を受け、着弾ずれが生じることもある。このように吐出ヘッドに不吐出や着弾ずれが生じて、回路パターンの一部が断線したり、隣接する回路パターン間で短絡が発生したりすると、形成した回路パターンに致命的な欠陥を発生させることになる。 FIG. 2C shows a linear pattern recorded with foreign matter adhering to the edge of the ejection port as shown in FIG. When discharging is performed with an attached substance in the vicinity of the discharge port, a twist occurs in the discharge direction, and a droplet is landed with a deviation from a desired position on the substrate. As a result, when the circuit pattern is disconnected or when the liquid droplets that have landed out of contact with another pattern, a short circuit occurs. Hereinafter, a state in which the solution is landed at a shifted position is referred to as landing shift. In FIGS. 1B and 2C, the description has been made in the state where the fixed substance is attached in the vicinity of the discharge port, but the state in which a part of the discharged solution is attached in the vicinity of the discharge port. Even so, the solution discharged from the discharge port is affected by the discharge direction, and landing deviation may occur. In this way, when ejection failure or landing deviation occurs in the ejection head and part of the circuit pattern is disconnected or a short circuit occurs between adjacent circuit patterns, a fatal defect is generated in the formed circuit pattern. It will be.
このような弊害を出来るだけ抑制するための対策法として、特許文献2が挙げられる。特許文献2によれば、吐出ヘッドの全吐出口によって図2で説明したようなラインパターンをテストパターンとして記録し、当該ラインパターンの断続部の有無を光学的あるいは電気的に検出する方法が開示されている。そして、断続有りと検出された場合は、不吐出が生じている吐出ヘッドに対して回復動作を施す内容が開示されている。
近年の回路形成技術においては、更に一層軽薄短小な回路基板への需要が高まっている。そして、液体吐出法を利用した回路形成技術においても、より高精細なパターンを形成する技術開発が推し進められている。液体吐出法を応用すれば、一般に十〜数十ミクロン程度の線幅で回路パターンを描画することが可能である。また、今日では、サブミクロンのパターン描画が可能である内容の研究報告もなされている。 In recent circuit formation technology, the demand for lighter, thinner and smaller circuit boards is increasing. Also in the circuit formation technology using the liquid ejection method, technological development for forming a higher definition pattern is being promoted. If the liquid ejection method is applied, it is possible to draw a circuit pattern with a line width of about 10 to several tens of microns. In addition, today, research reports have been made to the extent that submicron pattern drawing is possible.
しかしながら一方で、このように回路パターンの集積度が高まるにつれ、記録精度をより高い状態で維持することが困難になってくる。以下に、その具体的な要因を挙げる。
(1)高精細な回路パターンを形成するためにパターンの細線化が要され、各吐出口から吐出される液滴量が少量化される。これによって、個々の吐出口も小さくなり、吐出口の目詰まりが発生しやすくなる。
(2)吐出口から溶液を吐出する際、主滴とは別に微細な液滴(以後、ミストと称す)が発生するが、吐出量の少量化に伴いミストの影響が増大する。ミストの一部は吐出口近傍に重複して付着し、着弾ずれを招致する。
(3)吐出ヘッドにおいては、異物の付着などが起きていなくても、吐出ヘッドの構成上、複数の吐出口間の製造誤差、吐出口内壁の一部に付着した泡や固着物に起因して、どうしても複数の吐出口間には僅かな着弾ずれが含まれ易い。上記ラインの細線化に伴い、このような着弾ずれの影響が無視できない状況となって来ている。
However, on the other hand, as the degree of integration of circuit patterns increases, it becomes difficult to maintain a higher recording accuracy. The specific factors are listed below.
(1) Thinning of the pattern is required to form a high-definition circuit pattern, and the amount of liquid droplets discharged from each discharge port is reduced. As a result, the individual discharge ports are also reduced, and the discharge ports are easily clogged.
(2) When the solution is discharged from the discharge port, fine droplets (hereinafter referred to as mist) are generated separately from the main droplet, but the influence of mist increases as the discharge amount decreases. A part of the mist adheres in the vicinity of the discharge port, resulting in landing deviation.
(3) Even if no foreign matter adheres to the discharge head, due to manufacturing errors between the plurality of discharge ports, bubbles or sticking matter adhering to a part of the inner wall of the discharge port due to the configuration of the discharge head. Thus, a slight landing deviation is easily included between the plurality of discharge ports. Along with the thinning of the line, the impact of such landing deviation is not negligible.
すなわち、近年求められている高精細な回路を液体吐出法を用いて形成する場合には、(1)および(2)のように従来の問題点が更に悪化するばかりでなく、(3)のような新たな問題点も提起されるのである。 That is, in the case where a high-definition circuit that has been demanded in recent years is formed by using a liquid discharge method, the conventional problems as in (1) and (2) are not only further deteriorated, but also in (3) Such new problems are also raised.
上述の問題点に対して、特許文献2に開示されている方法では、1本のラインパターンにおける断続部の有無の検出はできるが、ヨレによって近接するパターンが接触するような誤導通(ショート)の検出をすることは出来ない。
With respect to the above-described problems, the method disclosed in
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、液体吐出法を利用した高精細な回路パターンを、信頼性の高い状態で形成することである。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to form a high-definition circuit pattern using a liquid ejection method with high reliability.
そのために本発明は、複数の吐出口が配列してなる吐出口列を有する吐出ヘッドと、基材とを、前記吐出口列と交差する方向に相対的に走査させ、前記吐出口から導電性の溶液を前記基材に吐出することによって、導電性のパターンからなるテストパターンと回路パターンとを形成するパターン形成方法であって、前記吐出口列の1列に対応し前記吐出口列方向に沿ったラインを、前記走査の方向に一定の間隔をおいて複数形成する、テストパターン形成工程と、前記テストパターンのそれぞれのライン及びライン同士の電気的な導通を検出することによって不具合を確認する確認工程と、前記回路パターンを基材に形成する回路パターン形成工程とを有し、前記テストパターンにおける複数の前記ラインの間隔は、前記ラインの線幅と前記回路パターンの最小のスペース幅とに応じて設定されることを特徴とする。 To this end, the present invention allows a discharge head having a discharge port array in which a plurality of discharge ports are arranged, and a base material to be scanned relatively in a direction intersecting the discharge port row, so that the conductive property is discharged from the discharge port. A pattern forming method for forming a test pattern and a circuit pattern made of a conductive pattern by discharging a solution of the above to the base material, the pattern forming method corresponding to one row of the discharge port row in the direction of the discharge port row A test pattern forming step of forming a plurality of lines along the scanning direction at a predetermined interval, and confirming a defect by detecting each line of the test pattern and electrical continuity between the lines. A confirmation pattern and a circuit pattern formation process for forming the circuit pattern on a base material, and the interval between the plurality of lines in the test pattern is the line width of the line and the line Characterized in that it is set in accordance with the minimum space width of the road pattern.
また、複数の吐出口が配列してなる吐出口列を有する吐出ヘッドと、基材とを、前記吐出口列と交差する方向に相対的に走査させ、前記吐出口から導電性の溶液を前記基材に吐出することによって、導電性のパターンからなるテストパターンと回路パターンとを形成するパターン形成装置であって、前記吐出口列の1列に対応し前記吐出口列方向に沿ったラインを、前記走査の方向に一定の間隔をおいて複数形成する、テストパターン形成手段と、前記テストパターンのそれぞれのライン及びライン同士の電気的な導通を検出することによって不具合を確認する手段と、前記回路パターンを基材に形成する回路パターン形成手段と前記テストパターンにおける複数の前記ラインの間隔を、前記ラインの線幅と前記回路パターンの最小のスペース幅とに応じて設定する確認手段とを具備することを特徴とする。 Further, a discharge head having a discharge port array formed by arranging a plurality of discharge ports and a base material are relatively scanned in a direction intersecting the discharge port array, and the conductive solution is discharged from the discharge ports. A pattern forming apparatus that forms a test pattern and a circuit pattern made of a conductive pattern by discharging to a base material, and corresponds to one row of the discharge port rows along a line along the discharge port row direction. A plurality of test pattern forming means for forming a plurality of predetermined intervals in the scanning direction, a means for confirming a defect by detecting each line of the test pattern and electrical continuity between the lines, The circuit pattern forming means for forming the circuit pattern on the substrate and the interval between the plurality of lines in the test pattern are the width of the line and the minimum space of the circuit pattern. Characterized by comprising a confirmation means for setting in accordance with the width.
本発明によれば、所望の回路パターンを形成するのに吐出ヘッドの吐出状態が十分安定しているか否かを事前に判断することが出来る。よって、高精細な回路パターンを、信頼性の高い状態で形成することが出来る。 According to the present invention, it is possible to determine in advance whether or not the ejection state of the ejection head is sufficiently stable to form a desired circuit pattern. Therefore, a high-definition circuit pattern can be formed with high reliability.
以下に、本発明を適用可能な回路基板形成装置について説明する。
図4は、以下に説明する複数の実施例に共通して適用可能な、液体吐出法を採用したパターンを形成する装置(基板形成装置)の斜視図である。図4において、キャリッジ1には、吐出ヘッド2およびタンク3が搭載可能である。また、キャリッジ1は、門型ベース6上に配備されたCRリニアモータステージ7に案内されながら、図4の矢印Aの主走査方向に移動することが出来る。
Hereinafter, a circuit board forming apparatus to which the present invention can be applied will be described.
FIG. 4 is a perspective view of an apparatus (substrate forming apparatus) for forming a pattern employing a liquid ejection method, which can be commonly applied to a plurality of embodiments described below. In FIG. 4, a
図5は、本発明に適用可能な吐出ヘッド2の斜視図である。複数の吐出口31は図4および図5の矢印Bの副走査方向に配列しており、タンク3から供給された溶液を吐出する。副走査方向Bは、主走査方向Aと交わる方向にあり、好ましくは垂直の関係にある。キャリッジ1が図4の主走査方向Aに移動走査しながら吐出ヘッド2の吐出口から溶液を吐出することにより、基材4上には1走査分のパターンが形成される。
FIG. 5 is a perspective view of the
本発明に適用可能な溶液としては導電性であることが極めて好ましい。この場合、金属コロイドや分散剤、水、水溶性有機溶剤、粘度調整剤、pH調整剤、防腐剤、界面活性剤、酸化防止剤等が必要に応じて含まれる。金属コロイドとしては、Ag、Pt、SnO2、Al、Cr、Zn、Feなどが挙げられるが、導電性の面から考慮すると、Ag、SnO2、Alを適用することが望ましい。一般にコロイド粒子の直径は数100nm以下であるが、本発明に適用するに当たっては、回路パターンの均一性や安定性等の観点から、粒子直径が数10〜数100nmの範囲の金属コロイドが好適である。この範囲内では金属コロイドが溶液中で沈降することも抑えられ、溶液の保存安定性の低下を有効に防止することが出来るからである。以下の実施例においては、イオン性溶液を用いることによって導電性溶液としており、その構成は、銀微粒子100重量%当たり、酸無水物としてメチルヘキサヒドロ無水フタル酸6.8重量%、熱硬化性樹脂としてレゾール型フェノール樹脂5重量%となっている。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、適用可能であれば他の成分を有する導電性溶液であっても構わない。また、溶液自体に適切な導電性が備わっていなくても、後に加熱工程や焼成工程を施すことによって導電性を増大させることが出来れば、本発明の吐出溶液として使用することは可能である。
It is extremely preferable that the solution applicable to the present invention is conductive. In this case, a metal colloid, a dispersant, water, a water-soluble organic solvent, a viscosity adjuster, a pH adjuster, a preservative, a surfactant, an antioxidant and the like are included as necessary. Examples of the metal colloid include Ag, Pt,
基材4は、一般には、フィルム、シート、板などのような平面形状をしている。但し、液体吐出方式による回路パターンの形成が可能であれば、曲面であっても構わない。以下に示す実施例では、各溶液中に含まれる揮発成分が蒸発し、導電性を有する成分が基材上に定着することによって回路パターンが完成する仕組みになっている。パターンを形成する基材の材質としては、例えば、ポリエステルフィルム、芳香族ポリアミドフイルムおよびポリイミドフイルムのような熱可塑性樹脂フィルムが挙げられる。さらに、ガラス繊維、ポリエステル繊維および芳香族ポリアミド繊維による織物や不織布に熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂を含浸硬化させシート状としたもの、また、通常の回路基板に用いられるガラスエポキシ積層板のような板状のものが挙げられる。 The substrate 4 generally has a planar shape such as a film, sheet, or plate. However, a curved surface may be used as long as the circuit pattern can be formed by the liquid ejection method. In the examples shown below, the circuit pattern is completed by evaporating volatile components contained in each solution and fixing conductive components on the substrate. Examples of the material for the substrate on which the pattern is formed include thermoplastic resin films such as polyester films, aromatic polyamide films, and polyimide films. Furthermore, a sheet made by impregnating and curing a thermoplastic resin or epoxy resin on a woven fabric or nonwoven fabric made of glass fiber, polyester fiber and aromatic polyamide fiber, and a plate such as a glass epoxy laminate used for a normal circuit board The thing of the shape is mentioned.
他にも、例えば、アルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、チタン酸バリウム、ジルコニアなどを焼結した多孔質セラミックス、ポリオレフィンや無機フィラを主材料にした多孔質樹脂フィルムやガラス繊維等がある。このように、加熱工程および焼成工程に耐えられる材質を基材として適用することも効果的である。この場合、回路パターン記録後の基材をベーク装置を用いて焼成すれば、溶液中に含まれた金属コロイドが溶解して金属結合を実現し、回路パターンの導電率をより一層向上させることが出来る。 Other examples include porous ceramics obtained by sintering alumina, silica, aluminum nitride, barium titanate, zirconia, and the like, porous resin films mainly made of polyolefin and inorganic filler, glass fibers, and the like. Thus, it is also effective to apply a material that can withstand the heating process and the baking process as the base material. In this case, if the substrate after recording the circuit pattern is baked using a baking apparatus, the metal colloid contained in the solution dissolves to realize metal bonding, and the conductivity of the circuit pattern can be further improved. I can do it.
本回路基板形成装置の定盤5上の所定の位置には門型ベース6が固定されている。CR(キャリッジ)リニアモータステージ7は、リニアモータ駆動によってキャリッジ1を移動させるステージであり、それ自身が高剛性を有する門型ベース6で支持されている。よって、吐出ヘッド2は定盤5に対して変動することなく主走査方向に移動走査することができる。一方、LF(ラインフィード)リニアモータステージ8は、リニアモータ駆動によって基材4を副走査方向へ移動させるステージである。LFリニアモータステージ8も定盤5上に搭載されているため、搬送に伴って基材表面が吐出ヘッドに対して変動することもない。すなわち、吐出ヘッド2の溶液を吐出する面と回路パターン形成面においては、所定の距離が保たれた状態で、記録(パターン形成)を実行することが出来る。
A portal base 6 is fixed at a predetermined position on the
図には示されていないが、2つのリニアモータステージ7および8には、キャリッジ1や門型ベース6の相対位置を検出するためのリニアエンコーダと原点センサが内蔵されており、リニアモータ駆動のサーボ制御入力として利用されている。
Although not shown in the figure, the two linear motor stages 7 and 8 incorporate a linear encoder and an origin sensor for detecting the relative positions of the
なお、以下の実施例では、形成する回路パターンの精度に合わせて、0.5ミクロン程度の分解能を有するリニアエンコーダを適用している。これにより、十〜数十ミクロンの線幅を有する高精細な回路パターンを形成することが出来る。また、CRリニアモータステージ7に備えられたリニアエンコーダの信号は、吐出ヘッド2が溶液を吐出するタイミングを制御するためにも利用される。
In the following embodiments, a linear encoder having a resolution of about 0.5 microns is applied in accordance with the accuracy of a circuit pattern to be formed. Thereby, a high-definition circuit pattern having a line width of 10 to several tens of microns can be formed. The signal of the linear encoder provided in the CR
以上の構成を有する回路形成装置に不図示のホスト装置からパターンデータが入力されると、キャリッジ1は主走査方向への移動走査を開始し、同時に吐出ヘッド2の個々の吐出口からは上記パターンデータに従った吐出が実行される。このような吐出動作を伴う主走査(パターン形成)の後、基材4は上記主走査による記録幅に相当した量だけ副走査方向に搬送される。以上のような主走査と副走査とを間欠的に繰り返すことにより、基材4には徐々に回路パターンが形成されていく。
When pattern data is input from a host device (not shown) to the circuit forming apparatus having the above-described configuration, the
図4に示す吸引キャップ10は、吐出ヘッド2のメンテナンス処理を実行するためのものである。吸引キャップ10はゴム等の弾性材料で形成されており、これを吐出ヘッドの吐出口面に押し当て吐出口内部の溶液を強制的に吸引することによって、吐出口近傍の目詰まりや付着物を除去する。このような吸引動作を適宜行うことにより、吐出ヘッド2の吐出状態を正常に維持しておくことが出来る。また、吸引キャップ10は、非記録時の吐出ヘッド2を保護する役割も担っている。更に、図には示されていないが、吐出ヘッド2のメンテナンス処理を実行するための機構としては、吸引キャップ10以外にも、吐出ヘッド2の吐出口面に付着した異物などを直接取り除くためのワイパー部材などが備えられていても良い。
A
図4に示す導電プローブ9は、本発明に特有なテストパターンを検出するためのものである。導電プローブ9についての詳細は後に説明する。 The conductive probe 9 shown in FIG. 4 is for detecting a test pattern unique to the present invention. Details of the conductive probe 9 will be described later.
以上説明した構成の多層回路基板形成装置を用い、実際に多層回路を形成する工程は実施例にて詳細に説明する。 The process of actually forming a multilayer circuit using the multilayer circuit board forming apparatus having the above-described configuration will be described in detail in the embodiments.
一般に、回路パターンは直交する2方向の直線パターンを組み合わせることによって形成されている。ここで、基材上に記録された回路パターンの着弾ずれを説明する為の模式図を図3に示す。図3(a)は、1列に配列した20個の吐出口からなる吐出口列を有する吐出ヘッドを示している。当該吐出ヘッドが矢印で示した走査方向に移動しながら、個々の吐出口より溶液を吐出することにより、回路パターンは記録される。 In general, a circuit pattern is formed by combining linear patterns in two orthogonal directions. Here, FIG. 3 shows a schematic diagram for explaining landing deviation of the circuit pattern recorded on the substrate. FIG. 3A shows an ejection head having an ejection port array composed of 20 ejection ports arranged in a row. The circuit pattern is recorded by discharging the solution from each discharge port while the discharge head moves in the scanning direction indicated by the arrow.
図3(b)は吐出ヘッドの走査方向に形成されたライン幅W1の直線パターンを示している。また、図3(c)は、吐出口の配列方向に形成されたライン幅W2の直線パターンを示している。図3(b)のパターンは、吐出ヘッド上の1つの吐出口から連続して吐出された液滴によって形成されている。よってこのラインには複数の吐出口間のばらつきが含まれていない。一方、同図(c)のパターンは、吐出ヘッドを主走査方向に移動させながらも、全20個の吐出口から同時に1ドットずつ吐出された液滴によって形成されている。よって、このラインには、複数の吐出口の特性、すなわち吐出タイミングや吐出量のばらつきなどが、個々のドットの着弾状態に現れている。ばらつきを多く含んだラインの線幅W2はばらつきを含まないラインの線幅W1よりも大きくなる。近年の一般的な回路形成装置においては、経験的にW2は、W1の1.5〜2.5倍程度となっている。 FIG. 3B shows a linear pattern having a line width W1 formed in the scanning direction of the ejection head. FIG. 3C shows a straight line pattern having a line width W2 formed in the arrangement direction of the discharge ports. The pattern in FIG. 3B is formed by droplets ejected continuously from one ejection port on the ejection head. Therefore, this line does not include variations among the plurality of ejection openings. On the other hand, the pattern of FIG. 5C is formed by droplets ejected one by one from all 20 ejection ports while moving the ejection head in the main scanning direction. Therefore, in this line, characteristics of a plurality of ejection openings, that is, variations in ejection timing and ejection amount, etc. appear in the landing state of individual dots. The line width W2 of a line including a large amount of variation is larger than the line width W1 of a line including no variation. In recent general circuit forming apparatuses, empirically, W2 is about 1.5 to 2.5 times W1.
回路の高精細化やラインの細線化が進められると、複数の細いラインが接近した位置に並行して形成される状況が想定される。しかし、図3(c)に示したように、着弾ずれによって事実上の線幅が実際の設計値よりも太くなってしまうと、接近するライン同士で接触し、短絡を発生する恐れが生じる。 As the circuit becomes finer and the lines become thinner, it is assumed that a plurality of thin lines are formed in parallel at close positions. However, as shown in FIG. 3C, if the actual line width becomes thicker than the actual design value due to landing deviation, the approaching lines may come into contact with each other and a short circuit may occur.
そこで本発明においては、吐出口間の様々な誤差が含まれ理想状態に比べてラインの形状が乱れやすい図3(c)に示すようなパターンを、テストパターンにすることで、信頼性の高い回路パターンの記録を可能にする。つまり、本発明におけるテストパターンは、吐出ヘッドの記録に関わる全吐出口から溶液を吐出させて形成した、吐出口列に沿ったラインから構成されている。そして、このようなラインが主走査方向に一定の間隔を置いて複数本配置されている。つまり、本発明のテストパターンでは、各ラインの連続性のみならず、近接するライン間の独立性をも確認することが可能である。 Therefore, in the present invention, the pattern as shown in FIG. 3C, which includes various errors between the discharge ports and easily disturbs the line shape as compared with the ideal state, is used as a test pattern, thereby providing high reliability. Enables recording of circuit patterns. In other words, the test pattern in the present invention is composed of lines along the discharge port array formed by discharging the solution from all the discharge ports related to the recording of the discharge head. A plurality of such lines are arranged at regular intervals in the main scanning direction. That is, in the test pattern of the present invention, it is possible to confirm not only the continuity of each line but also the independence between adjacent lines.
このようなテストパターンを用いることで、所望の回路パターンを形成するにあたり、吐出ヘッドの吐出状態が安定しているか否かを判断することが出来、高精細な回路パターンを信頼性の高い状態で形成することができる。 By using such a test pattern, it is possible to determine whether or not the ejection state of the ejection head is stable when forming a desired circuit pattern, and a high-definition circuit pattern with high reliability. Can be formed.
図6は、本実施例において回路パターンを形成する際の工程を説明するためのフローチャートである。 FIG. 6 is a flowchart for explaining the steps for forming a circuit pattern in this embodiment.
ホスト装置などから回路パターンの入力コマンドを受信すると、回路形成装置は、まず、テストパターンの記録を実行する(ステップS1)。具体的には、CRリニアモータステージ7によって吐出ヘッド2を回路パターン領域外に移動させ、ここで所定のテストパターンを記録する。
When a circuit pattern input command is received from a host device or the like, the circuit forming device first records a test pattern (step S1). Specifically, the
図7は、本実施形態で記録するテストパターンを示した図である。本実施形態で適用するテストパターンは、図7(a)で示したような吐出ヘッドの吐出口列にそったライン形状を成す。これは、記録に関わる全吐出口から所定のタイミングで溶液を吐出させることによって形成されるラインを、主走査方向に一定の間隔を置いて2本配置させたものとなっている。ここで、図7(b)は、設計上の理想的なラインを示している。一方、図7(c)は、本実施例で適用した吐出ヘッドによって実際に形成されたラインを示している。既に図3を用いて説明したように、副走査方向に延在して記録されたライン(吐出口列に添ったライン)には吐出口間の様々な誤差が含まれるので、理想的な状態に比べ直線性の損なわれたラインとなっている。 FIG. 7 is a diagram showing test patterns recorded in this embodiment. The test pattern applied in the present embodiment has a line shape along the ejection port array of the ejection head as shown in FIG. In this case, two lines formed by discharging a solution at a predetermined timing from all discharge ports related to recording are arranged at a predetermined interval in the main scanning direction. Here, FIG. 7B shows an ideal line in design. On the other hand, FIG. 7C shows a line actually formed by the ejection head applied in this embodiment. As already described with reference to FIG. 3, the line that is recorded extending in the sub-scanning direction (the line along the discharge port array) includes various errors between the discharge ports, which is an ideal state. Compared to the line, the line has been lost.
図7において、基材上に形成されるテストパターンとしての2本のラインの間隔、つまりスペース幅をSとする。ここで、S1は2本のラインの設計値上のスペース幅を示し、S2は実際に得られるスペース幅を示している。直線性の損なわれた2本のラインによって定められるS2は、S1よりも小さい(狭い)値となっている。但し、この実測値がいくら小さくなったとしても、2本のラインが独立してそれぞれが断続せずに形成されていれば、回路としての機能は正常に実現される。 In FIG. 7, an interval between two lines as a test pattern formed on a substrate, that is, a space width is S. Here, S1 shows the space width on the design value of two lines, and S2 shows the space width actually obtained. S2 defined by two lines whose linearity is impaired is smaller (narrower) than S1. However, no matter how small this measured value is, if the two lines are formed independently without being interrupted, the function as a circuit is normally realized.
2本のラインからなるテストパターンは、実際の回路パターンが正常に記録されるか否かを判断するためのものである為、スペース幅Sは実際に回路として形成されるパターンの最小のスペース幅以下であることが好ましい。従って、本実施例においては、テストパターンのラインの間隔(スペース幅S1)は、実際に基材に回路として形成されるパターンの最小のスペース幅の値として設定する。このようなテストパターンを記録した後に、2本のラインがそれぞれ正常に機能する状態であるか否かを確認することによって、実際の回路パターンを記録するに値するか否かを判断する。なお、上記では2本のラインの間隔を、実際に基材に回路として形成されるパターンの最小のスペース幅としたが、更にこれよりも狭い値にすれば、より精度の高い回路形成を目指すことができる。 Since the test pattern consisting of two lines is for determining whether or not the actual circuit pattern is normally recorded, the space width S is the minimum space width of the pattern actually formed as a circuit. The following is preferable. Therefore, in the present embodiment, the line interval (space width S1) of the test pattern is set as the value of the minimum space width of the pattern actually formed as a circuit on the substrate. After recording such a test pattern, it is determined whether or not it is worth recording an actual circuit pattern by checking whether or not the two lines are functioning normally. In the above, the interval between the two lines is the minimum space width of the pattern that is actually formed as a circuit on the base material. However, if the value is further narrower than this, the circuit is formed with higher accuracy. be able to.
このようなテストパターンにおけるライン間の設計上のスペース幅S1は、吐出口列に沿ったラインの線幅の実測値W2を充分把握した上で設定することが望まれる。吐出口列に沿ったラインの線幅のW2は、吐出口からの吐出量や他の誤差要因によって大きく変動し、これによって並列する2本のライン間の接触の可能性も大きく左右されるからである。本実施例においては、それぞれのラインの線幅W1が20μm、2つのライン間のスペース幅S1を30μmとして設計している。 It is desirable to set the design space width S1 between lines in such a test pattern after sufficiently grasping the actual measurement value W2 of the line width along the discharge port array. Since the line width W2 of the line along the discharge port array varies greatly depending on the discharge amount from the discharge port and other error factors, the possibility of contact between the two parallel lines is greatly affected by this. It is. In this embodiment, the line width W1 of each line is designed to be 20 μm, and the space width S1 between the two lines is designed to be 30 μm.
再び図6へ戻る。ステップS1でのテストパターンの記録が終了すると、ステップS2へ進み、記録したテストパターンにおいて、2本のラインがそれぞれ正常に機能する状態であるか否かを確認する。本実施例では、この確認のために導電プローブ9を利用する
図8(a)〜(d)は、本実施例で適用する導電プローブ9の構成および動作を説明するための拡大図である。本実施例の導電プローブ9は、4本のプローブ芯13を備えており、これらを基材上に接触させたり退避させたりすることが出来る。図8(a)は、プローブ芯13を基材より退避させた状態、同図(b)は、プローブ芯13を基材に接触させた状態をそれぞれ示している。プローブ芯13は、導電プローブ9に備えられたモータ11およびギア12によって、基材への接触・退避が制御されている。
Returning again to FIG. When the test pattern recording in step S1 is completed, the process proceeds to step S2, and it is confirmed whether or not the two lines are functioning normally in the recorded test pattern. In this embodiment, the conductive probe 9 is used for this confirmation.
FIGS. 8A to 8D are enlarged views for explaining the configuration and operation of the conductive probe 9 applied in this embodiment. The conductive probe 9 of the present embodiment includes four
本実施例において、4つのプローブ芯13は、図8(c)に示したように、ステップS1で記録した2本のラインの端部にその先端がそれぞれ接触するように配置されている。プローブ芯13が基材へ接触する際には、4本のプローブ芯13が2本のテストパターンに同時に接触するよう制御されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 8C, the four
図8(d)は、プローブ芯13の詳細な構成を説明するための断面図である。プローブ針13は、その先端に配備されている可動針18によって基材に形成された導電性のテストパターンに接触する。この接触による通電あるいは非通電の情報は更に上方に配備されている固定針16に伝達される。固定針16の上部はフレキケーブル14と半田接続され、接続部15にて固定されている。固定針16の回りには、圧接ばね17が配備されており、この働きによって可動針18は固定芯に対して上下移動することが出来る。フレキシブルケーブル14は、不図示の導電チェック回路に接続されている。
FIG. 8D is a cross-sectional view for explaining the detailed configuration of the
記録されたテストパターンは導電性を有しているため、各ラインの断線や短絡の有無は、4つのプローブ芯間の導通チェックを行うことによって検出できる。 Since the recorded test pattern has electrical conductivity, the presence or absence of disconnection or short-circuit of each line can be detected by performing a continuity check between the four probe cores.
図9は、テストパターンの断線や短絡の状態をチェックする際の端子選択状態を説明するための回路図である。個々のラインの断線をチェックする場合には、2つの端子ユニットが、同一ライン上に接触するプローブ芯に接続する様に切り替える。一方、2本のライン間の短絡をチェックする場合には、2つの端子ユニットが、異なるライン上に接触するプローブ芯に接続する様に切り替える。 FIG. 9 is a circuit diagram for explaining a terminal selection state when checking a test pattern disconnection or short-circuit state. When checking the disconnection of individual lines, the two terminal units are switched so as to be connected to the probe cores that are in contact with each other on the same line. On the other hand, when a short circuit between two lines is checked, the two terminal units are switched so as to be connected to probe cores that are in contact with different lines.
図10(a)〜(c)は、テストパターンにさまざまな弊害が発生している場合を示している。図10(a)は、吐出口の1つに不吐出が発生してしまっている状態を示している。また、図10(b)は、吐出口の1つに着弾ずれが発生してしまっている状態を示している。この場合においても、2つのラインのそれぞれで断線が確認される。更に図10(c)は、着弾ずれによってライン間の接触が発生してしまっている場合を示している。図10(c)の場合、個々のライン内での断線は確認されないが、互いのライン間での導通すなわち短絡が確認される。 FIGS. 10A to 10C show cases where various adverse effects occur in the test pattern. FIG. 10A shows a state where non-ejection has occurred in one of the ejection openings. FIG. 10B shows a state where landing deviation has occurred in one of the discharge ports. Even in this case, disconnection is confirmed in each of the two lines. Further, FIG. 10C shows a case where contact between lines has occurred due to landing deviation. In the case of FIG. 10C, disconnection in each line is not confirmed, but conduction between the lines, that is, short circuit is confirmed.
再度、図6を参照する。以上説明したような導通の確認をステップS2にて行った後、ステップS3に進み、ステップS2において断線あるいは短絡が確認されたか否かを判断する。断線あるいは短絡が確認された場合、ステップS4へ進み、吐出ヘッドに対する回復処理を実行する。すなわち、キャップ10を吐出ヘッドの吐出口面に押し当てて強制的に吸引動作を行ったり、予備的な吐出を行ったりして、吐出ヘッドの吐出状態を整える。その後、再びステップS1へ戻り、回復後の吐出ヘッドによって改めてテストパターンを記録する。このときの記録位置は、回路パターンの記録領域外であって前回記録した位置とは異なる位置となる。
FIG. 6 will be referred to again. After confirming the continuity as described above in step S2, the process proceeds to step S3, and it is determined whether a disconnection or a short circuit is confirmed in step S2. When the disconnection or the short circuit is confirmed, the process proceeds to step S4 and the recovery process for the ejection head is executed. That is, the discharge state of the discharge head is adjusted by pressing the
一方、ステップS3で断線や短絡が確認されなかった場合、ステップS5へ進み実際の回路パターンを記録する。以上で本処理を終了する。 On the other hand, if disconnection or a short circuit is not confirmed in step S3, the process proceeds to step S5 and an actual circuit pattern is recorded. This process is complete | finished above.
以上では断線や短絡が確認されるたびにメンテナンス処理を実行する工程として説明してきたが、これでは吐出ヘッドが不良品であった場合に、メンテナンス処理が不用意に繰り返されることになってしまう。そこで、数回のメンテナンス処理を実行しても記録状態が改善されなかった場合には、吐出ヘッドを交換したり、回路パターンのライン間隔を、テストパターンの間隔より拡大したりするなど、別の解決手段を採用することが好ましい。 In the above description, the maintenance process is performed every time a disconnection or a short circuit is confirmed. However, when the ejection head is defective, the maintenance process is inadvertently repeated. Therefore, if the recording state is not improved even after several maintenance processes, replace the ejection head or increase the circuit pattern line interval beyond the test pattern interval. It is preferable to employ a solution.
以上説明したように本実施例においては、回路パターンの記録に先立ち、回路パターンの記録に適用する吐出口から2本のラインをテストパターンとして記録する。その後、当該2本ラインの断線および短絡をチェックすることによって、適用している吐出ヘッドの状態が回路パターンの記録に適切であるか否かを判断する。これにより、高精細な回路パターンを信頼性の高い状態で形成することが可能となる。また、本実施例では、2本のラインをテストパターンとしたが、複数本あればよい。 As described above, in the present embodiment, prior to recording a circuit pattern, two lines are recorded as test patterns from the discharge ports applied to the circuit pattern recording. Thereafter, the disconnection and short circuit of the two lines are checked to determine whether or not the state of the applied ejection head is appropriate for recording the circuit pattern. As a result, a high-definition circuit pattern can be formed with high reliability. In this embodiment, two lines are used as test patterns, but a plurality of lines may be used.
以下に、本発明の実施例2を説明する。回路パターンの形成に液体吐出法を用いるメリットの1つとして、多品種少量生産に対応しやすいことが挙げられる。ホスト装置に多数の回路パターンデータを所有していれば、異なる回路パターンの回路基板を連続して形成することが出来る。 Example 2 of the present invention will be described below. One of the merits of using the liquid discharge method for forming a circuit pattern is that it is easy to deal with high-mix low-volume production. If the host device has a lot of circuit pattern data, circuit boards having different circuit patterns can be formed continuously.
この場合、複数の回路パターンでは集積度も様々であり、短絡が起こらないように保障されるべきラインの間隔Sも一律ではないことが想定される。集積度が低く、回路パターンの間隔が比較的広く記録される回路基板の形成に際して、テストパターンのラインの間隔Sを必要以上に近接して測定するのは、チェックとしては厳しすぎる。必要以上に厳しい条件の下で吐出ヘッドの適用是非を判断するのは、回路形成の歩留まりの点からも好ましくない。 In this case, it is assumed that the degree of integration varies among the plurality of circuit patterns, and the line spacing S to be ensured so as not to cause a short circuit is not uniform. When forming a circuit board on which the degree of integration is low and circuit pattern intervals are recorded relatively widely, it is too strict as a check to measure the test pattern line interval S closer than necessary. It is not preferable from the viewpoint of circuit formation yield to determine whether or not to apply the ejection head under conditions that are more severe than necessary.
よって、本実施例の回路形成装置では、記録する回路パターンに応じてテストパターンの2本のライン間隔Sを調整することを特徴とする。更に、当該ライン間隔Sに応じてプローブ芯の配置を調整可能な導電プローブを備えた構成とする。なお、実施例1と同様の部分は説明を省略する。 Therefore, the circuit forming apparatus of this embodiment is characterized in that the two line intervals S of the test pattern are adjusted according to the circuit pattern to be recorded. Furthermore, it is set as the structure provided with the conductive probe which can adjust arrangement | positioning of a probe core according to the said line space | interval S. FIG. The description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted.
図11は、本実施例で適用する導電プローブの間隔を調整する2本のプローブ芯の様子を示した図である。図11において19は、本実施例に特有のマイクロアクチュエータであり、マイクロメータのオーダで送り走査が可能な駆動機構となっている。マイクロアクチュエータ19の先端には、片方のプローブ針13aが搭載された可動ベース20が固定されている。従って、マイクロアクチュエータ19を主走査方向(図11の矢印方向)へ駆動することによって、プローブ針13aを同方向へ移動させることができ、これによりプローブ芯13aと13bの距離Lを、テストパターンのライン間隔Sにまで調整することが出来る。本実施例の導電プローブ9においては、テストパターンのラインの逆の短部を測定するもう1組のプローブ芯についても同様のマイクロアクチュエータ19が配備されている。また、マイクロアクチュエータ19およびもう1方のプローブ針13bは、導電プローブの同一ベース21に固定されており、このベース21は更にもう一組のプローブ芯も支持している。以上より、2組のプローブ芯の対は、互いに平行を保ちながら間隔が調整される構成となっている。
FIG. 11 is a diagram showing a state of two probe cores for adjusting the interval between the conductive probes applied in this embodiment. In FIG. 11,
本実施例においても、回路パターンを形成する際の各工程は、図6のフローチャートを用いて説明することが出来る。 Also in this embodiment, each step when forming a circuit pattern can be described with reference to the flowchart of FIG.
まず、ステップS1において、本実施例のテストパターンは、その後形成される回路パターンに応じて、ライン間隔Sが調整された上で記録される。続くステップS2では、マイクロアクチュエータ19によってプローブ芯13aの位置を調整し、プローブ芯13aと13bの距離Lを、所定のライン間隔Sに設定した後にプローブ芯13を基材のテストパターン記録面に接触させる。その状態で実施例1と同様の導電チェックを行う。その後のステップは実施例1と同様である。
First, in step S1, the test pattern of the present embodiment is recorded after the line interval S is adjusted according to the circuit pattern to be formed thereafter. In the subsequent step S2, the position of the
以上説明したように、本実施例によれば回路パターンの記録に先立ち、記録する回路パターンの内容に応じた間隔Sで2本のラインをテストパターンとして記録する。その後、当該2本ラインの断線および短絡をチェックすることによって、適用している吐出ヘッドの状態が次に記録する回路パターンに適切であるか否かを判断する。これにより、回路パターンの集積密度に適した、テストパターンのチェックが可能となる。 As described above, according to this embodiment, prior to recording a circuit pattern, two lines are recorded as a test pattern at an interval S corresponding to the content of the circuit pattern to be recorded. Thereafter, the disconnection and short circuit of the two lines are checked to determine whether or not the state of the applied ejection head is appropriate for the circuit pattern to be recorded next. Thereby, it is possible to check the test pattern suitable for the integration density of the circuit pattern.
なお、上述の実施例では、より効率的かつ短時間で吐出ヘッドのチェック工程と回路パターンの形成工程が行われるように、加熱処理などの別工程を必要としない揮発性の導電性溶液を用いている。テストパターンは、回路パターンと同一の基材に記録しているが、本発明はこのような内容に限定されるものではない。加熱処理や焼成処理を施すことによって導電性を発揮する溶液を適用した場合であれば、テストパターン形成後に加熱や焼成を実施し、テストパターンの導通の検査後に回路パターンを記録する工程を行えばよい。この場合、回路パターンとテストパターンとは必ずしも同一の基材上に記録する必要はなく、実際の回路パターン形成と、同等の状態でテストパターンを形成できるのであれば、本発明の目的は達成できる。 In the above-described embodiment, a volatile conductive solution that does not require a separate process such as a heat treatment is used so that the ejection head check process and the circuit pattern formation process are performed more efficiently and in a short time. ing. The test pattern is recorded on the same substrate as the circuit pattern, but the present invention is not limited to such content. If a solution that exhibits conductivity by applying heat treatment or baking treatment is applied, heating or baking is performed after the test pattern is formed, and a circuit pattern is recorded after the test pattern is inspected for continuity. Good. In this case, the circuit pattern and the test pattern do not necessarily have to be recorded on the same substrate, and the object of the present invention can be achieved as long as the test pattern can be formed in the same state as the actual circuit pattern formation. .
また、上述の実施例では、回路パターンの記録の前に、テストパターンの記録及び検査を行っているが、回路パターンの記録の途中に適時テストパターンによるチェックを行っても良い。例えば、所定の吐出回数を超えると、吐出口付近にミスト等の付着物が多くなり、ヨレ等の問題が発生する恐れがある場合には、所定の吐出回数の後に、テストパターンの形成及びそのチェックを行えば良い。もしくは、回路パターンの記録工程において、所定時間使用されない吐出口がある場合には、所定時間経過後にテストパターンの記録及びチェックを行えば良い。 In the above-described embodiment, the test pattern is recorded and inspected before the circuit pattern is recorded. However, the test pattern may be checked in a timely manner during the circuit pattern recording. For example, if the number of discharges exceeds a predetermined number of times, deposits such as mist increase in the vicinity of the discharge port, and problems such as twisting may occur. Check it. Alternatively, in the circuit pattern recording process, when there is an ejection port that is not used for a predetermined time, the test pattern may be recorded and checked after the predetermined time has elapsed.
また、上述の実施例では、回路基板形成装置上にテストパターンをチェックするための導電プローブを備えた形態で説明したが、本発明ではこのような構成の装置に限定されるものではない。回路パターンの記録に先立って、断線や短絡がチェック出来るような複数のラインをテストパターンとして記録した後、何らかの手段で当該テストパターンの断線および短絡が確認できるような手段が用意されていれば、本発明の範疇となる。 In the above-described embodiment, the circuit board forming apparatus is described as having the conductive probe for checking the test pattern. However, the present invention is not limited to the apparatus having such a configuration. Prior to recording the circuit pattern, after recording a plurality of lines that can be checked for disconnection or short circuit as a test pattern, if a means that can check the disconnection and short circuit of the test pattern by any means is prepared, This is within the scope of the present invention.
1 キャリッジ
2 吐出ヘッド
3 タンク
4 基材
6 門型ベース
7 CRリニアモータステージ
8 LFリニアモータステージ
9 導電プローブ
10 吸引キャップ
11 モータ
12 ギア
13 プローブ芯
14 フレキシブルケーブル
15 半田接続
16 固定針
17 圧接ばね
18 可動針
19 マイクロアクチュエータ
20 可動ベース
21 ベース
31 吐出口
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記吐出口列の1列に対応し前記吐出口列方向に沿ったラインを、前記走査の方向に一定の間隔をおいて複数形成する、テストパターン形成工程と、
前記テストパターンのそれぞれのライン及びライン同士の電気的な導通を検出することによって不具合を確認する確認工程と、
前記回路パターンを基材に形成する回路パターン形成工程と
を有し、
前記テストパターンにおける複数の前記ラインの間隔は、前記ラインの線幅と前記回路パターンの最小のスペース幅とに応じて設定されることを特徴とするパターン形成方法。 A discharge head having a discharge port array formed by arranging a plurality of discharge ports and a base material are relatively scanned in a direction intersecting the discharge port array, and a conductive solution is discharged from the discharge port to the base material. A pattern forming method for forming a test pattern and a circuit pattern made of a conductive pattern by
A test pattern forming step of forming a plurality of lines along the discharge port array direction corresponding to one of the discharge port arrays at regular intervals in the scanning direction;
A confirmation step of confirming the defect by detecting the electrical continuity between each line and the lines of the test pattern;
A circuit pattern forming step of forming the circuit pattern on a substrate;
An interval between the plurality of lines in the test pattern is set according to a line width of the lines and a minimum space width of the circuit pattern.
前記確認工程において前記テストパターンの不具合が確認された場合は、前記回復処理工程、前記テストパターン形成工程および前記確認工程とを行い、
前記確認工程において前記テストパターンの不具合が確認されなかった場合は、前記回路パターン形成工程を行うことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。 A step of performing a recovery process of the ejection head;
When a defect in the test pattern is confirmed in the confirmation step, the recovery process step, the test pattern formation step and the confirmation step are performed,
The pattern forming method according to claim 1, wherein when the defect in the test pattern is not confirmed in the confirmation step, the circuit pattern formation step is performed.
前記吐出口列の1列に対応し前記吐出口列方向に沿ったラインを、前記走査の方向に一定の間隔をおいて複数形成する、テストパターン形成手段と、
前記テストパターンのそれぞれのライン及びライン同士の電気的な導通を検出することによって不具合を確認する確認手段と、
前記回路パターンを基材に形成する回路パターン形成手段と
前記テストパターンにおける複数の前記ラインの間隔を、前記ラインの線幅と前記回路パターンの最小のスペース幅とに応じて設定する手段と
を具備することを特徴とするパターン形成装置。 A discharge head having a discharge port array formed by arranging a plurality of discharge ports and a base material are relatively scanned in a direction intersecting the discharge port array, and a conductive solution is discharged from the discharge port to the base material. A pattern forming apparatus for forming a test pattern and a circuit pattern made of a conductive pattern by
A test pattern forming unit that forms a plurality of lines along the discharge port array direction corresponding to one of the discharge port arrays at regular intervals in the scanning direction;
Confirming means for confirming the malfunction by detecting each line of the test pattern and the electrical continuity between the lines,
Circuit pattern forming means for forming the circuit pattern on a substrate; and means for setting intervals between the plurality of lines in the test pattern according to a line width of the lines and a minimum space width of the circuit pattern. A pattern forming apparatus.
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