JP4273271B2 - Pyrazole compound and process for producing the same - Google Patents

Description

〔式中、R2は水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表わす〕で表わされるピラゾール化合物は、ＷＯ９７／４０００９に、殺虫殺ダニ活性化合物の製造中間体として有用であることが記載されている。
【０００４】
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸の製造法としては、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２７，２４３（１９９０）に５−ピラゾロン化合物をビルスマイヤー反応に付した後、過マンガン酸カリで酸化する方法が記載されている。しかし、工業的な製造を考慮した場合、ビルスマイヤー反応は、リン酸を含んだ排水の処理等問題が多い。
【０００５】
１−アルキル−５−ハロ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾール類は従来知られておらず、従って、その合成法も知られていない。
【０００６】
５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾールは従来知られておらず、従って、その合成法も知られていない。
【０００７】
１−アルキル−５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾール類の合成法としては、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．１９８（１９９５）に３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルと、メチルヒドラジンを反応させる方法が記載されている。しかし、この方法は高価なメチルヒドラジンを使用している。
【０００８】
トリフルオロ酢酸誘導体とプロピオニトリルから３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルを得る方法としては、例えば、（１）Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．４７６（１９９５）には、トリフルオロ酢酸エチルとプロピオニトリルを水素化ナトリウム存在下に反応させる方法が、また、（２）特開昭６２−９６４７９及び特開昭６３−２６４４４８にはトリフルオロ酢酸メチルとプロピオニトリルをリチウムジイソプロピルアミド存在下に反応させる方法が記載されている。しかし、工業的な製造を考慮した場合、水素化ナトリウムやリチウムジイソプロピルアミドの使用は経済面及び安全性の面から問題が多く、他の工業的製造法が求められている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の〔１〕乃至〔５〕記載の製造法並びに〔６〕及び〔７〕記載の新規化合物に関するものである。
〔１〕 塩基としてt−ブトキシカリウムを用いて、式（１）：
ＣＦ₃ＣＯＹ
〔式中、Ｙはハロゲン原子、ＯＣＯＣＦ₃またはＯＲ（ＲはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基を表わす。）を表す。〕
で表わされるトリフルオロ酢酸誘導体と、式（２）：
ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＮ
で表わされるプロピオニトリルを反応させることを特徴とする、式（３）：
【００１１】
【化１７】

で表わされる化合物の製造法（以下、Ａ工程と称する。）。
〔２〕 式（３）：
【００１２】
【化１８】

で表される化合物と、ヒドラジンを反応させることを特徴とする、式（４）：
【００１３】
【化１９】

で表されるピラゾール化合物の製造法（以下、Ｂ工程と称する。）。
〔３〕 式（４）：
【００１４】
【化２０】

で表されるピラゾール化合物を、塩基の存在下でアルキル化剤と反応させ、アルキル化することを特徴とする、式（５）：
【００１５】
【化２１】

〔式中、R1はC₁〜C₄アルキル基を表す。〕で表わされるピラゾール化合物の製造法（以下、Ｃ工程と称する。）。
〔４〕 式（４）：
【００１６】
【化２２】

または式（５）：
【００１７】
【化２３】

〔式中、R1はC₁〜C₄アルキル基を表す。〕で表されるピラゾール化合物を、鉱酸または有機酸の存在下亜硝酸供給源を用いてジアゾニウム塩とし、次いで触媒作用のあるハロゲン供給源の存在下、または触媒及びハロゲン供給源の存在下でジアゾ分解することを特徴とする式（７）：
【００１８】
【化２４】

〔式中、R2は水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物の製造法（以下、Ｄ工程と称する。また、R2がC₁〜C₄アルキル基の場合はＤ１工程と称し、R2が水素原子の場合はＤ２工程と称する。）。
〔５〕 式（７）：
【００１９】
【化２５】

〔式中、R2水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を酸化することを特徴とする、式（８）：
【００２０】
【化２６】

〔式中、R2は水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕で表わされるピラゾール化合物の製造法（以下、Ｅ工程と称する。）。
〔６〕 式（４）：
【００２１】
【化２７】

で表わされるピラゾール化合物。
〔７〕 式（７）：
【００２２】
【化２８】

〔式中、R2は水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物。
【００２３】
なお、式（３）：
【００２４】
【化２９】

で表される化合物と式（６）：
Ｒ１−ＮＨＮＨ₂
〔式中、R1はC₁〜C₄アルキル基を表す。〕で表わされるアルキルヒドラジンを反応させることにより式（５）：
【００２５】
【化３０】

〔式中、R1はC₁〜C₄アルキル基を表す。〕のピラゾール化合物を製造する方法を、以下、Ｆ工程と称する。
【００２６】
各工程の関係は、式
【００２７】
【化３１】

として表すことができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
本発明では、上記Ａ工程〜Ｆ工程を複数連続して実施してもよく、例えば、Ａ工程→Ｂ工程（Ａ工程を実施後、次いでＢ工程を実施することを意味する。以下、同様に記載する。）、Ｂ工程→Ｃ工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ工程、Ａ工程→Ｆ工程、Ｃ工程→Ｄ１工程、Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程、Ｆ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｆ工程→Ｄ１工程、Ｂ工程→Ｄ２工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｄ２工程、Ｄ工程→Ｅ工程、Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ａ工程→Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ工程→Ｄ２工程→Ｅ工程及びＡ工程→Ｂ工程→Ｄ２工程→Ｅ工程が挙げられる。
【００２９】
式（１）、（５）、（６）、（７）及び（８）におけるＲ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹの例を説明する。
Ｒ、Ｒ１及びＲ２の定義におけるＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、n−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基があげられる。
Ｘ及びＹの定義におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があげられる。
【００３０】
（Ａ工程）
Ａ工程における式（３）の化合物は、は式
【００３１】
【化３２】

で表わされる互変異性形で存在しうる。
また、式（３）の化合物は式
【００３２】
【化３３】

で表わされる水和物としても存在する。
【００３３】
Ａ工程における式（２）のプロピオニトリルの使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは０．９〜５モルを用いる。
反応に用いるt−ブトキシカリウムの使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モルに対して、通常０．５〜５モル、好ましくは１〜３モルを用いる。
【００３４】
Ａ工程は、反応に不活性な溶媒中で行うことができ、溶媒としてはベンゼン及びトルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及び１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、N，N−ジメチルホルムアミド及びN，N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、 t−ブタノール、ジメチルスルホキシド、スルホラン並びにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、通常−３０℃〜１５０℃、好ましくは０℃から１００℃の範囲で行う。
反応終了後は、反応液を塩酸等で酸性にした後、適当な有機溶媒で抽出することで、目的物を得ることができる。また必要に応じて反応溶媒を減圧留去等で除去後に同様の操作を行い、目的物を得ることもできる。また、この物は、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製法によって精製することができる。
【００３５】
（Ｂ工程）
Ｂ工程における無置換ヒドラジンは、水和物、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような無機塩の形でも使用できる。
無置換ヒドラジンの使用量は、基質１モルに対して通常０．５〜１０モル、好ましくは０．８〜５モルの範囲で使用できる。
反応温度は通常−１０〜２００℃、好ましくは１０〜１５０℃の範囲で行われる。
【００３６】
（Ｃ工程）
Ｃ工程におけるアルキル化剤としては、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化イソプロピル、ヨウ化イソプロピル、
塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル、塩化イソブチル、臭化イソブチル、ヨウ化イソブチル、塩化ｓｅｃ−ブチル、臭化ｓｅｃ−ブチル及びヨウ化ｓｅｃ−ブチル等のハロゲン化アルキル類、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、炭酸ジメチル及びギ酸メチル等のエステル類が挙げられる。
アルキル化剤の使用量は基質１モルに対して、通常、０．５〜２０の範囲、好ましくは０．５〜５モルの範囲が良い。
【００３７】
Ｃ工程における塩基としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、金属ナトリウム、金属カリウム、金属リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム及び酸化カルシウム等の無機塩基並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、t−ブトキシカリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ブチルリチウム及びリチウムジイソプロピルアミド等の有機塩基が挙げられる。
塩基の使用量は基質１モルに対して、通常０．５〜２０モルの範囲が良い。
Ｃ工程における反応温度は、通常−１０〜２００℃の範囲が採用される。
【００３８】
（Ｆ工程）
Ｆ工程における式（６）のアルキルヒドラジンは、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような無機塩の形でも使用できる。
式（６）のアルキルヒドラジンの使用量は、基質１モルに対して通常０．５〜１０モル、好ましくは０．８〜５モルの範囲で使用できる。
反応温度は通常−１０〜２００℃、好ましくは１０〜１５０℃の範囲で行われる。
【００３９】
（Ｂ、Ｃ及びＦ工程）
Ｂ工程、Ｃ工程及びＦ工程における反応は、無溶媒でも可能であるが、溶媒も使用できる。溶媒としては、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン及び１，１，１−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及び３，４−ジクロロトルエン等のハロゲン置換芳香族炭化水素類、アニソール及び１，２−ジメトキシベンゼン等のアルコキシ置換芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、ブタノール及びアミルアルコール等のアルコール類並びにN，N−ジメチルホルムアミド及びアセトニトリル等の非プロトン極性溶媒が挙げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても使用できる。また、場合によっては水との２層系で反応を行うこともできる。
【００４０】
反応終了後は必要に応じて溶媒を減圧留去後、反応混合物中に水を加え、有機溶媒で抽出することで目的物を得ることができる。また、この物は、再結晶及びカラムクロマトグラフィー等の精製法によって精製することができる。
【００４１】
（Ｄ工程）
Ｄ工程は式（４）または式（５）のアミノピラゾール化合物をジアゾニウム塩に誘導するジアゾ化工程、及び生成したジアゾニウム塩を分解して式（７）のピラゾール化合物を得る分解工程からなっている。
【００４２】
【化３４】

〔式中、R2は水素原子またはC₁〜C₄アルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕
ジアゾ化工程で用いられる酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸及びリン酸等の鉱酸並びに酢酸等の有機酸を用いることができるが、鉱酸を用いるのが好ましい。またこれらの混合物を用いてもよい。
【００４３】
ジアゾ化工程の温度は通常−３０〜５０℃、好ましくは−１０℃〜室温の範囲で行われる。
【００４４】
亜硝酸供給源としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム及び亜硝酸カルシウム等の亜硝酸塩、塩化ニトロシル、三二酸化窒素及び一酸化窒素等の無機化合物、亜硝酸アミル、亜硝酸ｔ−ブチル及び亜硝酸メチル等の亜硝酸エステルを用いることができるが、亜硝酸塩を用いるのが好ましい。
【００４５】
亜硝酸供給源の使用量は、基質１モルに対して０．５〜１０モル、好ましくは０．８〜３モルの範囲が良い。
【００４６】
分解工程では塩化銅、酢酸銅、銅粉及び硫酸銅と食塩との混合物等の銅系触媒並びに二酸化イオウをジアゾ分解触媒として用いて分解を行う。ジアゾ分解触媒として塩化銅のようなハロゲン供給源を用いない場合は、塩酸、臭化水素酸及びヨウ化カリウム等のハロゲン供給源を添加するか、ジアゾニウム塩の合成時に塩酸及び臭化水素酸、ＨＢＦ₄等の存在下で行う。
【００４７】
分解工程の温度は通常−３０〜８０℃、ジアゾニウムテトラフルオロボラートの熱分解（Ｓｃｈｉｅｍａｎｎ反応）の場合は室温〜２００℃の範囲で行われる。
【００４８】
（Ｅ工程）
Ｅ工程における酸化方法としては、１）過マンガン酸カリウム、２）活性二酸化マンガン、３）二クロム酸塩、４）酸化クロム（VI）、５）酸化鉛（IV）、６）硝酸酸化及び７）触媒存在下での酸素酸化等が挙げられる。以下にそれぞれについて、詳しく述べる。
【００４９】
１）過マンガン酸カリウムの使用量は、式（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１．０〜５モルの範囲が良い。
反応温度は室温〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１２０℃の範囲が良い。
反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、水が一般的であるが反応に対して安定なものであれば用いることができる。例としてアセトン、酢酸及びピリジンなどが挙げられる。また、それらと水との混合溶媒を用いることもできる。
反応は中性条件以外に、塩酸及び硫酸等の鉱酸並びに酢酸を添加した酸性条件や、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の無機塩基並びにピリジン等の有機塩基を添加した塩基性条件下でも行うことができる。
【００５０】
２）活性二酸化マンガンの使用量は、式（７）のピラゾール１モルに対して、通常１〜３０モル、好ましくは２〜２０モルの範囲が良い。
反応温度は０℃〜１５０℃、好ましくは室温〜１２０℃の範囲が良い。
反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用いることができる。一般的にはヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素及び１，１，１−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及び３，４−ジクロロトルエン等のハロゲン置換芳香族炭化水素類、アニソール及び１，２−ジメトキシベンゼン等のアルコキシ置換芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類及び酢酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類、N，N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド並びに硫酸等が挙げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても使用できる。
【００５１】
３）二クロム酸塩としては、二クロム酸カリウム（Ｋ₂Ｃｒ₂Ｏ₇）と二クロム酸ナトリウム（Ｎａ₂Ｃｒ₂Ｏ₇）が挙げられる。
二クロム酸塩の使用量は、式（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０モル、好ましくは１〜５モルの範囲が良い。
反応温度は０℃〜３００℃の範囲が良い。
反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用いることができる。一般的には、水、硫酸及び酢酸等が用いられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても使用できる。濃硫酸を使用する場合、用いる量は、二クロム酸塩に対して通常１〜１０モル倍、好ましくは１〜６モル倍の範囲が良い。
【００５２】
４）酸化クロム（VI）の使用量は、式（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０モルの範囲が良い。
反応温度は０℃〜１５０℃の範囲が良い。
反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用いることができる。一般的には、水、硫酸、酢酸及び無水酢酸等が用いられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても使用できる。
【００５３】
５）酸化鉛（IV）の使用量は、式（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜２０モルの範囲が良い。
反応温度は０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用いることができる。一般的には、水及び酢酸等の低級脂肪酸が用いられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても使用できる。また、水を溶媒として用いる場合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム等を添加して反応をおこなうこともできる。
【００５４】
６）硝酸酸化では、通常希硝酸あるいは濃硝酸の形で、溶媒も兼ねて反応が行われる。希硝酸あるいは濃硝酸の使用量は、式（７）のピラゾール１重量部に対して、通常１〜３０重量部の範囲が良い。
反応温度は０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は加圧条件下で行うこともできる。圧力の範囲としては、常圧〜５０ＭＰａが良い。
【００５５】
７）触媒存在下での酸素酸化に使用される金属化合物触媒としては、ギ酸コバルト、酢酸コバルト、オクチル酸コバルト及びナフテン酸コバルト等の有機酸コバルト塩、コバルトアセチルアセトナト等のキレート化合物、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルト及び炭酸コバルト等のコバルト塩、ギ酸マンガン、酢酸マンガン、オクチル酸マンガン及びナフテン酸マンガン等の有機酸マンガン塩、マンガンアセチルアセトナト等のキレート化合物、塩化マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン及び炭酸マンガン等のマンガン塩、ギ酸セリウム、酢酸セリウム、オクチル酸セリウム及びナフテン酸セリウム等の有機酸セリウム塩、セリウムアセチルアセトナト等のキレート化合物、塩化セリウム、臭化セリウム、ヨウ化セリウム、炭酸セリウム等のセリウム塩、ギ酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム及びナフテン酸ジルコニウム等の有機酸ジルコニウム塩、ジルコニウムアセチルアセトナト等のキレート化合物並びに塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウム、ヨウ化ジルコニウム及び炭酸ジルコニウム等のジルコニウム塩等が挙げられ、これらの化合物が単独に、または組み合せて触媒として使用されるが、反応性、経済性等を考慮すると、コバルトおよび／またはマンガンの化合物を用いることが好ましい。
【００５６】
またもう一方の触媒成分である臭素化合物としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウム、臭素、臭化水素、四臭化炭素、ブロモホルム、二臭化エチレン、臭化メチル及び臭化エチル等の無機、有機の臭素化合物を用いることができる。汎用性、経済性及び反応性等を考慮すると臭化ナトリウム、臭化カリウム及び臭化アンモニウム等の塩類または臭化水素を用いることが好ましい。また前述の金属成分との塩として、臭化コバルト、臭化マンガン及び臭化セリウム等を用いることも好ましい。
これら金属および臭素の触媒としての使用量は、式（７）のピラゾール化合物に対して、各々０.００１〜２０モル％の範囲で選択するが、特に０.０１〜１０モル％が好ましい。実際にはこの濃度範囲の中で、最適な反応活性が得られるように、各成分の触媒組成を調整することが、経済的にも好ましい。
例えば、ピラゾール化合物に対して、酢酸コバルト０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０１〜１モル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％である触媒組成、酢酸セリウム０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０１〜１モル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％である触媒組成及び臭化コバルト０.５〜５モル％、臭化マンガン０.０１〜１モル％である触媒組成等は、極めて優れた反応の活性と選択性を有している。
【００５７】
また、前記の金属触媒及び臭素化合物を用いない系として、ｔ−ＢｕＯＫ／ＤＭＳＯを使用するものがある。
反応に用いる酸素含有ガスとしては、純酸素ガスでも、純酸素または空気を反応に不活性なガスで希釈した酸素含有ガスのいずれも用いることができる。
反応に不活性な希釈ガスとしては、窒素、アルゴン及び炭酸ガス等が挙げられるが、汎用性から窒素ガスを用いることが好ましく、一般には空気または空気に酸素または窒素を添加して、所望の酸素ガス濃度としたものを用いることが好ましい。
【００５８】
反応中のガス全圧としては、通常常圧〜２０Ｍｐａ、操作性、安全性等を考慮すると常圧〜１０Ｍｐａの範囲から選択することが好ましい。また酸素ガス分圧としては、０.０１〜１０Ｍｐａの範囲で選択するが、一般には常圧〜５Ｍｐａが好ましい。
反応温度は８０〜３００℃、生産性、安全性等を考慮すると、１００〜２５０℃で行なうことが好ましい。
反応は、無溶媒でも可能であるが、操作性、安全性の点から、溶媒を用いて希釈条件下で行なうことが好ましい。
溶媒としては、反応に対して安定であるものであれば、用いることができるが、一般には酢酸、プロピオン酸及び酪酸等の低級脂肪酸類、特に酢酸が好ましい。
【００５９】
なお、上記Ａ〜Ｆの各工程毎に目的物を精製、単離せずに、任意の一連の工程を連続して実施することもできる。
【００６０】
【実施例】
以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６１】
（Ａ工程）
実施例１）
t−ブトキシカリウム８６．７３ｇを乾燥THF５００mlに溶解し、充分に窒素置換した後、５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル５０．０ｇ、プロピオニトリル２１．３０ｇ及び乾燥THF５０ｍｌの混合溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸７０ml及び水５００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液７０４．４３ｇをガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが３７．０５ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率７０％であった。
この抽出液を減圧溶媒留去した後、減圧蒸留を行い、７１．５〜７５．５℃／
２０ｍｍＨｇの留分２５．５５ｇ（ＧＣ分析値９５．４％）及び７６〜８０℃／２０ｍｍＨｇの留分１１．１３ｇ（ＧＣ分析値９０．０％）を得た。
【００６２】
実施例２）
t−ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸メチル４．５１ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥THF５ｍｌの混合溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが３．６７ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸メチルを基準にして収率６９％であった。
【００６３】
実施例３）
t−ブトキシカリウム５．１３ｇを乾燥トルエン１００mlに溶解し、充分に窒素置換した後、５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル５ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥トルエン５ｍｌの混合溶液を１時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した後、反応液に３５％塩酸５ml及び水１００mlを加え酸性にした後、有機層を分離した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが２．５５ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率４８％であった。
【００６４】
実施例４）
t−ブトキシカリウム８．６７ｇをt−ブタノール５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 上記の混合液を５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル５ｇ及びt−ブタノール５ｍｌの混合溶液を１時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に３５％塩酸７ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが３．５７ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率６７％であった。
【００６５】
実施例５）
t−ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、室温でトリフルオロ酢酸エチル５ｇ、プロピオニトリル２．１３ｇ及び乾燥THF５ｍｌの混合溶液を１時間で滴下した。その後、室温で３日間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが３．２７ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率６２％であった。
【００６６】
実施例６）
乾燥THF２５mlにトリフルオロ酢酸クロリド４．７３ｇを室温で吹き込み、溶解させたところに、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 t−ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF３０mlに溶解した中に上記の混合液を、３０℃以下になるように冷却しながら２時間で滴下した。室温で１時間撹拌後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、１N塩酸水溶液７０mlと水３０mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが５．２４ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸クロリドを基準にして収率９７％であった。
【００６７】
実施例７）
t−ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF３０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、室温で無水トリフルオロ酢酸７．３９ｇ、プロピオニトリル２．１３ｇ及び乾燥THF２５ｍｌの混合溶液を２時間で滴下した。室温で１．５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸７ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリルが１．０６ｇ含まれていた。これは無水トリフルオロ酢酸を基準にして収率２０％であった。
【００６８】
（Ｂ工程）
実施例８）
３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリル５．０ｇ（０．０３３１ｍｏｌ）をエタノール５０ｍｌに溶解した中に、ヒドラジン水和物１．９９ｇを加え、加熱還流下で４時間反応させた。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶媒を留去した。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出した黄色結晶をイソプロピルエーテルとn−ヘキサンの混合溶媒で洗浄することにより、目的の５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾールを収率８３％で得た。このものは、融点１２５℃
の結晶で、６０ＭＨｚの¹H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ₃、内部標準物質：ＴＭＳ）を測定したところ、δ１．９８にメチル基、δ４．０〜δ４．５付近にアミノ基のシグナルが観測された。
【００６９】
（Ｃ工程）
実施例９）
５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾール０．５ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶解した中に、t−ブトキシカリウム０．３７ｇを室温で加え、５分間撹拌した。混合溶液中に、ヨウ化メチル０．５２ｇを室温で加えた後、同じ温度で一晩撹拌した。反応液を水に注いだ後、クロロホルムで抽出した。水層からクロロホルムで抽出した後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目的の５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが４９％の収率で得られていた。
【００７０】
実施例１０）
５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラゾール０．５ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶解した中に、６０％水素化ナトリウム０．１３ｇを室温で加え、１５分間撹拌した。混合溶液中に、ジメチル硫酸０．４６ｇを室温で加えた後、同じ温度で一晩撹拌した。反応液を水に注いだ後、クロロホルムで抽出した。水層からクロロホルムで抽出した後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目的の５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが３９％の収率で得られていた。
【００７１】
（Ｆ工程）
実施例１１）
３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリル２０．０ｇ（０．１３２５ｍｏｌ）をエタノール２００ｍｌに溶解した中に、９８％メチルヒドラジン７．７０ｇを加え、加熱還流下で４時間反応させた。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶媒を留去した。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出した結晶をn−ヘキサンで洗浄することにより、目的の５−アミノ−１，４−ジメチルー３−トリフルオロメチルピラゾールを収率８２％で得た。このものは、融点７０．７℃の白色結晶であった。
【００７２】
（Ｄ工程）
実施例１２）
５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール５．０ｇ（０．０２７９ｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液２５mlに溶解した中に、亜硝酸ナトリウム２．５ｇを水５mlに溶解した液を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０分撹拌後、尿素０．３３ｇを加え、過剰の亜硝酸ナトリウムを分解した。その後、スラリー状態のジアゾニウム液を、ＳＯ２ガス０．９ｇを１、２−ジクロルエタン４０mlに溶解した中に１０℃以下で分注した。室温まで徐々に昇温した後、１時間撹拌した。反応液を水で希釈後、１、２−ジクロルエタンで抽出した。水層から１、２−ジクロルエタンで２回抽出し、先の有機層と合わせ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが８５％の収率で得られていた。溶媒を減圧留去した後、減圧蒸留を行った。１０５〜１０６℃／８０ｍｍＨｇの留分が、目的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールであった。６０ＭＨｚの¹H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ₃、内部標準物質：ＴＭＳ）を測定したところ、δ２．１０とδ３．８３にメチル基のシグナルが観測された。
【００７３】
実施例１３）
５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール１．０ｇ（５．５９ｍｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液５mlに溶解した中に、亜硝酸ナトリウム０．５ｇを水３mlに溶解した液を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０分撹拌した。塩化第一銅０．５５ｇを３５％塩酸水溶液３mlと１，２−ジクロルエタン８mlに溶解した中に、先のスラリー状態のジアゾニウム液を３０〜３５℃で分注した。同じ温度で１時間撹拌後、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが５９％の収率で得られていた。
【００７４】
（Ｅ工程）
実施例１４）
内容量１００ｍｌのチタン製オートクレーブに、５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール１.９９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、酢酸コバルト・２水塩６３.９ｍｇ（３.０ｍｏｌ％）、酢酸セリウム・１水塩２５.１ｍｇ（０.７５ｍｏｌ％）、臭化ナトリウム６１.７ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）及び酢酸４０ｍｌを仕込み、空気を２Ｍｐａ圧入し、撹拌しながら昇温して、温度１７５℃に達した時点で純酸素により、全圧を３.５Ｍｐａに調整した。その後、圧力を保つように酸素を供給し、合計６時間反応を行なった。冷却後、反応液を取り出して、高速液体クロマトグラフィーで分析を行なった結果、原料の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化率は９６.７％であり、生成物として５−クロル−１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸が９５.５％の収率で得られていた。
【００７５】
実施例１５）
内容量１００ｍｌのチタン製オートクレーブを用いて、臭化ナトリウム６１.７ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）の代わりに臭化水素酸（４７％）１０３.３ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）を用いた以外は、実施例１４）と全く同様に反応を行なった。高速液体クロマトグラフィーでの分析の結果、原料の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化率は９９.１％であり、生成物として５−クロル−１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸が９７.０％の収率で得られていた。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a novel method for producing a pyrazole compound useful as an intermediate for producing physiologically active substances such as pharmaceuticals and agricultural chemicals, and a novel pyrazole compound.
[0002]
[Prior art and problems]
[0003]
Embedded image

(Wherein R2 is a hydrogen atom or C₁~ C_FourIt is described in WO 97/40009 that a pyrazole compound represented by the formula (I represents an alkyl group and X represents a halogen atom) is useful as an intermediate for producing an insecticidal and acaricidal active compound.
[0004]
As a method for producing 5-chloro-1-methyl-3-trifluoromethyl-4-pyrazolecarboxylic acid, J. Org. Heterocyclic Chem. 27, 243 (1990) describes a method in which a 5-pyrazolone compound is subjected to a Vilsmeier reaction and then oxidized with potassium permanganate. However, when industrial production is considered, the Vilsmeier reaction has many problems such as treatment of wastewater containing phosphoric acid.
[0005]
1-alkyl-5-halo-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazoles have not been known so far, and therefore their synthesis methods are not known.
[0006]
5-Amino-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazole has not been known so far, and therefore its synthesis method is not known.
[0007]
As a method for synthesizing 1-alkyl-5-amino-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazoles, J. et al. Chem. Res. , Synop. 198 (1995) describes a method of reacting 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile with methylhydrazine. However, this method uses expensive methyl hydrazine.
[0008]
As a method for obtaining 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile from a trifluoroacetic acid derivative and propionitrile, for example, (1) J. Org. Chem. Res. , Synop. 476 (1995) describes a method of reacting ethyl trifluoroacetate and propionitrile in the presence of sodium hydride. (2) JP-A-62-296479 and JP-A-63-264448 disclose a method of reacting trifluoroacetic acid. A process is described in which methyl and propionitrile are reacted in the presence of lithium diisopropylamide. However, in consideration of industrial production, the use of sodium hydride or lithium diisopropylamide has many problems from the economical and safety aspects, and other industrial production methods are required.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.
[0010]
That is, the present invention relates to the following production methods described in [1] to [5] and novel compounds described in [6] and [7].
[1] Using t-butoxypotassium as a base, formula (1):
CF_ThreeCoy
[Wherein Y is a halogen atom, OCOCF_ThreeOr OR (R is C₁~ C_FourRepresents an alkyl group. ). ]
A trifluoroacetic acid derivative represented by formula (2):
CH_ThreeCH₂CN
Wherein propionitrile represented by formula (3) is reacted:
[0011]
Embedded image

(Hereinafter referred to as step A).
[2] Formula (3):
[0012]
Embedded image

Wherein the compound represented by formula (4) is reacted with hydrazine:
[0013]
Embedded image

The manufacturing method of the pyrazole compound represented by these (henceforth B process).
[3] Formula (4):
[0014]
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Wherein the pyrazole compound represented by the formula (5) is alkylated by reacting with an alkylating agent in the presence of a base:
[0015]
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(Where R1 is C₁~ C_FourRepresents an alkyl group. ] The manufacturing method of the pyrazole compound represented by this (henceforth C process).
[4] Formula (4):
[0016]
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Or formula (5):
[0017]
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(Where R1 is C₁~ C_FourRepresents an alkyl group. In the presence of a mineral or organic acid, the pyrazole compound is converted to a diazonium salt using a nitrous acid source, and then in the presence of a catalytic halogen source or in the presence of a catalyst and a halogen source. Formula (7) characterized by diazo decomposition:
[0018]
Embedded image

(Wherein R2 is a hydrogen atom or C₁~ C_FourRepresents an alkyl group, and X represents a halogen atom. ] The manufacturing method of the pyrazole compound represented by this (Hereinafter, it is called the D process. Moreover, R2 is C.₁~ C_FourIn the case of an alkyl group, it is referred to as step D1, and when R2 is a hydrogen atom, it is referred to as step D2. ).
[5] Formula (7):
[0019]
Embedded image

(In the formula, R2 hydrogen atom or C₁~ C_FourRepresents an alkyl group, and X represents a halogen atom. And a pyrazole compound represented by formula (8):
[0020]
Embedded image

(Wherein R2 is a hydrogen atom or C₁~ C_FourRepresents an alkyl group, and X represents a halogen atom. ] The manufacturing method of the pyrazole compound represented by this (it is hereafter called E process).
[6] Formula (4):
[0021]
Embedded image

A pyrazole compound represented by:
[7] Formula (7):
[0022]
Embedded image

(Wherein R2 is a hydrogen atom or C₁~ C_FourRepresents an alkyl group, and X represents a halogen atom. ] The pyrazole compound represented by this.
[0023]
Formula (3):
[0024]
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And a compound represented by formula (6):
R1-NHNH₂
(Where R1 is C₁~ C_FourRepresents an alkyl group. By reacting an alkylhydrazine represented by the formula (5):
[0025]
Embedded image

(Where R1 is C₁~ C_FourRepresents an alkyl group. Hereinafter, the method for producing the pyrazole compound is referred to as F step.
[0026]
The relationship between each process is the formula
[0027]
Embedded image

Can be expressed as
[0028]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In this invention, you may implement the said A process-F process in multiple numbers continuously, for example, A process-> B process (it means implementing B process after implementing A process. Hereinafter, similarly. B) → C process, A process → B process → C process, A process → F process, C process → D1 process, B process → C process → D1 process, A process → B process → C process → D1 process, F process → D1 process, A process → F process → D1 process, B process → D2 process, A process → B process → D2 process, D process → E process, C process → D1 process → E process, B process → C process → D1 process → E process, A process → B process → C process → D1 process → E process, F process → D1 process → E process, A process → F process → D1 process → E process, B process → D2 Process → E process and A process → B process → D2 process → E process.
[0029]
Examples of R, R1, R2, X, and Y in formulas (1), (5), (6), (7), and (8) will be described.
C in the definition of R, R1 and R2.₁~ C_FourExamples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.
Examples of the halogen atom in the definition of X and Y include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
[0030]
(Process A)
The compound of formula (3) in step A is represented by the formula
[0031]
Embedded image

It may exist in the tautomeric form represented by
In addition, the compound of formula (3) has the formula
[0032]
Embedded image

It also exists as a hydrate represented by:
[0033]
The amount of propionitrile of formula (2) used in step A is usually 0.5 to 10 mol, preferably 0.9 to 5 mol, per 1 mol of the trifluoroacetic acid derivative of formula (1).
The amount of t-butoxy potassium used for the reaction is usually 0.5 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of the trifluoroacetic acid derivative of the formula (1).
[0034]
Step A can be performed in a solvent inert to the reaction. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, and 1 And ethers such as 2-diethoxyethane, amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, t-butanol, dimethyl sulfoxide, sulfolane, and mixed solvents thereof.
The reaction temperature is generally −30 ° C. to 150 ° C., preferably 0 ° C. to 100 ° C.
After completion of the reaction, the target product can be obtained by acidifying the reaction solution with hydrochloric acid or the like and then extracting with a suitable organic solvent. If necessary, the target solvent can be obtained by removing the reaction solvent by distillation under reduced pressure or the like and performing the same operation. Moreover, this thing can be refine | purified by purification methods, such as distillation and column chromatography.
[0035]
(Process B)
The unsubstituted hydrazine in Step B can be used in the form of hydrates, aqueous solutions, and inorganic salts such as hydrochlorides and sulfates.
The amount of unsubstituted hydrazine to be used is generally 0.5 to 10 mol, preferably 0.8 to 5 mol, per 1 mol of the substrate.
The reaction temperature is generally −10 to 200 ° C., preferably 10 to 150 ° C.
[0036]
(Process C)
As the alkylating agent in Step C, methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide, ethyl chloride, ethyl bromide, ethyl iodide, propyl chloride, propyl bromide, propyl iodide, isopropyl chloride, isopropyl bromide, iodine Isopropyl chloride,
Alkyl halides such as butyl chloride, butyl bromide, butyl iodide, isobutyl chloride, isobutyl bromide, isobutyl iodide, sec-butyl chloride, sec-butyl bromide and sec-butyl iodide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate And esters such as dimethyl carbonate and methyl formate.
The amount of the alkylating agent used is usually in the range of 0.5 to 20, preferably 0.5 to 5 mol per mol of the substrate.
[0037]
As the base in Step C, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, metallic sodium, metallic potassium, metallic lithium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide , Sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, barium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, and other inorganic bases, and sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, t-butoxy potassium, trimethylamine , Organic bases such as triethylamine, pyridine, butyllithium and lithium diisopropylamide.
The amount of base used is usually in the range of 0.5 to 20 moles per mole of substrate.
A range of −10 to 200 ° C. is usually employed as the reaction temperature in the step C.
[0038]
(F process)
The alkyl hydrazine of the formula (6) in the F step can be used in the form of an aqueous solution and an inorganic salt such as hydrochloride or sulfate.
The amount of the alkylhydrazine of the formula (6) to be used is usually 0.5 to 10 mol, preferably 0.8 to 5 mol, per 1 mol of the substrate.
The reaction temperature is generally −10 to 200 ° C., preferably 10 to 150 ° C.
[0039]
(B, C and F processes)
The reaction in the B step, the C step and the F step can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. Solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and 1,1,1-trichloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. And halogen-substituted aromatic hydrocarbons such as 3,4-dichlorotoluene, alkoxy-substituted aromatic hydrocarbons such as anisole and 1,2-dimethoxybenzene, diethyl ether, dipropyl ether, methyl tertiary butyl ether, ethylene glycol di Ethers such as butyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, alcohols such as methanol, ethanol, butanol and amyl alcohol, and N, N-dimethylformamide and acetonitrile Protonic polar solvents. Two or more of the above solvents can be mixed or dispersed. In some cases, the reaction can be carried out in a two-layer system with water.
[0040]
After completion of the reaction, the target product can be obtained by distilling off the solvent under reduced pressure as necessary, adding water to the reaction mixture, and extracting with an organic solvent. Moreover, this thing can be refine | purified by purification methods, such as recrystallization and column chromatography.
[0041]
(D process)
Step D comprises a diazotization step for deriving the aminopyrazole compound of formula (4) or formula (5) to a diazonium salt, and a decomposition step for decomposing the formed diazonium salt to obtain a pyrazole compound of formula (7). .
[0042]
Embedded image

(Wherein R2 is a hydrogen atom or C₁~ C_FourRepresents an alkyl group, and X represents a halogen atom. ]
Examples of the acid used in the diazotization step include mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, but it is preferable to use mineral acids. A mixture of these may also be used.
[0043]
The temperature of the diazotization step is usually −30 to 50 ° C., preferably −10 ° C. to room temperature.
[0044]
Sources of nitrite include nitrites such as sodium nitrite, potassium nitrite and calcium nitrite, inorganic compounds such as nitrosyl chloride, nitrogen trioxide and nitric oxide, amyl nitrite, t-butyl nitrite and methyl nitrite Nitrite esters such as nitrite can be used, but nitrite is preferably used.
[0045]
The amount of the nitrous acid source used is 0.5 to 10 mol, preferably 0.8 to 3 mol, relative to 1 mol of the substrate.
[0046]
In the decomposition step, the decomposition is carried out using copper-based catalyst such as copper chloride, copper acetate, copper powder and a mixture of copper sulfate and sodium chloride and sulfur dioxide as a diazo decomposition catalyst. When a halogen source such as copper chloride is not used as a diazo decomposition catalyst, a halogen source such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and potassium iodide is added, or hydrochloric acid and hydrobromic acid are used during the synthesis of the diazonium salt. HBF_FourEtc. in the presence of
[0047]
The temperature of the decomposition step is usually from -30 to 80 ° C, and in the case of thermal decomposition of the diazonium tetrafluoroborate (Schiemann reaction), it is performed in the range of room temperature to 200 ° C.
[0048]
(E process)
As oxidation methods in the E step, 1) potassium permanganate, 2) activated manganese dioxide, 3) dichromate, 4) chromium oxide (VI), 5) lead oxide (IV), 6) nitric acid oxidation and 7 ) Oxygen oxidation in the presence of a catalyst. Each is described in detail below.
[0049]
1) The usage-amount of potassium permanganate is 0.5-10 mol normally with respect to 1 mol of pyrazole of Formula (7), Preferably the range of 1.0-5 mol is good.
The reaction temperature is in the range of room temperature to 150 ° C, preferably 50 ° C to 120 ° C.
The reaction can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. As the solvent, water is generally used, but any solvent that is stable to the reaction can be used. Examples include acetone, acetic acid and pyridine. Moreover, the mixed solvent of them and water can also be used.
In addition to neutral conditions, the reaction is also performed under acidic conditions with addition of mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid and acetic acid, and basic conditions with addition of inorganic bases such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and organic bases such as pyridine. be able to.
[0050]
2) The amount of active manganese dioxide used is usually in the range of 1 to 30 mol, preferably 2 to 20 mol, per 1 mol of pyrazole of formula (7).
The reaction temperature is from 0 ° C to 150 ° C, preferably from room temperature to 120 ° C.
The reaction can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. Any solvent that is stable to the reaction can be used. Generally, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride and 1,1,1-trichloroethane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene , Halogen-substituted aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and 3,4-dichlorotoluene, alkoxy-substituted aromatic hydrocarbons such as anisole and 1,2-dimethoxybenzene, diethyl ether, dipropyl ether, methyl tar Libutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, N, N-di Chill formamide, dimethyl sulfoxide and the like sulfate. Two or more of the above solvents can be mixed or dispersed.
[0051]
3) As dichromate, potassium dichromate (K₂Cr₂O₇) And sodium dichromate (Na₂Cr₂O₇).
The amount of dichromate used is usually in the range of 0.8 to 10 mol, preferably 1 to 5 mol, per 1 mol of pyrazole of formula (7).
The reaction temperature is preferably in the range of 0 ° C to 300 ° C.
The reaction can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. Any solvent that is stable to the reaction can be used. In general, water, sulfuric acid, acetic acid and the like are used. Two or more of the above solvents can be mixed or dispersed. When using concentrated sulfuric acid, the amount used is usually 1 to 10 moles, preferably 1 to 6 moles, relative to the dichromate.
[0052]
4) The amount of chromium oxide (VI) used is usually in the range of 0.8 to 10 moles per mole of pyrazole of formula (7).
The reaction temperature is preferably in the range of 0 ° C to 150 ° C.
The reaction can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. Any solvent that is stable to the reaction can be used. In general, water, sulfuric acid, acetic acid, acetic anhydride and the like are used. Two or more of the above solvents can be mixed or dispersed.
[0053]
5) The amount of lead (IV) used is usually in the range of 0.8 to 20 moles per mole of pyrazole of formula (7).
The reaction temperature is preferably in the range of 0 ° C to 300 ° C. The reaction can be performed without a solvent, but a solvent can also be used. Any solvent that is stable to the reaction can be used. Generally, lower fatty acids such as water and acetic acid are used. Two or more of the above solvents can be mixed or dispersed. When water is used as a solvent, the reaction can be carried out by adding sodium hydroxide or potassium hydroxide.
[0054]
6) In nitric acid oxidation, the reaction is usually carried out in the form of dilute nitric acid or concentrated nitric acid and also serves as a solvent. The amount of dilute nitric acid or concentrated nitric acid used is usually in the range of 1 to 30 parts by weight per 1 part by weight of the pyrazole of formula (7).
The reaction temperature is preferably in the range of 0 ° C to 300 ° C. The reaction can also be performed under pressurized conditions. The pressure range is preferably normal pressure to 50 MPa.
[0055]
7) The metal compound catalyst used for oxygen oxidation in the presence of a catalyst includes organic acid cobalt salts such as cobalt formate, cobalt acetate, cobalt octylate and cobalt naphthenate, chelate compounds such as cobalt acetylacetonate, and cobalt chloride. , Cobalt salts such as cobalt bromide, cobalt iodide and cobalt carbonate, manganese acid formate, manganese acetate, manganese octylate and manganese naphthenate, chelate compounds such as manganese acetylacetonate, manganese chloride, bromide Manganese salts such as manganese, manganese iodide and manganese carbonate, organic acid cerium salts such as cerium formate, cerium acetate, cerium octylate and cerium naphthenate, chelate compounds such as cerium acetylacetonate, cerium chloride, cerium bromide, iodine Cerium carbonate, carbonate Cerium salts such as zirconium, organic acid zirconium salts such as zirconium formate, zirconium acetate, zirconium octylate and zirconium naphthenate, chelate compounds such as zirconium acetylacetonate and zirconium chloride, zirconium bromide, zirconium iodide and zirconium carbonate Zirconium salts and the like can be mentioned, and these compounds are used alone or in combination as a catalyst. In consideration of reactivity, economy, etc., it is preferable to use a cobalt and / or manganese compound.
[0056]
Other bromine compounds as catalyst components include lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, ammonium bromide, bromine, hydrogen bromide, carbon tetrabromide, bromoform, ethylene dibromide, methyl bromide. Inorganic and organic bromine compounds such as ethyl bromide can also be used. Considering versatility, economy and reactivity, it is preferable to use salts such as sodium bromide, potassium bromide and ammonium bromide or hydrogen bromide. Further, it is also preferable to use cobalt bromide, manganese bromide, cerium bromide or the like as a salt with the above-described metal component.
The amount of these metals and bromine used as a catalyst is selected in the range of 0.001 to 20 mol%, particularly preferably 0.01 to 10 mol%, based on the pyrazole compound of the formula (7). Actually, it is economically preferable to adjust the catalyst composition of each component so that the optimum reaction activity can be obtained within this concentration range.
For example, the catalyst composition is 0.5 to 5 mol% cobalt acetate, 0.01 to 1 mol% manganese acetate, and 0.5 to 10 mol% sodium bromide with respect to the pyrazole compound, cerium acetate 0.5 to 5 The catalyst composition is mol%, manganese acetate 0.01-1 mol%, sodium bromide 0.5-10 mol% and cobalt bromide 0.5-5 mol%, manganese bromide 0.01-1 mol% Certain catalyst compositions have very good reaction activity and selectivity.
[0057]
In addition, there is a system using t-BuOK / DMSO as a system not using the metal catalyst and the bromine compound.
As the oxygen-containing gas used for the reaction, either pure oxygen gas or pure oxygen or an oxygen-containing gas obtained by diluting air with a gas inert to the reaction can be used.
Examples of the inert gas inert to the reaction include nitrogen, argon, carbon dioxide, etc., but it is preferable to use nitrogen gas because of its versatility. It is preferable to use a gas concentration.
[0058]
The total gas pressure during the reaction is preferably selected from the range of normal pressure to 20 Mpa, normal pressure to 10 Mpa in consideration of operability, safety and the like. The oxygen gas partial pressure is selected in the range of 0.01 to 10 Mpa, but generally normal pressure to 5 Mpa is preferable.
The reaction temperature is preferably 80 to 300 ° C., and considering the productivity, safety, etc., the reaction temperature is preferably 100 to 250 ° C.
The reaction can be performed without a solvent, but it is preferable to carry out the reaction under a diluting condition using a solvent from the viewpoint of operability and safety.
Any solvent can be used as long as it is stable to the reaction, but generally lower fatty acids such as acetic acid, propionic acid and butyric acid, and particularly acetic acid is preferred.
[0059]
In addition, a series of arbitrary processes can also be implemented continuously, without refine | purifying and isolating a target object for each process of said A-F.
[0060]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
[0061]
(Process A)
Example 1)
86.73 g of potassium t-butoxy was dissolved in 500 ml of dry THF, thoroughly purged with nitrogen, and heated to 50 ° C., and then mixed with 50.0 g of ethyl trifluoroacetate, 21.30 g of propionitrile and 50 ml of dry THF. It was dripped in 1.5 hours. After further stirring for 5 hours while maintaining the same temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. After the solvent was distilled off, the reaction solution was acidified by adding 70 ml of 35% hydrochloric acid and 500 ml of water, and then extracted with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, 704.43 g of the extract was analyzed by gas chromatography. As a result, 37.05 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile was contained. This was a yield of 70% based on ethyl trifluoroacetate.
After this solvent was distilled off under reduced pressure, distillation under reduced pressure was performed to obtain 71.5-75.5 ° C /
There were obtained 25.55 g of a 20 mmHg fraction (GC analysis value 95.4%) and 11.13 g of a 76-80 ° C./20 mmHg fraction (GC analysis value 90.0%).
[0062]
Example 2)
Dissolve 8.67 g of potassium t-butoxy in 50 ml of dry THF, thoroughly purge with nitrogen, and then heat to 50 ° C. to mix a mixed solution of 4.51 g of methyl trifluoroacetate, 4.26 g of propionitrile and 5 ml of dry THF. It was dripped in 1.5 hours. After further stirring for 5 hours while maintaining the same temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. The reaction mixture after evaporation of the solvent was acidified by adding 5 ml of 35% hydrochloric acid and 100 ml of water, and then extracted with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography and found to contain 3.67 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile. This was a yield of 69% based on methyl trifluoroacetate.
[0063]
Example 3)
Dissolve 5.13 g of t-butoxypotassium in 100 ml of dry toluene, thoroughly purge with nitrogen, and then heat to 50 ° C. It was dripped in 1 hour. After further stirring for 5 hours while maintaining the same temperature, the reaction solution was acidified by adding 5 ml of 35% hydrochloric acid and 100 ml of water, and then the organic layer was separated. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography. As a result, 2.55 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile was contained. This was a yield of 48% based on ethyl trifluoroacetate.
[0064]
Example 4)
8.67 g of t-butoxypotassium was dissolved in 50 ml of t-butanol and thoroughly purged with nitrogen, and then 2.13 g of propionitrile was added. While the above mixture was heated to 50 ° C., a mixed solution of 5 g of ethyl trifluoroacetate and 5 ml of t-butanol was added dropwise over 1 hour. After further stirring for 5 hours while maintaining the same temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. The reaction mixture after evaporation of the solvent was acidified by adding 7 ml of 35% hydrochloric acid and 100 ml of water, and then extracted with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography and found to contain 3.57 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile. This was a 67% yield based on ethyl trifluoroacetate.
[0065]
Example 5)
8.67 g of t-butoxypotassium was dissolved in 50 ml of dry THF and thoroughly purged with nitrogen, and then a mixed solution of 5 g of ethyl trifluoroacetate, 2.13 g of propionitrile and 5 ml of dry THF was added dropwise at room temperature over 1 hour. Then, after stirring at room temperature for 3 days, the solvent was distilled off under reduced pressure. The reaction mixture after evaporation of the solvent was acidified by adding 5 ml of 35% hydrochloric acid and 100 ml of water, and then extracted with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography and found to contain 3.27 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile. This was a yield of 62% based on ethyl trifluoroacetate.
[0066]
Example 6)
To the 25 ml of dry THF, 4.73 g of trifluoroacetic acid chloride was blown at room temperature and dissolved, and 2.13 g of propionitrile was added. To a solution of 8.67 g of potassium t-butoxy in 30 ml of dry THF, the above mixture was added dropwise over 2 hours while cooling to 30 ° C. or lower. After stirring at room temperature for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure. The reaction mixture after evaporation of the solvent was acidified by adding 70 ml of 1N aqueous hydrochloric acid and 30 ml of water, followed by extraction with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography and found to contain 5.24 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile. This was a 97% yield based on trifluoroacetic acid chloride.
[0067]
Example 7)
8.67 g of t-butoxy potassium was dissolved in 30 ml of dry THF and thoroughly purged with nitrogen, and then a mixed solution of 7.39 g of trifluoroacetic anhydride, 2.13 g of propionitrile and 25 ml of dry THF was added dropwise at room temperature over 2 hours. After stirring at room temperature for 1.5 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure. The reaction mixture after evaporation of the solvent was acidified by adding 7 ml of 35% hydrochloric acid and 100 ml of water, followed by extraction with ethyl acetate. After extracting twice from the aqueous layer with ethyl acetate, the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by gas chromatography. As a result, 1.06 g of the desired 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile was contained. This was a yield of 20% based on trifluoroacetic anhydride.
[0068]
(Process B)
Example 8)
To a solution of 5.0 g (0.0331 mol) of 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile in 50 ml of ethanol was added 1.99 g of hydrazine hydrate. Reacted for hours. After returning to room temperature, water was added and the solvent was distilled off under reduced pressure. After extraction with ethyl acetate, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the precipitated yellow crystals were washed with a mixed solvent of isopropyl ether and n-hexane to obtain the desired 5-amino-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazole. Was obtained in a yield of 83%. This one has a melting point of 125 ° C
Of 60MHz¹H-NMR (measurement solvent: CDCl_Three, Internal standard substance: TMS), a methyl group signal was observed at δ1.98 and an amino group signal was observed at around δ4.0 to δ4.5.
[0069]
(Process C)
Example 9)
To a solution of 0.5 g (3.03 mmol) of 5-amino-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazole in 5 ml of THF, 0.37 g of potassium t-butoxy was added at room temperature and stirred for 5 minutes. In the mixed solution, 0.52 g of methyl iodide was added at room temperature, followed by stirring at the same temperature overnight. The reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. After extraction from the aqueous layer with chloroform, the organic layer was washed with water together with the previous organic layer. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, the desired 5-amino-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was obtained in a yield of 49%.
[0070]
Example 10)
To a solution of 0.5 g (3.03 mmol) of 5-amino-3-trifluoromethyl-4-methylpyrazole in 5 ml of THF, 0.13 g of 60% sodium hydride was added at room temperature and stirred for 15 minutes. To the mixed solution, 0.46 g of dimethyl sulfate was added at room temperature, and the mixture was stirred overnight at the same temperature. The reaction solution was poured into water and extracted with chloroform. After extraction from the aqueous layer with chloroform, the combined organic layer was washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by high performance liquid chromatography. The target 5-amino-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was obtained in a yield of 39%.
[0071]
(F process)
Example 11)
To a solution of 20.0 g (0.1325 mol) of 3-oxo-4,4,4-trifluoro-2-methylbutanenitrile in 200 ml of ethanol, 7.70 g of 98% methyl hydrazine was added and heated under reflux. Reacted for hours. After returning to room temperature, water was added and the solvent was distilled off under reduced pressure. After extraction with ethyl acetate, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was combined and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the precipitated crystals were washed with n-hexane to obtain the desired 5-amino-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole in a yield of 82%. Obtained. This was a white crystal having a melting point of 70.7 ° C.
[0072]
(D process)
Example 12)
A solution prepared by dissolving 2.5 g of sodium nitrite in 5 ml of water while dissolving 5.0 g (0.0279 mol) of 5-amino-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole in 25 ml of 35% aqueous hydrochloric acid. It was dripped at 10 ° C. or lower. After stirring for 30 minutes at the same temperature, 0.33 g of urea was added to decompose excess sodium nitrite. Thereafter, the diazonium liquid in a slurry state was dispensed at 10 ° C. or less while 0.9 g of SO 2 gas was dissolved in 40 ml of 1,2-dichloroethane. The mixture was gradually warmed to room temperature and stirred for 1 hour. The reaction solution was diluted with water and extracted with 1,2-dichloroethane. The aqueous layer was extracted twice with 1,2-dichloroethane, combined with the previous organic layer, and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by high performance liquid chromatography. The target 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was obtained in a yield of 85%. After the solvent was distilled off under reduced pressure, vacuum distillation was performed. The fraction of 105-106 ° C./80 mmHg was the desired 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole. 60MHz¹H-NMR (measurement solvent: CDCl_Three, Internal standard substance: TMS), methyl group signals were observed at δ2.10 and δ3.83.
[0073]
Example 13)
A solution in which 0.5 g of sodium nitrite was dissolved in 3 ml of water while 1.0 g (5.59 mmol) of 5-amino-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was dissolved in 5 ml of 35% hydrochloric acid aqueous solution. It was dripped at 10 ° C. or lower. Stir at the same temperature for 30 minutes. The diazonium liquid in the slurry state was dispensed at 30 to 35 ° C. in 0.55 g of cuprous chloride dissolved in 3 ml of 35% hydrochloric acid aqueous solution and 8 ml of 1,2-dichloroethane. The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour, diluted with water, and extracted with ethyl acetate. The aqueous layer was extracted with ethyl acetate, combined with the previous organic layer, and washed with water. After drying over anhydrous sodium sulfate, the extract was analyzed by high performance liquid chromatography. The target 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was obtained in a yield of 59%.
[0074]
(E process)
Example 14)
In a titanium autoclave with an internal volume of 100 ml, 1.99 g (10 mmol) of 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole, 63.9 mg (3.0 mol%) of cobalt acetate dihydrate, cerium acetate・ 25.1 mg (0.75 mol%) of monohydrate, 61.7 mg (6.0 mol%) of sodium bromide and 40 ml of acetic acid were charged, air was injected under a pressure of 2 Mpa, and the temperature was raised while stirring to reach a temperature of 175 ° C. When reached, the total pressure was adjusted to 3.5 Mpa with pure oxygen. Thereafter, oxygen was supplied so as to maintain the pressure, and the reaction was performed for a total of 6 hours. After cooling, the reaction solution was taken out and analyzed by high performance liquid chromatography. As a result, the conversion rate of the raw material 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was 96.7%, As a product, 5-chloro-1-methyl-3-trifluoromethyl-4-pyrazolecarboxylic acid was obtained in a yield of 95.5%.
[0075]
Example 15)
Using a titanium autoclave with an internal volume of 100 ml, except that hydrobromic acid (47%) 103.3 mg (6.0 mol%) was used instead of sodium bromide 61.7 mg (6.0 mol%). The reaction was carried out exactly as in Example 14). As a result of analysis by high performance liquid chromatography, the conversion rate of the raw material 5-chloro-1,4-dimethyl-3-trifluoromethylpyrazole was 99.1%, and 5-chloro-1-methyl- 3-Trifluoromethyl-4-pyrazolecarboxylic acid was obtained in a yield of 97.0%.

Claims (1)

Using t-butoxypotassium as base, formula (1):
CF ₃ COY
[Wherein Y represents a halogen atom, OCOCF ₃ or OR (R represents a C ₁ -C ₄ alkyl group). ]
A trifluoroacetic acid derivative represented by formula (2):
CH ₃ CH ₂ CN
Wherein propionitrile represented by the formula (3) is reacted:

The manufacturing method of the compound represented by these.