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JP4276231B2 - Varistor element - Google Patents
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Description

本発明は、バリスタ素子に関する。   The present invention relates to a varistor element.

この種のバリスタ素子として、電圧非直線特性を発現するバリスタ層と、当該バリスタ層を挟むように配置される一対の内部電極とを有するバリスタ素体と、当該バリスタ素体の両端部分にそれぞれ位置し且つ複数の内部電極のうち対応する内部電極にそれぞれ接続される一対の端子電極と、を備えるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−246207号公報
As this type of varistor element, a varistor element having a varistor layer that exhibits voltage nonlinear characteristics and a pair of internal electrodes arranged so as to sandwich the varistor layer, and positioned at both ends of the varistor element, respectively. In addition, a device including a pair of terminal electrodes each connected to a corresponding internal electrode among a plurality of internal electrodes is known (see, for example, Patent Document 1).
JP 2002-246207 A

近年、DSC(Digital Still Camera)、DVC(Digital Video Camera)、PDA(Personal DigitalAssistant)、ノートパソコンあるいは携帯電話等の電子機器の小型化に伴い、バリスタ素子を始めとする電子素子の高密度実装に対する要求が厳しくなっている。この高密度実装に対する要求を満足するために、電子素子のパッケージをボールグリッドアレイパッケージ(以下、単にBGAパッケージという)とすることが考えられている。BGAパッケージには、その裏面にはんだバンプが格子状に多数並設されている。BGAパッケージは、各はんだバンプを実装基板の対応するパッドに重ねた状態でリフローすることにより実装基板に実装される。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices such as DSC (Digital Still Camera), DVC (Digital Video Camera), PDA (Personal Digital Assistant), notebook personal computer or mobile phone, etc., for high-density mounting of electronic devices such as varistor devices. The demand is getting stricter. In order to satisfy this requirement for high-density mounting, it is considered that the electronic element package is a ball grid array package (hereinafter simply referred to as a BGA package). The BGA package has a large number of solder bumps arranged in parallel on the back surface thereof. The BGA package is mounted on the mounting substrate by reflowing each solder bump in a state of being superimposed on the corresponding pad of the mounting substrate.

ところで、バリスタ素子がBGAパッケージに対応させた構成とされた場合、はんだバンプや端子電極が実装基板に対向する裏面側に位置するため、バリスタ素子の実装方向が識別し難くなる。バリスタ素子は、その実装方向が誤った状態で実装された場合には、正常に機能しなくなってしまう。   By the way, when the varistor element is configured to correspond to the BGA package, the solder bumps and terminal electrodes are located on the back side facing the mounting substrate, so that it is difficult to identify the mounting direction of the varistor element. If the varistor element is mounted in the wrong mounting direction, it will not function normally.

本発明は、BGAパッケージに対応させた構成とする場合でも、適切且つ容易に実装することが可能なバリスタ素子を提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a varistor element that can be mounted appropriately and easily even when configured to correspond to a BGA package.

本発明に係るバリスタ素子は、互いに対向する第1及び第2の主面を有するバリスタ素体と、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体内に配された第1及び第2の内部電極を有する複数の内部電極対と、複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対の第1の内部電極同士を電気的に接続するように第1の主面に形成された接続導体と、複数の内部電極対の各第2の内部電極に対応して設けられ、該第2の内部電極に電気的に接続されるように第2の主面に形成された複数の端子電極と、を備える。   The varistor element according to the present invention includes a varistor element body having first and second main surfaces facing each other, and first and second varistor elements disposed in the varistor element body so that at least some of the varistor elements face each other. A plurality of internal electrode pairs having internal electrodes and a connection conductor formed on the first main surface so as to electrically connect the first internal electrodes of a predetermined internal electrode pair among the plurality of internal electrode pairs And a plurality of terminal electrodes provided corresponding to each second internal electrode of the plurality of internal electrode pairs and formed on the second main surface so as to be electrically connected to the second internal electrode; .

本発明に係るバリスタ素子では、複数の端子電極が第2の主面に形成されているので、該第2の主面を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態でバリスタ素子を実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。接続導体が複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対の第1の内部電極同士を電気的に接続するように第1の主面に形成されているので、接続導体に対応する位置にバリスタとして機能する領域が存在することとなる。したがって、接続導体がバリスタ素子の実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、バリスタ素子を適切且つ容易に実装することができる。また、本発明によれば、バリスタ素子の実装方向を識別するためのマークを新たに設ける必要がなく、バリスタ素子の製造コストが嵩むことはない。   In the varistor element according to the present invention, the plurality of terminal electrodes are formed on the second main surface, so that the second main surface faces the mounting component (for example, an electronic component or a mounting substrate). A varistor element can be mounted, and a configuration corresponding to the BGA package is realized. Since the connection conductor is formed on the first main surface so as to electrically connect the first internal electrodes of the predetermined internal electrode pair among the plurality of internal electrode pairs, the connection conductor is formed at a position corresponding to the connection conductor. There will be a region that functions as a varistor. Therefore, the connection conductor functions as a mark for identifying the mounting direction of the varistor element, and the varistor element can be mounted appropriately and easily. Furthermore, according to the present invention, it is not necessary to newly provide a mark for identifying the mounting direction of the varistor element, and the manufacturing cost of the varistor element does not increase.

好ましくは、バリスタ素体が、第1及び第2の主面に垂直な方向から見て、正方形状である。この場合、バリスタ素体の形状に基づいて該バリスタ素子の実装方向を識別することは困難であるので、特に効果的である。   Preferably, the varistor element body has a square shape when viewed from a direction perpendicular to the first and second main surfaces. In this case, since it is difficult to identify the mounting direction of the varistor element based on the shape of the varistor element body, it is particularly effective.

好ましくは、複数の端子電極が、n行n列(nは、2以上の偶数である)に2次元配列されている。   Preferably, the plurality of terminal electrodes are two-dimensionally arranged in n rows and n columns (n is an even number of 2 or more).

好ましくは、第1の内部電極が第1の主面に引き出され、該第1の主面に引き出される部分が接続導体に物理的且つ電気的に接続され、第2の内部電極が第2の主面に引き出され、該第2の主面に引き出される部分が端子電極に物理的且つ電気的に接続されている。   Preferably, the first internal electrode is drawn out to the first main surface, the portion drawn out to the first main surface is physically and electrically connected to the connection conductor, and the second internal electrode is connected to the second main electrode. A portion drawn out to the main surface and drawn out to the second main surface is physically and electrically connected to the terminal electrode.

好ましくは、バリスタ素体には、第1の内部電極が形成されたバリスタ層と第2の内部電極が形成されたバリスタ層とが積層されており、第1及び第2の主面が、バリスタ層の積層方向に平行な方向で且つ第1及び第2の内部電極に垂直な方向に伸びている。   Preferably, the varistor element body is formed by laminating a varistor layer in which the first internal electrode is formed and a varistor layer in which the second internal electrode is formed. The layer extends in a direction parallel to the stacking direction of the layers and perpendicular to the first and second internal electrodes.

本発明に係るバリスタ素子によれば、BGAパッケージとされた場合でも、適切且つ容易に実装することができる。   The varistor element according to the present invention can be mounted appropriately and easily even in the case of a BGA package.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。本実施形態は、本発明を積層型チップバリスタに適用したものである。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted. In the present embodiment, the present invention is applied to a multilayer chip varistor.

図1〜図5を参照して、本実施形態に係る積層型チップバリスタ1の構成を説明する。図1及び図2は、本実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。図3は、図1のIII−III線に沿った断面構成を説明する図である。図4は、図3のIV−IV線に沿った断面構成を説明する図である。図5は、図4のV−V線に沿った断面構成を説明する図である。   The configuration of the multilayer chip varistor 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2 are perspective views showing the multilayer chip varistor according to the present embodiment. FIG. 3 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration along the line III-III in FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration along the line IV-IV in FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration along the line V-V in FIG. 4.

積層型チップバリスタ1は、図1〜図5に示されるように、バリスタ素体11と、複数(本実施形態においては、2つ)の接続導体41と、複数(本実施形態においては、4つ)の端子電極51とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 5, the multilayer chip varistor 1 includes a varistor element body 11, a plurality (two in the present embodiment) of connection conductors 41, and a plurality (four in the present embodiment). ) Terminal electrode 51.

バリスタ素体11は、略矩形板状である。バリスタ素体11は、例えば、その縦が1mm程度に設定され、その横が1mm程度に設定され、その厚みが0.5mm程度に設定されている。バリスタ素体11は、互いに対向する第1の主面13及び第2の主面15を有する。第1の主面13及び第2の主面15は、正方形状である。すなわち、バリスタ素体11は、第1の主面13及び第2の主面15に垂直な方向から見て、正方形状を呈している。   The varistor element body 11 has a substantially rectangular plate shape. For example, the varistor element body 11 is set to have a length of about 1 mm, a width of about 1 mm, and a thickness of about 0.5 mm. The varistor element body 11 has a first main surface 13 and a second main surface 15 that face each other. The first main surface 13 and the second main surface 15 have a square shape. That is, the varistor element body 11 has a square shape when viewed from a direction perpendicular to the first main surface 13 and the second main surface 15.

バリスタ素体11は、電圧非直線特性(以下、「バリスタ特性」と称する)を発現する複数のバリスタ層が積層された積層体として構成されている。実際の積層型チップバリスタ1では、複数のバリスタ層は、互いの間の境界が視認できない程度に一体化されている。バリスタ層は、ZnO(酸化亜鉛)を主成分として含むと共に、副成分として希土類金属元素、Co、IIIb族元素(B、Al、Ga、In)、Si、Cr、Mo、アルカリ金属元素(K、Rb、Cs)及びアルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr、Ba)等の金属単体やこれらの酸化物を含む素体からなる。本実施形態において、バリスタ層は、副成分としてPr、Co、Cr、Ca、Si、K、Al等を含んでいる。   The varistor element body 11 is configured as a stacked body in which a plurality of varistor layers that exhibit voltage nonlinear characteristics (hereinafter referred to as “varistor characteristics”) are stacked. In the actual multilayer chip varistor 1, the plurality of varistor layers are integrated so that the boundary between them cannot be visually recognized. The varistor layer contains ZnO (zinc oxide) as a main component and also includes rare earth metal elements, Co, group IIIb elements (B, Al, Ga, In), Si, Cr, Mo, alkali metal elements (K, K) as subcomponents. Rb, Cs) and simple earth metals such as alkaline earth metal elements (Mg, Ca, Sr, Ba) and element bodies containing these oxides. In the present embodiment, the varistor layer contains Pr, Co, Cr, Ca, Si, K, Al, and the like as subcomponents.

本実施形態では、希土類金属として、Prを用いている。Prは、バリスタ特性を発現させるための材料となる。Prを用いる理由は、電圧非直線性に優れ、また、量産時での特性ばらつきが少ないためである。   In the present embodiment, Pr is used as the rare earth metal. Pr is a material for expressing varistor characteristics. The reason for using Pr is that voltage non-linearity is excellent and characteristic variation during mass production is small.

本実施形態では、アルカリ土類金属元素として、Caを用いている。Caは、ZnO系バリスタ材料の焼結性を制御する、及び、耐湿性を向上するための材料となる。Caを用いる理由は、電圧非直線性を改善するためである。   In the present embodiment, Ca is used as the alkaline earth metal element. Ca becomes a material for controlling the sinterability of the ZnO-based varistor material and improving the moisture resistance. The reason for using Ca is to improve voltage nonlinearity.

バリスタ層におけるZnOの含有量は、特に限定されないが、バリスタ層を構成する全体の材料を100質量%とした場合に、通常、99.8〜69.0質量%である。バリスタ層の厚みは、例えば5〜60μm程度である。   Although content of ZnO in a varistor layer is not specifically limited, When the whole material which comprises a varistor layer is 100 mass%, it is 99.8-69.0 mass% normally. The thickness of the varistor layer is, for example, about 5 to 60 μm.

バリスタ素体11には、それぞれ複数(本実施形態においては、2層ずつ)の第1の内部電極層21及び第2の内部電極層31が配されている。第1の内部電極層21と第2の内部電極層31とは、互いの間に少なくとも一層のバリスタ層が介在するように配されている。   The varistor element body 11 is provided with a plurality of (in this embodiment, two layers) first internal electrode layers 21 and second internal electrode layers 31. The first internal electrode layer 21 and the second internal electrode layer 31 are arranged so that at least one varistor layer is interposed between them.

各第1の内部電極層21は、図3〜図5に示されるように、複数(本実施形態においては、2つ)の第1の内部電極23をそれぞれ含んでいる。各第1の内部電極23は、略矩形状を呈している。一の第1の内部電極23は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が後述する一の第2の内部電極33と対向している。同じ第1の内部電極層21に含まれる第1の内部電極23は、バリスタ層の積層方向(以下、単に「積層方向」と称する。)に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有してそれぞれ位置する。各第1の内部電極23は、その一端が第1の主面13に臨むように該第1の主面13に引き出されている。   Each first internal electrode layer 21 includes a plurality of (in the present embodiment, two) first internal electrodes 23 as shown in FIGS. 3 to 5. Each first internal electrode 23 has a substantially rectangular shape. One first internal electrode 23 is opposed to one second internal electrode 33, which will be described later, with at least a part thereof sandwiching the varistor layer. The first internal electrodes 23 included in the same first internal electrode layer 21 have a predetermined interval from a side surface parallel to the stacking direction of the varistor layers (hereinafter simply referred to as “stacking direction”) and are electrically connected to each other. Are located at predetermined intervals so as to be electrically insulated. Each first internal electrode 23 is drawn out to the first main surface 13 so that one end thereof faces the first main surface 13.

各第2の内部電極層31は、図3〜図5に示されるように、複数(本実施形態においては、2つ)の第2の内部電極33をそれぞれ含んでいる。各第2の内部電極33は、略矩形状を呈している。一の第2の内部電極33は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が一の第1の内部電極23と対向している。同じ第2の内部電極層31に含まれる第2の内部電極33は、第1の内部電極23と同様に、積層方向に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有してそれぞれ位置する。各第2の内部電極33は、その一端が第2の主面15に臨むように該第2の主面15に引き出されている。   As shown in FIGS. 3 to 5, each second internal electrode layer 31 includes a plurality (two in the present embodiment) of second internal electrodes 33. Each second internal electrode 33 has a substantially rectangular shape. One second internal electrode 33 faces at least a part of the first internal electrode 23 across the varistor layer. Similar to the first internal electrode 23, the second internal electrodes 33 included in the same second internal electrode layer 31 have a predetermined interval from the side surface parallel to the stacking direction and are electrically insulated from each other. In this way, they are located at predetermined intervals. Each second internal electrode 33 is drawn out to the second main surface 15 so that one end thereof faces the second main surface 15.

第1の内部電極23と第2の内部電極33とは、上述したように、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配されている。これにより、積層型チップバリスタ1では、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配された第1及び第2の内部電極23,33を含む内部電極対が複数(本実施形態においては、4つ)備えられることとなる。   As described above, the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 are arranged in the varistor element body 11 so that at least some of them face each other. Thereby, in the multilayer chip varistor 1, a plurality of (internal) pairs of internal electrodes including the first and second internal electrodes 23 and 33 arranged in the varistor element body 11 so that at least some of them are opposed to each other. In the embodiment, four) are provided.

第1の内部電極23及び第2の内部電極33は、導電材を含んでいる。第1の内部電極23及び第2の内部電極33に含まれる導電材としては、特に限定されないが、PdまたはAg−Pd合金からなることが好ましい。第1の内部電極23及び第2の内部電極33の厚みは、例えば0.5〜5μm程度である。   The first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 include a conductive material. Although it does not specifically limit as a electrically conductive material contained in the 1st internal electrode 23 and the 2nd internal electrode 33, It is preferable to consist of Pd or an Ag-Pd alloy. The thickness of the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 is, for example, about 0.5 to 5 μm.

第1の主面13及び第2の主面15は、積層方向に平行な方向で且つ第1及び第2の内部電極23,33に垂直な方向に伸びている。なお、積層方向は、第1の内部電極23と第2の内部電極33との対向方向と平行な方向であり、第1及び第2の内部電極23,33に垂直な方向である。   The first main surface 13 and the second main surface 15 extend in a direction parallel to the stacking direction and perpendicular to the first and second inner electrodes 23 and 33. The stacking direction is a direction parallel to the facing direction of the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33, and is a direction perpendicular to the first and second internal electrodes 23 and 33.

各接続導体41は、図3及び図5にも示されるように、4つの内部電極対のうち、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23の第1の主面13に引き出される部分を覆うように、第1の主面13上に形成されている。第1の内部電極23の第1の主面13に引き出される部分は、対応する接続導体41に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、接続導体41は、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23同士を電気的に接続することとなる。   As shown in FIGS. 3 and 5, each of the connection conductors 41 includes the first inner electrode 23 included in the two internal electrode pairs positioned in the stacking direction among the four internal electrode pairs. It is formed on the 1st main surface 13 so that the part pulled out by 1 main surface 13 may be covered. A portion of the first internal electrode 23 drawn out to the first main surface 13 is physically and electrically connected to the corresponding connection conductor 41. As a result, the connection conductor 41 electrically connects the first internal electrodes 23 included in the two internal electrode pairs positioned side by side in the stacking direction.

各接続導体41は、略矩形状(本実施形態では、略長方形状)を呈している。接続導体41は、例えば、その長辺の長さが0.8mm程度に設定され、その短辺の長さが0.4mm程度に設定され、その厚みが2μm程度に設定されている。接続導体41の長辺方向は、積層方向に平行である。   Each connection conductor 41 has a substantially rectangular shape (in this embodiment, a substantially rectangular shape). For example, the connecting conductor 41 has a long side length of about 0.8 mm, a short side length of about 0.4 mm, and a thickness of about 2 μm. The long side direction of the connection conductor 41 is parallel to the stacking direction.

接続導体41は、Ptを含んでいる。接続導体41は、後述するように導電性ペーストが焼き付けられることにより形成されている。導電性ペーストには、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものが用いられている。   The connection conductor 41 includes Pt. The connection conductor 41 is formed by baking a conductive paste as will be described later. As the conductive paste, a mixture of metal powder containing Pt particles as a main component and glass frit, an organic binder, and an organic solvent is used.

各端子電極51は、図2及び図4に示されるように、第2の主面15上に、各第2の内部電極33に対応して設けられており、n行n列(パラメータnは、2以上の偶数とする)に二次元配列されている。本実施形態では、端子電極51は2行2列に2次元配列されている。端子電極51は、略矩形状(本実施形態では、略正方形状)を呈している。端子電極51は、例えば、各一辺の長さが0.4mm程度に設定され、厚みが2μm程度に設定されている。   As shown in FIGS. 2 and 4, each terminal electrode 51 is provided on the second main surface 15 in correspondence with each second internal electrode 33, and has n rows and n columns (parameter n is equal to n). 2 is an even number of 2 or more). In the present embodiment, the terminal electrodes 51 are two-dimensionally arranged in 2 rows and 2 columns. The terminal electrode 51 has a substantially rectangular shape (in the present embodiment, a substantially square shape). In the terminal electrode 51, for example, the length of each side is set to about 0.4 mm, and the thickness is set to about 2 μm.

各端子電極51は、図3及び図5にも示されるように、対応する第2の内部電極33の第2の主面15に引き出される部分を覆うように、第2の主面15上に形成されている。第2の内部電極33の第2の主面15に引き出される部分は、対応する端子電極51に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、端子電極51は、対応する第2の内部電極33にそれぞれ電気的に接続されることとなる。   As shown in FIGS. 3 and 5, each terminal electrode 51 is formed on the second main surface 15 so as to cover a portion drawn out to the second main surface 15 of the corresponding second internal electrode 33. Is formed. The portion of the second internal electrode 33 that is drawn out to the second main surface 15 is physically and electrically connected to the corresponding terminal electrode 51. As a result, the terminal electrode 51 is electrically connected to the corresponding second internal electrode 33.

端子電極51は、Ptを含んでいる。端子電極51は、後述するように導電性ペーストが焼き付けられることにより形成されている。導電性ペーストには、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものが用いられている。各端子電極51には、はんだパンプ53が形成されている。   The terminal electrode 51 contains Pt. The terminal electrode 51 is formed by baking a conductive paste as will be described later. As the conductive paste, a mixture of metal powder containing Pt particles as a main component and glass frit, an organic binder, and an organic solvent is used. A solder bump 53 is formed on each terminal electrode 51.

第1の内部電極23と第2の内部電極33とは、上述したように、積層方向から見て少なくともその一部同士が互いに対向して、重なるように位置している。したがって、バリスタ層における第1の内部電極23と第2の内部電極33とに重なる領域がバリスタ特性を発現する領域として機能する。   As described above, the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 are positioned so that at least some of them face each other and overlap each other when viewed from the stacking direction. Therefore, the region of the varistor layer that overlaps the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 functions as a region that develops varistor characteristics.

上述した構成を有する積層型チップバリスタ1においては、図6に示されるように、直列接続される二つのバリスタBが、二組含まれることとなる。各バリスタBは、第1の内部電極23と、第2の内部電極33と、バリスタ層における第1及び第2の内部電極23,33に重なる領域とにより構成される。   In the multilayer chip varistor 1 having the above-described configuration, as shown in FIG. 6, two sets of two varistors B connected in series are included. Each varistor B is composed of a first internal electrode 23, a second internal electrode 33, and a region overlapping the first and second internal electrodes 23, 33 in the varistor layer.

接続導体41の長辺方向は、上述したように、積層方向に略平行である、すなわち、接続導体41は積層方向に伸びるように形成されている。また、直列接続される二つのバリスタBの一方の端子電極51と他方の端子電極51とは、積層方向に並置されている。したがって、接続導体41の長辺方向に並置されることとなる一対の端子電極51の間に、直列接続された2つのバリスタBが存在することとなる。   As described above, the long side direction of the connection conductor 41 is substantially parallel to the stacking direction, that is, the connection conductor 41 is formed to extend in the stacking direction. One terminal electrode 51 and the other terminal electrode 51 of two varistors B connected in series are juxtaposed in the stacking direction. Therefore, two varistors B connected in series exist between the pair of terminal electrodes 51 that are juxtaposed in the long side direction of the connection conductor 41.

続いて、図7及び図8を参照して、上述した構成を有する積層型チップバリスタ1の製造過程について説明する。図7は、本実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するためのフロー図である。図8は、本実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するための図である。   Subsequently, a manufacturing process of the multilayer chip varistor 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a flowchart for explaining the manufacturing process of the multilayer chip varistor according to the present embodiment. FIG. 8 is a view for explaining the manufacturing process of the multilayer chip varistor according to the present embodiment.

まず、バリスタ層を構成する主成分であるZnOと、Pr、Co、Cr、Ca、Si、K及びAlの金属又は酸化物等の微量添加物とを所定の割合となるように各々秤量した後、各成分を混合してバリスタ材料を調整する(ステップS101)。その後、このバリスタ材料に有機バインダ、有機溶剤、有機可塑剤等を加えて、ボールミル等を用いて20時間程度混合・粉砕を行ってスラリーを得る。   First, after weighing ZnO, which is a main component constituting the varistor layer, and trace additives such as Pr, Co, Cr, Ca, Si, K, and Al metals or oxides so as to have a predetermined ratio. The varistor material is adjusted by mixing the components (step S101). Then, an organic binder, an organic solvent, an organic plasticizer, etc. are added to this varistor material, and it mixes and grinds for about 20 hours using a ball mill etc., and obtains a slurry.

このスラリーを、ドクターブレード法等の公知の方法により、例えばポリエチレンテレフタレートからなるフィルム上に塗布した後、乾燥して厚さ30μm程度の膜を形成する。こうして得られた膜をフィルムから剥離してグリーンシートを得る(ステップS103)。   The slurry is applied onto a film made of, for example, polyethylene terephthalate by a known method such as a doctor blade method, and then dried to form a film having a thickness of about 30 μm. The film thus obtained is peeled from the film to obtain a green sheet (step S103).

次に、グリーンシートに、第1の内部電極23に対応する電極部分を複数(後述する分割チップ数に対応する数)形成する(ステップS105)。同様にして、異なるグリーンシートに、第2の内部電極33に対応する電極部分を複数(後述する分割チップ数に対応する数)形成する(ステップS105)。第1及び第2の内部電極23,33に対応する電極部分は、Pd粒子を主成分とする金属粉末、有機バインダ及び有機溶剤を混合した導電性ペーストをスクリーン印刷等の印刷法にて印刷し、乾燥させることにより形成する。   Next, a plurality of electrode portions (numbers corresponding to the number of divided chips described later) corresponding to the first internal electrodes 23 are formed on the green sheet (step S105). Similarly, a plurality of electrode portions corresponding to the second internal electrode 33 (a number corresponding to the number of divided chips described later) are formed on different green sheets (step S105). The electrode portions corresponding to the first and second internal electrodes 23 and 33 are printed by a printing method such as screen printing with a conductive paste in which a metal powder mainly composed of Pd particles, an organic binder, and an organic solvent is mixed. It is formed by drying.

次に、電極部分が形成された各グリーンシートと、電極部分が形成されていないグリーンシートとを所定の順序で重ねてシート積層体を形成する(ステップS107)。こうして得られたシート積層体を、例えば、チップ単位に切断して、分割された複数のグリーン体LS1(図8参照)を得る(ステップS109)。得られたグリーン体LS1では、第1の内部電極23に対応する電極部分EL1が形成されたグリーンシートGS1と、第2の内部電極33に対応する電極部分EL2が形成されたグリーンシートGS2と、電極部分EL1,EL2が形成されていないグリーンシートGS3とが順次積層されている。なお、電極部分EL1,EL2が形成されていないグリーンシートGS3は、必要に応じて、それぞれの箇所において複数枚ずつ積層してもよい。   Next, a sheet laminate is formed by stacking each green sheet on which electrode portions are formed and a green sheet on which electrode portions are not formed in a predetermined order (step S107). The sheet laminate thus obtained is cut into, for example, chips, to obtain a plurality of divided green bodies LS1 (see FIG. 8) (step S109). In the obtained green body LS1, a green sheet GS1 in which an electrode portion EL1 corresponding to the first internal electrode 23 is formed, a green sheet GS2 in which an electrode portion EL2 corresponding to the second internal electrode 33 is formed, A green sheet GS3 on which the electrode portions EL1 and EL2 are not formed is sequentially laminated. In addition, you may laminate | stack the green sheet GS3 in which electrode part EL1, EL2 is not formed in each part as needed.

次に、グリーン体LS1に、180〜400℃、0.5〜24時間程度の加熱処理を実施して脱バインダを行った後、さらに、850〜1400℃、0.5〜8時間程度の焼成を行い(ステップS111)、バリスタ素体11を得る。この焼成によって、グリーン体LS1におけるグリーンシートGS1〜GS3はバリスタ層となる。電極部分EL1は、第1の内部電極23となる。電極部分EL2は、第2の内部電極33となる。   Next, the green body LS1 is subjected to heat treatment at 180 to 400 ° C. for about 0.5 to 24 hours to remove the binder, and then further fired at 850 to 1400 ° C. for about 0.5 to 8 hours. (Step S111) to obtain the varistor element body 11. By this firing, the green sheets GS1 to GS3 in the green body LS1 become varistor layers. The electrode portion EL <b> 1 becomes the first internal electrode 23. The electrode portion EL <b> 2 becomes the second internal electrode 33.

次に、バリスタ素体11の外表面に、接続導体41及び端子電極51を形成する(ステップS113)。ここでは、バリスタ素体11の第1の主面13上に、対応する第1の内部電極23に接するように導電性ペーストをスクリーン印刷工法にて印刷した後、乾燥させることによって、接続導体41に対応する導体部分を形成する。また、バリスタ素体11の第2の主面15上に、対応する第2の内部電極33に接するように導電性ペーストをスクリーン印刷工法にて印刷した後、乾燥させることによって、端子電極51に対応する電極部分を形成する。そして、形成した電極部分(導電性ペースト)を500〜850℃で焼き付けて、接続導体41及び端子電極51が形成されたバリスタ素体11を得る。接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストには、上述したように、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものを用いることができる。接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストに用いられるガラスフリットは、B、Bi、Al、Si、Sr、Ba、Pr、Zn等を少なくとも1種以上含む。   Next, the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 are formed on the outer surface of the varistor element body 11 (step S113). Here, a conductive paste is printed on the first main surface 13 of the varistor element body 11 so as to be in contact with the corresponding first internal electrode 23 by a screen printing method, and then dried, thereby connecting conductors 41. A conductor portion corresponding to is formed. In addition, the conductive paste is printed on the second main surface 15 of the varistor element body 11 so as to be in contact with the corresponding second internal electrode 33 by a screen printing method, and then dried, whereby the terminal electrode 51 is formed. Corresponding electrode portions are formed. And the formed electrode part (conductive paste) is baked at 500-850 degreeC, and the varistor element | base_body 11 with which the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 were formed is obtained. As described above, the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 may be a mixture of a metal powder containing Pt particles as a main component and a glass frit, an organic binder, and an organic solvent. The glass frit used for the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 contains at least one or more of B, Bi, Al, Si, Sr, Ba, Pr, Zn and the like.

上述した過程を経ることにより、積層型チップバリスタ1が得られる。なお、焼成後に、バリスタ素体11の表面からアルカリ金属(例えば、Li、Na等)を拡散させてもよい。はんだパンプ53の形成方法については、既存の形成方法を利用することができ、ここでの説明を省略する。   Through the process described above, the multilayer chip varistor 1 is obtained. In addition, you may diffuse an alkali metal (for example, Li, Na, etc.) from the surface of the varistor element | base_body 11 after baking. As a method for forming the solder bump 53, an existing forming method can be used, and a description thereof is omitted here.

シート積層体の形成方法については、本出願による先願である特願2005−201963号の明細書に記載された集合基板の製造方法を用いるようにしてもよい。この場合、シート積層体(集合基板)を複数のグリーン体LS2に分割して焼成することなく、接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストを付与することができる。   As a method for forming the sheet laminate, a method for manufacturing an aggregate substrate described in the specification of Japanese Patent Application No. 2005-201963, which is a prior application of the present application, may be used. In this case, the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 can be applied without dividing and baking the sheet laminate (aggregate substrate) into a plurality of green bodies LS2.

以上のように、本実施形態によれば、複数の端子電極51がバリスタ素体11の第2の主面15に形成されているので、該第2の主面15を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態で積層型チップバリスタ1を実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。接続導体41が、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23同士を電気的に接続するように第1の主面15に形成されているので、バリスタ素体11には、接続導体41に対応する位置にバリスタBとして機能する領域が存在することとなる。したがって、接続導体41が積層型チップバリスタ1の実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、積層型チップバリスタ1を適切且つ容易に実装することができる。   As described above, according to the present embodiment, since the plurality of terminal electrodes 51 are formed on the second main surface 15 of the varistor element body 11, the second main surface 15 is mounted on a mounting component (for example, an electronic component). The multilayer chip varistor 1 can be mounted in a state of facing a component, a mounting substrate, etc., and a configuration corresponding to the BGA package is realized. Since the connection conductor 41 is formed on the first main surface 15 so as to electrically connect the first internal electrodes 23 included in the two internal electrode pairs positioned side by side in the stacking direction, In the element body 11, a region functioning as the varistor B exists at a position corresponding to the connection conductor 41. Therefore, the connection conductor 41 functions as a mark for identifying the mounting direction of the multilayer chip varistor 1, and the multilayer chip varistor 1 can be mounted appropriately and easily.

バリスタ素体11が、第1及び第2の主面13,15に垂直な方向から見て、正方形状である場合、バリスタ素体11の外形形状に基づいて該積層型チップバリスタ1の実装方向を識別することは困難であるので、特に効果的である。   When the varistor element body 11 is square when viewed from the direction perpendicular to the first and second main surfaces 13 and 15, the mounting direction of the multilayer chip varistor 1 is based on the outer shape of the varistor element body 11. Is particularly effective because it is difficult to identify.

また、本実施形態によれば、積層型チップバリスタ1の実装方向を識別するためのマークをバリスタ素体11に新たに設ける必要がなく、積層型チップバリスタ1の製造コストが嵩むことはない。   Further, according to the present embodiment, it is not necessary to newly provide a mark for identifying the mounting direction of the multilayer chip varistor 1 on the varistor element body 11, and the manufacturing cost of the multilayer chip varistor 1 does not increase.

更に、本実施形態では、バリスタ素体11がPr及びCaを含むと共に、接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストがPtを含んでおり、バリスタ素体11上に接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストを塗布し、焼き付けることにより、接続導体41及び端子電極51を形成している。これにより、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度を向上させることができる。   Further, in the present embodiment, the varistor element body 11 includes Pr and Ca, and the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 includes Pt. The connection conductor 41 and the terminal electrode are formed on the varistor element body 11. The connection conductor 41 and the terminal electrode 51 are formed by applying and baking a conductive paste for 51. Thereby, the joint strength of the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 can be improved.

バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度が向上するという効果は、導電性ペーストの焼き付け時における、次のような事象に起因するものと考えられる。バリスタ素体11に導電性ペーストを焼き付ける際に、バリスタ素体11に含まれるPr及びCaがバリスタ素体11の表面近傍、すなわちバリスタ素体11と導電性ペーストとの界面近傍に移動する。そして、バリスタ素体11と導電性ペーストとの界面近傍に移動したPr及びCaと導電性ペーストに含まれるPtとが相互拡散する。Pr及びCaとPtとが相互拡散するとき、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との界面近傍(界面も含む)に、PrとPtとの化合物及びCaとPtとの化合物が形成されることがある。これらの化合物によりアンカー効果が生じ、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度が向上する。   The effect of improving the bonding strength between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 is considered to be caused by the following phenomenon when baking the conductive paste. When the conductive paste is baked on the varistor element body 11, Pr and Ca contained in the varistor element body 11 move near the surface of the varistor element body 11, that is, near the interface between the varistor element body 11 and the conductive paste. And Pr and Ca which moved to the interface vicinity of the varistor element | base_body 11 and an electrically conductive paste, and Pt contained in an electrically conductive paste mutually diffuse. When Pr, Ca, and Pt are interdiffused, a compound of Pr and Pt and a compound of Ca and Pt are formed in the vicinity (including the interface) between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51. May be. These compounds cause an anchor effect, and the bonding strength between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 is improved.

Ptを含む端子電極51は、主として積層型チップバリスタ1をはんだリフローにより外部基板等に実装する際に好適であり、耐はんだ喰われ性及びはんだ付け性を向上することができる。   The terminal electrode 51 containing Pt is suitable mainly when the multilayer chip varistor 1 is mounted on an external substrate or the like by solder reflow, and can improve solder erosion resistance and solderability.

続いて、図9〜図12を参照して、本実施形態の変形例に係る積層型チップバリスタの構成を説明する。図9は、本実施形態に係る積層型チップバリスタの変形例を示す斜視図である。図10は、図9のX−X線に沿った断面構成を説明する図である。図11は、図10のXI−XI線に沿った断面構成を説明する図である。図12は、図11のXII−XII線に沿った断面構成を説明する図である。   Subsequently, a configuration of a multilayer chip varistor according to a modification of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a perspective view showing a modification of the multilayer chip varistor according to the present embodiment. FIG. 10 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration along the line XX in FIG. FIG. 11 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration along the line XI-XI in FIG. 12 is a diagram for explaining a cross-sectional configuration along the line XII-XII in FIG.

変形例に係る積層型チップバリスタ1では、図9〜図12に示されるように、各接続導体41が、4つの内部電極対のうち、積層方向に垂直な方向(すなわち、バリスタ層の平行な方向)に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23の第1の主面13に引き出される部分を覆うように、第1の主面13上に形成されている。   In the multilayer chip varistor 1 according to the modified example, as shown in FIGS. 9 to 12, each connection conductor 41 has a direction perpendicular to the lamination direction (that is, parallel to the varistor layer) among the four internal electrode pairs. Formed on the first main surface 13 so as to cover a portion drawn to the first main surface 13 of each first internal electrode 23 included in the two internal electrode pairs positioned side by side in the direction). .

接続導体41の長辺方向は、積層方向に略垂直である、すなわち、接続導体41は積層方向に垂直な方向に伸びるように形成されている。また、図13に示されるように、直列接続される二つのバリスタBの一方の端子電極51と他方の端子電極51とは、積層方向に垂直な方向に並置されている。したがって、接続導体41の長辺方向に並置されることとなる一対の端子電極51の間に、直列接続された2つのバリスタBが存在することとなる。   The long side direction of the connection conductor 41 is substantially perpendicular to the stacking direction, that is, the connection conductor 41 is formed to extend in a direction perpendicular to the stacking direction. Further, as shown in FIG. 13, one terminal electrode 51 and the other terminal electrode 51 of two varistors B connected in series are juxtaposed in a direction perpendicular to the stacking direction. Therefore, two varistors B connected in series exist between the pair of terminal electrodes 51 that are juxtaposed in the long side direction of the connection conductor 41.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、内部電極対の数は、4つに限られない。内部電極対の数は、2つでもよく、4以上でもよいが、偶数であることが好ましい。   For example, the number of internal electrode pairs is not limited to four. The number of internal electrode pairs may be two or four or more, but is preferably an even number.

上述した実施形態では、2つの内部電極対に対して1つの接続導体41が設けられているが、これに限られない。例えば、3つの内部電極対に対して1つの接続導体41が設けられていてもよい。この場合、接続導体41は、積層方向、あるいは、積層方向に垂直な方向に並んで位置する3つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23同士を電気的に接続することとなる。   In the embodiment described above, one connection conductor 41 is provided for two internal electrode pairs, but the present invention is not limited to this. For example, one connection conductor 41 may be provided for three internal electrode pairs. In this case, the connection conductor 41 electrically connects the first internal electrodes 23 included in the three internal electrode pairs positioned side by side in the stacking direction or in a direction perpendicular to the stacking direction.

上述した積層型チップバリスタ1では、各バリスタBが一つの第1の内部電極23と一つの第2の内部電極33とがバリスタ層を挟んだ構成となっているが、これに限られない。各バリスタBは、複数の第1の内部電極23と複数の第2の内部電極33とがそれぞれバリスタ層を挟んだ構成であってもよい。   In the multilayer chip varistor 1 described above, each varistor B has a configuration in which one first internal electrode 23 and one second internal electrode 33 sandwich a varistor layer. However, the present invention is not limited to this. Each varistor B may have a configuration in which a plurality of first internal electrodes 23 and a plurality of second internal electrodes 33 each sandwich a varistor layer.

本実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the multilayer chip varistor concerning this embodiment. 本実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the multilayer chip varistor concerning this embodiment. 図1のIII−III線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the III-III line of FIG. 図3のIV−IV線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the IV-IV line of FIG. 図4のV−V線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the VV line of FIG. 本実施形態に係る積層型チップバリスタの等価回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the equivalent circuit of the multilayer chip varistor concerning this embodiment. 本実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するためのフロー図である。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing process of the multilayer chip varistor concerning this embodiment. 本実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the multilayer chip varistor concerning this embodiment. 本実施形態に係る積層型チップバリスタの変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of the multilayer chip varistor which concerns on this embodiment. 図9のX−X線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the XX line of FIG. 図10のXI−XI線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the XI-XI line of FIG. 図11のXII−XII線に沿った断面構成を説明する図である。It is a figure explaining the cross-sectional structure along the XII-XII line | wire of FIG. 本実施形態に係る積層型チップバリスタの変形例の等価回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the equivalent circuit of the modification of the multilayer chip varistor concerning this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…積層型チップバリスタ、11…バリスタ素体、13…第1の主面、15…第2の主面、23…第1の内部電極、33…第2の内部電極、41…接続導体、51…端子電極、53…はんだパンプ、B…バリスタ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer chip varistor, 11 ... Varistor element body, 13 ... 1st main surface, 15 ... 2nd main surface, 23 ... 1st internal electrode, 33 ... 2nd internal electrode, 41 ... Connection conductor, 51 ... Terminal electrode, 53 ... Solder pump, B ... Varistor.

Claims (5)

互いに対向する第1及び第2の主面を有するバリスタ素体と、
少なくともその一部同士が互いに対向するように前記バリスタ素体内に配された第1及び第2の内部電極をそれぞれ有する複数の内部電極対と、
前記複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対間において該所定の内部電極対がそれぞれ有する前記第1の内部電極同士を電気的に接続するように前記第1の主面に形成された接続導体と、
前記複数の内部電極対の各第2の内部電極に対応して設けられ、該第2の内部電極に電気的に接続されるように前記第2の主面に形成された複数の端子電極と、を備え
前記所定の内部電極対においてそれぞれ構成されるバリスタが前記接続導体を通して直列接続されていることを特徴とするバリスタ素子。
A varistor element body having first and second principal surfaces facing each other;
A plurality of internal electrode pairs each having first and second internal electrodes disposed in the varistor element body so that at least some of them face each other;
The predetermined internal electrode pair is formed on the first main surface so as to electrically connect said first internal electrodes to each other, each having between predetermined internal electrode pair of the plurality of internal electrode pairs A connecting conductor;
A plurality of terminal electrodes provided corresponding to the second internal electrodes of the plurality of internal electrode pairs and formed on the second main surface so as to be electrically connected to the second internal electrodes; , equipped with a,
A varistor element, wherein varistors respectively configured in the predetermined internal electrode pair are connected in series through the connection conductor .
前記バリスタ素体が、前記第1及び第2の主面に垂直な方向から見て、正方形状であることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ素子。   The varistor element according to claim 1, wherein the varistor element body has a square shape when viewed from a direction perpendicular to the first and second main surfaces. 前記複数の端子電極が、n行n列(nは、2以上の偶数である)に2次元配列されていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ素子。   2. The varistor element according to claim 1, wherein the plurality of terminal electrodes are two-dimensionally arranged in n rows and n columns (n is an even number of 2 or more). 前記第1の内部電極が前記第1の主面に引き出され、該第1の主面に引き出される部分が前記接続導体に物理的且つ電気的に接続され、
前記第2の内部電極が前記第2の主面に引き出され、該第2の主面に引き出される部分が前記端子電極に物理的且つ電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ素子。
The first internal electrode is drawn out to the first main surface, and a portion drawn out to the first main surface is physically and electrically connected to the connection conductor;
2. The second internal electrode is drawn out to the second main surface, and a portion drawn out to the second main surface is physically and electrically connected to the terminal electrode. The varistor element described in 1.
前記バリスタ素体には、前記第1の内部電極が形成されたバリスタ層と第2の内部電極が形成されたバリスタ層とが積層されており、
前記第1及び第2の主面が、前記バリスタ層の積層方向に平行な方向で且つ前記第1及び第2の内部電極に垂直な方向に伸びていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ素子。
In the varistor element body, a varistor layer in which the first internal electrode is formed and a varistor layer in which the second internal electrode is formed are laminated,
The said 1st and 2nd main surface is extended in the direction parallel to the lamination direction of the said varistor layer, and a perpendicular | vertical direction to the said 1st and 2nd internal electrode. Varistor element.
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