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JP4279656B2 - Image recording material and method for producing planographic printing plate precursor using the same - Google Patents
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Image recording material and method for producing planographic printing plate precursor using the same Download PDF

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Description

本発明は、特に作業性や経済性に優れたCTPシステムに適合した走査露光用平版印刷版の製造に好適に用いられる、高感度であり、かつ、セーフライト下での作業下においても使用可能な感光性画像記録材料及びそれを用いた平版印刷版原版の製造方法に関し、更に詳細には、支持体上に、光重合性層および酸素遮断層を有し、感度及び安定性のいずれにも優れた光重合性画像記録材料とそれを用いた、高感度で記録可能であり、安定性、セーフライト安定性に優れた平版印刷版原版の製造方法に関する。   The present invention is particularly suitable for the production of a lithographic printing plate for scanning exposure suitable for a CTP system excellent in workability and economy, and is highly sensitive and can be used even under a safelight operation. In particular, it has a photopolymerizable layer and an oxygen-blocking layer on a support, and has both sensitivity and stability. The present invention relates to an excellent photopolymerizable image recording material and a method for producing a lithographic printing plate precursor using the photopolymerizable image recording material, capable of high sensitivity recording, and having excellent stability and safelight stability.

コンピュータ画像処理技術の進歩に伴い、デジタル画像情報から、銀塩マスクフィルムへの出力を行わずに、レーザー光等により、直接レジスト画像を形成する感光ダイレクト製版システムが注目されている。レーザー光としては遠紫外からマイクロ波まで種々の光源が知られているが、レーザー出力、安定性、コスト、感光能力等の観点からリソグラフィーに利用できるレーザー光はArイオンレーザー、YAGレーザー、FD−YAGレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レーザー等の可視光から赤外光を発するものが有力である。このため、可視〜赤外光にかけて感光性を有する種々の組成物が検討されている。   With the progress of computer image processing technology, a photosensitive direct plate making system that directly forms a resist image by laser light or the like without outputting digital image information to a silver salt mask film has attracted attention. Various light sources from far ultraviolet to microwave are known as laser light. From the viewpoint of laser output, stability, cost, photosensitivity, etc., laser light that can be used for lithography is Ar ion laser, YAG laser, FD- One that emits infrared light from visible light, such as YAG laser, helium neon laser, and semiconductor laser, is prominent. For this reason, various compositions having photosensitivity to visible to infrared light have been studied.

なかでも、赤外レーザー光に感光性を有する画像形成材料が有望である。赤外レーザー感応性の重合性組成物としては、カチオン染料とボレート錯体を組み合わせたもの(例えば、特許文献1〜5参照)、光熱変換物質とオニウム塩を組み合わせたもの(例えば、特許文献6、7参照。)等が知られている。これらの光重合性組成物は、酸素による所望されない重合阻害が著しいため、通常、光重合性組成物層の上に、酸素遮断性の保護層が設けられる。酸素遮断性を得るために保護層としては、酸素バリアが高く、取り扱いの容易さと水への溶解によって容易に取り除くことが出来るという利点からポリビニルアルコールが一般的に用いられてきている。   Among these, an image forming material having sensitivity to infrared laser light is promising. As an infrared laser-sensitive polymerizable composition, a combination of a cationic dye and a borate complex (for example, see Patent Documents 1 to 5), a combination of a photothermal conversion substance and an onium salt (for example, Patent Document 6, 7, etc.) are known. In these photopolymerizable compositions, undesired polymerization inhibition by oxygen is remarkable, and therefore, an oxygen-blocking protective layer is usually provided on the photopolymerizable composition layer. In order to obtain oxygen barrier properties, polyvinyl alcohol has been generally used as the protective layer because of its advantage that it has a high oxygen barrier and can be easily removed by dissolution in water.

近赤外光に感応する色素を用いた画像形成材料は、近赤外光をエネルギー源としているために、白色灯下、あるいは黄色灯下での取り扱いも可能であるが、増感色素とラジカル発生剤とを組み合わせた光重合系の画像形成材料においては、取り扱い性が不十分であり、セーフライト下でハンドリングできる時間が数分以内に限られるなどの制限があった。これは、増感色素とラジカル発生剤とを組み合わせた光重合系の画像形成材料では、少なくとも一部はフォトンモードで重合が起こると考えられるので、少量の可視光であっても重合が開始される場合があり、それにより非画像部の残色など、好ましくない反応を起こす場合があるためである。
また、近年、酸素遮断層の酸素遮断性を低減することで感度とセーフライト安全性の両立を図った光重合性画像形成材料が開示されているが(例えば、特許文献8参照。)、実際の酸素透過性の定量的な値は記載されておらず、また、高湿時には感度の低下が起こるという問題があり、環境安定性について改良が望まれていた。
特開平6−59450号公報 特開平5−216227号公報 特開平5−247110号公報 特開平5−265204号公報 特開平6−33217号公報 特開平9−34110号公報 特開平9−134009号公報 特開2002−139843公報
Image forming materials using dyes that are sensitive to near-infrared light use near-infrared light as an energy source, so they can be handled under white or yellow light. In the photopolymerization type image forming material combined with the generator, the handleability is insufficient, and the time that can be handled under safelight is limited to within a few minutes. This is because at least a part of the photopolymerization-type image forming material in which a sensitizing dye and a radical generator are combined is considered to be polymerized in the photon mode, so that polymerization is started even with a small amount of visible light. This may cause an undesirable reaction such as a residual color in the non-image area.
In recent years, a photopolymerizable image-forming material has been disclosed that achieves both sensitivity and safelight safety by reducing the oxygen barrier properties of the oxygen barrier layer (see, for example, Patent Document 8). The quantitative value of oxygen permeability is not described, and there is a problem that the sensitivity is lowered when the humidity is high, and improvement of environmental stability has been desired.
JP-A-6-59450 JP-A-5-216227 JP-A-5-247110 JP-A-5-265204 JP-A-6-33217 JP-A-9-34110 Japanese Patent Laid-Open No. 9-134209 JP 2002-139443 A

本発明の目的は、感度とセーフライト安全性の双方に優れ、更に環境の影響を受けにくい光重合性画像記録材料、及び、それを用いた、高感度でセーフライト安全性、環境安定性に優れた平版印刷版原版の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photopolymerizable image recording material that is excellent in both sensitivity and safe light safety and is not easily affected by the environment, and high sensitivity, safe light safety and environmental stability using the same. The object is to provide an excellent method for producing a lithographic printing plate precursor.

本発明者は上記目的に鑑み鋭意検討した結果、保護層として、特定の酸素遮断性を有し、且つ、特定の波長の光に吸収を有する化合物を含有する保護層を用いた場合に、赤外レーザーに対しての高感度を維持しながら、明室での取り扱い可能時間が大幅に改善され、高湿下での露光条件でも感度が低下しないという大きな利点を見いだし本発明を完成した。
即ち、本発明の光重合性画像記録材料は、支持体上に、(A)650〜1300nmに吸収極大を有する化合物、(B)重合開始剤、及び、(C)重合性化合物を含有する光重合性層と、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)であり、且つ、250〜400nmに吸収極大を有する化合物、及び、500〜700nmに吸収極大を有する化合物の少なくとも一方を含有する酸素遮断層と、を有することを特徴とする。
As a result of intensive studies in view of the above-mentioned object, the present inventor has found that when a protective layer containing a compound having a specific oxygen barrier property and absorbing in light of a specific wavelength is used as a protective layer, The present invention has been completed by finding the great advantage that the handling time in the bright room is greatly improved while maintaining the high sensitivity to the external laser and the sensitivity does not decrease even under exposure conditions under high humidity.
That is, the photopolymerizable image recording material of the present invention comprises, on a support, (A) a compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm, (B) a polymerization initiator, and (C) a light containing a polymerizable compound. A polymerizable layer, a compound having an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day), and having an absorption maximum at 250 to 400 nm, and 500 And an oxygen barrier layer containing at least one of compounds having an absorption maximum at ˜700 nm.

ここで、前記酸素遮断層としては、ポリビニルアルコール(PVA)と、ポリビニルピロリドン(PVP)又はその誘導体と、を含有し、且つ、両者の含有比率〔PVA/PVP(またはその誘導体)〕Bが2≦B≦10であるものが好ましく、さらに、PVAのケン化度が85%以上であることが好ましい。
また、前記(B)重合開始剤としては、アリールラジカルを発生しうる化合物を使用することが好ましい態様である。
また、本発明の請求項5に係る感光性平版印刷版原版の製造方法は、前記した本発明の光重合性画像記録材料を用いた感光性平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に光重合性層および酸素遮断層を設けて平版印刷版原版を得た後、該酸素遮断層の含水率が7%以下である状態で、平版印刷版原版を巻き取ることを特徴とする。
Here, the oxygen barrier layer contains polyvinyl alcohol (PVA) and polyvinyl pyrrolidone (PVP) or a derivative thereof, and the content ratio [PVA / PVP (or a derivative thereof)] B of both is 2 ≦ B ≦ 10 is preferable, and the saponification degree of PVA is preferably 85% or more.
In addition, as the (B) polymerization initiator, it is preferable to use a compound capable of generating an aryl radical.
Further, the method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 5 of the present invention is a method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor using the photopolymerizable image recording material of the present invention as described above. A lithographic printing plate precursor is obtained by providing a photopolymerizable layer and an oxygen blocking layer thereon, and then winding the lithographic printing plate precursor in a state where the moisture content of the oxygen blocking layer is 7% or less. .

本発明の作用は明確ではないが以下のように推測される。
セーフライト安全性悪化の原因は、感光層中に含まれる重合開始剤の紫外線吸収、あるいは製版後の検版性を付与するために感光層中に添加される着色剤の光吸収であると考えられる。本発明の画像記録材料は、感光層上に、250〜400nmに吸収極大を有する化合物、及び500〜700nmに吸収極大を有する化合物の少なくとも一方を含有する酸素遮断層を有するため、重合開始剤や着色剤の光の副吸収による弊害が効果的に抑制されるものと思われる。
また、一般的に、高湿環境下では、吸湿することにより保護層の酸素遮断性が下がり、系外から感光層中に酸素が入り込むため、画像形成(露光)により発生したラジカルが系外から入り込んだ酸素によりクエンチされる。そのため、所望の重合反応が阻害されてしまい、感度低下が引き起こされるものと考えられる。本発明においては、酸素透過性を所定の値に制御した酸素遮断層を設けることにより、上記画像形成時の重合阻害による感度低下が抑制されるものと思われる。即ち、酸素透過性を所定の値に制御することにより、画像形成時の感度を低下させることなく、例えばセーフライトにより僅かな量のラジカルが発生した場合でも、これらのラジカルを効果的に失活させることができるものと考えられる。
さらに、重合開始剤としてアリールラジカル発生剤を使用した場合には、発生したラジカルの反応性が非常に高いため、酸素による重合阻害を受ける前に光重合性層の重合を行うことができ、さらなる感度低下抑制効果が得られるものと推測される。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
The cause of the deterioration of safelight safety is considered to be the ultraviolet absorption of the polymerization initiator contained in the photosensitive layer or the light absorption of the colorant added to the photosensitive layer in order to provide plate inspection after plate making. It is done. Since the image recording material of the present invention has an oxygen blocking layer containing at least one of a compound having an absorption maximum at 250 to 400 nm and a compound having an absorption maximum at 500 to 700 nm on the photosensitive layer, a polymerization initiator or It seems that the harmful effect of the colorant by the side absorption of light is effectively suppressed.
In general, in a high-humidity environment, the oxygen barrier property of the protective layer decreases due to moisture absorption, and oxygen enters the photosensitive layer from outside the system, so that radicals generated by image formation (exposure) are released from outside the system. Quenched by incoming oxygen. Therefore, it is considered that the desired polymerization reaction is hindered and the sensitivity is lowered. In the present invention, it is considered that the decrease in sensitivity due to polymerization inhibition during the image formation is suppressed by providing an oxygen barrier layer in which oxygen permeability is controlled to a predetermined value. In other words, by controlling the oxygen permeability to a predetermined value, even when a small amount of radicals are generated by, for example, safelight, the radicals are effectively deactivated without reducing the sensitivity during image formation. It is thought that it can be made to.
Furthermore, when an aryl radical generator is used as the polymerization initiator, the reactivity of the generated radical is very high, so that the photopolymerizable layer can be polymerized before being subjected to polymerization inhibition by oxygen. It is presumed that an effect of suppressing sensitivity reduction can be obtained.

本発明の光重合性画像記録材料は、特定の酸素透過性を有し、且つ、特定の波長の光に吸収を有する化合物を含有する酸素遮断層とを備えるため、感度とセーフライト安全性の双方に優れ、且つ、環境安定性が良好である。
また、この光重合性画像記録材料の製造方法によれば、光重合性層と酸素遮断層を設けた平版印刷版原版を特定条件で巻き取ることにより、高感度で、セーフライト安全性、環境安定性に優れた感光性平版印刷版原版を製造することができる。
Since the photopolymerizable image recording material of the present invention comprises an oxygen barrier layer containing a compound having a specific oxygen permeability and absorbing light of a specific wavelength, sensitivity and safelight safety can be achieved. Both are excellent and environmental stability is good.
In addition, according to this method for producing a photopolymerizable image recording material, a lithographic printing plate precursor provided with a photopolymerizable layer and an oxygen blocking layer is wound under specific conditions, thereby providing high sensitivity, safe light safety, and environmental protection. A photosensitive lithographic printing plate precursor having excellent stability can be produced.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光重合性画像記録材料は、支持体上に、光重合性層、酸素遮断層(保護層)を順次積層することで得られる。該光重合性層は、必須成分として(A)650〜1300nmに吸収極大を有する化合物(赤外吸収剤)、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、及び必要に応じ(D)バインダーポリマー、その他の添加剤を含有して構成される。
なお、本発明の光重合性画像記録材料は、支持体上に、光重合性層と酸素遮断層をこの順に有していればよく、目的に応じて他の層(例えば、中間層、バックコート層、等)を任意の位置に設けることができる。
また、本発明においては、上記重合開始剤としてアリールラジカルを発生しうる化合物を用いることが好ましく、オニウム塩化合物、なかでもスルホニウム塩化合物を用いることが特に好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photopolymerizable image recording material of the present invention can be obtained by sequentially laminating a photopolymerizable layer and an oxygen blocking layer (protective layer) on a support. The photopolymerizable layer includes, as essential components, (A) a compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm (infrared absorber), (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) as necessary. Consists of a binder polymer and other additives.
The photopolymerizable image recording material of the present invention may have a photopolymerizable layer and an oxygen barrier layer in this order on the support, and other layers (for example, an intermediate layer, a back layer, etc.) depending on the purpose. A coating layer, etc.) can be provided at any position.
In the present invention, it is preferable to use a compound capable of generating an aryl radical as the polymerization initiator, and it is particularly preferable to use an onium salt compound, especially a sulfonium salt compound.

〔光重合性層〕
以下、光重合性層に含有される各成分について順次説明する。
(A)650〜1300nmに吸収極大を有する化合物
本発明に係る光重合性層には、650〜1300nmに吸収極大を有する化合物、即ち、赤外線吸収剤を用いることが必須である。
この化合物は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)が熱分解してラジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸収剤としては、波長650〜1300nm、より好ましくは、760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料を用いることが好ましい。このような染料又は顔料を以下、適宜、赤外線吸収剤と称する。
(Photopolymerizable layer)
Hereinafter, each component contained in the photopolymerizable layer will be sequentially described.
(A) Compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm In the photopolymerizable layer according to the present invention, it is essential to use a compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm, that is, an infrared absorber.
This compound has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The heat generated at this time causes a polymerization initiator (radical generator) described later to thermally decompose to generate radicals. As the infrared absorber used in the present invention, it is preferable to use a dye or a pigment having an absorption maximum at a wavelength of 650 to 1300 nm, more preferably from 760 nm to 1200 nm. Such a dye or pigment is hereinafter referred to as an infrared absorber as appropriate.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58- Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples include squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報に記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted aryl benzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferably used. (Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-220143 No. 59-41363, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, JP-A 59-216146 Cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salt described in US Pat. No. 4,283,475, etc. Pyrylium compounds disclosed in JP same 5-19702 are also preferably used. Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.

また、本発明に用いられる赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願2001−6326明細書、及び、特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, other preferable examples of the infrared absorbing dye used in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application No. 2001-6326 specification and JP-A No. 2002-278057 as exemplified below. Can be mentioned.

Figure 0004279656
Figure 0004279656

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 0004279656
Figure 0004279656

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、またはSeを示す。Phはフェニル基を示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Ph represents a phenyl group.

Figure 0004279656
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a -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.
R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa -は必要ない。好ましいZa -は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特願平2001−6326明細書、及び、特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application No. 2001-6326 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-278057.

また、赤外線吸収剤として顔料を用いる場合には、波長650〜1300nmに吸収を有するものであれば、特に制限なく公知のものを適宜選択して用いることができる。これらのうち好ましい例としては、フタロシアニン系顔料およびカーボンブラックが挙げられる。   Moreover, when using a pigment as an infrared absorber, if it has absorption in the wavelength of 650-1300 nm, it can select and use a well-known thing suitably without a restriction | limiting. Of these, preferred examples include phthalocyanine pigments and carbon black.

これらの赤外線吸収剤を、本発明の光重合性画像記録材料の光重合性層に適用する場合、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、この画像記録材料をネガ型平版印刷版原版として用いる場合、光重合性層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.5〜1.2の範囲にあるように添加することが好ましく、さらに好ましくは、0.6〜1.15の範囲である。吸光度がこの範囲において、画像部の強度や、支持体と光重合性層との密着性に優れたものとなり、印刷時における十分な印刷枚数が確保できる。
光重合性層の吸光度は、ここに添加する赤外線吸収剤の量と光重合性層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの光重合性層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
When these infrared absorbers are applied to the photopolymerizable layer of the photopolymerizable image recording material of the present invention, they may be added to the same layer as other components, or another layer is provided and added thereto. However, when this image recording material is used as a negative lithographic printing plate precursor, the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the photopolymerizable layer is 0.5 to 1. It is preferable to add so that it exists in the range of 2, More preferably, it is the range of 0.6-1.15. When the absorbance is within this range, the strength of the image area and the adhesion between the support and the photopolymerizable layer are excellent, and a sufficient number of printed sheets can be secured during printing.
The absorbance of the photopolymerizable layer can be adjusted by the amount of the infrared absorber added here and the thickness of the photopolymerizable layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photopolymerizable layer having a thickness appropriately determined in a range where the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is optically measured. Examples thereof include a method of measuring with a densitometer, a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere, and the like.

また、本発明に係る赤外線吸収剤は、後述する吸光度(ODx)を所定の範囲に制御しうるように光重合性層中に含有されることを要するが、通常、光重合性層の全固形分に対する添加量としては、0.5〜10.0質量%の範囲が好ましく、1.0〜5.0質量%の範囲がより好ましく、1.5〜4.0質量%の範囲がさらに好ましい。 Further, the infrared absorbent according to the present invention needs to be contained in the photopolymerizable layer so that the absorbance (OD x ) described later can be controlled within a predetermined range. As addition amount with respect to solid content, the range of 0.5-10.0 mass% is preferable, The range of 1.0-5.0 mass% is more preferable, The range of 1.5-4.0 mass% is further preferable.

(B)重合開始剤
本発明に係る光重合性層に用いられる重合開始剤とは、上記赤外線吸収剤と組み合わせて用い、赤外線レーザーを照射した際にラジカルを発生する化合物(ラジカル発生剤)を指す。ラジカル発生剤としては、オニウム塩、ハロメチル基含有化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、有機ホウ素アニオン等が挙げられる。本発明においては、このような重合開始剤の中でも、環境温湿度の影響を受けにくいという点で、アリールラジカルを発生しうる化合物を用いることが好ましく、そのような化合物としては、上記オニウム塩、有機ホウ素アニオン等が挙げられ、中でも、保存安定性の面ではオニウム塩、特にスルホニウム塩が好ましい。
前記有機ホウ素アニオンの例としては、特開昭62−143044号公報、特開昭62−150242号公報、特開平5−5988号公報、特開平5−197069号公報等に記載のものが挙げられる。前記ハロメチル基含有化合物の例としては、特開平4−31863号公報等に記載のものが挙げられる。
(B) Polymerization initiator The polymerization initiator used in the photopolymerizable layer according to the present invention is a combination of the above-mentioned infrared absorbers and a compound that generates radicals when irradiated with an infrared laser (radical generator). Point to. Examples of the radical generator include onium salts, halomethyl group-containing compounds, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, and organic boron anions. In the present invention, among such polymerization initiators, it is preferable to use a compound capable of generating an aryl radical in that it is less susceptible to environmental temperature and humidity, and as such a compound, the onium salt, Examples thereof include organic boron anions, and among them, onium salts, particularly sulfonium salts are preferable in terms of storage stability.
Examples of the organic boron anion include those described in JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-5-5988, JP-A-5-197069 and the like. . Examples of the halomethyl group-containing compound include those described in JP-A-4-31863.

以下、本発明における重合開始剤として好適に用い得るオニウム塩について説明する。
好ましいオニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(I)〜(III)で表されるオニウム塩である。
Hereinafter, onium salts that can be suitably used as the polymerization initiator in the present invention will be described.
Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (I) to (III).

Figure 0004279656
Figure 0004279656

一般式(I)中、Ar1とAr2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z1-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. (Z 1 ) represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and sulfonate ion, preferably perchloric acid Ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

一般式(II)中、Ar3は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。(Z2-は(Z1-と同義の対イオンを表す。 In general formula (II), Ar 3 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. (Z 2 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 1 ) .

一般式(III)中、R23、R24及びR25は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z3-は(Z1-と同義の対イオンを表す。 In general formula (III), R 23 , R 24 and R 25 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. (Z 3 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 1 ) .

本発明において、ラジカル発生剤として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0030]〜[0033]に記載されたものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a radical generator include those described in paragraphs [0030] to [0033] of JP-A No. 2001-133969.

本発明において用いられるラジカル発生剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、さらに360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、本発明の光重合性画像記録材料や、それを用いた平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The radical generator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the photopolymerizable image recording material of the present invention and the lithographic printing plate precursor using the same can be handled under white light.

これらのラジカル発生剤は、感度と非画像部の汚れ性の観点から、光重合性層塗布液の全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で光重合性層塗布液中に添加することができる。これらのラジカル発生剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらのラジカル発生剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These radical generators are used in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 30% by weight, and particularly 0.5 to 30% by weight, based on the total solid content of the photopolymerizable layer coating liquid, from the viewpoints of sensitivity and soiling of non-image areas. Preferably, it can be added to the photopolymerizable layer coating solution at a ratio of 1 to 20% by mass. These radical generators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these radical generators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

本発明において重合開始剤として使用するラジカル発生剤としては、上記したものの他、特開2002−148790号公報、特開2002−148790号公報、特開2002−350207号公報、特開2002−6482号公報等に記載の特定の芳香族スルホニウム塩も好適に用いられる。   In addition to the above-mentioned radical generators used as polymerization initiators in the present invention, JP 2002-148790 A, JP 2002-148790 A, JP 2002-350207 A, JP 2002-6482 A. The specific aromatic sulfonium salt described in the gazette etc. is also used suitably.

(C)重合性化合物
本発明に係る光重合性層に用いられる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつものをも包含する。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the photopolymerizable layer according to the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one ethylenically unsaturated bond. , Preferably selected from compounds having two or more. Such compound groups are widely known in the industrial field, and these can be used without any particular limitation in the present invention. These also include those having chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof.

モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241, JP-A-2-226149, and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報に記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(4)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (4) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

CH2=C(R1)COOCH2CH(R2)OH 一般式(4)
(但し、R1及びR2は、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R 1) COOCH 2 CH (R 2) OH Formula (4)
(However, R 1 and R 2 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に硬化反応速度に優れた光重合性層を形成することができる。   Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Thus, a photopolymerizable layer having a very excellent curing reaction rate can be formed.

その他の例としては、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報、特公昭52−30490号公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号公報、特公平1−40337号公報、特公平1−40336号公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報に記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493. Etc. can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な光重合性層の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましくない場合がある。   For these addition-polymerizable compounds, details on how to use them, such as what type of structure is used, whether they are used alone or in combination, and how much is added, match the performance design of the final photopolymerizable layer. Can be set arbitrarily. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether). It is also effective to adjust both photosensitivity and strength by using a compound of the type). A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer.

また、光重合性層を構成する組成物中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。
また、本発明の光重合性画像記録材料を平版印刷版原版に適用した場合に、支持体や後述の酸素遮断層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
In addition, for the compatibility and dispersibility with other components in the composition constituting the photopolymerizable layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.), the method for selecting and using the addition polymerization compound is as follows: This is an important factor. For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.
In addition, when the photopolymerizable image recording material of the present invention is applied to a lithographic printing plate precursor, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of a support or an oxygen barrier layer described later.

光重合性層を構成する組成物中の付加重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、平版印刷版原版に適用した際に光重合性層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、光重合性層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、(C)付加重合性化合物は、光重合性層を構成する組成物中の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択できる。更に、この画像記録材料を平版印刷版原版に適用する場合には、下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。   As for the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the composition constituting the photopolymerizable layer, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity, but if it is too large, undesirable phase separation may occur or the lithographic printing plate precursor Causes problems in the manufacturing process due to the adhesiveness of the photopolymerizable layer (for example, transfer of photopolymerizable layer components, manufacturing defects due to adhesion), and precipitation from the developer. sell. From these viewpoints, the addition polymerizable compound (C) is preferably in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content in the composition constituting the photopolymerizable layer. Used in. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can arbitrarily select an appropriate structure, blending, and addition amount from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, and the like. Furthermore, when this image recording material is applied to a lithographic printing plate precursor, a layer configuration / coating method such as undercoating or overcoating can be carried out.

〔(D)バインダーポリマー〕
本発明に係る光重合性層には、皮膜特性向上などの目的で、バインダーポリマーを添加することが好ましい。バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいはアルカリ水現像を可能とするために、水あるいはアルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、光重合性層を形成するための皮膜形成剤としてだけでなく、水、アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、即ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[(D) Binder polymer]
It is preferable to add a binder polymer to the photopolymerizable layer according to the present invention for the purpose of improving film properties. As the binder polymer, a linear organic polymer is preferably used. As such a “linear organic polymer”, a known one can be arbitrarily used. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or alkali water is selected in order to enable water development or alkali water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent for forming the photopolymerizable layer, but also according to the use as water, alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such linear organic polymers include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. , JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itacon Examples include acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.

特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーが、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。   Among these, a (meth) acrylic polymer having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in the side chain is particularly preferable because of excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号の各公報、特開平13−312062号公報等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。   In addition, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. The urethane-based binder polymer containing an acid group described in each publication of JP 271741 A, JP-A No. 13-312062 and the like is very excellent in strength, and is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure. .

さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。   In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

本発明で使用されるバインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは5,000以上であり、さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1,000以上であり、さらに好ましくは2,000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれであってもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
The weight average molecular weight of the binder polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, More preferably, it is the range of 2,000-250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10.
These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers, or the like, but are preferably random polymers.

本発明に係る光重合性層に所望により使用されるバインダーポリマーは従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
本発明で使用されるポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
The binder polymer used as desired in the photopolymerizable layer according to the present invention can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These solvents are used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used in synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as azo initiators and peroxide initiators can be used.

本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマーを光重合性層に添加する場合、添加量としては、画像形成性及び画像部強度向上の観点から、光重合性層塗布液の全固形分に対し20〜95質量%の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは30〜90質量%の範囲である。また、前記(C)重合性化合物と(D)線状有機ポリマーとは、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。   The binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination. When these polymers are added to the photopolymerizable layer, the addition amount is in the range of 20 to 95% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerizable layer coating solution from the viewpoint of improving image formability and image portion strength. It is preferable that the range is 30 to 90% by mass. The (C) polymerizable compound and the (D) linear organic polymer are preferably in the range of 1/9 to 7/3 by mass ratio.

本発明に係る光重合性層には、以上の必須成分の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。   In addition to the above essential components, other components suitable for the application, production method and the like can be appropriately added to the photopolymerizable layer according to the present invention. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.

〔重合禁止剤〕
本発明においては、(C)重合性化合物の所望されない熱重合を阻止する目的で、少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。ここで用いうる適当な熱重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、光重合性層を構成する組成物中の固形分に対して約0.01質量%〜約5質量%であることが好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
(Polymerization inhibitor)
In the present invention, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor for the purpose of preventing undesired thermal polymerization of the polymerizable compound (C). Examples of suitable thermal polymerization inhibitors that can be used here include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3- Methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the solid content in the composition constituting the photopolymerizable layer.
If necessary, in order to prevent polymerization inhibition by oxygen, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide are added and unevenly distributed on the surface of the photopolymerizable layer in the drying process after coating. May be. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile components in the entire composition.

〔着色剤〕
本発明に係る光重合性層には、その着色を目的として染料若しくは顔料などの着色剤を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤としての染料及び顔料の添加量は、光重合性層の組成物中の全固形分に対して約0.5質量%〜約5質量%の範囲であることが好ましい。
[Colorant]
A colorant such as a dye or a pigment may be added to the photopolymerizable layer according to the present invention for the purpose of coloring. Thereby, so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and suitability for an image density measuring machine as a printing plate can be improved. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment as the colorant is preferably in the range of about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the total solid content in the composition of the photopolymerizable layer.

本発明の光重合性画像記録材料においては、前記光重合性層を支持体上に設けてなる。本発明に係る光重合性層は、前記の如く、必須成分として、(A)650〜1300nmに吸収極大を有する化合物と、(B)重合開始剤と、(C)重合性化合物とを含有し、好ましくはさらに(D)バインダーポリマーを含有する。このネガ型光重合性層は、熱または光により重合開始剤が分解してラジカルを発生させ、この発生したラジカルにより重合性化合物が重合反応を起こすという機構により画像を形成する。
本発明の光重合性画像記録材料は、ネガ型平版印刷版原版に好適に適用され、このような平版印刷版原版は、300〜1,200nmの波長を有するレーザー光での直接描画での製版に特に好適であり、従来の平版印刷版原版に比べ、高い耐刷性及び画像形成性を発現する。
In the photopolymerizable image recording material of the present invention, the photopolymerizable layer is provided on a support. As described above, the photopolymerizable layer according to the present invention contains (A) a compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound as essential components. Preferably, it further contains (D) a binder polymer. This negative photopolymerizable layer forms an image by a mechanism in which a polymerization initiator is decomposed by heat or light to generate radicals, and a polymerizable compound causes a polymerization reaction by the generated radicals.
The photopolymerizable image recording material of the present invention is suitably applied to a negative lithographic printing plate precursor, and such a lithographic printing plate precursor is used for plate making by direct writing with a laser beam having a wavelength of 300 to 1,200 nm. In particular, it exhibits high printing durability and image formability as compared with conventional lithographic printing plate precursors.

上記の光重合性層を支持体上に塗設する際には、前記した光重合性層を構成する組成物の各成分を適切な有機溶剤に溶かして、支持体又は中間層上に塗布すればよい。ここで使用する溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶剤は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。   When coating the above photopolymerizable layer on a support, each component of the composition constituting the above photopolymerizable layer is dissolved in an appropriate organic solvent and applied onto the support or intermediate layer. That's fine. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記光重合性層の被覆量は、主に、感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が低下する傾向になり、多すぎる場合には、感度が低下する傾向になり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要することが懸念される。本発明の主要な目的である走査露光用光重合性ネガ型平版印刷版原版としては、光重合性層の被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当であり、より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the photopolymerizable layer mainly affects sensitivity, developability, exposure film strength and printing durability, and is preferably selected according to the intended use. If the coating amount is too small, the printing durability tends to decrease. If the coating amount is too large, the sensitivity tends to decrease, and it takes time for exposure and a longer time for development processing. Is concerned. As the photopolymerizable negative lithographic printing plate precursor for scanning exposure which is the main object of the present invention, the coating amount of the photopolymerizable layer is about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. A range is suitable, More preferably, it is 0.5-5 g / m < 2 >.

なお、本発明の光重合性画像記録材料における光重合性層の物性としては、pH10〜13.5のアルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上、かつ、該アルカリ現像液の露光部における浸透速度が100nF/sec以下であることが好ましい。
ここで、pH10〜13.5のアルカリ現像液による現像速度とは、光重合性層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値であり、アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記光重合性層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
以下に、本発明における「アルカリ現像液に対する現像速度」及び「アルカリ現像液の浸透速度」の測定方法について詳細に説明する。
As the physical properties of the photopolymerizable layer in the photopolymerizable image recording material of the present invention, the developing speed of the unexposed area with respect to an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is 80 nm / sec or more, and the alkali developer It is preferable that the penetration rate in the exposed area is 100 nF / sec or less.
Here, the development rate with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the photopolymerizable layer by the time required for development (sec), and the penetration rate of the alkaline developer and Is a value indicating the rate of change in capacitance (F) when the photopolymerizable layer is formed on a conductive support and immersed in a developer.
Hereinafter, a method for measuring “development speed with respect to an alkali developer” and “penetration speed of an alkali developer” in the present invention will be described in detail.

<アルカリ現像液に対する現像速度の測定>
ここで、光重合性層のアルカリ現像液に対する現像速度とは、光重合性層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値である。
本発明における現像速度の測定方法としては、図1に示すように、アルミニウム支持体上に未露光の光重合性層を備えたものをpH10〜13.5の範囲の、一定のアルカリ現像液(30℃)中に浸漬し、光重合性層の溶解挙動をDRM干渉波測定装置で調査した。図1に、光重合性層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の概略図を示す。本発明においては、640nmの光を用い干渉により膜厚の変化を検出した。現像挙動が光重合性層表面からの非膨潤的現像の場合、膜厚は現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。また、膨潤的溶解(脱膜的溶解)の場合には、膜厚は現像液の浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
<Measurement of development speed for alkaline developer>
Here, the development speed of the photopolymerizable layer with respect to the alkaline developer is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the photopolymerizable layer by the time (sec) required for development.
As a method for measuring the developing speed in the present invention, as shown in FIG. 1, an alkaline developer (with an unexposed photopolymerizable layer on an aluminum support having a pH in the range of 10 to 13.5 ( (30 ° C.), and the dissolution behavior of the photopolymerizable layer was investigated with a DRM interference wave measuring apparatus. FIG. 1 shows a schematic diagram of a DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of the photopolymerizable layer. In the present invention, a change in film thickness was detected by interference using light of 640 nm. When the development behavior is non-swelling development from the surface of the photopolymerizable layer, the film thickness gradually decreases with respect to the development time, and an interference wave corresponding to the thickness is obtained. Further, in the case of swelling dissolution (film removal dissolution), the film thickness changes due to the penetration of the developer, so that a clean interference wave cannot be obtained.

この条件において測定を続け、光重合性層が完全に除去され、膜厚が0となるまでの時間(現像完了時間)(s)と、光重合性層の膜厚(nm)より、現像速度を以下の式により求めることができる。この現像速度が大きいものほど、現像液により容易に膜が除去され、現像性が良好であると判定する。
(未露光部の)現像速度=〔光重合性層厚(nm)/記録完了時間(sec)〕
The measurement is continued under these conditions, and the development speed is calculated from the time (s) until the photopolymerizable layer is completely removed and the film thickness becomes 0 (development completion time) and the film thickness (nm) of the photopolymerizable layer. Can be obtained by the following equation. It is determined that the higher the development speed, the easier the film is removed by the developer and the better the developability.
Development speed (of unexposed area) = [photopolymerizable layer thickness (nm) / recording completion time (sec)]

<アルカリ現像液の浸透速度の測定>
アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記光重合性層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
本発明における浸透性の目安となる静電容量の測定方法としては、図2に示すように、pH10〜13.5の範囲の、一定のアルカリ現像液(28℃)中にアルミニウム支持体上に所定の露光量にて露光を行ない、硬化した光重合性層を備えたものを一方の電極として浸漬し、アルミニウム支持体に導線をつなぎ、他方に通常の電極を用いて電圧を印加する方法が挙げられる。電圧を印加後、浸漬時間の経過に従って現像液が支持体と光重合性層との界面に浸透し、静電容量が変化する。
<Measurement of penetration rate of alkali developer>
The permeation rate of the alkali developer is a value indicating the rate of change of the capacitance (F) when the photopolymerizable layer is formed on a conductive support and immersed in the developer.
As shown in FIG. 2, the method for measuring the capacitance, which is a measure of permeability in the present invention, is as follows. On an aluminum support in a certain alkaline developer (28 ° C.) in the range of pH 10 to 13.5. There is a method of performing exposure at a predetermined exposure amount, immersing one provided with a cured photopolymerizable layer as one electrode, connecting a lead wire to an aluminum support, and applying a voltage using a normal electrode on the other. Can be mentioned. After the voltage is applied, the developer permeates the interface between the support and the photopolymerizable layer as the immersion time elapses, and the capacitance changes.

この静電容量が変化するまでにかかる時間(s)と、光重合性層の静電容量の飽和値(nF)より以下の式により求めることができる。この浸透速度が小さいものほど、現像液の浸透性が低いと判定する。
(露光部の)現像液浸透速度=
〔光重合性層の静電容量の飽和値(nF)/静電容量変化が一定になるまでに要する時間(s)〕
From the time (s) required until this capacitance changes and the saturation value (nF) of the capacitance of the photopolymerizable layer, the following equation can be used. It is determined that the smaller the permeation rate, the lower the permeability of the developer.
Developer penetration rate (of exposed area) =
[Saturation value of capacitance of photopolymerizable layer (nF) / Time required for capacitance change to be constant (s)]

本発明の平版印刷版原版における光重合性層の好ましい物性としては、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、好ましくは80〜400nm/secであり、同様のアルカリ現像液の光重合性層に対する浸透速度は90nF/sec以下であることが好ましい。
また、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、更に好ましくは90〜200nm/secであり、同様のアルカリ現像液の光重合性層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。
現像速度の上限値、或いは、浸透速度の下限値には、特に制限はないが、両者のバランスを考慮するに、未露光部の現像速度は90〜200nm/secの範囲であることがより好ましく、アルカリ現像液の光重合性層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。
As a preferable physical property of the photopolymerizable layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention, the development rate of the unexposed area with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 by the above measurement is preferably 80 to 400 nm / sec. The permeation rate of the alkali developer into the photopolymerizable layer is preferably 90 nF / sec or less.
Further, the development rate of the unexposed area with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 as measured above is more preferably 90 to 200 nm / sec, and the penetration rate of the similar alkaline developer into the photopolymerizable layer is 80 nF / It is preferable that it is sec or less.
The upper limit of the development speed or the lower limit of the permeation speed is not particularly limited, but considering the balance between the two, the development speed of the unexposed area is more preferably in the range of 90 to 200 nm / sec. The permeation rate of the alkali developer into the photopolymerizable layer is preferably 80 nF / sec or less.

光重合性層の未露光部の現像速度や硬化後の光重合性層に対するアルカリ現像液の浸透速度の制御は、常法により行うことができるが、代表的なものとしては、未露光部の現像速度の向上には、親水性の化合物の添加が有用であり、露光部への現像液浸透抑制には、疎水性の化合物の添加する手段が有用である。
本発明においては、前記(A)赤外線吸収剤、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物などの光重合性層に含まれる化合物の種類、含有量などを調整することで、光重合性層の現像速度、現像液の浸透速度を容易に上記の好ましい範囲に制御することができる。
Control of the development rate of the unexposed part of the photopolymerizable layer and the penetration rate of the alkali developer into the photopolymerizable layer after curing can be performed by a conventional method. Addition of a hydrophilic compound is useful for improving the development speed, and means for adding a hydrophobic compound is useful for suppressing the penetration of the developer into the exposed area.
In the present invention, photopolymerization is performed by adjusting the type and content of the compound contained in the photopolymerizable layer such as (A) infrared absorber, (B) polymerization initiator, and (C) polymerizable compound. The development speed of the conductive layer and the penetration speed of the developer can be easily controlled within the above preferred ranges.

[支持体]
本発明の光重合性画像記録材料に用いられる支持体としては、従来公知の、平版印刷版原版に使用される親水性支持体であればいずれも使用することができる。
使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持体表面には、必要に応じて、親水性の付与や強度向上等の目的で、適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。
[Support]
As the support used in the photopolymerizable image recording material of the present invention, any conventionally known hydrophilic support used in a lithographic printing plate precursor can be used.
The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc). , Copper, etc.), plastic films (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) Examples include paper or plastic film on which such a metal is laminated or vapor-deposited. If necessary, these support surfaces may be subjected to appropriate known physical and chemical treatments for the purpose of imparting hydrophilicity or improving strength.

特に、好ましい支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板が特に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。   In particular, preferred supports include paper, polyester film or aluminum plate, among which dimensional stability is good, relatively inexpensive, and a surface with excellent hydrophilicity and strength is provided by surface treatment as required. An aluminum plate that can be used is particularly preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

本発明でいう支持体に好適なアルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる基板をアルミニウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。   The aluminum plate suitable for the support in the present invention is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum. In addition to a pure aluminum plate, an alloy mainly composed of aluminum and containing a trace amount of foreign elements. A plate or aluminum (alloy) is selected from laminated or vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-described substrates made of aluminum or aluminum alloy are collectively referred to as an aluminum substrate. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element.

このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。
また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。アルミニウム支持体には適宜必要に応じて後述の支持体表面処理が施されてもよく、施されなくてもよい。
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and it is a conventionally known material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be changed as appropriate according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the desire of the user. The aluminum support may or may not be subjected to a support surface treatment described below as appropriate.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is performed chemically in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity at the time of anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような、温度が50〜90℃であり、濃度が15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の中心線平均粗さRaが0.2〜0.5μmであれば、特に方法条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, the temperature is preferably 50 to 90 ° C. and the concentration is 15 to 65 mass as described in JP-A-53-12739. And a method of alkali etching described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method condition is not particularly limited as long as the center line average roughness Ra of the treatment surface is 0.2 to 0.5 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に通常、陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/m2の範囲に入るように処理条件を選択することができる。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then usually anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used as a main component of the electrolytic bath singly or in combination. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater, and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions, and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter, a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support prepared by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. Conditions can be selected.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 As the hydrophilization treatment of the support surface, widely known methods can be applied. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号の各公報に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. A support having electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, and JP-A-52-30503, and the above-mentioned anodizing treatment and hydrophilization treatment A combined surface treatment is also useful.

[中間層(下塗り層)]
本発明の光重合性画像記録材料では、光重合性層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平11−38635号、特開平11−38629号、特開平10−282645号、特開平10−301262号、特開平11−24277号、特開平11−109641号、特開平10−319600号、特開平11−84674号、特開平11−327152号、特開2000−10292号、特開2000−235254号、特開2000−352824号、特開2001−209170号の各公報等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
In the photopolymerizable image recording material of the present invention, an intermediate layer (undercoat layer) may be provided for the purpose of improving adhesion between the photopolymerizable layer and the support and soiling. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, JP-A-10-69092, JP-A-10-115931, Kaihei 11-38635, JP-A-11-38629, JP-A-10-282645, JP-A-10-301262, JP-A-11-24277, JP-A-11-109641, JP-A-10-319600, JP-A-10-319600 Nos. 11-84684, 11-327152, 2000-10292, 2000-235254, 2000-352824, 2001-209170, etc. Can do.

〔酸素遮断層〕
本発明においては、光重合性層の上に酸素遮断層を設けることを要する。
以下、本発明の特徴的構成要素である酸素遮断層について説明する。
本発明に用いられる酸素遮断層は、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)であり、且つ、250〜400nmに吸収極大を有する化合物、及び、500〜700nmに吸収極大を有する化合物の少なくとも一方を含有することを特徴とする。該酸素遮断層が上記特徴を有することによって、本発明の光重合性画像記録材料は、高感度な記録と、製造時・生保存時における不要な重合反応、画像露光時におけるカブリの効果的な抑制が達成できる。
また、酸素遮断層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、光重合性層(以下、単に「感光層」ともいう)との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。このような酸素遮断層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号、特開昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
(Oxygen barrier layer)
In the present invention, it is necessary to provide an oxygen blocking layer on the photopolymerizable layer.
Hereinafter, the oxygen barrier layer, which is a characteristic component of the present invention, will be described.
The oxygen barrier layer used in the present invention has an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day), and has an absorption maximum at 250 to 400 nm. It contains at least one of a compound and a compound having an absorption maximum at 500 to 700 nm. Since the oxygen-blocking layer has the above-mentioned characteristics, the photopolymerizable image recording material of the present invention has high sensitivity recording, unnecessary polymerization reaction during production and raw storage, and effective fogging during image exposure. Suppression can be achieved.
In addition to the oxygen permeability described above, the oxygen blocking layer has a desired property that it does not substantially impede transmission of light used for exposure, and is a photopolymerizable layer (hereinafter also simply referred to as “photosensitive layer”). It is desirable that it has excellent adhesion and can be easily removed in the development process after exposure. Such an oxygen barrier layer has been conventionally devised and described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

酸素遮断層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the oxygen blocking layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / Examples include water-soluble polymers such as vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc. Can be used alone or in combination. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

酸素遮断層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100%加水分解され、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。   The polyvinyl alcohol used for the oxygen barrier layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are hydrolyzed by 71 to 100% and have a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

また、ポリビニルアルコールのカルボキシル基変性タイプ、カチオン変性タイプ、アセトアセチル変性タイプ、スルホン酸変性タイプ等も好適に用いることができる。これらの具体例としては、T−330H、T−330ST,T−350,T−230,T−215、K−210,Z−200,Z−200H,Z−210,Z−100、F−78(いずれも日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。
前記ポリビニルアルコールの酸素遮断層中における含有量は、固形分換算で、50〜100質量%の範囲であることが好ましく、70〜90質量%の範囲であることがより好ましい。
In addition, a carboxyl group-modified type, a cation-modified type, an acetoacetyl-modified type, a sulfonic acid-modified type, etc. of polyvinyl alcohol can be suitably used. Specific examples thereof include T-330H, T-330ST, T-350, T-230, T-215, K-210, Z-200, Z-200H, Z-210, Z-100, F-78. (Both manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).
The content of the polyvinyl alcohol in the oxygen barrier layer is preferably in the range of 50 to 100% by mass, more preferably in the range of 70 to 90% by mass in terms of solid content.

酸素遮断層に含まれる前記ポリビニルアルコール以外の樹脂成分としては、例えば、セルロース、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体などの水溶性高分子、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ナイロン、ポリアミド、シリコーン等の非水溶性高分子化合物などがあげられる。
通常、酸素遮断層は、画像形成時に水で除去されるため、層自体は水溶性であることが好ましく、そのため、ポリビニルアルコールと併用される樹脂も水溶性高分子を含むことが好ましい。酸素遮断層に含まれるポリビニルアルコール以外の樹脂成分のうち、50%以上が水溶性高分子であることがさらに好ましい態様である。
Examples of resin components other than the polyvinyl alcohol contained in the oxygen blocking layer include water-soluble polymers such as cellulose, polyvinyl pyrrolidone, gelatin, polyacrylic acid, polyacrylamide, and vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer, polyethylene, and polypropylene. And water-insoluble polymer compounds such as polyethylene terephthalate, polystyrene, polycarbonate, nylon, polyamide, and silicone.
Usually, since the oxygen blocking layer is removed with water during image formation, the layer itself is preferably water-soluble. Therefore, the resin used in combination with polyvinyl alcohol preferably also contains a water-soluble polymer. In a more preferred embodiment, 50% or more of the resin components other than polyvinyl alcohol contained in the oxygen blocking layer is a water-soluble polymer.

酸素遮断層と光重合性層との接着性が高いことが耐刷性の点で有利であり、この観点から、ポリビニルアルコールと併用する樹脂として、ビニルピロリドンを構造単位として含む水溶性高分子が好ましく、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドンと酢酸ビニルの共重合体等がその例として挙げられる。
ポリビニルピロリドンを構造単位として含む水溶性高分子を用いる場合、ビニルピロリドン単位構造の酸素遮断層中に占める割合には特に制限はないが、通常5〜30質量%であり、好ましくは10〜25質量%であり、さらに好ましくは15〜20質量%の範囲である。
High adhesion between the oxygen blocking layer and the photopolymerizable layer is advantageous in terms of printing durability, and from this viewpoint, as a resin used in combination with polyvinyl alcohol, a water-soluble polymer containing vinylpyrrolidone as a structural unit is used. Preferable examples include polyvinylpyrrolidone and a copolymer of vinylpyrrolidone and vinyl acetate.
When a water-soluble polymer containing polyvinyl pyrrolidone as a structural unit is used, the proportion of the vinyl pyrrolidone unit structure in the oxygen barrier layer is not particularly limited, but is usually 5 to 30% by mass, preferably 10 to 25% by mass. %, And more preferably in the range of 15 to 20% by mass.

保護層中には、ポリビニルアルコール、その他の樹脂成分に加えて、各種の有機化合物、無機化合物を添加してもよい。また、光重合性組成物上に塗設するための、塗布性を改善するなどの目的で界面活性剤を添加しても良い。   In the protective layer, various organic compounds and inorganic compounds may be added in addition to polyvinyl alcohol and other resin components. Further, a surfactant may be added for the purpose of improving the coating property for coating on the photopolymerizable composition.

酸素遮断層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(酸素遮断層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。
本発明における酸素遮断層は、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)である必要があり、好ましくは1≦A≦12(ml/m2・day)、更に好ましくは2≦A≦8(ml/m2・day)の範囲である。
Components of the oxygen barrier layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the oxygen barrier layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure.
The oxygen barrier layer in the present invention must have an oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm of 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day), preferably 1 ≦ A ≦ 12 (ml / M 2 · day), more preferably 2 ≦ A ≦ 8 (ml / m 2 · day).

なお、酸素透過性Aの制御は、酸素遮断性の高いポリビニルアルコールと併用して、ポリビニルアルコール(PVA)よりも酸素遮断性の低い樹脂を用い、両者の含有比を調整することにより行うのが好ましく、特に、酸素遮断性の低い樹脂として前記したポリビニルピロリドン(PVP)またはその誘導体を用いるのが好ましい。ここで、PVA/PVP(またはその誘導体)の比率Bは2≦B≦10が好ましい。更に好ましくは3≦B≦7である。
また、同様の観点から、本発明に係る酸素遮断層に用いられるPVAのケン化度は85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、更に好ましくは95%以上である。PVAのケン化度は、高いほうが耐水性が高く、高湿下での保存性が向上する。
ここで用いられるポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは1万〜100万の範囲のものが好適であり、2万〜10万のものがより好ましい。
The oxygen permeability A is controlled by using a resin having a lower oxygen barrier than polyvinyl alcohol (PVA) in combination with polyvinyl alcohol having a higher oxygen barrier, and adjusting the content ratio between the two. In particular, it is preferable to use the above-described polyvinyl pyrrolidone (PVP) or a derivative thereof as a resin having a low oxygen barrier property. Here, the ratio B of PVA / PVP (or a derivative thereof) is preferably 2 ≦ B ≦ 10. More preferably, 3 ≦ B ≦ 7.
From the same viewpoint, the degree of saponification of PVA used in the oxygen barrier layer according to the present invention is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more. The higher the degree of saponification of PVA, the higher the water resistance and the better the storage stability under high humidity.
The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) used here can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 10,000 to 1 million, preferably 20,000. More preferable is 100,000.

また、本発明に係る酸素遮断層には、更なるセーフライト安全性向上の目的で、250〜400nm(紫外線領域)に吸収極大を有する化合物及び、500〜700nm(可視領域)に吸収極大を有する化合物の少なくとも一方(以下、これら化合物を総称して「特定光吸収剤」と記すことがある)を添加する必要がある。   In addition, the oxygen barrier layer according to the present invention has a compound having an absorption maximum at 250 to 400 nm (ultraviolet region) and an absorption maximum at 500 to 700 nm (visible region) for the purpose of further improving safety light safety. At least one of the compounds (hereinafter, these compounds may be collectively referred to as “specific light absorber”) needs to be added.

作用機構は明確ではないが、本発明に係る酸素遮断層は、特定光吸収剤を添加することにより、光重合性画像記録材料の取扱い時に生じる不必要なカブリ(非画像部残色)を抑制するものと考えられる。これは、該特定光吸収剤が、上記カブリの原因となる紫外光や可視光を吸収するフィルターとしての機能を果たし、これらの光が感光層に入るのを低減するためと考えられる。
まず、紫外光によるカブリを抑制するために使用される、250〜400nmに吸収極大を有する化合物(以下、適宜「紫外線吸収剤」と称する)について述べる。
Although the mechanism of action is not clear, the oxygen blocking layer according to the present invention suppresses unnecessary fogging (non-image portion residual color) that occurs during handling of the photopolymerizable image recording material by adding a specific light absorber. It is thought to do. This is considered to be because the specific light absorber functions as a filter that absorbs ultraviolet light and visible light that cause the above-described fogging, and reduces the entry of these lights into the photosensitive layer.
First, a compound having an absorption maximum at 250 to 400 nm (hereinafter referred to as “ultraviolet absorber” as appropriate) used for suppressing fogging by ultraviolet light will be described.

<250〜400nmに吸収極大を有する化合物>
本発明に用いられる紫外線吸収剤とは、極大吸収波長が250〜400nmにある化合物であれば特に制限はないが、300〜400nmに吸収極大を有する化合物がより好ましく、さらに好ましくは、露光に用いる光の透過を実質阻害しない化合物であり、波長840〜1200nmの範囲には吸収を有さないものが好ましい。
中でも、本発明における好ましい紫外線吸収剤は350〜400nmに吸収極大を有する染料である。具体例としては、特開昭62−210458号、同63−104046号、同63−103235号、特願昭62−43704号、同62−218648号、特開昭63−306436号、同63−314535号などに記載されている紫外線吸収染料を挙げることができる。
<Compound having absorption maximum at 250 to 400 nm>
The ultraviolet absorber used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a maximum absorption wavelength of 250 to 400 nm, but is preferably a compound having an absorption maximum at 300 to 400 nm, more preferably used for exposure. A compound that does not substantially inhibit light transmission and has no absorption in the wavelength range of 840 to 1200 nm is preferable.
Among them, preferred ultraviolet absorbers in the present invention are dyes having an absorption maximum at 350 to 400 nm. Specific examples include JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-62-43704, JP-A-62-218648, JP-A-63-306436, JP-A-63-3. And UV absorbing dyes described in No. 314535.

例えばアリール基で置換されたベンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリドン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタジエン化合物、ベンゾオキサゾール化合物さらに紫外線吸収ポリマーを用いることができる。   For example, a benzotriazole compound substituted with an aryl group, a 4-thiazolidone compound, a benzophenone compound, a cinnamic acid ester compound, a butadiene compound, a benzoxazole compound, and an ultraviolet absorbing polymer can be used.

また、紫外線吸収剤として特に好ましく用いられる紫外線吸収染料としては、下記一般式〔1−a〕、〔1−b〕、〔1−c〕又は〔1−d〕で表される化合物で吸収極大が300〜400nmである化合物が挙げられる。   Further, as an ultraviolet absorbing dye that is particularly preferably used as an ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula [1-a], [1-b], [1-c] or [1-d] is used and the absorption maximum The compound whose is is 300-400 nm is mentioned.

Figure 0004279656
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式中、R1aは−OX又は−N(X)(Y)で表される原子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基又は置換されていてもよいアルキル基或いはそのナトリウム・カリウム塩を表し、R2aとR33aは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、又は前記の−OX基と同様の基を表し、Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、又はスルホアルキル基或いはそのナトリウム・カリウム塩で置換されたフェニル基又はスルホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキルチオアルキル基を、またLは置換されていてもよいメチン基を表す。R4aはアルキル基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基或いはアシル置換、非置換のアミノ基を表す。mは整数1又は2を、nは整数0又は1をそれぞれ示す。 In the formula, R 1a is an atomic group represented by —OX or —N (X) (Y), and X and Y are a hydrogen atom, an alkyl group, a cyanoalkyl group, a carboxyalkyl group, a sulfoalkyl group, a hydroxy group, Represents an alkyl group, a halogenated alkyl group, an optionally substituted alkyl group or a sodium / potassium salt thereof, and R 2a and R3 3a represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, or Represents the same group as the -OX group, and Q represents a phenyl group or a sulfoalkyl group substituted with at least one halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, or a sulfoalkyl group or a sodium / potassium salt thereof, or a sulfoalkoxyalkyl. Group, a sulfoalkylthioalkyl group, and L represents an optionally substituted methine group. R 4a represents an alkyl group, a carboxy group, an alkyloxycarbonyl group, or an acyl-substituted or unsubstituted amino group. m represents an integer 1 or 2, and n represents an integer 0 or 1, respectively.

Figure 0004279656
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式中R1b、R2b,R3b,R4b及びR5bは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基又はスルホン基或いはそのナトリウム・カリウム塩を表し、Rはアルキル基又はカルボキシル基を表す。 In the formula, R 1b , R 2b , R 3b , R 4b and R 5b are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, an acylamino group, a carboxyl group or a sulfone group, or a sodium / potassium salt thereof. R represents an alkyl group or a carboxyl group.

Figure 0004279656
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式中、R1c及びR2cはアルキル基、置換アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はカルボキシル基を表し、R3c及びR4cはスルホン酸基もしくはカルボキシル基で置換されたアルキル基又はスルホン酸基もしくはカルボキシル基又はスルホン酸基で置換されたアリール基或いはそのナトリウム・カリウム塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。Mはナトリウム、カリウム又は水素原子を表し、lは0又は1を表す。 In the formula, R 1c and R 2c represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group or a carboxyl group, and R 3c and R 4c represent an alkyl group or a sulfonic acid group substituted with a sulfonic acid group or a carboxyl group. Alternatively, it represents an aryl group substituted with a carboxyl group or a sulfonic acid group or a sodium / potassium salt thereof, and L represents a substituted or unsubstituted methine chain. M represents a sodium, potassium or hydrogen atom, and l represents 0 or 1.

Figure 0004279656
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式中R1d,R2d,R3d,R4dはアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。R5d及びR6dはスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を表す。 In the formula, R 1d , R 2d , R 3d and R 4d represent an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a cyano group, an alkylcyano group, an alkoxy group and a sulfoalkyl group. R 5d and R 6d represent a sulfonic acid group or an alkyl sulfonic acid group.

以下に本発明で好ましく用いられる染料の具体的化合物例(1−1)〜(1−27)を示すが本発明がこれに限定されるものではない。   Specific examples of compounds (1-1) to (1-27) of dyes preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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本発明に係る酸素遮断層は水溶性であることから、用いる紫外線吸収剤もまた、水溶性の化合物であることが好ましい。また、感光層は水不溶性であることから、紫外線吸収剤が隣接する感光層に混入することはなく、紫外線吸収剤により感光層に所望されない影響を与える懸念はない。
このような紫外線吸収剤は、本発明の効果、および酸素遮断層の物理的強度の観点から、酸素遮断層塗布液中に、固形分で5〜40質量%程度添加することが好ましく、10〜35質量%添加することがより好ましく、15〜25質量%添加することが最も好ましい。
次に、可視光によるカブリを抑制するために使用される、500〜700nmに吸収極大を有する化合物(以下、適宜「可視光吸収剤」と称する)について述べる。
Since the oxygen barrier layer according to the present invention is water-soluble, the ultraviolet absorber used is also preferably a water-soluble compound. Further, since the photosensitive layer is insoluble in water, the ultraviolet absorber is not mixed into the adjacent photosensitive layer, and there is no concern that the ultraviolet absorber will have an undesirable effect on the photosensitive layer.
From the viewpoint of the effect of the present invention and the physical strength of the oxygen blocking layer, such an ultraviolet absorber is preferably added to the oxygen blocking layer coating solution in an amount of about 5 to 40% by mass in terms of solid content. It is more preferable to add 35% by mass, and it is most preferable to add 15 to 25% by mass.
Next, a compound having an absorption maximum at 500 to 700 nm (hereinafter referred to as “visible light absorber” as appropriate) used for suppressing fogging by visible light will be described.

<500〜700nmに吸収極大を有する化合物>
本発明に用いられる可視光吸収剤とは、極大吸収波長が500〜700nmにある化合物であれば特に制限はない。可視光吸収剤は、検版性付与のため添加された着色剤をはじめとする感光層に含まれる種々の化合物が光励起により電子移動反応を起こしてラジカルを発生し、非画像部で不必要なカブリ(非画像部残色)が生じるのを低減させることができる。
このような可視光吸収剤としては、前述の着色剤の例に挙げられるような染料または顔料、或いは、以下に挙げる水溶性染料を単独又は組合せて使用することが特に好ましい。
<Compound having absorption maximum at 500 to 700 nm>
The visible light absorber used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a maximum absorption wavelength of 500 to 700 nm. Visible light absorbers are unnecessary in non-image areas because various compounds contained in the photosensitive layer, including colorants added to impart plate inspection properties, undergo electron transfer reactions by photoexcitation to generate radicals. The occurrence of fog (non-image portion residual color) can be reduced.
As such a visible light absorber, it is particularly preferable to use dyes or pigments as exemplified in the above-mentioned colorants, or water-soluble dyes listed below alone or in combination.

水溶性の染料としては、カチオン染料、反応性染料、酸性染料、直接染料が挙げられる。更に具体的には、ナフトールグリーンB等のニトロソ染料;ナフトールイエローS、ポーラーイエローブラウン等のニトロ染料;ダイヤクロンスカーレットRN、ダイヤミラレッドB、ダイヤミラブリリアントレッドBB、ダイヤミラブリリアントバイオレット5R、ダイヤミラブリリアントレッドGG、ダイヤミラブリリアントオレンジFR、ダイヤミラブリリアントオレンジ3R、ダイアクリルブリリアントレッドGTL−N、ダイアクリルレッドGL−N、ダイアクリルブリリアントレッドGRL−N、ビクトリアスカーレット3R、スルホンアシドブルーR、スプラミンレッドGG、スプラミンレッドB、スプラミンブルーR、ポーラーレッドG、ポーラーオレンジR、メタクロームレッド5G、メタクロームブリリアントブルーBL、スプラノールオレンジRR、スプラノールブリリアントレッド等のアゾ染料;ダイアクリルレッドCS−N、チアジンレッドR、シリウススカーレットB、チオフラビンT等のチアゾール染料;オーラミン等のジフェニルメタン染料;ビクトリアピュアブルーBOH、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、エチルバイオレット、スピリットブルー、アシドバイオレット6B、マラカイトグリーン等のトリフェニルメタン染料;ピロニンG、ローダミンS、エオシンG、エオシンY、エリスロシン、ローズベンガルB、ローダミンB、ローダミン3GO等のキサンテン染料;アクリジンオレンジ2G、オイクリシン2GNX等のアクリジン染料;ニュートラルバイオレット、ニュートラルレッド、アゾカーミンG、サフラニンT、ウールファーストブルーBL、インドシアニンB等のアジン染料;メルドラズブルー、ニールブルーA、ガロシアニン等のオキサジン染料;シリウスライトブルーFFRL、シリウスライトブルーF3GL等のジオキサジン染料;メチレンブルー、メチレングリーンB等のチアジン染料;ダイアシドライトブルーBR、アリザリンダイレクトバイオレットEFF、スプラセンバイオレット4BF、アリザリンスカイブルーB、アリザリンシアニングリーンG、カーボラングリーンG、アリザリンサフイロールB、アリザリンシアニングリーン5G、アリザリンブリリアントピュアブルーR、ブリリアントアリザリンライトレッド4B、アリザリンウラノール2B等のアントラキノン染料;ヘリオゲンブルーSBP、ドラゾールフアーストブルー8GS等のフタロシアニン染料;ダイアクリルブリリアントレッド3GN、ダイアクリルブリリアントピンクGN、ダイアクリルブリリアントピンクRN、ダイアクリルブリリアントレッド6BN等のシアニン染料;キノリンイエロー、スプラライトイエローGGL等のキノリン染料等が使用可能である。
このような可視光吸収剤は、本発明の効果、及び物理強度の観点から、酸素遮断層塗布液中に、固形分で5〜40質量%程度添加することが好ましく、10〜35質量%添加することがより好ましく、15〜25質量%添加することが最も好ましい。
Examples of water-soluble dyes include cationic dyes, reactive dyes, acid dyes, and direct dyes. More specifically, nitroso dyes such as naphthol green B; nitro dyes such as naphthol yellow S and polar yellow brown; Diachron Scarlet RN, Diamira Red B, Diamira Brilliant Red BB, Diamira Brilliant Violet 5R, Diamira Brilliant Red GG, Diamira Brilliant Orange FR, Diamira Brilliant Orange 3R, Diacryl Brilliant Red GTL-N, Diacryl Red GL-N, Diacryl Brilliant Red GRL-N, Victoria Scarlet 3R, Sulfon Acid Blue R, Spramine Red GG, Spramine Red B, Spramine Blue R, Polar Red G, Polar Orange R, Metachrome Red 5G, Metachrome Brilliant Blue B Azo dyes such as Spranol Orange RR and Spranol Brilliant Red; thiazole dyes such as Diacryl Red CS-N, Thiazine Red R, Sirius Scarlet B, and Thioflavin T; Diphenylmethane dyes such as Auramine; Victoria Pure Blue BOH, Crystal Violet, Triphenylmethane dyes such as methyl violet, ethyl violet, spirit blue, acid violet 6B and malachite green; xanthene dyes such as pyronin G, rhodamine S, eosin G, eosin Y, erythrosin, rose bengal B, rhodamine B, rhodamine 3GO; Acridine dyes such as acridine orange 2G and euclicin 2GNX; neutral violet, neutral red, azocarmine G, safranin T Azine dyes such as Wool First Blue BL and Indocyanine B; Oxazine dyes such as Meldraz Blue, Neil Blue A and Garocyanine; Dioxazine dyes such as Sirius Light Blue FFRL and Sirius Light Blue F3GL; Thiazine dyes such as Methylene Blue and Methylene Green B Diacidal blue BR, alizarin direct violet EFF, splatene violet 4BF, alizarin sky blue B, alizarin cyanine green G, carborane green G, alizarin saphirol B, alizarin cyanine green 5G, alizarin brilliant pure blue R, brilliant Anthraquinone dyes such as Alizarin Light Red 4B and Alizarin Uranol 2B; Heliogen Blue SBP, Drazol Fast Bull -Phthalocyanine dyes such as 8GS; cyanine dyes such as diacryl brilliant red 3GN, diacryl brilliant pink GN, diacryl brilliant pink RN, and diacryl brilliant red 6BN; quinoline dyes such as quinoline yellow and spularite yellow GGL It is.
From the viewpoint of the effect of the present invention and physical strength, such a visible light absorber is preferably added in an amount of about 5 to 40% by mass, and 10 to 35% by mass in the oxygen barrier layer coating solution. More preferably, it is most preferable to add 15-25 mass%.

以上の特定光吸収剤は、いずれも酸素遮断層塗布液に含まれる溶媒および/またはPVA、PVPなどに可溶性、或いは、均一分散が可能であれば、種々の目的に応じて選択可能であるが、その選択にあたっては、光重合性画像記録材料に画像を形成するのに用いる光源の発光スペクトル以外の波長域に主な吸収スペクトルを有する染料であることが必要である。そして、該発光スペクトルの波長(域)における酸素遮断層の吸光度は0.5以下、好ましくは0.1以下であることが必要である。   Any of the above specific light absorbers can be selected according to various purposes as long as they are soluble or uniformly dispersible in the solvent and / or PVA, PVP and the like contained in the oxygen barrier layer coating solution. In the selection, it is necessary that the dye has a main absorption spectrum in a wavelength region other than the emission spectrum of the light source used for forming an image on the photopolymerizable image recording material. The absorbance of the oxygen blocking layer at the wavelength (range) of the emission spectrum needs to be 0.5 or less, preferably 0.1 or less.

本発明における酸素遮断層の含水率は7%以下であることが好ましい。より好ましくは6%以下、さらに好ましくは5%以下である。含水率が高い場合には印刷版を製造時におけるアルミの巻き取り後に、アルミの裏面に酸素遮断層が接着してしまい、その後の剥離が困難となり、製造上問題となりやすくなる。   The moisture content of the oxygen barrier layer in the present invention is preferably 7% or less. More preferably, it is 6% or less, More preferably, it is 5% or less. When the moisture content is high, the oxygen barrier layer adheres to the back surface of the aluminum after winding the aluminum during the production of the printing plate, and subsequent peeling becomes difficult, which tends to be a problem in production.

次に、本発明の平版印刷版原版の製造方法について説明する。
本発明の感光性平版印刷版原版の製造方法は、前記した本発明の光重合性画像記録材料を用いた感光性平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に光重合性層および酸素遮断層を設けて平版印刷版原版を得た後、該酸素遮断層の含水率が7%以下である状態で、平版印刷版原版を巻き取ることを特徴とする。以下、この含水率に調整する具体的工程を説明する。
Next, a method for producing the lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described.
The method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention is a method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor using the above-described photopolymerizable image recording material according to the present invention, comprising a photopolymerizable layer on a support and After obtaining a lithographic printing plate precursor by providing an oxygen barrier layer, the lithographic printing plate precursor is wound up in a state where the moisture content of the oxygen barrier layer is 7% or less. Hereinafter, a specific process for adjusting the moisture content will be described.

(含水率及びその制御工程)
本発明に係る酸素遮断層の含水率は、感度と画像形成性の観点から、7%以下、好ましくは4〜7%の範囲内である。より好ましくは4.5〜6%の範囲内である。本明細書において、含水率とは、酸素遮断層の固形成分の全質量に対する、酸素遮断層中に含有される水の質量%を意味する。含水率の測定は、例えば酸素遮断層を剥離して適宜溶剤に溶解して、カールフィッシャー法を原理とする水分測定装置等により測定することができる。
(Moisture content and its control process)
The water content of the oxygen barrier layer according to the present invention is 7% or less, preferably 4 to 7%, from the viewpoint of sensitivity and image formability. More preferably, it is in the range of 4.5 to 6%. In the present specification, the water content means mass% of water contained in the oxygen barrier layer with respect to the total mass of the solid component of the oxygen barrier layer. The moisture content can be measured by, for example, a moisture measuring device based on the Karl Fischer method after peeling off the oxygen blocking layer and dissolving it in a solvent as appropriate.

このような含水率に調整する工程を含む光重合性平版印刷版原版の製造方法は、全て本発明の方法として含まれる。例えば、本発明の製造方法として、酸素遮断層を光重合性層上に塗布した後、恒温、恒湿である調湿ゾーン内に支持体を放置、または通過させることにより、上述した一定の含水率を有する酸素遮断層を得ることができる。恒温、恒湿の調湿ゾーンとしては、例えば給気及び排気手段を備え、これにより湿度を保つことができる恒温ケーシング等が挙げられる。このような調湿ゾーン内の温度は15〜30℃の範囲内、また湿度は20〜65%の範囲内であることが好ましい。このような条件下の調湿ゾーン内に例えば30秒〜10分間放置するか又は調湿ゾーン内を通過させることにより、酸素遮断層を目的の含水率にしてもよい。   All methods for producing a photopolymerizable lithographic printing plate precursor including the step of adjusting the water content are included as the method of the present invention. For example, in the production method of the present invention, after the oxygen blocking layer is applied on the photopolymerizable layer, the support is left in or passed through a humidity control zone having constant temperature and humidity, thereby allowing the constant water content described above. An oxygen barrier layer having a rate can be obtained. As the constant temperature and constant humidity control zone, for example, a constant temperature casing or the like that is provided with air supply and exhaust means and can maintain humidity by this means can be mentioned. The temperature in such a humidity control zone is preferably in the range of 15 to 30 ° C., and the humidity is preferably in the range of 20 to 65%. For example, the oxygen barrier layer may have a desired moisture content by leaving it in the humidity control zone under such conditions, for example, for 30 seconds to 10 minutes, or by passing through the humidity control zone.

図3は本発明の製造方法における調湿工程の一実施態様である、調湿ケーシングを用いる工程の模式図である。図3において光重合性層及び酸素遮断層を塗布された支持体は、乾燥用の第一の槽を通過した後、温度25℃、湿度60%のケーシング中を一定の速度で通過し、含水率が一定に調整される。図3のケーシングは給気及び排気手段と連結されており、これによりケーシング内の温度及び湿度が一定に保たれる。このような調湿ケーシングについてさらに具体的に述べると、例えばケーシングはアクリル板、アルミ等の材質からなるものを用いることができ、また、給気及び排気手段は1時間当たりケーシング内容積の10〜100倍の給気及び排気量を有するファン等により行うことができる。しかし、ケーシングの材質、サイズ、給気及び排気システム等については設定湿度、調湿を行う光重合性平板印刷版の種類やサイズ、また製造ラインの規模等により適宜設計を行えることは当業者に明らかであり、これらのものに限定されない。   FIG. 3 is a schematic diagram of a process using a humidity control casing, which is an embodiment of the humidity control process in the production method of the present invention. In FIG. 3, the support coated with the photopolymerizable layer and the oxygen blocking layer passes through the first tank for drying, and then passes through the casing at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% at a constant speed. The rate is adjusted to be constant. The casing of FIG. 3 is connected to the air supply and exhaust means, so that the temperature and humidity in the casing are kept constant. More specifically, such a humidity control casing can be made of, for example, a casing made of a material such as an acrylic plate or aluminum, and the air supply and exhaust means has a casing internal volume of 10 to 10 hours per hour. It can be carried out by a fan or the like having 100 times the air supply and exhaust amount. However, it is known to those skilled in the art that the casing material, size, air supply and exhaust system, etc. can be appropriately designed depending on the set humidity, the type and size of the photopolymerizable lithographic printing plate for humidity control, the scale of the production line, etc. Obviously, it is not limited to these.

なお、通常水溶性高分子を主成分とする酸素遮断層は水に溶解されて塗布されるため、酸素遮断層を塗布した後、含水率の調整工程の前に乾燥を行うことが好ましい。乾燥は例えば、90℃〜140℃の温度範囲内で30秒〜5分間加熱することにより行われる。乾燥工程に引き続き上記調湿工程を行ってもよく、また、乾燥工程後、例えば保管等により一定時間経過した後上記調湿工程を行ってもよい。調湿工程の条件はこの乾燥工程後の支持体の含水率によって適宜変えることができ、このようにして、一定の含水率の支持体を得ることができる。   In addition, since the oxygen barrier layer mainly composed of a water-soluble polymer is usually dissolved and applied in water, it is preferable to dry after applying the oxygen barrier layer and before the moisture content adjusting step. Drying is performed, for example, by heating within a temperature range of 90 ° C. to 140 ° C. for 30 seconds to 5 minutes. The humidity control process may be performed subsequent to the drying process, or after the drying process, for example, after a certain period of time due to storage or the like, the humidity control process may be performed. The conditions of the humidity control step can be appropriately changed depending on the moisture content of the support after the drying step, and thus a support having a constant moisture content can be obtained.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1〜10、比較例1〜3]
〔支持体の作製〕
<アルミニウム板>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.001質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理、及び、ろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作製した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
[Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 3]
(Production of support)
<Aluminum plate>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.001 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: Containing 0.03% by mass, the balance is prepared by using aluminum and an inevitable impurity aluminum alloy, and after the molten metal treatment and filtration, a 500 mm thick and 1200 mm wide ingot is DC cast. It was produced by the method. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, the temperature was kept constant at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing using a continuous annealing machine at 500 degreeC, it finished by cold rolling to 0.24 mm in thickness, and obtained the aluminum plate of JIS1050 material. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行うことにより行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
The surface treatment was performed by continuously performing the following various treatments (a) to (j). In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)機械的粗面化処理
図4に示したような装置を使って、比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図4において、1はアルミニウム板、2および4はローラ状ブラシ、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。研磨剤の平均粒径は30μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は45mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical roughening treatment Using an apparatus as shown in FIG. 4, a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied as a polishing slurry to the surface of the aluminum plate. However, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller-like nylon brush. In FIG. 4, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller brushes, 3 is a polishing slurry, and 5, 6, 7 and 8 are support rollers. The average particle size of the abrasive was 30 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 45 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass and a temperature of 70 ° C. / M 2 dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment Desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図6に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 5, the time TP until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 6 was used.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment An aluminum plate was subjected to an etching treatment by spraying at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% to dissolve the aluminum plate by 0.50 g / m 2. The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when the electrochemical surface roughening process is performed using the alternating current of the previous stage is removed, and the edge portion of the generated pit is melted to smooth the edge portion. I made it. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸5.0g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図6に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 5.0 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 5, the time TP until the current value reaches a peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 6 was used.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment The aluminum plate was subjected to an etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
図7に示す構造の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。第一および第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度38℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
以上の処理により得られた支持体のRaは0.45であった。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment was carried out using an anodizing apparatus having a structure shown in FIG. 7 to obtain a lithographic printing plate support. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 38 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
The Ra of the support obtained by the above treatment was 0.45.

〔下塗り〕
次に、このアルミニウム支持体に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。
〔undercoat〕
Next, the following undercoat liquid was applied to this aluminum support with a wire bar, and dried at 90 ° C. for 30 seconds using a hot air drying apparatus. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .

<下塗り液>
・メチルアクリレート:エチルアクリレート:2−アクリルアミド−2−
メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム塩の
モル比70:15:15の共重合体 0.1g
・2−アミノエチルホスホン酸 0.1g
・メタノール 50g
・イオン交換水 50g
<Undercoat liquid>
・ Methyl acrylate: ethyl acrylate: 2-acrylamide-2-
0.1 g of methyl-1-propanesulfonic acid sodium salt in a molar ratio of 70:15:15
・ 2-aminoethylphosphonic acid 0.1g
・ Methanol 50g
・ Ion exchange water 50g

〔光重合性層〕
次に、下記光重合性層塗布液(P−1〜P−7、比較感光液1)を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム板にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて122℃で43.5秒間行って光重合性層を形成した。乾燥後の被覆量は1.4g/m2であった。
<光重合性層塗布液>
・赤外線吸収剤(表1に記載の化合物) 0.08g
・重合開始剤(表1に記載の化合物) 0.30g
・増感助剤(CI−1) 0.15g
・重合性化合物(表1に記載の化合物) 1.00g
・バインダーポリマー(表1に記載の化合物) 1.00g
・着色剤(エチルバイオレットEV−6Hnaps) 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.02g
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株))
・メチルエチルケトン 10.4g
・メタノール 4.83g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.4g
(Photopolymerizable layer)
Next, the following photopolymerizable layer coating solutions (P-1 to P-7, comparative photosensitive solution 1) were prepared and applied to the above-mentioned undercoated aluminum plate using a wire bar. Drying was performed at 122 ° C. for 43.5 seconds with a hot air drying apparatus to form a photopolymerizable layer. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .
<Photopolymerizable layer coating solution>
Infrared absorber (compound described in Table 1) 0.08 g
-Polymerization initiator (compound described in Table 1) 0.30 g
-Sensitization aid (CI-1) 0.15 g
-Polymerizable compound (compound described in Table 1) 1.00 g
-Binder polymer (compound described in Table 1) 1.00 g
・ Coloring agent (Ethyl Violet EV-6Hnaps) 0.04g
・ Fluorine surfactant 0.02g
(Megafuck F-780-F Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 10.4g
・ Methanol 4.83g
・ 10.4 g of 1-methoxy-2-propanol

Figure 0004279656
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なお、上記表1中、光重合性層塗布液P−4においては、2種の開始剤(I−2とI−3)をそれぞれ0.15gづつ添加した。
上記光重合性層塗布液に用いた赤外線吸収剤(IR−1〜IR−3)、可視光に吸収を有する増感色素(比較色素)、重合開始剤(I−1〜I−7)、増感助剤(CI−1)、重合性化合物(M−1〜M−3)、及びバインダーポリマー(B−1〜B−3)の構造を以下に示す。
In Table 1, in the photopolymerizable layer coating liquid P-4, 0.15 g of each of two kinds of initiators (I-2 and I-3) was added.
Infrared absorbers (IR-1 to IR-3) used in the photopolymerizable layer coating solution, sensitizing dyes (comparative dyes) that absorb visible light, polymerization initiators (I-1 to I-7), The structures of the sensitization aid (CI-1), the polymerizable compounds (M-1 to M-3), and the binder polymers (B-1 to B-3) are shown below.

Figure 0004279656
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〔酸素遮断性層〕
次に、下記組成の6質量%水溶液を調整し、酸素遮断層塗布液(OC−1〜OC−10、比較OC−1〜比較OC−3)を得た。この塗布液を表3記載の乾燥塗布質量になるように、上記の光重合性層表面にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて125℃、75秒間乾燥させ、酸素遮断層を形成した。
<酸素遮断層塗布液>
・ポリビニルアルコール(表2に記載の化合物) A質量部
・ポリビニルピロリドン誘導体(表2に記載の化合物) B質量部
(但し、A+B=98質量部であり、A/Bは表2記載のPVA/PVP値である。)
・250〜400nmに吸収極大を有する化合物
(UVA;表2に記載の化合物、添加量)
・500〜700nmに吸収極大を有する化合物
(VA;表2に記載の化合物、添加量)
・界面活性剤(エマレックス710) 日本エマルジョン社製 2質量部
・純水
(Oxygen barrier layer)
Next, 6 mass% aqueous solution of the following composition was prepared and the oxygen barrier layer coating liquid (OC-1 to OC-10, comparative OC-1 to comparative OC-3) was obtained. The coating solution was applied to the surface of the photopolymerizable layer with a wire bar so as to have a dry coating mass described in Table 3, and dried at 125 ° C. for 75 seconds using a hot air dryer, and an oxygen blocking layer. Formed.
<Oxygen barrier coating solution>
Polyvinyl alcohol (compound described in Table 2) A part by mass Polyvinylpyrrolidone derivative (compound described in Table 2) B part by mass (provided that A + B = 98 parts by mass, and A / B is PVA / PVP value.)
・ Compounds having an absorption maximum at 250 to 400 nm
(UVA; compounds listed in Table 2, addition amount)
・ Compounds having an absorption maximum at 500 to 700 nm
(VA; compounds listed in Table 2, addition amount)
・ Surfactant (Emalex 710) 2 parts by mass made by Nippon Emulsion ・ Pure water

Figure 0004279656
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前記表2における化合物は以下の通りである。
(PVA誘導体)
PVA105、PVA205(商品名、すべてクラレ社製)
The compounds in Table 2 are as follows.
(PVA derivative)
PVA105, PVA205 (trade names, all manufactured by Kuraray)

(PVP誘導体)
ルビスコール :ルビスコールVA64W (商品名、BASF社製)
VPC:VPC 55 K65W (BASF社製)
Vcap:cap K43E (BASF社製)
VPI:uvitec VPI55 K18P (BASF社製)
(PVP derivative)
Rubiscor: Rubiscol VA64W (trade name, manufactured by BASF)
VPC: VPC 55 K65W (manufactured by BASF)
Vcap: cap K43E (BASF)
VPI: uvitec VPI55 K18P (manufactured by BASF)

(250〜400nmに吸収極大を有する化合物)
UVA−1:前記例示化合物1−2
UVA−2:前記例示化合物1−4
UVA−3:前記例示化合物1−21
(Compound having an absorption maximum at 250 to 400 nm)
UVA-1: Exemplified Compound 1-2
UVA-2: Exemplified Compound 1-4
UVA-3: Exemplified Compound 1-21

(500〜700nmに吸収極大を有する化合物)
VA−1:Rhodamine B
VA−2:下記構造の化合物
VA−3:Pyronin B
(Compound having an absorption maximum at 500 to 700 nm)
VA-1: Rhodamine B
VA-2: Compound having the following structure VA-3: Pyronin B

Figure 0004279656
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ここで、表3に記載の塗布量(g/m2)としたときの、酸素遮断層の酸素透過率を以下の条件で測定した。結果を前記表2に酸素透過性として併記した。
(酸素透過率の測定)
両面を厚さ約20μmのポリエチレンでコートした厚さ約200μmの印画紙表面に、前記光重合性層上に塗布するのと同様に酸素遮断層を塗布、乾燥し、測定用の試料を作製した。予め測定した印画紙の酸素透過率は、下記測定条件において約700ml/(m2・day・atom)であり、酸素遮断層における透過率を測定する際には十分無視できる値であった。
このようにして得られた試料を用い、JIS K7126B及びASTM D3985に記載の気体透過度試験方法に準じて、モコン社製 OX−TRAN2/20を用いて、25℃60%RHの条件で酸素透過率〔ml/(m2・day・atom)〕を測定した。
Here, the oxygen transmission rate of the oxygen blocking layer when the coating amount (g / m 2 ) shown in Table 3 was used was measured under the following conditions. The results are shown in Table 2 as oxygen permeability.
(Measurement of oxygen permeability)
An oxygen blocking layer was applied and dried on the surface of a photographic paper having a thickness of about 200 μm and coated on both sides with a polyethylene having a thickness of about 20 μm, and a sample for measurement was prepared. . The oxygen permeability of the photographic paper measured in advance was about 700 ml / (m 2 · day · atom) under the following measurement conditions, and was a value that could be sufficiently ignored when measuring the permeability in the oxygen barrier layer.
Using the sample thus obtained, according to the gas permeability test method described in JIS K7126B and ASTM D3985, oxygen permeation was performed at 25 ° C. and 60% RH using OX-TRAN 2/20 manufactured by Mocon. The rate [ml / (m 2 · day · atom)] was measured.

以上のようにして、支持体上に光重合性層、酸素遮断層を有する実施例1〜10及び比較例1〜3の平版印刷版原版を得た。いずれの光重合性層塗布液、酸素遮断層塗布液を用いたかは、下記表3に記載した。   As described above, lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 having a photopolymerizable layer and an oxygen blocking layer on a support were obtained. Table 3 below shows which photopolymerizable layer coating solution and oxygen barrier layer coating solution was used.

[評価]
(1)感度評価
得られた実施例1〜10、比較例1〜3の平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、解像度175lpi、外面ドラム回転数150rpm、出力0〜8Wの範囲でlogEで0.15ずつ変化させて露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件で行った。露光後、水道水による水洗により保護層を除去した後、富士写真フイルム社製LP−1310HIIを用い、30℃12秒で現像した。現像液は、富士フイルム(株)社製DV−2の1:4水希釈水を用い、フィニッシャーは、富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1水希釈液を用いた。
この条件で、処理前の版濃度を1.0としたとき、0.9の濃度の画像を得るのに必要な露光量を感度の指標とした。実施例1の値を100として相対値で示した。結果を表3に示す。
[Evaluation]
(1) Sensitivity evaluation The obtained planographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were subjected to a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, with a resolution of 175 lpi and an outer drum rotation speed of 150 rpm. The exposure was performed while changing the log E by 0.15 in the range of 0 to 8 W output. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH. After the exposure, the protective layer was removed by washing with tap water, and then developed using LP-1310HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. at 30 ° C. for 12 seconds. The developer used was a 1: 4 water-diluted water of DV-2 manufactured by FUJIFILM Corporation, and the 1: 1 water-diluted solution of GN-2K manufactured by FUJIFILM Corporation was used as the finisher.
Under this condition, assuming that the plate density before processing is 1.0, the exposure amount necessary to obtain an image having a density of 0.9 was used as an index of sensitivity. The value of Example 1 was set as 100 and indicated as a relative value. The results are shown in Table 3.

(2)セーフライト安全性評価
<UVカット白灯安全性>
実施例1〜10、比較例1〜3の平版印刷版原版を25℃、50%RHの環境下で、UVカット白灯(FLR 40S−W−NUM 紫外線吸収膜付きナショナル社製)、400ルクスに1時間曝光し、その後、水道水による水洗により保護層を除去した後、前記感度評価の現像工程と同じ方法で現像した。続いて現像後の印刷版原版の非画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し測定した。また、曝光させず、赤灯下で取り扱った平版印刷版原版についても、同様の方法で現像を行い、非画像部濃度を測定した。本実施例においては、それらの非画像部濃度の差Δfogを求め、セーフライト安全性の指標とした。Δfogの値が小さいほどセーフライト安全性が良好であり、0.02以下が実用上問題ないレベルである。結果を表3に示す。
(2) Safety light safety evaluation <UV-cut white light safety>
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were subjected to UV-cut white light (FLR 40S-W-NUM made by National Corporation with UV absorbing film) under an environment of 25 ° C. and 50% RH, 400 lux. Then, after the protective layer was removed by rinsing with tap water, development was performed in the same manner as in the development process for the sensitivity evaluation. Subsequently, the non-image area density of the printing plate precursor after development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918. Further, the lithographic printing plate precursor not exposed to light and handled under a red light was also developed in the same manner, and the non-image area density was measured. In this embodiment, the difference Δfog between the non-image area densities is obtained and used as an index of safelight safety. The smaller the value of Δfog is, the better the safety light safety is, and 0.02 or less is a level that causes no problem in practice. The results are shown in Table 3.

<黄色灯安全性>
実施例1〜10、比較例1〜3の平版印刷版原版を25℃、45%RHの環境下で、黄色灯(PSライト)、400ルクスに6時間曝光し、その後、水道水による水洗により保護層を除去した後、前記感度評価の現像工程と同じ方法で現像した。続いて現像後の印刷版原版の非画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し測定した。また、曝光させず、赤灯下で取り扱った平版印刷版原版についても、同様の方法で現像を行い、非画像部濃度を測定した。本実施例においては、それらの非画像部濃度の差Δfogを求め、セーフライト安全性の指標とした。Δfogの値が小さいほどセーフライト安全性が良好であり、0.02以下が実用上問題ないレベルである。結果を表3に示す。
<Yellow light safety>
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were exposed to yellow light (PS light) and 400 lux for 6 hours in an environment of 25 ° C. and 45% RH, and then washed with tap water. After removing the protective layer, development was performed in the same manner as in the development process for sensitivity evaluation. Subsequently, the non-image area density of the printing plate precursor after development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918. Further, the lithographic printing plate precursor not exposed to light and handled under a red light was also developed in the same manner, and the non-image area density was measured. In this embodiment, the difference Δfog between the non-image area densities is obtained and used as an index of safelight safety. The smaller the value of Δfog is, the better the safety light safety is, and 0.02 or less is a level that causes no problem in practice. The results are shown in Table 3.

<白灯安全性>
実施例1〜10、比較例1〜3の平版印刷版原版を25℃、50%RHの環境下で、通常白灯(OSRAMネオルミスーパーFLR40S−W/M/36、三菱社製)、400ルクスに1時間曝光し、その後、水道水による水洗により保護層を除去した後、前記感度評価の現像工程と同じ方法で現像した。続いて現像後の印刷版原版の非画像部濃度を、マクベス反射濃度計RD−918を使用し測定した。また、曝光させず、赤灯下で取り扱った平版印刷版原版についても、同様の方法で現像を行い、非画像部濃度を測定した。本実施例においては、それらの非画像部濃度の差Δfogを求め、セーフライト安全性の指標とした。Δfogの値が小さいほどセーフライト安全性が良好であり、0.02以下が実用上問題ないレベルである。結果を表3に示す。
<Safety of white light>
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 were usually white light (OSRAM Neorumi Super FLR40S-W / M / 36, manufactured by Mitsubishi) under an environment of 25 ° C. and 50% RH, 400 After exposure to lux for 1 hour, the protective layer was removed by rinsing with tap water, followed by development in the same manner as in the development process for sensitivity evaluation. Subsequently, the non-image area density of the printing plate precursor after development was measured using a Macbeth reflection densitometer RD-918. Further, the lithographic printing plate precursor not exposed to light and handled under a red light was also developed in the same manner, and the non-image area density was measured. In this embodiment, the difference Δfog between the non-image area densities is obtained and used as an index of safelight safety. The smaller the value of Δfog is, the better the safety light safety is, and 0.02 or less is a level that causes no problem in practice. The results are shown in Table 3.

(3)耐刷性評価
実施例1〜10、比較例1〜3の平版印刷版原版に、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、解像度175lpiの80%平網画像を、25℃50%RHの環境下で、出力8W、外面ドラム回転数150rpm、版面エネルギー100mJ/cm2で露光した。露光後、水道水による水洗により保護層を除去した後、前記感度評価の現像工程と同じ方法で現像し、平版印刷版を得た。
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷し、刷了枚数を耐刷性の指標とした。結果を表3に示す。
(3) Evaluation of printing durability An 80% flat screen image with a resolution of 175 lpi was obtained with a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo, which was equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser on the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3. In an environment of 25 ° C. and 50% RH, exposure was performed with an output of 8 W, an outer drum rotation speed of 150 rpm, and a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 . After the exposure, the protective layer was removed by rinsing with tap water, and then developed by the same method as in the developing process of the sensitivity evaluation to obtain a lithographic printing plate.
The obtained lithographic printing plate was printed using a printing press Lithron manufactured by Komori Corporation, and the number of finished sheets was used as an index of printing durability. The results are shown in Table 3.

Figure 0004279656
Figure 0004279656

表3の結果より明らかなように、本発明の特徴である、酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)であり、且つ、特定光吸収剤を含有する酸素遮断層を有する実施例1〜10の平版印刷版原版は、添加した特定光吸収剤の種類に応じたセーフライト安全性、及び、耐刷性のいずれにおいても優れていることが判った。これに対し、酸素透過性Aが0.2未満では、セーフライト安全性が悪化し(比較例2)、酸素透過性Aが20よりも大きい場合には耐刷が悪化し(比較例3)、実用上問題があるレベルであることが判った。また、概酸素遮断層が特定光吸収剤を含有する場合には、通常の白灯または/および黄色灯に対するセーフライト安全性も向上できることが判った。 As is clear from the results in Table 3, the oxygen permeability A, which is a feature of the present invention, is 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day) and contains a specific light absorber. The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 having a blocking layer were found to be excellent in both safelight safety and printing durability according to the type of the added specific light absorber. On the other hand, when the oxygen permeability A is less than 0.2, the safety light safety is deteriorated (Comparative Example 2), and when the oxygen permeability A is larger than 20, the printing durability is deteriorated (Comparative Example 3). It was found that the level is problematic in practical use. Further, it has been found that when the general oxygen blocking layer contains a specific light absorber, the safety light safety against a normal white light and / or yellow light can be improved.

[実施例11〜14、比較例4]
実施例1と同様にして酸素遮断層の乾燥まで行い、その後、図3に示されるようなケーシング内で表4に示される条件において調湿工程を行い、実施例11〜14、比較例4の平版印刷版原版を得た。得られた平版印刷版原版の酸素遮断層について含水率を以下に示す方法により測定した。結果を表4に示す。ここで得られた各平版印刷版原版を巻き取ってコイル状とした。
[Examples 11 to 14, Comparative Example 4]
The oxygen barrier layer is dried in the same manner as in Example 1, and then the humidity control step is performed in the casing shown in FIG. 3 under the conditions shown in Table 4, and Examples 11 to 14 and Comparative Example 4 are performed. A lithographic printing plate precursor was obtained. The water content of the oxygen barrier layer of the obtained lithographic printing plate precursor was measured by the following method. The results are shown in Table 4. Each lithographic printing plate precursor obtained here was wound into a coil shape.

(酸素遮断層含水率の測定方法)
酸素遮断層の一部を剥離して質量を測定し、これを無水メタノールに溶解し、カールフィッシャー法を原理とする水分測定装置(KYOTO ELECTRONICS MKC−3)によりオーバーコート層中の水分量を測定した。上記装置におけるカールフィッシャー法の測定原理を以下に簡単に説明する。
2O+I2+SO2+CH3OH+3RN→2RN・HI+RN・HSO4CH3(1)
2I-→ I2+2e- (2)
ヨウ素イオンを含む発生液中で電気分解によりヨウ素イオンからヨウ素を発生させ、発生ヨウ素が(1)式に従って水分子と反応して消費されると、装置の電極でヨウ素が消費されたことを検知して再び電気分解により(2)式に従いヨウ素を発生させる。この電気分解に要した電気量から試料内の水分量が換算される。
(Measurement method of moisture content of oxygen barrier layer)
A part of the oxygen barrier layer is peeled off, the mass is measured, this is dissolved in anhydrous methanol, and the moisture content in the overcoat layer is measured by a moisture measuring device (KYOTO ELECTRONICS MKC-3) based on the Karl Fischer method. did. The measurement principle of the Karl Fischer method in the above apparatus will be briefly described below.
H 2 O + I 2 + SO 2 + CH 3 OH + 3RN → 2RN · HI + RN · HSO 4 CH 3 (1)
2I - → I2 + 2e - ( 2)
Iodine is generated from iodine ions by electrolysis in a generation solution containing iodine ions, and when the generated iodine reacts with water molecules according to the formula (1) and is consumed, it is detected that iodine is consumed at the electrode of the device. Then, iodine is again generated according to the formula (2) by electrolysis. The amount of water in the sample is converted from the amount of electricity required for this electrolysis.

(剥離性の評価方法)
巻き取られた印刷版コイルを、30℃70%RHの環境下で2ヶ月放置した後、コイルから印刷版を剥がす際の剥離しやすさを以下の基準により官能評価した。結果を表4に示す。
良好:印刷版表面を傷つけることなく剥離可能
酸素遮断層はがれ:剥離時に酸素遮断層が支持体であるアルミニウム板の裏面に接着し、剥がれを生じた
(Peelability evaluation method)
The wound printing plate coil was left to stand in an environment of 30 ° C. and 70% RH for 2 months, and then the sensory evaluation was performed on the ease of peeling when peeling the printing plate from the coil according to the following criteria. The results are shown in Table 4.
Good: Peelable without damaging the printing plate surface. Oxygen barrier layer peels off: Oxygen barrier layer adheres to the back of the aluminum plate as a support during peeling, causing peeling

Figure 0004279656
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表4に明らかなように、酸素遮断層の含水率を本発明の製造方法における範囲内に調整して得られた実施例11〜14の平版印刷版原版は、コイル状にして高湿環境下で長期保存した後も、酸素遮断層の剥離がなく、製造適性に優れることがわかった。   As is apparent from Table 4, the planographic printing plate precursors of Examples 11 to 14 obtained by adjusting the moisture content of the oxygen barrier layer within the range of the production method of the present invention were coiled and subjected to a high humidity environment. After being stored for a long time, it was found that the oxygen barrier layer did not peel off and was excellent in production suitability.

感光層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of a photosensitive layer. 現像液の感光層への浸透性を評価するのに用いられる静電容量の測定方法の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the measuring method of the electrostatic capacitance used in evaluating the permeability to the photosensitive layer of a developing solution. 本発明の製造方法における調湿工程の一実施態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one embodiment of the humidity control process in the manufacturing method of this invention. 本発明の画像記録材料に用いる支持体の作製における機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for the mechanical roughening process in preparation of the support body used for the image recording material of this invention. 本発明の画像記録材料に用いる支持体の作製における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of the support body used for the image recording material of this invention. 本発明の画像記録材料に用いる支持体の作製における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current in preparation of the support body used for the image recording material of this invention. 本発明の画像記録材料に用いる支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for the anodizing process in preparation of the support body used for the image recording material of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 アルミニウム板
2、4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5、6、7、8 支持ローラ
11 アルミニウム板
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 電解処理液
15 電解液供給口
16 スリット
17 電解液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
40 主電解槽
50 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
414 電解処理槽
416 アルミニウム板
418、426 電解液
420 給電電極
422、428 ローラ
424 ニップローラ
430 電解電極
432 槽壁
434 直流電源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum plate 2, 4 Roller-shaped brush 3 Polishing slurry liquid 5, 6, 7, 8 Support roller 11 Aluminum plate 12 Radial drum roller 13a, 13b Main electrode 14 Electrolytic process liquid 15 Electrolyte supply port 16 Slit 17 Electrolyte path 18 Auxiliary anode 19a, 19b Thyristor 20 AC power supply 40 Main electrolytic cell 50 Auxiliary anode tank 410 Anodizing device 412 Power supply tank 414 Electrolytic treatment tank 416 Aluminum plate 418, 426 Electrolytic solution 420 Power supply electrode 422, 428 Roller 424 Nip roller 430 Electrolytic electrode 432 Tank wall 434 DC power supply

Claims (5)

支持体上に、(A)650〜1300nmに吸収極大を有する化合物、(B)重合開始剤、及び、(C)重合性化合物を含有する光重合性層と、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)であり、且つ、250〜400nmに吸収極大を有する化合物、及び、500〜700nmに吸収極大を有する化合物の少なくとも一方を含有する酸素遮断層と、を有する光重合性画像記録材料。 A photopolymerizable layer containing (A) a compound having an absorption maximum at 650 to 1300 nm, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound, and oxygen at 25 ° C. and 1 atm on the support. Permeability A is 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day) and contains at least one of a compound having an absorption maximum at 250 to 400 nm and a compound having an absorption maximum at 500 to 700 nm. A photopolymerizable image recording material comprising: an oxygen blocking layer. 前記酸素遮断層が、ポリビニルアルコール(PVA)と、ポリビニルピロリドン(PVP)又はその誘導体と、を含有してなり、両者の含有比率〔PVA/PVP(またはその誘導体)〕Bが2≦B≦10である請求項1に記載の光重合性画像記録材料。   The oxygen barrier layer contains polyvinyl alcohol (PVA) and polyvinyl pyrrolidone (PVP) or a derivative thereof, and the content ratio [PVA / PVP (or a derivative thereof)] of both is 2 ≦ B ≦ 10 The photopolymerizable image recording material according to claim 1. 前記PVAのケン化度が85%以上である請求項2に記載の光重合性画像記録材料。   The photopolymerizable image recording material according to claim 2, wherein the saponification degree of the PVA is 85% or more. 前記重合開始剤がアリールラジカルを発生しうる化合物であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の光重合性画像記録材料。   4. The photopolymerizable image recording material according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymerization initiator is a compound capable of generating an aryl radical. 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の光重合性画像記録材料を用いた感光性平版印刷版原版の製造方法であって、
支持体上に光重合性層および酸素遮断層を設けて平版印刷版原版を得た後、
該酸素遮断層の含水率が7%以下である状態で、平版印刷版原版を巻き取ることを特徴とする感光性平版印刷版原版の製造方法。
A method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor using the photopolymerizable image recording material according to any one of claims 1 to 4,
After obtaining a lithographic printing plate precursor by providing a photopolymerizable layer and an oxygen blocking layer on a support,
A method for producing a photosensitive lithographic printing plate precursor, comprising winding up the lithographic printing plate precursor in a state where the moisture content of the oxygen barrier layer is 7% or less.
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