JP4299644B2 - 親水性ステンレス鋼板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、これらの用途においては、人の手肌による接触にさらされるために手垢などの汚れが付着しやすく、また食材,調味料などにより汚れる機会が多くなっている。このため、洗剤を用いた清掃などのメンテナンスを常に心がけないと、外観上の美麗さを失うばかりでなく、汚れを起点とした錆の発生を招きやすいという問題があった。
ステンレス鋼板の表面を親水化する手段としては、表面に適度な凹凸を形成して親水性を高める方法、表面に親水性物質をコーティングする方法、あるいは熱処理により表面に特定の元素を濃化させて親水性を付与する方法などが提案されている。
例えば、特許文献1には、酸洗により表面に微細な凹凸を形成することで親水性を高めた高強度複相組織のステンレス鋼板が示されている。また特許文献2には、塩化第二鉄液のスプレーエッチングにより粗化面を形成することによって親水性を付与したオフセット印刷機用ステンレス平板が示されている。
また、特許文献6,7には、アナターゼ型チタン酸化物などの光半導体を含有した層を表面に形成した部材あるいはステンレス鋼が示されている。
さらに、特許文献8には、研磨仕上したステンレス鋼板を光輝焼鈍して、表面酸化皮膜中の原子濃度比(Cr+Si+Al)/Feを0.4以上にするとともに、研磨目に直角方向の中心線粗さRaを0.30μm以下とすることにより汚れ除去性を改善することが示されている。
また、引用文献3〜7で提案されている技術では、ステンレス鋼板の親水化処理としての適用を考えた場合に、処理剤を塗布するための設備・機器が別途必要なためにコストアップに繋がることになる。しかも、非金属である樹脂やセラミックスを被覆することになるためにリサイクル性に劣ることや環境負荷が大きくなるという問題点を内包することになる。
さらに、特許文献8で提案された技術では、研磨仕上にしか適用できないため、用途が限られるという欠点を有している。
そこで、本発明は、このような問題を解消すべく案出されたものであり、耐汚染性,メンテナンスフリー性に優れ、低コストで、しかもリサイクル性にも優れた親水性ステンレス鋼板を提供することを目的とする。
ステンレス鋼板としては、0.20〜2.0質量%のSiを含有しているものが好ましい。
このような表面特性を有するステンレス鋼板は、仕上光輝焼鈍前の冷間圧延を、圧延率90%以下で施した冷延ステンレス鋼板を、窒素比率15体積%以下の水素−窒素混合ガス雰囲気にて、温度T(℃)と露点D(℃)の間で、D≦0.067×T−107,D≦−40,かつT≧850の関係を満たす温度,湿度条件で仕上光輝焼鈍することにより得られる。
そして、表面酸化皮膜の組成および特定結晶面方位の集積度の適正化が、仕上光輝焼鈍時の雰囲気含有窒素量,温度及び露点と、仕上光輝焼鈍前に実施する冷間圧延時の圧延率の調整で行えることを見いだしたものである。
したがって、本発明により、冷延条件の調整及び光輝焼鈍の調整という簡便な手段のみで、親水性に優れたステンレス鋼板を得ることが可能になる。これにより、鋼板表面に付着する種々の汚れを、布巾などにより水拭きにより容易に除去できるので、各種厨房機器などに好適なステンレス鋼板を低コストで提供することが可能となる。
まず、表面に優れた親水性を付与するためには、表面酸化皮膜の組成を適正化する必要がある。SiO2主体の酸化物からなる皮膜であって、Cを除きSi:15原子%以上,Nb:5原子%以下,N:3原子%以下,残部がAl,Mn,Cr,Fe,Oからなる組成を有することを必須とする。
酸化皮膜組成の同定は、X線光電子分光法(XPS)による酸素スペクトルの解析により、主要な3つの酸化物SiO2,Cr2O3及びFe2O3についてのピーク高さの比率を比較して行う。すなわち、図1,2に示すような酸素スペクトルにおいて、結合エネルギー532.5eV位置のSiO2のピーク高さ比率;hSiO2,結合エネルギー530.9eV位置のCr2O3のピーク高さ比率;hCr2O3,及び結合エネルギー530.3eV位置のFe2O3のピーク高さ比率;hFe2O3としたとき、hSiO2,hCr2O3,及びhFe2O3を比較する。
そして、hSiO2≧(hCr2O3+hFe2O3)/2となった場合に、これをSiO2主体の酸化皮膜と断定する。例示した図1はSiO2を主体とした酸化物の場合の酸素スペクトルを、図2はCr2O3及びFe2O3を主体とした酸化物の場合の酸素スペクトルを表わしている。
なお、本明細書中での表面皮膜組成の分析値は、X線光電子分光法による各元素スペクトルの積分面積に基づいた半定量分析値により算出した値である。
SiO2主体の酸化皮膜により親水性が向上する理由については、次のようなことが考えられよう。一般的に、SiO2は酸化物の中ではイオン結合性が比較的大きいことが知られている。これらの酸化物ではその最表面において分極した−OH基が配列しているため、やはり分極した水分子との間に引力が働くことにより親水性を示すものと思われる。反対に、皮膜中にイオン結合の小さいCr,Fe等の酸化物を主体とした酸化皮膜では水分子との親和力が低く親水性が得られないと考えられる。
このNbは、光輝焼鈍時に焼鈍条件によっては窒素と反応して窒化物を形成し、表面皮膜中Nb窒化物を混入させることになる。表面皮膜中のNb窒化物量が多くなると親水性が低下する。これは、Nb窒化物のイオン結合が小さいために、その表面占有率が高くなるほど水分子との親和力を低下させるためと考えられる。本発明者等は、各種予備実験から、皮膜中のNb量が5原子%を越え、かつN量が3原子%を超えると、所望の親水性が得られないことを確認した。
したがって、本発明では、皮膜中のNb量を5原子%以下,N量を3原子%以下と規定している。
すなわち、鋼板表面における結晶面方位(110),(200),(211),(220),(310),(222)の相対強度の総和に対して、結晶面方位(110),(211)及び(310)の相対強度比の合計を20%以上にすると、仕上光輝焼鈍時に形成される酸化皮膜中のSiO2比率が高くなって、親水性が向上する。なお、ここでの相対強度比とは、X線ディフラクトメーターにより測定した結晶面方位(uvw)の積分強度I(uvw)を、結晶面方位が完全にランダムである標準試料の積分強度I0(uvw)で除した相対強度を求め、上記6面の相対強度の総和に対する各面の百分率と定義する。
すなわち、塗装に先立って鉄鋼材料の表面に施されるリン酸塩処理においては、予め原板表面に(111)面の集積度を高めることが行われている。これにより酸に解けにくいγ−Fe2O3皮膜厚を薄くすることができ、かつリン酸塩の析出核密度を高めて緻密な結晶を得ることができる。
本発明における結晶面方位制御による親水性の向上も、緻密なSiO2皮膜が選択的に生成することによるものと推察される。
通常通りに均熱後に熱間圧延したステンレス鋼の熱延鋼帯を、焼鈍後、冷間圧延と仕上げの光輝焼鈍を行う。
鋼板表面の結晶面方位(110),(211)及び(310)の相対強度比の合計を20%以上としてSiO2を主体とする酸化皮膜を形成するためには、仕上焼鈍前の冷間圧延での冷延率を90%以下にする必要がある。90%を超える圧延率では、焼鈍後に(111)の発達が著しくなり、(110),(211)及び(310)の合計が20%未満になってしまう。このため、SiO2を主体とする酸化皮膜が形成されにくくなる。
水素−窒素からなる雰囲気ガス中の窒素比率が大きくなると、Nb窒化物の生成量が増加して親水性を低下させることになる。素材のNb含有量にもよるが、窒素比率が15体積%以下の雰囲気であれば、Nb窒化物の影響は認められない。
露点D(℃)が−40℃を超えると酸化皮膜が厚くなりすぎて干渉色による着色(テンパーカラー)を生じる。また、温度T(℃)が850℃未満ではSiが酸化皮膜中に十分に濃化せず、SiO2を主体とする酸化皮膜が形成されない。さらに、露点D(℃)が0.067×T−107を超える条件で光輝焼鈍すると、酸化皮膜がCr及びFe主体の酸化物となって、所望の親水性は得られない。これらの条件は、各種予備実験を繰り返すことにより、実験的に確認したものである。
各サンプルについて、表面をX線光電子分光法により皮膜最表面での原子比率及び酸素スペクトルから酸化物ピーク高さ比率を測定した。また、X線ディフラクトメーターで表面での結晶面方位を測定した。さらに、各サンプルについて、静滴法によりイオン交換水0.1mlの液滴との接触角を測定し、接触角が50度以下の場合を親水性が優れるものとして評価した。
本発明例である試験No.1〜8では、SiO2を主体とした適正な酸化物皮膜が形成されており、接触角が50度以下となって優れた親水性を示していた。Si含有量が比較的少ない鋼種を素材としたものであっても、適切な条件で冷間圧延と光輝焼鈍を施せば(試験No.7,8参照)、表面にはSiO2を主体とする酸化皮膜が形成され、所望の親水性を発揮できている。
これに対して、比較例の試験No.9では、雰囲気ガス中の窒素比率が高いために、表面皮膜におけるNb及びNの比率が高くなって、接触角が大きくなっている。また、試験No.10〜12では、光輝焼鈍の温度,湿度の条件が本発明範囲外であるために、皮膜最表面におけるSi比率が低く、Cr及びFe主体の酸化皮膜が形成されて接触角が50度を超えるようになっている。さらに、試験No.13では、仕上冷延時の圧延率が高いために、結晶面方位の相対的強度比(110)+(211)+(310)の合計が20%に満たず、SiO2主体の酸化部皮膜が形成されず親水性を示さなかった。
Claims (3)
- 0.06〜0.08質量%のC,0.18〜2.0質量%のSi,0.28〜0.31質量%のMn,0.030〜0.033質量%のP,0.008〜0.009質量%のS,17.77〜17.81質量%のCr,0.20〜0.23質量%のNi,0.39〜0.42質量%のNbを含有し、残部がFe及び不可避的不純物からなるステンレス鋼板の表面に形成された皮膜が、Cを除きSi:15原子%以上,Nb:5原子%以下,N:3原子%以下,残部がAl,Mn,Cr,Fe,Oからなる組成を有するSiO2主体の酸化物からなり、かつ鋼板表面における結晶面方位(110),(200),(211),(220),(310),(222)の相対強度の総和に対して、結晶面方位(110),(211)及び(310)の相対強度比の合計が20%以上を占めることを特徴とする親水性ステンレス鋼板。
- ステンレス鋼板が0.20〜2.0質量%のSiを含有している請求項1に記載の親水性ステンレス鋼板。
- 仕上光輝焼鈍前の冷間圧延を、圧延率90%以下で施した冷延ステンレス鋼板を、窒素比率15体積%以下の水素−窒素混合ガス雰囲気にて、温度T(℃)と露点D(℃)の間で、D≦0.067×T−107,D≦−40,かつT≧850の関係を満たす温度,湿度条件で仕上光輝焼鈍することを特徴とする請求項1又は2に記載の親水性ステンレス鋼板の製造方法。
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