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JP4315580B2 - Printed wiring board and printed wiring board manufacturing method - Google Patents
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
ICチップなどの電子部品を載置するプリント配線板に関し、特にコンデンサ及び抵抗を内蔵するプリント配線板に関するのもである。
【0002】
【従来の技術】
通常、コンピュータ内部においては、電源とICチップ間の配線距離が長く、この配線部分のループインダクタンスは非常に大きいものとなっている。このため、高速動作時のIC駆動電圧の変動も大きくなり、ICの誤動作の原因となり得る。また、電源電圧を安定化させることも困難である。このため、電源供給の補助として、コンデンサをプリント配線板の表面に実装している。
即ち、電圧変動となるループインダクタンスは、図26(A)に示す電源からプリント配線板300内の電源線を介してICチップ270の電源端子272Pまでの配線長、及び、ICチップ270のアース端子272Eから電源からプリント配線板300内のアース線を介して電源までの配線長に依存する。また、逆方向の電流が流れる配線同志、例えば、電源線とアース線との間隔を狭くすることでループインダクタンスを低減できる。
このため、図26(B)に示すように、プリント配線板300にチップコンデンサ298を表面実装することで、ICチップ270と電源供給源となるチップコンデンサ292とを結んでいるプリント配線板300内の電源線とアース線との配線長を短くするとともに、配線間隔を狭くすることで、ループインダクタンスを低減することが行われていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、IC駆動電圧変動の原因となる電圧降下の大きさは周波数に依存する。このため、ICチップの駆動周波数の増加に伴い、図26(B)を参照して上述したようにチップコンデンサを表面に実装させてもなおループインダクタンスを低減できず、IC駆動電圧の変動を十分に抑えることが難しくなった。
【0004】
本発明は上述した課題を解決するためなされたものであり、その目的とするところは、ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。
【0005】
また、本発明の目的とするところは、高集積化を達成できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1〜6のプリント配線板の製造方法では、コア基板内にチップコンデンサを収容することが可能となり、ループインダクタンスを低減させたプリント配線板を提供できる。また、コア基板内に抵抗を収容することが可能となり、プリント配線板の高集積化を実現できる。更に、コンデンサと抵抗との間の配線距離を短縮することが可能となる。
【0007】
コア基板上に層間樹脂絶縁層を設けて、該層間樹脂絶縁層にバイアホールもしくはスルーホールを施して、導電層である導体回路を形成するビルドアップ法によって形成する回路を意味している。それらには、セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれかを用いることができる。
【0009】
コア基板上に層間樹脂絶縁層を設けて、該層間樹脂絶縁層にバイアホールもしくはスルーホールを施して、導電層である導体回路を形成するビルドアップ法によって形成する回路を意味している。それらには、セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれかを用いることができる。
【0010】
空隙には、樹脂を充填させることが望ましい。コンデンサもしくは抵抗、コア基板間の空隙をなくすことによって、内蔵されたコンデンサもしくは抵抗が、挙動することが小さくなるし、コンデンサを起点とする応力が発生したとしても、該充填された樹脂により緩和することができる。また、該樹脂には、コンデンサとコア基板との接着やマイグレーションの低下させるという効果も有する。
【0011】
請求項8〜9では、チップコンデンサ及び抵抗の電極の被覆層から、少なくとも一部が露出してプリント配線板に収容し、被覆層から露出した電極にめっきにより電気的接続を取ってある。このとき、被覆層から露出した金属は、主成分がCuであるものであることが望ましい。その理由としては露出した金属に、めっきで金属層を形成しても接続性が高くなり、接続抵抗を低減することができる。
【0012】
コンデンサの電極の金属膜には、銅、ニッケル、貴金属のいずれかの金属が配設されているものが望ましい。内蔵したコンデンサにスズや亜鉛などの層は、バイアホールとの接続部におけるマイグレーションを誘発しやすいからである。故に、マイグレーションの発生を防止することもできる。
【0013】
請求項10では、チップコンデンサ及び抵抗の電極にめっき膜を被覆して、プリント配線板に収容し、めっき膜を設けた電極にめっきにより電気的接続を取ってある。めっき膜を設けた電極にめっきにより電気的接続を取るため、密着性が高く、電極とバイアホールとの接続信頼性を高めることができる。また、マイグレーションの発生を防止することもできる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図を参照して説明する。
先ず、本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の構成について図7、図8を参照して説明する。図7は、プリント配線板10の断面を示し、図8は、図7に示すプリント配線板10にICチップ90を搭載し、ドータボード94側へ取り付けた状態を示している。
【0015】
図7に示すようにプリント配線板10は、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bと、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容するコア基板30と、ビルドアップ層80A、80Bを構成する層間樹脂絶縁層40、60とからなる。層間樹脂絶縁層40には、バイアホール46及び導体回路48が形成され、層間樹脂絶縁層60には、バイアホール66及び導体回路68が形成されている。
【0016】
チップコンデンサ20Aは、図15(A)に示すように第1電極21と第2電極22と、該第1、第2電極に挟まれた誘電体23とから成り、該誘電体23には、第1電極21側に接続された第1導電膜24と、第2電極22側に接続された第2導電膜25とが複数枚対向配置されている。第1電極21、第2電極22の表面には、被覆層26が被覆されている。同様に、チップ抵抗20Bは、図15(B)に示すように第1電極21と第2電極22とが備えられ、第1電極21、第2電極22の表面には、被覆層26が被覆されている。
【0017】
図8に示すように上側のビルドアップ層80Aのバイアホール66には、ICチップ90のパッド92S1、92S2、92P1,92P2へ接続するためのバンプ76が形成されている。一方、下側のビルドアップ層80Bのバイアホール66には、ドータボード94のパッド96S1、96S2、96P1、96P2へ接続するためのバンプ76が配設されている。コア基板30にはスルーホール36が形成されている。
【0018】
ICチップ90の信号用のパッド92S2は、バンプ76−導体回路68−バイアホール66−スルーホール36−バイアホール66−バンプ76を介して、ドータボード94の信号用のパッド96S2に接続されている。一方、ICチップ90の信号用のパッド92S1は、バンプ76−バイアホール66−スルーホール36−バイアホール66−バンプ76を介して、ドータボード94の信号用のパッド96S1に接続されている。
【0019】
ICチップ90の電源用パッド92P1は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バイアホール46を介してチップコンデンサ20Aの第1電極21へ接続されている。一方、ドータボード94の電源用パッド96P1は、バンプ76−バイアホール66−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46を介してチップコンデンサ20Aの第1電極21へ接続されている。
【0020】
ICチップ90の電源用パッド92P2は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バイアホール46を介してチップコンデンサ20Aの第2電極22へ接続されている。一方、ドータボード94の電源用パッド96P2は、バンプ76−バイアホール66−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46を介してチップコンデンサ20Aの第2電極22へ接続されている。
【0021】
本実施形態のプリント配線板10では、ICチップ90の直下にチップコンデンサ20Aを配置するため、ICチップとコンデンサとの距離が短くなり、電力を瞬時的にICチップ側へ供給することが可能になる。即ち、ループインダクタンスを決定するループ長さを短縮することができる。
【0022】
更に、チップコンデンサ20Aを避けてスルーホール36を設けてある。このため、コンデンサに信号を通過させた際に発生する高誘電体によるインピーダンス不連続による反射、及び、高誘電体通過による伝搬遅延を防ぐことができる。
【0023】
更に、コア基板30内にチップ抵抗20Bを収容することが可能となり、プリント配線板の高集積化を実現できる。そして、コンデンサと抵抗との間の配線距離を短縮することが可能となり、配線の電送速度を高めることができる。また、厚さの厚いコア基板30内にチップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bを収容するため、プリント配線板の厚さを薄く形成することができる。
【0024】
なお、コア基板にセラミックやAINなどの基板を用いることはできなかった。該基板は外形加工性が悪く、コンデンサを収容することができないことがあり、樹脂で充填させても空隙が生じてしまうためである。
【0025】
ひき続き、図7を参照して上述したプリント配線板の製造方法について、図1〜図6を参照して説明する。
片面に金属膜41を積層した樹脂フィルム40αを用意する(図1(A))。この樹脂フィルム40αとしては、エポキシ、BT、ポリイミド、オレフィン等の熱硬化性樹脂、又は、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物を用いることができる。この金属膜41をパターンエッチングして所定の回路パターン42を形成する(図1(B))。次に、樹脂フィルム40αの下面の回路パターン42にチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを半田、導電性ペースト等の接着材料34を介して接着する(図1(C))。
【0026】
一方、チップコンデンサ、チップ抵抗を収容するキャビティ31を穿設したコア基板用積層板30αを用意する(図1(C))。キャビティ31は、ザグリ、通孔を形成したプリプレグと通孔を形成していないプリプレグとの接合、又は、射出成形により形成する。このコア基板用積層板30αとしては、エポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを積層してなる積層板を用いることができる。エポキシ以外でも、BT、フェノール樹脂あるいはガラスクロスなどの強化材を含有しているもの等、一般的にプリント配線板で使用されるものを用い得る。なお、ガラスクロスなどの心材を有しない樹脂基板を用いることもできる。そして、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを取り付けた樹脂フィルム40α、コア基板用樹脂積層板30α、更に、もう1枚の樹脂フィルム40αを積層してからプレスする(図1(D))。
【0027】
なお、この際に、コンデンサ20、チップ抵抗20Bと樹脂フィルム40αとの間の隙間は、樹脂フィルム40αからしみ出る樹脂により充填される。ここで、この隙間が十分に充填し得ない際には、図2(A)に示すように樹脂フィルム40α側の回路パターン42間に充填材32αを配設し、図2(B)に示すように充填することも、また、図2(C)に示すように、コンデンサ20A及びチップ抵抗20B側に充填材32αを配置し、図3(D)に示すように充填することも可能である。
【0028】
その後、加熱して硬化させることで、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容するコア基板30及び層間樹脂絶縁層40を形成する(図3(A))。なお、コア基板のキャビティ31内に樹脂充填剤32を充填して、気密性を高めることが好適である。また、ここでは、樹脂フィルム40αには、金属層のないものを用いて積層させているが、片面に金属層を配設した樹脂フィルム(RCC)を用いてもよい。即ち、両面板、片面板、金属膜を有しない樹脂板、樹脂フィルムを用いることができる。
【0029】
次に、CO2レーザ、YAGレーザ、エキシマレーザあるいはUVレーザにより上面側の層間樹脂絶縁層40に非貫通孔43からなるバイアホールを穿設する(図3(B))。また、必要に応じて、バイアホール内のスミアを酸素、窒素などの気体プラズマ処理、コロナ処理などのドライ処理によって、あるいは、過マンガン酸などの酸化剤による浸積による処理によって行ってもよい。引き続き、層間絶縁層40、コア基板30及び層間樹脂絶縁層40に対して、ドリル、又は、レーザでスルーホール用の通孔33を50〜500μmで穿設する(図3(C))。
【0030】
パラジウム触媒を付与してから、無電解めっき液にコア基板30を浸漬し、均一に無電解銅めっき膜44を析出させる(図4(A))。ここでは、無電解めっきを用いているが、スパッタにより、銅、ニッケル等の金属層を形成することも可能である。スパッタはコスト的には不利であるが、樹脂層との密着性を改善できる利点がある。また、場合によってはスパッタで形成した後に、無電解めっき膜を形成させてもよい。樹脂によっては、触媒付与が安定しないものには有効であるし、無電解めっき膜と形成させた方が電解めっきの析出性が安定するからである。
【0031】
その後、無電解めっき膜44の表面に感光性ドライフィルムを張り付け、マスクを載置して、露光・現像処理し、所定パターンのレジスト51を形成する。そして、電解めっき液にコア基板30を浸漬し、無電解めっき膜44を介して電流を流し電解銅めっき膜45を析出させる(図4(B))。レジスト50及びレジスト51を5%のKOH で剥離した後、レジスト51下の無電解めっき膜44を硫酸と過酸化水素混合液でエッチングして除去し、層間樹脂絶縁層40にバイアホール46及び導体回路48を、一方、コア基板30の通孔33にスルーホール36を形成する(図4(C))。
【0032】
導体回路48、バイアホール46及びスルーホール36の導体層の表面に粗化層を設ける。酸化(黒化)−還元処理、Cu−Ni−Pからなる合金などの無電解めっき膜、あるいは、第二銅錯体と有機酸塩からなるエッチング液などのエッチング処理によって粗化層を施す。粗化層はRa(平均粗度高さ)=0.01〜5μmである。特に望ましいのは、0.5〜3μmの範囲である。なお、ここでは粗化層を形成しているが、粗化層を形成せず後述するように直接樹脂を充填、樹脂フィルムを貼り付けることも可能である。
【0033】
引き続き、スルーホール36内に樹脂層38を充填させる。樹脂層としては、エポキシ樹脂等の樹脂を主成分として導電性のない樹脂、銅などの金属ペーストを含有させた導電性樹脂のどちらでもよい。この場合は、熱硬化性エポキシ樹脂に、シリカなどの熱膨張率を整合させるために含有させたものを樹脂充填材として充填させる。スルーホール36への樹脂38の充填後、樹脂フィルム60αを貼り付ける(図5(A))。なお、樹脂フィルムを貼り付ける代わりに、樹脂を塗布することも可能である。樹脂フィルム60αを貼り付けた後、フォト、レーザにより、絶縁層60αに開口径20〜250μmであるバイアホール63を形成してから熱硬化させる(図5(B))。その後、コア基板に触媒付与し、無電解めっきへ浸積して、層間樹脂絶縁層60の表面に均一に厚さ0.9μmの無電解めっき膜64を析出させ、その後、所定のパターンをレジスト70で形成させる(図5(C))。
【0034】
電解めっき液に浸漬し、無電解めっき膜64を介して電流を流してレジスト70の非形成部に電解銅めっき膜65を形成する(図6(A))。レジスト70を剥離除去した後、めっきレジスト下の無電解めっき膜64を溶解除去し、無電解めっき膜64及び電解銅めっき膜65からなるの導体回路68及びバイアホール66を得る(図6(B))。
【0035】
クロム酸に3分間浸漬して、表面のパラジウム触媒を除去する。更に、第2銅錯体と有機酸とを含有するエッチング液により、導体回路68及びバイアホール66の表面に粗化面(図示せず)を形成し、さらにその表面にSn置換を行う。
【0036】
上述したプリント配線板にはんだバンプを形成する。基板の両面に、ソルダーレジスト組成物を塗布し、乾燥処理を行った後、円パターン(マスクパターン)が描画されたフォトマスクフィルム(図示せず)を密着させて載置し、紫外線で露光し、現像処理する。そしてさらに、加熱処理し、はんだパッド部分(バイアホールとそのランド部分を含む)の開口部72aを有するソルダーレジスト層(厚み20μm)72を形成する(図6(C))。
【0037】
そして、ソルダーレジスト層72の開口部72aに、半田ペーストを充填する(図示せず)。その後、開口部72aに充填された半田を 200℃でリフローすることにより、半田バンプ(半田体)76を形成する(図7参照)。なお、耐食性を向上させるため、開口部72aにNi、Au、Ag、Pdなどの金属層をめっき、スパッタにより形成することも可能である。
【0038】
次に、該プリント配線板へのICチップの載置及び、ドータボードへの取り付けについて、図8を参照して説明する。完成したプリント配線板10の半田バンプ76にICチップ90の半田パッド92S1、92S2、92P1、92P2が対応するように、ICチップ90を載置し、リフローを行うことで、ICチップ90の取り付けを行う。同様に、プリント配線板10の半田バンプ76にドータボード94のパッド96S1、96S2、96P1、96P2をリフローすることで、ドータボード94へプリント配線板10を取り付ける。
【0039】
引き続き、本発明の第1実施形態の第1改変例に係るプリント配線板について、図9を参照して説明する。第1改変例のプリント配線板は、上述した第1実施形態とほぼ同様である。但し、この第1改変例のプリント配線板では、導電性ピン84が配設され、該導電性ピン84を介してドータボードとの接続を取るように形成されている。また、図1(A)を参照して上述した実施形態では、片面に金属膜41を積層した樹脂フィルム40αを用いたが、この第1改変例では、両面に金属膜を積層した樹脂フィルムを用いてICチップ90側の層間樹脂絶縁層60を製造してある。即ち、上面の金属膜をパターンエッチングして回路パターン42を形成してある。更に、該回路パターン42の開口42aをコンフォマルマスクとして用い、レーザにより非貫通孔43を穿設しバイアホール46を形成してある。
【0040】
また、上述した第1実施形態では、コア基板30に収容されるチップコンデンサ20Aのみを備えていたが、第1改変例では、表面及び裏面に大容量のチップコンデンサ86が実装されている。
【0041】
ICチップは、瞬時的に大電力を消費して複雑な演算処理を行う。ここで、ICチップ側に大電力を供給するために、本実施形態では、プリント配線板に電源用のチップコンデンサ20A及びチップコンデンサ86を備えてある。このチップコンデンサによる効果について、図25を参照して説明する。
【0042】
図25は、縦軸にICチップへ供給される電圧を、横軸に時間を取ってある。ここで、二点鎖線Cは、電源用コンデンサを備えないプリント配線板の電圧変動を示している。電源用コンデンサを備えない場合には、大きく電圧が減衰する。破線Aは、表面にチップコンデンサを実装したプリント配線板の電圧変動を示している。上記二点鎖線Cと比較して電圧は大きく落ち込まないが、ループ長さが長くなるので、律速の電源供給が十分に行えていない。即ち、電力の供給開始時に電圧が降下している。また、二点鎖線Bは、図7を参照して上述したチップコンデンサを内蔵するプリント配線板の電圧降下を示している。ループ長さは短縮できているが、コア基板30に容量の大きなチップコンデンサを収容することができないため、電圧が変動している。ここで、実線Eは、図9を参照して上述したコア基板内のチップコンデンサ20Aを、また表面に大容量のチップコンデンサ86を実装する第1改変例のプリント配線板の電圧変動を示している。ICチップの近傍にチップコンデンサ20Aを、また、大容量のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変動を最小に押さえている。
【0043】
引き続き、本発明の第1実施形態の第2改変例に係るプリント配線板について、図10を参照して説明する。第2改変例のプリント配線板は、上述した第1実施形態とほぼ同様である。但し、この第2改変例のプリント配線板では、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bの第1電極21と第2電極22とが、ICチップ90の電源用パッド92P1、92P2とバンプ76を介して直接接続されている。この第2改変例では、ICチップとチップコンデンサ、ICチップとチップ抵抗との距離を更に短縮させることができる。
【0044】
引き続き、本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の構成について図14を参照して説明する。
この第2実施形態のプリント配線板の構成は、上述した第1実施形態とほぼ同様である。但し、コア基板30へのチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bの収容方法が異なる。即ち、第1実施形態では、チップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bの第1、第2電極に半田付けして接続を取ったが、第2実施形態では、第1電極21及び第2電極22にめっきを施しバイアホール46を形成して接続を取る。
【0045】
この実施形態で用いるチップコンデンサについて、先ず図15を参照して説明する。
図15(A)は、第1実施形態のプリント配線板にて用いたチップコンデンサを示している。このチップコンデンサの第1電極及び第2電極22は、銅を主成分としている金属を焼成してなるメタライズ層により形成され、外周の被覆層26はSnによって形成させている。その理由としては、防錆および半田付け性の向上である。第2実施形態では、図15(C)に示すように、第1電極21および第2電極22の上面の被覆層26から金属層を露出させている。また、図14中に示すように、チップ抵抗20Bの第1電極21および第2電極22の上面の被覆層26から金属層を露出させている。このため、めっきからなるバイアホールとの接続性が高くなる。また、接続抵抗を低減することができる。
【0046】
第2実施形態のプリント配線板の製造工程について、図11〜図13を参照して説明する。
先ず、エポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ35を4枚積層してなる積層板30αにチップコンデンサ、チップ抵抗収容用の通孔37を形成し、一方、プリプレグ35を2枚積層してなる積層板30βを用意する(図11(A))。ここで、プリプレグとして、エポキシ以外でも、BT、フェノール樹脂あるいはガラスクロスなどの強化材を含有したものを用い得る。次に、積層板30αと積層板30βとを重ね、通孔37内に、上述した第1、第2電極21,22の上面の被覆26を剥いだチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容させる(図11(B))。ここで、該通孔37とチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bとの間に接着剤32を介在させることが好適である。
【0047】
次に、樹脂フィルム40α、上記チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容する積層板30α、プリプレグ35を2枚積層してなる積層板30β、更に、樹脂フィルム40αを積層させる(図11(C))。その後、圧着し、加熱して硬化させることで、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容するコア基板30及び層間樹脂絶縁層40を形成する(図11(D))。なお、コア基板30の通孔37内に樹脂充填剤32を充填して、気密性を高めることが好適である。
【0048】
次に、層間樹脂絶縁層40、コア基板及び層間樹脂絶縁層40に対して、ドリルでスルーホール用の300〜500μmの通孔33を穿設する(図12(A))。そして、CO2レーザ、YAGレーザ、エキシマレーザ又はUVレーザにより上面側の層間樹脂絶縁層40にチップコンデンサ20Aの第1電極21及び第2電極22へ至る非貫通孔43を穿設する(図12(B))。その後、デスミヤ処理を施す。引き続き、表面のパラジウム触媒を付与した後、無電解めっき液にコア基板30を浸漬し、均一に無電解銅めっき膜44を析出させる(図12(C))。ここでは、無電解めっきを用いているが、スパッタにより銅、ニッケル等の金属膜を形成することも可能である。スパッタはコスト的には不利であるが、樹脂との密着性を改善できる利点がある。無電解銅めっき膜44の表面に粗化層を形成することができる。粗化層はRa(平均粗度高さ)=0.01〜5μmである。特に望ましいのは、0.5〜3μmの範囲である。
【0049】
そして、無電解めっき膜44の表面に感光性ドライフィルムを張り付け、マスクを載置して、露光・現像処理し、所定パターンのレジスト51を形成する(図13(A))。そして、電解めっき液にコア基板30を浸漬し、無電解めっき膜44を介して電流を流し電解銅めっき膜45を析出させる(図13(B))。そして、レジスト51を5%のKOH で剥離した後、レジスト51下の無電解めっき膜44を硫酸と過酸化水素混合液でエッチングして除去し、層間樹脂絶縁層40の非貫通孔43にバイアホール46、層間樹脂絶縁層40の表面に導体回路48を、コア基板30の通孔33にスルーホール36を形成する(図13(C))。以降の工程は、図5〜図7を参照して上述した第1実施形態と同様であるため説明を省略する。
【0050】
引き続き、本発明の第2実施形態の第1改変例に係るプリント配線板について、図16を参照して説明する。第1改変例のプリント配線板10は、上述した第2実施形態とほぼ同様である。但し、この第1改変例のプリント配線板では、チップコンデンサ20Aとチップ抵抗20Bは、図15(D)、図15(E)に示すように第1電極21と第2電極22から被覆層26を剥いだ後、銅めっき膜27が形成されている。
【0051】
第1改変例では、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bの電極21、22に銅めっき膜27を被覆し、めっき膜27を設けた電極21、22に銅めっきよりなるバイアホール46で電気的接続を取る。このため、電極21、22とバイアホール46との密着性が高く、高い接続信頼性を達成している。
【0052】
引き続き、本発明の第2実施形態の第2改変例に係るプリント配線板について、図17を参照して説明する。第2改変例のプリント配線板10は、上述した第2実施形態とほぼ同様である。但し、この第2改変例のプリント配線板では、導電性ピン84が配設され、該導電性ピン84を介してドータボードとの接続を取るように形成されている。
【0053】
また、上述した第2実施形態では、コア基板30に収容されるチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bのみを備えていたが、第2改変例では、表面及び裏面に大容量のチップコンデンサ86が実装されている。このため、図25を参照して上述したように、ICチップの直下にチップコンデンサ20Aを、また、大容量のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変動を最小に押さえれる。
【0054】
引き続き、本発明の第3実施形態に係るプリント配線板の構成について図19を参照して説明する。
この第3実施形態のプリント配線板の構成は、上述した第2実施形態とほぼ同様である。但し、コア基板30へのチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bの収容方法が異なる。即ち、第2実施形態では、第1電極21及び第2電極22へICチップ側からのみ接続を取ったが、第3実施形態では、第1電極21及び第2電極22へICチップ側及びドータボード側の両面から接続を取ってある。この構成では、コンデンサ、チップ抵抗の外部電極が、いわゆるスルーホールの機能を備えており、パッケージ構造を簡単にできるので、高周波のICチップに対応することができる。
【0055】
第3実施形態のプリント配線板の製造工程について、図18を参照して説明する。
先ず、エポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを積層してなる積層板30αにチップコンデンサ、チップ抵抗収容用の通孔37を形成する(図18(A))。ここで、プリプレグとして、エポキシ以外でも、BT、フェノール樹脂あるいはガラスクロスなどの強化材を含有している。次に、通孔37内に第1、第2電極21,22の表面の被覆を剥いだチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容させる(図18(B))。ここで、該通孔37とチップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bとの間に接着剤32を介在させることが好適である。
【0056】
次に、樹脂フィルム40α、上記チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容する積層板30α、更に、樹脂フィルム40αを積層させる(図18(C))。その後、圧着し、加熱して硬化させることで、チップコンデンサ20A及びチップ抵抗20Bを収容するコア基板30及び層間樹脂絶縁層40を形成する(図18(D))。なお、コア基板30の通孔37内に樹脂充填剤32を充填して、気密性を高めることが好適である。
以降の工程は、図12、図13を参照した第2実施形態、及び、図5〜図7を参照して上述した第1実施形態と同様であるため説明を省略する。
【0057】
図20は、第3実施形態のプリント配線板の別例を示している。図20中に示すようにチップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bの第1電極21,第2電極22とバイアホール46とを接着材料34を介して接続することもできる。
【0058】
引き続き、本発明の第3実施形態の第1改変例に係るプリント配線板について、図21を参照して説明する。第1改変例のプリント配線板10は、上述した第3実施形態とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板では、導電性ピン84が配設され、該導電性ピン84を介してドータボードとの接続を取るように形成されている。
【0059】
また、上述した第3実施形態では、コア基板30に収容されるチップコンデンサ20Aのみを備えていたが、第1改変例では、表面及び裏面に大容量のチップコンデンサ86が実装されている。このため、図25を参照して上述したように、ICチップの直下にチップコンデンサ20Aを、また、大容量のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変動を最小に押さえれる。
【0060】
本発明の第3実施形態の第2改変例に係るプリント配線板について、図22を参照して説明する。第2改変例のプリント配線板10は、上述した第3実施形態とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板では、チップコンデンサ20Aの第1電極21,第2電極22上にフィルドビア46が形成され、フィルドビア66を介してICチップ90のバンプ92と接続されている。
【0061】
本発明の第3実施形態の第3改変例に係るプリント配線板について、図23を参照して説明する。第3改変例のプリント配線板10は、上述した第3実施形態とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板では、チップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bの第1電極21、第2電極22にフィルドビア46が形成され、該フィルドビア46の直上に形成されたフィルドビア66を介してICチップ90のバンプ92P1、92P2と接続されている。この第3改変例では、ICチップとチップコンデンサ、チップ抵抗との距離を更に縮めることができる。
【0062】
本発明の第3実施形態の第4改変例に係るプリント配線板について、図24を参照して説明する。第4改変例のプリント配線板10は、上述した第3実施形態とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板では、チップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bの第1電極21,第1電極22を介して、ICチップ90側のパッドとドータボード94側のパッド96とが接続されている。
【0063】
なお、上述した実施形態では、1つのキャビティ又は通孔に、1つのチップコンデンサ20A、チップ抵抗20Bを収容したが、複数個収容することも可能である。これにより、より高集積化をはかることができる。
【0064】
【発明の効果】
本願発明の構造により、インダクタンスを起因とする電気特性の低下することはない。
また、コア基板とコンデンサの間に樹脂が充填されているので、コンデンサなどが起因する応力が発生しても緩和されるし、マイグレーションの発生がない。そのために、コンデンサの電極とバイアホールの接続部への剥離や溶解などの影響がない。
そのために、信頼性試験を実施しても所望の性能を保つことができるのである。また、コンデンサの電極を銅によって被覆している場合にも、マイグレーションの発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図3】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図4】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図5】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図6】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図7】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図である。
【図8】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図である。
【図9】第1実施形態の第1改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図10】第1実施形態の第2改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図11】本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図12】本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図13】本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図14】本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の断面図である。
【図15】(A)、(B)、(C)、(D)、(E)は、チップコンデンサ、チップ抵抗の断面図である。
【図16】第2実施形態の第1改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図17】第2実施形態の第2改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図18】本発明の第3実施形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図19】本発明の第3実施形態に係るプリント配線板の断面図である。
【図20】本発明の第3実施形態に係るプリント配線板の断面図である。
【図21】本発明の第3実施形態の第1改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図22】本発明の第3実施形態の第2改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図23】本発明の第3実施形態の第3改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図24】本発明の第3実施形態の第4改変例に係るプリント配線板の断面図である。
【図25】ICチップへの供給電圧と時間との変化を示すグラフである。
【図26】(A)及び(B)は、従来技術に係るプリント配線板のループインダクタンスの説明図である。
【符号の説明】
10 プリント配線板
20A チップコンデンサ
20B チップ抵抗
21 第1電極
22 第2電極
27 銅めっき膜
30 コア基板
31 キャビティ
33 通孔
36 スルーホール
40 層間樹脂絶縁層
42 回路パターン
43 非貫通孔
46 バイアホール
60 層間樹脂絶縁層
66 バイアホール
68 導体回路
84 導電性ピン
90 ICチップ
94 ドータボード
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a printed wiring board on which an electronic component such as an IC chip is placed, and particularly relates to a printed wiring board with a built-in capacitor and resistor.
[0002]
[Prior art]
Usually, in the computer, the wiring distance between the power source and the IC chip is long, and the loop inductance of this wiring portion is very large. For this reason, the fluctuation of the IC drive voltage at the time of high-speed operation becomes large, which may cause an IC malfunction. It is also difficult to stabilize the power supply voltage. For this reason, a capacitor is mounted on the surface of the printed wiring board as an auxiliary to power supply.
That is, the loop inductance that causes voltage fluctuation is the wiring length from the power source shown in FIG. 26A to the power source terminal 272P of the IC chip 270 via the power source line in the printed wiring board 300, and the ground terminal of the IC chip 270. It depends on the wiring length from 272E to the power supply through the ground wire in the printed wiring board 300 from the power supply. In addition, the loop inductance can be reduced by narrowing the distance between the power lines and the ground lines, for example, between the wirings through which currents flow in opposite directions.
For this reason, as shown in FIG. 26B, by mounting a chip capacitor 298 on the printed wiring board 300, the inside of the printed wiring board 300 connecting the IC chip 270 and the chip capacitor 292 serving as a power supply source. The loop inductance is reduced by shortening the wiring length between the power line and the grounding wire and reducing the wiring interval.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the magnitude of the voltage drop causing the IC drive voltage fluctuation depends on the frequency. For this reason, as the driving frequency of the IC chip increases, the loop inductance cannot be reduced even if the chip capacitor is mounted on the surface as described above with reference to FIG. It became difficult to keep it down.
[0004]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a printed wiring board capable of reducing loop inductance and a method for manufacturing the printed wiring board.
[0005]
Another object of the present invention is to provide a printed wiring board capable of achieving high integration and a method for manufacturing the printed wiring board.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In the printed wiring board manufacturing method according to the first to sixth aspects, the chip capacitor can be accommodated in the core substrate, and a printed wiring board with reduced loop inductance can be provided. In addition, it becomes possible to accommodate a resistor in the core substrate, and high integration of the printed wiring board can be realized. Furthermore, the wiring distance between the capacitor and the resistor can be shortened.
[0007]
It means a circuit formed by a build-up method in which an interlayer resin insulation layer is provided on a core substrate, and via holes or through holes are provided in the interlayer resin insulation layer to form a conductor circuit as a conductive layer. For them, either a semi-additive method or a full additive method can be used.
[0009]
It means a circuit formed by a build-up method in which an interlayer resin insulation layer is provided on a core substrate, and via holes or through holes are provided in the interlayer resin insulation layer to form a conductor circuit as a conductive layer. For them, either a semi-additive method or a full additive method can be used.
[0010]
It is desirable to fill the voids with resin. By eliminating the gap between the capacitor or resistor and the core substrate, the built-in capacitor or resistor is less likely to behave, and even if stress originating from the capacitor is generated, it is relaxed by the filled resin. be able to. The resin also has an effect of reducing adhesion and migration between the capacitor and the core substrate.
[0011]
According to the eighth to ninth aspects, at least a part is exposed from the covering layer of the chip capacitor and the resistor electrode and is accommodated in the printed wiring board, and the electrode exposed from the covering layer is electrically connected by plating. At this time, it is desirable that the metal exposed from the coating layer has a main component of Cu. The reason is that even if a metal layer is formed on the exposed metal by plating, the connectivity is improved and the connection resistance can be reduced.
[0012]
The metal film of the capacitor electrode is preferably provided with any one of copper, nickel, and a noble metal. This is because a layer of tin, zinc or the like in the built-in capacitor tends to induce migration at the connection portion with the via hole. Therefore, the occurrence of migration can be prevented.
[0013]
According to the tenth aspect, the electrode of the chip capacitor and the resistor is coated with a plating film, accommodated in the printed wiring board, and the electrode provided with the plating film is electrically connected by plating. Since electrical connection is established by plating on the electrode provided with the plating film, adhesion is high, and the connection reliability between the electrode and the via hole can be improved. In addition, the occurrence of migration can be prevented.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
First, the configuration of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 shows a cross section of the printed wiring board 10, and FIG. 8 shows a state in which the IC chip 90 is mounted on the printed wiring board 10 shown in FIG.
[0015]
As shown in FIG. 7, the printed wiring board 10 includes a chip capacitor 20A and a chip resistor 20B, a core substrate 30 that houses the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B, and an interlayer resin insulating layer 40 that constitutes the build-up layers 80A and 80B. , 60. A via hole 46 and a conductor circuit 48 are formed in the interlayer resin insulation layer 40, and a via hole 66 and a conductor circuit 68 are formed in the interlayer resin insulation layer 60.
[0016]
As shown in FIG. 15A, the chip capacitor 20A includes a first electrode 21, a second electrode 22, and a dielectric 23 sandwiched between the first and second electrodes. A plurality of first conductive films 24 connected to the first electrode 21 side and a plurality of second conductive films 25 connected to the second electrode 22 side are arranged to face each other. The surface of the first electrode 21 and the second electrode 22 is covered with a coating layer 26. Similarly, the chip resistor 20B includes a first electrode 21 and a second electrode 22 as shown in FIG. 15B, and a coating layer 26 covers the surfaces of the first electrode 21 and the second electrode 22. Has been.
[0017]
As shown in FIG. 8, bumps 76 for connecting to pads 92S1, 92S2, 92P1, and 92P2 of the IC chip 90 are formed in the via holes 66 of the upper buildup layer 80A. On the other hand, in the via hole 66 of the lower buildup layer 80B, bumps 76 for connecting to the pads 96S1, 96S2, 96P1, and 96P2 of the daughter board 94 are disposed. A through hole 36 is formed in the core substrate 30.
[0018]
The signal pad 92S2 of the IC chip 90 is connected to the signal pad 96S2 of the daughter board 94 via the bump 76-conductor circuit 68-via hole 66-through hole 36-via hole 66-bump 76. On the other hand, the signal pad 92S1 of the IC chip 90 is connected to the signal pad 96S1 of the daughter board 94 via the bump 76-via hole 66-through hole 36-via hole 66-bump 76.
[0019]
The power supply pad 92P1 of the IC chip 90 is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20A via the bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P1 of the daughter board 94 is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20A via the bump 76-via hole 66-through hole 36-conductor circuit 48-via hole 46.
[0020]
The power supply pad 92P2 of the IC chip 90 is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20A via the bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P2 of the daughter board 94 is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20A via the bump 76-via hole 66-through hole 36-conductor circuit 48-via hole 46.
[0021]
In the printed wiring board 10 of the present embodiment, the chip capacitor 20A is disposed immediately below the IC chip 90, so the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, and power can be instantaneously supplied to the IC chip side. Become. That is, the loop length that determines the loop inductance can be shortened.
[0022]
Further, a through hole 36 is provided to avoid the chip capacitor 20A. For this reason, it is possible to prevent reflection due to impedance discontinuity due to the high dielectric material generated when the signal is passed through the capacitor and propagation delay due to passage through the high dielectric material.
[0023]
Furthermore, the chip resistor 20B can be accommodated in the core substrate 30, and high integration of the printed wiring board can be realized. And it becomes possible to shorten the wiring distance between a capacitor | condenser and resistance, and can raise the electrical transmission speed of wiring. Further, since the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are accommodated in the thick core substrate 30, the thickness of the printed wiring board can be reduced.
[0024]
Note that a substrate such as ceramic or AIN could not be used for the core substrate. This is because the substrate has poor external formability and cannot accommodate a capacitor, and even if it is filled with resin, voids are generated.
[0025]
Next, a method for manufacturing the printed wiring board described above with reference to FIG. 7 will be described with reference to FIGS.
A resin film 40α having a metal film 41 laminated on one side is prepared (FIG. 1A). As the resin film 40α, a thermosetting resin such as epoxy, BT, polyimide, or olefin, or a mixture of a thermosetting resin and a thermoplastic resin can be used. The metal film 41 is pattern-etched to form a predetermined circuit pattern 42 (FIG. 1B). Next, the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are bonded to the circuit pattern 42 on the lower surface of the resin film 40α via an adhesive material 34 such as solder or conductive paste (FIG. 1C).
[0026]
On the other hand, a core substrate laminate 30α having a cavity 31 for accommodating a chip capacitor and a chip resistor is prepared (FIG. 1C). The cavity 31 is formed by bonding or injection molding of counterbore, a prepreg having a through hole and a prepreg having no through hole. As this core substrate laminate 30α, a laminate obtained by laminating a prepreg impregnated with an epoxy resin can be used. In addition to epoxies, those generally used in printed wiring boards such as those containing reinforcing materials such as BT, phenolic resin or glass cloth can be used. It is also possible to use a resin substrate that does not have a core material such as glass cloth. Then, the resin film 40α to which the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are attached, the core substrate resin laminate 30α, and another resin film 40α are laminated and then pressed (FIG. 1D).
[0027]
At this time, the gaps between the capacitor 20, the chip resistor 20B, and the resin film 40α are filled with the resin that oozes from the resin film 40α. Here, when this gap cannot be sufficiently filled, a filler 32α is disposed between the circuit patterns 42 on the resin film 40α side as shown in FIG. In addition, as shown in FIG. 2 (C), it is also possible to place a filler 32α on the capacitor 20A and chip resistor 20B side and fill as shown in FIG. 3 (D). .
[0028]
Thereafter, the core substrate 30 and the interlayer resin insulating layer 40 that accommodate the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are formed by heating and curing (FIG. 3A). In addition, it is preferable to fill the cavity 31 of the core substrate with the resin filler 32 to improve the airtightness. Further, here, the resin film 40α is laminated using a film having no metal layer, but a resin film (RCC) having a metal layer disposed on one side may be used. That is, a double-sided plate, a single-sided plate, a resin plate without a metal film, or a resin film can be used.
[0029]
Next, a via hole made of a non-through hole 43 is formed in the interlayer resin insulation layer 40 on the upper surface side by a CO2 laser, YAG laser, excimer laser, or UV laser (FIG. 3B). If necessary, smear in the via hole may be performed by a gas plasma treatment using oxygen, nitrogen or the like, a dry treatment such as a corona treatment, or a treatment by immersion using an oxidizing agent such as permanganic acid. Subsequently, through holes 33 for through holes are formed in the interlayer insulating layer 40, the core substrate 30 and the interlayer resin insulating layer 40 with a drill or a laser at 50 to 500 μm (FIG. 3C).
[0030]
After providing the palladium catalyst, the core substrate 30 is immersed in the electroless plating solution to deposit the electroless copper plating film 44 uniformly (FIG. 4A). Although electroless plating is used here, a metal layer such as copper or nickel can be formed by sputtering. Sputtering is disadvantageous in terms of cost, but has an advantage that adhesion with the resin layer can be improved. In some cases, the electroless plating film may be formed after the sputtering. This is because, depending on the resin, it is effective for the case where the application of the catalyst is not stable, and the deposition with electroless plating is more stable when formed with an electroless plating film.
[0031]
Thereafter, a photosensitive dry film is attached to the surface of the electroless plating film 44, a mask is placed thereon, exposure and development are performed, and a resist 51 having a predetermined pattern is formed. Then, the core substrate 30 is immersed in the electrolytic plating solution, and an electric current is passed through the electroless plating film 44 to deposit the electrolytic copper plating film 45 (FIG. 4B). After peeling off the resist 50 and the resist 51 with 5% KOH, the electroless plating film 44 under the resist 51 is removed by etching with a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, and a via hole 46 and a conductor are formed in the interlayer resin insulating layer 40. On the other hand, the through hole 36 is formed in the through hole 33 of the core substrate 30 (FIG. 4C).
[0032]
A roughening layer is provided on the surface of the conductor layer of the conductor circuit 48, the via hole 46 and the through hole 36. The roughening layer is applied by an oxidation (blackening) -reduction treatment, an electroless plating film such as an alloy made of Cu-Ni-P, or an etching treatment such as an etching solution made of a cupric complex and an organic acid salt. The roughened layer has Ra (average roughness height) = 0.01 to 5 μm. Particularly desirable is a range of 0.5 to 3 μm. Although the roughened layer is formed here, it is also possible to directly fill the resin and attach the resin film as described later without forming the roughened layer.
[0033]
Subsequently, the resin layer 38 is filled into the through hole 36. The resin layer may be either a non-conductive resin containing a resin such as an epoxy resin as a main component or a conductive resin containing a metal paste such as copper. In this case, what is contained in the thermosetting epoxy resin to match the coefficient of thermal expansion such as silica is filled as a resin filler. After filling the through hole 36 with the resin 38, the resin film 60α is pasted (FIG. 5A). In addition, it is also possible to apply | coat resin instead of sticking a resin film. After the resin film 60α is attached, a via hole 63 having an opening diameter of 20 to 250 μm is formed in the insulating layer 60α by photo and laser and then thermally cured (FIG. 5B). Thereafter, a catalyst is applied to the core substrate and immersed in electroless plating to deposit a 0.9 μm-thick electroless plating film 64 uniformly on the surface of the interlayer resin insulation layer 60, and then a predetermined pattern is resisted 70 (FIG. 5C).
[0034]
It is immersed in an electrolytic plating solution, and an electric current is passed through the electroless plating film 64 to form an electrolytic copper plating film 65 in a portion where the resist 70 is not formed (FIG. 6A). After the resist 70 is peeled and removed, the electroless plating film 64 under the plating resist is dissolved and removed to obtain a conductor circuit 68 and a via hole 66 composed of the electroless plating film 64 and the electrolytic copper plating film 65 (FIG. 6B )).
[0035]
Immerse in chromic acid for 3 minutes to remove the palladium catalyst on the surface. Further, a roughened surface (not shown) is formed on the surfaces of the conductor circuit 68 and the via hole 66 by an etching solution containing a cupric complex and an organic acid, and Sn substitution is performed on the surface.
[0036]
Solder bumps are formed on the printed wiring board described above. After applying a solder resist composition on both sides of the substrate and performing a drying process, a photomask film (not shown) on which a circular pattern (mask pattern) is drawn is placed in close contact, and exposed to ultraviolet rays. Develop. Further, heat treatment is performed to form a solder resist layer (thickness 20 μm) 72 having an opening 72a of a solder pad portion (including a via hole and its land portion) (FIG. 6C).
[0037]
Then, a solder paste is filled in the opening 72a of the solder resist layer 72 (not shown). Thereafter, the solder filled in the opening 72a is reflowed at 200 ° C. to form solder bumps (solder bodies) 76 (see FIG. 7). In order to improve the corrosion resistance, a metal layer such as Ni, Au, Ag, or Pd can be formed on the opening 72a by plating or sputtering.
[0038]
Next, placement of the IC chip on the printed wiring board and attachment to the daughter board will be described with reference to FIG. The IC chip 90 is mounted so that the solder pads 92S1, 92S2, 92P1, and 92P2 of the IC chip 90 correspond to the solder bumps 76 of the completed printed wiring board 10, and the IC chip 90 is attached by performing reflow. Do. Similarly, the printed wiring board 10 is attached to the daughter board 94 by reflowing the pads 96S1, 96S2, 96P1, and 96P2 of the daughter board 94 to the solder bumps 76 of the printed wiring board 10.
[0039]
Next, a printed wiring board according to a first modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the first modification is almost the same as that of the first embodiment described above. However, in the printed wiring board of the first modified example, the conductive pins 84 are disposed and formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pins 84. In the embodiment described above with reference to FIG. 1A, the resin film 40α having the metal film 41 laminated on one side is used. However, in the first modified example, the resin film having the metal film laminated on both sides is used. The inter-layer resin insulation layer 60 on the IC chip 90 side is manufactured by using it. That is, the circuit pattern 42 is formed by pattern etching the metal film on the upper surface. Further, the opening 42a of the circuit pattern 42 is used as a conformal mask, and a non-through hole 43 is formed by a laser to form a via hole 46.
[0040]
In the first embodiment described above, only the chip capacitor 20A accommodated in the core substrate 30 is provided. However, in the first modified example, large-capacity chip capacitors 86 are mounted on the front surface and the back surface.
[0041]
An IC chip consumes a large amount of power instantaneously and performs complicated arithmetic processing. Here, in order to supply large power to the IC chip side, in this embodiment, the printed circuit board is provided with a chip capacitor 20A for power supply and a chip capacitor 86. The effect of this chip capacitor will be described with reference to FIG.
[0042]
In FIG. 25, the vertical axis represents voltage supplied to the IC chip, and the horizontal axis represents time. Here, an alternate long and two short dashes line C indicates a voltage fluctuation of a printed wiring board that does not include a power supply capacitor. When the power supply capacitor is not provided, the voltage is greatly attenuated. A broken line A indicates voltage fluctuation of a printed wiring board having a chip capacitor mounted on the surface. Compared with the two-dot chain line C, the voltage does not drop greatly, but the loop length becomes long, so that the rate-determining power supply cannot be sufficiently performed. That is, the voltage drops at the start of power supply. A two-dot chain line B indicates a voltage drop of the printed wiring board containing the chip capacitor described above with reference to FIG. Although the loop length can be shortened, the voltage fluctuates because a large-capacity chip capacitor cannot be accommodated in the core substrate 30. Here, the solid line E shows the voltage fluctuation of the printed wiring board of the first modified example in which the chip capacitor 20A in the core substrate described above with reference to FIG. 9 and the large-capacity chip capacitor 86 are mounted on the surface. Yes. By providing the chip capacitor 20A in the vicinity of the IC chip and the large-capacity chip capacitor 86, voltage fluctuation is minimized.
[0043]
Next, a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the second modification is almost the same as that of the first embodiment described above. However, in the printed wiring board of the second modified example, the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are directly connected to the power supply pads 92P1 and 92P2 and the bumps 76 of the IC chip 90. It is connected. In the second modification, the distance between the IC chip and the chip capacitor, and the IC chip and the chip resistor can be further shortened.
[0044]
Next, the configuration of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The configuration of the printed wiring board of the second embodiment is substantially the same as that of the first embodiment described above. However, the method of accommodating the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B in the core substrate 30 is different. That is, in the first embodiment, the first capacitor 21A and the chip resistor 20B are connected to the first and second electrodes by soldering, but in the second embodiment, the first electrode 21 and the second electrode 22 are plated. To form a via hole 46 to establish a connection.
[0045]
First, a chip capacitor used in this embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 15A shows the chip capacitor used in the printed wiring board of the first embodiment. The first electrode and the second electrode 22 of the chip capacitor are formed of a metallized layer formed by firing a metal mainly composed of copper, and the outer covering layer 26 is formed of Sn. The reason is the improvement of rust prevention and solderability. In the second embodiment, as shown in FIG. 15C, the metal layer is exposed from the coating layer 26 on the upper surfaces of the first electrode 21 and the second electrode 22. Further, as shown in FIG. 14, the metal layer is exposed from the covering layer 26 on the top surfaces of the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip resistor 20 </ b> B. For this reason, connectivity with via holes made of plating is enhanced. Further, the connection resistance can be reduced.
[0046]
The manufacturing process of the printed wiring board of 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIGS.
First, a through hole 37 for accommodating a chip capacitor and a chip resistor is formed in a laminated plate 30α obtained by laminating four prepregs 35 impregnated with an epoxy resin, while a laminated plate 30β obtained by laminating two prepregs 35. Is prepared (FIG. 11A). Here, as the prepreg, a material containing a reinforcing material such as BT, a phenol resin, or glass cloth other than epoxy can be used. Next, the laminated plate 30α and the laminated plate 30β are overlapped, and the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B from which the coating 26 on the upper surfaces of the first and second electrodes 21 and 22 is removed are accommodated in the through holes 37 ( FIG. 11B). Here, it is preferable that an adhesive 32 is interposed between the through hole 37 and the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B.
[0047]
Next, the resin film 40α, the laminated plate 30α that accommodates the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B, the laminated plate 30β obtained by laminating two prepregs 35, and the resin film 40α are further laminated (FIG. 11C). . Thereafter, the core substrate 30 and the interlayer resin insulating layer 40 that accommodate the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are formed by pressure bonding and heating to cure (FIG. 11D). It is preferable that the resin filler 32 is filled in the through holes 37 of the core substrate 30 to improve the airtightness.
[0048]
Next, 300 to 500 μm through holes 33 for through holes are drilled in the interlayer resin insulation layer 40, the core substrate, and the interlayer resin insulation layer 40 (FIG. 12A). Then, non-through holes 43 reaching the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20A are formed in the interlayer resin insulating layer 40 on the upper surface side by CO2 laser, YAG laser, excimer laser, or UV laser (FIG. 12 ( B)). Thereafter, desmear processing is performed. Subsequently, after the surface palladium catalyst is applied, the core substrate 30 is immersed in the electroless plating solution, and the electroless copper plating film 44 is uniformly deposited (FIG. 12C). Here, electroless plating is used, but a metal film of copper, nickel, or the like can be formed by sputtering. Sputtering is disadvantageous in terms of cost, but has an advantage of improving adhesion with the resin. A roughened layer can be formed on the surface of the electroless copper plating film 44. The roughened layer has Ra (average roughness height) = 0.01 to 5 μm. Particularly desirable is a range of 0.5 to 3 μm.
[0049]
Then, a photosensitive dry film is attached to the surface of the electroless plating film 44, a mask is placed, exposure and development are performed, and a resist 51 having a predetermined pattern is formed (FIG. 13A). Then, the core substrate 30 is immersed in the electrolytic plating solution, and an electric current is passed through the electroless plating film 44 to deposit the electrolytic copper plating film 45 (FIG. 13B). Then, after removing the resist 51 with 5% KOH, the electroless plating film 44 under the resist 51 is removed by etching with a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, and a via is formed in the non-through hole 43 of the interlayer resin insulating layer 40. Conductive circuits 48 are formed on the surfaces of the holes 46 and the interlayer resin insulation layer 40, and through holes 36 are formed in the through holes 33 of the core substrate 30 (FIG. 13C). Subsequent steps are the same as those in the first embodiment described above with reference to FIGS.
[0050]
Next, a printed wiring board according to a first modification of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the first modification is substantially the same as that of the second embodiment described above. However, in the printed wiring board of the first modified example, the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are formed from the first electrode 21 and the second electrode 22 to the coating layer 26 as shown in FIGS. 15D and 15E. After peeling off, a copper plating film 27 is formed.
[0051]
In the first modified example, the electrodes 21 and 22 of the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are coated with a copper plating film 27, and the electrodes 21 and 22 provided with the plating film 27 are electrically connected by via holes 46 made of copper plating. take. For this reason, the adhesiveness of the electrodes 21 and 22 and the via hole 46 is high, and high connection reliability is achieved.
[0052]
Next, a printed wiring board according to a second modification of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the second modified example is substantially the same as that of the second embodiment described above. However, in the printed wiring board of the second modified example, the conductive pin 84 is disposed and formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pin 84.
[0053]
In the second embodiment described above, only the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B accommodated in the core substrate 30 are provided. However, in the second modified example, large-capacity chip capacitors 86 are mounted on the front surface and the back surface. ing. For this reason, as described above with reference to FIG. 25, by providing the chip capacitor 20A immediately below the IC chip and the large-capacity chip capacitor 86, voltage fluctuation can be minimized.
[0054]
Next, the configuration of the printed wiring board according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The configuration of the printed wiring board of the third embodiment is substantially the same as that of the second embodiment described above. However, the method of accommodating the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B in the core substrate 30 is different. That is, in the second embodiment, the first electrode 21 and the second electrode 22 are connected only from the IC chip side, but in the third embodiment, the first electrode 21 and the second electrode 22 are connected to the IC chip side and the daughter board. Connections are taken from both sides. In this configuration, the external electrodes of the capacitor and the chip resistor have a so-called through-hole function, and the package structure can be simplified, so that it can be used for a high-frequency IC chip.
[0055]
The manufacturing process of the printed wiring board of 3rd Embodiment is demonstrated with reference to FIG.
First, a through hole 37 for accommodating a chip capacitor and a chip resistor is formed in a laminated plate 30α formed by laminating a prepreg impregnated with an epoxy resin (FIG. 18A). Here, as the prepreg, a reinforcing material such as BT, phenol resin or glass cloth is contained in addition to the epoxy. Next, the chip capacitor 20 </ b> A and the chip resistor 20 </ b> B from which the coatings of the surfaces of the first and second electrodes 21 and 22 are peeled are accommodated in the through holes 37 (FIG. 18B). Here, it is preferable that an adhesive 32 is interposed between the through hole 37 and the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B.
[0056]
Next, the resin film 40α, the laminated plate 30α that houses the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B, and the resin film 40α are laminated (FIG. 18C). Thereafter, the core substrate 30 and the interlayer resin insulation layer 40 that accommodate the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B are formed by pressure bonding and heating to cure (FIG. 18D). It is preferable that the resin filler 32 is filled in the through holes 37 of the core substrate 30 to improve the airtightness.
The subsequent steps are the same as those of the second embodiment with reference to FIGS. 12 and 13 and the first embodiment described with reference to FIGS.
[0057]
FIG. 20 shows another example of the printed wiring board according to the third embodiment. As shown in FIG. 20, the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20 </ b> A and the chip resistor 20 </ b> B can be connected to the via hole 46 through an adhesive material 34.
[0058]
Next, a printed wiring board according to a first modification of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the first modification is almost the same as that of the third embodiment described above. However, in the printed wiring board of this modified example, the conductive pin 84 is disposed and formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pin 84.
[0059]
Further, in the third embodiment described above, only the chip capacitor 20A accommodated in the core substrate 30 is provided. However, in the first modified example, large-capacity chip capacitors 86 are mounted on the front surface and the back surface. For this reason, as described above with reference to FIG. 25, by providing the chip capacitor 20A immediately below the IC chip and the large-capacity chip capacitor 86, voltage fluctuation can be minimized.
[0060]
A printed wiring board according to a second modification of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the second modified example is substantially the same as that of the third embodiment described above. However, in the modified printed wiring board, the filled via 46 is formed on the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20 </ b> A, and is connected to the bump 92 of the IC chip 90 via the filled via 66.
[0061]
A printed wiring board according to a third modification of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the third modified example is substantially the same as that of the third embodiment described above. However, in the printed wiring board of this modified example, a filled via 46 is formed on the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20A and the chip resistor 20B, and the IC is connected via the filled via 66 formed immediately above the filled via 46. The bumps 92P1 and 92P2 of the chip 90 are connected. In the third modified example, the distance between the IC chip, the chip capacitor, and the chip resistor can be further reduced.
[0062]
A printed wiring board according to a fourth modification of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board 10 of the fourth modified example is substantially the same as that of the third embodiment described above. However, in this modified printed wiring board, the pad on the IC chip 90 side and the pad 96 on the daughter board 94 side are connected via the chip capacitor 20A, the first electrode 21 and the first electrode 22 of the chip resistor 20B. Yes.
[0063]
In the above-described embodiment, one chip capacitor 20A and chip resistor 20B are accommodated in one cavity or through-hole, but a plurality of them can be accommodated. Thereby, higher integration can be achieved.
[0064]
【The invention's effect】
With the structure of the present invention, the electrical characteristics due to inductance are not deteriorated.
In addition, since the resin is filled between the core substrate and the capacitor, even if stress caused by the capacitor or the like is generated, the stress is alleviated and no migration occurs. Therefore, there is no influence of peeling or dissolution on the connection portion between the capacitor electrode and the via hole.
Therefore, the desired performance can be maintained even if the reliability test is performed. Also, migration can be prevented when the capacitor electrode is covered with copper.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.
FIG. 8 is a cross-sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a first modification of the first embodiment.
FIG. 10 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment.
FIG. 11 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.
15 (A), (B), (C), (D), and (E) are cross-sectional views of a chip capacitor and a chip resistor.
FIG. 16 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a first modification of the second embodiment.
FIG. 17 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second modification of the second embodiment.
FIG. 18 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 19 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 20 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 21 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a first modification of the third embodiment of the present invention.
FIG. 22 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second modification of the third embodiment of the present invention.
FIG. 23 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a third modification of the third embodiment of the present invention.
FIG. 24 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a fourth modification of the third embodiment of the present invention.
FIG. 25 is a graph showing changes in voltage supplied to an IC chip and time.
FIGS. 26A and 26B are explanatory diagrams of loop inductance of a printed wiring board according to the related art.
[Explanation of symbols]
10 Printed wiring board
20A chip capacitor
20B Chip resistance
21 First electrode
22 Second electrode
27 Copper plating film
30 core substrate
31 cavities
33 through holes
36 Through hole
40 Interlayer resin insulation layer
42 Circuit pattern
43 Non-through hole
46 Bahia Hall
60 Interlayer resin insulation layer
66 Bahia Hall
68 Conductor circuit
84 Conductive pin
90 IC chip
94 Daughter Board

Claims (10)

少なくとも以下(a)〜(c)の工程を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法:
(a)片面あるいは両面に回路パターンを形成した樹脂板に、接着材料を介して前記回路パターンにコンデンサの電極及び抵抗の電極を接続する工程
(b)前記樹脂板に、前記コンデンサ及び前記抵抗を収容するキャビティを形成した樹脂基板を貼り付け、コア基板を形成する工程
(c)前記樹脂板に前記コンデンサ及び前記抵抗の電極に接続された前記回路パターンへ至る開口を設けてバイアホールを形成する工程。
A method for producing a printed wiring board comprising at least the following steps (a) to (c):
(A) a step of connecting a capacitor electrode and a resistor electrode to the circuit pattern via an adhesive material on a resin plate having a circuit pattern formed on one side or both sides; and (b) the capacitor and the resistor are connected to the resin plate. A step of forming a core substrate by attaching a resin substrate in which a cavity to be accommodated is formed (c) A via hole is formed by providing an opening to the circuit pattern connected to the capacitor and the resistor electrode in the resin plate. Process.
前記(c)工程の前後に、前記樹脂板に前記樹脂基板を貼り付けてなる前記コア基板に、通孔を穿設してスルーホールとする工程を経ることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。  2. The method according to claim 1, wherein before and after the step (c), a step of forming a through hole in the core substrate formed by attaching the resin substrate to the resin plate is used as a through hole. Manufacturing method of printed wiring board. 少なくとも以下(a)〜(f)の工程を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法:
(a)心材となる樹脂を含有させてなる樹脂材料にコンデンサ及び抵抗収容用の通孔を形成する工程
(b)前記通孔を形成した樹脂材料に、樹脂材料を貼り付けて、コンデンサ及び抵抗収容部を有するコア基板を形成する工程
(c)前記コア基板にコンデンサ及び抵抗を収容する工程
(d)前記コア基板の両側に樹脂フィルムを貼り付ける工程
(e)前記樹脂フィルムに前記コンデンサ及び前記抵抗の電極へ至る開口を設けてバイアホールを形成する工程
(f)前記コア基板に、通孔を穿設してスルーホールとする工程。
A method for producing a printed wiring board comprising at least the following steps (a) to (f):
(A) A step of forming a capacitor and a resistor accommodating through hole in a resin material containing a resin as a core material (b) A resin material is pasted on the resin material in which the through hole is formed, and the capacitor and the resistor A step of forming a core substrate having a receiving portion; a step of receiving a capacitor and a resistor on the core substrate; a step of attaching a resin film on both sides of the core substrate; and a step of forming a resin film on the resin film. A step of forming a via hole by providing an opening to the resistance electrode (f) A step of forming a through hole in the core substrate to form a through hole.
前記樹脂材料が、強化材を樹脂含浸させたプリプレグを用いることを特徴とする請求項3に記載のプリント配線板の製造方法。  The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 3, wherein the resin material is a prepreg impregnated with a reinforcing material. 少なくとも以下(a)〜(f)の工程を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法:
(a)コア基板にコンデンサ及び抵抗収容用の通孔を形成する工程
(b)前記コア基板にコンデンサ及び抵抗を収容する工程
(c)前記コア基板に樹脂材料を貼り付け、コア基板を形成する工程
(d)前記コア基板の表面側の樹脂フィルムに前記コンデンサ及び前記抵抗の電極へ至る開口を設けてバイアホールを形成する工程
(f)前記コア基板に、通孔を穿設してスルーホールとする工程。
A method for producing a printed wiring board comprising at least the following steps (a) to (f):
(A) Step of forming capacitor and resistance housing hole in core substrate (b) Step of housing capacitor and resistor in core substrate (c) Affixing resin material to core substrate to form core substrate Step (d) Forming a via hole in the resin film on the surface side of the core substrate by providing an opening to the capacitor and the resistor electrode (f) Forming a through hole in the core substrate to form a through hole Process.
前記樹脂材料が、強化材を樹脂含浸させたプリプレグを用いることを特徴とする請求項5に記載のプリント配線板の製造方法。  The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 5, wherein the resin material is a prepreg impregnated with a reinforcing material. 前記スルーホールとなる通孔が、前記コンデンサを避けて穿設されることを特徴とする請求項3又は請求項5に記載のプリント配線板の製造方法。  6. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 3, wherein the through hole serving as the through hole is formed avoiding the capacitor. コア基板に樹脂絶縁層と導体回路とを積層してなるプリント配線板であって、
通孔を有する樹脂材料に別の樹脂材料が貼り付けられてコンデンサ及び抵抗収容部が形成されたコア基板と、
前記コア基板の前記コンデンサ及び抵抗収容部に収容されるコンデンサ及び抵抗と、
前記コア基板の表面に貼り付けられる樹脂フィルムと、を有し、
前記コンデンサ及び前記抵抗の電極が被覆層で被覆されており、
前記樹脂フィルムに形成されたバイアホールによって前記コンデンサ及び前記抵抗における前記被覆層から露出した電極が、めっきにより電気的に接続され、
前記コア基板に穿設されたスルーホールによって該コア基板の両面が電気的に接続されてなることを特徴とするプリント配線板。
A printed wiring board formed by laminating a resin insulating layer and a conductor circuit on a core substrate,
A core substrate in which another resin material is attached to a resin material having a through-hole to form a capacitor and a resistance accommodating portion;
A capacitor and a resistor housed in the capacitor and resistor housing portion of the core substrate;
A resin film attached to the surface of the core substrate,
The capacitor and the electrode of the resistor are covered with a coating layer,
The electrode exposed from the coating layer in the capacitor and the resistor by the via hole formed in the resin film is electrically connected by plating,
A printed wiring board, wherein both surfaces of the core substrate are electrically connected by through holes formed in the core substrate.
前記チップコンデンサ及び抵抗から露出した電極は、主成分がCuである金属であることを特徴とする請求項8に記載のプリント配線板。  The printed wiring board according to claim 8, wherein the electrode exposed from the chip capacitor and the resistor is a metal whose main component is Cu. コア基板に樹脂絶縁層と導体回路とを積層してなるプリント配線板であって、
通孔を有する樹脂材料に別の樹脂材料が貼り付けられてコンデンサ及び抵抗収容部が形成されたコア基板と、
前記コア基板の前記コンデンサ及び抵抗収容部に収容されるコンデンサ及び抵抗と、
前記コア基板の表面に貼り付けられる樹脂フィルムと、を有し、
前記コンデンサ及び前記抵抗の電極がめっき膜で被覆されており、
前記樹脂フィルムに形成されたバイアホールによって前記コンデンサ及び前記抵抗の電極が、めっきにより電気的に接続され、
前記コア基板に穿設されたスルーホールによって該コア基板の両面が電気的に接続されてなることを特徴とするプリント配線板。
A printed wiring board formed by laminating a resin insulating layer and a conductor circuit on a core substrate,
A core substrate in which another resin material is attached to a resin material having a through-hole to form a capacitor and a resistance accommodating portion;
A capacitor and a resistor housed in the capacitor and resistor housing portion of the core substrate;
A resin film attached to the surface of the core substrate,
The capacitor and the electrode of the resistor are covered with a plating film,
The capacitor and the electrode of the resistor are electrically connected by plating via holes formed in the resin film,
A printed wiring board, wherein both surfaces of the core substrate are electrically connected by through holes formed in the core substrate.
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