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JP4319062B2 - Microlens substrate manufacturing method and use thereof - Google Patents
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JP4319062B2 - Microlens substrate manufacturing method and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、透明基板上にマイクロレンズを設けたマイクロレンズ基板や、複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを備えるマイクロレンズ基板の製造方法、および該製造方法により製造されたマイクロレンズ基板を用いた光学部品、並びに該光学部品を備える光学装置に関するものである。   The present invention uses a microlens substrate provided with a microlens on a transparent substrate, a microlens substrate manufacturing method including a microlens array including a plurality of microlenses, and a microlens substrate manufactured by the manufacturing method. The present invention relates to an optical component and an optical device including the optical component.

近年において、透明基板上にマイクロレンズを形成したマイクロレンズ基板を備えた光学部品が提供されている。例えば、画像をスクリーンに投影する液晶プロジェクタにおいて、液晶表示素子に2層マイクロレンズ基板を搭載して高輝度化を図ったものが知られている。   In recent years, an optical component including a microlens substrate in which a microlens is formed on a transparent substrate has been provided. For example, in a liquid crystal projector that projects an image on a screen, a two-layer microlens substrate is mounted on the liquid crystal display element to increase the brightness.

上記のような2層マイクロレンズ基板の製造方法としては、例えば、特許文献1に示すような2P(Photo-Polymerization)成型による製造方法や、特許文献2に示すようなセルフアライメント露光法による製造方法が知られている。以下に、これら2つの製造方法によるマイクロレンズ基板の製造方法について、それぞれ図面を参照して説明する。   As a manufacturing method of the two-layer microlens substrate as described above, for example, a manufacturing method by 2P (Photo-Polymerization) molding as shown in Patent Document 1 or a manufacturing method by a self-alignment exposure method as shown in Patent Document 2 It has been known. Below, the manufacturing method of the microlens substrate by these two manufacturing methods is demonstrated with reference to drawings, respectively.

まず、特許文献1に代表される、2P成型によるマイクロレンズ基板の製造方法について図12を参照して説明する。   First, a method for manufacturing a microlens substrate by 2P molding, represented by Patent Document 1, will be described with reference to FIG.

まず、図12(a)に示すように、第1のガラス基板201と、第1のマイクロレンズの反転パターンが形成された第1のスタンパ203との間に、第1の紫外線硬化樹脂205を滴下する。次に、図12(b)に示すように、第1のガラス基板201を第1のスタンパ203に押し付けて、第1の紫外線硬化樹脂205を第1のスタンパ203と第1のガラス基板201との間に押し広げた後、第1のガラス基板201を通して紫外線を照射することにより、第1の紫外線硬化樹脂205を硬化させる。そして、図12(c)に示すように、第1のスタンパ203を第1のガラス基板201より剥離することで、第1のガラス基板201上に第1のマイクロレンズ208が形成された、第1マイクロレンズ基板210が製造される。   First, as shown in FIG. 12A, the first ultraviolet curable resin 205 is placed between the first glass substrate 201 and the first stamper 203 on which the reverse pattern of the first microlens is formed. Dripping. Next, as shown in FIG. 12B, the first glass substrate 201 is pressed against the first stamper 203, and the first ultraviolet curable resin 205 is bonded to the first stamper 203 and the first glass substrate 201. Then, the first ultraviolet curable resin 205 is cured by irradiating ultraviolet rays through the first glass substrate 201. Then, as shown in FIG. 12C, the first microlens 208 is formed on the first glass substrate 201 by peeling the first stamper 203 from the first glass substrate 201. One microlens substrate 210 is manufactured.

また、第2のマイクロレンズ基板を、上記第1のマイクロレンズ基板の形成方法と同様に形成する。具体的には、まず、図12(d)に示すように、第2のガラス基板202と第2のマイクロレンズの反転パターンが形成された第2のスタンパ204との間に、第2の紫外線硬化樹脂206を滴下する。次に、図12(e)に示すように、第2のガラス基板202を第2のスタンパ204に押し付けて、第2の紫外線硬化樹脂206を第2のスタンパ204と第2のガラス基板202との間に押し広げ、第2のガラス基板202を通して紫外線を照射することにより、第2の紫外線硬化樹脂206を硬化させる。そして、図12(f)に示すように、第2のスタンパ204を第2のガラス基板202から剥離することで、第2のガラス基板202上に第2のマイクロレンズ209が形成された、第2マイクロレンズ基板211が製造される。   The second microlens substrate is formed in the same manner as the first microlens substrate formation method. Specifically, first, as shown in FIG. 12D, a second ultraviolet ray is interposed between the second glass substrate 202 and the second stamper 204 on which the reverse pattern of the second microlens is formed. A cured resin 206 is dropped. Next, as shown in FIG. 12E, the second glass substrate 202 is pressed against the second stamper 204, and the second ultraviolet curable resin 206 is applied to the second stamper 204, the second glass substrate 202, and the like. The second ultraviolet curable resin 206 is cured by spreading and irradiating ultraviolet rays through the second glass substrate 202. Then, as shown in FIG. 12F, the second microlens 209 is formed on the second glass substrate 202 by peeling the second stamper 204 from the second glass substrate 202. A two-microlens substrate 211 is manufactured.

続いて、図12(g)に示すように、第1マイクロレンズ基板210と第2マイクロレンズ基板211との間に、第3の紫外線硬化樹脂207を滴下する。そして、図12(h)に示すように、第1マイクロレンズ基板210と第2マイクロレンズ基板211とを押し付けて、第3の紫外線硬化樹脂207を第1マイクロレンズ基板210と第2マイクロレンズ基板211の間に押し広げた後、紫外線を照射し第3の紫外線硬化樹脂207を硬化させることにより、2層マイクロレンズ基板212が作製できる。   Subsequently, as shown in FIG. 12G, a third ultraviolet curable resin 207 is dropped between the first microlens substrate 210 and the second microlens substrate 211. Then, as shown in FIG. 12 (h), the first microlens substrate 210 and the second microlens substrate 211 are pressed, and the third ultraviolet curable resin 207 is applied to the first microlens substrate 210 and the second microlens substrate. The two-layer microlens substrate 212 can be manufactured by spreading between the layers 211 and then irradiating ultraviolet rays to cure the third ultraviolet curable resin 207.

また、次に、特許文献2に代表される、セルフアライメント露光法によるマイクロレンズ基板の製造方法について図13を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of a microlens substrate represented by Patent Document 2 by a self-alignment exposure method will be described with reference to FIG.

セルフアライメント露光法は、第1のマイクロレンズを利用して第2のマイクロレンズのパターンを形成する手法であり、第1のマイクロレンズは2P成型で形成される。具体的には、まず、図13(a)に示すように、上述した特許文献1と同様の手法により、第1のガラス基板301に第1のマイクロレンズ306を形成する。続いて、図13(b)に示すように、第1のマイクロレンズ306が形成された第1のガラス基板301と、第2のガラス基板302との間に、第1のマイクロレンズ306を形成した紫外線硬化樹脂より屈折率の高い第2の紫外線硬化樹脂304を滴下する。そして、図13(c)に示すように、第2のガラス基板302を押し付けて第2の紫外線硬化樹脂304を押し広げた後、紫外線を照射して第2の紫外線硬化樹脂304を硬化させ、第1マイクロレンズ基板308を製造する。   The self-alignment exposure method is a method of forming a pattern of the second microlens using the first microlens, and the first microlens is formed by 2P molding. Specifically, first, as shown in FIG. 13A, the first microlens 306 is formed on the first glass substrate 301 by the same method as in Patent Document 1 described above. Subsequently, as illustrated in FIG. 13B, the first microlens 306 is formed between the first glass substrate 301 on which the first microlens 306 is formed and the second glass substrate 302. A second ultraviolet curable resin 304 having a refractive index higher than that of the ultraviolet curable resin is dropped. And as shown in FIG.13 (c), after pressing the 2nd glass substrate 302 and expanding the 2nd ultraviolet curable resin 304, an ultraviolet-ray is irradiated and the 2nd ultraviolet curable resin 304 is hardened, A first microlens substrate 308 is manufactured.

続いて、第2のマイクロレンズの形成について図13(d)〜(j)を参照して説明する。   Next, the formation of the second microlens will be described with reference to FIGS.

まず、図13(d)に示すように、上記のように製造した第1マイクロレンズ基板308上にネガレジスト309を塗布する。次に、紫外線310を第1マイクロレンズ基板308に照射する。次に、図13(e)に示すように、紫外線310は第1のマイクロレンズ306によってネガレジスト309に集光され、集光部分のネガレジスト309が露光される。   First, as shown in FIG. 13D, a negative resist 309 is applied on the first microlens substrate 308 manufactured as described above. Next, the first microlens substrate 308 is irradiated with ultraviolet rays 310. Next, as shown in FIG. 13E, the ultraviolet rays 310 are condensed on the negative resist 309 by the first microlens 306, and the negative resist 309 at the condensing portion is exposed.

続いて、図13(f)に示すように、紫外線310の第1マイクロレンズ基板308に対する入射角度を変化させて照射し、ネガレジスト309の別の部分を露光する。このとき、紫外線310の照射強度を制御することでネガレジスト309の露光される厚さを制御することができる。次いで、図13(g)に示すように、紫外線310の入射角度および照射強度を制御してネガレジスト309をパターニングした後、現像によって未露光のネガレジスト309を除去することで、第2のマイクロレンズ307のレジストパターンを形成する。その後、図13(h)に示すように、第2のマイクロレンズ307のレジストパターンを第1マイクロレンズ基板308に転写する。そして、図13(i)に示すように、第3のガラス基板303を用意し、この第3のガラス基板303と第2のマイクロレンズ307との間に第3の紫外線硬化樹脂305を滴下する。最後に、図13(j)に示すように、この第3の紫外線硬化樹脂305により、第3のガラス基板303と第2のマイクロレンズ307とを貼り合せることにより、2層マイクロレンズ基板311を製造することができる。
特開2000−147500号公報(平成12年5月26日公開) 特開2003−294912号公報(平成15年10月5日公開)
Subsequently, as shown in FIG. 13F, irradiation is performed by changing the incident angle of the ultraviolet ray 310 with respect to the first microlens substrate 308 to expose another portion of the negative resist 309. At this time, the exposed thickness of the negative resist 309 can be controlled by controlling the irradiation intensity of the ultraviolet ray 310. Next, as shown in FIG. 13G, after patterning the negative resist 309 by controlling the incident angle and irradiation intensity of the ultraviolet light 310, the unexposed negative resist 309 is removed by development, whereby the second micro-resist 309 is removed. A resist pattern for the lens 307 is formed. Thereafter, as shown in FIG. 13H, the resist pattern of the second microlens 307 is transferred to the first microlens substrate 308. Then, as shown in FIG. 13 (i), a third glass substrate 303 is prepared, and a third ultraviolet curable resin 305 is dropped between the third glass substrate 303 and the second microlens 307. . Finally, as shown in FIG. 13 (j), the third glass substrate 303 and the second microlens 307 are bonded to each other with the third ultraviolet curable resin 305 to thereby form the two-layer microlens substrate 311. Can be manufactured.
JP 2000-147500 A (published May 26, 2000) JP 2003-294912 A (published October 5, 2003)

しかしながら、上記特許文献1、2に示したマイクロレンズ基板の製造方法では以下のような問題が生じる。   However, the following problems occur in the manufacturing method of the microlens substrate described in Patent Documents 1 and 2 above.

まず、上述の特許文献1に示された製造方法においては、第1のマイクロレンズ208が形成された第1マイクロレンズ基板210と、第2のマイクロレンズ209が形成された第2マイクロレンズ基板211とを別部品として作成し、その後に2枚のマイクロレンズ基板を貼り合せることにより2層マイクロレンズ基板212を作製している。ところが、この特許文献1中にはマイクロレンズ同士のアライメント方法については開示されておらず、そのまま単純に重ねて貼り合せた場合には、第1のマイクロレンズ208と第2のマイクロレンズ209との間に光軸のずれを生じさせることとなる。このとき、液晶表示素子に使用した場合、光利用効率の低下、各光束の混色による解像度の低下を招くこととなる。   First, in the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 described above, the first microlens substrate 210 on which the first microlens 208 is formed and the second microlens substrate 211 on which the second microlens 209 is formed. Are produced as separate parts, and then two microlens substrates are bonded together to produce a two-layer microlens substrate 212. However, this Patent Document 1 does not disclose a method for aligning microlenses, and when the microlenses are simply stacked and bonded as they are, the first microlens 208 and the second microlens 209 are not aligned. An optical axis shift occurs between them. At this time, when used in a liquid crystal display element, the light utilization efficiency is lowered, and the resolution is lowered due to the color mixture of each light flux.

この問題点は、例えば、各マイクロレンズ基板の製造時に別個のアライメントマークを形成し、貼り合せ装置にアライメントマーク観察系を組み込むことで、2枚のマイクロレンズ基板を貼り合せる際にマイクロレンズ基板同士の位置合せを行って貼り合せることにより解決することは可能ではあるが、高精度な位置決め装置が必要となりコストアップの要因となるという問題点がある。   This problem is caused by, for example, forming a separate alignment mark at the time of manufacturing each microlens substrate, and incorporating an alignment mark observation system into the bonding apparatus, so that the two microlens substrates are bonded together. Although it is possible to solve the problem by aligning and pasting, there is a problem that a high-accuracy positioning device is required and this causes an increase in cost.

また、特許文献2に示された製造方法では、露光光を第1のマイクロレンズ306で集光してネガレジスト309を露光し、第2のマイクロレンズ307のパターニングを行うため、第1のマイクロレンズ306と第2のマイクロレンズ307とで光軸のずれは発生しない。しかし、第2のマイクロレンズ307の露光の際に紫外線310の入射角度および照射強度を高精度に制御する必要があるため、露光光学系が複雑となりコストアップの要因となるという問題点がある。   In the manufacturing method disclosed in Patent Document 2, the exposure light is condensed by the first microlens 306 to expose the negative resist 309 and the second microlens 307 is patterned. The optical axis is not shifted between the lens 306 and the second microlens 307. However, since it is necessary to control the incident angle and irradiation intensity of the ultraviolet ray 310 with high precision during the exposure of the second microlens 307, there is a problem that the exposure optical system becomes complicated and increases the cost.

さらに、マイクロレンズ基板を搭載する機器に対する小型薄型化の要望は近年ますます強くなり、マイクロレンズ基板の厚さも薄くなる傾向にある。しかし、特許文献1に示す製造方法や特許文献2に示す製造方法における第1のマイクロレンズの形成工程、すなわち、2P成型においては、紫外線硬化樹脂を硬化させた後にガラス基板からスタンパを剥離する工程が存在する。この工程では、ガラス基板に応力が加わるため、ガラス基板を薄くするとガラス基板がこの応力に耐えられず破損してしまうことから、2P成型ではガラス基板の薄型化には限界があった。   Furthermore, the demand for downsizing and thinning of devices equipped with a microlens substrate has become stronger in recent years, and the thickness of the microlens substrate tends to be thinner. However, in the manufacturing method shown in Patent Document 1 and the manufacturing method shown in Patent Document 2, the first microlens forming step, that is, in 2P molding, a step of peeling the stamper from the glass substrate after curing the ultraviolet curable resin. Exists. In this step, since stress is applied to the glass substrate, if the glass substrate is thinned, the glass substrate cannot withstand this stress and is damaged. Therefore, in 2P molding, there is a limit to thinning the glass substrate.

加えて、特許文献1および2に示された製造方法では、第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズを別工程で形成しているため、製造工程数が多くなり、製造時間が増加してしまい大量生産には適さないという問題点もある。   In addition, in the manufacturing methods disclosed in Patent Documents 1 and 2, since the first microlens and the second microlens are formed in separate steps, the number of manufacturing steps increases and the manufacturing time increases. There is also a problem that it is not suitable for mass production.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、透明基板の両面に高精度にアライメントされたマイクロレンズを形成したマイクロレンズ基板を、より少ない製造工程で生産することが可能なマイクロレンズ基板の製造方法、および該製造方法により製造されたマイクロレンズ基板を用いた光学部品、並びに該光学部品を備える光学装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to produce a microlens substrate in which microlenses aligned on both surfaces of a transparent substrate with high precision are formed with fewer manufacturing steps. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a microlens substrate that can be manufactured, an optical component using the microlens substrate manufactured by the manufacturing method, and an optical device including the optical component.

本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、両面に感光材料層を形成した透明基板に対して、所定の大きさの開口部を有する遮光マスクを離間して配置した後、この遮光マスクを通して、当該透明基板に露光光を照射したところ、透明基板の両面にマイクロレンズが形成される現象を独自に見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have arranged a light-shielding mask having an opening of a predetermined size on a transparent substrate having a photosensitive material layer formed on both sides, and this light shielding. When the transparent substrate was irradiated with exposure light through a mask, the phenomenon that microlenses were formed on both sides of the transparent substrate was uniquely found, and the present invention was completed.

すなわち、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法は、上記課題を解決するために、透明基板の両面のそれぞれに、少なくとも1つ以上のマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板の製造方法であって、透明基板の一方の面に第1の感光材料層を形成する工程と、上記透明基板の他方の面に第2の感光材料層を形成する工程と、上記透明基板と光源との間に、光を透過させるための開口部を備える遮光手段を配置する工程と、上記遮光手段の開口部を通して、上記透明基板の両面に形成された第1の感光材料層および第2の感光材料層に対して露光光を照射し、第1の感光材料層および第2の感光材料層を露光する工程と、上記第1の感光材料層および第2の感光材料層を現像する工程と、を有することを特徴としている。   That is, a method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention is a method for manufacturing a microlens substrate including at least one microlens on each of both surfaces of a transparent substrate, in order to solve the above-described problem. A step of forming a first photosensitive material layer on one surface of the substrate, a step of forming a second photosensitive material layer on the other surface of the transparent substrate, and light between the transparent substrate and the light source. A step of arranging a light-shielding means having an opening for transmitting light, and exposure to the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer formed on both surfaces of the transparent substrate through the opening of the light-shielding means. And a step of exposing the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer by irradiating light, and a step of developing the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer. Yes.

上記の構成によれば、一回の露光光の照射により複数層のマイクロレンズをアライメントとして形成することができる。このため、特別な工程や機器を用いることなく、複数のマイクロレンズ(例えば、第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズ)の光軸のずれの発生を確実に防止することができる。したがって、例えば、高精度な位置決め装置も設ける必要が無い。また、複数のマイクロレンズを同時に形成することができるため、露光光学系が複雑になることを防止することもできる。その結果、製造工程や使用する機器に関するコストアップを防止することができる。   According to said structure, the multi-layer microlens can be formed as alignment by one exposure light irradiation. For this reason, it is possible to reliably prevent the occurrence of deviation of the optical axes of a plurality of microlenses (for example, the first microlens and the second microlens) without using a special process or device. Therefore, for example, it is not necessary to provide a highly accurate positioning device. In addition, since a plurality of microlenses can be formed simultaneously, it is possible to prevent the exposure optical system from becoming complicated. As a result, it is possible to prevent a cost increase related to the manufacturing process and the equipment to be used.

また、複数層のマイクロレンズを同時に透明基板上に形成することができるため、製造時間の短縮を図ることができる。   In addition, since a plurality of layers of microlenses can be simultaneously formed on the transparent substrate, the manufacturing time can be reduced.

さらに、本発明に係る製造方法によれば、2P成型による製造工程に含まれる「ガラス基板をスタンパから剥離する工程」を含まないため、透明基板に応力が加わることがない。このため、従来に比べて、より薄い透明基板を利用可能であり、より小型化・薄膜化したマイクロレンズ基板を製造することができる。   Furthermore, according to the manufacturing method according to the present invention, since the “step of peeling the glass substrate from the stamper” included in the manufacturing process by 2P molding is not included, no stress is applied to the transparent substrate. For this reason, it is possible to use a thinner transparent substrate as compared with the conventional case, and it is possible to manufacture a microlens substrate that is smaller and thinner.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、上記遮光手段を、第1の感光材料層および第2の感光材料層が形成された透明基板と所定の距離を離間して配置することが好ましい。また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、上記遮光手段を、上記透明基板と略平行に配置することが好ましい。   In the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, the light shielding unit may be disposed at a predetermined distance from the transparent substrate on which the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer are formed. preferable. In the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, it is preferable that the light shielding means is disposed substantially parallel to the transparent substrate.

上記の構成によれば、確実かつ容易に、複数のマイクロレンズを透明基板上に形成することができる。   According to said structure, a some microlens can be formed on a transparent substrate reliably and easily.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、上記露光光は、平行光であることが好ましい。   In the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, the exposure light is preferably parallel light.

上記の構成によれば、透明基板の両面に形成された第1の感光材料層と第2の感光材料層とに照射される露光光の面積は同じ面積となる。このため、透明基板の厚さが異なる場合においても、露光系を変更することなく、透明基板の両面に略同じ大きさのマイクロレンズを形成したマイクロレンズ基板を製造することが可能となる。   According to said structure, the area of the exposure light irradiated to the 1st photosensitive material layer and the 2nd photosensitive material layer which were formed on both surfaces of the transparent substrate becomes the same area. For this reason, even when the thickness of the transparent substrate is different, a microlens substrate in which microlenses having substantially the same size are formed on both surfaces of the transparent substrate can be manufactured without changing the exposure system.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、上記遮光手段は、複数の開口部を備えることが好ましい。   In the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, it is preferable that the light shielding unit includes a plurality of openings.

上記の構成によれば、透明基板上にマイクロレンズがアレイ状に形成されたマイクロレンズ基板を容易に製造することができる。   According to said structure, the microlens board | substrate with which the microlens was formed in the array form on the transparent substrate can be manufactured easily.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、上記遮光手段に設けられる複数の開口部の大きさが異なることが好ましい。   In the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, it is preferable that the sizes of the plurality of openings provided in the light shielding unit are different.

上記の構成によれば、大きさの異なる、複数のマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板を容易に製造することができる。   According to said structure, the microlens board | substrate provided with the several microlens from which a magnitude | size differs can be manufactured easily.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板は、上記課題を解決するために、上記いずれかのマイクロレンズ基板の製造方法によって製造されることを特徴としている。   Moreover, in order to solve the said subject, the microlens board | substrate which concerns on this invention is manufactured by the manufacturing method of one of the said microlens board | substrates.

上記の構成によれば、光軸のずれがなく、高精度にアライメントされた複数のマイクロレンズを透明基板の両面に備えたマイクロレンズ基板を確実かつ安価に得ることができる。このため、本発明に係るマイクロレンズ基板は、その特性を活かして光学部品や光学装置に利用することができる。   According to the above configuration, it is possible to reliably and inexpensively obtain a microlens substrate having a plurality of microlenses aligned with high accuracy on both surfaces of the transparent substrate without any deviation of the optical axis. Therefore, the microlens substrate according to the present invention can be used for an optical component or an optical device by making use of the characteristics.

また、本発明に係る光学部品は、上記課題を解決するために、上記マイクロレンズ基板を備えることを特徴としている。   An optical component according to the present invention includes the microlens substrate in order to solve the above problems.

上記の構成によれば、高精度にアライメントされたマイクロレンズを備えた光学部品を製造することができる。   According to said structure, the optical component provided with the micro lens aligned with high precision can be manufactured.

また、本発明に係る光学装置は、上記課題を解決するために、上記光学部品を備えることを特徴としている。   Moreover, in order to solve the said subject, the optical apparatus which concerns on this invention is equipped with the said optical component, It is characterized by the above-mentioned.

上記の構成によれば高精度にアライメントされたマイクロレンズを備えた光学部品を有する光学装置を製造することができる。   According to said structure, the optical apparatus which has an optical component provided with the micro lens aligned with high precision can be manufactured.

本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法は、以上のように、透明基板の一方の面に第1の感光材料層を形成する工程と、上記透明基板の他方の面に第2の感光材料層を形成する工程と、上記透明基板と光源との間に、光を透過させるための開口部を備える遮光手段を配置する工程と、上記遮光手段の開口部を通して、上記透明基板の両面に形成された第1の感光材料層および第2の感光材料層に対して露光光を照射し、第1の感光材料層および第2の感光材料層を露光する工程と、上記第1の感光材料層および第2の感光材料層を現像する工程と、を有するという構成であるので、一回の露光光の照射で複数層のマイクロレンズを形成することができるため、複数層のマイクロレンズをアライメントして形成することができるという効果を奏する。また、複数層のマイクロレンズを同工程で形成できるため製造時間の短縮が可能となるという効果を奏する。また、露光装置にアライメントの機構が必要ないため、露光装置のコストを下げることができるという効果を奏する。また、透明基板に応力が加わることが無いため、薄いガラス基板を使用できるため、光学部品の薄型化が可能となるという効果を奏する。   As described above, the manufacturing method of the microlens substrate according to the present invention includes the step of forming the first photosensitive material layer on one surface of the transparent substrate, and the second photosensitive material layer on the other surface of the transparent substrate. Forming a light shielding means having an opening for transmitting light between the transparent substrate and the light source, and forming on both surfaces of the transparent substrate through the opening of the light shielding means. A step of irradiating the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer with exposure light to expose the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer; And a step of developing the second photosensitive material layer, so that a plurality of microlenses can be formed by one exposure light irradiation. The effect of being able to form Unlikely to. In addition, since a plurality of microlenses can be formed in the same process, the manufacturing time can be shortened. In addition, since an alignment mechanism is not required in the exposure apparatus, the cost of the exposure apparatus can be reduced. In addition, since no stress is applied to the transparent substrate, a thin glass substrate can be used, so that the optical component can be thinned.

以下、図面に従い本発明の一実施形態について以下に説明する。まず、本願発明の特徴的なマイクロレンズ基板の製造方法について説明した後、当該マイクロレンズ基板の製造方法によって製造されたマイクロレンズ基板を利用した光学部品および光学装置について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, after describing a characteristic microlens substrate manufacturing method of the present invention, an optical component and an optical device using the microlens substrate manufactured by the microlens substrate manufacturing method will be described.

(1)マイクロレンズ基板の製造方法
透明基板上にマイクロレンズを形成する方法としては、従来より様々な方法が開示されているが、本発明者らは、図1に示すよう構成によりマイクロレンズ基板を製造する方法を創出した。すなわち、透明基板1の一方の面に第1の感光材料層2を形成し、透明基板1のもう一方の面に第2の感光材料層3を形成し、透明基板1に対して所定の距離をとって開口部5を有する遮光マスク4を配置した後、この開口部5を通して露光光6を透明基板1、第1の感光材料層2、第2の感光材料層3に対して照射した場合において、図2のような曲面パターンを有する、感光材料からなるマイクロレンズが透明基板1の両面に形成される現象を見出した。この透明基板1の両面に感光材料層2・3が曲面状に硬化する現象は、感光材料と透明基板との界面における何らかの作用によって生じるものであり、本発明者らは、この現象に基づいたマイクロレンズ基板の製造方法を新たに開発した。
(1) Manufacturing Method of Microlens Substrate Various methods have been disclosed as methods for forming a microlens on a transparent substrate. The present inventors have configured the microlens substrate according to the configuration shown in FIG. Created a method of manufacturing. That is, the first photosensitive material layer 2 is formed on one surface of the transparent substrate 1, the second photosensitive material layer 3 is formed on the other surface of the transparent substrate 1, and a predetermined distance from the transparent substrate 1. When the light shielding mask 4 having the opening 5 is disposed and the exposure light 6 is irradiated to the transparent substrate 1, the first photosensitive material layer 2, and the second photosensitive material layer 3 through the opening 5. 2 found that a microlens made of a photosensitive material having a curved surface pattern as shown in FIG. The phenomenon that the photosensitive material layers 2 and 3 are curved on both surfaces of the transparent substrate 1 is caused by some action at the interface between the photosensitive material and the transparent substrate, and the present inventors based on this phenomenon. A new method for manufacturing microlens substrates has been developed.

具体的には、図3に示すように、本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法には、透明基板11、第1の紫外線硬化樹脂12、第2の紫外線硬化樹脂13、開口部15を備える遮光マスク14、光源17を用いる。透明基板11は紫外線16を透過することができる基板であればよく、その材質などは特に限定されるものではない。第1の紫外線硬化樹脂12、第2の紫外線硬化樹脂13は同一のものであってもよいし、そうでなくともよく、従来公知の紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本実施の形態では主として紫外線硬化樹脂を用いて説明するが、これに限定されるものではなく、感光材料からなる任意の感光材料層を用いることができる。開口部15は紫外線16を透過させるためのものであり、本実施の形態では遮光マスク14に1つ設けられているが、後述するように開口部15の数は適宜設定可能である。光源17は、第1の紫外線硬化樹脂12および第2の紫外線硬化樹脂13を硬化させるための紫外線16を照射する光源である。   Specifically, as shown in FIG. 3, the microlens substrate manufacturing method according to the present embodiment includes a transparent substrate 11, a first ultraviolet curable resin 12, a second ultraviolet curable resin 13, and an opening 15. A light shielding mask 14 and a light source 17 are used. The transparent substrate 11 is not particularly limited as long as it is a substrate capable of transmitting the ultraviolet rays 16. The first ultraviolet curable resin 12 and the second ultraviolet curable resin 13 may be the same or not, and a conventionally known ultraviolet curable resin can be used. In the present embodiment, description will be made mainly using an ultraviolet curable resin. However, the present invention is not limited to this, and any photosensitive material layer made of a photosensitive material can be used. The opening 15 is for transmitting the ultraviolet rays 16 and is provided in the light shielding mask 14 in the present embodiment, but the number of the openings 15 can be appropriately set as will be described later. The light source 17 is a light source that emits ultraviolet rays 16 for curing the first ultraviolet curable resin 12 and the second ultraviolet curable resin 13.

以下、本製造方法における各工程について順次説明する。まず、透明基板11の一方の面に第1の紫外線硬化樹脂12を塗布し、もう一方の面に第2の紫外線硬化樹脂13を塗布する。これら紫外線硬化樹脂12・13を透明基板11の表面に塗布する方法としては、従来公知のスピンコート法やディッピング法等が使用でき、適宜選択が可能である。そして、第1の紫外線硬化樹脂12および第2の紫外線硬化樹脂13が塗布された透明基板11と遮光マスク14とが略平行になるように、かつ、所定の距離(本実施例では400μm)を離して(離間して)配置する(図3(a))。このとき、遮光マスク14は、透明基板11においてマイクロレンズを形成したい箇所に、開口部15を通して紫外線が照射されるように、配置されることが好ましい。また、遮光マスク14は、光源17等の露光光学系と透明基板11との間に配置される。なお、遮光マスク14は、本実施の形態では、遮光マスク14は、透明基板11の第1の紫外線硬化樹脂12が塗布された面と光源17との間に配置されているが、これに限定されるものではない。すなわち、遮光マスク14は、透明基板11の第1の紫外線硬化樹脂12が塗布された面側、および第2の紫外線硬化樹脂13が塗布された面側のうち、いずれの面側に配置してもよく、露光光学系の構成や位置にあわせて適宜配置することができる。また、両面に紫外線硬化樹脂を塗布した透明基板11と遮光マスク14との距離は、適宜設定可能である。   Hereinafter, each process in this manufacturing method is demonstrated one by one. First, the first ultraviolet curable resin 12 is applied to one surface of the transparent substrate 11, and the second ultraviolet curable resin 13 is applied to the other surface. As a method of applying these ultraviolet curable resins 12 and 13 to the surface of the transparent substrate 11, a conventionally known spin coating method, dipping method, or the like can be used, and can be appropriately selected. Then, the transparent substrate 11 coated with the first ultraviolet curable resin 12 and the second ultraviolet curable resin 13 and the light shielding mask 14 are substantially parallel to each other, and a predetermined distance (400 μm in this embodiment) is set. They are arranged apart (separated) (FIG. 3A). At this time, it is preferable that the light shielding mask 14 is arranged so that ultraviolet rays are irradiated through the opening 15 at a location where the microlens is to be formed on the transparent substrate 11. The light shielding mask 14 is disposed between the exposure optical system such as the light source 17 and the transparent substrate 11. In this embodiment, the light shielding mask 14 is disposed between the light source 17 and the surface of the transparent substrate 11 to which the first ultraviolet curable resin 12 is applied, but the present invention is not limited to this. Is not to be done. That is, the light shielding mask 14 is arranged on either side of the surface side of the transparent substrate 11 to which the first ultraviolet curable resin 12 is applied and the surface side to which the second ultraviolet curable resin 13 is applied. In other words, it can be appropriately arranged according to the configuration and position of the exposure optical system. Further, the distance between the transparent substrate 11 coated with the ultraviolet curable resin on both sides and the light shielding mask 14 can be set as appropriate.

次に、図3(b)に示すように、この状態で、光源17から紫外線16を遮光マスク14に対して照射する。このとき、紫外線16は、遮光マスク14の開口部15を通過して、透明基板11に塗布された第1の紫外線硬化樹脂12に照射されるとともに、第1の紫外線硬化樹脂12および透明基板11を透過して、第2の紫外線硬化樹脂13に対しても照射されることになる。   Next, as shown in FIG. 3B, in this state, the light shielding mask 14 is irradiated with ultraviolet rays 16 from the light source 17. At this time, the ultraviolet ray 16 passes through the opening 15 of the light shielding mask 14 and is irradiated to the first ultraviolet curable resin 12 applied to the transparent substrate 11, and the first ultraviolet curable resin 12 and the transparent substrate 11 are also irradiated. Then, the second ultraviolet curable resin 13 is also irradiated.

このため、図3(c)に示すように、紫外線16が照射された第1の紫外線硬化樹脂12と第2の紫外線硬化樹脂13の一部が露光される(図中で示す箇所が露光された箇所)。続いて、図3(d)に示すように、未露光の紫外線硬化樹脂を現像して除去することにより、透明基板11の両面に第1のマイクロレンズ18と第2のマイクロレンズ19とが形成され、2つのマイクロレンズ18・19を備えるマイクロレンズ基板10を製造することできる。なお、第1のマイクロレンズ18は第1の紫外線硬化樹脂12に由来するものであって、第2のマイクロレンズ19は第2の紫外線硬化樹脂13に由来するものである。   Therefore, as shown in FIG. 3C, a part of the first ultraviolet curable resin 12 and the second ultraviolet curable resin 13 irradiated with the ultraviolet rays 16 are exposed (the portions shown in the figure are exposed). Where). Subsequently, as shown in FIG. 3D, the first microlens 18 and the second microlens 19 are formed on both surfaces of the transparent substrate 11 by developing and removing the unexposed UV curable resin. Thus, the microlens substrate 10 including the two microlenses 18 and 19 can be manufactured. The first microlens 18 is derived from the first ultraviolet curable resin 12, and the second microlens 19 is derived from the second ultraviolet curable resin 13.

また、マイクロレンズのレンズ頂点の高さは、紫外線の照射量によって制御することが可能である。図4は、紫外線の照射量とマイクロレンズ頂点部高さの相関を示すグラフである。横軸が紫外線照射量の対数値(mJ/cm)、縦軸がマイクロレンズ頂点部の高さ(μm)である。同図より、マイクロレンズ頂点部の高さは、紫外線照射量の対数値に比例していることがわかる。 In addition, the height of the lens apex of the microlens can be controlled by the irradiation amount of ultraviolet rays. FIG. 4 is a graph showing the correlation between the irradiation amount of ultraviolet rays and the height of the apex of the microlens. The horizontal axis represents the logarithmic value (mJ / cm 2 ) of the UV irradiation amount, and the vertical axis represents the height (μm) of the microlens apex. From the figure, it can be seen that the height of the apex portion of the microlens is proportional to the logarithmic value of the UV irradiation amount.

このように、本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法によれば、透明基板11の両面に形成された第1の紫外線硬化樹脂12、若しくは第2の紫外線硬化樹脂13の、いずれか一方向から紫外線16を照射することで、透明基板11の両面に第1のマイクロレンズ18、及び第2のマイクロレンズ19を略同時に形成することができる。したがって、一回の露光光の照射で複数層のマイクロレンズを形成できるため、複数層のマイクロレンズの光軸はずれることがなく、複数層のマイクロレンズが高精度にアライメントされたマイクロレンズ基板20を形成することができる。   Thus, according to the method for manufacturing the microlens substrate according to the present embodiment, either the first ultraviolet curable resin 12 or the second ultraviolet curable resin 13 formed on both surfaces of the transparent substrate 11 is used. By irradiating the ultraviolet rays 16 from the direction, the first microlenses 18 and the second microlenses 19 can be formed on both surfaces of the transparent substrate 11 substantially simultaneously. Accordingly, since a plurality of microlenses can be formed by a single exposure light irradiation, the microlens substrate 20 in which the plurality of microlenses are aligned with high accuracy without being displaced. Can be formed.

さらに、複数層のマイクロレンズを同工程で形成しているため製造時間の短縮が可能となる。また、露光装置にアライメントの機構が必要ないため、露光装置のコストやサイズを下げることができる。加えて、2P成型のように、マイクロレンズ形成工程において透明基板に応力が加わらないため、薄い透明基板を用いることができ、マイクロレンズ基板の薄型化・小型化が可能となる。   Furthermore, since a plurality of layers of microlenses are formed in the same process, manufacturing time can be shortened. Further, since no alignment mechanism is required in the exposure apparatus, the cost and size of the exposure apparatus can be reduced. In addition, since stress is not applied to the transparent substrate in the microlens formation process as in 2P molding, a thin transparent substrate can be used, and the microlens substrate can be made thinner and smaller.

また、露光光として、平行光を使用することが好ましい。ここでいう「平行光」とは、遮光マスクの開口部から紫外線硬化樹脂層が両面に形成された透明基板に対して、略垂直に照射される露光光のことをいう。すなわち、光源と、遮光マスクの開口部と、紫外線硬化樹脂層と、透明基板とが全て略平行に並んでいる状態で、透明基板に対して略垂直に照射される露光光のことである。   Moreover, it is preferable to use parallel light as exposure light. “Parallel light” as used herein refers to exposure light that is irradiated substantially perpendicularly to a transparent substrate having an ultraviolet curable resin layer formed on both sides from an opening of a light shielding mask. That is, it is exposure light that is irradiated substantially perpendicularly to the transparent substrate in a state in which the light source, the opening of the light shielding mask, the ultraviolet curable resin layer, and the transparent substrate are all arranged substantially in parallel.

このように、露光光が平行光であれば、例えば、透明基板の厚みに影響されることなく、マイクロレンズ基板を製造することができる。具体的に、厚みの異なる透明基板を用いた場合について図5(a)、図5(b)に基づいて説明する。まず、図5(a)に示すように、薄い透明基板21を用いる場合、薄い透明基板21に対して、光源27から照射された紫外線26は、遮光マスク24に設けられた開口部25を通過して、第1の紫外線硬化樹脂22を露光するとともに、透明基板21を透過し、第2の紫外線硬化樹脂23をも露光する。一方、図5(b)に示すように、厚い透明基板31を用いた場合でも、厚い透明基板31に対して、光源37から照射された紫外線36は、遮光マスク24に設けられた開口部25を通過して、第1の紫外線硬化樹脂22を露光するとともに、透明基板21を透過し、第2の紫外線硬化樹脂23をも露光することができる。   Thus, if the exposure light is parallel light, for example, a microlens substrate can be manufactured without being affected by the thickness of the transparent substrate. Specifically, the case where transparent substrates having different thicknesses are used will be described with reference to FIGS. 5 (a) and 5 (b). First, as shown in FIG. 5A, when the thin transparent substrate 21 is used, the ultraviolet light 26 irradiated from the light source 27 passes through the opening 25 provided in the light shielding mask 24 with respect to the thin transparent substrate 21. Then, the first ultraviolet curable resin 22 is exposed, the transparent substrate 21 is transmitted, and the second ultraviolet curable resin 23 is also exposed. On the other hand, as shown in FIG. 5B, even when the thick transparent substrate 31 is used, the ultraviolet light 36 irradiated from the light source 37 to the thick transparent substrate 31 is exposed to the opening 25 provided in the light shielding mask 24. , The first ultraviolet curable resin 22 is exposed, the transparent substrate 21 is transmitted, and the second ultraviolet curable resin 23 can also be exposed.

すなわち、平行光を露光光として利用することにより、図5(a)に示す透明基板21と図5(b)に示す透明基板31のように、厚みが異なる透明基板を用いる場合であっても、透明基板31の両面に第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズを形成することができる。このため、露光光学系を変更することなく、透明基板の厚みが異なるマイクロレンズ基板、つまり異なる機能を有するマイクロレンズ基板を製造することが可能となる。   That is, by using parallel light as exposure light, even when using transparent substrates having different thicknesses, such as the transparent substrate 21 shown in FIG. 5A and the transparent substrate 31 shown in FIG. The first microlens and the second microlens can be formed on both surfaces of the transparent substrate 31. For this reason, it becomes possible to manufacture microlens substrates having different thicknesses of the transparent substrate, that is, microlens substrates having different functions, without changing the exposure optical system.

また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法では、例えば、遮光マスクに複数の開口部を設けることも可能である。この場合、複数のマイクロレンズが透明基板上にアレイ状に形成されたマイクロレンズ基板を製造することができる。   In the method of manufacturing a microlens substrate according to the present invention, for example, a plurality of openings can be provided in the light shielding mask. In this case, a microlens substrate in which a plurality of microlenses are formed in an array on a transparent substrate can be manufactured.

具体的な例を図6に示す。同図に示すように、透明基板41の一方の面に第1の紫外線硬化樹脂42が形成されており、もう一方の面に第2の紫外線硬化樹脂43が形成されている。そして、透明基板41の、第1の紫外線硬化樹脂42が塗布された面側に、遮光マスク44を一定の距離をとって配置する。この遮光マスク44には複数の開口部45が、本実施の形態では3つの開口部45・45・45が設けられている。光源47より遮光マスク44の開口部45を通して、紫外線46を第1の紫外線硬化樹脂42、透明基板41、第2の紫外線硬化樹脂43に対して照射する。   A specific example is shown in FIG. As shown in the figure, a first ultraviolet curable resin 42 is formed on one surface of a transparent substrate 41, and a second ultraviolet curable resin 43 is formed on the other surface. Then, a light shielding mask 44 is disposed at a certain distance on the surface of the transparent substrate 41 on which the first ultraviolet curable resin 42 is applied. The light shielding mask 44 is provided with a plurality of openings 45, and in the present embodiment, three openings 45, 45, 45 are provided. The light source 47 irradiates the first ultraviolet curable resin 42, the transparent substrate 41, and the second ultraviolet curable resin 43 through the opening 45 of the light shielding mask 44.

このとき、開口部45は3つ設けられているため、紫外線46は、第1の紫外線硬化樹脂42、透明基板41、第2の紫外線硬化樹脂43の、3つの開口部45・45・45のそれぞれに対応した3つの領域に対して照射されることになる。すなわち、第1の紫外線硬化樹脂42および第2の紫外線硬化樹脂43のそれぞれにおいて、3つの露光領域が形成されることになる。その結果、図6(b)に示すように、3つの第1のマイクロレンズ48・48・48と、3つの第2のマイクロレンズ49・49・49とが透明基板41上にアレイ状に形成されたマイクロレンズ基板40を製造することができる。   At this time, since three openings 45 are provided, the ultraviolet rays 46 are emitted from the three openings 45, 45, 45 of the first ultraviolet curable resin 42, the transparent substrate 41, and the second ultraviolet curable resin 43. Irradiation is performed to three regions corresponding to each. That is, three exposure regions are formed in each of the first ultraviolet curable resin 42 and the second ultraviolet curable resin 43. As a result, as shown in FIG. 6B, three first microlenses 48, 48, 48 and three second microlenses 49, 49, 49 are formed on the transparent substrate 41 in an array. The manufactured microlens substrate 40 can be manufactured.

なお、遮光マスク44に設けられる開口部45の数、位置、および大きさ等の諸条件は適宜選定可能であって、特に限定されるものではないが、例えば、開口部45の大きさに関しては、所望のレンズの大きさに対して70〜100%の大きさとすることが好ましい。これは、レンズが密に形成されたマイクロレンズ基板を製造することができるためである。つまり、基板上に形成されるレンズの寸法は、照射する露光光の光量を増加させることで、開口部45の大きさよりも大きく形成することが可能であるためである。例えば、図6(c)に示すように、開口部45を形成するピッチを所望のレンズ寸法と同等として、開口部45をレンズ48・49の寸法より小さく形成した遮光マスク44を用いて露光処理を行う場合、照射する露光光の光量を適切に増加させることで、隣接するレンズとの隙間がないマイクロレンズ基板を製造することが可能となる。   Various conditions such as the number, position, and size of the openings 45 provided in the light shielding mask 44 can be appropriately selected and are not particularly limited. For example, regarding the size of the openings 45, The size is preferably 70 to 100% with respect to the desired lens size. This is because a microlens substrate in which lenses are densely formed can be manufactured. That is, the size of the lens formed on the substrate can be made larger than the size of the opening 45 by increasing the amount of exposure light to be irradiated. For example, as shown in FIG. 6C, an exposure process is performed using a light shielding mask 44 in which the pitch for forming the openings 45 is made equal to the desired lens dimensions and the openings 45 are formed smaller than the dimensions of the lenses 48 and 49. When performing the above, it is possible to manufacture a microlens substrate having no gap between adjacent lenses by appropriately increasing the amount of exposure light to be irradiated.

また、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法においては、遮光手段の開口部が複数設けられており、その開口部の大きさがそれぞれ異なるものであってもよい。この場合、大きさの異なるマイクロレンズが形成されたマイクロレンズ基板を製造することができる。   In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, a plurality of openings for the light shielding means may be provided, and the sizes of the openings may be different from each other. In this case, a microlens substrate on which microlenses having different sizes are formed can be manufactured.

すなわち、図7(a)に示すように、透明基板51の一方の面に第1の紫外線硬化樹脂52が形成されており、もう一方の面に第2の紫外線硬化樹脂53が形成されている。そして、透明基板51の、第1の紫外線硬化樹脂52が塗布された面側に、遮光マスク54を一定の距離をとって配置する。この遮光マスク54には2つの開口部55a・55bが設けられている。ここで、開口部55aと開口部55bとは大きさが異なる。本実施の形態では、開口部55aは、開口部55bに比べて小さく形成されている。光源57より遮光マスク54の開口部55a・55bを通して、紫外線56を第1の紫外線硬化樹脂52、透明基板51、第2の紫外線硬化樹脂53に対して照射する。   That is, as shown in FIG. 7A, the first ultraviolet curable resin 52 is formed on one surface of the transparent substrate 51, and the second ultraviolet curable resin 53 is formed on the other surface. . Then, a light shielding mask 54 is disposed at a certain distance on the surface of the transparent substrate 51 to which the first ultraviolet curable resin 52 is applied. The light shielding mask 54 has two openings 55a and 55b. Here, the opening 55a and the opening 55b are different in size. In the present embodiment, the opening 55a is formed smaller than the opening 55b. The first ultraviolet curable resin 52, the transparent substrate 51, and the second ultraviolet curable resin 53 are irradiated from the light source 57 through the openings 55 a and 55 b of the light shielding mask 54.

このとき、紫外線56は、第1の紫外線硬化樹脂52、透明基板51、第2の紫外線硬化樹脂53の、2つの開口部55a・55bのそれぞれに対応した2つの領域に対して、照射されることになるが、開口部55a・55bの大きさが異なっているため、第1の紫外線硬化樹脂52および第2の紫外線硬化樹脂53のそれぞれにおいて、大きさの異なる2つの露光領域が形成されることになる。その結果、図6(b)に示すように、透明基板51の一方の面に、大きさが異なる、2つの第1のマイクロレンズ58a・58bが形成される。また、それに対応するように透明基板51のもう一方の面にも、大きさの異なる、2つの第2のマイクロレンズ59a・59bがアレイ状に形成されたマイクロレンズ基板50を製造することができる。   At this time, the ultraviolet ray 56 is irradiated to two regions corresponding to the two openings 55a and 55b of the first ultraviolet curable resin 52, the transparent substrate 51, and the second ultraviolet curable resin 53, respectively. However, since the sizes of the openings 55a and 55b are different, two exposure regions having different sizes are formed in each of the first ultraviolet curable resin 52 and the second ultraviolet curable resin 53. It will be. As a result, as shown in FIG. 6B, two first microlenses 58a and 58b having different sizes are formed on one surface of the transparent substrate 51. Correspondingly, a microlens substrate 50 in which two second microlenses 59a and 59b of different sizes are formed in an array on the other surface of the transparent substrate 51 can be manufactured. .

さらに、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法においては、透明基板と感光材料層とをそれぞれ複数積層して露光することも可能である。この場合、一回の露光で複数のマイクロレンズ基板を製造することが可能であるため、更なる製造時間の短縮が可能であるという利点がある。   Furthermore, in the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, it is possible to perform exposure by laminating a plurality of transparent substrates and photosensitive material layers. In this case, since a plurality of microlens substrates can be manufactured by one exposure, there is an advantage that the manufacturing time can be further reduced.

具体的に説明すると、まず、図8(a)に示すように、第1の透明基板61の一方の面に第1の紫外線硬化樹脂63を塗布する。また、第2の透明基板62の一方の面に第3の紫外線硬化樹脂65を塗布する。そして、これら第1の透明基板61と第2の透明基板62とを、紫外線硬化樹脂層が形成されていない面同士を対向させて並べ、第2の紫外線硬化樹脂64によって接合させる。これによって、第1の紫外線硬化樹脂63、第1の透明基板61、第2の紫外線硬化樹脂64、第2の透明基板62、第3の紫外線硬化樹脂65の順に積層されたものが形成されることになる。この紫外線硬化樹脂と透明基板とが積層されたものの、第1の紫外線硬化樹脂63の上方に、一定の距離をとって遮光マスク66を配置する。遮光マスク66には開口部67が設けられている。   More specifically, first, as shown in FIG. 8A, a first ultraviolet curable resin 63 is applied to one surface of the first transparent substrate 61. Further, a third ultraviolet curable resin 65 is applied to one surface of the second transparent substrate 62. Then, the first transparent substrate 61 and the second transparent substrate 62 are arranged so that the surfaces on which the ultraviolet curable resin layer is not formed are opposed to each other, and are joined by the second ultraviolet curable resin 64. As a result, the first ultraviolet curable resin 63, the first transparent substrate 61, the second ultraviolet curable resin 64, the second transparent substrate 62, and the third ultraviolet curable resin 65 are sequentially stacked. It will be. Although the ultraviolet curable resin and the transparent substrate are laminated, a light shielding mask 66 is disposed above the first ultraviolet curable resin 63 at a certain distance. The light shielding mask 66 is provided with an opening 67.

次に、図8(b)に示すように、光源69から紫外線68を、開口部67を通して紫外線硬化樹脂と透明基板とが積層されたものに照射する。その結果、図8(c)に示すように、第1の透明基板61と第2の透明基板62、および第1の紫外線硬化樹脂63と第2の紫外線硬化樹脂64と第3の紫外線硬化樹脂65を略同時に露光することができる。そして、露光されていない紫外線硬化樹脂を現像により取り除くことにより、第1の透明基板61の両面に第1のマイクロレンズ70および第2のマイクロレンズ71が形成されたマイクロレンズ基板60aと、第2の透明基板62の両面に第3のマイクロレンズ72および第4のマイクロレンズ73が形成されたマイクロレンズ基板60bとを製造することができる。   Next, as shown in FIG. 8B, ultraviolet light 68 from a light source 69 is irradiated through an opening 67 to a laminate of an ultraviolet curable resin and a transparent substrate. As a result, as shown in FIG. 8C, the first transparent substrate 61, the second transparent substrate 62, the first ultraviolet curable resin 63, the second ultraviolet curable resin 64, and the third ultraviolet curable resin. 65 can be exposed substantially simultaneously. Then, by removing the ultraviolet curable resin that has not been exposed by development, the microlens substrate 60a in which the first microlens 70 and the second microlens 71 are formed on both surfaces of the first transparent substrate 61, and the second The microlens substrate 60b in which the third microlens 72 and the fourth microlens 73 are formed on both surfaces of the transparent substrate 62 can be manufactured.

また、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法においては、図9のように第1の透明基板71と第2の透明基板72とをスペーサー80を介して固定した状態として露光を行うことの可能である。この場合、第1の透明基板71に第1のマイクロレンズと第2のマイクロレンズを、第2の透明基板に第3のマイクロレンズと第4のマイクロレンズが形成された、2層以上のマイクロレンズ層を備えた多層マイクロレンズ基板を製造することができる。なお、この場合においても、マイクロレンズの光軸がずれないため、マイクロレンズ同士の位置あわせを容易に行うことが可能である。   Further, in the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, it is possible to perform exposure in a state where the first transparent substrate 71 and the second transparent substrate 72 are fixed via a spacer 80 as shown in FIG. is there. In this case, the first microlens and the second microlens are formed on the first transparent substrate 71, and the third microlens and the fourth microlens are formed on the second transparent substrate. A multilayer microlens substrate having a lens layer can be manufactured. Even in this case, since the optical axes of the microlenses are not shifted, it is possible to easily align the microlenses.

また、本実施の形態では、感光材料として紫外線硬化樹脂を用いているが、これに限定されるものではなく、これ以外に可視光線で硬化する可視光硬化樹脂を用いることもできる。可視光硬化性樹脂を使用した場合においては、紫外線の透過率が比較的低い材料、例えばポリカーボネードやアクリルなどの樹脂材料を用いた基板を透明基板として使用することができる。   In this embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the photosensitive material. However, the present invention is not limited to this, and a visible light curable resin that cures with visible light can also be used. In the case where a visible light curable resin is used, a substrate using a material having a relatively low ultraviolet transmittance, for example, a resin material such as polycarbonate or acrylic, can be used as the transparent substrate.

これらの樹脂基板は、石英に比べて安価であるため、マイクロレンズ基板の製造コストをさらに低減することが可能となる。また、感光材料としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のアクリル系モノマーや、エポキシ系モノマーに光開始剤を混合した混合組成物などが挙げられるが、これに限定されるものではなく、従来公知の感光材料を用いることができる。   Since these resin substrates are cheaper than quartz, the manufacturing cost of the microlens substrate can be further reduced. In addition, examples of the photosensitive material include acrylic monomers such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and polyether acrylate, and mixed compositions in which a photoinitiator is mixed with an epoxy monomer, but are not limited thereto. A conventionally known photosensitive material can be used instead.

(2)マイクロレンズ基板の利用
次に、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法にて製造されたマイクロレンズ基板を搭載した光学部品の一例として、投影型液晶プロジェクタの液晶表示素子にマイクロレンズ基板を搭載した例を示す。
(2) Utilization of Microlens Substrate Next, as an example of an optical component on which the microlens substrate manufactured by the method of manufacturing a microlens substrate according to the present invention is mounted, the microlens substrate is used in a liquid crystal display element of a projection type liquid crystal projector. An example of mounting is shown.

図10は投影型液晶プロジェクタの概略構成を示す図である。また、図11は本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法にて製造されたマイクロレンズ基板を液晶表示素子に搭載した図である。   FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a projection type liquid crystal projector. FIG. 11 is a diagram in which a microlens substrate manufactured by the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention is mounted on a liquid crystal display element.

まず、投影型液晶プロジェクタ500の概略構成について図10を参照して説明する。図10に示すように、投影型液晶プロジェクタ500は、液晶表示素子を一枚用いる単板方式であり、白色光源91、球面ミラー92、コリメーターレンズ93、ダイクロイックミラー94、液晶表示素子99、フィールドレンズ95、投影レンズ96を備えており、画像をスクリーン97に投影させるように構成されている。なお、図11に示すように、液晶表示素子99は、マイクロレンズ基板104と液晶パネル103とで構成されている。   First, a schematic configuration of the projection type liquid crystal projector 500 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10, the projection type liquid crystal projector 500 is a single plate type using one liquid crystal display element, and includes a white light source 91, a spherical mirror 92, a collimator lens 93, a dichroic mirror 94, a liquid crystal display element 99, a field display. A lens 95 and a projection lens 96 are provided, and an image is projected onto a screen 97. As shown in FIG. 11, the liquid crystal display element 99 includes a microlens substrate 104 and a liquid crystal panel 103.

白色光源91より照射された光は、球面ミラー92とコリメーターレンズ93とを介して平行光束となりダイクロイックミラー94に照射される。ダイクロイックミラー94は異なる角度で配置された3種のミラー94R・94G・94Bから構成されている。そして、ミラー94R・94G・94Bは、それぞれ赤・緑・青の色に対応する各波長の光を選択的に反射させるとともに、他の波長の光は透過する特性を有しており、光軸上に、赤・緑・青の順、すなわち、ミラー94R・94G・94Bの順に配置されている。   The light emitted from the white light source 91 becomes a parallel light beam through the spherical mirror 92 and the collimator lens 93 and is irradiated onto the dichroic mirror 94. The dichroic mirror 94 includes three types of mirrors 94R, 94G, and 94B arranged at different angles. The mirrors 94R, 94G, and 94B selectively reflect light of each wavelength corresponding to red, green, and blue, respectively, and have characteristics of transmitting light of other wavelengths. The mirrors 94R, 94G, and 94B are arranged in this order in the order of red, green, and blue.

上記のように構成された投影型液晶プロジェクタ500において、上記ダイクロイックミラー94R・94G・94Bにより分割された各光束98は液晶表示素子99にそれぞれ異なった角度で入射する。そして、液晶表示素子99を通過した各光束98は、フィールドレンズ95にて光軸を変換され、投影レンズ96を介してスクリーン97に投影される。   In the projection-type liquid crystal projector 500 configured as described above, the light beams 98 divided by the dichroic mirrors 94R, 94G, and 94B are incident on the liquid crystal display element 99 at different angles. The light beams 98 that have passed through the liquid crystal display element 99 are converted in optical axis by the field lens 95 and projected onto the screen 97 via the projection lens 96.

続いて、液晶表示素子99に搭載されるマイクロレンズ基板の作用について図11を参照して説明する。図11に示すように、液晶表示素子99は、マイクロレンズ基板104と液晶パネル103とから構成されている。マイクロレンズ基板104は、透明基板100の両面に3つの第1のマイクロレンズ101・101・101と3つの第2のマイクロレンズ102102・102とが形成されたマイクロレンズ基板であり、液晶パネル103と貼り合されて液晶表示素子99を形成している。   Next, the operation of the microlens substrate mounted on the liquid crystal display element 99 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 11, the liquid crystal display element 99 includes a microlens substrate 104 and a liquid crystal panel 103. The microlens substrate 104 is a microlens substrate in which three first microlenses 101, 101, 101 and three second microlenses 102102, 102 are formed on both surfaces of the transparent substrate 100. The liquid crystal display element 99 is formed by bonding.

ダイクロイックミラー94で分割されたR,G,Bの各光束98は液晶表示素子99にそれぞれ異なった角度で入射し、第1のマイクロレンズ101によって集束される。集束されたR,G,Bの各光束98は、第2のマイクロレンズ102によって、その主光軸を平行となるように屈折された後に液晶パネル103を通過する。   The R, G, and B light beams 98 divided by the dichroic mirror 94 are incident on the liquid crystal display element 99 at different angles and are focused by the first microlens 101. The converged R, G, and B light beams 98 are refracted by the second microlens 102 so that their main optical axes are parallel, and then pass through the liquid crystal panel 103.

このように、2層構造のマイクロレンズ基板104を搭載することで、液晶表示素子99から出射される光束98の広がりを抑えることができ、投影レンズ96でのケラレによる光量ロスが少なくなる。また、本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法で製造されたマイクロレンズ基板は、第1のマイクロレンズ101と第2のマイクロレンズ102とがアライメントされて形成されており、光軸のずれもないため、液晶パネル103でのケラレを抑えることができ、さらなる光利用効率の向上を実現することができる。   As described above, by mounting the microlens substrate 104 having the two-layer structure, the spread of the light flux 98 emitted from the liquid crystal display element 99 can be suppressed, and the light loss due to vignetting in the projection lens 96 is reduced. In addition, the microlens substrate manufactured by the method of manufacturing a microlens substrate according to the present invention is formed by aligning the first microlens 101 and the second microlens 102, and there is no deviation of the optical axis. Therefore, vignetting in the liquid crystal panel 103 can be suppressed, and further improvement in light utilization efficiency can be realized.

なお、このような本発明に係るマイクロレンズ基板の製造方法で製造されたマイクロレンズ基板を備えた光学部品(例えば、上記液晶表示素子99)を有する光学装置(例えば、液晶プロジェクタなど)も本発明に含まれる。   An optical device (for example, a liquid crystal projector) having an optical component (for example, the liquid crystal display element 99) including the microlens substrate manufactured by the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention is also provided. include.

また、本発明には、透明基板の両側に感光材料層を形成する工程と、前記透明基板から離間させて遮光マスクを配置する工程と、前記遮光マスクを通して露光光を一回照射して前記透明基板の両側に形成した感光材料層を露光する工程と、前記感光材料層を現像する工程を有し、前記透明基板の両側にマイクロレンズを形成したマイクロレンズ基板の製造方法も含まれる。   The present invention also includes a step of forming a photosensitive material layer on both sides of a transparent substrate, a step of disposing a light shielding mask away from the transparent substrate, and exposing the transparent light by irradiating exposure light once through the light shielding mask. A method of manufacturing a microlens substrate having a step of exposing a photosensitive material layer formed on both sides of the substrate and a step of developing the photosensitive material layer, wherein microlenses are formed on both sides of the transparent substrate is also included.

この場合、前記露光光は、平行光であることが好ましい。また、透明基板の両側に感光材料層を形成する工程と、前記透明基板から離間させて遮光マスクを配置する工程と、前記遮光マスクを通して露光光を一回照射して前記透明基板の両側に形成した感光材料層を露光する工程と、前記感光材料層を現像する工程と、を有して製造されたマイクロレンズ基板を備える光学部品や光学装置も本発明に含まれる。   In this case, the exposure light is preferably parallel light. A step of forming a photosensitive material layer on both sides of the transparent substrate; a step of disposing a light shielding mask away from the transparent substrate; and forming both sides of the transparent substrate by irradiating exposure light once through the light shielding mask. An optical component and an optical device including a microlens substrate manufactured by exposing the photosensitive material layer thus obtained and developing the photosensitive material layer are also included in the present invention.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

以上のように、質の高いマイクロレンズ基板を容易かつ安価に形成することができるため、光学機器等の製造業およびその関連産業に利用することができる。   As described above, since a high-quality microlens substrate can be easily and inexpensively formed, it can be used in manufacturing industries such as optical equipment and related industries.

本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法の原理を模式的に説明する図である。It is a figure which illustrates typically the principle of the manufacturing method of the micro lens substrate concerning this embodiment. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法における光硬化性樹脂の硬化形状を示す図である。It is a figure which shows the hardening shape of the photocurable resin in the manufacturing method of the microlens board | substrate which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法を模式的に説明する図である。It is a figure which illustrates typically the manufacturing method of the micro lens substrate concerning this embodiment. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法におけるマイクロレンズの高さと紫外線照射量の相関を示す図である。It is a figure which shows the correlation of the height of a microlens and the amount of ultraviolet irradiation in the manufacturing method of the microlens board | substrate which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法において、異なる厚みの透明基板を用いる場合のマイクロレンズ基板の製造方法を説明する模式図である。In the manufacturing method of the microlens substrate which concerns on this Embodiment, it is a schematic diagram explaining the manufacturing method of a microlens substrate in case the transparent substrate of different thickness is used. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法において、複数の開口部を有する遮光マスクを用いたマイクロレンズ基板の製造方法を説明する模式図である。In the manufacturing method of the micro lens substrate concerning this embodiment, it is a mimetic diagram explaining the manufacturing method of the micro lens substrate using the shading mask which has a plurality of openings. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法において、大きさの異なる複数の開口部を有する遮光マスクを用いたマイクロレンズ基板の製造方法を説明する模式図である。In the manufacturing method of the microlens substrate which concerns on this Embodiment, it is a schematic diagram explaining the manufacturing method of the microlens substrate using the light shielding mask which has several opening part from which a magnitude | size differs. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法において、複数のマイクロレンズ基板を同時に製造する製造方法を説明する模式図である。In the manufacturing method of the micro lens substrate concerning this embodiment, it is a mimetic diagram explaining the manufacturing method which manufactures a plurality of micro lens substrates simultaneously. 本実施の形態に係るマイクロレンズの製造方法において、2層以上の多層マイクロレンズ基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the multilayer microlens board | substrate of two or more layers in the manufacturing method of the microlens which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る投影型液晶プロジェクタの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the projection type liquid crystal projector which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を搭載した液晶表示素子を説明する図である。It is a figure explaining the liquid crystal display element which mounts the microlens substrate manufactured using the manufacturing method of the microlens substrate which concerns on this Embodiment. 従来のマイクロレンズ基板の第1の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the 1st manufacturing method of the conventional microlens board | substrate. 従来のマイクロレンズ基板の第2の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the 2nd manufacturing method of the conventional microlens board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1,11 透明基板
2,12 第1の紫外線硬化樹脂(第1の感光材料層)
3,13 第2の紫外線硬化樹脂(第2の感光材料層)
4,14 遮光マスク(遮光手段)
5,15 開口部
6,16 紫外線(露光光)
7,17 光源
18,101 第1のマイクロレンズ
19 第2のマイクロレンズ
99 液晶表示素子(光学部品)
104 マイクロレンズ基板
101 第1のマイクロレンズ
102 第2のマイクロレンズ
103 液晶パネル
500 投影型液晶プロジェクタ(光学装置)
1,11 Transparent substrate 2,12 First UV curable resin (first photosensitive material layer)
3,13 Second ultraviolet curable resin (second photosensitive material layer)
4,14 Shading mask (shading means)
5,15 Opening 6,16 Ultraviolet light (exposure light)
7, 17 Light source 18, 101 First microlens 19 Second microlens 99 Liquid crystal display element (optical component)
104 Microlens substrate 101 First microlens 102 Second microlens 103 Liquid crystal panel 500 Projection type liquid crystal projector (optical device)

Claims (9)

透明基板の両面のそれぞれに、少なくとも1つ以上のマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板の製造方法であって、
透明基板の一方の面に第1の感光材料層を形成する工程と、
上記透明基板の他方の面に第2の感光材料層を形成する工程と、
上記透明基板と光源との間に、光を透過させるための開口部を備える遮光手段を配置する工程と、
上記遮光手段の開口部を通して、上記透明基板の両面に形成された第1の感光材料層および第2の感光材料層の両方に対していずれか一方向から露光光を照射し、第1の感光材料層および第2の感光材料層を略同時に露光する工程と、
上記第1の感光材料層および第2の感光材料層を現像する工程と、を有する方法によりマイクロレンズを形成することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
A method of manufacturing a microlens substrate comprising at least one microlens on each of both surfaces of a transparent substrate,
Forming a first photosensitive material layer on one surface of the transparent substrate;
Forming a second photosensitive material layer on the other surface of the transparent substrate;
A step of disposing light shielding means having an opening for transmitting light between the transparent substrate and the light source;
Through the opening of the light shielding means, both the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer formed on both surfaces of the transparent substrate are irradiated with exposure light from one direction, and the first photosensitive material layer is exposed. Exposing the material layer and the second photosensitive material layer substantially simultaneously,
And a step of developing the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer to form a microlens.
上記遮光手段を、第1の感光材料層および第2の感光材料層が形成された透明基板と所定の距離を離間して配置することを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   2. The microlens substrate according to claim 1, wherein the light shielding means is disposed at a predetermined distance from the transparent substrate on which the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer are formed. Method. 上記遮光手段を、上記透明基板と略平行に配置することを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method for manufacturing a microlens substrate according to claim 1, wherein the light shielding unit is disposed substantially parallel to the transparent substrate. 上記露光光は、平行光であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 1, wherein the exposure light is parallel light. 上記遮光手段は、複数の開口部を備えることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 1, wherein the light shielding unit includes a plurality of openings. 上記遮光手段に設けられる複数の開口部の大きさが異なることを特徴とする請求項5に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   6. The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 5, wherein the plurality of openings provided in the light shielding unit have different sizes. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法によって製造されることを特徴とするマイクロレンズ基板。   A microlens substrate manufactured by the method for manufacturing a microlens substrate according to claim 1. 請求項7に記載のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする光学部品。   An optical component comprising the microlens substrate according to claim 7. 請求項8に記載の光学部品を備えることを特徴とする光学装置。   An optical device comprising the optical component according to claim 8.
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