JP4356811B2 - Semiconductor device with thermal shutdown circuit - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、温度を検出し、所定の温度領域以上で装置機能を停止させるサーマルシャットダウン回路を備えた半導体装置に関するものである。
このような半導体装置は例えば電源IC(集積回路)などに使用される。
【0002】
【従来の技術】
一般的に、高動作電圧及び大動作電流の半導体装置においては、動作中に半導体装置そのものが高温になることによる半導体装置自体の破壊が懸念されるので、装置保護のためのサーマルシャットダウン回路が搭載されていることが多い。
【0003】
サーマルシャットダウン回路は半導体装置自体の動作時の発熱により、ある設定温度(例えば130℃)以上になった場合に半導体装置の各回路の動作を中止させ、出力端子に温度異常が発生したことを知らせる信号を出力するものである。
このようなサーマルシャットダウン回路の従来技術のひとつとして、PN接合の順方向電流の温度特性を利用したものがある(例えば、特許文献1及び特許文献2参照。)。
【0004】
図5に温度検出素子の一例としてのNPNバイポーラトランジスタの断面図を示す。
P型半導体基板(P−sub)33の表面側にNウェル領域(N−well)35が形成されている。Nウェル領域35内にNPNバイポーラトランジスタのベース(Base)37を構成するP型領域(P−)が形成されている。P型領ベース37内にNPNバイポーラトランジスタのエミッタ(Emitter)39を構成するN型領域(N+)が形成されている。Nウェル領域35内には、素子分離用のLOCOS(local oxidation of silicon)酸化膜41によってベース37とは電気的に分離された、NPNバイポーラトランジスタのコレクタ(Collector)43を構成するN型領域(N+)が形成されている。
【0005】
NPNバイポーラトランジスタのベース37とコレクタ43を電気的に接続し、エミッタ7に数μA(マイクロアンペア)、例えば1μAの定電流を流した時、ベース−エミッタ間電圧VBEは約0.7〜0.9V(ボルト)になる。
ベース−エミッタ間電圧VBEは温度に対して直線的に変化し、その変化率は約−2mV(ミリボルト)/℃で一定である。この温度特性を利用し、ベース−エミッタ間電圧VBEと所定の基準電圧をコンパレータ回路で比較し、所定の基準電圧以下になったときに回路全体を停止させる信号を出すことにより、所定の温度以上で回路機能を停止させるサーマルシャットダウン機能を実現することができる。
【0006】
【特許文献1】
特開平9−246876号公報
【特許文献2】
特開平10−201080号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
例えば電池駆動などの携帯機器の部品として使用される電源ICにおいては、電池の寿命や充電回数の低減の観点から、スタンバイ時の消費電流が大きな問題になっている。
しかし、上記で説明したようなサーマルシャットダウン回路においては、ICがスタンバイ状態であっても数μAの電流を流し続けながら温度を監視する構成になっているので、スタンバイ時の消費電流増大の一因となっている。
【0008】
そこで本発明は、サーマルシャットダウン回路を備えた半導体装置において、少なくとも動作保証温度領域での消費電流の低減を図ることを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体装置は、温度を検出し、所定の温度領域以上で装置機能を停止させるサーマルシャットダウン回路を備えたものであって、上記サーマルシャットダウン回路に電源を供給するための配線にスイッチ用MOSトランジスタを備えているものである。
【0010】
半導体装置の動作保証温度領域ではスイッチ用MOSトランジスタをオフ状態にしてサーマルシャットダウン回路への電源の供給を遮断しておき、装置機能を停止させたい高温度領域ではスイッチ用MOSトランジスタをオン状態にしてサーマルシャットダウン回路を動作させることにより、動作保証温度領域での消費電流を低減することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明の半導体装置において、上記スイッチ用MOSトランジスタのしきい値電圧は、半導体装置の動作保証温度領域ではチャネル電流を流さず、かつ、装置機能を停止させたい高温度領域では上記サーマルシャットダウン回路を動作させることができるリーク電流を発生させる値に設定されていることが好ましい。
これにより、サーマルシャットダウン回路の動作をオン状態又はオフ状態に自動で切り替えることができる。
【0012】
上記スイッチ用MOSトランジスタは、ゲート電位を接地電位にしたNチャネルMOSトランジスタ(以下NchMOSトランジスタと称す)、又はゲート電位を電源電位に固定したPチャネルMOSトランジスタ(以下PchMOSトランジスタと称す)により構成されている例を挙げることができる。
【0013】
本発明が適用される半導体装置の一例として、上記サーマルシャットダウン回路の他、入力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と上記分割抵抗からの分割電圧、及び上記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較するための比較回路を備えた電圧検出回路、もしくは、入力電圧の出力を制御する出力ドライバ、出力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と上記分割抵抗からの分割電圧、及び上記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較し、比較結果に応じて上記出力ドライバの動作を制御するための比較回路を備えた定電圧発生回路、又はその両方をさらに備えている電源ICを挙げることができる。
本発明によれば、動作保証温度領域でのサーマルシャットダウン回路の動作を停止させることができるので、本発明を適用した電源ICについて動作保証温度領域での消費電流を低減することができる。
【0014】
【実施例】
図1は本発明を電源ICに適用した一実施例を示すブロック図である。
サーマルシャットダウン回路1、定電圧発生回路3、電圧検出回路5及び論理回路7が設けられている。各回路1,3,5,7は、直流電源(Vcc)9につながる電源配線11と、GND(接地電位)13につながるGND配線15が接続されている。サーマルシャットダウン回路1と電源配線11の間にスイッチ用NchMOSトランジスタ17が設けられている。スイッチ用NchMOSトランジスタ17のゲート電極はGND配線15に接続されている。
【0015】
図2は定電圧発生回路3の一例を示す回路図である。
定電圧発生回路3は、電源配線11を介して直流電源9に接続される入力端子19、基準電圧源としての基準電圧発生回路(Vref)21、演算増幅器23、出力ドライバを構成するPchMOSトランジスタ25、分割抵抗R1,R2及び出力端子(Vout)27を備えている。
【0016】
定電圧発生回路17の演算増幅器23は、出力端子がPchMOSトランジスタ25のゲート電極に接続され、反転入力端子に基準電圧発生回路21から基準電圧Vrefが印加され、非反転入力端子に出力電圧Voutを分割抵抗R1とR2で分割した電圧が印加され、分割抵抗R1,R2からの分割電圧が基準電圧Vrefに等しくなるように制御される。
【0017】
図3は電圧検出回路5の一例を示す回路図である。
電圧検出回路5において、23は演算増幅器で、その反転入力端子に基準電圧発生回路21が接続され、基準電圧Vrefが印加される。入力端子29から入力される測定すべき端子の電圧、ここでは電源配線11を介して接続された直流電源9の電圧が分割抵抗R1とR2によって分割されて演算増幅器23の非反転入力端子に入力される。演算増幅器23の出力は出力端子(Vout)31を介して外部に出力される。
【0018】
電圧検出回路5では、測定すべき端子の電圧が高く、分割抵抗R1とR2により分割された電圧が基準電圧Vrefよりも高いときは演算増幅器23の出力がHレベルを維持し、直流電源9の電圧が降下してきて分割抵抗R1とR2により分割された電圧が基準電圧Vref以下になってくると演算増幅器23の出力がLレベルになる。
【0019】
図1に戻って説明を続ける。
スイッチ用NchMOSトランジスタ17のしきい値電圧は、通常の半導体製造工程によるトランジスタチャネル部の不純物濃度の調整により、例えば25℃で0.50Vに作り込まれている。
サーマルシャットダウン回路1は例えば1μA以上の電流で動作するように設計されている。
【0020】
スイッチ用NchMOSトランジスタ17のしきい値電圧を0.50Vに設定した場合、ゲート電圧をGND、ドレイン電圧を電源電圧にしたときのオフリーク電流は、通常の半導体装置の動作保証温度範囲(例えば−45〜85℃)においては100pA(ピコアンペア)以下である。例えば、ゲート長=3μm、トランジスタ幅=1000μm、温度=85℃、ゲート電圧Vg=GND、ドレイン電圧Vd=5Vのとき、オフリーク電流は50pA程度である。
【0021】
通常の半導体装置の動作保証温度範囲では、電源配線11とサーマルシャットダウン回路1の間に接続したスイッチ用NchMOSトランジスタ17はオフ状態であり、サーマルシャットダウン回路1は例えば1μA以上の電流で動作するように設計されているので、スイッチ用NchMOSトランジスタ17から50pA程度のリーク電流が供給されても動作しない。
【0022】
したがって、通常の半導体装置の動作保証温度範囲では、サーマルシャットダウン回路1には全く電流が流れないため、回路全体のスタンバイ電流に全く寄与せず、従来のサーマルシャットダウン回路搭載の半導体装置よりも低いスタンバイ電流を実現できる。言い換えれば、スタンバイ電流を増加することなく、サーマルシャットダウン回路を搭載することができる。
【0023】
また、スイッチ用NchMOSトランジスタ17のしきい値電圧は温度上昇に伴って約−2mV/℃の係数で低下していく。さらに、ドレインを構成する不純物領域には電源電圧が印加され、基板との間に逆方向接合リークが生じる。この接合リークも温度上昇に伴って増大していく。半導体装置が自己発熱などによって高温になり、装置自体の破壊の懸念のある高温度領域に近づいた場合、スイッチ用NchMOSトランジスタ17のリーク電流は、しきい値電圧の低下と逆方向接合リークの増大に伴って増えていき、例えば130℃でリーク電流は数μA程度まで達する。
【0024】
スイッチ用NchMOSトランジスタ17のリーク電流が1μA以上になると、サーマルシャットダウン回路1が動作し始め、サーマルシャットダウン回路1は温度検出素子、例えば図5に示したNPNトランジスタのベース−エミッタ間電圧VBEを監視する。そして、所定の温度、例えば150℃に対応するベース−エミッタ間電圧VBEを検出した時に、定電圧発生回路3、電圧検出回路5及び論理回路7の回路機能を停止させ、温度異常の信号を出力する。
【0025】
このように、スイッチ用NchMOSトランジスタ17により、半導体装置の動作保証温度範囲では電源供給を停止してサーマルシャットダウン回路1の動作を停止させ、所定の高温度領域では電源を供給してサーマルシャットダウン回路1を動作させることにより、自己発熱による温度上昇に起因して半導体装置が破壊されるのを防止しつつ、動作保証温度範囲内での消費電流量を低減することができる。
【0026】
また、スイッチ用NchMOSトランジスタ17の25℃でのしきい値電圧を変えることにより、サーマルシャットダウン回路の動作開始温度を任意の値に設定することができる。
【0027】
図4にNchMOSトランジスタについて、25℃のしきい値電圧をの設定を変化させ、それぞれ90℃でのリーク電流が100nAになるようにトランジスタ幅を設定した時の、110℃、130℃、150℃のリーク電流の変動を示した実測データを示す。NchMOSトランジスタとしてチャネル長が7μm、チャネル幅が600μmのものを用い、ゲート電圧を0V、ドレイン電圧を50Vの条件で測定を行った。
【0028】
図4から分かるように、25℃でのしきい値電圧の設定が高くなるにつれて、高温度領域でのリーク電流が大きくなっていく。図4のデータに基づけば、サーマルシャットダウン回路が例えば1μAで動作するように設計されている場合、スイッチ用NchMOSトランジスタ17の25℃でのしきい値電圧を0.7V程度に設定することでサーマルシャットダウン回路を130℃近辺から動作させることができる。
【0029】
また、25℃でのしきい値電圧の設定を0.5V程度に変更することで、サーマルシャットダウン回路は130℃近辺では動作せず、150℃近辺から動作させることが可能である。
また、スイッチ用NchMOSトランジスタ17の25℃でのしきい値電圧を一定にしておいて、サーマルシャットダウン回路が動作し始める電流値の設計を変えることで、動作開始温度を自由に変更することも可能である。
【0030】
上記の実施例では、電源−サーマルシャットダウン回路間に接続するスイッチ用MOSトランジスタにとしてNchMOSトランジスタを用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、スイッチ用MOSトランジスタとしてPchMOSトランジスタを用いることもできる。その場合、ゲート電極は電源電圧電位に固定される。
【0031】
以上、本発明の実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
【0032】
【発明の効果】
請求項1に記載された半導体装置では、サーマルシャットダウン回路を備えた半導体装置において、サーマルシャットダウン回路に電源を供給するための配線にスイッチ用MOSトランジスタを備えているようにしたので、半導体装置の動作保証温度領域ではスイッチ用MOSトランジスタをオフ状態にしてサーマルシャットダウン回路への電源の供給を遮断しておき、装置機能を停止させたい高温度領域ではスイッチ用MOSトランジスタをオン状態にしてサーマルシャットダウン回路を動作させることにより、動作保証温度領域での消費電流を低減することができる。
【0033】
さらに、請求項1に記載された半導体装置では、スイッチ用MOSトランジスタのしきい値電圧は、半導体装置の動作保証温度領域ではチャネル電流を流さず、かつ、装置機能を停止させたい高温度領域ではサーマルシャットダウン回路を動作させることができるリーク電流を発生させる値に設定されているようにしたので、サーマルシャットダウン回路の動作をオン状態又はオフ状態に自動で切り替えることができる。
【0034】
請求項2に記載された半導体装置では、サーマルシャットダウン回路の他、電圧検出回路もしくは定電圧発生回路又はその両方をさらに備えている電源ICに本発明の半導体装置を適用するようにしたので、動作保証温度領域でのサーマルシャットダウン回路の動作を停止させることができ、上記電源ICについて動作保証温度領域での消費電流を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電源ICに適用した一実施例を示すブロック図である。
【図2】同実施例の一部分を構成する定電圧発生回路の一例を示す回路図である。
【図3】同実施例の一部分を構成する電圧検出回路の一例を示す回路図である。
【図4】NchMOSトランジスタについての、25℃でのしきい値電圧と高温領域でのオフリーク電流(Ioff)の関係を示すデータであり、横軸はしきい値電圧(V)、縦軸はオフリーク電流(A)を示す。
【図5】サーマルシャットダウン回路の温度検出素子の一例としてのNPNバイポーラトランジスタを示す断面図である。
【符号の説明】
1 サーマルシャットダウン回路
3 定電圧発生回路
5 電圧検出回路
7 論理回路
9 直流電源
11 電源配線
13 GND(接地電位)
15 GND配線
17 スイッチ用NchMOSトランジスタ
19 入力端子
21 基準電圧発生回路
23 演算増幅器
25 出力ドライバ用のPchMOSトランジスタ
27 出力端子
29 入力端子
31 出力端子
R1,R2 分割抵抗[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device including a thermal shutdown circuit that detects a temperature and stops a device function at a predetermined temperature range or higher.
Such a semiconductor device is used for a power supply IC (integrated circuit), for example.
[0002]
[Prior art]
Generally, a semiconductor device with a high operating voltage and a large operating current is equipped with a thermal shutdown circuit for protecting the device because the semiconductor device itself may be destroyed due to a high temperature during operation. It is often done.
[0003]
The thermal shutdown circuit stops the operation of each circuit of the semiconductor device when the temperature exceeds a certain set temperature (for example, 130 ° C.) due to heat generated during the operation of the semiconductor device itself, and notifies the output terminal that a temperature abnormality has occurred. A signal is output.
One prior art of such a thermal shutdown circuit uses the temperature characteristics of the forward current of a PN junction (see, for example,
[0004]
FIG. 5 shows a cross-sectional view of an NPN bipolar transistor as an example of a temperature detection element.
An N well region (N-well) 35 is formed on the surface side of the P-type semiconductor substrate (P-sub) 33. In the N
[0005]
When the
The base-emitter voltage V BE varies linearly with temperature, and the rate of change is constant at about -2 mV (millivolt) / ° C. Using this temperature characteristic, the base-emitter voltage V BE and a predetermined reference voltage are compared by a comparator circuit, and when the voltage drops below the predetermined reference voltage, a signal for stopping the entire circuit is issued, thereby giving a predetermined temperature. Thus, a thermal shutdown function for stopping the circuit function can be realized.
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-9-246876 [Patent Document 2]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-201080
[Problems to be solved by the invention]
For example, in a power supply IC used as a part of a portable device such as a battery drive, current consumption during standby is a big problem from the viewpoint of reducing the battery life and the number of times of charging.
However, since the thermal shutdown circuit as described above is configured to monitor the temperature while continuously supplying a current of several μA even when the IC is in a standby state, it contributes to an increase in current consumption during standby. It has become.
[0008]
Therefore, an object of the present invention is to reduce current consumption in a semiconductor device having a thermal shutdown circuit at least in an operation guarantee temperature region.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The semiconductor device of the present invention is provided with a thermal shutdown circuit that detects the temperature and stops the device function at a predetermined temperature range or higher, and has a switch MOS in the wiring for supplying power to the thermal shutdown circuit. A transistor is provided.
[0010]
In the temperature guaranteed temperature range of the semiconductor device, the switch MOS transistor is turned off to cut off the power supply to the thermal shutdown circuit. In the high temperature range where the device function is desired to be stopped, the switch MOS transistor is turned on. By operating the thermal shutdown circuit, the current consumption in the guaranteed operating temperature range can be reduced.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the semiconductor device of the present invention, the threshold voltage of the switch MOS transistor is such that no channel current flows in the operation guaranteed temperature region of the semiconductor device, and the thermal shutdown circuit is set in the high temperature region where the device function is desired to be stopped. It is preferably set to a value that generates a leak current that can be operated.
Thereby, the operation of the thermal shutdown circuit can be automatically switched to the on state or the off state.
[0012]
The switching MOS transistor is composed of an N channel MOS transistor (hereinafter referred to as an Nch MOS transistor) having a gate potential set to a ground potential, or a P channel MOS transistor (hereinafter referred to as a Pch MOS transistor) having a gate potential fixed to a power supply potential. An example can be given.
[0013]
As an example of a semiconductor device to which the present invention is applied, in addition to the thermal shutdown circuit, a dividing resistor for dividing an input voltage and supplying a divided voltage, a reference voltage generating circuit for supplying a reference voltage, and the dividing resistor A voltage detection circuit having a comparison circuit for comparing the divided voltage from the reference voltage and the reference voltage from the reference voltage generation circuit, or an output driver for controlling the output of the input voltage, and dividing the output voltage to obtain the divided voltage. The divided resistor for supplying, the reference voltage generating circuit for supplying the reference voltage, the divided voltage from the divided resistor, and the reference voltage from the reference voltage generating circuit are compared, and the output driver of the output driver is compared according to the comparison result. A power supply IC further including a constant voltage generation circuit including a comparison circuit for controlling the operation, or both can be given.
According to the present invention, the operation of the thermal shutdown circuit in the operation guarantee temperature region can be stopped, so that the current consumption in the operation guarantee temperature region can be reduced for the power supply IC to which the present invention is applied.
[0014]
【Example】
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to a power supply IC.
A
[0015]
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of the constant
The constant
[0016]
The
[0017]
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of the
In the
[0018]
In the
[0019]
Returning to FIG. 1, the description will be continued.
The threshold voltage of the switching
The
[0020]
When the threshold voltage of the switching
[0021]
In the normal operation guaranteed temperature range of the semiconductor device, the
[0022]
Therefore, since no current flows through the
[0023]
Further, the threshold voltage of the switching
[0024]
When the leakage current of the switching
[0025]
As described above, the
[0026]
Further, by changing the threshold voltage at 25 ° C. of the switching
[0027]
FIG. 4 shows 110 ° C., 130 ° C. and 150 ° C. when the threshold voltage of the NchMOS transistor is changed and the transistor width is set so that the leakage current at 90 ° C. is 100 nA. The actual measurement data which showed the fluctuation | variation of the leakage current of are shown. An NchMOS transistor having a channel length of 7 μm and a channel width of 600 μm was used, and measurement was performed under conditions of a gate voltage of 0 V and a drain voltage of 50 V.
[0028]
As can be seen from FIG. 4, as the threshold voltage setting at 25 ° C. increases, the leakage current in the high temperature region increases. Based on the data of FIG. 4, when the thermal shutdown circuit is designed to operate at 1 μA, for example, the threshold voltage at 25 ° C. of the switching
[0029]
Further, by changing the threshold voltage setting at 25 ° C. to about 0.5 V, the thermal shutdown circuit does not operate near 130 ° C., but can operate from around 150 ° C.
It is also possible to freely change the operation start temperature by changing the design of the current value at which the thermal shutdown circuit starts to operate while keeping the threshold voltage at 25 ° C. of the switching
[0030]
In the above embodiment, an Nch MOS transistor is used as the switch MOS transistor connected between the power supply and the thermal shutdown circuit. However, the present invention is not limited to this, and a Pch MOS transistor is used as the switch MOS transistor. You can also. In that case, the gate electrode is fixed at the power supply voltage potential.
[0031]
As mentioned above, although the Example of this invention was described, this invention is not limited to these, A various change is possible within the range of this invention described in the claim.
[0032]
【The invention's effect】
In the semiconductor device according to
[0033]
Further, in the semiconductor device according to
[0034]
In the semiconductor device according to claim 2 , since the semiconductor device of the present invention is applied to the power supply IC further including the voltage detection circuit and / or the constant voltage generation circuit in addition to the thermal shutdown circuit, The operation of the thermal shutdown circuit in the guaranteed temperature region can be stopped, and current consumption in the guaranteed operation temperature region can be reduced for the power supply IC.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment applied to a power supply IC.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a constant voltage generation circuit that constitutes a part of the embodiment;
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a voltage detection circuit constituting a part of the same embodiment;
FIG. 4 is data showing the relationship between a threshold voltage at 25 ° C. and an off-leakage current (Ioff) in a high temperature region for an Nch MOS transistor, the horizontal axis is the threshold voltage (V), and the vertical axis is the off-leakage. Current (A) is shown.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an NPN bipolar transistor as an example of a temperature detection element of a thermal shutdown circuit.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
15
Claims (2)
前記サーマルシャットダウン回路に電源を供給するための配線にスイッチ用MOSトランジスタを備え、
前記スイッチ用MOSトランジスタのしきい値電圧は、半導体装置の動作保証温度領域ではチャネル電流を流さず、かつ、装置機能を停止させたい高温度領域では前記サーマルシャットダウン回路を動作させることができるリーク電流を発生させる値に設定されており、
前記スイッチ用MOSトランジスタは、ゲート電位を接地電位にしたNチャネルMOSトランジスタ、又はゲート電位を電源電位に固定したPチャネルMOSトランジスタにより構成されていることを特徴とする半導体装置。In a semiconductor device with a thermal shutdown circuit that detects the temperature and stops the device function above a predetermined temperature range,
A wiring for supplying power to the thermal shutdown circuit includes a switching MOS transistor ,
The threshold voltage of the switching MOS transistor is a leakage current that does not cause a channel current to flow in the operation guarantee temperature region of the semiconductor device and can operate the thermal shutdown circuit in a high temperature region where the device function is desired to be stopped. Is set to a value that generates
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the switching MOS transistor comprises an N channel MOS transistor having a gate potential set to a ground potential or a P channel MOS transistor having a gate potential fixed to a power supply potential .
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