JP4359405B2

JP4359405B2 - Photosensitive material processing equipment

Info

Publication number: JP4359405B2
Application number: JP2001155715A
Authority: JP
Inventors: 知義兵藤; 克彦田中
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-05-24
Filing date: 2001-05-24
Publication date: 2009-11-04
Anticipated expiration: 2021-05-24
Also published as: JP2002351036A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、感光材料が浸漬される処理槽内に充填された処理液を浄化して、安定した処理性能を維持できるようにする感光材料の処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、銀塩写真感光材料（カラープリント）等の各種の感光材料に画像を形成する感光材料の処理装置が用いられている。
【０００３】
この感光材料の処理装置には、露光された感光材料（カラープリント）を所定速度で搬送しながら、発色現像槽の現像液に浸漬し、漂白定着槽の漂白定着液に浸漬し、続けて水洗槽の洗浄水に浸漬して洗浄し、発色現像処理、漂白定着処理及び水洗処理を順次施して現像し、カラープリントを得るものがある。
【０００４】
従来の感光材料の処理装置には、図８に例示するような構成の発色現像槽、漂白定着槽、水洗槽等の感光材料を浸漬する処理液を貯留する処理液槽１００を用いたものがある。
【０００５】
この処理液槽１００は、略矩形の貯液用容器として形成された処理液槽本体１０２の所定の処理液を充填して貯留するよう構成する。また、処理液槽本体１０２の内部に貯留した処理液に浸漬する位置に処理ラック１０４を着脱可能に装着する。
【０００６】
この処理ラック１０４は、感光材料を搬送ローラによって処理液槽本体１０２内ま処理液中にＵ字状の搬送パス上を搬送して処理液に浸漬している間に所要の液処理を実行可能に構成する。
【０００７】
また、処理液槽本体１０２には、その縦側壁１０２Ａにおける上部にサブタンク１０６を一体的に設置する。さらに、縦側壁１０２Ａにおける内部に貯留した処理液の液面から所定距離鉛直下方へ下がった位置に、サブタンク１０６の内部へ抜ける排液孔１０８を穿孔し、処理液槽本体１０２内に充填した処理液をサブタンク１０６内へ流出させるようにする。
【０００８】
このサブタンク１０６は、その底部に処理液循環管路１１０の一端部の管口を開口し、この管口の部分にフィルタ１１２を被せるように配置する。
【０００９】
この処理液循環管路１１０は、そのサブタンク１０６の底部に開口する管口側の一端部から、処理液槽本体１０２の底部中央に開口する管口側の他端部に至る一連の管路として構成されている。
【００１０】
この処理液循環管路１１０の中間部には、サブタンク１０６の底部に開口する管口側の一端部から順にヒータ１１４とポンプ１１６とを配置して構成する。
【００１１】
この処理液槽１００は、ポンプ１１６を駆動することにより、処理液槽本体１０２内における上層部の処理液を排液孔１０８からサブタンク１０６内に流入させ、フィルタ１１２を介して処理液循環管路１１０内に吸引することにより、フィルタ１１２でゴミを浄化する。
【００１２】
この処理液循環管路１１０内に吸引された処理液は、ヒータ１１４で所定温度に加熱されてからポンプ１１６で加圧されて処理液槽本体１０２の底部中央の管口から処理液槽本体１０２内の下層部へ吐出され、処理液槽本体１０２内を上昇して上層部へ流れるというように循環する動作を繰り返す。
【００１３】
すなわち、この処理液槽１００における処理液の循環浄化系では、処理液循環管路１１０で、処理液槽本体１０２の下層部へ処理液を吐出し、処理液を処理液槽本体１０２内を下層部から上層部へ上昇させるように流し、上層部の処理液を排液孔１０８からサブタンク１０６内に流入させて、フィルタ１１２を介して処理液循環管路１１０内に吸引することにより、フィルタ１１２でゴミを浄化する。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような処理液槽１００における処理液の循環浄化系では、処理液槽本体１０２の底面に配置された処理液循環管路１１０の断面積の小さな管口から吐出された処理液が断面積の大きい処理液槽本体１０２の内部を下層部から上層部へ上昇するよう流れるときの流速が極めてゆっくりしたものとなる。
【００１５】
このため、処理液槽本体１０２内の処理液に混在しているゴミ等の比較的大きな粒子（ミクロンオーダの粒子）は、処理液槽本体１０２の底に沈降してしまい、処理液槽本体１０２の底面上に浮遊可能な状態で滞留してしまうことになる。
【００１６】
このように処理液槽本体１０２の底面上にゴミ等の比較的大きな粒子（μオーダの粒子）が浮遊可能な状態で滞留しているときに、処理ラック１０４を取り外したり、装着したりする操作を行うと、処理液槽本体１０２の底に溜まっているゴミが処理液中に舞い上がり、感光材料の表面に付着し、これが搬送ローラ等で搬送される際にキズを残す原因となることがある。
【００１７】
また、従来の処理液槽１００における処理液の循環浄化系では、処理液槽本体１０２の底面の一箇所に配置された処理液循環管路１１０の断面積の小さな管口から浄化され加熱温調された処理液を吐出させ、極めてゆっくりした流速で断面積の大きい処理液槽本体１０２の内部を下層部から上層部へ上昇するよう流すことになる。
【００１８】
このとき、処理液槽本体１０２の底面における断面積の小さな一箇所の管口から吐出された浄化され加熱温調された処理液は、大きな処理液槽本体１０２の内部を略決まったコースで下層部から上層部へ上昇するよう流れるといったように、管口から吐出された浄化され加熱温調された処理液の流れ方にムラを生じ易い。
【００１９】
このため、処理液槽本体１０２内の処理液全体では、浄化され加熱温調された処理液が、略決まったコースを流れて処理液槽本体１０２内における一部の処理液と混合することになり、処理液槽本体１０２内の処理液全体で、処理液の温度や成分の分布が不均一になる。
【００２０】
このように、処理液槽本体１０２内で処理液の温度や成分の分布が不均一になった状態で、感光材料をこの不均一な処理液に浸漬して処理を行うと、感光材料に現像ムラ等を生じ、ムラの無い画像を形成することが困難になるという問題がある。
【００２１】
本発明は上記事実を考慮し、処理液槽本体内に貯留した処理液中に浮遊していた比較的大きな粒子（ミクロンオーダの粒子）等のゴミが処理液槽本体内の底に沈降して浮遊可能な状態で滞留するのを防止し、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がることにより感光材料にキズを残すことを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成でき、しかも、浄化され加熱温調された処理液を処理液槽本体内の隅々まで行き渡らせ均一に混合させるよう循環させて、処理液全体の温度や成分の分布を均一にし、ムラの無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能な感光材料の処理装置を新たに提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に記載の感光材料の処理装置は、処理液槽本体内に貯留される処理液を浄化するフィルターと、処理液槽本体の縦側壁に外接して設けられ、処理液槽の深さに対して１／２以上の深さをもつように形成されたサブタンクと、処理液槽本体とサブタンクとの間の縦側壁における上下に渡る範囲に設けた複数の貫通した流通孔と、処理液槽の下層部から処理液を引き出しフィルターを通過させてサブタンクへ送液し、サブタンクから複数の貫通した流通孔を通過させることにより処理液がサブタンクから、平均的に処理液槽へ流入するようにし、処理液槽本体内で処理液が均一に混合するように構成した処理液槽処理液循環経路と、を有することを特徴とする。
【００２３】
上述のように構成することにより、サブタンクと処理液槽本体との間の縦側壁における上部から下部にかけての深さ方向に長く、かつ処理液槽の深さに対して１／２以上の深さをもつ範囲に渡って、サブタンク側から処理液槽本体へ向けて処理液を平均的に送液し、サブタンク内に供給された処理液を処理液槽本体内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合わせ、処理液槽本体内の均一な処理液により、適切な処理を実行できるようにする。
【００２４】
また、処理液槽本体内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすいゴミは、上層部から下層部へと下降するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。そして、処理液槽本体の底部側に下降したゴミは、フィルタを通過する際に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすいゴミを十分に除去できる。
【００２５】
さらに、感光材料に傷を作りやすいゴミは、フィルタに捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とする。
【００２６】
本発明の請求項２に記載の感光材料の処理装置は、処理液槽本体内に貯留される処理液を浄化するフィルターと、処理液槽本体の縦側壁に外接して設けられ、処理液槽の深さに対して１／２以上の深さをもつように形成されたサブタンクと、処理液槽本体とサブタンクとの間の縦側壁における上下に渡る範囲に設けた複数の貫通した流通孔と、処理液槽内の処理ラックの縦側壁に処理液槽の縦側壁に穿孔した流通孔に対向して対応する位置に貫通して設けた流通孔と、処理液槽の下層部から処理液を引き出しフィルターを通過させてサブタンクへ送液し、サブタンクから複数の貫通した流通孔を通過させることにより処理液がサブタンクから、平均的に処理液槽へ流入するようにし、処理液槽本体内で処理液が均一に混合するように構成した処理液槽処理液循環経路と、を有することを特徴とする。
【００２７】
上述のように構成することにより、サブタンクに供給された処理液が、各流通孔を通過してから各流通孔を通過することにより、各搬送ローラ等の間を通り抜けて、各流通孔を設けた縦側壁と反対側の壁側へ流れる。
【００２８】
これにより、処理液槽本体の深さ方向に長い範囲と、処理液槽本体内の水平方向に長い範囲とに渡って処理液を送液して行き渡らせて混合することにより、処理液槽本体内全体の処理液を均一化し、この処理液槽本体内の均一な処理液により、適切な処理を実行できるようにする。
【００２９】
また、処理液槽本体内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすいゴミは、上層部から下層部へと下降するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。そして、処理液槽本体の底部側に下降したゴミは、フィルタを通過する際に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすいゴミを十分に除去できる。
【００３０】
さらに、感光材料に傷を作りやすいゴミは、フィルタに捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とする。
【００３１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の感光材料の処理装置において、複数の流通孔の各断面積を、上から下になるのに従って順次小さく構成したことを特徴とする。
【００３２】
上述のように構成することにより、請求項１又は請求項２に記載の発明の作用、効果に加えて、処理液の深さ方向の上部から下部にかけて各々開口する複数の流通孔と、複数の流通孔とをそれぞれ流通する処理液の流速を均一化してサブタンク内の処理液が処理液槽本体内にあった処理液と全体的により均一に混合することを容易にする。
【００３３】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３の何れかに記載の感光材料の処理装置において、サブタンクの内部における下部から上部へ向けた流路を、当該流路の水平断面の断面積が徐々に狭まるように構成したことを特徴とする。
【００３４】
上述のように構成することにより、請求項１乃至請求項３の何れかに記載の発明の作用、効果に加えて、サブタンクの内部における下部から上部へ向けた流路を流れ、さらに処理液の深さ方向の上部から下部にかけて各々開口する複数の流通孔をそれぞれ流通する処理液の流速を均一化してサブタンク内の処理液が処理液槽本体内にあった処理液と全体的により均一に混合することを容易にする。
【００３５】
本発明の請求項５に記載の感光材料の処理装置は、処理液槽本体内に貯留される処理液を浄化するフィルターと、処理液槽本体とサブタンクとの間の縦側壁における上下に渡る範囲に設けた複数の貫通した流通孔と、流通孔に各々対応した分枝管を設け、処理液槽の下層部から処理液を引き出しフィルターを通過させて、複数の流通孔の各々に対応する分枝管を通して送液し、複数の貫通した流通孔を通過させることにより、処理液が平均的に処理液槽へ流入するようにし、処理液槽本体内で均一に混合するようにした処理液槽処理液循環経路と、を有することを特徴とする。
【００３６】
上述のように構成することにより、処理液循環管路の各分岐管から直接に処理液が各流通孔に送られて各流通孔をそれぞれ均一な流速で通過することにより、処理液槽本体の縦側壁における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って処理液を平均的に送液し、処理液循環管路から送液された処理液を処理液槽本体内の隅々にまで行き渡らせながら、処理液槽本体内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合わせ、処理液槽本体内の均一な処理液により、適切な処理を実行できるようにする。
【００３７】
また、処理液槽本体内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすいゴミは、上層部から下層部へと下降するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。そして、処理液槽本体の底部側に下降したゴミは、フィルタを通過する際に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすいゴミを十分に除去できる。
【００３８】
さらに、感光材料に傷を作りやすいゴミは、フィルタに捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とする。
【００３９】
本発明の請求項６に記載の感光材料の処理装置は、処理液槽本体内に貯留される処理液を浄化するフィルターと、処理液槽本体の縦側壁に外接して設けられ、処理液槽の深さに対して１／２以上の深さをもつように形成されたサブタンクと、処理液槽本体とサブタンクとの間の縦側壁にスリット状に貫通して開口し、当該開口の水平方向の幅が下から上に向けて徐々に広がるように形成した流通孔と、処理液槽の下層部から処理液を引き出しフィルターを通過させてサブタンクへ送液し、サブタンクからスリット状の流通孔を通過させることにより処理液がサブタンクの上部から下部にかけて、平均的に処理液槽へ流入するようにし、処理液槽本体内で均一に混合するようにした処理液槽処理液循環経路と、を有する事を特徴とする。
【００４０】
上述のように構成することにより、サブタンクと処理液槽本体との間の縦側壁における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って開口する送流状態調整するための流通孔を通して、サブタンク側から処理液槽本体へ向けて処理液を深さ方向で平均的に送液し、サブタンク内に供給された処理液を処理液槽本体内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合わせ、処理液槽本体内の均一な処理液により、適切な処理を実行できるようにする。
【００４１】
また、処理液槽本体内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすいゴミは、上層部から下層部へと下降するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。そして、処理液槽本体の底部側に下降したゴミは、フィルタを通過する際に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすいゴミを十分に除去できる。
【００４２】
さらに、感光材料に傷を作りやすいゴミは、フィルタに捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とする。
【００４３】
【発明の実施の形態】
本発明の感光材料の処理装置に係る第１実施の形態について、図１乃至図４を参照しながら説明する。
【００４４】
感光材料の処理装置としてのプリンタープロセッサー１０は、図１に示すように、Ｃ、Ｍ、Ｙフィルターからなる調光フィルター、反射ミラー及びハロゲンランプを備えた光源部１２、写真の感光材料としてのカラーペーパー１６Ｐを収納したペーパーマガジン部１６を備えている。
【００４５】
光源部１２から照射された光は、ネガキャリア１８に装填されたネガフィルムＮを介して露光部１４に照射される。また、ペーパーマガジン部１６から引き出されたカラーペーパー１６Ｐは、露光部１４においてネガフィルムＮの画像が焼き付けられ、プロセッサ部１０Ｎ内に搬送される。
【００４６】
このプロセッサ部１０Ｎは、発色現像処理槽１０Ｎ１、漂白定着処理槽１０Ｎ２、リンス処理槽１０Ｎ３〜１０Ｎ６の各処理槽及び乾燥部１０Ｎ７から構成されている。なお、発色現像処理槽１０Ｎ１には発色現像処理液、漂白定着処理槽１０Ｎ２には漂白定着処理液、リンス処理槽１０Ｎ３〜１０Ｎ６の各々には水洗処理液が貯留されている。
【００４７】
これによって、発色現像処理槽１０Ｎ１で現像されたカラーペーパー１６Ｐは、漂白定着処理槽１０Ｎ２で定着処理された後リンス処理槽１０Ｎ３〜１０Ｎ６で水洗処理され、乾燥部１０Ｎ７で乾燥処理されてカラープリントが作成される。このカラープリントはソーター部１０Ｎ８に載置される。
【００４８】
このプリンタープロセッサ１０には、その装置本体内部の各種装置を自動制御してカラープリントを作成するための制御動作を実行する制御手段としての制御部２０を設置する。この制御部２０には、使用者が操作して指令を与えるためのモニタ２２とキーボードである操作ボード２４とを接続する。
【００４９】
このように構成されたプリンタープロセッサ１０は、その電源がオンされると、制御部２０の制御動作によって各処理液の温調制御を行う。そして、このプリンタープロセッサ１０では、温調手段により各処理液の温度が設定温度となってから制御部２０の制御動作によって、プリンタープロセッサ１０に内蔵された感光材料のマガジン１６からカラーペーパー１６Ｐを引き出して露光部１４に搬送し、そこでカラーペーパー１６Ｐを露光処理する。
【００５０】
このように露光されたカラーペーパー１６Ｐは、搬送ローラによって搬送され、各処理槽１０Ｎ１〜１０Ｎ６を通過して各処理液に浸漬して現像処理され、乾燥部１０Ｎ７で乾燥されてから、ソーター部１０Ｎ８にストックされるという動作を実行する。
【００５１】
上述のように構成されたプリンタープロセッサ１０における、発色現像処理槽１０Ｎ１、漂白定着処理槽１０Ｎ２及びリンス処理槽１０Ｎ３〜１０Ｎ６の各処理槽は、それぞれ図２に例示する如く構成する。
【００５２】
この各処理液槽１０Ｎ１（又は１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）は、処理液槽本体３２と、その内部に貯留された所定の処理液を循環しながら浄化する循環系と、処理液槽本体３２内に着脱可能に装着される処理ラック３４とを有する。
【００５３】
この処理液槽本体３２は、所定の処理液を充填して貯留する略矩形の貯液用容器として形成する。
【００５４】
この処理液槽本体３２の内部には、ここに貯留した所定の処理液に浸漬する位置に処理ラック３４を着脱可能に装着する。
【００５５】
この処理ラック３４は、フレーム２６に、複数の搬送ローラ２８を所定のＵ字状搬送パスに沿って配置し、これら搬送ローラ２８を回転駆動することによって処理液槽本体３２内の処理液中に続くＵ字状の搬送パスに沿って感光材料を搬送することにより、感光材料を処理液に浸漬している間に所要の液処理を実行可能なように構成する。
【００５６】
また、処理液槽本体３２には、処理液槽処理液循環経路を構成するため、その底面部３６の中央部に凹部状の補助室３８を一体に形成する。この補助室３８は、有底円形筒状に形成し、その底部中央に処理液循環管路３０の一端部の管口を一体的に接続する状態で開口する。
【００５７】
この補助室３８内には、その底部中央に開口した処理液循環管路３０の管口に、通常用いられる有底円筒形に構成したフィルタ４０を、その底が上に向く状態にして被せるように設置する。
【００５８】
ここで、プリンタープロセッサ１０で感光材料を処理する際に、各処理液にゴミが混入していて感光材料に付着しても、感光材料に傷が残らないようにできるゴミの最大粒径は３０μｍであることが実験で確認されている。
【００５９】
よって、フィルタ４０のメッシュは３０μｍ以下とすることが望ましい。
【００６０】
これにより、補助室３８内の処理液は、全てフィルタ４０を通過してから処理液循環管路３０の管口内に吸い込まれるようにする。
【００６１】
図２及び図３に示すように、処理液槽本体３２には、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するため、処理液槽本体３２の深さに対して１／２以上の深さをもつように、その縦側壁４２における上部から下部にかけての所定部所に渡ってサブタンク４６を一体的に設置する。
【００６２】
このサブタンク４６と処理液槽本体３２との間の処理液に浸漬する壁部には、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するため、その上部から下部にかけての複数の各所定位置（本実施の形態では等間隔を開けた４箇所）に、それぞれサブタンク４６から処理液槽本体３２の内部へ抜ける貫通孔である複数（本実施の形態では４個）の流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを穿孔する。
【００６３】
これら、４個の流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄは、処理液槽本体３２の縦側壁４２における上部から下部にかけて、その貫通孔の断面積が順次小さくなるように構成する。
【００６４】
すなわち、このサブタンク４６に充填された処理液が、処理液槽本体３２の深さに対して１／２以上の深さをもつ縦側壁４２における上部から下部にかけての所定部所に渡って配置され、かつ断面積が順次小さくなるよう構成された各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通って処理液槽本体３２内に流れ込む際、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄからそれぞれ処理液槽本体３２内に流れ込む処理液の流速、流量が略均一となるように、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄの貫通孔の断面積を設定する。
【００６５】
これにより、サブタンク４６と処理液槽本体３２との間の縦側壁４２における上部から下部にかけての深さ方向に長く、かつ処理液槽本体３２の深さに対して１／２以上の深さをもつ範囲に渡って、サブタンク４６側から処理液槽本体３２へ向けて処理液を平均的に送液し、サブタンク４６内に供給された浄化され加熱温調された処理液を処理液槽本体３２内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体３２内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合うように構成する。
【００６６】
このようにするため、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄの貫通孔の断面形状（例えば円形開口、方形開口等）及び断面積を適宜設定する。
【００６７】
これと共に、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通じサブタンク４６から処理液槽本体３２へ流入した処理液が、処理液槽本体３２内の隅々まで流動するように、処理ラック３４のフレーム２６にも処理液を流通させる複数（本実施の形態では、５個）の貫通穴（本実施の形態では、正面長円形の貫通穴）である各流通穴（流通孔）５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅを穿設する。
【００６８】
これら各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅは、それぞれ各対応する流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄと同じ高さ位置、すなわち、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄから噴出された処理液の流れる先の位置に開口し、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄから噴出された処理液が容易に縦側壁４２と反対側の側部まで到達するよう、フレーム２６における各搬送ローラ２８の軸着部の間位置に、フレーム２６の強度を損なわないように穿設する。
【００６９】
図２及び図４に示すように、５個の各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅは、フレーム２６上部から下部（処理液が深くなる方向）にかけて、その貫通孔の断面積が順次小さくなるように構成する。
【００７０】
すなわち、サブタンク４６から各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通して充填された処理液が、フレーム２６における上部から下部にかけて断面積が順次小さくなる各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅを通って処理液槽本体３２内における各搬送ローラ２８の間を通り、処理液槽本体３２におけるサブタンク４６を設けたのとは反対側の縦側部まで、各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅのそれぞれにおいてそれぞれが略均一の流速、流量で容易に流れるように、各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅの貫通孔の断面積を設定する。
【００７１】
これにより、サブタンク４６と処理液槽本体３２との間の縦側壁４２における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って、サブタンク４６側から処理液槽本体３２へ向けて処理液を各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄによって平均的に送液し、さらに、フレーム２６の部分を上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って、各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅを処理液が平均的に通過するようにして、サブタンク４６内に供給された浄化され加熱温調された処理液を処理液槽本体３２内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体３２内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合うように構成する。
【００７２】
このようにするため、これら各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅの貫通孔の断面形状（例えば長円形開口、方形開口等）及び断面積を適宜設定する。
【００７３】
図２及び図３に示すように、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するため、サブタンク４６には、その底部４４に処理液循環管路３０の他端部の管口を一体的に接続する状態で開口する。
【００７４】
この処理液循環管路３０は、その補助室３８の底部に開口する管口側の一端部から、サブタンク４６の底部中央に開口する管口側の他端部に至る一連の管路として構成されている。
【００７５】
この処理液循環管路３０の中間部には、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するため、補助室３８の底部に開口する管口側の一端部から順にポンプ５０と、温調手段としてのヒータ５２とを配置して構成する。
【００７６】
各処理液槽本体３２（１０Ｎ１、１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）では、ポンプ５０を駆動することにより、処理液槽本体３２内における下層部の処理液を、補助室３８内に流入させ、さらに補助室３８内にあるフィルタ４０を介して処理液循環管路３０内に吸引することにより、フィルタ４０でゴミを吸着して処理液を浄化する。
【００７７】
この処理液槽処理液循環経路によると、処理液循環管路３０内にポンプ５０の働きで循環流量が１〜７Ｌ／ｍｉｎとなるように送液されて流通する処理液が、ヒータ５２で所定温度に加熱された後、底部４４中央の管口からサブタンク４６内へ吐出され、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通って処理液槽本体３２へ流入し、各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅを通過して処理液槽本体３２内の隅々まで行き渡りそこにある処理液と渾然一体となって混ざり合う。そして下層部の処理液が補助室３８へ流れるというように循環する動作を繰り返す。
【００７８】
すなわち、この各処理液槽本体３２（１０Ｎ１、１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）における処理液槽処理液循環経路では、ポンプ５０で加圧されヒータ５２で温調された処理液をサブタンク４６内へ供給する。すると、サブタンク４６内の処理液は、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通って処理液槽本体３２内へ流出する。
【００７９】
そして、処理液槽本体３２内へ供給された処理液は、各流通穴５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、Ｄ５１及び５１Ｅを通り処理液槽本体３２内部にあった処理液と混ざり合ったものが、上層部から下層部へと下降（ダウンフロー）するように流れる。さらに、下層部の処理液は、補助室３８内に流入し、フィルタ４０を通過して処理液循環管路３０内に吸引される際に、フィルタ４０でゴミが浄化される。
【００８０】
また、この各処理液槽本体３２（１０Ｎ１、１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）における処理液の循環浄化系では、処理液を上層部から下層部へと下降（ダウンフロー）するように流すと共に、処理液槽本体３２内の底部側に配置したフィルタ４０でゴミを捕るように構成している。
【００８１】
よって、各処理液槽本体３２（１０Ｎ１、１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすい３０μｍ以上のゴミは、上層部から下層部へと下降（ダウンフロー）するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。
【００８２】
さらに、各処理液槽本体３２（１０Ｎ１、１０Ｎ２、１０Ｎ３、１０Ｎ４、１０Ｎ５、１０Ｎ６）の底部側に下降したゴミは、補助室３８内に集まるように流入し、フィルタ４０に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすい３０μｍ以上の大きさのゴミを十分に除去できる。
【００８３】
さらに、感光材料に傷を作りやすい３０μｍ以上の大きさのゴミは、フィルタ４０に捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体３２内の所定の処理液を循環させる動作時や処理ラック３４を取り外し時又は装着時に、所定の処理液中に感光材料に傷を作りやすい３０μｍ以上の大きさのゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とする。
【００８４】
図１に示すように、この処理液槽本体３２では、処理液循環管路３０によってサブタンク４６の底面部から処理液を噴出させることになる。このサブタンク４６は、その容量が小さいから底面部から噴出された処理液は、比較的早い流速で液面まで上昇し、液面が波立ち液面の更新が激しくなるため、処理液の酸化が急速に進み処理液の劣化が激しくなる場合がある。
【００８５】
このような場合には、サブタンク４６の液面に浮蓋５４を浮かせるようにして配置し、液面が波立ちを防止すると共に、サブタンク４６での液面の開口率（処理液が空気と触れる面積）の削減を図ることが望ましい。
【００８６】
次に、本発明の第２実施の形態について、図５により説明する。
【００８７】
本第２実施の形態は、サブタンク４６から各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄを通じて処理液槽本体３２内に処理液を供給する際、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄからそれぞれ処理液槽本体３２内に流れ込む処理液の量をより均一とするよう構成する。
【００８８】
このため、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するサブタンク４６の内部における鉛直方向の流路を、縦に並んだ下部の流通孔４８Ｄから上部の流通孔４８Ａにかけて流路の水平方向の断面積が徐々に狭まるように構成する。
【００８９】
すなわち、サブタンク４６の内部における下部の流通孔４８Ｄから上部の流通孔４８Ａにかけての流路が正面視で直角三角形（処理液の流れの状態及び各深度での圧力に対応して所要の曲面に形成しても良い）になるように形成する。
【００９０】
このサブタンク４６内に、このような正面視で直角三角形状の流路を形成するために、図５に示すように逆直角三角形状の流路形成用の部材５６を設置する。なお、サブタンク４６の側面を構成する壁を斜状に形成して正面視で直角三角形（処理液の流れの状態及び各深度での圧力に対応して所要の曲面に形成しても良い）の流路を形成しても良い。
【００９１】
このようにサブタンク４６内の流路を構成することにより、処理液循環管路３０からサブタンク４６の底部に噴出された処理液は、サブタンク４６内における縦に並んだ下部の流通孔４８Ｄ部分では流速が遅く、これから上部の流通孔４８Ａにかけて流速が早くなるように流れることになる。
【００９２】
このようにサブタンク４６内に形成された流路によって、このサブタンク４６に充填された処理液が、その内部の鉛直方向における上部から下部にかけて、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄに流れ込む処理液の流速、流量を、より均一化するよう作用する。
【００９３】
このため、例えば各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄの開口面積を全て同面積とした場合でも、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄからそれぞれ処理液槽本体３２内に流れ込む処理液の量が略均一となるように設定できる。
【００９４】
また、このようにサブタンク４６の内部における鉛直方向の流路を、縦に並んだ下部の流通孔４８Ｄから上部の流通孔４８Ａにかけて流路の水平方向の断面積が徐々に狭まるように構成すると共に、上部から下部にかけて断面積が順次小さくなる各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄの構成を組み合わせることにより、これら各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄからそれぞれ処理液槽本体３２内に流れ込む処理液の流量をより大幅にコントロールするするよう設定して流量を均一化させることができる。
【００９５】
なお、本第２実施の形態における以上説明した以外の構成、作用及び効果は前述した第１実施の形態と同様であるので、同一部材には同一符号を付すこととして、その説明を省略する。
【００９６】
次に、本発明の第３実施の形態について、図６により説明する。
【００９７】
本第３実施の形態では、処理液槽本体３２にサブタンク４６を介することなく、処理液循環管路３０から直接処理液を各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄに供給するよう処理液槽処理液循環経路を構成している。
【００９８】
このため、処理液循環管路３０の端部に複数（本実施の形態では５本）の分岐管３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ及び３０Ｅを一体的に構成する。そして、各分岐管３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ及び３０Ｅの先端部を、それぞれ対応する各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄに一体的に接続する。
【００９９】
このように構成することにより、処理液循環管路３０から送液される処理液は、分岐管３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ及び３０Ｅから直接各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄに送給され、処理液槽本体３２内における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って処理液の流速、流量を平均的にならして送液し、サブタンク４６内に供給された、浄化され加熱温調された処理液を、処理液槽本体３２内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体３２内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合うようにする。
【０１００】
このように、各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄから噴出される処理液の流速をそれぞれ一定にするため、各分岐管３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ及び３０Ｅ及びこれに接続する各流通孔４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ及び４８Ｄの貫通孔の断面形状（例えば円形開口、方形開口等）及び断面積を適宜設定する。
【０１０１】
なお、本第３実施の形態における以上説明した以外の構成、作用及び効果は前述した第１実施の形態と同様であるので、同一部材には同一符号を付すこととして、その説明を省略する。
【０１０２】
次に、本発明の第４実施の形態について、図７により説明する。
【０１０３】
本第４実施の形態は、処理液槽処理液循環経路の一部を構成するため、処理液槽本体３２の縦側壁４２に、単一の貫通開口として穿設した送流状態調整用の流液開口５８（流通孔）を構成したものである。
【０１０４】
この送流状態調整用の流液開口５８は、縦側壁４２の処理液に浸漬する部分における鉛直方向の下から上へかけて末広がりとなる逆三角形状の貫通開口として形成する。
【０１０５】
なお、この送流状態調整用の流液開口５８は、逆三角形ばかりでなく、送流状態調整用の流液開口５８における開口の水平方向の幅が下から上へかけて徐々に広がる任意の形状に形成する等により、サブタンク４６内に供給された浄化され加熱温調された処理液が、送流状態調整用の流液開口５８を通って、処理液槽本体３２内における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って流速が等しくなるようにして平均的に流れ込み、処理液槽本体３２内の隅々まで行き渡って、処理液槽本体３２内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合うようにする。
【０１０６】
このようにするため、送流状態調整用の流液開口５８の正面形状（例えば逆三角形の対向する斜辺を湾曲させた形状、変形長円形等）及び断面積を適宜設定する。
【０１０７】
なお、本第４実施の形態における以上説明した以外の構成、作用及び効果は前述した第１実施の形態と同様であるので、同一部材には同一符号を付すこととして、その説明を省略する。
【０１０８】
【発明の効果】
本発明の感光材料の処理装置は、フィルタを処理液槽本体内に貯留される処理液を浄化できるように配置し、処理液槽本体の縦側壁における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って処理液を貯留するサブタンクを一体的に設置し、処理液槽本体とサブタンクとの間の処理液に浸漬される縦側壁における上部から下部にかけての所定部所に渡って流通孔を穿設し、又は縦側壁における上部から下部にかけての複数位置をそれぞれ貫通する複数の流通孔を穿孔し、処理液循環管路系によって、処理液槽本体に貯留された処理液の下層部から処理液を引き出してサブタンク内に送液し、複数の流通孔を通して処理液槽本体に貯留された処理液の上層部から下層部へかけての深さ方向に長い範囲に渡って処理液を平均的に送液することにより処理液槽本体内に在った処理液と均一に混合すると共に、処理液槽本体に貯留された処理液がフィルタを通されて浄化されるように構成する。これにより、サブタンクと処理液槽本体との間の縦側壁における上部から下部にかけての深さ方向に長い範囲に渡って、サブタンク側から処理液槽本体へ向けて処理液を平均的に送液し、サブタンク内に供給された処理液を処理液槽本体内の隅々まで行き渡らせながら、処理液槽本体内に在った処理液と全体的に均一に混ざり合わせ、浄化され加熱温調された処理液を処理液槽本体内の隅々まで行き渡らせ均一に混合させるよう循環させて、処理液全体の温度や成分の分布を均一にし、処理液槽本体内の均一な処理液によってムラの無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とするという効果を有する。
【０１０９】
また、処理液槽本体内の処理液中に浮遊する感光材料に傷を作りやすいゴミは、上層部から下層部へと下降するように流れる処理液の流れに乗って底部側に下降すると共に、ゴミの自重で底部側に下降する。そして、処理液槽本体の底部側に下降したゴミは、フィルタを通過する際に捕捉される。これにより、処理液中から感光材料に傷を作りやすいゴミを十分に除去することにより、処理液槽本体内に貯留した処理液中に浮遊していた比較的大きな粒子（ミクロンオーダの粒子）等のゴミが処理液槽本体内の底に沈降して浮遊可能な状態で滞留するのを防止する。さらに、感光材料に傷を作りやすいゴミは、フィルタに捕捉されて容易に浮遊しない状態にあるので、処理液槽本体内の処理液中にゴミが舞い上がって、感光材料の表面に傷を付ける原因となることを抑制し、感光材料に傷の無い画像を形成するという安定した処理性能を維持可能とするという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態に係る感光材料の処理装置の全体を示す概略構成図である。
【図２】本発明の第１実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理液槽本体の構成を示す概略構成図である。
【図３】本発明の第１実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理液槽本体のサブタンク側の構成を示す要部斜視図である。
【図４】本発明の第１実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理ラックのフレーム要部を取り出して示す拡大側面図である。
【図５】本発明の第２実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理液槽本体の構成を示す概略構成図である。
【図６】本発明の第３実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理液槽本体の構成を示す概略構成図である。
【図７】本発明の第４実施の形態に係る感光材料の処理装置における、処理液槽本体の構成を示す概略斜視図である。
【図８】従来の感光材料の処理装置における、処理液槽本体の構成を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１０プリンタープロセッサ
１０Ｎプロセッサ部
１０Ｎ１発色現像処理槽
１０Ｎ２漂白定着処理槽
３０処理液循環管路
３０Ａ分岐管
３２処理液槽本体
３４処理ラック
３６底面部
３８補助室
４０フィルタ
４２縦側壁
４６サブタンク
５０ポンプ
５１Ａ流通穴（流通孔）
５４浮蓋
５６流路形成用の部材
５８送流状態調整用の流液開口（流通孔）[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus that purifies a processing solution filled in a processing tank in which a photosensitive material is immersed so as to maintain stable processing performance.
[0002]
[Prior art]
In general, a processing apparatus for a photosensitive material that forms an image on various photosensitive materials such as a silver salt photographic photosensitive material (color print) is used.
[0003]
In this photosensitive material processing apparatus, while exposing the exposed photosensitive material (color print) at a predetermined speed, the photosensitive material is immersed in a developer in a color developing tank, immersed in a bleach-fixing solution in a bleach-fixing tank, and then washed with water. There is a type that obtains a color print by immersing in a bath washing water, washing, developing a color developing process, a bleach-fixing process and a water washing process in order.
[0004]
A conventional photosensitive material processing apparatus uses a processing solution tank 100 for storing a processing solution in which a photosensitive material is immersed, such as a color developing tank, a bleach-fixing tank, and a washing tank having the configuration illustrated in FIG. is there.
[0005]
The processing liquid tank 100 is configured to fill and store a predetermined processing liquid in a processing liquid tank main body 102 formed as a substantially rectangular liquid storage container. Further, the processing rack 104 is detachably mounted at a position to be immersed in the processing liquid stored in the processing liquid tank body 102.
[0006]
This processing rack 104 can execute the required liquid processing while the photosensitive material is transported on the U-shaped transport path by being transported into the processing liquid tank body 102 by the transport roller and immersed in the processing liquid. Configure.
[0007]
Further, a sub tank 106 is integrally installed on the upper part of the vertical side wall 102 </ b> A of the processing liquid tank body 102. Further, a drainage hole 108 that penetrates into the sub tank 106 is drilled at a position vertically downward from the liquid level of the processing liquid stored in the vertical side wall 102A by a predetermined distance, and the processing liquid tank body 102 is filled. The liquid is allowed to flow into the sub tank 106.
[0008]
The sub-tank 106 is arranged so that a pipe port at one end of the processing liquid circulation pipe 110 is opened at the bottom, and the filter 112 is covered over the pipe port.
[0009]
The processing liquid circulation pipe 110 is a series of pipes extending from one end on the pipe opening opening to the bottom of the sub tank 106 to the other end on the pipe opening opening in the center of the bottom of the processing liquid tank body 102. It is configured.
[0010]
A heater 114 and a pump 116 are arranged in this intermediate portion of the processing liquid circulation pipe 110 in order from one end on the pipe opening side that opens to the bottom of the sub tank 106.
[0011]
In this processing liquid tank 100, the pump 116 is driven to cause the upper layer processing liquid in the processing liquid tank main body 102 to flow into the sub tank 106 through the drain hole 108, and through the filter 112. By suctioning into 110, dust is purified by the filter 112.
[0012]
The processing liquid sucked into the processing liquid circulation pipe 110 is heated to a predetermined temperature by the heater 114, then pressurized by the pump 116, and then the processing liquid tank main body 102 from the tube center at the bottom of the processing liquid tank main body 102. It repeats the operation | movement which circulates so that it may be discharged to the lower layer part of an inside, and the inside of the process liquid tank main body 102 may flow up to the upper layer part.
[0013]
That is, in the processing liquid circulation purification system in the processing liquid tank 100, the processing liquid is discharged to the lower layer portion of the processing liquid tank main body 102 through the processing liquid circulation pipe 110, and the processing liquid is passed through the inside of the processing liquid tank main body 102. The upper portion of the processing liquid is allowed to flow up to the upper layer portion, and the processing liquid in the upper layer portion flows into the sub tank 106 through the drain hole 108 and is sucked into the processing liquid circulation pipe 110 through the filter 112. To clean up the trash.
[0014]
[Problems to be solved by the invention]
In the treatment liquid circulation and purification system in the treatment liquid tank 100 as described above, the treatment liquid discharged from the small-sized cross-sectional area of the treatment liquid circulation conduit 110 disposed on the bottom surface of the treatment liquid tank main body 102 has a sectional area. The flow velocity when flowing so as to rise from the lower layer portion to the upper layer portion in the processing liquid tank main body 102 having a large size becomes extremely slow.
[0015]
For this reason, relatively large particles (micron-order particles) such as dust mixed in the processing liquid in the processing liquid tank main body 102 settle to the bottom of the processing liquid tank main body 102, and the processing liquid tank main body 102. It stays in a floatable state on the bottom surface of the glass.
[0016]
As described above, when relatively large particles such as dust (μ-order particles) stay on the bottom surface of the processing liquid tank main body 102 in a floatable state, the processing rack 104 is removed or attached. In this case, dust collected at the bottom of the processing liquid tank body 102 rises into the processing liquid and adheres to the surface of the photosensitive material, which may cause scratches when transported by a transport roller or the like. .
[0017]
Further, in the conventional treatment liquid circulation purification system in the treatment liquid tank 100, the treatment liquid is purified from the pipe port having a small cross-sectional area of the treatment liquid circulation pipe 110 disposed at one place on the bottom surface of the treatment liquid tank main body 102. The treated processing liquid is discharged, and the inside of the processing liquid tank main body 102 having a large cross-sectional area is caused to flow from the lower layer portion to the upper layer portion at an extremely slow flow rate.
[0018]
At this time, the purified and heated temperature-adjusted processing liquid discharged from one pipe port having a small cross-sectional area on the bottom surface of the processing liquid tank main body 102 has a roughly determined course inside the large processing liquid tank main body 102. The flow of the purified and heated temperature-controlled processing liquid discharged from the pipe opening tends to cause unevenness, such as flowing upward from the portion to the upper layer portion.
[0019]
For this reason, in the entire processing liquid in the processing liquid tank body 102, the purified and heated temperature-controlled processing liquid flows through a substantially determined course and mixes with a part of the processing liquid in the processing liquid tank body 102. Thus, the temperature of the processing liquid and the distribution of components become non-uniform throughout the processing liquid in the processing liquid tank main body 102.
[0020]
As described above, when the processing is performed by immersing the photosensitive material in the non-uniform processing solution in a state where the processing solution temperature and the component distribution are non-uniform in the processing solution main body 102, the photosensitive material is developed. There is a problem that unevenness or the like is generated, and it becomes difficult to form an image without unevenness.
[0021]
In the present invention, in consideration of the above facts, dust such as relatively large particles (micron-order particles) floating in the processing liquid stored in the processing liquid tank body settles on the bottom in the processing liquid tank body. Prevents stagnating in a floatable state, prevents dust from rising in the processing solution in the processing solution tank body, prevents scratches on the photosensitive material, and forms an image with no scratches on the photosensitive material. The treated liquid that has been purified and heated is circulated to reach every corner of the main body of the processing liquid tank and uniformly mixed to uniform the temperature and component distribution of the entire processing liquid, thereby forming a uniform image. It is an object of the present invention to newly provide a photosensitive material processing apparatus capable of maintaining stable processing performance.
[0022]
[Means for Solving the Problems]
The processing apparatus for a photosensitive material according to claim 1 of the present invention is provided with a filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank main body, and circumscribed on the vertical side wall of the processing liquid tank main body. A sub-tank formed to have a depth of ½ or more of the depth, and a plurality of through holes provided in a vertically extending side wall between the treatment liquid tank body and the sub-tank. The processing liquid is drawn from the lower part of the processing liquid tank, passed through the filter and sent to the sub tank. By passing through the plurality of through holes from the sub tank, the processing liquid flows from the sub tank to the processing liquid tank on average. And a treatment liquid tank treatment liquid circulation path configured so that the treatment liquid is uniformly mixed in the treatment liquid tank main body.
[0023]
By configuring as described above, the vertical side wall between the sub tank and the treatment liquid tank body is long in the depth direction from the upper part to the lower part, and is at least 1/2 the depth of the treatment liquid tank. The process liquid is sent from the sub-tank side to the treatment liquid tank body on the average, and the treatment liquid supplied into the sub tank is spread to every corner of the treatment liquid tank body. The processing liquid existing in the liquid tank main body is uniformly mixed as a whole, and appropriate processing can be executed by the uniform processing liquid in the processing liquid main body.
[0024]
In addition, the dust that easily scratches the photosensitive material floating in the processing liquid in the processing liquid tank main body descends to the bottom side along the flow of the processing liquid flowing so as to descend from the upper layer part to the lower layer part, It descends to the bottom side due to its own weight. And the dust which descend | falls to the bottom part side of the process liquid tank main body is capture | acquired when passing a filter. As a result, it is possible to sufficiently remove dust that easily causes scratches on the photosensitive material from the processing solution.
[0025]
In addition, since dust that easily scratches the photosensitive material is trapped by the filter and is not easily floated, the dust rises into the processing solution in the processing solution tank body, causing damage to the surface of the photosensitive material. Therefore, it is possible to maintain a stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[0026]
The processing apparatus for a photosensitive material according to claim 2 of the present invention is provided with a filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank main body, and circumscribed on the vertical side wall of the processing liquid tank main body. A sub-tank formed to have a depth of ½ or more of the depth, and a plurality of through holes provided in a vertically extending side wall between the treatment liquid tank body and the sub-tank. The processing liquid is passed through the vertical holes of the processing rack in the processing liquid tank through the corresponding positions facing the flow holes drilled in the vertical side walls of the processing liquid tank, and the lower part of the processing liquid tank. The liquid is passed through the drawer filter and sent to the sub-tank, and the treatment liquid is allowed to flow from the sub-tank to the treatment liquid tank on the average by passing through a plurality of through holes from the sub-tank. Configured to mix evenly And having a physical solution tank treatment liquid circulation path, the.
[0027]
By configuring as described above, the processing liquid supplied to the sub tank passes through each flow hole and then passes through each flow hole, thereby passing between each conveyance roller and the like, thereby providing each flow hole. It flows to the wall side opposite to the vertical side wall.
[0028]
Accordingly, the processing liquid tank body is obtained by feeding the processing liquid over a range that is long in the depth direction of the processing liquid tank body and a range that is long in the horizontal direction inside the processing liquid tank body and mixing them. The processing liquid of the whole inside is made uniform, and appropriate processing can be executed by the uniform processing liquid in the processing liquid tank body.
[0029]
In addition, the dust that easily scratches the photosensitive material floating in the processing liquid in the processing liquid tank main body descends to the bottom side along the flow of the processing liquid flowing so as to descend from the upper layer part to the lower layer part, It descends to the bottom side due to its own weight. And the dust which descend | falls to the bottom part side of the process liquid tank main body is capture | acquired when passing a filter. As a result, it is possible to sufficiently remove dust that easily causes scratches on the photosensitive material from the processing solution.
[0030]
In addition, dust that easily scratches the photosensitive material is trapped by the filter and does not float easily, so that dust rises into the processing solution in the processing solution tank body, causing damage to the surface of the photosensitive material. Therefore, it is possible to maintain a stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[0031]
According to a third aspect of the present invention, in the photosensitive material processing apparatus according to the first or second aspect of the present invention, the cross-sectional areas of the plurality of flow holes are sequentially made smaller from the top to the bottom. And
[0032]
By configuring as described above, in addition to the operation and effect of the invention according to claim 1 or claim 2, a plurality of flow holes each opening from the upper part to the lower part in the depth direction of the treatment liquid, The flow rate of the processing liquid flowing through each of the flow holes is made uniform so that the processing liquid in the sub tank can be more uniformly mixed with the processing liquid in the processing liquid tank body as a whole.
[0033]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the photosensitive material processing apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the flow path from the lower part to the upper part in the sub-tank is formed in a horizontal cross section of the flow path. The cross-sectional area is configured to gradually narrow.
[0034]
By configuring as described above, in addition to the operation and effect of the invention according to any one of claims 1 to 3, the sub-tank flows through the flow path from the lower part to the upper part, and further the treatment liquid The processing liquid in the sub tank is uniformly mixed with the processing liquid in the main body of the processing liquid tank uniformly by uniformizing the flow rate of the processing liquid flowing through the plurality of flow holes that open from the upper part to the lower part in the depth direction. Make it easy to do.
[0035]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a photosensitive material processing apparatus comprising: a filter for purifying a processing solution stored in a processing solution tank body; and a vertically extending range between vertical walls between the processing solution tank body and the sub tank. A plurality of through holes provided in the pipe and branch pipes respectively corresponding to the through holes are provided, and the treatment liquid is drawn out from the lower layer of the treatment liquid tank and passed through the filter, so that the distribution holes corresponding to each of the plurality of circulation holes are provided. A treatment liquid tank that is fed through a branch pipe and passes through a plurality of through holes, so that the treatment liquid flows into the treatment liquid tank on average and is uniformly mixed in the treatment liquid tank body. And a treatment liquid circulation path.
[0036]
By configuring as described above, the processing liquid is directly sent from each branch pipe of the processing liquid circulation pipe to each flow hole and passes through each flow hole at a uniform flow rate, so that The treatment liquid is averagely sent over a long range in the depth direction from the upper part to the lower part of the vertical side wall, and the treatment liquid sent from the treatment liquid circulation pipe is sent to every corner in the treatment liquid tank body. While spreading, the processing liquid existing in the main body of the processing liquid tank is uniformly mixed as a whole, and appropriate processing can be executed by the uniform processing liquid in the main body of the processing liquid tank.
[0037]
In addition, the dust that easily scratches the photosensitive material floating in the processing liquid in the processing liquid tank main body descends to the bottom side along the flow of the processing liquid flowing so as to descend from the upper layer part to the lower layer part, It descends to the bottom side due to its own weight. And the dust which descend | falls to the bottom part side of the process liquid tank main body is capture | acquired when passing a filter. As a result, it is possible to sufficiently remove dust that easily causes scratches on the photosensitive material from the processing solution.
[0038]
In addition, dust that easily scratches the photosensitive material is trapped by the filter and does not float easily, so that dust rises into the processing solution in the processing solution tank body, causing damage to the surface of the photosensitive material. Therefore, it is possible to maintain a stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[0039]
The processing apparatus for a photosensitive material according to claim 6 of the present invention is provided with a filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank main body, and circumscribed on the vertical side wall of the processing liquid tank main body. A sub-tank formed to have a depth of 1/2 or more with respect to the depth of the liquid, and a vertical side wall between the treatment liquid tank main body and the sub-tank is opened in a slit shape, and the horizontal direction of the opening The flow hole is formed so that the width of the liquid crystal gradually spreads from bottom to top, and the processing liquid is drawn from the lower layer of the processing liquid tank, passed through the filter, and sent to the sub tank. A processing liquid tank processing liquid circulation path that allows the processing liquid to flow into the processing liquid tank on the average from the upper part to the lower part of the sub-tank by passing through, and to be uniformly mixed in the processing liquid tank body. It is characterized by things.
[0040]
By configuring as described above, the sub tank passes through the flow hole for adjusting the flow state that opens over a long range in the depth direction from the upper part to the lower part of the vertical side wall between the sub tank and the treatment liquid tank body. The processing liquid is sent from the side to the processing liquid tank body in the depth direction on average, and the processing liquid supplied in the sub tank is spread throughout the processing liquid tank body, The processing liquid in the processing liquid is uniformly mixed as a whole, and appropriate processing can be executed by the uniform processing liquid in the main body of the processing liquid tank.
[0041]
In addition, the dust that easily scratches the photosensitive material floating in the processing liquid in the processing liquid tank main body descends to the bottom side along the flow of the processing liquid flowing so as to descend from the upper layer part to the lower layer part, It descends to the bottom side due to its own weight. And the dust which descend | falls to the bottom part side of the process liquid tank main body is capture | acquired when passing a filter. As a result, it is possible to sufficiently remove dust that easily causes scratches on the photosensitive material from the processing solution.
[0042]
In addition, dust that easily scratches the photosensitive material is trapped by the filter and does not float easily, so that dust rises into the processing solution in the processing solution tank body, causing damage to the surface of the photosensitive material. Therefore, it is possible to maintain a stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[0043]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
A first embodiment of the photosensitive material processing apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0044]
As shown in FIG. 1, a printer processor 10 serving as a photosensitive material processing apparatus includes a light control unit composed of C, M, and Y filters, a light source unit 12 including a reflection mirror and a halogen lamp, and a color serving as a photosensitive material for photographs. A paper magazine unit 16 that stores paper 16P is provided.
[0045]
The light irradiated from the light source unit 12 is irradiated to the exposure unit 14 through the negative film N loaded in the negative carrier 18. Further, the color paper 16P pulled out from the paper magazine unit 16 is printed with an image of the negative film N in the exposure unit 14, and is conveyed into the processor unit 10N.
[0046]
The processor section 10N is composed of a color developing processing tank 10N1, a bleach-fixing processing tank 10N2, rinse processing tanks 10N3 to 10N6, and a drying section 10N7. The color development processing tank 10N1 stores a color development processing liquid, the bleach-fixing processing tank 10N2 stores a bleach-fixing processing liquid, and the rinsing processing tanks 10N3 to 10N6 each store a washing processing liquid.
[0047]
As a result, the color paper 16P developed in the color developing tank 10N1 is fixed in the bleach-fixing tank 10N2, washed with water in the rinse tanks 10N3 to 10N6, and dried in the drying unit 10N7 to produce a color print. Created. This color print is placed on the sorter unit 10N8.
[0048]
The printer processor 10 is provided with a control unit 20 as a control means for executing a control operation for automatically controlling various devices in the apparatus main body to create a color print. The control unit 20 is connected to a monitor 22 that is operated by a user to give a command and an operation board 24 that is a keyboard.
[0049]
The printer processor 10 configured as described above controls the temperature of each processing liquid by the control operation of the control unit 20 when the power is turned on. In the printer processor 10, the color paper 16 </ b> P is pulled out from the photosensitive material magazine 16 built in the printer processor 10 by the control operation of the control unit 20 after the temperature of each processing solution reaches the set temperature by the temperature adjusting means. The color paper 16P is subjected to exposure processing.
[0050]
The color paper 16P thus exposed is transported by a transport roller, passes through the processing tanks 10N1 to 10N6, is immersed in each processing solution, is developed, dried by the drying unit 10N7, and then the sorter unit 10N8. The operation of being stocked is executed.
[0051]
In the printer processor 10 configured as described above, the color developing tank 10N1, the bleach-fixing tank 10N2, and the rinse tanks 10N3 to 10N6 are configured as illustrated in FIG.
[0052]
Each processing liquid tank 10N1 (or 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6) includes a processing liquid tank body 32, a circulation system for purifying a predetermined processing liquid stored therein, and a processing liquid tank. A processing rack 34 is detachably mounted in the main body 32.
[0053]
The processing liquid tank body 32 is formed as a substantially rectangular liquid storage container that fills and stores a predetermined processing liquid.
[0054]
A processing rack 34 is detachably mounted inside the processing liquid tank body 32 at a position where it is immersed in a predetermined processing liquid stored therein.
[0055]
In the processing rack 34, a plurality of transport rollers 28 are arranged on the frame 26 along a predetermined U-shaped transport path, and the transport rollers 28 are driven to rotate into the processing liquid in the processing liquid tank body 32. By transporting the photosensitive material along the subsequent U-shaped transport path, a required liquid processing can be performed while the photosensitive material is immersed in the processing liquid.
[0056]
In addition, a concave auxiliary chamber 38 is integrally formed in the central portion of the bottom surface portion 36 of the processing liquid tank main body 32 in order to form a processing liquid tank processing liquid circulation path. The auxiliary chamber 38 is formed in a bottomed circular cylindrical shape, and is opened in a state in which a pipe port at one end of the processing liquid circulation conduit 30 is integrally connected to the center of the bottom.
[0057]
In the auxiliary chamber 38, a filter 40 configured in a commonly used bottomed cylindrical shape is covered with a pipe port of a processing liquid circulation pipe 30 opened in the center of the bottom so that the bottom faces upward. Install in.
[0058]
Here, when the photosensitive material is processed by the printer processor 10, even if dust is mixed in each processing solution and adheres to the photosensitive material, the maximum particle size of the dust that can prevent the photosensitive material from being scratched is 30 μm. It has been confirmed by experiments.
[0059]
Therefore, the mesh of the filter 40 is desirably 30 μm or less.
[0060]
As a result, all of the processing liquid in the auxiliary chamber 38 passes through the filter 40 and then is sucked into the pipe opening of the processing liquid circulation conduit 30.
[0061]
As shown in FIGS. 2 and 3, the treatment liquid tank body 32 forms a part of the treatment liquid tank treatment liquid circulation path, and therefore has a depth of ½ or more of the depth of the treatment liquid tank body 32. The sub-tank 46 is integrally installed over a predetermined portion from the upper part to the lower part of the vertical side wall 42 so as to have a thickness.
[0062]
The wall portion immersed in the processing liquid between the sub tank 46 and the processing liquid tank main body 32 constitutes a part of the processing liquid tank processing liquid circulation path, so that a plurality of predetermined positions (from the upper part to the lower part) In the present embodiment, four (four in the present embodiment) through holes 48A, 48B, and 48C, which are through holes extending from the sub tank 46 to the inside of the processing liquid tank main body 32, are provided at four positions at equal intervals in the present embodiment. And 48D.
[0063]
These four circulation holes 48A, 48B, 48C and 48D are configured such that the cross-sectional areas of the through holes gradually decrease from the upper part to the lower part in the vertical side wall 42 of the processing liquid tank body 32.
[0064]
That is, the processing liquid filled in the sub tank 46 is arranged over a predetermined portion from the upper part to the lower part of the vertical side wall 42 having a depth of 1/2 or more with respect to the depth of the processing liquid tank body 32. When the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D are configured so that the cross-sectional area sequentially decreases and flow into the processing liquid tank body 32, the processing liquid is supplied from the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D, respectively. The cross-sectional areas of the through holes of these flow holes 48A, 48B, 48C and 48D are set so that the flow velocity and flow rate of the processing liquid flowing into the tank body 32 become substantially uniform.
[0065]
Thereby, it is long in the depth direction from the upper part to the lower part in the vertical side wall 42 between the sub tank 46 and the treatment liquid tank main body 32, and the depth is ½ or more with respect to the depth of the treatment liquid tank main body 32. Over the range, the processing liquid is fed from the sub tank 46 side toward the processing liquid tank body 32 on average, and the purified and heated temperature-controlled processing liquid supplied into the sub tank 46 is processed into the processing liquid tank body 32. It is configured so as to be uniformly mixed with the processing liquid existing in the processing liquid tank main body 32 as it spreads to every corner.
[0066]
In order to do so, the cross-sectional shape (for example, circular opening, square opening, etc.) and cross-sectional area of the through holes of each of the flow holes 48A, 48B, 48C and 48D are appropriately set.
[0067]
At the same time, the frame 26 of the processing rack 34 is arranged so that the processing liquid flowing into the processing liquid tank main body 32 from the sub tank 46 through the flow holes 48A, 48B, 48C and 48D flows to every corner in the processing liquid tank main body 32. Each of the through holes (flow holes) 51A, 51B, 51C, which is a plurality of (in this embodiment, five) through holes (in this embodiment, front oblong through holes) through which the processing liquid is also circulated. D51 and 51E are drilled.
[0068]
These flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E are ejected from the same height positions as the corresponding flow holes 48A, 48B, 48C and 48D, that is, the flow holes 48A, 48B, 48C and 48D, respectively. Each conveying roller in the frame 26 opens to a position where the processing liquid flows, and the processing liquid ejected from each flow hole 48A, 48B, 48C and 48D easily reaches the side opposite to the vertical side wall 42. A hole is drilled at a position between the 28 shaft attachment portions so as not to impair the strength of the frame 26.
[0069]
As shown in FIGS. 2 and 4, each of the five flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E has a cross-sectional area of the through-holes sequentially from the upper part of the frame 26 to the lower part (the direction in which the processing liquid becomes deeper). Configure to be smaller.
[0070]
That is, the processing liquid filled from the sub-tank 46 through the respective circulation holes 48A, 48B, 48C and 48D passes through the respective circulation holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E in which the cross-sectional area gradually decreases from the upper part to the lower part in the frame 26. Each of the flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and the vertical side of the processing liquid tank body 32 opposite to the side where the sub-tank 46 is provided pass between the transport rollers 28 in the processing liquid tank body 32. The cross-sectional areas of the through holes of the flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E are set so that each of the holes 51E can easily flow at a substantially uniform flow rate and flow rate.
[0071]
As a result, the processing liquid is transferred from the sub tank 46 side toward the processing liquid tank main body 32 over a long range in the depth direction from the upper part to the lower part of the vertical side wall 42 between the sub tank 46 and the processing liquid tank main body 32. The flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D are used to feed liquids on an average, and further, the flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and the frame 26 are extended over a long range in the depth direction from the upper part to the lower part. The treatment liquid main body 32 is passed through 51E while the purified and heated temperature-adjusted treatment liquid supplied into the sub tank 46 is distributed to every corner of the treatment liquid tank main body 32. It is configured so as to be mixed uniformly with the processing liquid existing inside.
[0072]
In order to do so, the cross-sectional shape (for example, oval opening, rectangular opening, etc.) and cross-sectional area of the through holes of these flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E are appropriately set.
[0073]
As shown in FIGS. 2 and 3, in order to constitute a part of the processing liquid tank processing liquid circulation path, the sub-tank 46 is integrally formed with the bottom 44 of the sub-tank 46 at the other end of the processing liquid circulation pipe 30. Open in the state of being connected to.
[0074]
The treatment liquid circulation conduit 30 is configured as a series of conduits from one end on the tube opening side opened to the bottom of the auxiliary chamber 38 to the other end on the tube opening side opened to the center of the bottom of the sub tank 46. ing.
[0075]
In order to form a part of the processing liquid tank processing liquid circulation path in the intermediate portion of the processing liquid circulation pipe 30, the pump 50 and the temperature control are sequentially arranged from one end on the pipe opening side opened to the bottom of the auxiliary chamber 38. A heater 52 as means is arranged and configured.
[0076]
In each processing liquid tank body 32 (10N1, 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6), the pump 50 is driven to cause the processing liquid in the lower layer in the processing liquid tank body 32 to flow into the auxiliary chamber 38. Further, by sucking into the processing liquid circulation pipe 30 through the filter 40 in the auxiliary chamber 38, the filter 40 adsorbs dust and purifies the processing liquid.
[0077]
According to this processing liquid tank processing liquid circulation path, the processing liquid circulating in the processing liquid circulation pipe 30 by the action of the pump 50 so that the circulation flow rate becomes 1 to 7 L / min is circulated by the heater 52. After being heated to the temperature, it is discharged into the sub-tank 46 from the tube port at the center of the bottom 44, flows into the treatment liquid tank body 32 through the respective flow holes 48A, 48B, 48C and 48D, and flows into the flow holes 51A, 51B, It passes through 51C, D51 and 51E, reaches every corner in the processing liquid tank main body 32, and mixes with the processing liquid there. And the operation | movement which circulates so that the process liquid of a lower layer part flows into the auxiliary chamber 38 is repeated.
[0078]
That is, in the treatment liquid tank treatment liquid circulation path in each treatment liquid tank main body 32 (10N1, 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6), the treatment liquid pressurized by the pump 50 and temperature-controlled by the heater 52 is supplied to the sub tank 46. Supply in. Then, the processing liquid in the sub tank 46 flows out into the processing liquid tank main body 32 through the flow holes 48A, 48B, 48C and 48D.
[0079]
Then, the processing liquid supplied into the processing liquid tank main body 32 is mixed with the processing liquid in the processing liquid tank main body 32 through the flow holes 51A, 51B, 51C, D51 and 51E. Flows downward (downflow) from the bottom to the lower layer. Furthermore, the processing liquid in the lower layer part flows into the auxiliary chamber 38, and dust is purified by the filter 40 when it passes through the filter 40 and is sucked into the processing liquid circulation conduit 30.
[0080]
Further, in the treatment liquid circulation purification system in each treatment liquid tank body 32 (10N1, 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6), the treatment liquid is caused to flow downward (downflow) from the upper layer portion to the lower layer portion. At the same time, the filter 40 disposed on the bottom side in the treatment liquid tank body 32 is configured to catch dust.
[0081]
Therefore, the dust of 30 μm or more that tends to scratch the photosensitive material floating in the processing solution in each processing solution tank body 32 (10N1, 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6) descends from the upper layer to the lower layer. Along with the flow of the processing liquid flowing down (downflow), it descends to the bottom part side and descends to the bottom part side by its own weight.
[0082]
Further, the dust that has descended to the bottom side of each treatment liquid tank body 32 (10N1, 10N2, 10N3, 10N4, 10N5, 10N6) flows into the auxiliary chamber 38 so as to be collected and is captured by the filter 40. As a result, it is possible to sufficiently remove dust having a size of 30 μm or more that is likely to cause scratches on the photosensitive material from the processing solution.
[0083]
Further, dust having a size of 30 μm or more that easily causes scratches on the photosensitive material is trapped by the filter 40 and is not easily floated. Therefore, during the operation of circulating a predetermined processing solution in the processing solution tank body 32, When removing or mounting the processing rack 34, it is possible to prevent dust having a size of 30 μm or more that easily creates a scratch on the photosensitive material in a predetermined processing solution and causing damage to the surface of the photosensitive material, It is possible to maintain a stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[0084]
As shown in FIG. 1, in the processing liquid tank body 32, the processing liquid is ejected from the bottom surface of the sub tank 46 by the processing liquid circulation conduit 30. Since the sub-tank 46 has a small capacity, the processing liquid ejected from the bottom surface rises to the liquid level at a relatively high flow rate, and the liquid level is rippled and the renewal of the liquid level becomes intense. There is a case where the processing solution deteriorates severely.
[0085]
In such a case, the floating lid 54 is arranged so as to float on the liquid level of the sub-tank 46, and the liquid level prevents undulations and the opening ratio of the liquid level in the sub-tank 46 (area where the processing liquid is in contact with air). ) Is desirable.
[0086]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0087]
In the second embodiment, when the processing liquid is supplied from the sub tank 46 through the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D into the processing liquid tank body 32, the processing is performed from the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D, respectively. The amount of the processing liquid flowing into the liquid tank body 32 is configured to be more uniform.
[0088]
For this reason, the vertical flow path inside the sub tank 46 constituting a part of the processing liquid tank processing liquid circulation path is arranged in the horizontal direction of the flow path from the lower flow hole 48D vertically arranged to the upper flow hole 48A. The cross-sectional area is configured to gradually narrow.
[0089]
That is, the flow path from the lower flow hole 48D to the upper flow hole 48A in the sub tank 46 is formed in a right-angled triangle (a required curved surface corresponding to the state of the flow of the processing liquid and the pressure at each depth). May be formed).
[0090]
In order to form a right-angled triangular channel in this front view in the sub-tank 46, a reverse-right-triangular channel-forming member 56 is installed as shown in FIG. In addition, the wall which comprises the side surface of the sub tank 46 is slanted, and it is a right-angled triangle (it may be formed in a required curved surface according to the state of a process liquid flow, and the pressure in each depth) in front view. A flow path may be formed.
[0091]
By configuring the flow path in the sub-tank 46 in this way, the processing liquid ejected from the processing liquid circulation conduit 30 to the bottom of the sub-tank 46 flows at the flow velocity in the lower circulation hole 48D portion arranged vertically in the sub-tank 46. The flow rate is slow, and the air flows from the upper through hole 48A so as to increase the flow velocity.
[0092]
Thus, the processing liquid filled in the subtank 46 flows into the flow holes 48A, 48B, 48C and 48D from the upper part to the lower part in the vertical direction by the flow path formed in the subtank 46. It works to make the flow rate and flow rate more uniform.
[0093]
For this reason, for example, even when the opening areas of the respective circulation holes 48A, 48B, 48C and 48D are all the same area, the treatment liquid flowing into the treatment liquid tank body 32 from the respective circulation holes 48A, 48B, 48C and 48D, respectively. The amount can be set to be substantially uniform.
[0094]
In addition, in this way, the vertical flow path in the sub tank 46 is configured so that the horizontal cross-sectional area of the flow path gradually narrows from the vertically arranged lower flow hole 48D to the upper flow hole 48A. In addition, by combining the configurations of the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D, the cross-sectional areas of which are gradually reduced from the upper part to the lower part, the process of flowing into the processing liquid tank body 32 from the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D, respectively. The flow rate can be made uniform by setting to control the flow rate of the liquid more greatly.
[0095]
Since the configuration, operation, and effects of the second embodiment other than those described above are the same as those of the first embodiment described above, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0096]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0097]
In the third embodiment, the processing liquid tank treatment is performed so that the processing liquid is supplied directly from the processing liquid circulation pipe 30 to the flow holes 48A, 48B, 48C, and 48D without passing the sub tank 46 to the processing liquid tank body 32. This constitutes the liquid circulation path.
[0098]
For this reason, a plurality (five in this embodiment) of branch pipes 30A, 30B, 30C, 30D and 30E are integrally formed at the end of the treatment liquid circulation pipe 30. And the front-end | tip part of each branch pipe 30A, 30B, 30C, 30D, and 30E is integrally connected to each corresponding circulation hole 48A, 48B, 48C, and 48D, respectively.
[0099]
With this configuration, the processing liquid fed from the processing liquid circulation pipe 30 is fed directly from the branch pipes 30A, 30B, 30C, 30D, and 30E to the respective circulation holes 48A, 48B, 48C, and 48D. In the treatment liquid tank main body 32, the treatment liquid is averaged over the long range in the depth direction from the upper part to the lower part, and the treatment liquid is averaged at a flow rate and a flow rate. The temperature-adjusted processing liquid is distributed to every corner of the processing liquid tank main body 32 so as to be mixed uniformly with the processing liquid present in the processing liquid tank main body 32 as a whole.
[0100]
As described above, in order to make the flow rates of the processing liquid ejected from the respective flow holes 48A, 48B, 48C and 48D constant, the respective branch pipes 30A, 30B, 30C, 30D and 30E and the respective flow holes 48A connected thereto are provided. , 48B, 48C, and 48D, the cross-sectional shape (for example, circular opening, square opening, etc.) and the cross-sectional area of the through holes are set as appropriate.
[0101]
Since the configuration, operation, and effects of the third embodiment other than those described above are the same as those of the first embodiment described above, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0102]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0103]
Since the fourth embodiment constitutes a part of the processing liquid tank processing liquid circulation path, a flow for adjusting the flow state is formed in the vertical side wall 42 of the processing liquid tank main body 32 as a single through opening. The liquid opening 58 (flow hole) is configured.
[0104]
The flow opening 58 for adjusting the flow state is formed as an inverted triangular through opening that spreads from the bottom to the top in the vertical direction at the portion of the vertical side wall 42 that is immersed in the processing liquid.
[0105]
The flow opening 58 for adjusting the flow state is not limited to an inverted triangle, but may be an arbitrary width whose width in the horizontal direction of the flow opening 58 for adjusting the flow state gradually widens from bottom to top. The purified and heated temperature-adjusted processing liquid supplied into the sub-tank 46 by forming it into a shape or the like passes from the upper part to the lower part in the processing liquid tank body 32 through the flow liquid opening 58 for adjusting the flow state. The flow rate is equal to the flow velocity over a long range in the depth direction, and the flow rate is averaged to reach every corner in the treatment liquid tank body 32. To mix evenly.
[0106]
In order to do this, the front shape (for example, the shape of the opposite triangular side of the inverted triangle curved, the deformed oval shape) and the cross-sectional area of the flow opening 58 for adjusting the flow state are set as appropriate.
[0107]
Since the configuration, operation, and effects of the fourth embodiment other than those described above are the same as those of the first embodiment described above, the same members are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0108]
【The invention's effect】
In the processing apparatus of the photosensitive material of the present invention, the filter is disposed so as to purify the processing liquid stored in the processing liquid tank body, and is a long range in the depth direction from the upper part to the lower part of the vertical side wall of the processing liquid tank body. A sub-tank for storing the treatment liquid is installed in one piece, and a through hole is drilled over a predetermined portion from the upper part to the lower part of the vertical side wall immersed in the treatment liquid between the treatment liquid tank body and the sub tank. Or a plurality of flow holes penetrating through a plurality of positions from the upper part to the lower part of the vertical side wall, and the treatment liquid from the lower part of the treatment liquid stored in the treatment liquid tank body by the treatment liquid circulation pipeline system Is pulled out and fed into the sub tank, and the treatment liquid is averaged over a long range in the depth direction from the upper layer portion to the lower layer portion of the treatment liquid stored in the treatment liquid tank body through a plurality of flow holes. To send liquid Ri together uniformly mixing a treatment liquid tank treatment liquid that was in the body, the process liquid vessel process liquid stored in the main body is configured to be purified is passed through the filter. As a result, the processing liquid is sent on average from the sub tank side toward the processing liquid tank body over a long range in the depth direction from the upper part to the lower part of the vertical side wall between the sub tank and the processing liquid tank body. The processing liquid supplied into the sub-tank was spread to every corner of the main body of the processing liquid tank, and was mixed uniformly with the processing liquid existing in the main body of the processing liquid tank. Circulate the treatment liquid to every corner of the treatment liquid tank and circulate it so that it is evenly mixed, so that the temperature and component distribution of the whole treatment liquid is uniform, and there is no unevenness due to the uniform treatment liquid in the treatment liquid tank body. This has the effect of making it possible to maintain a stable processing performance of forming an image.
[0109]
In addition, the dust that easily scratches the photosensitive material floating in the processing liquid in the processing liquid tank main body descends to the bottom side along the flow of the processing liquid flowing so as to descend from the upper layer part to the lower layer part, It descends to the bottom side due to its own weight. And the dust which descend | falls to the bottom part side of the process liquid tank main body is capture | acquired when passing a filter. As a result, by removing enough dust that can easily scratch the photosensitive material from the processing solution, relatively large particles (micron order particles) floating in the processing solution stored in the processing solution tank body, etc. Is prevented from sinking to the bottom of the main body of the processing liquid tank and staying in a floatable state. In addition, dust that easily scratches the photosensitive material is trapped by the filter and does not float easily, so that dust rises into the processing solution in the processing solution tank body, causing damage to the surface of the photosensitive material. Therefore, there is an effect that it is possible to maintain stable processing performance of forming an image having no scratch on the photosensitive material.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an entire photosensitive material processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a processing liquid tank main body in the photosensitive material processing apparatus according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a main part perspective view showing a configuration of a processing tank main body on the sub tank side in the photosensitive material processing apparatus according to the first embodiment of the present invention;
FIG. 4 is an enlarged side view showing a main part of a frame of a processing rack in the photosensitive material processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a processing liquid tank main body in the photosensitive material processing apparatus according to the second embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a processing liquid tank main body in a photosensitive material processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic perspective view illustrating a configuration of a processing liquid tank body in a photosensitive material processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a processing liquid tank main body in a conventional photosensitive material processing apparatus.
[Explanation of symbols]
10 Printer processor
10N processor
10N1 Color development tank
10N2 bleach-fixing tank
30 Treatment liquid circulation line
30A branch pipe
32 Treatment liquid tank body
34 processing racks
36 Bottom
38 Auxiliary room
40 filters
42 Vertical side wall
46 Sub tank
50 pumps
51A Distribution hole (Distribution hole)
54 Float
56 Member for channel formation
58 Flow opening for adjusting the flow condition (flow hole)

Claims

A filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank body;
A sub-tank that circumscribes the vertical side wall of the processing liquid tank body and is formed to have a depth of 1/2 or more with respect to the depth of the processing liquid tank;
A plurality of through holes provided in a range extending up and down in the vertical side wall between the treatment liquid tank body and the sub tank;
The processing liquid is drawn from the lower layer of the processing liquid tank, passed through the filter and sent to the sub tank, and the processing liquid is averaged from the sub tank by passing through the plurality of through holes from the sub tank. A treatment liquid circulation path configured to flow into the treatment liquid tank and to mix the treatment liquid uniformly in the treatment liquid tank body,
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising:

A filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank body;
A sub-tank that circumscribes the vertical side wall of the processing liquid tank body and is formed to have a depth of 1/2 or more with respect to the depth of the processing liquid tank;
A plurality of through holes provided in a range extending up and down in the vertical side wall between the treatment liquid tank body and the sub tank;
A flow hole provided at a position corresponding to the flow hole formed in the vertical side wall of the processing liquid tank and facing the flow hole formed in the vertical side wall of the processing liquid tank;
The processing liquid is drawn from the lower layer of the processing liquid tank, passed through the filter and sent to the sub tank, and the processing liquid is averaged from the sub tank by passing through the plurality of through holes from the sub tank. A treatment liquid circulation path configured to flow into the treatment liquid tank and to mix the treatment liquid uniformly in the treatment liquid tank body,
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising:

3. The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein the cross-sectional areas of the plurality of flow holes are made smaller in order from the top to the bottom.

4. The flow path from the lower part to the upper part in the sub tank is configured such that a cross-sectional area of a horizontal cross section of the flow path is gradually narrowed. Photosensitive material processing equipment.

A filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank body;
A plurality of through holes provided in a range extending up and down in the vertical side wall between the treatment liquid tank body and the sub tank;
A branch pipe corresponding to each of the flow holes is provided, the treatment liquid is drawn from the lower layer of the treatment liquid tank, passed through the filter, and fed through the branch pipes corresponding to the plurality of flow holes. Then, by passing through the plurality of through holes, the treatment liquid is allowed to flow into the treatment liquid tank on average and is uniformly mixed in the treatment liquid tank body. Liquid circulation path,
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising:

A filter for purifying the processing liquid stored in the processing liquid tank body;
A sub-tank that circumscribes the vertical side wall of the processing liquid tank body and is formed to have a depth of 1/2 or more with respect to the depth of the processing liquid tank;
A through hole formed in the vertical side wall between the treatment liquid tank body and the sub tank penetrating in a slit shape and formed so that the horizontal width of the opening gradually widens from bottom to top,
The processing liquid is drawn out from the lower layer of the processing liquid tank, passed through the filter and sent to the sub tank, and the processing liquid is passed from the upper part of the sub tank to the lower part by passing through the slit-shaped flow hole. The treatment liquid tank treatment liquid circulation path so as to flow into the treatment liquid tank on average and to be uniformly mixed in the treatment liquid tank body,
An apparatus for processing a photosensitive material, comprising: