JP4362764B2 - Conductive paste and method of manufacturing wiring board using the same - Google Patents
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Description
この発明は、特にインナービアホール接続などを形成するのに適した導電ペーストと、それを用いたインナービアホール接続を有する配線板の製造方法とに関するものである。 The present invention relates to a conductive paste particularly suitable for forming an inner via hole connection and a method for manufacturing a wiring board having an inner via hole connection using the conductive paste.
両面配線板の表裏両面の回路を導電接続したり、多層配線板の各層の回路間を導電接続したりするために、従来は、配線板のもとになる絶縁基板に形成した微細な貫通孔の内周面をめっきして導電化するスルーホール接続が一般的であったが、近時、より簡易な接続として、絶縁基板に形成した貫通孔(ビアホール)に、印刷法によって導電ペーストを充てんしたのち、当該導電ペーストに含まれるバインダー樹脂を硬化させて導電接続のためのインナービアホール接続を形成する方法が広く普及しつつある。 In order to conduct conductive connection between the circuits on both sides of the double-sided wiring board, or between the circuits of each layer of the multilayer wiring board, conventionally, fine through holes formed in the insulating substrate that is the basis of the wiring board Through-hole connection, in which the inner peripheral surface of the metal plate is plated and made conductive, has recently been used as a simpler connection, and through holes (via holes) formed in an insulating substrate are filled with a conductive paste by a printing method. After that, a method of curing the binder resin contained in the conductive paste to form an inner via hole connection for conductive connection is becoming widespread.
かかるインナービアホール接続に用いる導電ペーストには、微細なビアホールへの充てん性を向上するために低粘度であることが求められる。またビアホールに導電ペーストを充てんし、硬化させて形成したインナービアホール接続にボイドが生じて抵抗値が上昇するのを防止する必要があることから、溶剤を含まない無溶剤型のものを用いるのが好ましいとされている。 The conductive paste used for such inner via hole connection is required to have a low viscosity in order to improve the fillability of fine via holes. In addition, since it is necessary to prevent the void from being generated in the inner via hole connection formed by filling the via hole with a conductive paste and curing it, it is necessary to use a solventless type that does not contain a solvent. It is preferred.
そしてこれらの条件を満たすために特許文献1においては、導電性フィラーと、バインダー樹脂としての、1分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基、およびカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であるとともに、エポキシ当量が100〜350である、比較的低分子量で、なおかつ低粘度の液状のエポキシ化合物とを含む無溶剤型の導電ペーストを用いてインナービアホール接続を形成することが提案されている。
ところが、上記従来の導電ペーストを用いて形成したインナービアホール接続は、特にフレキシブルプリント配線板などにおいて絶縁基板として多用されている、ポリイミド樹脂製のシートやフィルム、あるいは絶縁基板上に回路を形成するための、銅箔等の金属面に対する密着力が十分でなく、フレキシブルプリント配線板を曲折させた際などに、例えばインナービアホール接続が、まず貫通孔の内周面からはく離し、次いでフレキシブルプリント配線板に密着した回路からもはく離するなどして抵抗値が上昇するという問題がある。 However, the inner via-hole connection formed by using the conventional conductive paste is used to form a circuit on a polyimide resin sheet or film, or an insulating substrate, which is often used as an insulating substrate particularly in a flexible printed wiring board. When the flexible printed wiring board is bent, for example, the inner via hole connection is first peeled off from the inner peripheral surface of the through hole, and then the flexible printed wiring board. There is a problem that the resistance value rises due to peeling from the circuit closely contacting the substrate.
また従来の導電ペーストは、時間が立つと徐々にエポキシ樹脂が硬化して分子量が上昇し、それに伴って粘度も上昇するため、例えばスクリーン印刷機などに使用して連続印刷を行った際に、粘度上昇に伴って印刷特性が低下するという問題がある上、たとえ0℃以下で保存したとしても長期間の保存が難しいという問題もある。 In addition, the conventional conductive paste gradually cures the epoxy resin and increases the molecular weight with time, and the viscosity also increases accordingly.For example, when performing continuous printing using a screen printing machine, In addition to the problem that the printing characteristics decrease with increasing viscosity, there is also the problem that long-term storage is difficult even if stored at 0 ° C. or lower.
この発明の目的は、特にポリイミド樹脂製の絶縁基板や、その表面などに形成した回路の金属面に対する密着力に優れたインナービアホール接続などを形成できる上、経時変化による粘度上昇の度合いが小さいため、これまでよりも多数回の印刷において良好な印刷特性を維持できるとともに、これまでよりも長期間の保存が可能な新規な導電ペーストと、それを用いたインナービアホール接続を有する配線板の製造方法とを提供することにある。 The object of the present invention is to form an inner via-hole connection having excellent adhesion to a metal surface of a circuit formed on an insulating substrate made of polyimide resin or the surface thereof, etc. A novel conductive paste that can maintain good printing characteristics in many times of printing than before and can be stored for a longer period of time than before, and a method of manufacturing a wiring board having an inner via hole connection using the same And to provide.
請求項1記載の発明は、導電性フィラーと、エポキシ当量が5000以上、10000以下であるとともに、分子量が20000以上、70000以下であるエポキシ樹脂と、沸点が240℃以上、250℃以下である溶剤とを含むことを特徴とする導電ペーストである。
請求項2記載の発明は、請求項1の導電ペーストを、絶縁基板を貫通するビアホール中に充てんする工程と、1.3×102Pa以下の減圧雰囲気中で熱処理することによって溶剤を除去する工程とを経て、インナービアホール接続を形成することを特徴とする配線板の製造方法である。
The invention according to claim 1 is a conductive filler, an epoxy resin having an epoxy equivalent of 5000 or more and 10,000 or less, an epoxy resin having a molecular weight of 20000 or more and 70000 or less, and a solvent having a boiling point of 240 ° C. or more and 250 ° C. or less. Is a conductive paste characterized by containing.
According to a second aspect of the present invention, the solvent is removed by filling the conductive paste of the first aspect into a via hole penetrating the insulating substrate and heat-treating in a reduced pressure atmosphere of 1.3 × 10 2 Pa or less. The wiring board manufacturing method is characterized in that an inner via hole connection is formed through a process.
請求項3記載の発明は、減圧雰囲気中での熱処理を40〜80℃で行う請求項2記載の配線板の製造方法である。
請求項4記載の発明は、熱処理によって溶剤を除去した後、絶縁基板をプレスしながら加熱してエポキシ樹脂を硬化させる工程を含む請求項2記載の配線板の製造方法である。
請求項5記載の発明は、絶縁基板がポリイミド樹脂製である請求項2記載の配線板の製造方法である。
The invention according to claim 3 is the method for manufacturing a wiring board according to claim 2, wherein the heat treatment in a reduced-pressure atmosphere is performed at 40 to 80 ° C.
The invention according to claim 4 is the method for manufacturing a wiring board according to claim 2 , including a step of curing the epoxy resin by heating the insulating substrate while pressing after removing the solvent by heat treatment .
The invention according to claim 5 is the method for manufacturing a wiring board according to claim 2, wherein the insulating substrate is made of polyimide resin.
請求項1記載の発明の導電ペーストにおいてバインダー樹脂として用いている、エポキシ当量が5000以上、10000以下であるとともに、分子量が20000以上、70000以下である高分子量のエポキシ樹脂は、従来の、エポキシ当量が小さい上、低分子量のエポキシ化合物と比べて、絶縁基板の表面(ビアホールの内周面など)や、回路を形成する金属面との間で水素結合を形成する能力が高い。このため請求項1記載の発明の導電ペーストによれば、特に特許文献1で用いている繊維強化エポキシ樹脂製の絶縁基板などと比べて表面エネルギーが小さいことから、高い密着力が得られにくいポリイミド樹脂製の絶縁基板や、その表面などに形成した回路の金属面に対して、硬化後に、これまでよりも強固に密着したインナービアホール接続などを形成することが可能となる。また、上記のように回路の金属面に対する密着力が向上することから、上記導電ペーストによれば、特にインナービアホール接続の抵抗値をこれまでより低下させることも可能となる。 A high-molecular weight epoxy resin having an epoxy equivalent of 5000 or more and 10,000 or less and having a molecular weight of 20000 or more and 70000 or less is used as a binder resin in the conductive paste of the invention of claim 1. In addition, the ability to form a hydrogen bond between the surface of an insulating substrate (such as the inner peripheral surface of a via hole) and a metal surface forming a circuit is higher than that of a low molecular weight epoxy compound. For this reason, according to the conductive paste of the invention described in claim 1, since the surface energy is particularly small compared with the insulating substrate made of fiber reinforced epoxy resin used in Patent Document 1, it is difficult to obtain high adhesion. It is possible to form an inner via hole connection or the like that adheres more firmly than before to a resin insulating substrate or a metal surface of a circuit formed on the surface of the resin insulating substrate. Moreover, since the adhesive force with respect to the metal surface of a circuit improves as mentioned above, according to the said electrically conductive paste, especially the resistance value of an inner via-hole connection can also be reduced more than before.
また上記導電ペーストは、沸点が240℃以上、250℃以下という高沸点の溶剤に上記のエポキシ樹脂を溶解するとともに、導電性フィラーを分散して構成され、
・ エポキシ樹脂が高分子量であって、従来の低分子量のエポキシ化合物に比べて反応性が低いため、特に低温で自然に硬化反応しにくいことや、
・ エポキシ樹脂を溶剤に溶解してあるため、硬化反応がある程度、進行しても急激な粘度上昇を生じにくいこと、
・ 溶剤が高沸点であって蒸発しにくいため、かかる蒸発による粘度上昇を生じにくいこと、
等が相まって、連続印刷時や長期保存時における粘度上昇の度合いをこれまでよりも著しく小さくすることができる。このため請求項1記載の発明の導電ペーストは、これまでよりも長期間の保存が可能である上、かかる導電ペーストを用いれば、これまでよりも多数回の印刷において良好な印刷特性を維持することが可能となる。
Further, the conductive paste is constituted by dissolving the epoxy resin in a high boiling point solvent having a boiling point of 240 ° C. or higher and 250 ° C. or lower and dispersing a conductive filler,
・ The epoxy resin has a high molecular weight and is less reactive than conventional low molecular weight epoxy compounds.
-Since the epoxy resin is dissolved in the solvent, it is difficult for the viscosity to increase suddenly even if the curing reaction proceeds to some extent.
・ Since the solvent has a high boiling point and is difficult to evaporate, it is difficult for the viscosity to increase due to such evaporation.
As a result, the degree of increase in viscosity during continuous printing or long-term storage can be made significantly smaller than before. Therefore, the conductive paste according to the first aspect of the invention can be stored for a longer period of time than before, and if such a conductive paste is used, good printing characteristics can be maintained in many times of printing. It becomes possible.
また請求項2記載の発明によれば、上記請求項1記載の発明の導電ペーストをビアホール中に充てん後、減圧雰囲気中で加熱することによって高沸点の溶剤を除去しているため、当該溶剤の残留によってボイドが発生してインナービアホール接続の抵抗値が上昇するのを確実に防止することができる。 According to the invention of claim 2, since the high-boiling solvent is removed by filling the conductive paste of the invention of claim 1 into a via hole and then heating in a reduced pressure atmosphere, It is possible to reliably prevent a void from being generated due to the residual and an increase in the resistance value of the inner via hole connection.
なお減圧雰囲気中での熱処理は、エポキシ樹脂の硬化反応が進行するのを抑制しつつ高沸点の溶剤を速やかに蒸発させることによって、インナービアホール接続にボイドが発生するのをさらに確実に防止することを考慮すると、請求項3に記載したように40〜80℃で行うのが好ましい。また溶剤を除去した後は、請求項4に記載したように絶縁基板をプレスしながら加熱してエポキシ樹脂を硬化させることによってインナービアホール接続を形成することができる。さらに請求項5に記載したようにポリイミド樹脂製の絶縁基板を用いることによって、当該ポリイミド樹脂製の絶縁基板に対してこれまでよりも強固に密着したインナービアホール接続を形成することができる。 The heat treatment in a reduced pressure atmosphere more reliably prevents voids from being generated in the inner via hole connection by quickly evaporating the high boiling point solvent while suppressing the epoxy resin curing reaction from proceeding. If it considers, it is preferable to carry out at 40-80 degreeC as described in Claim 3. After removing the solvent, the inner via-hole connection can be formed by curing the epoxy resin by heating while pressing the insulating substrate as described in claim 4. Furthermore, by using an insulating substrate made of polyimide resin as described in claim 5, it is possible to form an inner via-hole connection that is more firmly adhered to the insulating substrate made of polyimide resin than ever before.
〈導電ペースト〉 <Conductive paste>
この発明の導電ペーストは、前記のように導電性フィラーと、エポキシ当量が5000以上、10000以下であるとともに、分子量が20000以上、70000以下であるエポキシ樹脂と、沸点が240℃以上、250℃以下である溶剤とを含むことを特徴とするものである。
(導電性フィラー)
As described above, the conductive paste of the present invention has a conductive filler, an epoxy equivalent of 5000 or more and 10,000 or less, an epoxy resin having a molecular weight of 20000 or more and 70000 or less, and a boiling point of 240 ° C. or more and 250 ° C. or less. It is characterized by including the solvent which is.
(Conductive filler)
このうち導電性フィラーとしては、良好な導電性を有し、導電ペースト用として従来公知の種々の導電性フィラーを用いることができる。かかる導電性フィラーとしては、これに限定されないが、例えばAu、Ag、Cu、Pt、Pd、Rb、Rh、Re等の導電性に優れた金属や、当該金属の2種以上の合金、当該金属と他の金属との合金等からなる球状、粒状、針状その他、種々の形状を有する粉末や、あるいは他の金属からなる球状、粒状、針状等の種々の形状を有する粉末の表面に、上記の導電性に優れた金属やその合金などを1層または2層以上、被覆した複合構造を有する粉末などを挙げることができる。 Among these, as a conductive filler, it has favorable electroconductivity and conventionally well-known various conductive fillers can be used for an electrically conductive paste. Examples of such conductive fillers include, but are not limited to, metals having excellent conductivity such as Au, Ag, Cu, Pt, Pd, Rb, Rh, and Re, two or more alloys of the metals, and the metals. On the surface of powders having various shapes such as spherical, granular, needle-like and other shapes made of an alloy of metal and other metals, or powders having various shapes such as spherical, granular and needle-like shapes made of other metals, Examples thereof include a powder having a composite structure in which one or more layers of the above-described metal having excellent conductivity or an alloy thereof are coated.
導電性フィラーの粒径については特に限定されないが、例えばインナービアホール接続用としては、良好な導電性を有するインナービアホール接続を形成することを考慮すると、その粒径を、ビアホールの内径の0.5〜20%とするのが好ましい。すなわち導電性フィラーの粒径がビアホールの内径の20%を超える場合には、印刷等によってビアホール内に導電ペーストを充てんして形成されるインナービアホール接続における、導電性フィラーの充てん率が低下して、その抵抗値が上昇するおそれがある。 The particle size of the conductive filler is not particularly limited. For example, for inner via hole connection, considering the formation of an inner via hole connection having good conductivity, the particle size is set to 0.5 mm of the inner diameter of the via hole. It is preferable to make it -20%. That is, when the particle size of the conductive filler exceeds 20% of the inner diameter of the via hole, the filling rate of the conductive filler in the inner via hole connection formed by filling the via hole with the conductive paste by printing or the like decreases. The resistance value may increase.
また逆に、導電性フィラーの粒径がビアホールの内径の0.5%未満では、充てん率は上昇するものの導電性フィラー間の接続抵抗が上昇するため、やはりインナービアホール接続の抵抗値が上昇するおそれがある上、相対的にエポキシ樹脂の充てん率が低下するため、インナービアホール接続の、特にポリイミド樹脂製の絶縁基板などに対する密着力が低下するおそれもある。 Conversely, when the particle size of the conductive filler is less than 0.5% of the inner diameter of the via hole, although the filling rate increases, the connection resistance between the conductive fillers increases, so the resistance value of the inner via hole connection also increases. In addition, since the filling rate of the epoxy resin is relatively lowered, there is a possibility that the adhesion of the inner via hole connection, particularly to the insulating substrate made of polyimide resin, may be lowered.
なお、充てん率を高めてインナービアホール接続の抵抗値をさらに低下させることを考慮すると、導電性フィラーの粒径は、上記の範囲内でも特に、ビアホールの内径の1%以上であるのが好ましく、1.5%以上であるのがさらに好ましい。また、導電性フィラー間の接続抵抗の上昇を抑えてインナービアホール接続の抵抗値をさらに低下させるとともに、インナービアホール接続の絶縁基板に対する密着力をより一層、向上することを考慮すると、導電性フィラーの粒径は、上記の範囲内でも特に、ビアホールの内径の10%以下であるのが好ましく、5%以下であるのがさらに好ましい。 In consideration of further decreasing the resistance value of the inner via hole connection by increasing the filling rate, the particle size of the conductive filler is preferably 1% or more of the inner diameter of the via hole, even within the above range, More preferably, it is 1.5% or more. In addition, the resistance value of the inner via hole connection is further reduced by suppressing an increase in the connection resistance between the conductive fillers, and the adhesive strength of the inner via hole connection to the insulating substrate is further improved. Even within the above range, the particle diameter is preferably 10% or less of the inner diameter of the via hole, more preferably 5% or less.
導電性フィラーの配合割合についても限定されないが、特にポリイミド樹脂製の絶縁基板と組み合わせた際に、インナービアホール接続などの抵抗値が上昇するのを防止しつつ、絶縁基板に対する密着力を向上することを考慮すると、当該導電性フィラーの配合割合は、エポキシ樹脂100重量部に対して800〜2300重量部とするのが好ましい。すなわち導電性フィラーの配合割合が、エポキシ樹脂100重量部に対して800重量部未満では、当該導電性フィラーによる導電性付与の効果が低下するため、インナービアホール接続などの抵抗値が上昇するおそれがあり、逆に2300重量部を超える場合には、相対的にエポキシ樹脂の割合が低下するため、インナービアホール接続などの、特にポリイミド樹脂製の絶縁基板などに対する密着力が低下するおそれがある。 The blending ratio of the conductive filler is not limited, but especially when combined with an insulating substrate made of polyimide resin, the adhesion value to the insulating substrate is improved while preventing the resistance value such as inner via hole connection from increasing. In consideration of the above, the blending ratio of the conductive filler is preferably 800 to 2300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. That is, if the blending ratio of the conductive filler is less than 800 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, the effect of imparting conductivity by the conductive filler is reduced, so that the resistance value such as inner via hole connection may increase. On the other hand, when the amount exceeds 2300 parts by weight, the proportion of the epoxy resin is relatively reduced, so that there is a possibility that the adhesion to an insulating substrate made of polyimide resin, such as inner via hole connection, may be reduced.
なお、インナービアホール接続などの抵抗値をさらに低下させることを考慮すると、導電性フィラーの配合割合は、上記の範囲内でも特に、エポキシ樹脂100重量部に対して900重量部以上であるのが好ましく、950重量部以上であるのがさらに好ましい。またインナービアホール接続などの、絶縁基板に対する密着力をより一層、向上することを考慮すると、導電性フィラーの配合割合は、上記の範囲内でも特に、エポキシ樹脂100重量部に対して2100重量部以下であるのが好ましく、2000重量部以下であるのがさらに好ましい。
(エポキシ樹脂)
In consideration of further reducing the resistance value of the inner via hole connection or the like, the blending ratio of the conductive filler is preferably 900 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, even within the above range. More preferably, it is 950 parts by weight or more. In consideration of further improving the adhesion to the insulating substrate such as inner via hole connection, the blending ratio of the conductive filler is 2100 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, even within the above range. It is preferable that it is 2000 parts by weight or less.
(Epoxy resin)
エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型、フェノール型、クレゾール型、ノボラック型、グリシジルエーテル型、グリシジルエステル型、グリシジルアミン型、複素環式型等の、種々のグレードのエポキシ樹脂の中から、硬化性を有し、かつエポキシ当量が5000以上、10000以下であるとともに、分子量が20000以上、70000以下であるものを、選択して使用する必要がある。 Examples of the epoxy resin include various grades such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol AD type, phenol type, cresol type, novolac type, glycidyl ether type, glycidyl ester type, glycidyl amine type, and heterocyclic type. Among epoxy resins, it is necessary to select and use one having curability and having an epoxy equivalent of 5000 or more and 10,000 or less and a molecular weight of 20000 or more and 70000 or less .
エポキシ樹脂のエポキシ当量が5000未満では、前述した、絶縁基板の表面(ビアホールの内周面など)や、銅箔等の金属面との間で水素結合を形成する能力が不足するため、特にポリイミド樹脂製の絶縁基板や、その表面などに形成した回路の金属面に対して密着力に優れたインナービアホール接続などを形成できないという問題がある。 When the epoxy equivalent of the epoxy resin is less than 5000 , the ability to form a hydrogen bond between the surface of the insulating substrate (such as the inner peripheral surface of the via hole) and the metal surface such as copper foil is insufficient. There is a problem in that an inner via hole connection having excellent adhesion cannot be formed on a resin insulating substrate or a metal surface of a circuit formed on the surface thereof .
また分子量が20000未満では反応性が高くなって、低温で自然に硬化反応しやすくなるため、連続印刷時や長期保存時における粘度上昇の度合いが大きくなる。そして、保存できる期間が短くなったり、良好な印刷特性を維持できる印刷回数が少なくなったりするという問題を生じる。Further, when the molecular weight is less than 20000, the reactivity becomes high and the curing reaction is likely to occur naturally at a low temperature, so that the degree of increase in viscosity during continuous printing or long-term storage increases. And the problem that the period which can be preserve | saved becomes short or the frequency | count of printing which can maintain a favorable printing characteristic reduces arises.
但し、エポキシ樹脂のエポキシ当量が余りに大きすぎると反応性が低くなって、硬化時間が長くなる等の弊害を生じるおそれがあるため、エポキシ当量は、上記の範囲内でも10000以下である必要があり、特に9000以下であるのがさらに好ましい。 However, if the epoxy equivalent of the epoxy resin is too large, the reactivity becomes low and there is a risk of causing adverse effects such as a long curing time. Therefore, the epoxy equivalent needs to be not more than 10,000 even within the above range. In particular, it is more preferably 9000 or less.
また反応性を抑えて、低温で自然に硬化反応するのをより確実に防止することを考慮すると、エポキシ樹脂の分子量は、上記の範囲内でも特に40000以上であるのがさらに好ましい。但し、エポキシ樹脂の分子量があまりに大きすぎると、溶剤に対する溶解性が低下して粘度が均一な導電ペーストを形成できなかったり、形成できたとしても粘度が高くなりすぎたりするおそれがある。そしてこれらの問題を解消するために溶剤の量を多くすると、その全量を速やかに除去するのが容易でなくなるため、インナービアホール接続にボイドが生じて抵抗値が上昇するおそれもある。そこでこれらの問題が生じるのを防止することを考慮すると、エポキシ樹脂の分子量は、上記の範囲内でも70000以下である必要があり、特に60000以下であるのがさらに好ましい。 Further by suppressing the reactivity, considering that to more reliably prevent the curing reaction spontaneously at a low temperature, the molecular weight of the epoxy resin, and even more preferably at JP four 0000 or even within the above range. However, if the molecular weight of the epoxy resin is too large, the solubility in a solvent may be reduced, and a conductive paste having a uniform viscosity may not be formed, or even if formed, the viscosity may be too high. If the amount of the solvent is increased in order to solve these problems, it is not easy to remove the entire amount promptly, so that a void may be generated in the inner via hole connection and the resistance value may be increased. Therefore, in consideration of preventing these problems from occurring, the molecular weight of the epoxy resin needs to be 70000 or less even in the above range, and more preferably 60000 or less.
これらの条件を満足するエポキシ樹脂の具体例としては、これに限定されないが例えば、ジャパンエポキシレジン(株)製のエピコート(登録商標)シリーズのうち下記のものなどを挙げることができる。
・ エピコート1256(ビスフェノールA型、エポキシ当量7000〜8500、分子量53000)
・ エピコート4250(ビスフェノールA/F混合型、エポキシ当量7000〜10000、分子量60000)
・ エピコート4275(ビスフェノールA/F混合型、エポキシ当量7000〜10000、分子量60000)
(溶剤)
Specific examples of the epoxy resin that satisfies these conditions include, but are not limited to, the following, for example, among the Epicoat (registered trademark) series manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
Epicoat 1256 (bisphenol A type, epoxy equivalent 7000-8500, molecular weight 53000 )
· Epikote 4250 (bisphenol A / F mixed type, epoxy equivalent 7,000 to 10,000, molecular weight 60000)
Epicoat 4275 (bisphenol A / F mixed type, epoxy equivalent of 7000 to 10,000, molecular weight of 60000)
(solvent)
上記導電性フィラー、およびエポキシ樹脂とともに導電ペーストを構成するための溶剤としては、エポキシ樹脂を均一に溶解しうるとともに、常圧すなわち1atm(=1.01325×105Pa)での沸点が、前記のように240℃以上、250℃以下であるものを、選択して用いる必要がある。 As a solvent for constituting a conductive paste together with the conductive filler and the epoxy resin, the epoxy resin can be uniformly dissolved, and the boiling point at normal pressure, that is, 1 atm (= 1.01325 × 10 5 Pa) is Thus, it is necessary to select and use one having a temperature of 240 ° C. or higher and 250 ° C. or lower .
沸点が240℃未満の溶剤は、連続印刷時や長期保存時に蒸発しやすいため、導電ペーストの粘度上昇を生じやすいという問題がある。 Since the solvent having a boiling point of less than 240 ° C. is likely to evaporate during continuous printing or long-term storage, there is a problem that the viscosity of the conductive paste is likely to increase .
また沸点が250℃を超える溶剤は蒸発が容易でないため、たとえ後述するように減圧雰囲気中で加熱しても、その全量を速やかに除去することができず、残留した溶剤によってボイドが生じて、インナービアホール接続などの抵抗値が上昇するという問題がある。In addition, since the solvent having a boiling point exceeding 250 ° C. is not easily evaporated, even when heated in a reduced pressure atmosphere as described later, the entire amount cannot be removed quickly, and voids are generated by the remaining solvent, There is a problem that the resistance value of the inner via hole connection increases.
かかる高沸点の溶剤としては、例えばジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点246.8℃)などを挙げることができる。
(添加剤)
As such a high-boiling solvent, and the like di ethylene glycol monobutyl ether acetate For example (boiling point 246.8 ° C.).
(Additive)
添加剤としては、エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤を挙げることができ、硬化剤としては、アミン系、ポリアミノアミド系、酸および酸無水物系その他、従来公知の硬化剤の中から、前述した高分子量のエポキシ樹脂を硬化し得る種々の硬化剤を、選択して使用することができる。硬化剤の添加量は、エポキシ樹脂のエポキシキの当量に合わせて適宜、設定すればよい。 Examples of the additive include a curing agent for curing the epoxy resin. Examples of the curing agent include amine-based, polyaminoamide-based, acid and acid anhydride-based, and other conventionally known curing agents. Various curing agents capable of curing the high molecular weight epoxy resin can be selected and used. What is necessary is just to set the addition amount of a hardening | curing agent suitably according to the equivalent of the epoxy of an epoxy resin.
その他の添加剤としては、例えばエポキシ樹脂と、導電性フィラーや回路の金属面との密着力をさらに向上させるためのカップリング剤などを挙げることができる。
(導電ペースト)
Examples of other additives include a coupling agent for further improving the adhesion between the epoxy resin and the conductive filler or the metal surface of the circuit.
(Conductive paste)
上記の各成分を含む導電ペーストの粘度は、採用する印刷方法などに応じた好適な範囲に設定すればよい。例えばスクリーン印刷法では、導電ペーストの初期の粘度(測定温度25℃)を100Pa・s以下、好ましくは50〜90Pa・s程度に設定すればよく、そのためには溶剤の量を調整すればよい。
〈配線板の製造方法〉
What is necessary is just to set the viscosity of the electrically conductive paste containing said each component to the suitable range according to the printing method etc. to employ | adopt. For example, in the screen printing method, the initial viscosity (measurement temperature: 25 ° C.) of the conductive paste may be set to 100 Pa · s or less, preferably about 50 to 90 Pa · s. For this purpose, the amount of the solvent may be adjusted.
< Manufacturing method of wiring board >
上記導電ペーストを用いたこの発明の配線板の製造方法においては、まず従来同様に導電ペーストを、スクリーン印刷法などの印刷方法によって、絶縁基板を貫通するビアホール中に充てんする。 In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention using the conductive paste, first, the conductive paste is filled into a via hole penetrating the insulating substrate by a printing method such as a screen printing method as in the prior art.
次に、上記絶縁基板を減圧雰囲気中で熱処理して、ビアホール中に充てんした導電ペーストから溶剤を除去する。この際の減圧条件を、この発明では1.3×102Pa以下に設定する必要がある。減圧条件が1.3×102Paを超える場合には、溶剤を効率よく除去することができない。また、溶剤をできるだけ効率よく除去するために、熱処理の温度を高くしたり、時間を長くしたりすることが考えられるが、そうした場合にはエポキシ樹脂が部分的に硬化反応してしまって、却って溶剤を除去するのが難しくなる場合がある。そして、残留した溶剤によって、硬化工程を経て形成したインナービアホール接続にボイドが発生して、抵抗値が上昇するという問題を生じる。 Next, the insulating substrate is heat-treated in a reduced-pressure atmosphere to remove the solvent from the conductive paste filled in the via hole. The decompression condition at this time needs to be set to 1.3 × 10 2 Pa or less in the present invention. When the depressurization condition exceeds 1.3 × 10 2 Pa, the solvent cannot be removed efficiently. In order to remove the solvent as efficiently as possible, it is possible to increase the temperature of the heat treatment or lengthen the time. In such a case, however, the epoxy resin partially undergoes a curing reaction. It may be difficult to remove the solvent. The remaining solvent causes a problem that voids are generated in the inner via hole connection formed through the curing process and the resistance value is increased.
その他の条件については特に限定されないが、熱処理の温度は40〜80℃であるのが好ましい。熱処理の温度が40℃未満では溶剤を効率よく除去できないおそれがあり、またできるだけ溶剤を除去するために処理の時間を長くすると、エポキシ樹脂が部分的に硬化反応してしまうおそれがある。一方、熱処理の温度が80℃を超える場合にも、エポキシ樹脂が部分的に硬化反応してしまうおそれがある。このためこのいずれの場合にも、上記と同様に却って溶剤を除去するのが難しくなり、残留した溶剤によって、硬化工程を経て形成したインナービアホール接続にボイドが発生して、抵抗値が上昇するおそれがある。なお、溶剤をできるだけ効率よく除去することを考慮すると、熱処理の温度は、上記の範囲内でも特に50℃以上であるのが好ましく、60℃以上であるのがさらに好ましい。 Although it does not specifically limit about other conditions, It is preferable that the temperature of heat processing is 40-80 degreeC. If the temperature of the heat treatment is less than 40 ° C., the solvent may not be efficiently removed, and if the treatment time is increased in order to remove the solvent as much as possible, the epoxy resin may partially undergo a curing reaction. On the other hand, when the temperature of the heat treatment exceeds 80 ° C., the epoxy resin may partially undergo a curing reaction. Therefore, in any of these cases, it is difficult to remove the solvent in the same manner as described above, and the residual solvent may cause voids in the inner via hole connection formed through the curing process, thereby increasing the resistance value. There is. In consideration of removing the solvent as efficiently as possible, the temperature of the heat treatment is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 60 ° C. or higher, even within the above range.
また、エポキシ樹脂の部分的な硬化反応が進行するのを防止するとともに、処理の効率を向上しつつ、溶剤をできるだけ除去することを考慮すると、熱処理の時間は1時間以内、特に20〜40分間程度であるのが好ましい。 Moreover, considering that the partial curing reaction of the epoxy resin proceeds and removing the solvent as much as possible while improving the efficiency of the treatment, the heat treatment time is within 1 hour, particularly 20 to 40 minutes. It is preferable that it is about.
次に、絶縁基板が、その片面に銅箔等の金属箔を積層したいわゆる銅貼り基板である場合は反対面に金属箔、もしくは同様の銅貼り積層板の金属箔側を積層する。また絶縁基板が、両面に金属箔を積層していない生の絶縁基板である場合はその両面に金属箔、もしくは銅貼り積層板の金属箔側を積層する。また各金属箔には、必要に応じて、上記の積層作業を行う前後の任意の段階で、エッチングなどを行って回路形成してもよい。 Next, when the insulating substrate is a so-called copper-clad substrate in which a metal foil such as a copper foil is laminated on one surface, the metal foil or the metal foil side of a similar copper-clad laminate is laminated on the opposite surface. When the insulating substrate is a raw insulating substrate in which metal foil is not laminated on both sides, the metal foil or the metal foil side of the copper-clad laminate is laminated on both sides. Moreover, you may form a circuit in each metal foil by etching etc. in the arbitrary steps before and after performing said lamination | stacking operation | work as needed.
そしてこの積層作業と回路形成作業とを、多層配線板の場合は必要な層数分、繰り返し行って積層体を作製し、この積層体を、次にプレスしながら加熱すると、エポキシ樹脂が硬化してインナービアホール接続が形成され、配線板が製造される。なお多層配線板や単層の配線板の、最表面の金属箔への回路形成は、プレス加工後に行っても良い。 Then, this lamination operation and circuit formation operation are repeated for the required number of layers in the case of a multilayer wiring board to produce a laminate, and this laminate is then heated while pressing to cure the epoxy resin. IVH connection are formed, wiring board Ru manufactured Te. The circuit formation on the outermost metal foil of the multilayer wiring board or single-layer wiring board may be performed after the press working.
かくして製造された配線板において、インナービアホール接続は、前記のようにボイド等がない上、前述したエポキシ樹脂の特性によって、絶縁基板のビアホールの内周面、および金属箔から形成した回路の金属面に対する密着力に優れたものとなる。このためフレキシブルプリント配線板の場合に、当該フレキシブルプリント配線板を曲折させた際などに、インナービアホール接続が上記両面からはく離するなどして抵抗値が上昇するのを、これまでよりも確実に防止することが可能となる。また、上記のように回路の金属面に対する密着力が向上することから、インナービアホール接続の抵抗値をこれまでより低下させることも可能となる。 In the wiring board thus manufactured, the inner via hole connection has no voids as described above, and the inner peripheral surface of the via hole of the insulating substrate and the metal surface of the circuit formed from the metal foil due to the characteristics of the epoxy resin described above. It has excellent adhesion to the surface. For this reason, in the case of a flexible printed wiring board, when the flexible printed wiring board is bent, the resistance value rises more reliably than before, for example, the inner via hole connection is peeled off from both sides. It becomes possible to do. In addition, since the adhesion to the metal surface of the circuit is improved as described above, the resistance value of the inner via hole connection can be further reduced.
なおこの発明の構成は、以上で説明した例のものには限定されない。例えば導電ペーストは、インナービアホール接続の形成用には限定されず、例えば300μm幅以上の回路形成用や、ジャンパ線用、貫通スルーホール用等に使用することもできる。その他、この発明の要旨を変更しない範囲で、適宜の変更を施すことができる。 The configuration of the present invention is not limited to the example described above. For example, the conductive paste is not limited to the formation of the inner via hole connection, and can be used, for example, for forming a circuit having a width of 300 μm or more, for a jumper line, or for a through-through hole. In addition, appropriate changes can be made without departing from the scope of the present invention.
以下にこの発明を、実施例、比較例に基づいて説明する。
実施例1
(導電ペースト(i)の調製)
The present invention will be described below based on examples and comparative examples.
Example 1
(Preparation of conductive paste (i))
導電性フィラーとしての銀粉〔福田金属箔粉工業(株)製のAg−cL〕、エポキシ樹脂〔ジャパンエポキシレジン(株)製のエピコート1256、ビスフェノールA型、エポキシ当量7000〜8500、分子量53000〕、硬化剤〔旭化成エポキシ(株)製のノバキュア(登録商標)HX3941〕、シランカップリング剤〔信越化学工業(株)製のKBM403〕、および溶剤としてのジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点246.8℃、「DGMBEA」と略記する)を、下記の割合で混合し、三本ロール式混合機で混練して導電ペースト(i)を調製した。なお、銀粉とエポキシ樹脂の体積比は50:50とした。また導電ペースト(i)の、調製直後の粘度(測定温度25℃)は、60Pa・sであった。
(成分) (重量部)
・銀粉 970
・エポキシ樹脂 100
・硬化剤 1
・シランカップリング剤 5
・DGMBEA 200
(配線板の製造)
Silver powder [Ag-cL made by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.] as an electrically conductive filler, epoxy resin [Epicoat 1256 made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., bisphenol A type, epoxy equivalent 7000-8500, molecular weight 53000], Curing agent [NOVACURE (registered trademark) HX3941 manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.], silane coupling agent [KBM403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.], and diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point: 246.8 ° C., solvent) (Abbreviated as “DGMBEA”) was mixed at the following ratio, and kneaded with a three-roll mixer to prepare a conductive paste (i). The volume ratio of silver powder to epoxy resin was 50:50. Further, the viscosity (measurement temperature: 25 ° C.) of the conductive paste (i) immediately after preparation was 60 Pa · s.
(Ingredients) (Parts by weight)
・ Silver powder 970
・ Epoxy resin 100
・ Curing agent 1
・ Silane coupling agent 5
・ DGMBEA 200
( Manufacture of wiring boards )
ポリイミド樹脂製のシート(厚み25μm)の片面に銅箔(厚み12μm)を積層した銅貼り積層板を用意し、この銅貼り積層板のうちポリイミド樹脂製のシートに、銅箔を積層した側と反対面から、銅箔に達するビアホール(内径100μm)を多数、貫通、形成した。 Prepare a copper-clad laminate in which a copper foil (thickness 12 μm) is laminated on one side of a polyimide resin sheet (thickness 25 μm), and laminate the copper foil on the polyimide resin sheet of the copper-clad laminate; A number of via holes (inner diameter 100 μm) reaching the copper foil were penetrated and formed from the opposite surface.
次に、これらのビアホールに、上記で調製した導電ペースト(i)を、スクリーン印刷法によって充てんしたのち、銅貼り積層板を1.3×102Pa以下の減圧雰囲気中で、70℃に加熱して30分間、熱処理した。そして熱処理後の銅貼り積層板のうちポリイミド樹脂製のシートの、銅箔を積層した側と反対面に、同じ銅貼り積層板の銅箔側を積層して積層体を作製し、この積層体を、3.9MPaの圧力でプレスしながら200℃で30分間、加熱してエポキシ樹脂を硬化させることでインナービアホール接続を形成して配線板を製造した。形成したインナービアホール接続の抵抗値を四端子法で測定したところ、1個あたり10.0mΩであった。
(はく離強度の評価)
Next, after filling the via holes with the conductive paste (i) prepared above by screen printing, the copper-clad laminate was heated to 70 ° C. in a reduced pressure atmosphere of 1.3 × 10 2 Pa or less. Then, heat treatment was performed for 30 minutes. And the laminated body is produced by laminating the copper foil side of the same copper-clad laminate on the opposite surface of the polyimide resin sheet to the side laminated with the copper foil of the copper-clad laminate after the heat treatment. This was heated at 200 ° C. for 30 minutes while being pressed at a pressure of 3.9 MPa to cure the epoxy resin, thereby forming an inner via hole connection and manufacturing a wiring board . When the resistance value of the formed inner via hole connection was measured by the four probe method, it was 10.0 mΩ per piece.
(Evaluation of peel strength)
導電ペースト(i)を、ポリイミド樹脂製のシート(厚み25μm)の片面に塗布したのち、上記と同条件で、減圧雰囲気中で熱処理した。そして熱処理後の導電ペースト層の上に同じポリイミド樹脂製のシートを積層して積層体を作製し、この積層体を、上記と同条件でプレスしながら200℃で30分間、加熱してエポキシ樹脂を硬化させてはく離強度評価用のサンプルを作製した。そしてこのサンプルについて、日本工業規格JIS C5016に所載の方法に準拠して180°はく離強度を測定したところ、193.0N/mであった。
(繰り返し印刷特性試験)
The conductive paste (i) was applied to one side of a polyimide resin sheet (thickness 25 μm) and then heat-treated in a reduced-pressure atmosphere under the same conditions as described above. Then, the same polyimide resin sheet is laminated on the conductive paste layer after the heat treatment to produce a laminate, and this laminate is heated at 200 ° C. for 30 minutes while being pressed under the same conditions as described above. Was cured to prepare a sample for evaluation of peel strength. And about this sample, when the 180 degree peeling strength was measured based on the method described in Japanese Industrial Standard JIS C5016, it was 193.0 N / m.
(Repeated printing characteristics test)
導電ペースト(i)を、スクリーン印刷法によって、前記と同じ銅貼り積層板に形成した多数のビアホールに充てんする作業を連続して1000回、行ったのち印刷機上の導電ペースト(i)の粘度(測定温度25℃)を測定したところ63Pa・sであった。
(長期保存安定性試験)
The viscosity of the conductive paste (i) on the printing machine after conducting the work of continuously filling the conductive paste (i) in a large number of via holes formed on the same copper-clad laminate as described above by screen printing, 1000 times. It was 63 Pa · s when measured (measurement temperature 25 ° C.).
(Long-term storage stability test)
導電ペースト(i)を半透明の容器中に入れ、容器を密閉した状態で、定期的に容器外部から流動性を確認しながら、−5℃以下の温度で保存したところ1年以上、導電ペースト(i)は流動性を失わなかった。そこで導電ペースト(i)を容器から取り出して粘度(測定温度25℃)を測定したところ65Pa・sであった。 When the conductive paste (i) is placed in a translucent container and the container is hermetically sealed, it is stored at a temperature of −5 ° C. or lower while periodically checking the fluidity from the outside of the container. (i) did not lose its liquidity. Therefore, when the conductive paste (i) was taken out of the container and the viscosity (measurement temperature 25 ° C.) was measured, it was 65 Pa · s.
実施例2
(配線板の製造)
Example 2
( Manufacture of wiring boards )
導電ペースト(i)を使用し、減圧雰囲気中での熱処理を省略したこと以外は実施例1と同様にしてインナービアホール接続を形成して配線板を製造した。形成したインナービアホール接続の抵抗値を四端子法で測定したところ、1個あたり13.0mΩであった。そしてこの結果と、前記実施例1の結果から、減圧雰囲気中での熱処理を行って導電ペースト(i)中の溶剤を除去して、インナービアホール接続にボイドが発生するのを防止すると、インナービアホール接続の抵抗値を低下できることが判った。
(はく離強度の評価)
A wiring board was manufactured by forming an inner via hole connection in the same manner as in Example 1 except that the conductive paste (i) was used and the heat treatment in a reduced pressure atmosphere was omitted. When the resistance value of the formed inner via hole connection was measured by the four probe method, it was 13.0 mΩ per piece. Then, from this result and the result of Example 1, when the heat treatment in a reduced pressure atmosphere is performed to remove the solvent in the conductive paste (i) to prevent voids from being formed in the inner via hole connection, It was found that the resistance value of the connection can be lowered.
(Evaluation of peel strength)
導電ペースト(i)を使用し、減圧雰囲気中での熱処理を省略したこと以外は実施例1と同様にしてはく離強度評価用のサンプルを作製した。そしてこのサンプルについて、日本工業規格JIS C5016に所載の方法に準拠して180°はく離強度を測定したところ、180.0N/mであった。そしてこの結果と、前記実施例1の結果から、減圧雰囲気中での熱処理を行って導電ペースト(i)中の溶剤を除去して、ボイドが発生するのを防止すると、硬化後のインナービアホール接続の密着力を向上できることが判った。 A sample for peeling strength evaluation was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive paste (i) was used and the heat treatment in a reduced pressure atmosphere was omitted. And about this sample, when the 180 degree peel strength was measured based on the method described in Japanese Industrial Standard JIS C5016, it was 180.0 N / m. Then, from this result and the result of Example 1, when the heat treatment in a reduced pressure atmosphere is performed to remove the solvent in the conductive paste (i) to prevent the generation of voids, the cured inner via hole connection It was found that the adhesion strength of can be improved.
比較例1
(導電ペースト(ii)の調製)
Comparative Example 1
(Preparation of conductive paste (ii))
導電性フィラーとしての銀粉〔福田金属箔粉工業(株)製のAg−cL〕、液状エポキシ樹脂〔ジャパンエポキシレジン(株)製のエピコート828、ビスフェノールA型、エポキシ当量184〜194、分子量380〕、硬化剤〔旭化成エポキシ(株)製のノバキュア(登録商標)HX3941〕、シランカップリング剤〔信越化学工業(株)製のKBM403〕、および溶剤としてのジメチルアセトアミド(沸点165℃)を、下記の割合で混合し、三本ロール式混合機で混練して導電ペースト(ii)を調製した。なお、銀粉とエポキシ樹脂の体積比は50:50とした。また導電ペースト(ii)の調製直後の粘度(測定温度25℃)は、162Pa・sであった。
(成分) (重量部)
・銀粉 1180
・エポキシ樹脂 100
・硬化剤 25
・シランカップリング剤 5
・ジメチルアセトアミド 40
Silver powder as conductive filler [Ag-cL manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.], liquid epoxy resin [Epicoat 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., bisphenol A type, epoxy equivalents 184 to 194, molecular weight 380] A curing agent [Novacure (registered trademark) HX3941 manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.], a silane coupling agent [KBM403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.], and dimethylacetamide (boiling point 165 ° C.) as a solvent The mixture was mixed at a ratio and kneaded with a three-roll mixer to prepare a conductive paste (ii). The volume ratio of silver powder to epoxy resin was 50:50. The viscosity (measurement temperature: 25 ° C.) immediately after preparation of the conductive paste (ii) was 162 Pa · s.
(Ingredients) (Parts by weight)
・ Silver powder 1180
・ Epoxy resin 100
・ Curing agent 25
・ Silane coupling agent 5
・ Dimethylacetamide 40
なお、この導電ペースト(ii)は、特許文献1に記載のものを再現すべく、当該特許文献1の実施例5で提示された液状エポキシ樹脂を使用したものであるが、無溶剤では混練できなかったため低沸点の溶剤を少量、加えた。また、特許文献1では導電性フィラーとして銅粉末を使用していたが、比較例1では、抵抗値測定の際に導電性フィラーの違いによる差が生じるのを防止するために銀粉末を用いた。
(配線板の製造)
This conductive paste (ii) uses the liquid epoxy resin presented in Example 5 of Patent Document 1 to reproduce the one described in Patent Document 1, but it can be kneaded without a solvent. A small amount of low boiling point solvent was added. In Patent Document 1, copper powder was used as the conductive filler. However, in Comparative Example 1, silver powder was used to prevent a difference due to the difference in the conductive filler during resistance value measurement. .
( Manufacture of wiring boards )
導電ペースト(ii)を用いたこと以外は実施例2と同様にしてインナービアホール接続を形成して配線板を製造した。形成したインナービアホール接続の抵抗値を四端子法で測定したところ、1個あたり29.0mΩであった。そしてこの結果と、前記実施例1、2の結果から、比較例1で使用した従来のエポキシ樹脂を、実施例1、2で使用した高分子量のエポキシ樹脂に置き換えることによって、インナービアホール接続の、回路の金属面に対する密着力を向上させて、その抵抗値を低下できることが判った。
(はく離強度の評価)
An inner via hole connection was formed in the same manner as in Example 2 except that the conductive paste (ii) was used to manufacture a wiring board . When the resistance value of the formed inner via hole connection was measured by the four probe method, it was 29.0 mΩ per piece. And from this result and the results of Examples 1 and 2, replacing the conventional epoxy resin used in Comparative Example 1 with the high molecular weight epoxy resin used in Examples 1 and 2, the inner via hole connection, It has been found that the resistance can be lowered by improving the adhesion of the circuit to the metal surface.
(Evaluation of peel strength)
導電ペースト(ii)を用いたこと以外は実施例2と同様にしてはく離強度評価用のサンプルを作製した。そしてこのサンプルについて、日本工業規格JIS C5016に所載の方法に準拠して180°はく離強度を測定したところ、6.0N/mであった。そしてこの結果と、前記実施例1、2の結果から、比較例1で使用した従来のエポキシ樹脂を、実施例1、2で使用した高分子量のエポキシ樹脂に置き換えることによって、インナービアホール接続の、回路の金属面に対する密着力を向上できることが判った。
(繰り返し印刷特性試験)
A sample for peel strength evaluation was prepared in the same manner as in Example 2 except that the conductive paste (ii) was used. And about this sample, when the 180 degree peel strength was measured based on the method described in Japanese Industrial Standard JIS C5016, it was 6.0 N / m. And from this result and the results of Examples 1 and 2, replacing the conventional epoxy resin used in Comparative Example 1 with the high molecular weight epoxy resin used in Examples 1 and 2, the inner via hole connection, It was found that the adhesion to the metal surface of the circuit can be improved.
(Repeated printing characteristics test)
導電ペースト(ii)を、スクリーン印刷法によって、前記と同じ銅貼り積層板に形成した多数のビアホールに充てんする作業を連続して1000回、行ったのち印刷機上の導電ペースト(ii)の粘度(測定温度25℃)を測定したところ430Pa・sであった。そしてこの結果と、前記実施例1の結果から、比較例1で使用した従来のエポキシ樹脂を、実施例1、2で使用した高分子量のエポキシ樹脂に置き換えることによって、より多数回の印刷において良好な印刷特性を維持しうる導電ペーストが得られることが判った。
(長期保存安定性試験)
The viscosity of the conductive paste (ii) on the printing machine after conducting the work of continuously filling the conductive paste (ii) into a large number of via holes formed in the same copper-clad laminate as described above by screen printing, 1000 times. It was 430 Pa * s when (measurement temperature 25 degreeC) was measured. And from this result and the result of Example 1, the conventional epoxy resin used in Comparative Example 1 is replaced with the high molecular weight epoxy resin used in Examples 1 and 2 to improve the number of times of printing. It was found that a conductive paste capable of maintaining excellent printing characteristics can be obtained.
(Long-term storage stability test)
導電ペースト(ii)を半透明の容器中に入れ、容器を密閉した状態で、定期的に容器外部から流動性を確認しながら、−5℃以下の温度で保存したところ、導電ペースト(ii)は2ヶ月で流動性を失ってしまった。そしてこの結果と、前記実施例1の結果から比較例1で使用した従来のエポキシ樹脂を、実施例1、2で使用した高分子量のエポキシ樹脂に置き換えることによって、より長期間の保存が可能な導電ペーストが得られることが判った。 The conductive paste (ii) was placed in a translucent container, and when the container was sealed, it was stored at a temperature of −5 ° C. or lower while periodically checking the fluidity from the outside of the container. The conductive paste (ii) Lost its liquidity in two months. And by replacing the conventional epoxy resin used in Comparative Example 1 with the high molecular weight epoxy resin used in Examples 1 and 2 based on this result and the result of Example 1, it can be stored for a longer period of time. It was found that a conductive paste was obtained.
比較例2
(配線板の製造)
Comparative Example 2
( Manufacture of wiring boards )
導電ペースト(ii)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてインナービアホール接続を形成して配線板を製造した。形成したインナービアホール接続の抵抗値を四端子法で測定したところ、1個あたり23.0mΩであった。そしてこの結果と、前記実施例1、2、比較例1の結果から、従来のエポキシ樹脂を用いた導電ペースト(ii)を使用した場合には、減圧雰囲気下で熱処理して溶剤を除去しても、導電ペースト(i)を使用した場合ほど、インナービアホール接続の抵抗値を低下できないことが判った。
(はく離強度の評価)
An inner via hole connection was formed in the same manner as in Example 1 except that the conductive paste (ii) was used to manufacture a wiring board . When the resistance value of the formed inner via hole connection was measured by the four probe method, it was 23.0 mΩ per piece. From this result and the results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, when the conductive paste (ii) using the conventional epoxy resin was used, the solvent was removed by heat treatment in a reduced pressure atmosphere. However, it was found that the resistance value of the inner via hole connection cannot be lowered as much as the conductive paste (i) is used.
(Evaluation of peel strength)
導電ペースト(ii)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてはく離強度評価用のサンプルを作製した。そしてこのサンプルについて、日本工業規格JIS C5016に所載の方法に準拠して180°はく離強度を測定したところ、7.5N/mであった。そしてこの結果と、前記実施例1、2、比較例1の結果から、従来のエポキシ樹脂を用いた導電ペースト(ii)を使用した場合には、減圧雰囲気下で熱処理して溶剤を除去しても、導電ペースト(i)を使用した場合ほど、インナービアホール接続の、回路の金属面に対する密着力を向上できないことが判った。 A sample for peeling strength evaluation was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive paste (ii) was used. And about this sample, when the 180 degree peel strength was measured based on the method described in Japanese Industrial Standard JIS C5016, it was 7.5 N / m. From this result and the results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, when the conductive paste (ii) using the conventional epoxy resin was used, the solvent was removed by heat treatment in a reduced pressure atmosphere. However, it was found that the adhesion of the inner via hole connection to the metal surface of the circuit could not be improved as much as the conductive paste (i) was used.
以上の結果を表1にまとめた。
*2:ジャパンエポキシレジン(株)製のエピコート828、ビスフェノールA型、エポキシ当量184〜194、分子量380
The above results are summarized in Table 1.
* 2: Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epicoat 828, bisphenol A type, epoxy equivalent 184-194, molecular weight 380
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