JP4369107B2 - Glass substrate heat treatment equipment - Google Patents
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- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ガラス基板用熱処理装置に関し、例えば、液晶パネル用のガラス基板や、同液晶パネルに取付けられるカラーフィルター用のガラス基板の焼成や乾燥などに用いられる熱処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、配向膜や偏向膜が形成された液晶ディスプレイ(LCD)用のガラス基板Bや同LCDに用いられるカラーフィルター(CF)用のガラス基板Bなどの焼成や乾燥に用いる電子具品用の熱処理装置として、図10に示すような熱の放射伝導を利用した遠赤外線放射加熱方式の熱処理装置Xがあった(特許文献1参照。)。
【0003】
上記熱処理装置Xにおいては、内周面に断熱材(図示せず)を貼設した箱型の炉本体101を設けて、同炉本体101の内部に、赤外線放射板111により面状ヒータ112を両側から挟んで形成した面状ヒータ複合体を、炉本体101の側壁101aから所定の間隔を空けて立設していた。
【0004】
また、かかる立設した面状ヒータ複合体を縦面状ヒータ1 02とすると、対向する左右側の縦面状ヒータ102,102の一方には給気孔103を、他方には排気孔104を複数穿設しており、かかる給・排気孔103,104と方向が対応するように、前記炉本体101の対向する左右側壁101a,101aの一方には給気口105を、他方には排気口106を設けていた。
【0005】
また、対向する左右側の縦面状ヒータ102,102には、それぞれ前後方向に伸延する正面視コ字状のヒータ支持体107を多段に配設して、同ヒータ支持体107によって、水平に寝かせた状態の面状ヒータ複合体(以下、横面状ヒータ10 8という)を挿脱自在に支持し、各横面状ヒータ108,108間にガラス基板加熱空間tを形成していた。
【0006】
さらに、各ガラス基板加熱空間tにおいては、ガラス基板Bを水平に支持するための石英管109を前後方向に伸延させて、同石英管109を横面状ヒータ108の上方に配設した石英管支持体110により支持していた。
【0007】
そして、上記構成よりなる熱処理装置Xにおいては、給・排気口105,106、及び給・排気孔103,104を介して炉本体101の内部の空気を少量ずつ入れ換えて、ガラス基板Bからの揮発性塵類を排出しつつ、各ガラス基板加熱空間t内のガラス基板Bを加熱処理していた。
【0008】
【特許文献1】
実用新案登録第3066387号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の熱処理装置においては、炉本体の内部に横面状ヒータを多段に設けているため、最上段や最下段の横面状ヒータのように、片側方向にしか他の横面状ヒータが位置しない横面状ヒータにおいては、両側方向に他の横面状ヒータが位置する横面状ヒータに比べて熱が逃げやすく、温度が上昇しにくくかった。
【0010】
そのため、炉本体内部の温度分布にむらが生じてしまい、最上段や最下段の横面状ヒータの近傍に位置するガラス基板加熱空間においては、他のガラス基板加熱空間に比べて内部に収容されたガラス基板を十分に加熱することができず、ガラス基板の品質にばらつきが生じてしまっていた。
【0011】
そこで、温度が上昇しにくい最下段や最上段や最下段の横面状ヒータに関しては、最初から面状ヒータの温度を高く設定することも考えられるが、制御回路が複雑になるとともに、消費電力も増加するので、コストがかかってしまう。従って、低コストで最上段や最下段の横面状ヒータの温度を他の面状ヒータと同様に上昇させることができる熱処理装置が望まれていた。
【0012】
【課題を解決するための手段】
そこで、請求項1記載の本発明では、炉体内部に面状ヒータを多段に設けたガラス基板用熱処理装置において、最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に、放熱を防止するために面状ヒータからの熱を内部に蓄積できるように一端開口の箱状に形成した放熱防止用被覆体を設けた。
【0013】
また、請求項2記載の本発明では、前記放熱防止用被覆体は、断熱性素材から形成した。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明は、炉体内部に面状ヒータを多段に設けたガラス基板用熱処理装置において、最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に、放熱を防止するために面状ヒータからの熱を内部に蓄積できるように一端開口の箱状に形成した放熱防止用被覆体を設けたものである。
【0017】
すなわち、炉体内部に面状ヒータを多段に設けた場合には、最上段や最下段の面状ヒータが他の面状ヒータに比べて温度が上昇しにくく、炉体内部の温度分布にむらが生じてしまうので、最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に対して面状ヒータからの放熱を防止するために面状ヒータからの熱を内部に蓄積できるように一端開口の箱状に形成した放熱防止用被覆体を配設し、面状ヒータから熱が逃げないようにするのである。
【0018】
このように、面状ヒータからの放熱を防止することにより、最上段や最下段の面状ヒータも他の面状ヒータと同様に温度を上昇させることができ、炉体内部の温度分布にむらが生じるのを防止することができる。特に温度が上昇しにくい最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に設けることによって、効率よく最上段や最下段の面状ヒータ全体の温度を上昇させることができると共に、最上段や最下段の面状ヒータにおける温度分布のむらを防止することができる。従って、炉体内部に収容された全てのガラス基板を、特に最上段や最下段の面状ヒータの近傍に位置するガラス基板の一側面全体も均一に加熱して、温度差による品質のばらつき(温度差によるガラス基板の撓みや歪み)を防止することができ、効率よく歩留まりを向上させることができる。また、面状ヒータからの熱を効率よく放熱防止用被覆体の内部に蓄積することができ、面状ヒータの温度を一層効率よく上昇させることができる。しかも、単純な構造なので、コストをかけることなく簡単に機能性の高い放熱防止用被覆体を設けることができる。
【0019】
なお、本熱処理装置の熱処理対象となるガラス基板は、液晶ディスプレイ(LCD)やLCD用のカラーフィルター(CF)などであり、本熱処理装置は、かかる電子部品用途のものを熱処理する場合に好適に用いることができる。また、面状ヒータとしては、例えば遠赤外線を放射する面状ヒータを用いる。
【0021】
また、前記放熱防止用被覆体は、断熱性素材により形成すれば、面状ヒータからの熱を効率よく遮断して外方に逃げないようにすることができ、放熱防止用被覆体の厚みを薄くしたり、形状をコンパクトにしたりすることが可能となる。
【0023】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を、図面を参照しながら説明する。
【0024】
図1は、本発明に係るガラス基板用熱処理装置の一実施例としての焼成炉Aの正面断面図であり、図示するように、本実施例における焼成炉Aでは、箱型に形成した炉本体1の内周面に断熱材(図示せず)を貼設し、しかも、同炉本体1の内部に炉本体1の側壁1aから所定の間隔を空けて面状ヒータを立設している。
【0025】
かかる立設させた面状ヒータを縦面状ヒータ2とすると、対向する左右側の縦面状ヒータ2,2の一方には給気孔3を、他方には排気孔4を複数穿設しており、かかる給・排気孔3,4と方向が対応するように、前記炉本体1の対向する左右側壁1a,1aの一方には給気口5を、他方には排気口6を設けている。
【0026】
また、上記左右側の縦面状ヒータ2,2には、それぞれ前後方向に伸延するレール状のヒータ支持体7を多段に配設し、同ヒータ支持体7によって、水平に寝かせた状態の面状ヒータ(以下、横面状ヒータ8という)を挿脱自在に支持し、各横面状ヒータ8,8間にガラス基板加熱空間Tを形成している。なお、図示するように、各ガラス基板加熱空間Tには、前記縦面状ヒータ2に穿設した給・排気口5,6がそれぞれ開口している。
【0027】
さらに、各ガラス基板加熱空間Tにおいては、ガラス基板Bを水平に支持するための石英管を前後方向に伸延させており、同石英管は、横面状ヒータの上方に配設した石英管支持体により支持している。なお、石英管と石英管支持体の構造は、前記図10に示すものと同様であり、図1では図示を省略している。
【0028】
本実施例における焼成炉Aは上記構成からなり、ここで、本発明の要旨ともなる横面状ヒータ8からの放熱を防止する放熱防止用被覆体25についてさらに詳説する。
【0029】
図1〜図3に示すように、放熱防止用被覆体25は、ステンレスを下端開口の箱状に形成したものであり、最上段に設けた横面状ヒータ8の外側面四隅にそれぞれ配置している。各放熱防止用被覆体25の下端開口縁には、最上段の横面状ヒータ8の外側面に沿ってフランジ状に伸延させた取付部25aを形成しており、同取付部25aをボルト26で横面状ヒータ8に固定している。
【0030】
このように、本実施例では、最上段の横面状ヒータ8に放熱防止用被覆体25を設けているので、下方にしか他の横面状ヒータ8が存在しておらず、上下両側を別の横面状ヒータ8によって挟まれた横面状ヒータ8と比べて温度が上昇しにくい最上段の横面状ヒータ8においても、放熱を防いで他の横面状ヒータ8と同様に温度を上昇させることができる。そして、炉本体1の内部の温度分布にむらが生じるのを防止して、炉本体1の内部に収容された全てのガラス基板Bを均一に加熱し、温度差によってガラス基板Bの品質にばらつきが生じるのを防止することができる。
【0031】
特に、本実施例では、放熱防止用被覆体25を下端開口の箱状に形成しているので、横面状ヒータ8からの熱を効率よく放熱防止用被覆体25の内部に蓄積して、横面状ヒータ8の温度を効率よく上昇させることができる。しかも、単純な構造なので、例えば既存のガラス基板熱処理用装置に対しても、上記放熱防止用被覆体25を低コストで且つ簡単に付設することができる。
【0032】
また、本実施例では、放熱防止用被覆体25は、横面状ヒータ8の四隅に設けているが、これは、図4に示すように、横面状ヒータ8を1〜30の部位に分けた場合、四隅となる1、5、26、30の部位が他の部位と比べて温度が上昇しにくいからであり、本実施例のように、最上段の横面状ヒータ8において、四隅からの放熱を重点的に防止した場合には、効率よく最上段の横面状ヒータ8の温度を上昇させることができると共に、最上段の横面状ヒータ8における温度分布のむらを防止することができる。
【0033】
また、本実施例では、前述の通り放熱防止用被覆体25をステンレスにより形成しているが、放熱防止用被覆体25の素材としてはこれに限らない。例えば耐熱性樹脂のような断熱性のある素材で放熱防止用被覆体25を形成すれば、横面状ヒータ8からの熱を効率よく遮断して外方に逃げないようにすることができ、放熱防止用被覆体25の厚みを薄くしたり、形状をコンパクトにしたりすることが可能となる。
【0034】
さらに、本実施例では、最上段の横面状ヒータ8にのみ放熱防止用被覆体25を設けているが、これに限らず、放熱防止用被覆体25は、最上段の横面状ヒータ8と同じく温度が上昇しにくい最下段の横面状ヒータ8にも設けることができる。そして、最上段の横面状ヒータ8と最下段の横面状ヒータ8とのどちらか一方にのみ、或いは両方に放熱防止用被覆体25を設けることができる。
【0035】
ところで、本実施例では、上述した構成以外にも、その他の構成として横面状ヒータ8のスライド・収容構造を設けている。横面状ヒータ8のスライド・収容構造とは、すなわち、横面状ヒータ8と、同横面状ヒータ8を支持するヒータ支持体7との構造のことであり、以下においてかかる横面状ヒータ8とヒータ支持体7との構造を詳説する。
【0036】
なお、横面状ヒータ8は、炉本体1の内部への挿入時に最初に挿入される側を先端部8a、他端側を後端部8bとし、ヒータ支持体7は、横面状ヒータ8を炉本体1の内部に収容したときに同横面状ヒータ8の先端部8aを支持する側を奥側部7a、他端側を前側部7bとして説明する。
【0037】
横面状ヒータ8は、図7、図8に示すように、矩形板状に形成した面状ヒータ24を、同じく矩形板状に形成した上下2枚の赤外線放射板23,23によって両側から挟むと共に、かかる面状ヒータ24及び両赤外線放射板23,23の周縁部を断面視略コ字状のヒータ固定枠11で共に挟んでボルト12で固定することにより、単一の横面状ヒータ8となしている。
【0038】
また、横面状ヒータ8の先端側左右端部には、後述するヒータ支持体7のヒータ支持面7c上をスライド可能なステンレス製のヒータ側転動輪13をそれぞれ取り付けている。
【0039】
すなわち、図7、図8に示すように、断面視略コ字状である前記ヒータ固定枠11の縦片部11aに、ヒータ側転動輪13をステンレス製の回転軸14を介して回転自在に取り付けており、しかも、かかるヒータ側転動輪13の底部を横面状ヒータ8の下端よりも下方に位置させている。なお、ヒータ側転動輪13は、ヒータ支持体7との摩擦や焼き付きを確実に防止すべく、耐熱性樹脂により形成してもよい。
【0040】
ヒータ支持体7は、ステンレス製であり、図7、図8に示すように、縦面状ヒータ2の内側面に当接する第1縦片部7dと、同第1縦片部7dの下端から炉本体1の中央方向に向かって水平に突出する横片部7eと、同横片部7eの突出先端から下方に向かって垂直に垂下する第2縦片部7fとから正面視段状に形成すると共に、第1縦片部7dをボルト15で固定することにより縦面状ヒータ2に取り付けている。そして、前記横片部7eの上面を、実際に横面状ヒータ8と当接して同横面状ヒータ8を支持するヒータ支持面7cとしている。
【0041】
また、ヒータ支持体7の前側部7bには、矩形板状の転動輪取付片16を前記第2縦片部7fと平行となるように横片部7eに垂設して、同転動輪取付片1 6と第2縦片部7fとの間に上記横面状ヒータ8を案内可能なステンレス製の支持体側転動輪17を軸架している。なお、支持体側転動輪17は、横面状ヒータ8との摩擦や焼き付きを確実に防止すべく、耐熱性樹脂により形成してもよい。図中、18は支持体側転動輪17との焼き付きを防止すべく耐熱性樹脂により形成したカラー、19は一端に把持部19aを設けたステンレス製の回転軸である。
【0042】
図5、図6に示すように、前記支持体側転動輪17の回転軸19は、上記転動輪取付片16と第2縦片部7fとにそれぞれ設けられた側面視略門状の軸受け孔20に係止される。すなわち、前記支持体側転動輪17の回転軸19は、略門状を成す軸受け孔20の2つの縦孔部20a,20cのどちらかに係止されるとともに、両縦孔部20a,20cを連絡する横孔部20bを介して両縦孔部20a,20c間を自由に移動可能である。
【0043】
しかも、両縦孔部20a,20cは、一方(ここでは前側の縦孔部)が他方(ここでは奥側の縦孔部)よりも下方に長く伸延していて段違いになっており、より長い縦孔部を下段縦孔部20a、他方を上段縦孔部20cとすると、前記支持体側転動輪17は、その回転軸19を下段縦孔部20 aと上段縦孔部20cとのどちらに係止するかによって上下位置が変わることとなる。かかる構成により、本実施例では、支持体側転動輪17を上下に自在に移動できるようにしている。
【0044】
特に、支持体側転動輪17の直上方となるヒータ支持体7の横片部7eは開口させており、回転軸19を上段縦孔部20cに係止したときには、支持体側転動輪17の頂部がヒータ支持面7cよりも上方に位置し、回転軸19を下段縦孔部20aに係止したときには、支持体側転動輪17の頂部がヒータ支持面7cよりも下方に位置するようにしている。
【0045】
このとき、軸受け孔20を設けた転動輪取付片16と第2縦片部7fとは、支持体側転動輪17の回転軸19を上下移動自在に支持する輪支持部21として作動し、簡単な構成でありながら確実に支持体側転動輪17を上下に移動させることができる。しかも、簡単な構成であるが故に、破損しにくく、且つ低コストで設けることができる。
【0046】
また、ヒータ支持体7の奥側部7aには、横片部7eの幅員の第1縦片部7d側を奥側部7aに向かって下方に傾斜させて、ヒータ側転動輪13を沈降状態に収納するための転動輪収納凹部22を設けている。
【0047】
そして、本実施例では、横面状ヒータ8のスライド・収容構造を上述したような構造としたことにより、横面状ヒータ8は、以下のようにして炉本体1の内部に挿脱され(スライドされ)、載置される(収容される)。
【0048】
すなわち、横面状ヒータ8を炉本体1の内部に挿入するときには、図5に示すように、まず、支持体側転動輪17の回転軸19を軸受け孔20の上段縦孔部20cに係止して、図7(a)に示すように、支持体側転動輪17の頂部をヒータ支持体7のヒータ支持面7cよりも上方に突出させる。そして、図8(a)に示すように、ヒータ側転動輪13をヒータ支持体7のヒータ支持面7c上に載置すると共に、図7(a)に示すように、前記支持体側転動輪17の頂部に横面状ヒータ8の下面を当接させて、図9(a)に示すように、両転動輪13,17を転動させつつ横面状ヒータ8を炉本体1の内部へ挿入する。
【0049】
このとき、横面状ヒータ8は両転動輪13,17の転動によって炉本体1の内部へと繰り出されるので、横面状ヒータ8の重量が大きかったとしても、大きな抵抗を受けることなく円滑に横面状ヒータ8を炉本体1の内部へ挿入することができる。
【0050】
そして、横面状ヒータ8が炉本体1の内部へ深く挿入されて、ヒータ側転動輪13がヒータ支持体7の転動輪収納凹部22まで行き着くと、ヒータ側転動輪13は転動輪収納凹部22の傾斜面22aに沿って転動しながら次第に下降し、最終的には、図8(b)に示すように、これまでヒータ側転動輪13によってヒータ支持面7cの上方に持ち上げられていた横面状ヒータ8の先端部8aが、ヒータ支持面7cに当接する。
【0051】
このように、ヒータ側転動輪13が転動輪収納凹部22に沈降状態に収容されたら、次に、支持体側転動輪17の回転軸19を軸受け孔20の上段縦孔部20cから下段縦孔部20aへと移動させて、図7(b)に示すように、支持体側転動輪17の頂部をヒータ支持体7のヒータ支持面7cよりも下方に沈降させる。これにより、図7(b)、図8(b)、図9(b)に示すように、横面状ヒータ8の下面をヒータ支持体7のヒータ支持面7cにぴったりと密着させて、横面状ヒータ8を炉本体1の内部に収容・載置することができる。
【0052】
しかも、前述の如く、横面状ヒータ8の下面とヒータ支持体7のヒータ支持面7cとの間には隙間が発生していないので、各横面状ヒータ8,8間に形成されるガラス基板加熱空間T同士の間で、空気の流通がほとんど生じず、各ガラス基板加熱空間Tにおける温度分布にむらが生じるのを防止することができる。
【0053】
なお、図6に示すような収容状態にある横面状ヒータ8を炉本体1の内部から引き出す場合には、軸受け孔20の下段縦孔部20aに係止されている支持体側転動輪17の回転軸19を上段縦孔部20cへと移動させて、図7(a)に示すように、再び支持体側転動輪17の頂部をヒータ支持体7のヒータ支持面7cよりも上方に突出させると共に、ヒータ支持体7の転動輪収納凹部22に沈降状態に収容されているヒータ側転動輪13を、横面状ヒータ8を引き出しながら転動輪収納凹部22の傾斜面22aに沿って転動させて、次第に転動輪収納凹部22の外部に上昇させる。
【0054】
そして、図8(a)に示すように、ヒータ側転動輪13をヒータ支持体7のヒータ支持面7c上に載置すると共に、図7(a)に示すように、前記支持体側転動輪17の頂部に横面状ヒータ8の下面を当接させて、図9(a)に示すように、両転動輪13,17の転動によって横面状ヒータ8を炉本体1の外部へと繰り出すのである。
【0055】
このときも、前記横面状ヒータ8の挿入時と同様に、横面状ヒータ8の重量が大きかったとしても、大きな抵抗を受けることなく円滑に横面状ヒータ8を炉本体1の外部へ引き出すことができる。
【0056】
なお、図7に示すように、支持体側転動輪17とそのカラー1 8とはある程度の接触面積を有するので、既に焼成炉Aを作動させたことがあり、炉本体1の内部を加熱したことがある場合には、炉本体1の内部から横面状ヒータ8を引き出そうとしても、支持体側転動輪17とカラー18とが焼き付いていて、支持体側転動輪17を転動できないおそれがある。しかし、本実施例では、前述したように、焼き付きを防止すべく支持体側転動輪17のカラー18を耐熱性樹脂製としているので、例え炉本体1の内部を加熱した後であったとしても、支持体側転動輪17を円滑に転動させることができる。
【0057】
【発明の効果】
本発明は、上記してきた態様で実施されるものであり、下記の効果を奏する。
【0058】
(1)請求項1記載の本発明では、炉体内部に面状ヒータを多段に設けたガラス基板用熱処理装置において、最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータに、放熱を防止するための放熱防止用被覆体を設けたので、他の面状ヒータと比べて温度が上昇しにくい最上段や最下段の面状ヒータも、他の面状ヒータと同様に温度を上昇させることができ、炉体内部の温度分布にむらが生じるのを防止することができる。従って、炉体内部に収容された全てのガラス基板を均一に加熱して、温度差による品質のばらつきを防止することができ、歩留まりを向上させることができる。
【0059】
(2)請求項2記載の本発明では、前記放熱防止用被覆体は、最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に設けたので、特に温度が上昇しにくい面状ヒータの四隅からの放熱を効果的に防止して、効率よく最上段や最下段の面状ヒータ全体の温度を上昇させることができると共に、最上段や最下段の面状ヒータにおける温度分布のむらを防止することができる。従って、最上段や最下段の面状ヒータの近傍に位置するガラス基板の一側面全体を均一に加熱して、温度差によるガラス基板の撓みや歪みを防ぐことができ、効率よく歩留まりを向上させることができる。
【0060】
(3)請求項3記載の本発明では、前記放熱防止用被覆体は、断熱性素材から形成したので、面状ヒータからの熱を効率よく遮断して外方に逃げないようにすることができ、放熱防止用被覆体の厚みを薄くしたり、形状をコンパクトにしたりすることが可能となる。
【0061】
(4)請求項4記載の本発明では、前記放熱防止用被覆体は、下端開口の箱状に形成したので、面状ヒータからの熱を効率よく放熱防止用被覆体の内部に蓄積することができ、面状ヒータの温度を一層効率よく上昇させることができる。しかも、単純な構造なので、コストをかけることなく簡単に機能性の高い放熱防止用被覆体を設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるガラス基板用熱処理装置の一実施例としての焼成炉の正面断面図である。
【図2】放熱防止用被覆体を示す正面断面視による説明図である。
【図3】放熱防止用被覆体の取付位置を示す斜視による説明図である。
【図4】横面状ヒータの各部位を示す説明図である。
【図5】本発明にかかるガラス基板用熱処理装置の一実施例としての焼成炉におけるヒータのスライド状態を示す図であり、(a)は側面視による全体説明図、(b)はiの拡大説明図、(c)はiiの拡大説明図である。
【図6】同焼成炉におけるヒータの収容状態を示す図であり、(a)は側面視による全体説明図、(b)はiiiの拡大説明図、(c)はivの拡大説明図である。
【図7】同焼成炉におけるヒータのスライド・収容状態を示す図であり、(a)はI−I線における断面説明図、(b)はIII−III線における断面説明図である。
【図8】同焼成炉におけるヒータのスライド・収容状態を示す図であり、(a)はII−II線における断面説明図、(b)はIV−IV線における断面説明図である。
【図9】ヒータの側面視による説明図であり、(a)はスライド状態を示す側面視による模式図、(b)は収容状態を示す側面視による模式図である。
【図10】従来のガラス基板用熱処理装置の正面断面図である。
【符号の説明】
A 焼成炉
B ガラス基板
T ガラス基板加熱空間
1 炉本体
25 放熱防止用被覆体[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a heat treatment apparatus for glass substrates, for example, to a heat treatment apparatus used for firing or drying a glass substrate for a liquid crystal panel or a glass substrate for a color filter attached to the liquid crystal panel.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, heat treatment for electronic components used for baking and drying of a glass substrate B for liquid crystal display (LCD) on which an alignment film and a deflection film are formed and a glass substrate B for color filter (CF) used in the LCD. As an apparatus, there was a far-infrared radiant heating type heat treatment apparatus X using radiant heat conduction as shown in FIG. 10 (see Patent Document 1).
[0003]
In the heat treatment apparatus X, a box-
[0004]
Further, when such a vertical heater complex is a
[0005]
In addition, the
[0006]
Further, in each glass substrate heating space t, a
[0007]
In the heat treatment apparatus X having the above-described configuration, the air inside the furnace
[0008]
[Patent Document 1]
Utility Model Registration No. 30663387 [0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above conventional heat treatment apparatus, since the horizontal heaters are provided in multiple stages inside the furnace main body, other horizontal surface shapes can be formed only in one direction, such as the uppermost and lowermost horizontal heaters. In a horizontal heater in which no heater is located, heat is more likely to escape and the temperature is less likely to rise than in a horizontal heater in which other horizontal heaters are located in both directions.
[0010]
Therefore, the temperature distribution inside the furnace body is uneven, and the glass substrate heating space located near the uppermost and lowermost horizontal heaters is housed inside compared to other glass substrate heating spaces. The glass substrate could not be heated sufficiently, resulting in variations in the quality of the glass substrate.
[0011]
Therefore, for the bottom, top and bottom horizontal heaters, where the temperature does not rise easily, it may be possible to set the temperature of the planar heater higher from the beginning, but the control circuit becomes complicated and the power consumption increases. Will also increase the cost. Accordingly, there has been a demand for a heat treatment apparatus that can raise the temperature of the uppermost and lowermost horizontal sheet heaters in the same manner as other sheet heaters at low cost.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
Therefore, in the present invention according to claim 1, in the heat treatment apparatus for glass substrates in which the planar heaters are provided in multiple stages in the furnace body, heat is dissipated at the four corners of the outer surface of the planar heater provided at the uppermost stage and / or the lowermost stage. In order to prevent this, a heat-radiation-preventing covering body formed in a box shape with one end opening is provided so that heat from the planar heater can be accumulated inside .
[0013]
Moreover, in this invention of
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention provides a glass substrate heat treatment apparatus in which a planar heater inside the furnace body in multiple stages, the outer surface corners of the uppermost and / or a planar heater provided at the bottom, planar in order to prevent heat dissipation It is provided with a heat radiation preventing covering formed in a box shape with one end opening so that heat from the heater can be accumulated inside .
[0017]
That is, when the planar heaters are provided in multiple stages in the furnace body, the uppermost and lowermost planar heaters are less likely to rise in temperature than other planar heaters, and the temperature distribution inside the furnace body is uneven. So that heat from the planar heater can be stored inside the four corners of the outer surface of the planar heater provided at the uppermost and / or lowermost stage to prevent heat dissipation from the planar heater. A heat-radiation-preventing covering formed in a box shape with one end opening is provided so that heat does not escape from the planar heater.
[0018]
Thus, by preventing heat dissipation from the planar heater, the uppermost and lowermost planar heaters can increase the temperature in the same manner as other planar heaters, and the temperature distribution in the furnace body is uneven. Can be prevented from occurring. In particular, by providing at the four corners of the outer surface of the planar heater provided at the uppermost and / or lowermost stages, the temperature of the entire uppermost and lowermost planar heaters can be increased efficiently, It is possible to prevent uneven temperature distribution in the uppermost and lowermost planar heaters. Therefore, all the glass substrates accommodated in the furnace body are heated evenly over the entire side surface of the glass substrate , particularly in the vicinity of the uppermost and lowermost planar heaters, and quality variations due to temperature differences ( The glass substrate can be prevented from being bent or distorted due to the temperature difference, and the yield can be improved efficiently . Further, the heat from the planar heater can be efficiently accumulated inside the heat dissipation preventing covering, and the temperature of the planar heater can be increased more efficiently. In addition, since the structure is simple, it is possible to easily provide a highly functional covering for preventing heat dissipation without incurring costs.
[0019]
The glass substrate to be heat-treated by this heat treatment apparatus is a liquid crystal display (LCD), a color filter (CF) for LCD, etc., and this heat treatment apparatus is suitable for heat-treating those used for electronic parts. Can be used. Further, as the planar heater, for example, a planar heater that radiates far infrared rays is used.
[0021]
Further, if the covering for heat radiation is formed of a heat insulating material, it can efficiently block the heat from the planar heater so that it does not escape outward. It becomes possible to make it thin or make the shape compact.
[0023]
【Example】
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0024]
FIG. 1 is a front sectional view of a firing furnace A as one embodiment of a heat treatment apparatus for glass substrates according to the present invention. As shown in the figure, in the firing furnace A in this embodiment, a furnace body formed in a box shape. A heat insulating material (not shown) is attached to the inner peripheral surface of 1, and a planar heater is erected in the furnace body 1 at a predetermined interval from the
[0025]
When the
[0026]
The left and right
[0027]
Further, in each glass substrate heating space T, a quartz tube for horizontally supporting the glass substrate B is extended in the front-rear direction, and the quartz tube is supported by a quartz tube disposed above the horizontal heater. It is supported by the body. The structure of the quartz tube and the quartz tube support is the same as that shown in FIG. 10, and is not shown in FIG.
[0028]
The firing furnace A in the present embodiment has the above-described configuration. Here, the heat radiation prevention covering 25 for preventing heat radiation from the
[0029]
As shown in FIG. 1 to FIG. 3, the heat dissipation covering 25 is made of stainless steel in a box shape with a lower end opening, and is disposed at each of the four corners of the outer surface of the
[0030]
Thus, in the present embodiment, since the heat radiation prevention covering 25 is provided on the uppermost
[0031]
In particular, in the present embodiment, the heat
[0032]
Further, in this embodiment, the heat
[0033]
In the present embodiment, as described above, the heat radiation
[0034]
Furthermore, in the present embodiment, the heat radiation prevention covering 25 is provided only on the uppermost
[0035]
By the way, in this embodiment, in addition to the above-described configuration, a slide / housing structure for the
[0036]
Note that the
[0037]
As shown in FIGS. 7 and 8, the
[0038]
Further, stainless-side heater-
[0039]
That is, as shown in FIGS. 7 and 8, the heater-
[0040]
The
[0041]
Further, a rectangular plate-shaped rolling
[0042]
As shown in FIGS. 5 and 6, the
[0043]
In addition, both the
[0044]
In particular, the
[0045]
At this time, the rolling
[0046]
Further, the heater
[0047]
In the present embodiment, the
[0048]
That is, when the
[0049]
At this time, since the
[0050]
Then, when the
[0051]
As described above, when the heater-
[0052]
Moreover, as described above, since no gap is generated between the lower surface of the
[0053]
When the
[0054]
As shown in FIG. 8A, the heater-
[0055]
At this time, similarly to the insertion of the
[0056]
As shown in FIG. 7, since the support-
[0057]
【The invention's effect】
The present invention is carried out in the mode described above, and has the following effects.
[0058]
(1) In the present invention described in claim 1, in the heat treatment apparatus for glass substrates in which the planar heaters are provided in multiple stages in the furnace body, heat radiation is prevented in the planar heaters provided in the uppermost stage and / or the lowermost stage. Because the heat-dissipation-preventing covering is provided for the uppermost and lowermost planar heaters, the temperature of which is less likely to rise compared to other planar heaters, as well as other planar heaters. It is possible to prevent unevenness in the temperature distribution inside the furnace body. Therefore, all the glass substrates accommodated in the furnace body can be uniformly heated to prevent the quality variation due to the temperature difference, and the yield can be improved.
[0059]
(2) In the present invention described in
[0060]
(3) In the present invention according to
[0061]
(4) In the present invention according to
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front sectional view of a firing furnace as an embodiment of a heat treatment apparatus for glass substrates according to the present invention.
FIG. 2 is an explanatory view in front sectional view showing a cover for heat radiation prevention.
FIG. 3 is a perspective view illustrating a mounting position of a heat dissipation preventing covering.
FIG. 4 is an explanatory view showing each part of a horizontal heater.
FIGS. 5A and 5B are diagrams showing a sliding state of a heater in a firing furnace as an embodiment of the heat treatment apparatus for glass substrates according to the present invention, FIG. 5A is an overall explanatory view in a side view, and FIG. An explanatory view, (c) is an enlarged explanatory view of ii.
6A and 6B are diagrams showing a housing state of the heater in the firing furnace, in which FIG. 6A is an overall explanatory view in a side view, FIG. 6B is an enlarged explanatory view of iii, and FIG. .
7A and 7B are views showing a sliding / accommodating state of the heater in the firing furnace, where FIG. 7A is a cross-sectional explanatory view taken along line II, and FIG. 7B is a cross-sectional explanatory view taken along line III-III.
FIGS. 8A and 8B are views showing a sliding / accommodating state of the heater in the firing furnace, wherein FIG. 8A is a cross-sectional explanatory view taken along line II-II, and FIG. 8B is a cross-sectional explanatory view taken along line IV-IV.
FIGS. 9A and 9B are explanatory views of the heater as viewed from the side, FIG. 9A is a schematic diagram of the sliding state as viewed from the side, and FIG. 9B is a schematic diagram of the housing as viewed from the side.
FIG. 10 is a front sectional view of a conventional glass substrate heat treatment apparatus.
[Explanation of symbols]
A firing furnace B glass substrate T glass substrate heating space 1 furnace body
25 Heat shield
Claims (2)
最上段及び/又は最下段に設けた面状ヒータの外側面四隅に、放熱を防止するために面状ヒータからの熱を内部に蓄積できるように一端開口の箱状に形成した放熱防止用被覆体を設けたことを特徴とするガラス基板用熱処理装置。In the heat treatment apparatus for glass substrates provided with multi-stage planar heaters inside the furnace body,
Heat dissipation prevention coating formed in a box shape with one end opening so that heat from the planar heater can be stored inside the four corners of the outer surface of the planar heater provided at the top and / or bottom. A heat treatment apparatus for a glass substrate, characterized in that a body is provided.
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