JP4380466B2 - 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 - Google Patents
穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4380466B2 JP4380466B2 JP2004241756A JP2004241756A JP4380466B2 JP 4380466 B2 JP4380466 B2 JP 4380466B2 JP 2004241756 A JP2004241756 A JP 2004241756A JP 2004241756 A JP2004241756 A JP 2004241756A JP 4380466 B2 JP4380466 B2 JP 4380466B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous
- porous resin
- perforation
- wall surface
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 227
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 227
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 161
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 92
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 92
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 91
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 91
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 62
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 62
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 42
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 41
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 40
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 claims description 24
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 23
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 22
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 21
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 21
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 18
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 16
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 14
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 13
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 11
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 9
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940077239 chlorous acid Drugs 0.000 claims description 2
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 115
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 14
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 14
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 9
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 9
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 9
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 6
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 5
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 4
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 4
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 3
- IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N corticotropin Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1NC=NC=1)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC(O)=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(O)=O)NC(=O)[C@@H](N)CO)C1=CC=C(O)C=C1 IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 235000012438 extruded product Nutrition 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- HOWGUJZVBDQJKV-UHFFFAOYSA-N docosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC HOWGUJZVBDQJKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N heptadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N icosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- LQERIDTXQFOHKA-UHFFFAOYSA-N nonadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC LQERIDTXQFOHKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMLDXWLZKKZVSS-UHFFFAOYSA-N palladium tin Chemical compound [Pd].[Sn] ZMLDXWLZKKZVSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N triacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PNVJTZOFSHSLTO-UHFFFAOYSA-N Fenthion Chemical compound COP(=S)(OC)OC1=CC=C(SC)C(C)=C1 PNVJTZOFSHSLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000002473 artificial blood Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 210000004204 blood vessel Anatomy 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006115 defluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical compound C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- IPMNAGMOJQBRJL-UHFFFAOYSA-N heptacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC IPMNAGMOJQBRJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- YDLYQMBWCWFRAI-UHFFFAOYSA-N n-Hexatriacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC YDLYQMBWCWFRAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZWZLRIBPAZENFK-UHFFFAOYSA-J sodium;gold(3+);disulfite Chemical compound [Na+].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O ZWZLRIBPAZENFK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLTHARGIAFTREU-UHFFFAOYSA-N triacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C)CCCCCCCC OLTHARGIAFTREU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 description 1
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940038773 trisodium citrate Drugs 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0055—After-treatment, e.g. cleaning or desmearing of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0116—Porous, e.g. foam
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/015—Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0786—Using an aqueous solution, e.g. for cleaning or during drilling of holes
- H05K2203/0793—Aqueous alkaline solution, e.g. for cleaning or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0786—Using an aqueous solution, e.g. for cleaning or during drilling of holes
- H05K2203/0796—Oxidant in aqueous solution, e.g. permanganate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
- H05K3/426—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in substrates without metal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Description
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;及び
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
を含む穿孔された多孔質樹脂基材の製造方法が提供される。
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
(4)穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程4;及び
(5)該触媒を利用して、穿孔の内壁面に導電性金属を付着させる工程5;
を含む穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法が提供される。
本発明では、フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材を使用する。多孔質樹脂基材を構成する樹脂材料としては、フッ素樹脂、フッ素樹脂組成物、フッ素ゴム、フッ素ゴム組成物などが挙げられる。フッ素樹脂組成物としては、2種以上のフッ素樹脂の組成物、フッ素樹脂と他の樹脂との組成物、フッ素樹脂とフッ素ゴムとの樹脂組成物などがある。フッ素ゴム組成物としては、2種以上のフッ素ゴムの組成物、フッ素ゴムと他のゴムとの組成物、フッ素ゴムとフッ素樹脂とのゴム組成物、フッ素ゴムとフッ素樹脂以外の樹脂とのゴム組成物などが挙げられる。
本発明では、フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する。多孔質樹脂基材がシート(フィルム)の場合には、最も広い表面を有する2つの面が第一表面及び第二表面を構成する。
本発明では、アルカリ金属を含有するエッチング液を使用する。アルカリ金属としては、Na(ナトリウム)及びLi(リチウム)が好ましく、Naが特に好ましい。
本発明では、エッチング処理により形成された変質化層(エッチング処理層)を酸化分解して除去するために、酸化力を有する化合物またはその溶液を使用する。酸化力を有する化合物としては、常温で液状の過酸化水素が好ましい。酸化力を有する化合物の溶液としては、例えば、過酸化水素水、次亜塩素酸水溶液、亜塩素酸水溶液を挙げることができる。これらの溶液の濃度は、酸化力を有する化合物の水に対する溶解度にもよるが、通常1〜60重量%、好ましくは5〜50重量%、より好ましくは10〜40重量%程度である。過酸化水素は、不安定な液体であるため、水溶液(過酸化水素水)として使用することが好ましい。
本発明では、下記の工程1〜3:
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;及び
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
により、穿孔された多孔質樹脂基材を製造する。これら各工程1〜3は、それぞれ付加的な工程が配置されていたり、複数の工程で構成されていてもよい。
(a)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程a(工程1a);
(b)積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程b(工程1b);
(c)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程c(工程2);
(d)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程d(工程3a);及び
(e)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程e(工程3b);
により、穿孔が形成された多孔質樹脂基材を製造することができる。
(a)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の多孔質構造内に液体または溶液を含浸させる工程1−a;
(b)含浸させた液体または溶液から固形物を形成する工程1−b;
(c)多孔質構造内に固形物を有する多孔質樹脂基材に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1−c;及び
(d)固形物を融解または溶解させて、多孔質構造内から除去する工程1−d;
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成することができる。積層体を形成してから穿孔する方法では、工程1−aの前に積層体を形成しておく。
本発明では、前記の穿孔が形成された多孔質樹脂基材の製造方法を利用して、該穿孔の内壁面を選択的に導電化した多孔質基材を製造することができる。
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
(4)穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程4;及び
(5)該触媒を利用して、穿孔の内壁面に導電性金属を付着させる工程5;
を含む穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法である。
(A)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程A(工程1A);
(B)積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程B(工程1B);
(C)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程C(工程2);
(D)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程D(工程3);
(E)穿孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程E(工程4A);及び
(F)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程F(工程4B);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる方法がある。
(i)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として多孔質樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程i(工程1−A);
(ii)該積層体の多孔質構造内に、可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物を含浸させる工程ii(工程I−B);
(iii)含浸させた可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物から固形物を形成する工程iii(工程1−C);
(iv)多孔質構造内に固形物を有する積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程iv(工程1−D);
(v)固形物を溶解させて、多孔質構造内から除去する工程v(工程1−E);
(vi)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程vi(工程2);
(vii)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程vii(工程3);
(viii)穿孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程viii(工程4−A);及び
(ix)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程ix(工程4−B);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる方法である。
(I)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面と多孔質構造内に、可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物を付着及び含浸させる工程I(工程1−I);
(II)付着及び含浸させた可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物から固形物を形成して、多孔質樹脂基材の両面に固形物の層を有し、かつ、多孔質構造内に固形物が含浸した構造の複合化シートを形成する工程II(工程1−II);
(III)該複合化シートに、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程III(工程1−III);
(IV)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程IV(工程2);
(V)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程V(工程3);
(VI)穿孔の内壁面を含む複合化シートの表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程VI(工程4−I);及び
(VII)複合化シートから固形物を除去する工程VII(工程4−II);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる方法がある。複合化シートから可溶性ポリマーまたはパラフィンを除去すると、触媒が多孔質樹脂基材の穿孔の内壁面に付着して残留する。
延伸法による多孔質PTFE膜の気孔率は、ASTM D−792に従って測定した。
延伸法による多孔質PTFE膜のバブルポイントは、イソプロピルアルコールを使用して、ASTM F−316−76に従って測定した。
図4に示す導通確認装置を用いて、異方性導電膜の導通開始荷重を測定した。図4に示す導通確認装置において、異方性導電膜401を、金めっきを施した銅板(「Au板」とも呼ぶ)402上に置く、その全体を重量計406上に載置する。プローブとして外径2mmφの銅柱403を使用し、荷重を加える。異方性導電シートの抵抗値を4端子法により測定した。この装置は、定電流電源404と電圧計405を備えている。
気孔率60%、平均孔径0.1μm(イソプロピルアルコールバブルポイント150kPa)、厚み60μmの多孔質PTFE基材を用意した。この多孔質PTFE基材は、延伸法によって作製した延伸多孔質PTFEシートであって、多数のフィブリルと該フィブリルによって連結された多数のノードとからなる微細多孔質構造を有するものである。
気孔率60%、平均孔径0.1μm、厚み0.5mmの延伸多孔質PTFEシートからなる基膜の両面に、気孔率60%、平均孔径0.1μm、厚み30μmの延伸多孔質PTFEシート2枚をマスクとして重ね合わせた。これを厚さ3mmのステンレス板2枚の間に挟み、350℃で30分間加熱処理した。加熱処理後、ステンレス板の上から水にて急冷し、上記3層が融着した「マスク層/基膜/マスク層」の層構成を有する積層体を得た。
実施例1と同じ延伸多孔質PTFEシートに、実施例1と同様にして穿孔(貫通孔)を形成した。これを実施例1と同様にナトリウムナフタレンエッチング溶液でエッチング処理を施したところ、該シート表面が白色から褐色に変色した。これを水で洗浄し、さらにエタノールで洗浄した後、再び水で洗浄して、乾燥させた。穿孔内壁面をSEM観察したところ、エッチング処理前と同様にフィブリルとノードとからなる微細多孔質構造が損なわれて、無孔質となっている様子が観察された。この延伸多孔質PTFEシートに、実施例1と同様にセロハン粘着テープを圧着し、180度引き剥がし試験を行ったところ、褐色の変質化層が剥離して、テープ粘着部に付着している様子が見られた。
実施例2と同様にして「マスク層/基膜/マスク層」からなる3層構成の延伸多孔質PTFEシート積層体を作製し、実施例2と同様に穿孔(貫通孔)を形成した。これを実施例1と同様にエッチング処理を施した後、取り出し、水で洗浄し、さらにエタノールで洗浄し、再び水で洗浄して、乾燥させた。次に、実施例2と同様にして触媒粒子を積層体の表面及び穿孔の内壁面に付着させた後、両面のマスク層を手で剥離した。実施例2と同様にして、基膜の穿孔内壁面に銅粒子を析出させ、次いで金めっきを行った。このようにして得られた異方性導電膜について、実施例2と同様の方法で抵抗値と導通開始荷重を測定したところ、荷重5.0MPaにおいても導通しないことが確認された。
A1:多孔質樹脂基材、A2:穿孔を有する多孔質樹脂基材、
A3:エッチング処理層を有する多孔質樹脂基材、
A4:穿孔が形成された多孔質樹脂基材、
21:多孔質樹脂基材、22,23:マスク層、24:穿孔、
25:エッチング処理層、26:穿孔、
B1:積層体、B2:穿孔を有する積層体、
B3:エッチング処理層を有する積層体、
B4:処理層が除去された積層体、B5:穿孔を有する多孔質樹脂基材、
31:多孔質樹脂基材、32,33:マスク層、34:穿孔、
35:エッチング処理層、36:穿孔、37,38:めっき触媒、
39:めっき金属層、
C1:積層体、C2:穿孔を有する積層体、
C3:エッチング処理層を有する積層体、
C4:処理層が除去された積層体、C5:めっき触媒を付着させた積層体、
C6:穿孔の内壁面にめっき触媒が付着した多孔質樹脂基材、
C7:穿孔の内壁面にめっき金属層が形成された多孔質樹脂基材、
401:異方性導電膜、402:金めっきを施した銅板、
403:銅柱、404:定電流電源、405:電圧計、406:重量計。
Claims (13)
- 下記の工程1〜3:
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;及び
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
を含む穿孔された多孔質樹脂基材の製造方法。 - 多孔質樹脂基材が、フィブリルと該フィブリルによって互いに連結されたノードとからなる微細多孔質構造を有する延伸多孔質ポリテトラフルオロエチレンシートである請求項1記載の製造方法。
- 工程1において、機械加工またはレーザー加工により穿孔を形成する請求項1記載の製造方法。
- 工程2において、エッチング液として、アルカリ金属と芳香族化合物とを含有するエッチング液を使用する請求項1記載の製造方法。
- 工程3において、酸化力を有する化合物またはその溶液として、過酸化水素、過酸化水素水、次亜塩素酸水溶液、または亜塩素酸水溶液を使用する請求項1記載の製造方法。
- 工程1〜3において、下記の工程a〜e:
(a)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程a(工程1a);
(b)積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程b(工程1b);
(c)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程c(工程2);
(d)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程d(工程3a);及び
(e)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程e(工程3b);
により、穿孔が形成された多孔質樹脂基材を製造する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の製造方法。 - 工程1において、下記の工程1−a〜1−d:
(a)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の多孔質構造内に液体または溶液を含浸させる工程1−a;
(b)含浸させた液体または溶液から固形物を形成する工程1−b;
(c)多孔質構造内に固形物を有する多孔質樹脂基材に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1−c;及び
(d)固形物を融解または溶解させて、多孔質構造内から除去する工程1−d;
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成する請求項1乃至6のいずれか1項に記載の製造方法。 - 下記の工程1〜5:
(1)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材に、その第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程1;
(2)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程2;
(3)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程3;
(4)穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程4;及び
(5)該触媒を利用して、穿孔の内壁面に導電性金属を付着させる工程5;
を含む穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法。 - 工程1〜4において、下記の工程A〜F:
(A)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程A(工程1A);
(B)積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程B(工程1B);
(C)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程C(工程2);
(D)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程D(工程3);
(E)穿孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程E(工程4A);及び
(F)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程F(工程4B);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる請求項8記載の製造方法。 - 工程1乃至4において、下記の工程i〜ix:
(i)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面に、マスク層として多孔質樹脂層を積層して、3層構成の積層体を形成する工程i(工程1−A);
(ii)該積層体の多孔質構造内に、可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物を含浸させる工程ii(工程I−B);
(iii)含浸させた可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物から固形物を形成する工程iii(工程1−C);
(iv)多孔質構造内に固形物を有する積層体に、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程iv(工程1−D);
(v)固形物を溶解させて、多孔質構造内から除去する工程v(工程1−E);
(vi)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程vi(工程2);
(vii)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程vii(工程3);
(viii)穿孔の内壁面を含む積層体の表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程viii(工程4−A);及び
(ix)多孔質樹脂基材から両面のマスク層を剥離する工程ix(工程4−B);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる請求項8記載の製造方法。 - 工程1〜4において、下記の工程I〜VII:
(I)フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材の両面と多孔質構造内に、可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物を付着及び含浸させる工程I(工程1−I);
(II)付着及び含浸させた可溶性ポリマーまたはパラフィンまたは化学反応により固形物を形成し得る化合物から固形物を形成して、多孔質樹脂基材の両面に固形物の層を有し、かつ、多孔質構造内に固形物が含浸した構造の複合化シートを形成する工程II(工程1−II);
(III)該複合化シートに、第一表面から第二表面にかけて厚み方向に貫通する少なくとも一つの穿孔を形成する工程III(工程1−III);
(IV)穿孔の内壁面に、アルカリ金属を含有するエッチング液を接触させてエッチング処理する工程IV(工程2);
(V)エッチング処理により生じた変質化層に、酸化力を有する化合物またはその溶液を接触させて、該変質化層を除去する工程V(工程3);
(VI)穿孔の内壁面を含む複合化シートの表面に、金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる工程VI(工程4−I);及び
(VII)複合化シートから固形物を除去する工程VII(工程4−II);
により、多孔質樹脂基材に穿孔を形成し、かつ穿孔の内壁面に金属イオンの還元反応を促進する触媒を付着させる請求項8記載の製造方法。 - 工程5において、無電解めっきにより、穿孔の内壁面に導電性金属を付着させる請求項8乃至11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程1において、フッ素系ポリマーを含有する樹脂材料から形成された多孔質樹脂基材として、フィブリルと該フィブリルによって互いに連結されたノードとからなる微細多孔質構造を有する延伸多孔質ポリテトラフルオロエチレンシートを使用し、そして、工程1〜5により、穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材として、穿孔の内壁面の微細多孔質構造を形成する樹脂部に付着した導電性金属により形成された導電化部を有し、かつ導電化部が膜厚方向のみに導電性を付与することが可能な異方性導電膜を得る請求項8乃至12のいずれか1項に記載の製造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004241756A JP4380466B2 (ja) | 2004-08-23 | 2004-08-23 | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 |
| EP05758305A EP1791408A4 (en) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | METHOD FOR THE PRODUCTION OF A POROUS RESIN FOUNDATION WITH PUNCHED HOLE AND POROUS RESIN COMPOSITE WITH A HOLE WITH AN INTERNAL WALL THAT IS PROVIDED WITH ELECTROPENDENCE |
| PCT/JP2005/012768 WO2006022083A1 (ja) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 |
| CN200580036231A CN100576978C (zh) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | 具有穿孔的多孔树脂基材的制造方法以及穿孔内壁面导电化的多孔树脂基材的制造方法 |
| US11/660,993 US7807066B2 (en) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | Method of manufacturing a porous resin substrate having perforations and method of making a porous resin substrate including perforations having electrically conductive wall faces |
| KR1020077004027A KR101129931B1 (ko) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | 천공된 다공질 수지기재 및 천공의 내부벽면을 도전화한 다공질 수지기재의 제조방법 |
| CA002578033A CA2578033A1 (en) | 2004-08-23 | 2005-07-11 | Method of manufacturing a porous resin substrate having perforations and method of making a porous resin substrate including perforations having electrically conductive wall faces |
| TW094128305A TWI362907B (en) | 2004-08-23 | 2005-08-19 | The drilled porous resin base material and the manufacturing method for porous resin base material with inner surface of pore which has been made electrically conductive |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004241756A JP4380466B2 (ja) | 2004-08-23 | 2004-08-23 | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006060098A JP2006060098A (ja) | 2006-03-02 |
| JP4380466B2 true JP4380466B2 (ja) | 2009-12-09 |
Family
ID=35967303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004241756A Expired - Fee Related JP4380466B2 (ja) | 2004-08-23 | 2004-08-23 | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7807066B2 (ja) |
| EP (1) | EP1791408A4 (ja) |
| JP (1) | JP4380466B2 (ja) |
| KR (1) | KR101129931B1 (ja) |
| CN (1) | CN100576978C (ja) |
| CA (1) | CA2578033A1 (ja) |
| TW (1) | TWI362907B (ja) |
| WO (1) | WO2006022083A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4715600B2 (ja) * | 2006-04-07 | 2011-07-06 | 住友電気工業株式会社 | シート状コネクターとその製造方法 |
| PL2069215T3 (pl) * | 2006-09-26 | 2012-10-31 | Intercontinental Great Brands Llc | Opakowanie blistrowe podatne na przerwanie |
| US9216850B2 (en) | 2006-09-26 | 2015-12-22 | Intercontinental Great Brands Llc | Rupturable substrate |
| JP5348517B2 (ja) * | 2007-05-09 | 2013-11-20 | 住友電工ファインポリマー株式会社 | 分離膜エレメントおよびその製造方法 |
| JP5528250B2 (ja) | 2010-07-30 | 2014-06-25 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板の製造方法 |
| CN102866438B (zh) * | 2011-07-06 | 2015-06-03 | 奇景光电股份有限公司 | 湿蚀刻基板的方法 |
| TWI491875B (zh) * | 2013-12-26 | 2015-07-11 | Taiwan Green Point Entpr Co | Electrochemical sensing test piece and its manufacturing method |
| KR101957242B1 (ko) * | 2017-07-26 | 2019-06-20 | (주)잉크테크 | 인쇄회로기판 제조방법 |
| CN110556532A (zh) * | 2018-06-01 | 2019-12-10 | 中能中科(天津)新能源科技有限公司 | 网状锂材及其制备方法和应用 |
| CN108650799A (zh) * | 2018-06-29 | 2018-10-12 | 惠州市金百泽电路科技有限公司 | 一种ptfe板材阻焊前基材处理方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB806422A (en) * | 1955-12-23 | 1958-12-23 | Du Pont | Process for bonding polychlorotrifluoroethylene |
| US4820548A (en) * | 1984-06-07 | 1989-04-11 | Enthone, Incorporated | Three step process for treating plastics with alkaline permanganate solutions |
| JPS6358708A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | セイコーエプソン株式会社 | 異方性導電膜 |
| JP2702507B2 (ja) | 1988-05-31 | 1998-01-21 | キヤノン株式会社 | 電気的接続部材及びその製造方法 |
| JPH05237141A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Jinkou Ketsukan Gijutsu Kenkyu Center:Kk | 人工血管およびその製造方法 |
| US5449427A (en) * | 1994-05-23 | 1995-09-12 | General Electric Company | Processing low dielectric constant materials for high speed electronics |
| JP3829359B2 (ja) | 1996-05-30 | 2006-10-04 | Jsr株式会社 | 異方導電性シートおよびその製造方法 |
| US5833759A (en) * | 1996-11-08 | 1998-11-10 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Method for preparing vias for subsequent metallization |
| JP2003022849A (ja) | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Citizen Electronics Co Ltd | 弾性コネクタ及びその製造方法 |
| JP2003059611A (ja) | 2001-08-15 | 2003-02-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 異方性導電シートおよびその製造方法 |
| US7049528B2 (en) * | 2002-02-06 | 2006-05-23 | Ibiden Co., Ltd. | Semiconductor chip mounting wiring board, manufacturing method for same, and semiconductor module |
-
2004
- 2004-08-23 JP JP2004241756A patent/JP4380466B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-11 EP EP05758305A patent/EP1791408A4/en not_active Withdrawn
- 2005-07-11 CN CN200580036231A patent/CN100576978C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-11 CA CA002578033A patent/CA2578033A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-11 WO PCT/JP2005/012768 patent/WO2006022083A1/ja not_active Ceased
- 2005-07-11 KR KR1020077004027A patent/KR101129931B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-11 US US11/660,993 patent/US7807066B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-08-19 TW TW094128305A patent/TWI362907B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI362907B (en) | 2012-04-21 |
| TW200621111A (en) | 2006-06-16 |
| JP2006060098A (ja) | 2006-03-02 |
| EP1791408A4 (en) | 2011-01-19 |
| CN101044804A (zh) | 2007-09-26 |
| US7807066B2 (en) | 2010-10-05 |
| CN100576978C (zh) | 2009-12-30 |
| CA2578033A1 (en) | 2006-03-02 |
| EP1791408A1 (en) | 2007-05-30 |
| US20080006605A1 (en) | 2008-01-10 |
| KR101129931B1 (ko) | 2012-03-28 |
| KR20070044028A (ko) | 2007-04-26 |
| WO2006022083A1 (ja) | 2006-03-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101060861B1 (ko) | 천공된 다공질 수지기재 및 천공 내부벽면을 도전화한다공질 수지기재의 제조방법 | |
| TWI342054B (en) | Anisotropic conductive film and manufacturing method thereof | |
| JP4380466B2 (ja) | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔の内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 | |
| JP4039293B2 (ja) | 異方性導電膜の製造方法 | |
| JP4543762B2 (ja) | 穿孔された多孔質樹脂基材及び穿孔内壁面を導電化した多孔質樹脂基材の製造方法 | |
| TWI378603B (en) | Complex porous resin substrate and a method of fabricating the same | |
| WO2007023596A1 (ja) | 異方性導電シート、その製造方法、接続方法および検査方法 | |
| JP4367623B2 (ja) | 多孔質延伸ポリテトラフルオロエチレンシート製または多孔質延伸ポリテトラフルオロエチレンフィルム製の電気回路部品の製造方法、及び電気回路部品 | |
| CN101203986B (zh) | 多孔树脂基底、其制造方法以及多层基底 | |
| JP4075637B2 (ja) | 異方性導電シートの製造方法 | |
| CN100398238C (zh) | 穿孔的多孔树脂基材及穿孔内壁面导电化的多孔树脂基材的制法 | |
| JP2006269400A (ja) | 異方性導電シート、その製造方法、接続方法および検査方法 | |
| JP4428431B2 (ja) | 異方性導電膜とその製造方法 | |
| WO2007058101A1 (ja) | 異方性導電シート、その製造方法、接続方法および検査方法 | |
| HK1088576B (en) | Drilled porous resin base material, and method of manufacturing porous resin base material with conductive drilled inner wall surface | |
| WO2006132063A1 (ja) | 多層基板及び半導体パッケージ | |
| JP2007220512A (ja) | コネクタ、導電接続構造体及びプローブ部材 | |
| HK1103907A (en) | Method of manufacturing a porous resin substrate having perforations and method of making a porous resin substrate including perforations having electrically conductive wall faces |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070221 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090901 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090914 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |