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JP4381667B2 - Board inspection equipment - Google Patents
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JP4381667B2 - Board inspection equipment - Google Patents

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JP4381667B2 JP2002266608A JP2002266608A JP4381667B2 JP 4381667 B2 JP4381667 B2 JP 4381667B2 JP 2002266608 A JP2002266608 A JP 2002266608A JP 2002266608 A JP2002266608 A JP 2002266608A JP 4381667 B2 JP4381667 B2 JP 4381667B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板検査装置に関し、特にガラス基板の位置合わせに関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶基板検査装置等の基板検査装置において、ガラス基板上の位置情報を得るためには、基板を基板検査装置の所定位置に位置合わせする必要がある。
【0003】
一般に、基板検査装置においてガラス基板を検査するには、パレット上にガラス基板を配置した後、所定位置にへ移動させて位置合わせを行っている。 図8は従来の基板検査装置における基板位置アライメント機構を説明するための概略図である。図8(a)は基板位置アライメント機構の断面図であり、図8(b)は基板位置アライメント機構の斜視図である。
【0004】
ガラス基板等の基板3は、パレット4上に配置される。パレット4上の位置合わせは、パレット4の外側の側部に設けられた基板位置アライメント機構12により行われる。基板位置アライメント機構12は、パレット4に対して所定位置に位置合わせされるプレート12aを備える。基板3をパレット4の所定位置に位置合わせするには、図示しない押圧既機構により、プレート12aのプレート平面12bを基板3の基板側面3aに接触させて押圧することにより、基板3を所定位置に移動させている。(例えば、特許文献1参照。)
【0005】
【特許文献1】
特開平5−100198号公報(図4,段落番号0065〜段落番号0067)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従来の基板検査装置では、基板位置アライメント機構において、位置合わせ操作が円滑に行われず、そのため正確な位置合わせが行われないおそれがある。
【0007】
従来の基板位置アライメント機構では、基板の位置合わせを基板の側面とパレット面との接触により行っており、この接触部分は面接触であるため、プレート面と基板側面とが面による摩擦でかじりつき、パレットを押しても基板が移動しない場合が起こり得る。このように、基板の移動が止まると、基板を所定のアライメント位置に移動させることが困難となる。
【0008】
そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、基板検査装置において、基板のアライメント位置への移動を確実で円滑とし、位置決めエラーを防止することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板側面と接触を滑り接触から転がり接触に変えることにより摩擦を減少させて、基板側面と接触部分との間のかじりつきを低減させ、基板のアライメント位置への移動を円滑とし、位置決めエラーを防止する。
【0010】
本発明の基板検査装置は、このための機構として、基板を所定検査位置に位置合わせする基板位置アライメント機構を備える。この基板位置アライメント機構は、基板の側面と点接触する当接部と、この当接部を回転支持すると共に所定方向に押圧する支持押圧部とを備えた構成とする。
【0011】
支持押圧部は、当接部を基板側面に当接させ、さらに、当接した状態のまま基板側面を所定方向に押圧する。この押圧により、基板は当接部に押されることにより、基板検査装置に対する位置が変化する。このとき、基板側面と当接部との位置関係が変化すると位置ずれが生じる。基板側面と当接部との間に摩擦がある場合には、かじりつきが生じる。
【0012】
本発明の基板位置アライメント機構は、当接部を回転支持することにより、当接部が基板の側面と当接した際に当接部を回転させ、この当接により生じる基板側面と当接部との位置ずれを解消し、かじりつきの発生を防止する。この状態において、当接部を支持押圧部で基板側面側に移動させると、当接部は基板側面にそって回転しながら基板側面を所定方向に押すことになる。これによって、基板は基板位置アライメント機構により所定方向に押され、所定検査位置に位置合わせされる。
【0013】
基板位置アライメント機構の支持押圧部は内部を所定圧力とするベローズを備える。ベローズの一端を基板検査装置のベース側に固定し、他端を当接部側に固定する。ベローズは、ベローズ内外の圧力差とベローズの復元力との差分により生じるベローズの変形により当接部を所定方向に押圧する。
【0014】
基板位置アライメント機構を、基板の所定の検査位置の外周に沿って複数の配置する構成とする。この構成において、基板位置アライメント機構で囲まれる範囲内に基板を配置し、配置された基板を周囲に配置された基板位置アライメント機構によりそれぞれの所定方向に押圧すると、基板は複数の方向から押される。基板位置アライメント機構の配置位置と押圧方向を所定に設定することにより、基板は所定の基板検査位置に位置合わせされる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。
図1は本発明の基板検査装置を説明するための概略斜視図である。基板検査装置1は、例えば液晶用のガラス基板3等の基板検査を行う装置である。図1に示す体では、ロードロックチャンバ5内に設けられたパレット4上の所定の検査位置にガラス基板3を配置することにより検査が行われる。ロードロックチャンバ5は、検査対象物であるガラス基板3の検査条件を整えるために設けられ、図示しない排気装置によって内部を真空として状態で検査を行う。ガラス基板3は、ロードロックチャンバ5の図示しない開閉機構を介して内部に搬入された後に図示しない排気装置で真空状態とし、例えば、電子銃から電子ビームを照射するなどによって所定の検査を行う。
【0016】
本発明の基板検査装置1は、ガラス基板3をパレット4上の所定検査位置に位置合わせするための基板位置アライメント機構2を備える。検査対象となるガラス基板3は、ロードロックチャンバ5内に搬入された後、パレット4上に載置される。パレット4上に載置されたガラス基板3は、必ずしも所定の検査位置とはならず、所定の検査位置に位置合わせを行う必要がある。
【0017】
基板位置アライメント機構2は、パレット4上においてガラス基板3を移動させ所定の検査位置に位置合わせする。なお、図1(a)は、ロードロックチャンバ5内にガラス基板3を搬入した状態を示し、図1(b)は、基板位置アライメント機構2によりガラス基板3を位置合わせした状態を示している。
【0018】
図2は本発明の基板検査装置の基板位置アライメント機構を説明するための断面図、及び斜視図である。
【0019】
基板位置アライメント機構2は、ガラス基板3の側面3aと点接触する当接部2aと、この当接部2aを回転支持すると共に所定方向に押圧する支持押圧部2cとを備える。当接部2aは、例えば、ガラス基板3の側面3aと点接触する用に円筒体に形成され、同軸上に設けられた回転軸2b及びベアリング2dによって、支持押圧部2cに対して回転自在に取り付けられる。なお、回転支持はベアリングに限らず任意の回転支持機構を用いることができる。
【0020】
支持押圧部2cは、ベアリング2d等の回転支持機構を介して当接部2aを回転支持すると共に、当接部2aを所定方向に付勢している。この当接部2aの付勢は、当接部2aと接触したガラス基板3を所定方向に押圧し、ガラス基板3を所定位置に位置合わせする。当接部2aを所定方向に押圧する機構は、ばね機構や、リンク機構等の任意の機構を用いることができる。なお、図2では、この押圧機構については省略している。
【0021】
これにより、基板位置アライメント機構2は、支持押圧部2cにより押圧動作により当接部2aを、パレット4上に載置されたガラス基板3の側面3aに接触させ、さらに、ガラス基板3を所定方向に押圧する。
【0022】
当接部2aがガラス基板3を押圧した際、当接部2aの押圧方向がガラス基板3の側面3aの方向と垂直でない場合には、当接部2aからガラス基板3に対して、側面3aと垂直な方向に移動させる力の他に、側面3aと平行な横方向の力が生じる。この横方向の力はガラス基板3に回転運動を与え、移動運動と共にガラス基板3を所定の検査位置に位置合わせる。
【0023】
一方、当接部2aはガラス基板3から反作用を受ける。このとき、当接部2aの押圧方向とガラス基板3に側面3aとが垂直でない場合には、当接部2aには押圧方向と直交する横方向の力が加わる。この横方向の力は、当接部2aを回転軸2bの回りに回転させる回転力となり、当接部2aを回転させる。これにより、当接部2aとガラス基板3の側面3aとの接触点において横方向に力が発生したとしても、当接部2aが回転することにより横方向に力が解消されるため、当接部2aとガラス基板3の側面3aとのかじりつきを防ぐことができる。
【0024】
図3,4は、基板位置アライメント機構2の配置状態、及びガラス基板の位置合わせ状態を示す平面図、及び概略斜視図である。なお、図3において、斜線を施した部分6は検査位置を表し、実線の部分7はガラス基板の外形部分を示している。また、図3,4では、5つの基板位置アライメント機構2A〜2Eを配置した例を示している。
【0025】
図3,4において、基板位置アライメント機構2A〜2Eは、斜線で示す検査位置6の外周位置に配置する。検査位置6は、パレット(図示していない)上の所定位置に設定することができる。
【0026】
この配置において、基板位置アライメント機構2A〜2Eと検査位置6との間に所定距離を開ける。これによって、ガラス基板3をパレット上に載置する際に、基板位置アライメント機構2A〜2Eとの干渉を防ぐことができる。基板位置アライメント機構2A〜2Eと検査位置6との間の距離は、例えば、ロータによりパレット上に搬送された直後のガラス基板と、所定のアライメント位置とのずれ量によって定まる。なお、基板位置アライメント機構2A〜2Eの押圧部による移動距離が小さく、ガラス基板3の載置の際に干渉を防ぐに十分な距離的余裕が得られない場合には、基板位置アライメント機構2A〜2Eをリンク機構等の所定の移動手段上に設置し、ガラス基板をパレット上に載置した後に基板位置アライメント機構2A〜2Eをガラス基板3に接近させ、その後に基板位置アライメント機構2A〜2Eによる位置合わせを行う構成とするようにしてもよい。
【0027】
図3(a)は、パレット上にガラス基板を載置した状態を示し、ガラス基板の外形7は検査位置6から位置ずれした状態を示している。図3(b)及び図4(a)は、基板位置アライメント機構2A〜2Eが備える支持押圧部により、当接部を基板の側面に当接させた状態を示している。なお、図中の矢印は、押圧方向を示している。当接部を基板の側面に当接させることにより、ガラス基板は移動運動及び回転運動を受け、検査位置6に向けて位置合わせされる。
【0028】
図3(c)及び図4(b)は、ガラス基板が検査位置6に位置合わせされた状態を示している。検査位置6では、各基板位置アライメント機構2A〜2Eからガラス基板に加えられる力が平衡して安定した位置合わせが保持される。
【0029】
なお、各基板位置アライメント機構2A〜2Eからガラス基板に加えられる力が、ガラス基板を検査位置6に位置合わせする方向となるよう、またおいて、検査位置6においてガラス基板が平衡状態を保つように、各基板位置アライメント機構2の設置個数、設置位置、及び各基板位置アライメント機構2の押圧力を定めておく。
【0030】
次に、支持押圧部2cの一例について、図5,6を用いて説明する。図示する例は、ベローズを用いて押圧する力を発生させる構成例である。なお、図5は支持押圧部を上方から見た図であり、図6は支持押圧部を横方向から見た図である。
【0031】
支持押圧部2cにおいて、一対のガイド2c3の両端を一対のプレート2c1及び2c2で連結し、このガイド2c3をパレット4側に固定したスライドベアリング2c4によりスライド自在に支持する。一方のプレート2c1は当接部2aを固定し、他方のプレート2c2はベローズ2c5の一端を固定し、ベローズ2c5の他端はパレット4等の基板検査装置側の基準面8に当接する。また、スライドベアリング2c4も基板検査装置側に固定される。これにより、ベローズの一端は基板検査装置のベース側に他端は当接部側に固定される。ベローズ2c5は、ベローズ内外の圧力差とベローズの弾性力との差分により生じるベローズの変形によって、当接部2aを所定方向に押圧する。
【0032】
例えば、ベローズ2c5内を減圧した構成の場合には、大気圧中では、ベローズ内外の圧力差による圧縮力がベローズの弾性力に勝って、ベローズ2c5は圧縮される。図5(a),図6(a)はこの圧縮された状態を示している。ベローズ2c5が圧縮されると、ベローズ2c5の一端は基準面8に当接しているため、ベローズ2c5の他端は図中の右方向に移動する。ベローズ2c5の他端はプレート2c2に固定され、さらにこのプレート2c2はガイド2c3に固定されているため、当接部2aはガイド2c3及びプレート2c1を介して基準面8から離れる方向に押圧される。
【0033】
一方、基板位置アライメント機構2を真空状態におくと、ベローズ内外の圧力差が減少し、ベローズの弾性力によってベローズ2c5は伸張する。図5(b),図6(b)は、この伸張した状態を示している。ベローズ2c5が伸張すると、ベローズ2c5の一端は基準面8に当接しているため、ベローズ2c5の他端は図中の左方向に移動する。ベローズ2c5の他端はプレート2c2に固定され、さらにこのプレート2c2はガイド2c3に固定されているため、当接部2aはガイド2c3及びプレート2c1を介して基準面8に近づく方向に押圧される。
【0034】
当接部2aをパレット4の外側に配置した構成では、図5(b),図6(b)は、ベローズが伸張することにより、当接部2aは基板3の側面3aを外側から内側に向かって押圧することになる。なお、図6では、当接部2aは基板3の側面3aを左方向に押圧する状態を示している。
【0035】
上記の説明では、ベローズの内部を減圧した構成例について示しているgが、ベローズの内部を加圧した構成例についても同様とすることができる。
【0036】
なお、この構成例では、ベローズの弾性力は収縮する方向とする。ベローズ2c5内を加圧した構成の場合には、大気圧中では、大気圧とベローズの収縮力の和がベローズ内の圧力に勝ってベローズ2c5は圧縮され(図5(a),図6(a))、前記と同様に、当接部2aはガイド2c3及びプレート2c1を介して基準面8から離れる方向に押圧される。
【0037】
一方、基板位置アライメント機構2を真空状態におくと、ベローズ内の圧力がベローズの収縮力に勝ってベローズ2c5は伸張し(図5(b),図6(b))、前記と同様に、当接部2aはガイド2c3及びプレート2c1を介して基準面8に近づく方向に押圧される。
【0038】
図7は、図5,6に示した支持押圧手段2(2A〜2E)を、ロードチャンバ5内のパレット4に設置した例を示している。この構成では、支持押圧手段2(2A〜2E)をパレット4の内側に配置し、基板の側面3aと当接する当接部2aをパレット4の外側に配置し、当接部2aが基板の側面を外側から接触し、内側に向かって押圧する構成としている。
【0039】
この構成では、ロードチャンバ5内を排気することにより圧力差を利用して、当接部2aを基板の側面に接触させて押圧し、所定の検査位置に位置合わせすることができる。
【0040】
本発明の形態によれば、基板の側面と接触する部分を回転支持する構成とすることにより、基板とのかじりつきを防いで、位置決めエラーを防止することができる。
【0041】
また、本発明の形態によれば、基板を押圧して位置合わせする構成に圧力差を用いることにより、押圧するための駆動機構や駆動源を不要とすることができる。また、駆動機構や駆動源を不要とすることにより、基板検査装置内の配線を不要とすることができる。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の基板検査装置によれば、基板検査装置において、基板のアライメント位置への移動を確実で円滑にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板検査装置を説明するための概略図である。
【図2】本発明の基板検査装置の基板位置アライメント機構を説明するための断面図、及び斜視図である。
【図3】本発明の基板位置アライメント機構の配置状態、及びガラス基板の位置合わせ状態を示す平面図である。
【図4】本発明の基板位置アライメント機構の配置状態、及びガラス基板の位置合わせ状態を示す概略斜視図である。
【図5】本発明の支持押圧部を上方から見た図である。
【図6】本発明の支持押圧部を横方向から見た図である。
【図7】支持押圧手段をロードチャンバ内のパレットに設置した例を示す図である。
【図8】従来の基板検査装置における基板位置アライメント機構を説明するための概略図である。
【符号の説明】
1…基板検査装置、2,2A〜2E…基板位置アライメント機構、2a…当接部、2b…回転軸、2c…支持押圧部、2c1…,2c2…プレート、2c3…ガイド、2c4…スライドガイド、2c5…ベローズ、
2d…ベアリング、3…ガラス基板、3a…側面、4…パレット、5…ロードチャンバ、6…検査位置、7…外形、8…基準面、9…、12…基板位置アライメント機構、12a…プレート、12b…プレート面。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate inspection apparatus, and more particularly to alignment of a glass substrate.
[0002]
[Prior art]
In a substrate inspection apparatus such as a liquid crystal substrate inspection apparatus, in order to obtain position information on a glass substrate, it is necessary to align the substrate with a predetermined position of the substrate inspection apparatus.
[0003]
In general, in order to inspect a glass substrate in a substrate inspection apparatus, the glass substrate is placed on a pallet and then moved to a predetermined position for alignment. FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a substrate position alignment mechanism in a conventional substrate inspection apparatus. FIG. 8A is a cross-sectional view of the substrate position alignment mechanism, and FIG. 8B is a perspective view of the substrate position alignment mechanism.
[0004]
A substrate 3 such as a glass substrate is disposed on the pallet 4. The alignment on the pallet 4 is performed by the substrate position alignment mechanism 12 provided on the outer side of the pallet 4. The substrate position alignment mechanism 12 includes a plate 12 a that is aligned at a predetermined position with respect to the pallet 4. In order to align the substrate 3 with the predetermined position of the pallet 4, the plate plane 12 b of the plate 12 a is brought into contact with the substrate side surface 3 a of the substrate 3 and pressed by a pressing mechanism (not shown) to bring the substrate 3 into the predetermined position. It is moved. (For example, see Patent Document 1.)
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-5-100198 (FIG. 4, paragraph number 0065 to paragraph number 0067)
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In the conventional substrate inspection apparatus, in the substrate position alignment mechanism, the alignment operation is not smoothly performed, and therefore there is a possibility that accurate alignment is not performed.
[0007]
In the conventional substrate position alignment mechanism, alignment of the substrate is performed by contact between the side surface of the substrate and the pallet surface, and since this contact portion is surface contact, the plate surface and the substrate side surface are rubbed by friction due to the surface, There may be a case where the substrate does not move even when the pallet is pushed. Thus, when the movement of the substrate stops, it becomes difficult to move the substrate to a predetermined alignment position.
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to solve the above-described conventional problems and to ensure that the substrate is moved to the alignment position reliably and smoothly in a substrate inspection apparatus, thereby preventing a positioning error.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The present invention reduces friction by changing the contact with the substrate side surface from the sliding contact to the rolling contact, reduces the galling between the substrate side surface and the contact portion, facilitates the movement of the substrate to the alignment position, and positioning. Prevent errors.
[0010]
The substrate inspection apparatus of the present invention includes a substrate position alignment mechanism for aligning the substrate at a predetermined inspection position as a mechanism for this purpose. The substrate position alignment mechanism includes a contact portion that makes point contact with the side surface of the substrate, and a support pressing portion that rotatably supports the contact portion and presses it in a predetermined direction.
[0011]
The support pressing portion causes the contact portion to contact the substrate side surface, and further presses the substrate side surface in a predetermined direction while maintaining the contact state. By this pressing, the substrate is pressed by the contact portion, and the position with respect to the substrate inspection apparatus changes. At this time, if the positional relationship between the side surface of the substrate and the contact portion changes, a positional shift occurs. When there is friction between the side surface of the substrate and the contact portion, galling occurs.
[0012]
The substrate position alignment mechanism of the present invention rotates and supports the contact portion when the contact portion contacts the side surface of the substrate by rotating and supporting the contact portion. To prevent the occurrence of galling. In this state, when the contact portion is moved to the substrate side surface by the support pressing portion, the contact portion pushes the substrate side surface in a predetermined direction while rotating along the substrate side surface. As a result, the substrate is pushed in a predetermined direction by the substrate position alignment mechanism and aligned with a predetermined inspection position.
[0013]
The support pressing portion of the substrate position alignment mechanism includes a bellows whose inside is a predetermined pressure. One end of the bellows is fixed to the base side of the substrate inspection apparatus, and the other end is fixed to the contact portion side. The bellows presses the contact portion in a predetermined direction by deformation of the bellows caused by the difference between the pressure difference inside and outside the bellows and the restoring force of the bellows.
[0014]
A plurality of substrate position alignment mechanisms are arranged along the outer periphery of a predetermined inspection position of the substrate. In this configuration, when the substrate is arranged within the range surrounded by the substrate position alignment mechanism and the arranged substrate is pressed in each predetermined direction by the substrate position alignment mechanism arranged around, the substrate is pushed from a plurality of directions. . By setting the arrangement position and pressing direction of the substrate position alignment mechanism to a predetermined value, the substrate is aligned with a predetermined substrate inspection position.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic perspective view for explaining a substrate inspection apparatus of the present invention. The substrate inspection apparatus 1 is an apparatus for inspecting a substrate such as a glass substrate 3 for liquid crystal. In the body shown in FIG. 1, the inspection is performed by placing the glass substrate 3 at a predetermined inspection position on the pallet 4 provided in the load lock chamber 5. The load lock chamber 5 is provided for adjusting the inspection conditions of the glass substrate 3 as an inspection object, and inspects the interior of the glass substrate 3 in a vacuum state by an exhaust device (not shown). The glass substrate 3 is brought into a vacuum state by an exhaust device (not shown) after being loaded into the load lock chamber 5 via an opening / closing mechanism (not shown), and a predetermined inspection is performed by, for example, irradiating an electron beam from an electron gun.
[0016]
The substrate inspection apparatus 1 of the present invention includes a substrate position alignment mechanism 2 for aligning the glass substrate 3 with a predetermined inspection position on the pallet 4. The glass substrate 3 to be inspected is loaded into the load lock chamber 5 and then placed on the pallet 4. The glass substrate 3 placed on the pallet 4 does not necessarily have a predetermined inspection position, and needs to be aligned with the predetermined inspection position.
[0017]
The substrate position alignment mechanism 2 moves the glass substrate 3 on the pallet 4 and aligns it with a predetermined inspection position. 1A shows a state in which the glass substrate 3 is carried into the load lock chamber 5, and FIG. 1B shows a state in which the glass substrate 3 is aligned by the substrate position alignment mechanism 2. .
[0018]
FIG. 2 is a sectional view and a perspective view for explaining the substrate position alignment mechanism of the substrate inspection apparatus of the present invention.
[0019]
The substrate position alignment mechanism 2 includes a contact portion 2a that makes point contact with the side surface 3a of the glass substrate 3, and a support pressing portion 2c that rotates and supports the contact portion 2a in a predetermined direction. For example, the contact portion 2a is formed in a cylindrical body so as to make point contact with the side surface 3a of the glass substrate 3, and is rotatable with respect to the support pressing portion 2c by a rotation shaft 2b and a bearing 2d provided coaxially. It is attached. The rotation support is not limited to the bearing, and any rotation support mechanism can be used.
[0020]
The support pressing portion 2c rotatably supports the contact portion 2a via a rotation support mechanism such as a bearing 2d and urges the contact portion 2a in a predetermined direction. The urging of the contact portion 2a presses the glass substrate 3 in contact with the contact portion 2a in a predetermined direction and aligns the glass substrate 3 at a predetermined position. An arbitrary mechanism such as a spring mechanism or a link mechanism can be used as the mechanism for pressing the contact portion 2a in a predetermined direction. In FIG. 2, this pressing mechanism is omitted.
[0021]
Thereby, the substrate position alignment mechanism 2 brings the contact portion 2a into contact with the side surface 3a of the glass substrate 3 placed on the pallet 4 by the pressing operation by the support pressing portion 2c, and further makes the glass substrate 3 in a predetermined direction. Press on.
[0022]
When the contact portion 2 a presses the glass substrate 3, if the pressing direction of the contact portion 2 a is not perpendicular to the direction of the side surface 3 a of the glass substrate 3, the side surface 3 a from the contact portion 2 a to the glass substrate 3. In addition to the force to move in a direction perpendicular to the side, a lateral force parallel to the side surface 3a is generated. This lateral force gives a rotational motion to the glass substrate 3, and aligns the glass substrate 3 with a predetermined inspection position along with the moving motion.
[0023]
On the other hand, the contact portion 2 a receives a reaction from the glass substrate 3. At this time, when the pressing direction of the contact portion 2a and the side surface 3a are not perpendicular to the glass substrate 3, a lateral force perpendicular to the pressing direction is applied to the contact portion 2a. This lateral force becomes a rotational force for rotating the contact portion 2a around the rotation shaft 2b, and rotates the contact portion 2a. Thus, even if a force is generated in the lateral direction at the contact point between the contact portion 2a and the side surface 3a of the glass substrate 3, the force is canceled in the lateral direction by the rotation of the contact portion 2a. The biting between the portion 2a and the side surface 3a of the glass substrate 3 can be prevented.
[0024]
3 and 4 are a plan view and a schematic perspective view showing the arrangement state of the substrate position alignment mechanism 2 and the alignment state of the glass substrate. In FIG. 3, a hatched portion 6 represents an inspection position, and a solid line portion 7 represents an outer shape portion of the glass substrate. 3 and 4 show an example in which five substrate position alignment mechanisms 2A to 2E are arranged.
[0025]
3 and 4, the substrate position alignment mechanisms 2 </ b> A to 2 </ b> E are arranged at the outer peripheral position of the inspection position 6 indicated by oblique lines. The inspection position 6 can be set at a predetermined position on a pallet (not shown).
[0026]
In this arrangement, a predetermined distance is provided between the substrate position alignment mechanisms 2 </ b> A to 2 </ b> E and the inspection position 6. Thereby, when the glass substrate 3 is placed on the pallet, interference with the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E can be prevented. The distance between the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E and the inspection position 6 is determined, for example, by the amount of deviation between the glass substrate immediately after being transferred onto the pallet by the rotor and the predetermined alignment position. In addition, when the movement distance by the press part of board | substrate position alignment mechanism 2A-2E is small, and sufficient distance margin is not obtained in order to prevent interference at the time of mounting of the glass substrate 3, board | substrate position alignment mechanism 2A- 2E is installed on a predetermined moving means such as a link mechanism, and after placing the glass substrate on the pallet, the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E are brought close to the glass substrate 3, and then the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E are used. You may make it the structure which aligns.
[0027]
FIG. 3A shows a state where the glass substrate is placed on the pallet, and the outer shape 7 of the glass substrate shows a state where the glass substrate is displaced from the inspection position 6. FIG. 3B and FIG. 4A show a state in which the contact portion is brought into contact with the side surface of the substrate by the support pressing portions provided in the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E. In addition, the arrow in a figure has shown the pressing direction. By bringing the contact portion into contact with the side surface of the substrate, the glass substrate is subjected to movement and rotation and is aligned toward the inspection position 6.
[0028]
FIG. 3C and FIG. 4B show a state where the glass substrate is aligned with the inspection position 6. In the inspection position 6, the force applied to the glass substrate from each of the substrate position alignment mechanisms 2A to 2E is balanced and stable alignment is maintained.
[0029]
It should be noted that the force applied to the glass substrate from each of the substrate position alignment mechanisms 2 </ b> A to 2 </ b> E is in a direction to align the glass substrate with the inspection position 6, and the glass substrate is kept in an equilibrium state at the inspection position 6. In addition, the installation number of each substrate position alignment mechanism 2, the installation position, and the pressing force of each substrate position alignment mechanism 2 are determined in advance.
[0030]
Next, an example of the support pressing part 2c will be described with reference to FIGS. The illustrated example is a configuration example in which a pressing force is generated using a bellows. 5 is a view of the support pressing portion viewed from above, and FIG. 6 is a view of the support pressing portion viewed from the lateral direction.
[0031]
In the support pressing portion 2c, both ends of the pair of guides 2c3 are connected by a pair of plates 2c1 and 2c2, and the guide 2c3 is slidably supported by a slide bearing 2c4 fixed to the pallet 4 side. One plate 2c1 fixes the contact portion 2a, the other plate 2c2 fixes one end of the bellows 2c5, and the other end of the bellows 2c5 contacts the reference surface 8 on the substrate inspection apparatus side such as the pallet 4. Also, the slide bearing 2c4 is fixed to the substrate inspection apparatus side. Thereby, one end of the bellows is fixed to the base side of the substrate inspection apparatus, and the other end is fixed to the contact portion side. The bellows 2c5 presses the contact portion 2a in a predetermined direction by deformation of the bellows caused by the difference between the pressure difference inside and outside the bellows and the elastic force of the bellows.
[0032]
For example, in the case of a configuration in which the inside of the bellows 2c5 is decompressed, the compression force due to the pressure difference between the inside and outside of the bellows overcomes the elastic force of the bellows and the bellows 2c5 is compressed at atmospheric pressure. FIG. 5A and FIG. 6A show this compressed state. When the bellows 2c5 is compressed, one end of the bellows 2c5 is in contact with the reference plane 8, so the other end of the bellows 2c5 moves in the right direction in the figure. Since the other end of the bellows 2c5 is fixed to the plate 2c2, and this plate 2c2 is fixed to the guide 2c3, the contact portion 2a is pressed in a direction away from the reference plane 8 via the guide 2c3 and the plate 2c1.
[0033]
On the other hand, when the substrate position alignment mechanism 2 is placed in a vacuum state, the pressure difference between the inside and outside of the bellows decreases, and the bellows 2c5 expands due to the elastic force of the bellows. FIG. 5B and FIG. 6B show this expanded state. When the bellows 2c5 expands, one end of the bellows 2c5 is in contact with the reference surface 8, and therefore the other end of the bellows 2c5 moves to the left in the drawing. Since the other end of the bellows 2c5 is fixed to the plate 2c2, and this plate 2c2 is fixed to the guide 2c3, the contact portion 2a is pressed in a direction approaching the reference plane 8 via the guide 2c3 and the plate 2c1.
[0034]
In the configuration in which the contact portion 2a is arranged outside the pallet 4, FIGS. 5 (b) and 6 (b) show that the contact portion 2a moves the side surface 3a of the substrate 3 from the outside to the inside as the bellows expands. It will push toward. In FIG. 6, the contact portion 2a shows a state in which the side surface 3a of the substrate 3 is pressed leftward.
[0035]
In the above description, g shown for the configuration example in which the inside of the bellows is depressurized may be the same for the configuration example in which the inside of the bellows is pressurized.
[0036]
In this configuration example, the elastic force of the bellows is in a contracting direction. In the case of a configuration in which the inside of the bellows 2c5 is pressurized, the bellows 2c5 is compressed in the atmospheric pressure because the sum of the atmospheric pressure and the contraction force of the bellows overcomes the pressure in the bellows (FIG. 5A, FIG. a)) In the same manner as described above, the contact portion 2a is pressed in a direction away from the reference plane 8 via the guide 2c3 and the plate 2c1.
[0037]
On the other hand, when the substrate position alignment mechanism 2 is placed in a vacuum state, the pressure in the bellows overcomes the contraction force of the bellows and the bellows 2c5 expands (FIGS. 5B and 6B). The contact portion 2a is pressed in a direction approaching the reference plane 8 via the guide 2c3 and the plate 2c1.
[0038]
FIG. 7 shows an example in which the support pressing means 2 (2 </ b> A to 2 </ b> E) shown in FIGS. 5 and 6 is installed on the pallet 4 in the load chamber 5. In this configuration, the support pressing means 2 (2A to 2E) is disposed inside the pallet 4, the contact portion 2a that contacts the side surface 3a of the substrate is disposed outside the pallet 4, and the contact portion 2a is the side surface of the substrate. Are configured to contact from the outside and press toward the inside.
[0039]
In this configuration, the contact portion 2a can be brought into contact with the side surface of the substrate and pressed by using the pressure difference by exhausting the load chamber 5, and can be aligned with a predetermined inspection position.
[0040]
According to the embodiment of the present invention, the portion that contacts the side surface of the substrate is configured to be rotationally supported, so that it is possible to prevent galling with the substrate and to prevent a positioning error.
[0041]
Moreover, according to the form of this invention, the drive mechanism and drive source for pressing can be made unnecessary by using a pressure difference for the structure which presses and aligns a board | substrate. Further, by eliminating the need for a drive mechanism or drive source, wiring in the substrate inspection apparatus can be eliminated.
[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the substrate inspection apparatus of the present invention, the substrate inspection apparatus can surely and smoothly move the substrate to the alignment position.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view for explaining a substrate inspection apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view and a perspective view for explaining a substrate position alignment mechanism of the substrate inspection apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing an arrangement state of a substrate position alignment mechanism of the present invention and an alignment state of a glass substrate.
FIG. 4 is a schematic perspective view showing an arrangement state of a substrate position alignment mechanism of the present invention and an alignment state of a glass substrate.
FIG. 5 is a view of the support pressing portion of the present invention as viewed from above.
FIG. 6 is a view of the support pressing portion of the present invention viewed from the lateral direction.
FIG. 7 is a view showing an example in which a support pressing unit is installed on a pallet in a load chamber.
FIG. 8 is a schematic view for explaining a substrate position alignment mechanism in a conventional substrate inspection apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate inspection apparatus, 2A-2E ... Board position alignment mechanism, 2a ... Contact part, 2b ... Rotating shaft, 2c ... Supporting press part, 2c1 ..., 2c2 ... Plate, 2c3 ... Guide, 2c4 ... Slide guide, 2c5 ... Bellows,
2d ... bearing, 3 ... glass substrate, 3a ... side face, 4 ... pallet, 5 ... load chamber, 6 ... inspection position, 7 ... outer shape, 8 ... reference plane, 9 ..., 12 ... substrate position alignment mechanism, 12a ... plate, 12b: Plate surface.

Claims (1)

パレット上に配置した基板を所定検査位置に位置決めする複数の基板位置アライメント機構を備えた前記パレットと、前記パレットが内部に挿入されるロードロックチャンバを備え、前記ロードロックチャンバを真空状態にして基板検査を行う基板検査装置であって、
当該基板位置アライメント機構は、
基板の側面と点接触する当接部と、
当該当接部を回転支持すると共に所定方向に押圧する支持押圧部とを備え、
前記支持押圧部は内部を所定圧力とするベローズを備え、
当該ベローズの一端を前記ロードロックチャンバのベース側に、他端を当接部側に固定し、ベローズ内部と前記ロードロックチャンバ内の圧力差とベローズの弾性力との差分により生じるベローズの変形により所定方向の押圧力を発生し、
当該支持押圧部は、当接部を介して基板側面を所定方向に押圧することにより、前記基板を所定検査位置に位置合わせすることを特徴とする、基板検査装置。
The pallet comprising a plurality of substrate position alignment mechanisms for positioning a substrate placed on the pallet at a predetermined inspection position, and a load lock chamber into which the pallet is inserted, and the load lock chamber is placed in a vacuum state to form a substrate A substrate inspection apparatus for performing inspection,
The substrate position alignment mechanism is
A contact portion in point contact with the side surface of the substrate;
A support pressing portion for rotating and supporting the contact portion in a predetermined direction;
The support pressing portion includes a bellows having a predetermined pressure inside,
One end of the bellows is fixed to the base side of the load lock chamber and the other end is fixed to the contact portion side, and the bellows is deformed by the difference between the pressure difference in the bellows and the load lock chamber and the elastic force of the bellows. Generates a pressing force in a predetermined direction,
The support pressing portion, by pressing the substrate side in a predetermined direction through the contact portion, characterized by aligning the substrate in a predetermined inspection position, the substrate inspection device.
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