JP4389062B2

JP4389062B2 - 置換ピラゾール誘導体を含有する除草剤組成物

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Publication number: JP4389062B2
Application number: JP2002188246A
Authority: JP
Inventors: 原洋司廣; 田英二生; 村卓生木
Original assignee: 株式会社エス・ディー・エスバイオテック
Priority date: 2002-06-27
Filing date: 2002-06-27
Publication date: 2009-12-24
Anticipated expiration: 2022-06-27
Also published as: JP2004026758A

Description

【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、除草剤の有効成分として優れる置換ピラゾール誘導体とそれ以外の特定の除草化合物とを混用することを特徴とする除草剤組成物に関する。より詳しくは、置換ピラゾール誘導体と混用する除草化合物とによる除草作用の相乗効果が発揮され、殺草スペクトラムが広く、低薬量で施行できて、しかも、いくつかの重要作物に対して充分な安全性を示す除草剤組成物に関するものである。これは化学工業ならびに農業、とくに農薬の製造業の分野で有用である。
【０００２】
【発明の技術的背景】
現在、重要な作物、たとえば、コムギ、オオムギ、イネ、トウモロコシ、ダイズなどの栽培において、数多くの除草剤が使用されている。しかし、除草対象となる雑草は種類が多く、発生も長期間にわたるため、このような除草剤の多くは、除草活性、殺草スペクトラム、残効性や作物選択性の諸点において、必ずしも充分とはいえないという問題点があった。さらに抵抗性雑草の多発生も問題となっており、殺草スペクトルの狭い除草剤または少量の施用では、難防除性雑草の完全な防除を期待できそうにない。このため、同一または異なる除草剤を数回にわたり、あるいは多量に使用しなければならず、労力やコストの点のみならず、作物に対する薬害や土壌残留などの問題も付随して起きる。
【０００３】
したがって、より効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有するとともに作物に対し充分な安全性を示す除草剤組成物が依然として切望されている。
本発明者らは、上記の状況に鑑みて、種々検討した結果、下記の一般式[I]で表される置換ピラゾール誘導体は、殺草スペクトラムが広く、優れた除草効力を有することを発見した。さらに、この置換ピラゾール誘導体と特定の除草化合物との混用による除草剤組成物は、低薬量の施行であっても、優れた除草効力を相乗的に示すとともに、いくつかの重要作物に対して充分な安全性を示す、価値ある除草化合物の組み合わせであることも見出して本発明を完成するに至った。
【０００４】
【化３】

【０００５】
除草活性を有する上記置換ピラゾール誘導体［I］については、すでに同一出願人による特許出願（特願2001-214479号）において開示されている。しかしながら、上記置換ピラゾール誘導体と他の特定の除草化合物との混用が除草作用の相乗効果を顕著に奏することに関しては、これまで全く見出されていなかったものである。
【０００６】
【発明の目的】
本発明は、上記一般式[I]で表される置換ピラゾール誘導体とそれ以外の特定の除草化合物との混用により除草作用の相乗効果を示す除草剤組成物、すなわち、殺草スペクトラムが広く、低薬量の施行であっても、優れた除草効力を示すとともに、いくつかの重要作物に対して充分な安全性を示す除草剤組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
【発明の概要】
（１）本発明に係る除草剤組成物は、
下記の一般式［I］で表される置換ピラゾール誘導体の1種または２種以上と、
【０００８】
【化４】

【０００９】
［式［I］中、
Ｘは、R¹OOC、R¹HNOC、R¹R¹NOC、シアノ基、５員または6員芳香族複素環式基を表し、
Ｗは、炭素数1〜3のアルキレン基またはNR¹を表し、
Ｒは、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基を表し、
Ａ、Ｂ、Ｄは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、またはR¹、R¹O、R¹S、R¹SO、R¹SO₂、(R¹)₂N、R¹OOC、R¹OR²、R¹ON=CH、シアノ基、ニトロ基、炭素数2〜4の低級アルケニル基、炭素数2〜4の低級アルキニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、Ph、PhCH₂、PhO、PhCH₂O、PhOR²、PhS、PhCH₂S、PhSR²、PhCH₂ON=CH、Naph、Hetよりなる群から選ばれる基を表すが、Ａ、Ｂ、Ｄが同時に水素原子を表すことはなく、Ａ、Ｂ、Ｄが同時に芳香族基または芳香族複素環式基を表すことはない。ここで、
R¹は、炭素数1〜4の低級アルキル基または、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基を表し、
R²は、炭素数1〜4の低級アルキレン基を表し、
Phは、無置換または置換基を有するフェニル基を表し、
Naphは、無置換または置換基を有するナフチル基を表し、
Hetは、無置換または置換基を有する５員または6員芳香族複素環式基を表す。］
混用される除草化合物として、ジニトロアニリン系化合物、ウレア系化合物、アミド系化合物、カーバメート系化合物、ジフェニルエーテル系化合物またはスルホニルウレア系化合物から選択される1種または2種以上の化合物とを
有効成分として含有することを特徴としている。
（２）上記（１）の除草剤組成物の置換ピラゾール誘導体は、一般式[I]において、
【００１０】
【化５】

【００１１】
ＸがＲ¹ＯＯＣ、
Ｗがメチレン基またはエチレン基、
Ｒがメチル基、
Ａ、Ｂが、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ¹、Ｒ¹Ｓのいずれかであって、
Ｄが無置換または置換基を有するフェニル基、
［Ｒ¹は、炭素数１〜４の低級アルキル基または、炭素数１〜４の低級ハロアルキル基を表す。］
である場合が好ましい。
（３）また、上記（１）の除草剤組成物の置換ピラゾール誘導体として、好ましくは下記の表１に掲げられている化合物番号１〜４７からなる化合物の群より少なくとも１種選択されるものが望ましい。
（４）さらに上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、ジニトロアニリン系化合物である組成物が含まれる。
（５）上記（４）のジニトロアニリン系化合物は、トリフルラリン、ペンディメタリン、ベスロジン、エタルフルラリン、プロジアミン、オリザリン、ブトラリン、フルメトラリン、ニトラリンから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（６）さらに上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、ウレア系化合物である組成物が含まれる。
（７）上記（６）のウレア系化合物は、リニュロン、モノリニュロン、ネブロン、クロロトルロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、エチジムロン、メタベンズチアズロン、ジメフロン、フルオメツロン、チアザフルロン、シクルロン、ジウロン、メトキスロン、シデュロンから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（８）上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、アミド系化合物である組成物が含まれる。
（９）上記（８）のアミド系化合物は、プロパクロール、ジメタクロール、メタザクロール、アラクロール、メトラクロール、Ｓ−メトラクロール、アセトクロール、プロピソクロール、フルフェナセット、ジメテナミド、プレチラクロール、テニルクロール、ブタクロール、カフェンストロール、フラムプロップメチル、フラムプロップＭメチル、フラムプロップエチル、フラムプロップイソプロピル、フラムプロップＭイソプロピル、ベンゾイルプロップエチルから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（１０）上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、カーバメート系化合物である組成物が含まれる。
（１１）上記（１０）の除草剤組成物のカーバメート系化合物は、トリアレート、ＥＰＴＣ、ブチレート、プロスルホカルブ、バルバン、オルソベンカーブ、バーナレート、ＩＰＣから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（１２）上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、ジフェニルエーテル系化合物である組成物が含まれる。
（１３）上記（１２）の除草剤組成物のジフェニルエーテル系化合物は、ビフェノックス、アシフルオルフェン、オキシフルオルフェン、フルオログリコフェン、ラクトフェン、ホメサフェン、アクロニフェン、エトキシフェンエチル、ジクロホップメチルから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（１４）さらに上記（１）〜（３）の除草剤組成物には、上記混用される除草化合物が、スルホニルウレア系化合物である組成物が含まれる。
（１５）上記（１４）の除草剤組成物のスルホニルウレア系化合物は、アミドスルフロン、クロリムロンエチル、オキサスルフロン、プリミスルフロン、ホラムスルフロン、ベンスルフロンメチル、エトキシスルフロン、シクロスルファムロン、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、トリベニュロンメチル、ヨードスルフロン、イソスルフロンメチル、プロスルフロン、トリアスルフロン、エタメトスルフロンメチル、シノスルフロン、トリフルスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、ハロスルフロンメチル、フラザスルフロン、トリフロキシスルフロン、リムスルフロン、ニコスルフロン、フルピルスルフロン、イマゾスルフロン、スルホスルフロンから選ばれる一種類以上の化合物が好ましい。
（１６）上記（１）の除草剤組成物の置換ピラゾール誘導体は、一般式［Ｉ］において、
【００１２】
【化６】

【００１３】
ＸがR¹OOC、R¹HNOC、R¹R¹NOC、
Ｗが炭素数1〜3の低級アルキレン基、
Ｒが炭素数1〜4の低級アルキル基、
Ａ、Ｂが、水素原子、ハロゲン原子、R¹、R¹Sのいずれかであって、
Ｄがフェニル基、ナフチル基または５員もしくは６員芳香族複素環式基を表し（これらの基は無置換であるか、または置換基を有してもよい。）、
［上記R¹は、炭素数1〜4の低級アルキル基または、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基を表す。］
である場合がより好ましい。
【００１４】
【発明の具体的説明】
本発明者らは、一般式 [Ｉ]で示される置換ピラゾール誘導体と、ジニトロアニリン系化合物、ウレア系化合物、アミド系化合物、カーバメート系化合物、ジフェニルエーテル系化合物またはスルホニルウレア系化合物から選択される1種以上の化合物（以下「混用する除草化合物」という。）とを混用することにより、その除草効力は、それらを単独で用いる場合に比較して相乗的に増強されることを見出した。具体的には低薬量で施用できるだけでなく、難防除雑草を含む雑草に対して幅広い殺草スペクトラムを有し、麦などの作物に対して薬害がないことを見出した。本発明はこのような発見に基づいて完成されたものである。
【００１５】
以下、本発明に係る除草剤組成物について、「置換ピラゾール誘導体」、「混用する除草化合物」および「置換ピラゾール誘導体を含有する除草剤組成物」の順に詳細に説明する。
なお、本明細書において、化合物の塩、エステル形、ラセミ体、ジアステレオマー（鏡像体が存在する場合）などもその化合物の範囲に包含される。
【００１６】
＜置換ピラゾール誘導体＞
本発明の除草剤組成物に含まれる有効成分の１つである置換ピラゾール誘導体は、一般式［I］で表される。
【００１７】
【化７】

【００１８】
式［I］中、Ｘは、R¹OOC、R¹HNOC、R¹R¹NOC、シアノ基、５員または6員芳香族複素環式基を表す。ここでR¹は、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐状であってもよい。ここでハロアルキル基とは、１以上の同一もしくは異なるハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基をいう。
【００１９】
R¹OOCとしては、たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などが挙げられる。これらのうちでは、メトキシカルボニル基が好ましい。
R¹HNOCとしては、たとえば、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基などが挙げられ、R¹R¹NOC基としては、たとえば、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、エチルメチルカルボニル基などが挙げられる。これらのうちでは、メチルアミノカルボニル基が好ましい。
【００２０】
５員または６員芳香族複素環式基は、Ｎ、Ｏ、Ｓ原子を環原子として含む５員環または６員環芳香族化合物残基であり、たとえば、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基などが挙げられる。
式［I］中、Ｗは、炭素数1〜3のアルキレン基またはNR¹を表し、たとえば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルアミノ基、エチルアミノ基などが挙げられる。これらのうちでは、メチレン基が好ましい。
【００２１】
式［I］中、Ｒは、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基を表し、直鎖状であっても分岐状であってもよく、たとえば、メチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。これらのうちでは、メチル基が好ましい。
式［I］中、Ａ、Ｂ、Ｄは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、またはR¹、R¹O、R¹S、R¹SO、R¹SO₂、(R¹)₂N、R¹OOC、R¹OR²、R¹ON=CH、シアノ基、ニトロ基、炭素数2〜4の低級アルケニル基、炭素数2〜4の低級アルキニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、Ph、PhCH₂、PhO、PhCH₂O、PhOR²、PhS、PhCH₂S、PhSR²、PhCH₂ON=CH、Naph、Hetよりなる群から選ばれる基を表すが、Ａ、Ｂ、Ｄが同時に水素原子を表すことはなく、Ａ、Ｂ、Ｄの2以上が同時に芳香族基または芳香族複素環式基を表すことはない。
【００２２】
ここでR¹は、前記と同様であり、R²は、炭素数1〜4の低級アルキレン基を表し、Phは、無置換または置換基を有するフェニル基を表し、Naphは、無置換または置換基を有するナフチル基を表し、Hetは、無置換または置換基を有する５員もしくは6員芳香族複素環式基を表す。
このようなＡ、Ｂ、Ｄにおいて、ハロゲン原子としては、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、R¹としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、これらの異性体基などが挙げられ、R²としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、これらの異性体基などが例示される。
【００２３】
また、R¹Oとしては、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。これらのうちでは、メトキシ基が好ましい。
R¹Sとしては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基などが挙げられ、これらのうちではメチルチオ基が好ましい。
R¹SOとしては、たとえば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基などが挙げられ、これらのうちではメチルスルフィニル基が好ましい。
【００２４】
R¹SO₂としては、たとえば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基などが挙げられ、これらのうちではメチルスルホニル基が好ましい。
(R¹)₂Nとしては、たとえば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、エチルメチルアミノ基などが挙げられる。
【００２５】
R¹OOCとしては、たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などが挙げられ、これらのうちではメトキシカルボニル基が好ましい。
R¹OR²としては、たとえば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基などが挙げられる。
【００２６】
R¹ON=CHとしては、たとえば、メトキシイミノメチル基などが挙げられる。
炭素数2〜4の低級アルケニル基は、直鎖状でも分岐状でもよく、たとえば、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、これらの異性体基が挙げられる。
炭素数2〜4の低級アルキニル基は直鎖状でも分岐状でもよく、たとえば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、これらの異性体基が挙げられる。
【００２７】
炭素数3〜7のシクロアルキル基としては、たとえば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基が挙げられ、これらのうちではシクロプロピル基が好ましい。
さらに前記Ａ、Ｂ、Ｄにおいて、Phは、フェニル基を表すか、ハロゲン原子、または、R¹、R¹O、R¹S、R¹SO、R¹SO₂、(R¹)₂N、R¹OOC、R¹OR²、R¹ON=CH、シアノ基、ニトロ基、炭素数2〜4の低級アルケニル基、炭素数2〜4の低級アルキニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基からなる群より選ばれた基で置換された１〜５置換フェニル基、もしくはPh、PhCH₂、PhO、PhCH₂O、PhCH₂ON=CR¹、PhCO、Het-Oからなる群より選ばれた基で置換された１置換フェニル基を表す。
【００２８】
ここでHetは、５員または6員芳香族複素環式基、もしくは２つの置換基R¹および／または置換基R¹Oが近接位にあり、ベンゼン環と環状構造を形成した置換基を有する５員または6員芳香族複素環式基を表す。具体的には、たとえば、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基、２，２−ジメチル−１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基、２，２−ジフルオロ−１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基などが挙げられる。
【００２９】
前記Ａ、Ｂ、Ｄにおいて、Naphは、ナフチル基、または、ハロゲン原子、R¹、R¹Oにより置換された１〜2置換ナフチル基を表す。
前記Ａ、Ｂ、Ｄにおいて、Hetは、上記のほかに、炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子により置換された１〜４置換５員芳香族複素環式基、１〜４置換6員芳香族複素環式基であってもよい。２−メチル−６−ピリジル基、３，５−ジメチル−２−フリル基、３，５−ジメチル−２−チエニル基、Ｎ−メチル−３−ピロリル基、２，４−ジメチル−５−チアゾイル基などが例示される。
【００３０】
このようなＡ、Ｂ、Ｄとしては、フェニル基、メチルフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、３−［１−（クロロベンジルオキシイミノ）−エチル］フェニル基、３−（ベンジルオキシ）フェニル基、３−（メチルベンジルオキシ）フェニル基、３−（クロロベンジルオキシ）フェニル基、３−（シアノベンジルオキシ）フェニル基、３−（ジメチルベンジルオキシ）フェニル基、３−（ジクロロベンジルオキシ）フェニル基、３−（ピリジルメトキシ）フェニル基、３−（ベンゾイルオキシ）フェニル基、３−（クロロベンゾイルオキシ）フェニル基、３−（６−クロロピリミジン−４−イルオキシ）フェニル基、３−（６−メトキシピリミジン−４−イル−オキシ）フェニル基、３−［６−（２−メチルフェノキシ）−ピリミジン−４イル−オキシ］フェニル基、［６−（２−シアノフェノキシ）ピリミジン−４イル−オキシ］フェニル基、３−（６−クロロ−５−ニトロピリミジン−４−イル−オキシ）フェニル基、３−（２−ベンゾチアゾリルオキシ）フェニル基、ベンジル基、フェノキシメチル基、メチルフェノキシメチル基、フェニルチオメチル基、メチルフェニルチオメチル基、１−フェノキシエチル基、１−（メチルフェノキシ）エチル基、１−フェニルチオエチル基、１−（メチルフェニルチオ）エチル基、１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基、２，２−ジメチル−１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基、２，２−ジフルオロ−１，３−ベンゾジオキソル−４−イル基、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２−クロロフェノキシ基、３−クロロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−トリフルオロメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジクロロフェノキシ基、２−クロロ−５−トリフルオロメチルフェノキシ基、フェニルチオ基、２−メチルフェニルチオ基、３−メチルフェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、２−クロロフェニルチオ基、３−クロロフェニルチオ基、４−クロロフェニルチオ基、２−トリフルオロメチルフェニルチオ基、２，５−ジメチルフェニルチオ基、２，５−ジクロロフェニルチオ基、２−クロロ−５−トリフルオロメチルフェニルチオ基、ベンジルオキシ基、２−メチルベンジルオキシ基、３−メチルベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、２−クロロベンジルオキシ基、３−クロロベンジルオキシ基、４−クロロベンジルオキシ基、２−トリフルオロメチルベンジルオキシ基、２，５−ジメチルベンジルオキシ基、２，５−ジクロロベンジルオキシ基、２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンジルオキシ基、ベンジルチオ基、２−メチルベンジルチオ基、３−メチルベンジルチオ基、４−メチルベンジルチオ基、２−クロロベンジルチオ基、３−クロロベンジルチオ基、４−クロロベンジルチオ基、２−トリフルオロメチルベンジルチオ基、２，５−ジメチルベンジルチオ基、２，５−ジクロロベンジルチオ基、２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンジルチオ基、ベンジルオキシイミノメチル基、２−メチルベンジルオキシイミノメチル基、３−メチルベンジルオキシイミノメチル基、４−メチルベンジルオキシイミノメチル基などが好ましく挙げられる。
【００３１】
このような一般式[I]で表される置換ピラゾール誘導体の例として、具体的には、表1に掲げる化合物が挙げられる。ただし、本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、これらに限定されるものではない。なお、表中の化合物番号は、後の実施例の記載においても参照される。表中において、Meはメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基、Phは無置換のフェニル基（表１においてのみ）を表す。
【００３２】
【表１】

【００３３】
また、これらの化合物の物性値を以下の表2に示す。
【００３４】
【表２】

【００３５】
・置換ピラゾール誘導体の製造
前記一般式[I]で表される置換ピラゾール誘導体は、前記文献（特開平10-168063号公報、欧州特許第0945437A1号公報）などに記載の方法に従い、製造することができる。たとえば、式［I］中、ＸがR¹OOC、Ｗが炭素数1〜3のアルキレン、Ｒが炭素数1〜4の低級アルキル、ＤがPhである置換ピラゾール誘導体は、下記一般式[II]（式中、ｎは１〜3）で示されるアルカン酸エステル誘導体（酢酸エステル誘導体、プロピオン酸エステル誘導体またはブタン酸エステル誘導体）とホルミル化剤とを、塩基および溶媒の存在下で反応させ、次に塩基の存在下でアルキル化剤と反応させることにより、好適に製造できる。
【００３６】
【化８】

【００３７】
上記一般式[II]で示されるアルカン酸エステルと、ホルミル化剤との反応において、ホルミル化剤としてはギ酸エステル類、酸アミド類が用いられる。また、塩基としては、水素化ナトリウム、アルキルリチウム類、リチウムアミド類などが用いられる。
反応に供せられる試剤の量は、一般式[II]で示されるアルカン酸エステル誘導体１当量に対してホルミル化剤は約１〜１０当量、塩基は１〜２当量である。また上記反応には通常、エーテル類、酸アミド類などの溶媒が用いられる。
【００３８】
次に、アルキル化剤との反応においては、アルキル化剤として、アルキルハロゲン化物、硫酸エステル類が使用され、塩基としては、ピリジンなどの三級アミン類、水素化ナトリウムなどの無機塩基類などが用いられる。
反応に供せられる試剤の量は、ホルミル化した化合物１当量に対してアルキル化剤は通常約１〜２当量、塩基は約１〜２当量である。上記反応は通常、エーテル類、酸アミド類、ケトン類などの溶媒が用いられる。反応終了後は通常の後処理を行い、必要に応じて精製することにより、目的とする置換ピラゾール誘導体を得ることができる。
【００３９】
なお、一般式[II]で示されるアルカン酸エステル誘導体は、一般式［III］
【００４０】
【化９】

【００４１】
（式中、Ａ、Ｂは前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾール誘導体と、
一般式［IV］
【００４２】
【化１０】

【００４３】
（式中、Ｚはハロゲン原子を表し、Ｒ¹は炭素数１〜４の低級アルキル基を表し、ｎは０、１または２を表す。）で示されるハロ酢酸エステル、ハロプロピオン酸エステル、またはハロブタン酸エステルとを塩基の存在下に反応させることによって得られる。
また、一般式［III］で示されるピラゾール誘導体の製造方法などの詳細は上記の文献に記載されたとおりである。
・置換ピラゾール誘導体の除草活性
以下、置換ピラゾール誘導体の殺草スペクトラムとその作物選択性について具体的に説明する。
（Ａ）殺草スペクトラム
（Ａ１）畑における殺草スペクトラム
本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、畑地、非農耕地用除草剤として、土壌処理、土壌混和処理、茎葉処理のいずれの処理方法においても、イヌホウズキ（Solanum nigrum）、チョウセンアサガオ（Datura stramonium)などに代表されるナス科（Solanaceae）雑草、イチビ（Abutilon theophrasti）、アメリカキンゴジカ（Sida spinosa）などに代表されるアオイ科（Malvaceae)雑草、マルバアサガオ（Ipomoea purpurea）などのアサガオ類（Ipomoea spps.)やヒルガオ類（Calystegia spps.）などに代表されるヒルガオ科（Convolvulaceae）雑草、イヌビユ（Amaranthus lividus）、アオビユ（Amaranthus retroflexus）などに代表されるヒユ科（Amaranthaceae)雑草、オナモミ（Xanthium pensylvanicum）、ブタクサ（Ambrosia artemisiaefolia）、ヒマワリ（Helianthus annuus)、ハキダメギク（Galinsoga ciliata)、セイヨウトゲアザミ（Cirsium arvense)、ノボロギク（Senecio vulgaris）、ヒメジョン（Erigeron annus）、イヌカミツレ（Matricaria inodora）などに代表されるキク科（Compositae）雑草、イヌガラシ（Rorippa indica）、ノハラガラシ（Sinapis arvensis）、ナズナ（Capsella Bursapastoris）などに代表されるアブラナ科（Cruciferae）雑草、イヌタデ（Polygonum Blumei）、ソバカズラ（Polygonum convolvulus)などに代表されるタデ科（Polygonaceae）雑草、スベリヒユ（Portulaca oleracea）などに代表されるスベリヒユ科（Portulacaceae)雑草、シロザ（Chenopodium album)、コアカザ（Chenopodium ficifolium）、ホウキギ（Kochia scoparia)などに代表されるアカザ科（Chenopodiaceae）雑草、ハコベ（Stellaria media)などに代表されるナデシコ科（Caryophyllaceae)雑草、オオイヌノフグリ（Veronica persica）などに代表されるゴマノハグサ科（Scrophulariaceae）雑草、ツユクサ（Commelina communis）などに代表されるツユクサ科（Commelinaceae)雑草、ホトケノザ（Lamium amplexicaule)、ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）などに代表されるシソ科（Labiatae）雑草、コニシキソウ（Euphorbia supina）、オオニシキソウ（Euphorbia maculata）などに代表されるトウダイグサ科（Euphorbiaceae)雑草、ヤエムグラ（Galium spurium）、アカネ（Rubia akane)などに代表されるアカネ科（Rubiaceae)雑草、スミレ（Viola mandshurica)などに代表されるスミレ科（Violaceae)雑草、アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata)、エビスグサ（Cassia obtusifolia）などに代表されるマメ科（Leguminosae)雑草などの広葉雑草、野生ソルガム（Sorgham bicolor)、オオクサキビ（Panicum dichotomiflorum)、ジョンソングラス（Sorghum halepense)、イヌビエ（Echinochloa crus-galli var. crus-galli）、ヒメイヌビエ（Echinochloa crus-galli var. praticola)、ヒエ（Echinochloa utilis）、メヒシバ（Digitaria adscendens）、カラスムギ（Avenafatua）、オヒシバ（Eleusine indica)、エノコログサ（Setaria viridis)、スズメノテッポウ（Alopecurus aegualis) 、スズメノカタビラ（Poa annua)などに代表されるイネ科雑草、ハマスゲ（Cyperus rotundus, Cyperus esculentus）などに代表されるカヤツリグサ科雑草などの各種畑地雑草に低薬量で高い殺草力を有する。
【００４４】
さらに、刈り取り跡、休耕畑、樹園地、牧草地、芝生地、線路端、空き地、林業地、あるいは農道、畦畔、その他の非農耕地に発生する広範囲の雑草を除草できる。
（Ａ２）水田における殺草スペクトラム
本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、水田用除草剤として、湛水下の土壌処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても、ヘラオモダカ（Alisma canaliculatum）、オモダカ（Sagittaria trifolia)、ウリカワ（Sagittaria pygmaea）などに代表されるオモダカ科雑草、タマガヤツリ（Cyperus difformis)、ミズガヤツリ（Cyperus serotinus)、ホタルイ（Scirpus juncoides)、クログワイ（Eleocharis kuroguwai）、マツバイ（Eleocharis acicularis）などに代表されるカヤツリグサ科雑草、アゼナ（Lindernia pyxidaria）などに代表されるゴマノハグサ科雑草、コナギ（Monochoria vaginalis）などに代表されるミズアオイ科雑草、ヒルムシロ（Potamogeton distinctus）などに代表されるヒルムシロ科雑草、セリ（Oenanthe javanica）に代表されるセリ科雑草、キカシグサ（Rotala indica)、ヒメミソハギ（Ammannia multiflora）などに代表されるミソハギ科雑草、ミゾハコベ（Elatine triandra）に代表されるミゾハコベ科雑草、タイヌビエ（Echinochloa oryzicola)、ヒメタイヌビエ（Echinochloa crus-galli var. formosensis)、イヌビエ（Echinochloa crus-galli var.crus-galli）などに代表されるイネ科雑草など、各種水田雑草に低薬量で高い殺草力を有する。
【００４５】
（Ａ３）水生植物に対する効果
また、本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、水路、運河、湖沼、池などに発生するアオコなどの藻類、ホテイアオイ（Eichhornia crassipes）などの水生雑草に対しても効果を有する。
（Ｂ）作物選択性
（Ｂ１）畑における作物選択性
しかも、本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、イネ(Oryza sativa)、コムギ(Triticum aestivum)、オオムギ(Hordeum vulgare)、ソルガム(Sorghum bicolor)、落花生(Arachis hypogaea)、トウモロコシ（Zea mays）、大豆(Glycine max)、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beat vulgaris)などの主要作物、花弁・蔬菜などの園芸作物に対して高い安全性を有する。
【００４６】
（Ｂ２）作物選択性（水稲）
さらに、本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、移植水稲または直播水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
（Ｂ３）作物選択性（芝生）
本発明に用いる置換ピラゾール誘導体は、日本芝あるいは洋芝といった芝生に対しても高い安全性を有する。
【００４７】
＜混用する除草化合物＞
一般式 [Ｉ]で示される置換ピラゾール誘導体との混用により著しい相乗効果を発揮する好適な除草化合物（「混用する除草化合物」）として、ジニトロアニリン系化合物、ウレア系化合物、アミド系化合物、カーバメート系化合物、ジフェニルエーテル系化合物またはスルホニルウレア系化合物であることが本発明者らの研究により見出された。本発明に係る除草剤組成物は、これらの化合物群から選択される1種以上の化合物を併用する。これらの化合物群はいずれも公知の除草化合物であって、市販されており入手は可能である。混用する除草化合物それぞれの属性、殺草スペクトラムとその作物選択性はすべて知られている。
【００４８】
ジニトロアニリン系化合物として好ましい化合物には、トリフルラリン、ペンディメタリン、ベスロジン、エタルフルラリン、プロジアミン、オリザリン、ブトラリン、フルメトラリン、ニトラリンなどが例示される。
ウレア系化合物として好ましい化合物には、たとえばリニュロン、モノリニュロン、ネブロン、クロロトルロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、エチジムロン、メタベンズチアズロン、ジメフロン、フルオメツロン、チアザフルロン、シクルロン、ジウロン、メトキスロン、シデュロンなどが含まれる。他にダイムロン、メチルダイムロン、ＤＣＭＵなども挙げられる。
【００４９】
アミド系化合物として好ましい化合物には、プロパクロール、ジメタクロール、メタザクロール、アラクロール、メトラクロール、S-メトラクロール、アセトクロール、プロピソクロール、フルフェナセット、ジメテナミド、プレチラクロール、テニルクロール、ブタクロール、カフェンストロール、フラムプロップメチル、フラムプロップMメチル、フラムプロップエチル、フラムプロップイソプロピル、フラムプロップMイソプロピル、ベンゾイルプロップエチルが例示される。他にブロモブチド、プロバニル、メフェナセット、ジフェナミド、プロピザミド、ナプロパミドなども挙げられる。
【００５０】
カーバメート系化合物として好ましい化合物には、トリアレート、ＥＰＴＣ、ブチレート、プロスルホカルブ、バルバン、オルソベンカーブ、バーナレート、ＩＰＣなどが例示される。他にエスプロカルブ、クロルプロファム、フェンメディファム、テルブカルブ、ベンチオカーブ、モリネート、ピリブチカルブ、ジメピペレートなども挙げられる。
【００５１】
ジフェニルエーテル系化合物として好ましい化合物には、たとえばビフェノックス、アシフルオルフェン、オキシフルオルフェン、フルオログリコフェン、ラクトフェン、ホメサフェン、アクロニフェン、エトキシフェンエチル、ジクロホップメチルが例示される。他にクロメトキシニル、ＣＮＰなども挙げられる。
スルホニルウレア系化合物として好ましい化合物には、たとえばアミドスルフロン、クロリムロンエチル、オキサスルフロン、プリミスルフロン、ホラムスルフロン、ベンスルフロンメチル、エトキシスルフロン、シクロスルファムロン、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、トリベニュロンメチル、ヨードスルフロン、イソスルフロンメチル、プロスルフロン、トリアスルフロン、エタメトスルフロンメチル、シノスルフロン、トリフルスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、ハロスルフロンメチル、フラザスルフロン、トリフロキシスルフロン、リムスルフロン、ニコスルフロン、フルピルスルフロン、イマゾスルフロン、スルホスルフロンが例示される。他にメトスルフロンメチル、シクロスルファムロン、メツルフロンメチルなども挙げられる。
【００５２】
なお、上掲の化合物は、一般式 [Ｉ]で示される置換ピラゾール誘導体と混用することにより特異的に相乗効果を発揮する除草化合物の好適な例示にすぎず、本発明の組成物はこれらに限定されるものではない。
＜置換ピラゾール誘導体を含有する除草剤組成物＞
本発明に係る除草剤組成物は、前記置換ピラゾール誘導体および混用する特定の除草化合物を含有することを特徴とする。かかる特異的な組み合わせにより単剤では得られない除草作用の相乗効果を得ることができる。
【００５３】
具体的には本発明に係る除草剤組成物の殺草スペクトラムは、除草剤組成物の有効成分である置換ピラゾール誘導体が本来有する殺草スペクトラムに加えて、混用する除草化合物の殺草スペクトラムも重なるため、殺草の対象範囲が拡大する。同時に加算的効果により特定種類の雑草に対する選択的な成長抑制の水準が高まる。同様に本発明に係る除草剤組成物は、作物選択性についても単独使用の場合よりも向上する。しかも作物に対する薬害を与えずに低薬量で著しい除草効果を示し、その効力持続性が長期に及ぶなど単独の性質からは全く予想できない相乗効果を示している。本発明の除草剤組成物の高活性で幅広い殺草スペクトラムおよび長い処理適期の利点は、必然的に施用者および環境への負荷の軽減にもつながるであろう。
・除草剤組成物の組成
本発明の除草剤組成物は、このように広い殺草スペクトラムと作物選択性を有する置換ピラゾール誘導体を有効成分の一つとして１種または２種以上含有するものである。
【００５４】
本発明の除草剤組成物に含まれる有効成分のうち、置換ピラゾール誘導体と混用する除草化合物との量比に関しては、剤型に応じて配合することができる。本発明の除草剤組成物において、置換ピラゾール誘導体と、混用する除草化合物との混合比は、混用する除草化合物の種類などによって異なるが、任意の割合で混合すればよく通常は、重量比で１：０．０１〜１：１００、さらに好ましくは１：０．０５〜１：１０である。これらの有効成分の含有量は、除草剤組成物の製剤形状、使用方法などの条件により、変更することができ、とくに制限されない。通常は、有効成分として本発明化合物および混用する除草化合物の合計量を全体に対して０．５〜８０重量％、好ましくは、１.５〜７０重量％含有する。
【００５５】
このような他の成分を含むこと、とくに混用する除草化合物を含むことにより、除草剤組成物全体の使用薬量を減少させることが可能である。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相乗作用による殺草スペクトラムの拡大や、より高い殺草効果も期待できる。
さらに、本発明の除草剤組成物は、置換ピラゾール誘導体および混用する除草化合物の他に、混合薬剤として単一あるいは複数の植物保護剤、たとえば殺菌剤、殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺バクテリア剤、薬害軽減剤、植物生長調整剤、肥料、土壌改良材などを含んでいてもよい。
・剤型
本発明に係る除草剤組成物は、前記置換ピラゾール誘導体などを有効成分として含有する限り、製剤形状は制限されず、たとえば、除草剤として実際に施用する際には、本発明化合物それ自体、すなわち置換ピラゾール誘導体および混用する除草化合物それ自体でもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または、補助剤などを配合して、一般の農薬のとり得る形態、すなわち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル、ジャンボ剤などの形態で使用することもできる。
【００５６】
このような固体の担体、または希釈剤の例としては、植物性物質、繊維状物質、人工の可塑性粉末、粘土（たとえば、カオリン、ベントナイト、白土）、タルクおよび無機物（軽石、硫黄粉末）、化学肥料などが挙げられる。液体の担体類および希釈剤としては、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、エステル類、ニトリル類、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド）、ハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
【００５７】
また、界面活性剤の例としては、アルキル硫酸エステル、スルホン酸アルキル、ポリエチレングリコールエーテル、多価アルコールエステル類などが挙げられる。展着剤または分散剤の例としては、カゼイン、ゼラチン、デンプン粉、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸、リグニン、ベントナイト、ポリビニルアルコール、パイン油、糖蜜および寒天などが挙げられる。
【００５８】
さらに安定剤としては、イソプロピルリン酸塩混合物、燐酸トリクレジル、トルー油、エポキシ油、界面活性剤類、脂肪酸類およびそのエステル類が挙げられる。
本発明に係る除草剤組成物の有効成分濃度は、前述したように製剤形状により、種々の濃度に変化させることができ、有効成分濃度としては、水和剤においては、好ましくは５〜８０重量％、より好ましくは１０〜８０重量％であることが望ましく、乳剤においては、好ましくは３〜７０重量％、より好ましくは５〜６０重量％であることが望ましく、粒剤においては、好ましくは０．５〜５０重量％、より好ましくは、１．５重量％〜４０重量％であることが望ましい。
【００５９】
また、本発明に係る除草剤組成物の製造方法および製剤形状は、とくに制限されない。たとえば、置換ピラゾール誘導体と、混用する除草化合物の有効成分とを各々予め、固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、水溶性粒剤、水溶性粉剤、水溶液剤、顆粒水和剤などに別個に製剤した後、使用の際に混合する方式としてもよい。あるいは、置換ピラゾール誘導体と混用する除草化合物とを混合し、それに固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤を混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤などに製剤して用いることもできる。
・施用方法
本発明に係る除草剤組成物を除草剤として施用する場合、組成物を直接、雑草植物の茎・葉面などに、噴霧、散布、塗布などして処理する。あるいは植物の周囲の土壌、畑、芝生、水田などに組成物を散布、混和などして処理することができる。
【００６０】
たとえば、水和剤、乳剤の場合には、水で所定の濃度に希釈して懸濁液あるいは乳濁液として、粒剤の場合は、そのまま直接、対象雑草の発芽前または発芽後に散布処理もしくは混和処理することができる。本発明に係る除草剤組成物を除草剤として実際に適用するに当たっては、通常、１ヘクタール当たり有効成分１ｇ以上の適当量を施用することができる。
【００６１】
本発明に係る除草剤組成物を実際に除草剤として用いる場合、その処理量および処理時期は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草などによっても異なるが、当該技術分野の当業者であれば適宜、選択できる。処理量は通常、有効成分(ai)として１ヘクタール(ha)当たり１ｇ〜5,000ｇ、好ましくは10ｇ〜2,000ｇであることが望ましい。たとえば、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤、液剤などの場合は、通常、その所定量を１ヘクタール当たり10リットル〜1,000リットルの水、あるいは必要に応じて展着剤などの補助剤を添加した水で希釈して処理することが好ましい。また、粒剤、ある種の懸濁剤、ある種の液剤などの場合は、通常なんら希釈することなく、そのまま処理することが好ましい。補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト(crop oil concentrate)、大豆油、コーン油、棉実油、ヒマワリ油などの植物油などが挙げられる。
【００６２】
本発明の除草剤組成物は、たとえば、小麦畑地に使用する場合、小麦及び雑草の発生前から発生始期にかけて使用することが望ましいが、これらの時期に限らず、小麦および雑草の生育期に使用することも可能である。
【００６３】
【発明の効果】
前記一般式[I]で表される置換ピラゾール誘導体および特定の混用する除草化合物を有効成分として含有する本発明の除草剤組成物は、各有効成分の除草作用の相乗効果を奏する。すなわち、このような組み合わせにより各々単剤で得られていた適用範囲を超えて広い殺草スペクトルが得られ、低薬量で施行でき、しかも、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、ダイズなどの重要作物に対して充分な安全性が確保されている。
【００６４】
本発明の除草剤組成物は、コスト低減、施用者および環境への負荷を軽減することができる。
【００６５】
【実施例】
次に本発明を以下の製剤例および試験例によって説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものでない。なお、下記の説明において「部」は重量部を示す。下記の製造物は一般的な調製方法により製造される。
【００６６】
【製剤例１】
水和剤の製造：
表１記載の２２番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００６７】
【製剤例２】
水和剤の製造：
表１記載の２２番化合物１０部、リニュロン２０部、カオリン５５部、ホワイトカーボン１０部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００６８】
【製剤例３】
水和剤の製造：
表１記載の２２番化合物１０部、イソプロツロン２０部、カオリン５５部、ホワイトカーボン１０部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００６９】
【製剤例４】
水和剤の製造：
表１記載の１３番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００７０】
【製剤例５】
乳剤の製造：
表１記載の１３番化合物５部、ペンディメタリン１０部をN-メチルピロリドン４０．５部に溶解後、SAS 296（商品名：日本石油化学製）２４．５部、ソルポール3880L（商品名：東邦化学製）２０部を添加し攪拌、均一に溶解して乳剤を得た。
【００７１】
【製剤例６】
乳剤の製造：
表１記載の１３番化合物５部、トリフルラリン１０部をN-メチルピロリドン４０．５部に溶解後、SAS 296（商品名：日本石油化学製）２４．５部、ソルポール3880L（商品名：東邦化学製）２０部を添加し攪拌、均一に溶解して乳剤を得た。
【００７２】
【製剤例７】
水和剤の製造：
表１記載の１７番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００７３】
【製剤例８】
乳剤の製造：
表１記載の１７番化合物５部、アラクロール１０部をN-メチルピロリドン４０．５部に溶解後、SAS 296（商品名：日本石油化学製）２４．５部、ソルポール3880L（商品名：東邦化学製）２０部を添加し攪拌、均一に溶解して乳剤を得た。
【００７４】
【製剤例９】
水和剤の製造：
表１記載の１７番化合物２５部、フルフェナセット１０部、カオリン５０部、ホワイトカーボン１０部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００７５】
【製剤例１０】
水和剤の製造：
表１記載の１６番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００７６】
【製剤例１１】
フロアブル剤の製造：
表１記載の１６番化合物５部、ビフェノックス１０部、プロピレングリコール１１部、ソルポール7290P（商品名：東邦化学製）３部、トキサノン N100（商品名：三洋化成工業製）０．１部、アンチホーム E-20（商品名：花王製）０．２部、クニピアF（商品名：クニピア製）１．５部、水６９．２部をよく混合し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得た。
【００７７】
【製剤例１２】
水和剤の製造：
表１記載の２８番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００７８】
【製剤例１３】
フロアブル剤の製造：
表１記載の２８番化合物５部、チフェンスルフロンメチル０．４部、プロピレングリコール１１部、ソルポール7290P（商品名：東邦化学製）３部、トキサノン N100（商品名：三洋化成工業製）０．１部、アンチホーム E-20（商品名：花王製）０．２部、クニピアF（商品名：クニピア製）１．５部、水７８．８部をよく混合し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、フロアブル剤を得た。
【００７９】
【製剤例１４】
水和剤の製造：
表１記載の３５番化合物１０部、クレー８３部、ホワイトカーボン２部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００８０】
【製剤例１５】
水和剤の製造：
表１記載の３５番化合物１２．５部、ＩＰＣ１５部、カオリン５５部、ホワイトカーボン１２．５部、リグニンスルホン酸ソーダ２部およびアルキルナフタレンスルホン酸ソーダ３部を均一に混合粉砕して水和剤を得た。
【００８１】
【試験例１】
（畑土壌処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、ハコベ、スミレ、ホトケノザ、イヌカミツレ、ヤエムグラ、スズメノカタビラの各雑草とコムギの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００８２】
播種翌日に、製剤例１、製剤例２、製剤例３に準じて調製した薬剤、およびリニュロン（Linuron, 商品名：ロロックス）とイソプロツロン（Isoproturon,商品名：ARELON）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、土壌表面にむらなく散布した。処理後２１日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
結果を表２に示す。
【００８３】
【試験例２】
（畑土壌処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、ハコベ、ハキダメギク、ホトケノザ、イヌカミツレ、ヤエムグラ、スズメノカタビラの各雑草とコムギの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００８４】
播種翌日に、製剤例４、製剤例５、製剤例６に準じて調製した薬剤、およびペンディメタリン（Pendimethalin, 商品名：ゴーゴーサン乳剤）とトリフルラリン（Trifluralin, 商品名：トレファノサイド乳剤）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、土壌表面にむらなく散布した。処理後２１日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
【００８５】
結果を表３に示す。
【００８６】
【試験例３】
（畑土壌処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、タデ、アオビユ、シロザ、イヌホウズキ、ヒエ、メヒシバの各雑草とトウモロコシの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００８７】
播種翌日に、製剤例７、製剤例８、製剤例９に準じて調製した薬剤、およびアラクロール（Alachlor, 商品名：ラッソー乳剤）とフルフェナセット（Flufenacet, 商品名：Crystal）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、土壌表面にむらなく散布した。処理後21日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
結果を表４に示す。
【００８８】
【試験例４】
（畑茎葉処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、ハコベ、スミレ、ホトケノザ、イヌカミツレ、ヤエムグラ、スズメノカタビラの各雑草とコムギの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００８９】
播種14日後に、製剤例１０、製剤例１１に準じて調製した薬剤、およびビフェノックス（Bifenox, 商品名：ウィーラルフロアブル）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、植物葉面にむらなく散布した。処理後21日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
結果を表５に示す。
【００９０】
【試験例５】
（畑茎葉処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、ハコベ、スミレ、ホトケノザ、イヌカミツレ、ヤエムグラ、スズメノカタビラの各雑草とコムギの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００９１】
播種14日後に、製剤例１２、製剤例１３に準じて調製した薬剤、およびチフェンスルフロンメチル（Thifensulfuron-methyl, 商品名：ハーモニー７５ＤＦ水和剤）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、植物葉面にむらなく散布した。処理後21日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
結果を表６に示す。
【００９２】
【試験例６】
（畑土壌処理）
130cm²のプラスチックポットに、畑土壌（軽埴土）を充填し、ハコベ、ノボロギク、ナズナ、ヤエムグラ、スズメノカタビラ、スズメノテッポウの各雑草とオオムギの種子を播種し、約5mm覆土した。
【００９３】
播種14日後に、製剤例１４、製剤例１５に準じて調製した薬剤、およびＩＰＣ（商品名：クロロ-ＩＰＣ乳剤）を所定薬量となるように適量の水で希釈して、土壌表面にむらなく散布した。処理後21日目に以下の基準に従って観察評価を行った。
結果を表７に示す。
＜評価基準＞
除草作用の評価は、殺草の百分率として薬剤処理区の地上部生草重および無処理区の地上部生草重を測定して、下記の式により求めたものである。完全枯死を100％とし、効果なしは0％で表される。
【００９４】
【数１】

【００９５】
なお、表中の括弧内の値は、混合剤の除草効果の予想値、すなわち相加効果の期待値を示している。期待値は、以下に示すコルビー（Colby）の式（Colby.S.R.; "Calculating Synergistic and Antagonistic Responses of Herbicide Combinations" Weed,15（1）巻, 20-22, 1967）によって算出した。上記試験により測定した実測値（除草効果）が、この期待値より大きければ、除草活性に相乗作用が発現したということになる。
【００９６】
【数２】

【００９７】
［ここで、Ｘ＝除草剤Ａをa g ai/ha使用した場合の除草効果、Ｙ：除草剤Ｂをb g ai/ha使用した場合の除草効果を表す］
【００９８】
【表３】

【００９９】
【表４】

【０１００】
【表５】

【０１０１】
【表６】

【０１０２】
【表７】

【０１０３】
【表８】

【０１０４】
上記の表３〜８に示されているように、置換ピラゾール誘導体単体だけでは、一部の雑草、たとえばスズメノカタビラ、スズメノテッポウ、ヒエ、メヒシバ、ホトケノザなどに対しては、必ずしも高い除草活性を有しない。そうした雑草についても、本発明の除草剤組成物は、混用する除草化合物の作用が置換ピラゾール誘導体を補完することにより優れた除草活性を示している。
【０１０５】
本発明の除草剤組成物は調べた雑草に対して、植物成長の選択的抑制作用を示し、雑草抑制の実測値はほとんどの場合で上記期待値より大きく、相乗効果があることを示している。また作物に対しては、ほとんどの場合に効果なしの０であり、安全性を実証するものである。
逆に、いずれの混合剤（リニュロン、イソプロツロン、ペンディメタリン、トリフルラリン、アラクロール、フルフェナセット、ビフェノックス、チフェンスルフロンメチル、ＩＰＣ）も、置換ピラゾール誘導体との混用によりその作用の顕著な相乗的効果が認められた。

Claims

下記の一般式［Ｉ］で表される置換ピラゾール誘導体の１種または２種以上と、

［式［Ｉ］中、
Ｘは、Ｒ ¹ ＯＯＣを表し、
Ｗは、メチレン基またはエチレン基を表し、
Ｒはメチル基を表し、
Ａ、Ｂは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、Ｒ ¹ 、Ｒ ¹ Ｓよりなる群から選ばれる基を表し、
Ｄは、無置換または置換基を有するフェニル基を表す。ここで、
Ｒ¹は、炭素数１〜４の低級アルキル基または、炭素数１〜４の低級ハロアルキル基を表す。］
混用される除草化合物として、
トリフルラリン、ペンディメタリン、ベスロジン、エタルフルラリン、プロジアミン、オリザリン、ブトラリン、フルメトラリン、ニトラリンから選ばれる一種類以上のジニトロアニリン系化合物、
リニュロン、モノリニュロン、ネブロン、クロロトルロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、エチジムロン、メタベンズチアズロン、ジメフロン、フルオメツロン、チアザフルロン、シクルロン、ジウロン、メトキスロン、シデュロンから選ばれる一種類以上のウレア系化合物、
プロパクロール、ジメタクロール、メタザクロール、アラクロール、メトラクロール、Ｓ−メトラクロール、アセトクロール、プロピソクロール、フルフェナセット、ジメテナミド、プレチラクロール、テニルクロール、ブタクロール、カフェンストロール、フラムプロップメチル、フラムプロップＭメチル、フラムプロップエチル、フラムプロップイソプロピル、フラムプロップＭイソプロピル、ベンゾイルプロップエチルから選ばれる一種類以上のアミド系化合物、
トリアレート、ＥＰＴＣ、ブチレート、プロスルホカルブ、バルバン、オルソベンカーブ、バーナレート、ＩＰＣから選ばれる一種類以上のカーバメート系化合物、
ビフェノックス、アシフルオルフェン、オキシフルオルフェン、フルオログリコフェン、ラクトフェン、ホメサフェン、アクロニフェン、エトキシフェンエチル、ジクロホップメチルから選ばれる一種類以上のジフェニルエーテル系化合物、または
アミドスルフロン、クロリムロンエチル、オキサスルフロン、プリミスルフロン、ホラムスルフロン、ベンスルフロンメチル、エトキシスルフロン、シクロスルファムロン、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、トリベニュロンメチル、ヨードスルフロン、イソスルフロンメチル、プロスルフロン、トリアスルフロン、エタメトスルフロンメチル、シノスルフロン、トリフルスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、メソスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、ハロスルフロンメチル、フラザスルフロン、トリフロキシスルフロン、リムスルフロン、ニコスルフロン、フルピルスルフロン、イマゾスルフロン、スルホスルフロンから選ばれる一種類以上のスルホニルウレア系化合物
から選択される１種または２種以上の化合物とを
有効成分として含有することを特徴とする除草剤組成物。
上記置換ピラゾール誘導体が一般式［Ｉ］において、

Ａ、Ｂがともに水素原子であって、Ｄがフェニル基、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが３−メチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２，５−ジメチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号５）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２，３−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号６）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２，４−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号７）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号８）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが２，６−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号９）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが３，４−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１０）、
Ａがメチル基、Ｂが水素原子、Ｄが３，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１１）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１２）、
Ａが水素原子、Ｂがメチル基、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１３）、
Ａが水素原子、Ｂがメチル基、Ｄが４−フルオロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１４）、
Ａが水素原子、Ｂが塩素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１５）、
Ａが水素原子、Ｂが塩素原子、Ｄが３−メトキシフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１６）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが３−メチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１７）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１８）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２，５−ジメチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号１９）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２，３−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２０）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２，４−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２１）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２２）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが２，６−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２３）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが３，４−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２４）、
Ａがメチル基、Ｂが塩素原子、Ｄが３，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２５）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが３−メチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２６）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが２−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２７）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが２，５−ジメチルフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２８）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが２，３−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号２９）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが２，４−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３０）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが２，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３１）、
Ａがメチル基、Ｂが臭素原子、Ｄが３，５−ジクロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３２）、
Ａがメチル基、Ｂがメチル基、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３３）、
Ａがメチル基、Ｂがメチル基、Ｄが３−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３４）、
Ａがメチル基、Ｂがメチル基、Ｄが４−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３５）、
Ａがエチル基、Ｂが水素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３６）、
Ａがメチルチオ基、Ｂが水素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３７）、
Ａがメチルチオ基、Ｂが水素原子、Ｄが３−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３８）、
Ａがエチル基、Ｂが塩素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号３９）、
Ａがプロピル基、Ｂが塩素原子、Ｄが３−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４０）、
Ａがメチルチオ基、Ｂが塩素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４１）、
Ａがメチルチオ基、Ｂが塩素原子、Ｄが３−クロロフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４２）、
Ａがエチル基、Ｂが臭素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４３）、
Ａがメチルチオ基、Ｂが臭素原子、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４４）、
Ａが塩素原子、Ｂがメチル基、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４５）、
Ａが臭素原子、Ｂがメチル基、Ｄがフェニル基であって、Ｗがメチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４６）、または
Ａが水素原子、Ｂがメチル基、Ｄがフェニル基であって、Ｗがエチレン基、Ｘがメトキシカルボニル基であり、Ｒがメチル基である置換ピラゾール誘導体（化合物番号４７）、
である、請求項１に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記ジニトロアニリン系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記ウレア系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記アミド系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記カーバメート系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記ジフェニルエーテル系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。
前記の混用される除草化合物が、前記スルホニルウレア系化合物である請求項１または２に記載の除草剤組成物。