JP4420152B2 - Polymer compound and production method thereof - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規フェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチ高分子化合物及びその製造方法に関するものであり、特にはポリヒドロキシスチレン誘導体の新規デンポリマー、ハイパーブランチ高分子化合物及びその製造方法に関する。この新規デンポリマー、ハイパーブランチ高分子化合物は、レジスト材料のベース樹脂として使用することにより、超LSI製造用の超微細パターンを形成するものとして有用である。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、LSIの高集積化と高速度化に伴い、パターンルールの微細化が求められているなか、微細加工技術としてリソグラフィーが有望視されている。遠紫外線、EB,X線リソグラフィーは、0.2μm以下の加工も可能となる。
【0003】
近年、開発された酸を触媒とした化学増幅ポジ型レジスト材料(特公平2−27660号、特開昭63−27829号公報等記載)は、遠紫外線の光源として高輝度なKrFエキシマレーザーを利用し、感度、解像性、ドライエッチング耐性が高く、優れた特徴を有した遠紫外線リソグラフィーに特に有望なレジスト材料として期待されている。
【0004】
例えば、特開昭62−115440号公報には、ポリ−4−tert−ブトキシスチレンと酸発生剤からなるレジスト材料が提案され、この提案と類似したものとして特開平3−223858号公報には分子内にtert−ブトキシ基を有する樹脂と酸発生剤からなる二成分系レジスト材料、更には特開平4−211258号公報にはメチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基含有ポリヒドロキシスチレンと酸発生剤からなる二成分系のレジスト材料が提案されている。
【0005】
しかしながら、このように開発されたレジスト用のベースポリマーは従来の方法、例えばラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の付加重合にて合成され使用されているのが現状である(特開平4−279608号、特開昭57−44608号、特公昭63−36602号公報)。
【0006】
このような従来の方法で合成されたポリマーの構造は線状ポリマーを基本とするものである。
【0007】
しかし、これらレジスト材料の線状ポリマー樹脂は、更なる微細加工を要求されると、ポリマーのサイズと微細化のサイズが同等となり、要求の細線のパターン形成ができなくなることや耐熱性が不十分だったり、感度及び解像度が満足できるものではないなど、いずれも問題を有しており、更なる改善が要求されているのが現状である。
【0008】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、特にレジスト材料のベース樹脂として用いた場合、従来のレジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性、再現性を有し、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れたレジスト材料等を与える新規デンポリマー、ハイパーブランチ高分子化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、後述する方法によって得られる新規フェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーの新規高分子化合物が、これをベース樹脂として用いたレジスト材料が高解像度、露光余裕度、プロセス適応性に優れ、実用性の高い、精密な微細加工に有利であり、超LSI用レジスト材料のベース樹脂として非常に有効であることを知見し、本発明をなすに至った。
【0010】
即ち、本発明は、下記高分子化合物及びその製造方法を提供する。
請求項1:
下記繰り返し単位(I)及び/又は繰り返し単位(II)と繰り返し単位(III)とからなり、単位(III)の個数が1〜1,000である重量平均分子量が500〜10,000,000の高分子化合物。
【化6】
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は同一又は異種の炭素数1〜30の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は炭素数6〜30のアリール基を示す。R3は水酸基又はOR4基を示し、R4は酸不安定基又は酸安定基を示す。xは0又は正の整数、yは正の整数であり、x+y≦5を満足する数である。)
【化7】
(式中、Xは、単結合、又はヒドロキシ基又はカルボニル基を含んでいてもよい炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。)
請求項2: 下記式(4)〜(8)で示されるいずれかの繰り返し単位を有するものである請求項1記載の高分子化合物。
【化8】
【化9】
(式中、鎖線は上記繰り返し単位(I)及び/又は(II)のポリマー鎖を表し、Aは上記単位(III)を表す。)
請求項3:
下記一般式(i)及び/又は(ii)で示されるヒドロキシスチレン誘導体モノマーを重合するに際し、重合途中で下記一般式(iii)で示される分岐形成モノマーを添加して重合途上物に分岐鎖を導入することを繰り返しながら重合することを特徴とする請求項1記載の高分子化合物の製造方法。
【化10】
(式中、R1,R2,R3,x,yは上記と同様であり、Rは水酸基の保護基を示し、R0は単結合又は炭素数1〜10のアルキレン基、Yはハロゲン原子、アルデヒド基又はアルコキシカルボニル基を示す。)
請求項4:
重合をリビング重合により行う請求項3記載の製造方法。
請求項5:
リビング重合がリビングアニオン重合である請求項4記載の製造方法。
【0011】
本発明の新規高分子化合物は、フェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーであり、これをベース樹脂としてレジスト材料に配合すると、ポリマーの分岐、自由体積の増加効果によって従来の線状構造ベース樹脂よりも性能が向上する。例えば、デンポリマー、ハイパーブランチポリマーとすることによってポリマーの分子サイズは線状ポリマーと比較して小さくなることにより、解像性が向上する。ポリマーの分子量を増加させて耐熱性を向上させる場合、粘度の上昇を抑えることができ、プロセス安定性が向上する。また、デンポリマーとすることによって末端の数が増加し、基板との密着性の向上が図られる。
【0012】
更に、分岐、末端の数のコントロールを自由に行うことができるために目的に応じてポリマー設計することが可能である。
【0013】
以下、本発明につき更に詳細に説明すると、本発明は重量平均分子量500〜10,000,000のフェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーからなる高分子化合物である。
【0014】
この場合、本発明の高分子化合物は、下記繰り返し単位(I)及び/又は繰り返し単位(II)と繰り返し単位(III)とからなり、単位(III)の個数が1〜1,000、より好ましくは1〜500、更に好ましくは1〜200であるものが好ましい。
【0015】
【化13】
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は同一又は異種の炭素数1〜30の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、又は炭素数6〜30のアリール基を示す。R3は水酸基又はOR4基を示し、R4は酸不安定基又は酸安定基を示す。xは0又は正の整数、yは正の整数であり、x+y≦5を満足する数であり、好ましくはR3はOR4である。)
【0016】
【化14】
(式中、R1は上記と同様である。R5は炭素数1〜30の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、又は炭素数6〜30のアリーレン基で、これらが組み合わされていてもよく、エーテル結合又はエステル結合を含んでもよい。)
【0017】
この場合、単位(III)は、下記式(3a)で示されるものが好ましい。
【化15】
(式中、Xは、単結合、又はヒドロキシ基又はカルボニル基を含んでいてもよい炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。)
【0018】
ここで、R2は炭素数1〜30、好ましくは1〜15、更に好ましくは1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はアリール基を示し、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等を例示できる。また、アリール基としてはフェニル基等が挙げられる。
【0019】
上記R4の酸不安定基としては、種々選定されるが、特に下記式(9)、(10)で示される基、炭素数4〜40の3級アルキル基、アルキル基がそれぞれ炭素数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオキソアルキル基等であることが好ましい。
【0020】
【化16】
【0021】
式中、R6は炭素数4〜40の3級アルキル基、アルキル基がそれぞれ炭素数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオキソアルキル基、aは0〜10の整数を示す。R7は水素原子又は直鎖状、分岐鎖状、もしくは環状の炭素数1〜10のアルキル基、R8、R9は互いに独立に直鎖状、分岐鎖状、もしくは環状の炭素数1〜10のアルキル基を示すか、或いは互いに結合して環を形成してもよい。
【0022】
上記式(10)で示される酸不安定基として、具体的には、例えば1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、1−n−プロポキシエチル基、1−イソプロポキシエチル基、1−n−ブトキシエチル基、1−イソブトキシエチル基、1−sec−ブトキシエチル基、1−tert−ブトキシエチル基、1−tert−アミロキシエチル基、1−エトキシ−n−プロピル基、1−シクロヘキシロキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、1−メトキシ−1−メチル−エチル基、1−エトキシ−1−メチル−エチル基等の直鎖状もしくは分岐状アセタール基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等の環状アセタール基等が挙げられ、好ましくはエトキシエチル基、ブトキシエチル基、エトキシプロピル基が挙げられる。一方、上記式(9)の酸不安定基として、例えばtert−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニルメチル基、tert−アミロキシカルボニル基、tert−アミロキシカルボニルメチル基、1−エトキシエトキシカルボニルメチル基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルメチル基、2−テトラヒドロフラニルオキシカルボニルメチル基等が挙げられる。
【0023】
また、3級アルキル基としては、tert−ブチル基、トリエチルカルビル基、1ーエチルノルボニル基、1−メチルシクロヘキシル基、2−(2−メチル)アダマンチル基、tert−アミル基等を挙げることができる。
【0024】
トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチル−tert−ブチルシリル基等の各アルキル基の炭素数が1〜6のものが挙げられる。
【0025】
オキソアルキル基としては、3−オキソシクロヘキシル基が挙げられる。
【0026】
更に、酸不安定基としては、C−O−C基を有する架橋基Qを挙げることができる。この架橋基Qは、下記式に示したように、単位(I)のOH間を分子内又は分子間架橋するものである。
【0027】
【化17】
【0028】
この架橋基Qとしては、下記一般式(Qa)又は(Qb)で示される基、好ましくは(Qa’)又は(Qb’)を挙げることができる。
【0029】
【化18】
(式中、R’、R’’は水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。又は、R’とR’’とは環を形成してもよく、環を形成する場合にはR’、R’’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。R’’’は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、dは0又は1〜10の整数である。Aは、c価の炭素数1〜50の脂肪族もしくは脂環式飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を示し、これらの基はヘテロ原子を介在していてもよく、またその炭素原子に結合する水素原子の一部が水酸基、カルボキシル基、アシル基又はハロゲン原子によって置換されていてもよい。Bは−CO−O−、−NHCO−O−又は−NHCONH−を示す。cは2〜8、c’は1〜7の整数である。)
【0030】
【化19】
(式中、R’、R’’は水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。又は、R’とR’’とは環を形成してもよく、環を形成する場合にはR’、R’’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。R’’’は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、dは0又は1〜5の整数である。A’は、c’’価の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、アルキルトリイル基、アルキルテトライル基、炭素数6〜30のアリーレン基を示し、これらの基はヘテロ原子を介在していてもよく、またその炭素原子に結合する水素原子の一部が水酸基、カルボキシル基、アシル基又はハロゲン原子によって置換されていてもよい。Bは−CO−O−、−NHCO−O−又は−NHCONH−を示す。c’’は2〜4、c’’’は1〜3の整数である。)
【0031】
ここで、炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基としては上述したものと同様のものを例示することができる。また、R’’’の炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、シクロへキシレン基、シクロペンチレン基等を例示することができる。なお、Aの具体例は後述する。この架橋基(Qa)、(Qb)は、後述するアルケニルエーテル化合物、ハロゲン化アルキルエーテル化合物に由来する。
【0032】
架橋基は、上記式(Qa)、(Qb)のc’の値から明らかなように、2価に限られず、3価〜8価の基でもよい。例えば、2価の架橋基としては、下記式(Qa’’)、(Qb’’)、3価の架橋基としては、下記式(Qa’’’)、(Qb’’’)で示されるものが挙げられる。
【0033】
【化20】
【0034】
上記架橋基の導入には、下記の化合物を用いることができる。
【化21】
【0035】
ここで、A、B、R’、R’’、R’’’、c、dは上記と同様であり、R’aは水素原子又は炭素数1〜7の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。ZはCl、Br、Iといったハロゲン原子である。
【0036】
具体的には、Aのc価の炭化水素基は炭素数1〜50、好ましくは1〜40のO、NH、N(CH3)、S、SO2等のヘテロ原子が介在してもよい非置換又は水酸基、カルボキシル基、アシル基又はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子等のハロゲン原子置換のアルキレン基、炭素数6〜50、好ましくは6〜40、更に好ましくは6〜20のアリーレン基、これらアルキレン基とアリーレン基とが結合した基、上記各基の炭素原子に結合した水素原子が脱離したc’’’価(c’’’は3〜8の整数)の基が挙げられ、更にc価のヘテロ環基、このヘテロ環基と上記炭化水素基とが結合した基などが挙げられる。
【0037】
具体的に例示すると、Aとして下記のものが挙げられる。
【化22】
【0038】
【化23】
【0039】
【化24】
【0040】
【化25】
【0041】
一般式(I)で示される化合物は、例えば、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(Q237)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、又は多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができる。
【0042】
式(I)の化合物の具体例として、エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,2−プロパンジオールジビニルエーテル、1,3−プロパンジオールジビニルエーテル、1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル(テトラメチレングリコールジビニルエーテル)、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、1,4−ジビニロキシメチルシクロヘキサン、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテル、トリエチレングリコールジエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル並びに以下の式(I−1)〜(I−31)で示される化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【0043】
【化26】
【0044】
【化27】
【0045】
【化28】
【0046】
【化29】
【0047】
【化30】
【0048】
一方、Bが−CO−O−の場合の上記一般式(II)で示される化合物は、多価カルボン酸とハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により製造することができる。Bが−CO−O−の場合の式(II)で示される化合物の具体例としては、テレフタル酸ジエチレンビニルエーテル、フタル酸ジエチレンビニルエーテル、イソフタル酸ジエチレンビニルエーテル、フタル酸ジプロピレンビニルエーテル、テレフタル酸ジプロピレンビニルエーテル、イソフタル酸ジプロピレンビニルエーテル、マレイン酸ジエチレンビニルエーテル、フマル酸ジエチレンビニルエーテル、イタコン酸ジエチレンビニルエーテル等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【0049】
更に、本発明において好適に用いられるアルケニルエーテル基含有化合物としては、下記一般式(III)、(IV)又は(V)等で示される活性水素を有するアルケニルエーテル化合物とイソシアナート基を有する化合物との反応により合成されるアルケニルエーテル基含有化合物を挙げることができる。
【0050】
【化31】
(R’a、R’’、R’’’は上記と同様の意味を示す。)
【0051】
Bが−NHCO−O−又は−NHCONH−の場合の上記一般式(II)で示される化合物を得る方法としては、例えば架橋剤ハンドブック(大成社刊、1981年発行)に記載のイソシアナート基を有する化合物を用いることができる。具体的には、トリフェニルメタントリイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、2,4−トリレンジイソシアナートの二量体、ナフタレン−1,5−ジイソシアナート、o−トリレンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート等のポリイソシアナート型、トリレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンの付加体、ヘキサメチレンジイソシアナートと水との付加体、キシレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンとの付加体等のポリイソシアナートアダクト型等を挙げることができる。上記イソシアナート基含有化合物と活性水素含有アルケニルエーテル化合物とを反応させることにより末端にアルケニルエーテル基を持つ種々の化合物ができる。このような化合物として以下の式(II−1)〜(II−11)で示されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【0052】
【化32】
【0053】
【化33】
【0054】
一方、R4の酸安定基としては、酸によって脱離してフェノールが生成し、溶解速度が変化するといったことが起きない置換基のことを示し、1,2級アルキル基、1,2級アルコキシ基、1,2級アルコキシカルボニル基、1,2,3級アルキルカルボニル基、アリール基などが挙げられる。なお、アルキル基、アルコキシ基は炭素数1〜20、特に1〜10のものが挙げられ、アリール基としてはフェニル基等が例示される。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキシロキシ基、アセチル基、ピバロイル基、メチルカーボネート基、エチルカーボネート基、イソプロピルカーボネート基、メトキシメトキシ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0055】
更に、R5のアルキレン基、アリーレン基としては、アルキレン基は好ましくは炭素数1〜20、特に1〜10、アリーレン基は炭素数6〜20、特に6〜10のものが好ましく、アルキレン基とアリーレン基が組み合わされていてもよく、エーテル結合、エステル結合が含まれていてもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、シクロヘキシレン基、オクチレン基、フェニレン基などや、これらが結合した基、或いはこれらに−O−,−CO−,−COO−が介在した基が例示されるが、特に下記の基が好ましい。
【0056】
【化34】
【0057】
ここで、Xは、上述したように、単結合、又はヒドロキシ基又はカルボニル基を含んでいてもよい炭素数1〜10、好ましくは1〜8、更に好ましくは1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、上に例示したものを挙げることができる。
【0058】
本発明の高分子化合物は、上記単位(III)の3本の結合手にそれぞれ上記繰り返し単位(I)及び/又は(II)の一方の結合手が結合すると共に、他方の結合手が別の単位(III)の結合手に結合するという態様でデンドライド状又はハイパーブランチ状に分岐結合連鎖したものである。
【0059】
この場合、上記単位(I)と単位(II)との合計は、(II)/[(I)+(II)]として、0〜1であるが、好ましくは0.8以下、より好ましくは0.6以下、更に好ましくは0.5以下である。下限は0、好ましくは0を超える正数で、特には0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上である。
【0060】
本発明の高分子化合物は、例えば下記式(A)で表すことができる。
【化35】
【0061】
即ち、単位(III)の3本の結合手に、単位(III)の数z(zは分枝数によって異なり、好ましくは1〜1,000、より好ましくは1〜100、更に好ましくは1〜50である)に応じて、a,bの繰り返し単位、c,dの繰り返し単位、e,fの繰り返し単位が結合したものである。
【0062】
ここで、R1,R2,R4,R5は上記と同様であり、また、x,yも上記と同様である。
また、a〜fは0又は正数であるが、aとb、cとd、eとfはそれぞれ同時に0とはならない。この場合、a/(a+b)、c/(c+d)、e/(e+f)、(a+c+e)/(a+b+c+d+e+f)も、0〜1の範囲であるが、好適には上記(II)/[(I)+(II)]の説明の場合と同様であり、好ましくは0.8以下、より好ましくは0.6以下、更に好ましくは0.5以下である。下限は0、好ましくは0を超えれる正数で、特には0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上である。これらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【0063】
本発明の高分子化合物は、上述したように、その重量平均分子量が500〜10,000,000、好ましくは1,000〜1,000,000、より好ましくは1,000〜100,000、更に好ましくは2,000〜50,000である。この場合、分子量分布は特に制限されないが、Mw/Mn=1.0〜5.0、特に1.0〜3.0であることが好ましい。
【0064】
本発明のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーは、具体的には下記概略式(4)〜(8)で示される繰り返し単位を有するものを挙げることができる。
【0065】
【化36】
【0066】
【化37】
(式中、鎖線は上記繰り返し単位(I)及び/又は(II)のポリマー鎖を表し、Aは上記単位(III)を表す。なお、A−A間の鎖線のドット数と単位(I)、(II)の結合数(繰り返し数)とは無関係である。)
【0067】
本発明に係るフェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーを製造する方法としては、リビング重合中、重合可能成分と停止成分を有する化合物とを反応し、更に重合を進行させることにより合成することができる。この操作を任意に繰り返すことによってフェノール誘導体のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーを製造することができる。リビング重合であればどの重合方法でも可能である。その中でも特に、制御が容易な重合方法としてリビングアニオン重合が好ましい。
【0068】
例えば、一般式(i)で示されるモノマー及び/又は一般式(ii)で示されるモノマーを用いてリビングアニオン重合を開始し、所定量を重合後、一般式(iii)で示される化合物(分岐形成モノマー)を反応させる。次に、一般式(i)で示されるモノマー及び/又は一般式(ii)で示されるモノマーを再度添加し、重合させる。この操作を幾度となく繰り返すことにより、所望のポリマーを合成することができる。
【0069】
【化38】
【0070】
ここで、R1,R2,R3,x,yは上記と同様であり、Rは水酸基の保護基であり、R0は単結合又は炭素数1〜10のアルキレン基、Yはハロゲン原子、アルデヒド基又はアルコキシカルボニル基などである。なお、上記保護基としては公知のものが挙げられ、特に制限されるものではなく、最後に常法により脱離することができる。
【0071】
リビングアニオン重合を行う場合、反応溶媒としては、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等の溶媒が好ましく、特にテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等の極性溶媒が好ましく、単独でも2種以上混合して使用してもかまわない。
【0072】
開始剤としてはsec−ブチルリチウム、n−ブチルリチウム、ナフタレンナトリウム、クミルカリウムが好ましく、その使用量は設計分子量に比例する。
【0073】
反応温度としては−80〜100℃、好ましくは−70〜0℃であり、反応時間としては0.1〜50時間、好ましくは0.5〜5時間である。
【0074】
sec−ブチルリチウムを開始剤に用いた場合の反応式の一例を示すと下記の通りである。分岐度を変えるためには下記反応を任意に繰り返す。
【0075】
【化39】
【0076】
なお、酸不安定基又は酸安定基を導入する場合は、得られたポリp−ヒドロキシスチレンに対して公知の方法でそのフェノール性水酸基に所望の酸不安定基又は酸安定基を導入すればよい。或いは、フェノール性水酸基に酸不安定基又は酸安定基が導入されたヒドロキシスチレン誘導体モノマーを用いて上記のように重合すればよい。
酸不安定基を導入する場合の製造例を以下に示す。
【0077】
【化40】
【0078】
【化41】
【0079】
【化42】
【0080】
【化43】
【0081】
【発明の効果】
本発明のデンポリマー、ハイパーブランチポリマーの新規高分子化合物は、通常の線状高分子化合物とは基本的に異なり、例えば、この新規高分子化合物をレジスト材料のベース樹脂として用いた場合、ポリマーのサイズは解像度に比例しており、サイズを小さくすると線状高分子化合物では強度が足りないという欠点があるが、この新規高分子化合物はポリマーのサイズを任意に変えることが可能であり、この新規高分子化合物は強度を保ちつつサイズを小さくできる特徴を持つ。従って、従来のレジスト材料にない、高解像性、感度、プラズマエッチング耐性に優れたレジスト材料を与える。
【0082】
【実施例】
以下、合成例及び実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。
【0083】
[合成例1]3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)の合成
1Lのフラスコに溶媒としてテトラヒドロフラン500ml、開始剤としてsec−ブチルリチウム0.01molを仕込んだ。この混合溶液に−78℃でp−tert−ブトキシスチレン30gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。更に、分岐ポリマーとするために、p−クロロメチルスチレン0.005molを添加し、5分間反応した。この反応溶液は赤色溶液を呈していた。次に、更にp−tert−ブトキシスチレン15gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。重合停止反応は反応溶液にメタノール0.1molを添加して行った。
【0084】
次に、ポリマーを精製するために、反応混合物をメタノール中に注ぎ、得られた重合体を沈澱させた後、分離し、乾燥させたところ、29gの白色重合体(3分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン)が得られた。この重合体は光散乱法により重量平均分子量が4500g/molであり、GPC溶出曲線より分子量分布の点で非常に単分散性(Mw/Mn=1.07)の高い重合体であることが確認できた。
【0085】
更に、3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)とするために、上記3分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン29gをアセトン300mlに溶解し、60℃で少量の濃塩酸を加えて7時間撹拌後、水に注ぎ、ポリマーを沈殿させ、洗浄・乾燥したところ、18gのポリマーが得られた。得られたポリマーの重量平均分子量は3000g/molであった。また、1H−NMRでtert−ブチル基に由来するピークが観測されないことから得られたポリマーが分子量分布の狭い3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)であることが確認された。
【0086】
[合成例2]3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)の合成
1Lのフラスコに溶媒としてテトラヒドロフラン500ml、開始剤としてsec−ブチルリチウム0.01molを仕込んだ。この混合溶液に−78℃でp−tert−ブトキシスチレン30gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。更に、分岐ポリマーとするために、p−メチルカルボニルスチレン0.005molを添加し、5分間反応した。次に、更にp−tert−ブトキシスチレン15gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。重合停止反応は反応溶液にメタノール0.1molを添加して行った。
【0087】
次に、ポリマーを精製するために、反応混合物をメタノール中に注ぎ、得られた重合体を沈澱させた後、分離し、乾燥させたところ、28gの白色重合体(3分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン)が得られた。この重合体は光散乱法により重量平均分子量が4500g/molであり、GPC溶出曲線より分子量分布の点で非常に単分散性(Mw/Mn=1.09)の高い重合体であることが確認できた。
【0088】
更に、3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)とするために、上記3分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン28gをアセトン300mlに溶解し、60℃で少量の濃塩酸を加えて7時間撹拌後、水に注ぎ、ポリマーを沈殿させ、洗浄・乾燥したところ、17gのポリマーが得られた。得られたポリマーの重量平均分子量は3000g/molであった。また、1H−NMRでtert−ブチル基に由来するピークが観測されないことから得られたポリマーが分子量分布の狭い3分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)であることが確認された。
【0089】
[合成例3]3分岐ポリ(部分エトキシエチル化p−ヒドロキシスチレン)の合成
合成例1で得られた3分岐ポリヒドロキシスチレン10gをテトラヒドロフラン100mlに溶解させ、触媒量のメタンスルホン酸を添加した後、20℃で撹拌しながらエチルビニルエーテル3gを添加した。1時間反応させた後に、濃アンモニア水により中和し、水5Lに中和反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン100mlに溶解させ、水5Lに滴下し、濾過後、真空乾燥した。得られたポリマーは、1H−NMRから3分岐ポリヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が27%エトキシエチル化されたことが確認された。重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は表1に示す通りであった。
【0090】
[合成例4]3分岐ポリ(p−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン−p−ヒドロキシスチレン)の合成
合成例1で得られた3分岐ポリヒドロキシスチレン20gをピリジン200mlに溶解させ、45℃で撹拌しながら二炭酸ジ−tert−ブチル10gを添加した。1時間反応させた後、水3Lに反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン100mlに溶解させ、水5Lに滴下し、濾過後、真空乾燥させ、ポリマーを得た。得られたポリマーは1H−NMRから3分岐ポリヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子のt−BOC化率は27%であり、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は表1に示す通りであった。
【0091】
[合成例5]3分岐ポリ(p−1−エトキシプロポキシスチレン−p−tert−ブトキシカルボニルオキシスチレン−p−ヒドロキシスチレン)の合成
合成例1で得られた3分岐ポリヒドロキシスチレン20gをテトラヒドロフラン200mlに溶解させ、触媒量のメタンスルホン酸を添加した後、20℃で撹拌しながらエチルプロペニルエーテル5gを添加した。1時間反応させた後に、濃アンモニア水により中和し、水10Lに中和反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン200mlに溶解させ、水10Lに滴下し、濾過後、真空乾燥した。得られたポリマーは、1H−NMRから3分岐ポリヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が20%エトキシプロピル化されたことが確認された。
【0092】
更に、得られた部分エトキシプロピル化3分岐ポリヒドロキシスチレン20gをピリジン200mlに溶解させ、45℃で撹拌しながら二炭酸ジ−tert−ブチル3gを添加した。1時間反応させた後、水3Lに反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン100mlに溶解させ、水5Lに滴下し、濾過後、真空乾燥させ、ポリマーを得た。得られたポリマーは1H−NMRから3分岐ポリヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子のエトキシプロピル化率は20%、t−BOC化率は8%であり、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は表1に示す通りであった。
【0093】
[合成例6]9分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)及び9分岐ポリ(部分エトキシプロピル化−p−ヒドロキシスチレン)の合成
2Lのフラスコに溶媒としてテトラヒドロフラン1000ml、開始剤としてsec−ブチルリチウム0.06molを仕込んだ。この混合溶液に−78℃でp−tert−ブトキシスチレン60gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。更に、3分岐ポリマーとするために、p−クロロメチルスチレン0.03molを添加し、5分間反応した。この反応溶液にp−tert−ブトキシスチレン30gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。次に、5分岐ポリマーとするために、p−クロロメチルスチレン0.03molを添加し、5分間反応した。この反応溶液にp−tert−ブトキシスチレン15gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。最後に、9分岐ポリマーとするために、p−クロロメチルスチレン0.015molを添加し、5分間反応した。この反応溶液にp−tert−ブトキシスチレン7.5gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。この反応溶液は赤色を呈した。
【0094】
更にp−tert−ブトキシスチレン10gを添加し、30分撹拌しながら重合させた。重合停止反応は反応溶液に炭酸ガス0.1molを添加して行った。
【0095】
次に、ポリマーを精製するために、反応混合物をメタノール中に注ぎ、得られた重合体を沈澱させた後、分離し、乾燥させたところ、99gの白色重合体(9分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン)が得られた。この重合体は光散乱法により重量平均分子量が4000g/molであり、GPC溶出曲線より分子量分布の点で非常に単分散性(Mw/Mn=1.21)の高い重合体であることが確認できた。
【0096】
更に、9分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)とするために、上記9分岐のポリp−tert−ブトキシスチレン99gをアセトン1000mlに溶解し、60℃で少量の濃塩酸を加えて7時間撹拌後、水に注ぎ、ポリマーを沈殿させ、洗浄・乾燥したところ66gのポリマーが得られた。得られたポリマーの重量平均分子量は3000g/molであった。また、1H−NMRでtert−ブチル基に由来するピークが観測されないことから得られたポリマーが分子量分布の狭い9分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)であることが確認された。
【0097】
2Lのフラスコに得られた9分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)99gをテトラヒドロフラン1000mlに溶解させ、触媒量のメタンスルホン酸を添加した後、20℃で撹拌しながらエチルプロペニルエーテル25gを添加した。2時間反応させた後に、濃アンモニア水により中和し、水10Lに中和反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン500mlに溶解させ、水10Lに滴下し、濾過後、真空乾燥した。得られたポリマーは1H−NMRからカルボン酸末端ポリヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が26%エトキシプロピル化されたことが確認された。重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)は表1に示す通りであった。
【0098】
【表1】
【0099】
[合成例7]9分岐ポリ(部分エトキシエトキシ化−p−ヒドロキシスチレン)の合成
2Lのフラスコに得られた9分岐ポリ(p−ヒドロキシスチレン)99gをテトラヒドロフラン1000mlに溶解させ、触媒量のメタンスルホン酸を添加した後、20℃で撹拌しながらエチルビニルエーテル25gを添加した。2時間反応させた後に、濃アンモニア水により中和し、水10Lに中和反応液を滴下したところ、白色固体が得られた。これを濾過後、アセトン500mlに溶解させ、水10Lに滴下し、濾過後、真空乾燥しポリマーを得、1H−NMRの分析から、エトキシエチル基の置換率を同定した(ポリマー1)。
【0100】
更に、上記の方法に準じて下記ポリマー2〜11を製造した。なお、ポリマー5は更に1,4−ブタンジオールジビニルエーテルで架橋して製造した。
【0101】
【化44】
【0102】
【化45】
【0103】
【化46】
【0104】
【化47】
【0105】
【化48】
【0106】
【化49】
【0107】
【化50】
【0108】
【化51】
【0109】
【化52】
【0110】
【化53】
【0111】
【化54】
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel phenol derivative denpolymer, a hyperbranched polymer compound and a method for producing the same, and more particularly to a novel denpolymer of a polyhydroxystyrene derivative, a hyperbranched polymer compound and a method for producing the same. The novel denpolymer and hyperbranched polymer compound are useful for forming ultrafine patterns for the production of VLSI by using them as a base resin for resist materials.
[0002]
[Prior art and problems to be solved by the invention]
In recent years, lithography is promising as a microfabrication technique, while miniaturization of pattern rules has been demanded along with high integration and high speed of LSI. Far-ultraviolet, EB, and X-ray lithography can be processed to 0.2 μm or less.
[0003]
In recent years, chemically developed positive resists using acid as a catalyst (described in Japanese Patent Publication No. 2-27660, Japanese Patent Laid-Open No. 63-27829, etc.) use a high-brightness KrF excimer laser as a light source for far ultraviolet rays. However, it is expected to be a particularly promising resist material for far-ultraviolet lithography, which has high sensitivity, resolution and dry etching resistance and has excellent characteristics.
[0004]
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-115440 proposes a resist material comprising poly-4-tert-butoxystyrene and an acid generator, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-223858 discloses a molecular material similar to this proposal. A two-component resist material comprising a resin having a tert-butoxy group and an acid generator, and further disclosed in JP-A-4-21258 is a methyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a tetrahydropyranyl group, a trimethylsilyl group. A two-component resist material composed of polyhydroxystyrene containing and an acid generator has been proposed.
[0005]
However, the resist base polymer thus developed is currently synthesized and used by conventional methods, for example, addition polymerization such as radical polymerization, anionic polymerization, and cationic polymerization (Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-279608). JP, 57-44608, JP-B 63-36602).
[0006]
The structure of the polymer synthesized by such a conventional method is based on a linear polymer.
[0007]
However, the linear polymer resin of these resist materials, when further fine processing is required, the size of the polymer is equal to the size of the miniaturization, and the required fine line pattern cannot be formed, and the heat resistance is insufficient. However, there are problems such as unsatisfactory sensitivity and resolution, and there is a demand for further improvement.
[0008]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and particularly when used as a base resin of a resist material, it has higher sensitivity and higher resolution than conventional resist materials, exposure margin, process adaptability, reproducibility, and plasma. It is an object of the present invention to provide a novel denpolymer, a hyperbranched polymer compound, and a method for producing the same that provide a resist material having excellent etching resistance and resist pattern heat resistance.
[0009]
Means for Solving the Problem and Embodiment of the Invention
As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventor has developed a novel phenol derivative denpolymer and a hyperbranched polymer, which are obtained by the method described later, and a resist material using this as a base resin. The present invention is based on the knowledge that it is excellent in high resolution, exposure margin, process adaptability, high practicality, advantageous for precise microfabrication, and is very effective as a base resin for resist materials for VLSI. It came to.
[0010]
That is, this invention provides the following high molecular compound and its manufacturing method.
Claim 1 :
It consists of the following repeating unit (I) and / or repeating unit (II) and repeating unit (III), and the number of units (III) is 1 to 1,000. Weight average molecular weight of 500 to 10,000,000 High molecular compound.
[Chemical 6]
(Wherein R 1 Represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 Are the same or different linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms. R Three Is hydroxyl or OR Four Group R Four Represents an acid labile group or an acid stable group. x is 0 or a positive integer, y is a positive integer, and satisfies x + y ≦ 5. )
[Chemical 7]
(Where X represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may contain a hydroxy group or a carbonyl group. )
Claim 2 : under It is shown by notation (4)-(8) Any Claims having repeating units 1 The polymer compound described.
[Chemical 8]
[Chemical 9]
(In the formula, the chain line represents the polymer chain of the repeating unit (I) and / or (II), and A represents the unit (III).)
Claim 3 :
It is represented by the following general formula (i) and / or (ii) When polymerizing a hydroxystyrene derivative monomer, Represented by the following general formula (iii) 2. The method for producing a polymer compound according to claim 1, wherein polymerization is carried out while repeating the step of adding a branch-forming monomer and introducing a branched chain into the polymerized product.
[Chemical Formula 10]
(Wherein R 1 , R 2 , R Three , X, y are the same as above, R represents a hydroxyl-protecting group, R 0 Is a single bond or a carbon number of 1 to 10 An alkylene group of Y Represents a halogen atom, an aldehyde group or an alkoxycarbonyl group. )
Claim 4 :
Claims wherein the polymerization is carried out by living polymerization 3 The manufacturing method as described.
Claim 5 :
The living polymerization is a living anionic polymerization. 4 The manufacturing method as described.
[0011]
The novel high molecular compound of the present invention is a dendritic polymer or a hyperbranched polymer of a phenol derivative. When this is blended with a resist material as a base resin, the polymer branching and free volume increase effect are more effective than conventional linear structure base resins. Also improves performance. For example, by using a den polymer or a hyperbranched polymer, the molecular size of the polymer becomes smaller than that of a linear polymer, so that the resolution is improved. When the heat resistance is improved by increasing the molecular weight of the polymer, an increase in viscosity can be suppressed and process stability is improved. Further, by using a denpolymer, the number of terminals is increased and adhesion to the substrate is improved.
[0012]
Furthermore, since the number of branches and terminals can be controlled freely, it is possible to design a polymer according to the purpose.
[0013]
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The present invention is a polymer compound comprising a dendritic polymer or a hyperbranched polymer of a phenol derivative having a weight average molecular weight of 500 to 10,000,000.
[0014]
In this case, the polymer compound of the present invention comprises the following repeating unit (I) and / or repeating unit (II) and repeating unit (III), and the number of units (III) is preferably 1 to 1,000. Is preferably 1 to 500, more preferably 1 to 200.
[0015]
Embedded image
(Wherein R 1 Represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 Are the same or different linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms. R Three Is hydroxyl or OR Four Group R Four Represents an acid labile group or an acid stable group. x is 0 or a positive integer, y is a positive integer, and is a number satisfying x + y ≦ 5, preferably R Three Is OR Four It is. )
[0016]
Embedded image
(Wherein R 1 Is the same as above. R Five Is a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, which may be combined and may contain an ether bond or an ester bond. )
[0017]
In this case, the unit (III) is preferably one represented by the following formula (3a).
Embedded image
(In formula, X shows a C1-C10 linear or branched alkylene group which may contain a single bond or a hydroxyl group, or a carbonyl group.)
[0018]
Where R 2 Represents a linear, branched or cyclic alkyl group or aryl group having 1 to 30, preferably 1 to 15 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. As the linear, branched or cyclic alkyl group, , Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and the like. Moreover, a phenyl group etc. are mentioned as an aryl group.
[0019]
R above Four As the acid labile group, various groups are selected, and in particular, groups represented by the following formulas (9) and (10), a tertiary alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, and an alkyl group each having 1 to 6 carbon atoms. A trialkylsilyl group, an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, and the like are preferable.
[0020]
Embedded image
[0021]
Where R 6 Is a tertiary alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, an alkyl group is a trialkylsilyl group having 1 to 6 carbon atoms, an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms, and a is an integer of 0 to 10. R 7 Is a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 8 , R 9 Each independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or may be bonded to each other to form a ring.
[0022]
Specific examples of the acid labile group represented by the above formula (10) include 1-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-n-propoxyethyl group, 1-isopropoxyethyl group, 1-n. -Butoxyethyl group, 1-isobutoxyethyl group, 1-sec-butoxyethyl group, 1-tert-butoxyethyl group, 1-tert-amyloxyethyl group, 1-ethoxy-n-propyl group, 1-cyclohexyloxy Linear or branched acetal group such as ethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group, 1-methoxy-1-methyl-ethyl group, 1-ethoxy-1-methyl-ethyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydropyranyl A cyclic acetal group such as a group, preferably an ethoxyethyl group, a butoxyethyl group, and an ethoxypropyl group. It is. On the other hand, as the acid labile group of the above formula (9), for example, tert-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonylmethyl group, tert-amyloxycarbonyl group, tert-amyloxycarbonylmethyl group, 1-ethoxyethoxycarbonylmethyl group , 2-tetrahydropyranyloxycarbonylmethyl group, 2-tetrahydrofuranyloxycarbonylmethyl group and the like.
[0023]
Examples of the tertiary alkyl group include tert-butyl group, triethylcarbyl group, 1-ethylnorbornyl group, 1-methylcyclohexyl group, 2- (2-methyl) adamantyl group, tert-amyl group, and the like. Can do.
[0024]
Examples of the trialkylsilyl group include those having 1 to 6 carbon atoms in each alkyl group such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, and a dimethyl-tert-butylsilyl group.
[0025]
An oxoalkyl group includes a 3-oxocyclohexyl group.
[0026]
Furthermore, examples of the acid labile group include a bridging group Q having a C—O—C group. As shown in the following formula, this bridging group Q is for intramolecular or intermolecular crosslinking between OH of the units (I).
[0027]
Embedded image
[0028]
Examples of the bridging group Q include groups represented by the following general formula (Qa) or (Qb), preferably (Qa ′) or (Qb ′).
[0029]
Embedded image
(In the formula, R ′ and R ″ represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Alternatively, R ′ and R ″ may form a ring. When forming a ring, R ′ and R ″ are linear or branched alkylene groups having 1 to 8 carbon atoms. R ′ ″ is linear or branched having 1 to 10 carbon atoms. Or a cyclic alkylene group, d is 0 or an integer of 1 to 10. A is a C-valent aliphatic or alicyclic saturated hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic ring having 1 to 50 carbon atoms. These groups may have intervening heteroatoms, and a part of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms may be substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an acyl group or a halogen atom. Represents -CO-O-, -NHCO-O- or -NHCONH-, c is an integer of 2 to 8, and c 'is an integer of 1 to 7.)
[0030]
Embedded image
(In the formula, R ′ and R ″ represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Alternatively, R ′ and R ″ may form a ring. When forming a ring, R ′ and R ″ are linear or branched alkylene groups having 1 to 8 carbon atoms. R ′ ″ is linear or branched having 1 to 10 carbon atoms. Or a cyclic alkylene group, d is 0 or an integer of 1 to 5. A ′ is a c ″ -valent linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyltriyl group. , An alkyltetrayl group, and an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, these groups may contain a hetero atom, and some of the hydrogen atoms bonded to the carbon atom may be a hydroxyl group, a carboxyl group, an acyl group. Optionally substituted by a group or a halogen atom, B represents —CO—O—, —NHCO—O— or —NHCONH—; c '' is 2~4, c '''is an integer of 1-3.)
[0031]
Here, examples of the linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms are the same as those described above. Examples of the linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 10 carbon atoms represented by R ′ ″ include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, an isobutylene group, and a cyclohexene group. A xylene group, a cyclopentylene group, etc. can be illustrated. A specific example of A will be described later. These bridging groups (Qa) and (Qb) are derived from alkenyl ether compounds and halogenated alkyl ether compounds described later.
[0032]
As is clear from the value of c ′ in the above formulas (Qa) and (Qb), the bridging group is not limited to a divalent group and may be a trivalent to octavalent group. For example, the divalent bridging groups are represented by the following formulas (Qa ″) and (Qb ″), and the trivalent bridging groups are represented by the following formulas (Qa ′ ″) and (Qb ′ ″). Things.
[0033]
Embedded image
[0034]
The following compounds can be used for introducing the crosslinking group.
Embedded image
[0035]
Here, A, B, R ′, R ″, R ′ ″, c and d are the same as described above, and R′a is a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic group having 1 to 7 carbon atoms. Represents an alkyl group. Z is a halogen atom such as Cl, Br, or I.
[0036]
Specifically, the c-valent hydrocarbon group of A has 1 to 50, preferably 1 to 40, O, NH, N (CH Three ), S, SO 2 An unsubstituted or hydroxyl group, a carboxyl group, an acyl group or a halogen atom-substituted alkylene group such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and a carbon number of 6 to 50, preferably 6 To 40, more preferably 6 to 20, an arylene group, a group in which these alkylene group and arylene group are bonded, and a c ′ ″ valence (c ′ ″) in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom of each of the above groups is eliminated. Is an integer of 3 to 8, and further includes a c-valent heterocyclic group, a group in which this heterocyclic group is bonded to the hydrocarbon group, and the like.
[0037]
Specifically, examples of A include the following.
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[0038]
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[0039]
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[0040]
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[0041]
The compound represented by the general formula (I) is exemplified by Stephen. C. Lapin, Polymers Paint Color Journal. 179 (Q237), 321 (1988), that is, synthesis by reaction of polyhydric alcohol or polyhydric phenol and acetylene, or reaction of polyhydric alcohol or polyhydric phenol and halogenated alkyl vinyl ether. Can do.
[0042]
Specific examples of the compound of formula (I) include ethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,2-propanediol divinyl ether, 1,3-propanediol divinyl ether, 1,3-butanediol divinyl ether, 1 , 4-butanediol divinyl ether (tetramethylene glycol divinyl ether), neopentyl glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, trimethylolethane trivinyl ether, hexanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, 1,4 -Divinyloxymethylcyclohexane, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, pentaerythritol tri Nyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, sorbitol pentavinyl ether, ethylene glycol diethylene vinyl ether, triethylene glycol diethylene vinyl ether, ethylene glycol dipropylene vinyl ether, triethylene glycol diethylene vinyl ether, trimethylolpropane triethylene vinyl ether, trimethylolpropane diethylene vinyl ether , Pentaerythritol diethylene vinyl ether, pentaerythritol triethylene vinyl ether, pentaerythritol tetraethylene vinyl ether, and compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-31) can be exemplified, but are not limited thereto. Absent.
[0043]
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[0044]
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[0045]
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[0046]
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[0047]
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[0048]
On the other hand, the compound represented by the general formula (II) when B is —CO—O— can be produced by a reaction between a polyvalent carboxylic acid and a halogenated alkyl vinyl ether. Specific examples of the compound represented by the formula (II) when B is —CO—O— include terephthalic acid diethylene vinyl ether, phthalic acid diethylene vinyl ether, isophthalic acid diethylene vinyl ether, phthalic acid dipropylene vinyl ether, terephthalic acid dipropylene vinyl ether. , Dipropylene vinyl ether isophthalate, diethylene vinyl ether maleate, diethylene vinyl ether fumarate, diethylene vinyl ether itaconate, and the like, but are not limited thereto.
[0049]
Furthermore, the alkenyl ether group-containing compound preferably used in the present invention includes an alkenyl ether compound having an active hydrogen represented by the following general formula (III), (IV) or (V), and a compound having an isocyanate group: An alkenyl ether group-containing compound synthesized by the above reaction can be mentioned.
[0050]
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(R′a, R ″, R ′ ″ have the same meaning as described above.)
[0051]
As a method for obtaining a compound represented by the above general formula (II) when B is —NHCO—O— or —NHCONH—, for example, an isocyanate group described in a cross-linking agent handbook (published by Taiseisha, published in 1981) is used. The compound which has can be used. Specifically, triphenylmethane triisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, o-tolylene diisocyanate Polyisocyanate types such as narate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, adducts of tolylene diisocyanate and trimethylolpropane, adducts of hexamethylene diisocyanate and water, xylene diisocyanate and And polyisocyanate adducts such as adducts with trimethylolpropane. By reacting the isocyanate group-containing compound and the active hydrogen-containing alkenyl ether compound, various compounds having an alkenyl ether group at the terminal can be obtained. Examples of such compounds include, but are not limited to, those represented by the following formulas (II-1) to (II-11).
[0052]
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[0053]
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[0054]
On the other hand, R Four As the acid stable group, it is a substituent that is eliminated by acid to generate phenol, and the dissolution rate does not change, such as a 1,2 secondary alkyl group, 1,2 secondary alkoxy group, 1, Secondary alkoxycarbonyl group, 1,2, tertiary alkylcarbonyl group, aryl group and the like can be mentioned. In addition, an alkyl group and an alkoxy group include those having 1 to 20 carbon atoms, particularly 1 to 10 carbon atoms, and examples of the aryl group include a phenyl group. Specific examples include, but are not limited to, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, cyclohexyloxy group, acetyl group, pivaloyl group, methyl carbonate group, ethyl carbonate group, isopropyl carbonate group, methoxymethoxy group, and the like. It is not a thing.
[0055]
In addition, R Five As the alkylene group and arylene group, the alkylene group preferably has 1 to 20 carbon atoms, particularly 1 to 10 carbon atoms, and the arylene group preferably has 6 to 20 carbon atoms, particularly 6 to 10 carbon atoms, and the alkylene group and the arylene group are combined. And may contain an ether bond or an ester bond. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group, a cyclohexylene group, an octylene group, a phenylene group, a group in which these are bonded, or —O—, —CO—, — Although the group which COO- intervened is illustrated, especially the following group is preferable.
[0056]
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[0057]
Here, as described above, X is a straight or branched chain having 1 to 10, preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6 carbon atoms which may contain a single bond, or a hydroxy group or a carbonyl group. Examples of the chain alkylene group include those exemplified above.
[0058]
In the polymer compound of the present invention, one of the repeating units (I) and / or (II) is bonded to the three bonds of the unit (III), and the other bond is different. It is a branched bond chain in the form of dendrites or hyperbranches in the form of bonding to the bond of the unit (III).
[0059]
In this case, the sum of the unit (I) and the unit (II) is 0 to 1 as (II) / [(I) + (II)], preferably 0.8 or less, more preferably 0.6 or less, more preferably 0.5 or less. The lower limit is 0, preferably a positive number exceeding 0, particularly 0.01 or more, more preferably 0.05 or more, and still more preferably 0.1 or more.
[0060]
The polymer compound of the present invention can be represented, for example, by the following formula (A).
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[0061]
That is, the number of units (III) z (z is different depending on the number of branches, preferably 1 to 1,000, more preferably 1 to 100, still more preferably 1 to 3 bonds of the unit (III). 50), a repeating unit of a, b, a repeating unit of c, d, and a repeating unit of e, f are combined.
[0062]
Where R 1 , R 2 , R Four , R Five Is the same as above, and x and y are the same as above.
Further, a to f are 0 or a positive number, but a and b, c and d, and e and f are not 0 simultaneously. In this case, a / (a + b), c / (c + d), e / (e + f), (a + c + e) / (a + b + c + d + e + f) are also in the range of 0 to 1, but preferably (II) / [(I ) + (II)], and is preferably 0.8 or less, more preferably 0.6 or less, and even more preferably 0.5 or less. The lower limit is 0, preferably a positive number exceeding 0, particularly 0.01 or more, more preferably 0.05 or more, and still more preferably 0.1 or more. These may be the same as or different from each other.
[0063]
As described above, the polymer compound of the present invention has a weight average molecular weight of 500 to 10,000,000, preferably 1,000 to 1,000,000, more preferably 1,000 to 100,000, Preferably it is 2,000-50,000. In this case, the molecular weight distribution is not particularly limited, but is preferably Mw / Mn = 1.0 to 5.0, particularly 1.0 to 3.0.
[0064]
Specific examples of the denpolymer and hyperbranched polymer of the present invention include those having a repeating unit represented by the following general formulas (4) to (8).
[0065]
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[0066]
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(In the formula, the chain line represents the polymer chain of the repeating unit (I) and / or (II), and A represents the unit (III). The number of dots of the chain line between A and A and the unit (I) , (II) is irrelevant to the number of bonds (the number of repetitions).)
[0067]
As a method for producing a dendrimer or a hyperbranched polymer of a phenol derivative according to the present invention, it can be synthesized by reacting a polymerizable component and a compound having a terminating component during living polymerization and further proceeding the polymerization. . By repeating this operation arbitrarily, a dendrimer or hyperbranched polymer of a phenol derivative can be produced. Any polymerization method can be used as long as it is a living polymerization. Among them, living anionic polymerization is particularly preferable as a polymerization method that can be easily controlled.
[0068]
For example, a living anion polymerization is started using a monomer represented by the general formula (i) and / or a monomer represented by the general formula (ii), and after a predetermined amount is polymerized, the compound represented by the general formula (iii) (branched) Reacting monomer). Next, the monomer represented by the general formula (i) and / or the monomer represented by the general formula (ii) are added again and polymerized. By repeating this operation several times, a desired polymer can be synthesized.
[0069]
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[0070]
Where R 1 , R 2 , R Three , X, y are the same as above, R is a hydroxyl-protecting group, R 0 Is a single bond or carbon Number 1 To 10 alkylene groups, Y Is a halogen atom, an aldehyde group or an alkoxycarbonyl group. In addition, as said protective group, a well-known thing is mentioned, It does not restrict | limit in particular, Finally, it can remove | eliminate by a conventional method.
[0071]
When living anionic polymerization is performed, the reaction solvent is preferably a solvent such as toluene, benzene, tetrahydrofuran, dioxane, or ethyl ether, and more preferably a polar solvent such as tetrahydrofuran, dioxane, or ethyl ether. You can use it.
[0072]
As the initiator, sec-butyllithium, n-butyllithium, naphthalene sodium, and cumylpotassium are preferable, and the amount used is proportional to the design molecular weight.
[0073]
The reaction temperature is −80 to 100 ° C., preferably −70 to 0 ° C., and the reaction time is 0.1 to 50 hours, preferably 0.5 to 5 hours.
[0074]
An example of the reaction formula when sec-butyllithium is used as an initiator is as follows. In order to change the degree of branching, the following reaction is arbitrarily repeated.
[0075]
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[0076]
In addition, when introducing an acid labile group or an acid stable group, a desired acid labile group or acid stable group may be introduced into the phenolic hydroxyl group by a known method with respect to the obtained poly-p-hydroxystyrene. Good. Or what is necessary is just to superpose | polymerize as mentioned above using the hydroxy styrene derivative monomer by which the acid labile group or the acid stable group was introduce | transduced into the phenolic hydroxyl group.
A production example in the case of introducing an acid labile group is shown below.
[0077]
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[0078]
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[0079]
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[0080]
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[0081]
【The invention's effect】
The novel polymer compounds of the denpolymers and hyperbranched polymers of the present invention are basically different from ordinary linear polymer compounds. For example, when this novel polymer compound is used as a base resin for a resist material, The size is proportional to the resolution, and there is a disadvantage that the linear polymer compound has insufficient strength if the size is reduced. However, this new polymer compound can arbitrarily change the size of the polymer. The polymer compound has the feature that the size can be reduced while maintaining the strength. Therefore, a resist material excellent in high resolution, sensitivity, and plasma etching resistance, which is not found in conventional resist materials, is provided.
[0082]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following example.
[0083]
[Synthesis Example 1] Synthesis of tri-branched poly (p-hydroxystyrene)
A 1 L flask was charged with 500 ml of tetrahydrofuran as a solvent and 0.01 mol of sec-butyllithium as an initiator. To this mixed solution, 30 g of p-tert-butoxystyrene was added at −78 ° C., and polymerization was performed with stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red. Furthermore, in order to obtain a branched polymer, 0.005 mol of p-chloromethylstyrene was added and reacted for 5 minutes. This reaction solution was a red solution. Next, 15 g of p-tert-butoxystyrene was further added, and polymerization was performed while stirring for 30 minutes. The polymerization termination reaction was performed by adding 0.1 mol of methanol to the reaction solution.
[0084]
Next, in order to purify the polymer, the reaction mixture was poured into methanol, and the obtained polymer was precipitated, then separated and dried. As a result, 29 g of a white polymer (3-branched poly p-tert -Butoxystyrene) was obtained. This polymer has a weight average molecular weight of 4500 g / mol by the light scattering method, and is confirmed to be a polymer having very high monodispersity (Mw / Mn = 1.07) in terms of molecular weight distribution from the GPC elution curve. did it.
[0085]
Further, in order to obtain tribranched poly (p-hydroxystyrene), 29 g of the above-mentioned tribranched poly p-tert-butoxystyrene was dissolved in 300 ml of acetone, a small amount of concentrated hydrochloric acid was added at 60 ° C., and the mixture was stirred for 7 hours. Poured into water to precipitate the polymer, washed and dried, yielding 18 g of polymer. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 3000 g / mol. Also, 1 It was confirmed by H-NMR that a polymer derived from a tert-butyl group was not observed, and thus the polymer obtained was tri-branched poly (p-hydroxystyrene) having a narrow molecular weight distribution.
[0086]
[Synthesis Example 2] Synthesis of tri-branched poly (p-hydroxystyrene)
A 1 L flask was charged with 500 ml of tetrahydrofuran as a solvent and 0.01 mol of sec-butyllithium as an initiator. To this mixed solution, 30 g of p-tert-butoxystyrene was added at −78 ° C., and polymerization was performed with stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red. Further, 0.005 mol of p-methylcarbonylstyrene was added and reacted for 5 minutes to obtain a branched polymer. Next, 15 g of p-tert-butoxystyrene was further added, and polymerization was performed while stirring for 30 minutes. The polymerization termination reaction was performed by adding 0.1 mol of methanol to the reaction solution.
[0087]
Next, in order to purify the polymer, the reaction mixture was poured into methanol, and the resulting polymer was precipitated and then separated and dried. As a result, 28 g of a white polymer (3-branched poly p-tert. -Butoxystyrene) was obtained. This polymer has a weight average molecular weight of 4500 g / mol by light scattering method, and is confirmed to be a polymer having very high monodispersity (Mw / Mn = 1.09) in terms of molecular weight distribution from the GPC elution curve. did it.
[0088]
Further, in order to obtain tribranched poly (p-hydroxystyrene), 28 g of the above-mentioned tribranched poly p-tert-butoxystyrene was dissolved in 300 ml of acetone, a small amount of concentrated hydrochloric acid was added at 60 ° C., and the mixture was stirred for 7 hours. When poured into water, the polymer was precipitated, washed and dried, 17 g of polymer was obtained. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 3000 g / mol. Also, 1 It was confirmed by H-NMR that a polymer derived from a tert-butyl group was not observed, and thus the polymer obtained was tri-branched poly (p-hydroxystyrene) having a narrow molecular weight distribution.
[0089]
[Synthesis Example 3] 3-branched poly (partial ethoxy ester Chill Of p-hydroxystyrene)
10 g of the 3-branched polyhydroxystyrene obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran, a catalytic amount of methanesulfonic acid was added, and then 3 g of ethyl vinyl ether was added with stirring at 20 ° C. After reacting for 1 hour, the mixture was neutralized with concentrated aqueous ammonia, and the neutralized reaction solution was added dropwise to 5 L of water to obtain a white solid. This was filtered, dissolved in 100 ml of acetone, dropped into 5 L of water, filtered and dried in vacuo. The resulting polymer is 1 From 1 H-NMR, it was confirmed that the hydrogen atom of the hydroxyl group of the 3-branched polyhydroxystyrene was 27% ethoxyethylated. The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) were as shown in Table 1.
[0090]
[Synthesis Example 4] Synthesis of tri-branched poly (p-tert-butoxycarbonyloxystyrene-p-hydroxystyrene)
20 g of the tribranched polyhydroxystyrene obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 200 ml of pyridine, and 10 g of di-tert-butyl dicarbonate was added with stirring at 45 ° C. After making it react for 1 hour, when the reaction liquid was dripped at 3 L of water, white solid was obtained. This was filtered, dissolved in 100 ml of acetone, dropped into 5 L of water, filtered, and vacuum dried to obtain a polymer. The resulting polymer is 1 From 1 H-NMR, the t-BOC conversion rate of the hydrogen atom of the hydroxyl group of the 3-branched polyhydroxystyrene was 27%, and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) were as shown in Table 1.
[0091]
Synthesis Example 5 Synthesis of tri-branched poly (p-1-ethoxypropoxystyrene-p-tert-butoxycarbonyloxystyrene-p-hydroxystyrene)
20 g of the tribranched polyhydroxystyrene obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran, and after adding a catalytic amount of methanesulfonic acid, 5 g of ethyl propenyl ether was added with stirring at 20 ° C. After reacting for 1 hour, the solution was neutralized with concentrated aqueous ammonia, and the neutralized reaction solution was added dropwise to 10 L of water to obtain a white solid. This was filtered, dissolved in 200 ml of acetone, dropped into 10 L of water, filtered, and dried in vacuo. The resulting polymer is 1 From 1 H-NMR, it was confirmed that the hydrogen atom of the hydroxyl group of the 3-branched polyhydroxystyrene was 20% ethoxypropylated.
[0092]
Further, 20 g of the obtained partially ethoxypropylated 3-branched polyhydroxystyrene was dissolved in 200 ml of pyridine, and 3 g of di-tert-butyl dicarbonate was added with stirring at 45 ° C. After making it react for 1 hour, when the reaction liquid was dripped at 3 L of water, white solid was obtained. This was filtered, dissolved in 100 ml of acetone, dropped into 5 L of water, filtered, and vacuum dried to obtain a polymer. The resulting polymer is 1 From H-NMR, the ethoxypropylation rate of the hydrogen atom of the hydroxyl group of three-branched polyhydroxystyrene is 20%, the t-BOC conversion rate is 8%, and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) are As shown in FIG.
[0093]
Synthesis Example 6 Synthesis of 9-branched poly (p-hydroxystyrene) and 9-branched poly (partially ethoxypropylated-p-hydroxystyrene)
A 2 L flask was charged with 1000 ml of tetrahydrofuran as a solvent and 0.06 mol of sec-butyllithium as an initiator. To this mixed solution, 60 g of p-tert-butoxystyrene was added at −78 ° C., and polymerization was performed with stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red. Further, 0.03 mol of p-chloromethylstyrene was added and reacted for 5 minutes in order to obtain a three-branched polymer. 30 g of p-tert-butoxystyrene was added to this reaction solution, and polymerization was performed with stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red. Next, 0.03 mol of p-chloromethylstyrene was added and reacted for 5 minutes to obtain a 5-branched polymer. To this reaction solution, 15 g of p-tert-butoxystyrene was added and polymerized while stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red. Finally, 0.015 mol of p-chloromethylstyrene was added and reacted for 5 minutes to obtain a 9-branched polymer. To this reaction solution, 7.5 g of p-tert-butoxystyrene was added and polymerized while stirring for 30 minutes. The reaction solution turned red.
[0094]
Further, 10 g of p-tert-butoxystyrene was added and polymerized while stirring for 30 minutes. The polymerization termination reaction was carried out by adding 0.1 mol of carbon dioxide gas to the reaction solution.
[0095]
Next, in order to purify the polymer, the reaction mixture was poured into methanol, and the obtained polymer was precipitated, then separated and dried. As a result, 99 g of a white polymer (9-branched poly p-tert -Butoxystyrene) was obtained. This polymer has a weight average molecular weight of 4000 g / mol by the light scattering method, and is confirmed to be a polymer having very high monodispersity (Mw / Mn = 1.21) in terms of molecular weight distribution from the GPC elution curve. did it.
[0096]
Furthermore, in order to obtain 9-branched poly (p-hydroxystyrene), 99 g of the 9-branched poly p-tert-butoxystyrene was dissolved in 1000 ml of acetone, a small amount of concentrated hydrochloric acid was added at 60 ° C., and the mixture was stirred for 7 hours. Poured into water to precipitate the polymer, washed and dried, yielding 66 g of polymer. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 3000 g / mol. Also, 1 It was confirmed by H-NMR that the peak derived from the tert-butyl group was not observed, and the polymer obtained was 9-branched poly (p-hydroxystyrene) having a narrow molecular weight distribution.
[0097]
99 g of 9-branched poly (p-hydroxystyrene) obtained in a 2 L flask was dissolved in 1000 ml of tetrahydrofuran, and after adding a catalytic amount of methanesulfonic acid, 25 g of ethyl propenyl ether was added with stirring at 20 ° C. After reacting for 2 hours, the mixture was neutralized with concentrated aqueous ammonia, and the neutralized reaction solution was added dropwise to 10 L of water to obtain a white solid. This was filtered, dissolved in 500 ml of acetone, dropped into 10 L of water, filtered and dried in vacuo. The resulting polymer is 1 From 1 H-NMR, it was confirmed that the hydrogen atom of the hydroxyl group of carboxylic acid-terminated polyhydroxystyrene was 26% ethoxypropylated. The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) were as shown in Table 1.
[0098]
[Table 1]
[0099]
[Synthesis Example 7] Synthesis of 9-branched poly (partially ethoxyethoxylated-p-hydroxystyrene)
99 g of 9-branched poly (p-hydroxystyrene) obtained in a 2 L flask was dissolved in 1000 ml of tetrahydrofuran, a catalytic amount of methanesulfonic acid was added, and then 25 g of ethyl vinyl ether was added with stirring at 20 ° C. After reacting for 2 hours, the mixture was neutralized with concentrated aqueous ammonia, and the neutralized reaction solution was added dropwise to 10 L of water to obtain a white solid. This was filtered, dissolved in 500 ml of acetone, dropped into 10 L of water, filtered and vacuum dried to obtain a polymer, 1 From the analysis of H-NMR, the substitution rate of the ethoxyethyl group was identified (Polymer 1).
[0100]
Further, the following polymers 2 to 11 were produced according to the above method. The polymer 5 was produced by further crosslinking with 1,4-butanediol divinyl ether.
[0101]
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[0102]
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[0103]
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[0104]
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