Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP4420969B2 - Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP4420969B2 - Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display - Google Patents

Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display Download PDF

Info

Publication number
JP4420969B2
JP4420969B2 JP2008532523A JP2008532523A JP4420969B2 JP 4420969 B2 JP4420969 B2 JP 4420969B2 JP 2008532523 A JP2008532523 A JP 2008532523A JP 2008532523 A JP2008532523 A JP 2008532523A JP 4420969 B2 JP4420969 B2 JP 4420969B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spacer
particles
spacer particles
particle dispersion
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008532523A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2009008401A1 (en
Inventor
康晴 永井
努 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of JP4420969B2 publication Critical patent/JP4420969B2/en
Publication of JPWO2009008401A1 publication Critical patent/JPWO2009008401A1/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13392Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers dispersed on the cell substrate, e.g. spherical particles, microfibres
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398Spacer materials; Spacer properties

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液に関する。また、該スペーサ粒子分散液を用いてなる液晶表示装置の製造方法、及び、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a spacer particle dispersion capable of continuously and stably arranging spacer particles on a substrate by an ink jet device and obtaining a liquid crystal display device excellent in display quality. The present invention also relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device using the spacer particle dispersion and a liquid crystal display device.

液晶表示装置は、現在、パソコン、携帯電子機器等に広く用いられている。この液晶表示装置は、一般に、カラーフィルタ、ブラックマトリクス、線状透明電極、及び、配向膜等が形成された2枚の基板に液晶を挟持させてなる構造を有する。ここで、2枚の基板の間隔を規制し、適正な液晶層の厚みを維持しているのがスペーサ粒子である。 Liquid crystal display devices are currently widely used in personal computers, portable electronic devices, and the like. The liquid crystal display device generally has a structure in which liquid crystal is sandwiched between two substrates on which a color filter, a black matrix, a linear transparent electrode, an alignment film, and the like are formed. Here, it is the spacer particles that regulate the distance between the two substrates and maintain the proper thickness of the liquid crystal layer.

従来の液晶表示装置の製造方法においては、スペーサ粒子を配置する方法としては、イソプロパノール等の溶剤を用いてスペーサ粒子を基板上に散布する湿式散布法や、溶剤を使用せずに空気の圧力を利用してスペーサ粒子を基板上に散布する乾式散布法等が用いられていた。
しかしながら、このような方法では、画素電極が形成された基板上にスペーサ粒子がランダムかつ均一に散布するため、画素電極上、すなわち、液晶表示装置の表示部(画素領域)にスペーサ粒子が配置されやすかった。
一般的なスペーサ粒子は、合成樹脂やガラス等からなるため、スペーサ粒子が画素電極上に配置されると、偏光が乱されて偏光性を失うという現象、いわゆる消偏現象が生じて、スペーサ粒子部分が光漏れを起こすという問題が発生することがあった。また、スペーサ粒子表面において液晶の配向が乱れることにより、光抜けが起こりコントラストや色調が低下して表示品質が悪化するという問題が発生することがあった。
更に、TFT液晶表示装置においては、基板上にTFT素子が配置されているが、このTFT素子上にスペーサ粒子が配置されたときに、基板に圧力が加わると、素子が破損することがあった。
In the conventional method for manufacturing a liquid crystal display device, spacer particles are arranged by a wet spraying method in which spacer particles are sprayed on a substrate using a solvent such as isopropanol, or by applying air pressure without using a solvent. A dry spraying method or the like in which spacer particles are sprayed on a substrate by use has been used.
However, in such a method, spacer particles are randomly and uniformly distributed on the substrate on which the pixel electrode is formed. Therefore, the spacer particles are arranged on the pixel electrode, that is, on the display unit (pixel region) of the liquid crystal display device. It was easy.
Since general spacer particles are made of synthetic resin, glass, or the like, when the spacer particles are arranged on the pixel electrode, a phenomenon in which the polarization is disturbed and the polarization property is lost, so-called depolarization phenomenon occurs. There was a problem that the part leaked light. Further, the alignment of the liquid crystal on the surface of the spacer particles may cause a problem that light is lost and the contrast and color tone are lowered to deteriorate the display quality.
Furthermore, in the TFT liquid crystal display device, the TFT element is disposed on the substrate. However, when spacer particles are disposed on the TFT element, the element may be damaged if pressure is applied to the substrate. .

スペーサ粒子のランダム散布に伴う問題点を解決するために、スペーサ粒子を非画素領域に配置する種々の試みがなされている。
スペーサ粒子を非画素領域、すなわち特定の位置のみに配置する方法として、例えば、特許文献1には、スペーサ粒子を配置させる部分にマスクの開口部を合致させた後、マスクを通してスペーサ粒子を散布する方法が開示されている。また、例えば、特許文献2には、感光体に静電的にスペーサ粒子を吸着させた後、透明基板にスペーサ粒子を転写する方法が開示されている。更に、特許文献3には、基板上の画素電極に電圧を印加し、帯電させたスペーサ粒子を散布することで、静電的斥力によってスペーサ粒子を特定の位置に配置する液晶表示装置の製造方法が開示されている。
In order to solve the problems associated with random dispersion of spacer particles, various attempts have been made to arrange the spacer particles in the non-pixel region.
As a method of arranging spacer particles only in a non-pixel region, that is, a specific position, for example, in Patent Document 1, after aligning an opening of a mask with a portion where spacer particles are arranged, the spacer particles are dispersed through the mask. A method is disclosed. For example, Patent Document 2 discloses a method in which spacer particles are electrostatically adsorbed to a photoreceptor and then transferred to a transparent substrate. Furthermore, Patent Document 3 discloses a method for manufacturing a liquid crystal display device in which spacer particles are arranged at specific positions by electrostatic repulsion by applying a voltage to pixel electrodes on a substrate and dispersing charged spacer particles. Is disclosed.

しかしながら、特許文献1、2に開示されている方法では、基板表面にマスクや感光体を直接接触させるために、基板表面に形成されている配向膜が損傷することがあり、液晶表示装置の画質が低下することがあった。一方、特許文献3に開示されている方法では、スペーサ粒子の配置パターンに従って電極を構成する必要があるため、任意の位置にスペーサ粒子を配置することが困難であった。 However, in the methods disclosed in Patent Documents 1 and 2, since the mask or the photoconductor is brought into direct contact with the substrate surface, the alignment film formed on the substrate surface may be damaged. May decrease. On the other hand, in the method disclosed in Patent Document 3, it is necessary to configure the electrodes according to the arrangement pattern of the spacer particles. Therefore, it is difficult to arrange the spacer particles at an arbitrary position.

この問題に対し、特許文献4には、インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する方法が開示されている。特許文献4に開示されている方法では、基板上にマスクや感光体を直接接触させることがないため、基板表面に形成されている配向膜が損傷することなく、特定の位置に特定のパターンでスペーサ粒子を配置できるので有効な方法であるといえる。 With respect to this problem, Patent Document 4 discloses a method of arranging spacer particles on a substrate using an ink jet apparatus. In the method disclosed in Patent Document 4, since a mask or a photoconductor is not directly contacted on the substrate, the alignment film formed on the substrate surface is not damaged, and a specific pattern is formed at a specific position. Since spacer particles can be arranged, it can be said that this is an effective method.

インクジェット装置を用いてスペーサ粒子を基板上に配置する方法では、スペーサ粒子と該スペーサ粒子を分散させる分散溶媒とを含有するスペーサ粒子分散液をインクジェット装置内に充填し、ノズルからスペーサ粒子分散液の液滴を基板に向けて吐出している。しかしながら、実際にインクジェット装置を用いてスペーサ粒子分散液の吐出を行うと、様々な問題が生じていた。 In the method of disposing spacer particles on a substrate using an ink jet device, a spacer particle dispersion liquid containing spacer particles and a dispersion solvent for dispersing the spacer particles is filled into the ink jet device, and the spacer particle dispersion liquid is discharged from a nozzle. Droplets are discharged toward the substrate. However, when the spacer particle dispersion is actually discharged using an ink jet apparatus, various problems have occurred.

すなわち、スペーサ粒子分散液に分散させるスペーサ粒子は、通常、1〜20μm程度の粒径を有するが、通常のインクジェットプリンタ等に用いられるインクに含まれる顔料は、せいぜい1μm程度であり、このような大粒子が分散した分散液を吐出することは想定されていなかった。
しかも、通常の顔料等を分散させたインクでは、分散剤を用いて分散安定性を向上させていたが、分散剤が添加されたスペーサ粒子分散液は、基板等に対する濡れ性が高いため基板上に吐出すると広がってしまい、微小な領域に選択的に吐出することができなかった。また、分散剤が水分を吸収するため乾燥工程に時間がかかったり、分散剤による配向膜汚染が発生して画質が悪化したりする等の理由により、スペーサ粒子分散液では分散剤を使用することができなかった。
That is, the spacer particles to be dispersed in the spacer particle dispersion usually have a particle size of about 1 to 20 μm, but the pigment contained in the ink used in a normal inkjet printer or the like is about 1 μm at most. It was not assumed that a dispersion liquid in which large particles were dispersed was discharged.
Moreover, in the case of an ink in which a normal pigment or the like is dispersed, the dispersion stability is improved by using a dispersant. However, the spacer particle dispersion liquid to which the dispersant is added has high wettability with respect to the substrate and the like. When the liquid is discharged, the liquid spreads and cannot be selectively discharged to a minute region. In addition, the dispersing agent absorbs moisture, and therefore the drying process takes time, or the alignment film is contaminated by the dispersing agent and the image quality is deteriorated. I could not.

このような極めて分散性の悪い大粒子であるスペーサ粒子が分散したスペーサ粒子分散液を、従来のインクジェット装置で吐出しようとすると、スペーサ粒子の目詰まりや吐出不良等が生じてしまい、正確な吐出が不可能であった。 When trying to discharge such a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles, which are large particles having extremely poor dispersibility, are dispersed with a conventional ink jet device, clogging of the spacer particles, defective discharge, etc. occur, and accurate discharge is caused. Was impossible.

スペーサ粒子の目詰まりや吐出不良等を解決する手段として、例えば、スペーサ粒子に表面処理を施すことで、分散溶媒に対する分散性を付与し、吐出性等の向上を図る方法が知られている。
しかしながら、このような表面処理が施されたスペーサ粒子を含むスペーサ粒子分散液をインクジェット装置により吐出しようとすると、しばしば吐出中に吐出安定性が低下してしまったり、吐出した液滴中にスペーサ粒子が含まれない場合があったりするという問題があった。
特開平4−198919号公報 特開平6−258647号公報 特開平10−339878号公報 特開昭57−58124号公報
As a means for solving clogging of spacer particles, ejection failure, and the like, for example, a method is known in which surface treatment is applied to spacer particles to impart dispersibility with respect to a dispersion solvent and improve ejection properties.
However, when a spacer particle dispersion containing spacer particles subjected to such a surface treatment is to be ejected by an ink jet apparatus, the ejection stability often decreases during ejection, or spacer particles are contained in the ejected droplets. There was a problem that may not be included.
Japanese Patent Laid-Open No. 4-198919 JP-A-6-258647 JP-A-10-339878 JP-A-57-58124

本発明は、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液を提供することを目的とする。また、該スペーサ粒子分散液を用いてなる液晶表示装置の製造方法、及び、液晶表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a spacer particle dispersion which can continuously and stably dispose spacer particles on a substrate by an ink jet device and can obtain a liquid crystal display device excellent in display quality. To do. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device using the spacer particle dispersion and a liquid crystal display device.

本発明は、インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上の任意の位置に配置するためのスペーサ粒子分散液であって、表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子、カチオン性化合物、及び、溶媒を含有するスペーサ粒子分散液である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention relates to a spacer particle dispersion for disposing spacer particles at an arbitrary position on a substrate using an ink jet apparatus, and includes spacer particles having a negative charge on the surface, a cationic compound, and a solvent. It is a spacer particle dispersion containing.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子を含有するスペーサ粒子分散液をインクジェット装置で吐出する際に、吐出安定性が低下してしまったり、吐出した液滴中にスペーサ粒子が含まれなかったりする原因が、インクジェット装置の流路内に設置されるSUS製のフィルターの目詰まりにあることを見出した。
スペーサ粒子等の粒子が粒子同士の凝集を起こすことなくそれぞれ1個の粒子として分散された状態を維持させる方法としては、通常、全ての粒子の表面が同一の電荷となるように表面処理する方法がよく知られている。表面処理としては、スペーサ粒子の表面にカルボキシル基等の親水基を導入することによりマイナスに帯電させ、その静電反発力により分散性を付与することが一般的である。一方、SUS製のフィルターは、通常プラスに帯電している。従って、プラスに帯電したSUS製のフィルターにマイナスに帯電したスペーサ粒子が付着して取れないことにより、フィルターの目詰まりが生じやすくなるものと考えられる。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that when discharging a spacer particle dispersion containing spacer particles having a negative charge on the surface with an ink jet apparatus, the discharge stability is reduced or the discharged droplets It has been found that the reason why the spacer particles are not included is clogging of the SUS filter installed in the flow path of the ink jet apparatus.
As a method of maintaining a state where particles such as spacer particles are dispersed as a single particle without causing aggregation between particles, a method of performing a surface treatment so that the surfaces of all the particles are usually the same charge Is well known. As the surface treatment, it is common to introduce a hydrophilic group such as a carboxyl group into the surface of the spacer particle so as to be negatively charged and to impart dispersibility by the electrostatic repulsion force. On the other hand, SUS filters are usually positively charged. Therefore, it is considered that clogging of the filter is likely to occur because the negatively charged spacer particles adhere to the positively charged SUS filter and cannot be removed.

そこで、本発明者らは、更に鋭意検討した結果、表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子を含有するスペーサ粒子分散液に対して、少量のカチオン性化合物を添加することにより、スペーサ粒子の優れた自己分散性を確保したまま、フィルターの目詰まりを防止することができるため、連続的かつ安定的にスペーサ粒子分散液の吐出が可能であり、表示品質に優れる液晶表示装置を製造することができるということを見出し、本発明を完成するに至った。
なお、上記フィルター以外にも、インクジェット装置の流路やインク室等のスペーサ粒子分散液と接する接液部も通常SUS製であり、従来、この接液部にもスペーサ粒子が付着することがあったが、本発明のスペーサ粒子分散液によれば、このようなSUS製の接液部へのスペーサ粒子の付着も防止することもできる。
Therefore, as a result of further diligent investigations, the inventors of the present invention have made spacer particles excellent by adding a small amount of a cationic compound to a spacer particle dispersion containing spacer particles having a negative charge on the surface. Since clogging of the filter can be prevented while ensuring self-dispersibility, the spacer particle dispersion can be discharged continuously and stably, and a liquid crystal display device with excellent display quality can be manufactured. As a result, the present invention has been completed.
In addition to the above-mentioned filter, the liquid contact part in contact with the spacer particle dispersion such as the flow path of the ink jet device or the ink chamber is usually made of SUS. Conventionally, spacer particles may adhere to the liquid contact part. However, according to the spacer particle dispersion liquid of the present invention, the adhesion of the spacer particles to the SUS wetted part can also be prevented.

本発明のスペーサ粒子分散液は、表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子を含有する。
表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子は、スペーサ粒子自体がマイナスの電荷を有するものや、表面にマイナスの電荷を付与する表面処理が施されたスペーサ粒子を用いることができる。
The spacer particle dispersion of the present invention contains spacer particles having a negative charge on the surface.
As the spacer particles having a negative charge on the surface, spacer particles that have a negative charge or spacer particles that have been subjected to a surface treatment that imparts a negative charge to the surface can be used.

上記スペーサ粒子としては特に限定されず、シリカ粒子等の無機系粒子であってもよいし、有機高分子等からなる有機系粒子であってもよい。なかでも、液晶表示装置の基板上に形成された配向膜を傷つけない適度の硬度を有し、熱膨張や熱収縮による厚みの変化に追随しやすく、かつ、セル内部でのスペーサ粒子の移動が比較的少ないことから、有機系粒子が好適である。 The spacer particles are not particularly limited, and may be inorganic particles such as silica particles or organic particles made of an organic polymer. In particular, it has an appropriate hardness that does not damage the alignment film formed on the substrate of the liquid crystal display device, can easily follow a change in thickness due to thermal expansion and contraction, and the movement of the spacer particles inside the cell. Organic particles are preferred because they are relatively few.

上記有機系粒子としては特に限定されないが、強度等を適切な範囲に調整することができることから、単官能単量体と多官能単量体との共重合体が好適である。
上記単官能単量体としては特に限定されず、例えば、スチレン誘導体、塩化ビニル、ビニルエステル類、不飽和ニトリル類、(メタ)アクリル酸エステル誘導体等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as said organic type particle | grains, Since the intensity | strength etc. can be adjusted to a suitable range, the copolymer of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer is suitable.
The monofunctional monomer is not particularly limited, and examples thereof include styrene derivatives, vinyl chloride, vinyl esters, unsaturated nitriles, (meth) acrylic acid ester derivatives, and the like.

上記スチレン誘導体としては特に限定されず、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン等が挙げられる。
上記ビニルエステル類としては特に限定されず、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等が挙げられる。
上記不飽和ニトリル類としては特に限定されず、例えば、アクリロニトリル等が挙げられる。
上記(メタ)アクリル酸エステル誘導体としては特に限定されず、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、エチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらの単官能単量体は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
It does not specifically limit as said styrene derivative, For example, styrene, (alpha) -methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, chloromethylstyrene etc. are mentioned.
The vinyl esters are not particularly limited, and examples thereof include vinyl acetate and vinyl propionate.
The unsaturated nitriles are not particularly limited, and examples thereof include acrylonitrile.
The (meth) acrylic acid ester derivative is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene Examples include glycol (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.
These monofunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記多官能単量体としては特に限定されず、例えば、ジビニルベンゼン、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びその誘導体、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシプロポキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらの多官能単量体は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The polyfunctional monomer is not particularly limited. For example, divinylbenzene, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylol. Propanetetra (meth) acrylate, diallyl phthalate and isomers thereof, triallyl isocyanurate and derivatives thereof, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and derivatives thereof, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate Polypropylene glycol di (meth) acrylate such as relate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (Methacryloxyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxypropoxy) Phenyl] propane di (meth) acrylate and the like.
These polyfunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.

また、上記単官能単量体又は多官能単量体は、親水基を有するものであってもよい。上記親水基としては特に限定されず、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、ホスフォニル基、アミノ基、アミド基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基等が挙げられる。 The monofunctional monomer or polyfunctional monomer may have a hydrophilic group. The hydrophilic group is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, an amino group, an amide group, an ether group, a thiol group, and a thioether group.

上記親水基を有する単官能単量体又は多官能単量体(以下、単に親水基を有する単量体ともいう)としては特に限定されず、例えば、水酸基を有する単量体、カルボキシル基を有する単量体、スルホニル基を有する単量体、ホスフォニル基を有する単量体、アミノ基を有する単量体、水酸基とエーテル基とをともに有する単量体、エーテル基を有する単量体、アミド基を有する単量体等が挙げられる。
上記水酸基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等が挙げられる。
上記カルボキシル基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及び、それらのα−又はβ−アルキル誘導体、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、これら不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等が挙げられる。
上記スルホニル基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。
上記ホスフォニル基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
上記アミノ基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、ジメチルアミノエチルメタクリレートやジエチルアミノエチルメタクリレート等のアクリロイル基を有するアミン類等が挙げられる。
上記水酸基とエーテル基とをともに有する単量体としては特に限定されず、例えば、(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記エーテル基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記アミド基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン等が挙げられる。
The monofunctional monomer or polyfunctional monomer having a hydrophilic group (hereinafter, also simply referred to as a monomer having a hydrophilic group) is not particularly limited, and examples thereof include a monomer having a hydroxyl group and a carboxyl group. Monomer, monomer having sulfonyl group, monomer having phosphonyl group, monomer having amino group, monomer having both hydroxyl group and ether group, monomer having ether group, amide group And the like.
The monomer having a hydroxyl group is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerin mono (Meth) acrylate, allyl alcohol, glycerin monoallyl ether and the like can be mentioned.
The monomer having a carboxyl group is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid, and crotonic acid, and α- or β-alkyl derivatives thereof, fumaric acid. And unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, citraconic acid and itaconic acid, and mono 2- (meth) acryloyloxyethyl ester derivatives of these unsaturated dicarboxylic acids.
The monomer having a sulfonyl group is not particularly limited, and examples thereof include t-butyl acrylamide sulfonic acid, styrene sulfonic acid, and 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid.
The monomer having the phosphonyl group is not particularly limited, and examples thereof include vinyl phosphate and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate.
The monomer having an amino group is not particularly limited, and examples thereof include amines having an acryloyl group such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate.
The monomer having both the hydroxyl group and the ether group is not particularly limited, and examples thereof include (poly) ethylene glycol (meth) acrylate and (poly) propylene glycol (meth) acrylate.
The monomer having an ether group is not particularly limited. For example, a terminal alkyl ether of (poly) ethylene glycol (meth) acrylate, a terminal alkyl ether of (poly) propylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meta) ) Acrylate and the like.
The monomer having an amide group is not particularly limited, and examples thereof include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, and vinylpyrrolidone.

上記有機系粒子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、重合開始剤を用いた懸濁重合法、シード重合法、分散重合法等の各種重合法が挙げられる。
上記懸濁重合法は、得られる粒子の粒径分布が比較的広く、多分散の粒子が得られるため、スペーサ粒子として利用する場合には分級操作を行って、所望の粒径や粒径分布を有する多品種の粒子を得る際に好適に用いられる。
一方、シード重合法、分散重合法は、分級工程を経ることなく単分散粒子が得られるので、特定の粒径の粒子を大量に製造する際に好適である。
The method for producing the organic particles is not particularly limited, and examples thereof include various polymerization methods such as a suspension polymerization method using a polymerization initiator, a seed polymerization method, and a dispersion polymerization method.
In the suspension polymerization method, the particle size distribution of the obtained particles is relatively wide and polydispersed particles can be obtained. Therefore, when used as spacer particles, classification operation is performed to obtain the desired particle size and particle size distribution. It is suitably used when obtaining various types of particles having
On the other hand, the seed polymerization method and the dispersion polymerization method are suitable for producing a large amount of particles having a specific particle size because monodispersed particles can be obtained without going through a classification step.

上記懸濁重合法、シード重合法、分散重合法等において用いられる重合開始剤としては特に限定されず、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサカルボニトリル、アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物等が挙げられる。 The polymerization initiator used in the suspension polymerization method, seed polymerization method, dispersion polymerization method and the like is not particularly limited. For example, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, orthochlorobenzoyl peroxide, orthomethoxybenzoyl peroxide, 3, Organic peroxides such as 5,5-trimethylhexanoyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butyl peroxide, azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexacarbonitrile And azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile).

本発明のスペーサ粒子分散液において、上記スペーサ粒子は、表面にマイナスの電荷を有するものである。このようなスペーサ粒子を含有することで、本発明のスペーサ粒子分散液中でのスペーサ粒子の分散性や分散安定性が高められたり、散布時に電気泳動効果で配線部(段差)部近傍にスペーサ粒子が寄り集まりやすくなったりする等の効果が得られる。なお、上記スペーサ粒子の表面電荷は、例えば、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)等のゼータ電位測定器等を用いて測定することができる。 In the spacer particle dispersion of the present invention, the spacer particles have a negative charge on the surface. By containing such spacer particles, the dispersibility and dispersion stability of the spacer particles in the spacer particle dispersion liquid of the present invention can be improved, or the spacers can be located near the wiring portion (step) portion by the electrophoretic effect when sprayed. Effects such as particles becoming easier to gather together. The surface charge of the spacer particles can be measured using a zeta potential measuring device such as a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft Co., Ltd.).

上記スペーサ粒子の表面にマイナスの電荷を付与する表面処理としては、例えば、スペーサ粒子中に荷電制御剤を含有させる方法や、スペーサ粒子にマイナスに帯電可能な表面処理をする方法等が挙げられ、また、スペーサ粒子が有機系粒子からなる場合には、マイナスに帯電しやすい単量体を含む単量体を原料としてスペーサ粒子を製造する方法等により得ることができる。 Examples of the surface treatment for imparting a negative charge to the surface of the spacer particles include a method of containing a charge control agent in the spacer particles, a method of performing a surface treatment that can be negatively charged on the spacer particles, and the like. In addition, when the spacer particles are made of organic particles, the spacer particles can be obtained by a method of manufacturing spacer particles using a monomer containing a monomer that is easily negatively charged as a raw material.

上記スペーサ粒子表面のマイナス電荷の好ましい下限は−60mV、好ましい上限は−0.1mVである。上記スペーサ粒子表面のマイナス電荷が−60mV未満であると、各粒子の電位のばらつきが大きくなるため分散性が不安定になることがある。上記スペーサ粒子表面のマイナス電荷が−0.1mVを超えると、各粒子の反発力が小さくなり粒子同士の合着が起こりやすくなり分散性が不安定になることがある。上記スペーサ粒子表面のマイナス電荷のより好ましい下限は−40mV、より好ましい上限は−1.0mVである。 The preferable lower limit of the negative charge on the spacer particle surface is −60 mV, and the preferable upper limit is −0.1 mV. When the negative charge on the surface of the spacer particles is less than −60 mV, the dispersion of the electric potential of each particle becomes large and the dispersibility may become unstable. When the negative charge on the surface of the spacer particles exceeds −0.1 mV, the repulsive force of each particle becomes small and the particles tend to coalesce and the dispersibility may become unstable. The more preferable lower limit of the negative charge on the surface of the spacer particles is −40 mV, and the more preferable upper limit is −1.0 mV.

上記スペーサ粒子にマイナスに帯電可能な表面処理をする方法としては、スペーサ粒子の表面に、上述した親水基を有する単量体からなる被覆層を物理的に付着及び/又は化学的に結合させる方法等が挙げられる。上記被覆層は、スペーサ粒子を均一に被覆するものであってもよいし、部分的に被覆するものであってもよい。
上記スペーサ粒子に表面処理により被覆層を設ける方法としては、例えば、特開平1−247154号公報に開示されているようにスペーサ粒子の表面に樹脂を析出させて修飾する方法、特開平9−113915号公報や特開平7−300587号公報に開示されているようにスペーサ粒子の表面の官能基と反応する化合物を作用させて修飾する方法、特開平11−223821号公報、特開2003−295198号公報に開示されているようにスペーサ粒子の表面でグラフト重合を行って表面修飾を行う方法等が挙げられる。
As a method of performing a negatively chargeable surface treatment on the spacer particles, a method of physically attaching and / or chemically bonding the above-described coating layer made of a monomer having a hydrophilic group to the surface of the spacer particles. Etc. The coating layer may cover the spacer particles uniformly, or may partially cover the spacer particles.
Examples of a method for providing a coating layer on the spacer particles by surface treatment include, for example, a method in which a resin is deposited on the surface of spacer particles as disclosed in JP-A-1-247154, and a method for modifying the spacer particles. JP-A-11-223821, JP-A-2003-295198, a method of modifying by acting a compound that reacts with a functional group on the surface of spacer particles, as disclosed in JP-A No. 7-3000587. As disclosed in the publication, there may be mentioned a method in which surface modification is performed by graft polymerization on the surface of spacer particles.

なかでも、液晶表示装置のセル中で被覆層が剥離して液晶へ溶出するという問題が少ないことから、スペーサ粒子表面に化学的に結合させた被覆層を形成させる方法が好適であり、例えば、特開平9−113915号公報に開示されているグラフト重合を行う方法が好適である。
グラフト重合を行う方法では、スペーサ粒子の表面に還元性基を有する粒子に酸化剤を反応させ、スペーサ粒子の表面にラジカルを発生させて表面にグラフト重合させる。グラフト重合させると、スペーサ粒子の被覆層の密度を高くでき、充分な厚みの被覆層を形成できる。よって、グラフト重合されたスペーサ粒子は、本発明のスペーサ粒子分散液中での分散性に優れている。更に、本発明のスペーサ粒子分散液が基板に吐出された際に、スペーサ粒子の基板に対する固着性に優れている。この方法において、グラフト重合を行う際に、単量体として上述の親水基を有する単量体を組み合せて用いることで、スペーサ粒子の表面電荷をマイナスにすることができる。また、使用する単量体を適宜選択すれば、液晶表示装置での液晶の配向が乱されなくなるという効果もある。
Among them, since there is little problem that the coating layer peels off in the cell of the liquid crystal display device and elutes into the liquid crystal, a method of forming a coating layer chemically bonded to the surface of the spacer particles is preferable. A method for carrying out graft polymerization disclosed in JP-A-9-113915 is preferred.
In the method of performing graft polymerization, particles having a reducing group on the surface of spacer particles are reacted with an oxidizing agent, radicals are generated on the surfaces of spacer particles, and the surface is graft-polymerized. When the graft polymerization is performed, the density of the coating layer of the spacer particles can be increased, and a coating layer having a sufficient thickness can be formed. Therefore, the graft-polymerized spacer particles are excellent in dispersibility in the spacer particle dispersion of the present invention. Furthermore, when the spacer particle dispersion of the present invention is discharged onto the substrate, the spacer particles are excellent in adhesion to the substrate. In this method, when graft polymerization is performed, the surface charge of the spacer particles can be made negative by using a monomer having the above-mentioned hydrophilic group as a monomer in combination. Further, if the monomer to be used is appropriately selected, there is an effect that the alignment of the liquid crystal in the liquid crystal display device is not disturbed.

また、上記マイナスに帯電しやすい単量体を含む単量体を原料としてスペーサ粒子を製造する方法において、上記マイナスに帯電しやすい単量体としては特に限定されず、例えば、上述の単量体のうちアミノ基及びアミド基を除く親水基を有する単量体等が挙げられる。 In the method for producing spacer particles using a monomer containing a monomer that is easily negatively charged as a raw material, the monomer that is easily negatively charged is not particularly limited. Among them, monomers having a hydrophilic group excluding an amino group and an amide group are exemplified.

上記スペーサ粒子自体がマイナスの電荷を有するスペーサ粒子は、有機高分子等からなる有機系粒子の場合、マイナス電荷を付与することができる重合性単量体を上述の有機系粒子を製造する方法を用いて重合する方法、及び、有機系粒子を重合する際に使用する分散安定剤や界面活性剤としてマイナス電荷を有する分散安定剤やマイナス電荷を有する界面活性剤を使用する方法等により得ることができる。 In the case where the spacer particles having a negative charge are organic particles made of an organic polymer or the like, a method for producing the above-mentioned organic particles by using a polymerizable monomer capable of imparting a negative charge. And a method using a dispersion stabilizer having a negative charge or a surfactant having a negative charge as a dispersion stabilizer or surfactant used for polymerizing organic particles. it can.

上記マイナス電荷を付与することができる重合性単量体としては、上記マイナスに帯電しやすい単量体を用いることができ、例えば、上述の単量体のうちアミノ基及びアミド基を除く親水基を有する単量体が挙げられる。 As the polymerizable monomer capable of imparting a negative charge, a monomer that is easily negatively charged can be used. For example, among the above monomers, a hydrophilic group excluding an amino group and an amide group can be used. The monomer which has is mentioned.

上記マイナスに帯電しやすい単量体の配合量としては特に限定されないが、好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は50重量%である。上記単量体の配合量が0.01重量%未満であると、スペーサ粒子にマイナス電荷を付与することができなくなることがある。上記単量体の配合量が50重量%を超えると、粒子の形成が困難になることがある。上記単量体の配合量のより好ましい下限は0.1重量%、より好ましい上限は20重量%である。 The blending amount of the negatively charged monomer is not particularly limited, but a preferable lower limit is 0.01% by weight and a preferable upper limit is 50% by weight. If the amount of the monomer is less than 0.01% by weight, it may not be possible to impart a negative charge to the spacer particles. If the amount of the monomer exceeds 50% by weight, it may be difficult to form particles. A more preferable lower limit of the amount of the monomer is 0.1% by weight, and a more preferable upper limit is 20% by weight.

上記マイナス電荷を有する分散安定剤としては特に限定されず、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基等を有する分散安定剤が挙げられる。
上記水酸基を有する分散剤としては特に限定されず、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルなどのポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類等が挙げられる。
上記カルボキシル基を有する分散剤としては特に限定されず、ポリ(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
上記スルホニル基を有する分散剤としては、ポリスチレンスルホン酸等が挙げられる。
これらのマイナス電荷を有する分散安定剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The dispersion stabilizer having a negative charge is not particularly limited, and examples thereof include a dispersion stabilizer having a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, and the like.
The dispersant having a hydroxyl group is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene glycol monoalkyl ethers such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol, and polyethylene glycol monomethyl ether.
It does not specifically limit as a dispersing agent which has the said carboxyl group, Poly (meth) acrylic acid etc. are mentioned.
Examples of the dispersant having a sulfonyl group include polystyrene sulfonic acid.
These negatively charged dispersion stabilizers may be used alone or in combination of two or more.

上記マイナス電荷を有する分散安定剤の配合量としては特に限定されないが、好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は30重量%である。上記分散安定剤の配合量が0.01重量%未満であると、マイナス電荷を付与することができなくなり、かつ、粒子の形成が困難になることがある。上記分散安定剤の配合量が30重量%を超えると、粒子の形成が困難になることがある。上記分散安定剤の配合量のより好ましい下限は0.1重量%、より好ましい上限は10重量%である。 The blending amount of the negatively charged dispersion stabilizer is not particularly limited, but a preferred lower limit is 0.01% by weight and a preferred upper limit is 30% by weight. If the amount of the dispersion stabilizer is less than 0.01% by weight, a negative charge cannot be imparted and it may be difficult to form particles. If the amount of the dispersion stabilizer exceeds 30% by weight, it may be difficult to form particles. The more preferable lower limit of the blending amount of the dispersion stabilizer is 0.1% by weight, and the more preferable upper limit is 10% by weight.

上記マイナス電荷を有する界面活性剤としては特に限定されず、例えば、カルボキシル基、スルホニル基、ホスフォニル基等を有する界面活性剤が挙げられる。
上記カルボキシル基を有する界面活性剤としては特に限定されず、コハク酸ラウリルエステルなどのジカルボン酸モノアルキルエステル類等が挙げられる。
上記スルホニル基を有する界面活性剤としては特に限定されず、スチレンスルホン酸ナトリウム等のスチレンスルホン酸誘導体、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ドデシルポリオキシエチエレン硫酸ナトリウム等のアルキルポリオキシエチレン硫酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸誘導体等が挙げられる。
上記ホスフォニル基を有する界面活性剤としては特に限定されず、モノアルキルリン酸塩類等が挙げられる。
これらのマイナス電荷を有する界面活性剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The surfactant having a negative charge is not particularly limited, and examples thereof include surfactants having a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, and the like.
The surfactant having a carboxyl group is not particularly limited, and examples thereof include dicarboxylic acid monoalkyl esters such as lauryl succinate.
The surfactant having a sulfonyl group is not particularly limited, and styrene sulfonic acid derivatives such as sodium styrene sulfonate, alkyl benzene sulfonates such as sodium dodecyl benzene sulfonate, and alkyl polyoxy such as sodium dodecyl polyoxyethylene glycol. Examples thereof include alkyl sulfate derivatives such as ethylene sulfates and sodium lauryl sulfate.
The surfactant having a phosphonyl group is not particularly limited, and examples thereof include monoalkyl phosphates.
These negatively charged surfactants may be used alone or in combination of two or more.

上記マイナス電荷を有する界面活性剤の配合量としては特に限定されないが、好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は30重量%である。上記界面活性剤の配合量が0.01重量%未満であると、マイナス電荷を付与することができなくなり、かつ、粒子の形成が困難になることがある。上記界面活性剤の配合量が30重量%を超えると、粒子の形成が困難になることがある。上記界面活性剤の配合量のより好ましい下限は0.1重量%、より好ましい上限は10重量%である。 The blending amount of the negatively charged surfactant is not particularly limited, but a preferable lower limit is 0.01% by weight and a preferable upper limit is 30% by weight. If the amount of the surfactant is less than 0.01% by weight, a negative charge cannot be imparted and it may be difficult to form particles. When the amount of the surfactant exceeds 30% by weight, it may be difficult to form particles. A more preferable lower limit of the compounding amount of the surfactant is 0.1% by weight, and a more preferable upper limit is 10% by weight.

上記スペーサ粒子は、表示素子のコントラスト向上のために着色されていてもよい。着色されたスペーサ粒子としては、例えば、カーボンブラック、分散染料、酸性染料、塩基性染料、金属酸化物等により処理された粒子、また、粒子の表面に有機物の膜が形成され高温で分解又は炭化されて着色された粒子等が挙げられる。なお、粒子を形成する材質自体が色を有している場合には着色せずにそのまま用いられてもよい。 The spacer particles may be colored to improve the contrast of the display element. Colored spacer particles include, for example, particles treated with carbon black, disperse dyes, acid dyes, basic dyes, metal oxides, etc., and organic films are formed on the surface of the particles to decompose or carbonize at high temperatures. And colored particles. In addition, when the material itself which forms particle | grains has a color, you may use as it is, without coloring.

上記スペーサ粒子の粒径としては、液晶表示素子の種類により適宜選択すればよいが、好ましい下限は1μm、好ましい上限は20μmである。上記スペーサ粒子の粒径が1μm未満であると、対向する基板同士が接触して液晶表示素子のスペーサ粒子として充分機能しないことがある。上記スペーサ粒子の粒径が20μmを超えると、スペーサ粒子を配置すべき基板上の遮光領域等からはみ出しやすくなり、また、対向する基板間の距離が大きくなって近年の液晶表示素子の小型化等の要請に充分に応えられなくなる。 The particle diameter of the spacer particles may be appropriately selected depending on the type of the liquid crystal display element, but the preferred lower limit is 1 μm and the preferred upper limit is 20 μm. If the particle size of the spacer particles is less than 1 μm, the opposing substrates may come into contact with each other and may not function sufficiently as spacer particles for the liquid crystal display element. When the particle size of the spacer particles exceeds 20 μm, it tends to protrude from the light shielding region on the substrate on which the spacer particles are to be arranged, and the distance between the opposing substrates is increased, resulting in a recent downsizing of liquid crystal display elements, etc. It will not be possible to fully respond to the request.

上記スペーサ粒子は、粒子の直径が10%変位した時の圧縮弾性率(10%K値)の好ましい下限が2000MPa、好ましい上限が15000MPaである。上記圧縮弾性率が2000MPa未満であると、液晶表示素子を組立てる際のプレス圧により、スペーサ粒子が変形して適切なギャップが得られないことがある。上記圧縮弾性率が15000MPaを超えると、液晶表示素子に組み込んだ際に、基板上の配向膜を傷つけて表示異常が発生することがある。
なお、上記10%K値は、例えば、微小圧縮試験器(PCT−200、島津製作所社製)を用い、ダイヤモンド製の直径50μmの円柱の平滑端面で、粒子を10%歪ませるための加重から求めることができる。
The spacer particles have a preferable lower limit of 2000 MPa and a preferable upper limit of 15000 MPa for the compression elastic modulus (10% K value) when the particle diameter is displaced by 10%. When the compression elastic modulus is less than 2000 MPa, the spacer particles may be deformed by a press pressure when assembling the liquid crystal display element, and an appropriate gap may not be obtained. When the compression elastic modulus exceeds 15000 MPa, when incorporated in a liquid crystal display element, the alignment film on the substrate may be damaged to cause display abnormality.
The 10% K value is obtained from a load for distorting the particles by 10% on a smooth end face of a diamond cylinder having a diameter of 50 μm using, for example, a micro compression tester (PCT-200, manufactured by Shimadzu Corporation). Can be sought.

上記スペーサ粒子は、本発明のスペーサ粒子分散液中において単粒子状に分散されていることが好ましい。分散液中に凝集物が存在すると、吐出精度が低下するばかりでなく、著しい場合はインクジェット装置のノズルに閉塞を起こす場合がある。 The spacer particles are preferably dispersed in the form of single particles in the spacer particle dispersion of the present invention. If aggregates are present in the dispersion, not only the discharge accuracy is lowered, but in the case of remarkable, the nozzles of the ink jet apparatus may be clogged.

本発明のスペーサ粒子分散液において、上記スペーサ粒子の濃度の好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は8重量%である。上記スペーサ粒子の濃度が0.01重量%未満であると、吐出された液滴中にスペーサ粒子を含まない確率が高くなる。上記スペーサ粒子濃度が8重量%を超えると、インクジェット装置のノズルが閉塞してしまったり、着弾した液滴中に含まれるスペーサ粒子の数が多くなりすぎて乾燥過程でスペーサ粒子の移動(集中)が起こりにくくなったりすることがある。上記スペーサ粒子の濃度のより好ましい下限は0.1重量%、より好ましい上限は6重量%である。 In the spacer particle dispersion of the present invention, the preferable lower limit of the concentration of the spacer particles is 0.01% by weight, and the preferable upper limit is 8% by weight. When the concentration of the spacer particles is less than 0.01% by weight, the probability that the discharged droplets do not contain spacer particles increases. If the spacer particle concentration exceeds 8% by weight, the nozzles of the ink jet device may be clogged or the number of spacer particles contained in the landed droplets will increase so much that the spacer particles move (concentrate) during the drying process. May be difficult to occur. A more preferable lower limit of the concentration of the spacer particles is 0.1% by weight, and a more preferable upper limit is 6% by weight.

本発明のスペーサ粒子分散液は、カチオン性化合物を含有する。
上記カチオン性化合物は、静電相互作用によりインクジェット装置のSUS製フィルターにスペーサ粒子が付着して目詰まりを起こすことを防止するものである。すなわち、上記カチオン性化合物は、スペーサ粒子表面の親水基に、カウンターカチオンとして配位することで、上記スペーサ粒子のインクジェット装置のSUS製フィルターとの静電相互作用を弱め、スペーサ粒子がSUS製フィルターに付着することを防止するものである。更に、スペーサ粒子表面の酸の解離を促進させ、親水性を向上させ、疎水性相互作用を弱めるものである。
The spacer particle dispersion of the present invention contains a cationic compound.
The cationic compound prevents the spacer particles from adhering to the SUS filter of the ink jet device due to electrostatic interaction and causing clogging. That is, the cationic compound is coordinated as a counter cation to the hydrophilic group on the surface of the spacer particle, thereby weakening the electrostatic interaction of the spacer particle with the SUS filter of the inkjet device, and the spacer particle is made of the SUS filter. It prevents it from adhering to. Furthermore, the dissociation of the acid on the surface of the spacer particles is promoted, the hydrophilicity is improved, and the hydrophobic interaction is weakened.

上記カチオン性化合物とは、スペーサ粒子分散液に用いる溶媒に溶解させた際に、溶媒の水素イオン濃度を下げる(pHを上げる)ことができる化合物をいう。 The cationic compound refers to a compound that can lower the hydrogen ion concentration (increase the pH) of the solvent when dissolved in the solvent used in the spacer particle dispersion.

上記カチオン性化合物としては特に限定されず、例えば、アミン誘導体、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のアルカリ金属塩、テトラフェニルホスフィン等の四級ホスホニウム等が挙げられる。なかでも、アミン誘導体が好適に用いられる。
これらのカチオン性化合物は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The cationic compound is not particularly limited, and examples thereof include amine derivatives, alkali metal salts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium iodide, and quaternary phosphonium such as tetraphenylphosphine. Of these, amine derivatives are preferably used.
These cationic compounds may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記アミン誘導体としては特に限定されず、例えば、アンモニア、ヒドロキシアミン等の無機化合物、水溶性又はアルコール類への溶解性のある第一級アミン、水溶性又はアルコール類への溶解性のある第二級アミン、水溶性又はアルコール類への溶解性のある第三級アミン及び上記第三級アミン等にアルキル基が結合した第四級アミン等が挙げられる。 The amine derivative is not particularly limited, and examples thereof include inorganic compounds such as ammonia and hydroxyamine, primary amines that are water-soluble or soluble in alcohols, and water-soluble or secondary amines that are soluble in alcohols. Examples include tertiary amines, tertiary amines that are water-soluble or soluble in alcohols, and quaternary amines in which an alkyl group is bonded to the tertiary amine.

上記水溶性又はアルコール類への溶解性のある第一級アミンとしては、例えば、下記一般式(1)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the primary amines having water solubility or solubility in alcohols include compounds represented by the following general formula (1).

Figure 0004420969
Figure 0004420969

上記一般式(1)中、Rは、炭化水素又はヒドロキシル基等の親水性官能基を表す。In the general formula (1), R 1 represents a hydrophilic functional group such as a hydrocarbon or a hydroxyl group.

上記一般式(1)で表される化合物としては、具体的には、例えば、メチルアミン、エチルアミン、メタノールアミン、エタノールアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、アニリン誘導体、ベンジルアミン、トルイジン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include methylamine, ethylamine, methanolamine, ethanolamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, and sec-butylamine. , Tert-butylamine, cyclohexylamine, aniline, aniline derivatives, benzylamine, toluidine and the like.

上記水溶性又はアルコール類への溶解性のある第二級アミンとしては、例えば、下記一般式(2)又は(3)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the secondary amine having water solubility or solubility in alcohols include compounds represented by the following general formula (2) or (3).

Figure 0004420969
Figure 0004420969

上記一般式(2)中、Rは、炭化水素又はヒドロキシル基等の親水性官能基を表し、一般式(3)中、R、Rは、炭化水素若しくは親水性官能基を有する炭化水素、又は、親水性官能基を表す。In the general formula (2), R 2 represents a hydrophilic functional group such as a hydrocarbon or a hydroxyl group. In the general formula (3), R 3 and R 4 are hydrocarbon or a carbon having a hydrophilic functional group. Represents hydrogen or a hydrophilic functional group.

上記一般式(2)で表される化合物としては、具体的には、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジエタノールアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミン、ピリジン等が挙げられる。
また、上記一般式(3)で表される化合物としては、具体的には、例えば、N−メチルエチルアミン、N−メチルイソプロピルアミン、N−メチルブチルアミン、N−エチルプロピルアミン、N−エチルブチルアミン、2−(メチルアミノ)エタノール、2−(エチルアミノ)エタノール、2−(プロピルアミノ)エタノール、2−(ブチルアミノ)エタノール、(メチルアミノ)メタノール、(エチルアミノ)メタノール、(プロピルアミノ)メタノール、(ブチルアミノ)メタノール等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include dimethylamine, diethylamine, diethanolamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, di-sec-butylamine, Examples include di-tert-butylamine and pyridine.
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include N-methylethylamine, N-methylisopropylamine, N-methylbutylamine, N-ethylpropylamine, N-ethylbutylamine, 2- (methylamino) ethanol, 2- (ethylamino) ethanol, 2- (propylamino) ethanol, 2- (butylamino) ethanol, (methylamino) methanol, (ethylamino) methanol, (propylamino) methanol, (Butylamino) methanol and the like.

上記水溶性又はアルコール類への溶解性のある第三級アミンとしては、例えば、下記一般式(4)、(5)又は(6)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the tertiary amine having water solubility or solubility in alcohols include compounds represented by the following general formula (4), (5) or (6).

Figure 0004420969
Figure 0004420969

上記一般式(4)〜(6)中、R〜R10は、炭化水素若しくは親水性官能基を有する炭化水素、又は、親水性官能基を表す。In the general formulas (4) to (6), R 5 to R 10 represent a hydrocarbon or a hydrocarbon having a hydrophilic functional group, or a hydrophilic functional group.

上記一般式(4)で表される化合物としては、具体的には、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン、トリ−tert−ブチルアミン、トリエタノールアミン、トリメタノールアミン、トリ−n−プロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリ−n−ブタノールアミン、トリ−sec−ブタノールアミン、トリ−tert−ブタノールアミン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (4) include trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, tri-sec-butylamine, tri- Examples include tert-butylamine, triethanolamine, trimethanolamine, tri-n-propanolamine, triisopropanolamine, tri-n-butanolamine, tri-sec-butanolamine, and tri-tert-butanolamine.

上記一般式(5)で表される化合物としては、具体的には、例えば、ジメチルエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、ジメチルブチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジエチルプロピルアミン、ジエチルブチルアミン、ジプロピルメチルアミン、ジプロピルエチルアミン、ジプロピルブチルアミン、ジブチルメチルアミン、ジブチルエチルアミン、ジブチルプロピルアミン、ジベンジルメチルアミン、ジベンジルプロピルアミン、ジベンジルブチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノメタノール、ジメチルアミノメタノール、N−メチルジメタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−メチルジプロパノールアミン、N−メチルジブタノールアミン、N−エチルジメタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−エチルジプロパノールアミン、N−エチルジブタノールアミン、N−プロピルジメタノールアミン、N−プロピルジエタノールアミン、N−プロピルジプロパノールアミン、N−プロピルジブタノールアミン、N−ブチルジメタノールアミン、N−ブチルジエタノールアミン、N−ブチルジプロパノールアミン、N−ブチルジブタノールアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジプロピルアニリン、N,N−ジブチルアニリン、N−フェニル−N−メチルアニリン、N−フェニル−N−エチルアニリン等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (5) include dimethylethylamine, dimethylpropylamine, dimethylbutylamine, diethylmethylamine, diethylpropylamine, diethylbutylamine, dipropylmethylamine, dipropylethylamine. , Dipropylbutylamine, dibutylmethylamine, dibutylethylamine, dibutylpropylamine, dibenzylmethylamine, dibenzylpropylamine, dibenzylbutylamine, diethylaminoethanol, dimethylaminoethanol, diethylaminomethanol, dimethylaminomethanol, N-methyldimethanolamine N-methyldiethanolamine, N-methyldipropanolamine, N-methyldibutanolamine, N-ethyldimethanolamine N-ethyldiethanolamine, N-ethyldipropanolamine, N-ethyldibutanolamine, N-propyldimethanolamine, N-propyldiethanolamine, N-propyldipropanolamine, N-propyldibutanolamine, N-butyldimethanol Amine, N-butyldiethanolamine, N-butyldipropanolamine, N-butyldibutanolamine, dimethylbenzylamine, diethylbenzylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, N, N-dipropylaniline N, N-dibutylaniline, N-phenyl-N-methylaniline, N-phenyl-N-ethylaniline and the like.

上記一般式(6)で表される化合物としては、具体的には、例えば、メチルエチルプロピルアミン、エチルプロピルブチルアミン、エチルメチルアニリン、エチルメチルベンジルアミン、エチルメチルアミノメタノール、メチルプロピルアミノメタノール、メチルブチルアミノメタノール、エチルメチルアミノエタノール、エチルプロピルアミノエタノール、エチルブチルアミノエタノール等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (6) include, for example, methylethylpropylamine, ethylpropylbutylamine, ethylmethylaniline, ethylmethylbenzylamine, ethylmethylaminomethanol, methylpropylaminomethanol, methyl Examples include butylaminomethanol, ethylmethylaminoethanol, ethylpropylaminoethanol, and ethylbutylaminoethanol.

また、上記カチオン性化合物は、上述したアミン誘導体の塩であってもよい。
上記塩としては特に限定されず、例えば、クロライド、ブロモ、ヨード等のハロゲン化物、硝酸、酢酸、燐酸等の酸等をカウンターアニオンとしたもの等が挙げられる。これらの塩は、低分子量のみならず高分子体であってもよい。
The cationic compound may be a salt of the above-described amine derivative.
The salt is not particularly limited, and examples thereof include halides such as chloride, bromo and iodo, and acids having counter anions such as nitric acid, acetic acid and phosphoric acid. These salts may be high molecular weight as well as low molecular weight.

上記アミン誘導体としては、後述する溶媒への溶解性がよく、反応性が低いものが好ましく、配向膜に対して汚染性のないものが好ましい。このようなアミン誘導体としては、三級アミン誘導体が好適である。 As the above-mentioned amine derivative, those having good solubility in a solvent described later and low reactivity are preferable, and those not contaminating the alignment film are preferable. As such an amine derivative, a tertiary amine derivative is suitable.

また、上記カチオン性化合物は、沸点が200℃未満のものが好ましい。沸点が200℃以上であると、基板上に吐出した液滴を乾燥させたときに、基板上にカチオン性化合物が残留することがあり、液晶汚染の原因となることがある。上記カチオン性化合物の沸点のより好ましい上限は100℃である。なお、基板上に形成した液滴を乾燥させた後、洗浄処理を施す場合、沸点が200℃以上のカチオン化合物を用いてもよい。 The cationic compound preferably has a boiling point of less than 200 ° C. When the boiling point is 200 ° C. or higher, the cationic compound may remain on the substrate when droplets discharged onto the substrate are dried, which may cause liquid crystal contamination. The upper limit with the more preferable boiling point of the said cationic compound is 100 degreeC. In addition, when performing the washing | cleaning process after drying the droplet formed on the board | substrate, you may use the cation compound whose boiling point is 200 degreeC or more.

本発明のスペーサ粒子分散液における上記カチオン性化合物の濃度としては特に限定されないが、好ましい下限は0.1mmol/kg、好ましい上限は10mol/kgである。上記カチオン性化合物の濃度が0.1mmol/kg未満であると、スペーサ粒子のSUS製フィルターへの付着性を阻害する効果が小さくなり、SUS製フィルターの目詰まりが発生することがある。上記カチオン性化合物の濃度が10mol/kgを超えると、本発明のスペーサ粒子分散液が着弾した部分の配向膜に汚染が生じたり、インクジェット装置のヘッド及び流路に使用されている耐塩基性の弱い部材を劣化させたりすることがある。上記カチオン性化合物の濃度のより好ましい下限は0.3mmol/kg、より好ましい上限は5.0mol/kgであり、更に好ましい下限は0.5mmol/kg、更に好ましい上限は1.0mol/kgである。 Although it does not specifically limit as a density | concentration of the said cationic compound in the spacer particle dispersion liquid of this invention, A preferable minimum is 0.1 mmol / kg and a preferable upper limit is 10 mol / kg. When the concentration of the cationic compound is less than 0.1 mmol / kg, the effect of inhibiting the adhesion of the spacer particles to the SUS filter is reduced, and the SUS filter may be clogged. When the concentration of the cationic compound exceeds 10 mol / kg, the alignment film on the portion where the spacer particle dispersion of the present invention has landed may be contaminated, or the basic resistance used in the head and flow path of the inkjet apparatus may be increased. The weak member may be deteriorated. The more preferable lower limit of the concentration of the cationic compound is 0.3 mmol / kg, the more preferable upper limit is 5.0 mol / kg, the still more preferable lower limit is 0.5 mmol / kg, and the still more preferable upper limit is 1.0 mol / kg. .

また、上記カチオン化合物は、表面にカチオン性官能基を有する微粒子(以下、カチオン性微粒子ともいう)又は表面にカチオン性官能基を有するエマルジョン(以下、カチオン性エマルジョンともいう)であってもよい。 The cationic compound may be fine particles having a cationic functional group on the surface (hereinafter also referred to as cationic fine particles) or an emulsion having a cationic functional group on the surface (hereinafter also referred to as cationic emulsion).

上記カチオン性微粒子を構成する単量体としては特に限定されず、上記スペーサ粒子を構成する有機材料と同様の材料を用いることができる。 The monomer constituting the cationic fine particles is not particularly limited, and the same material as the organic material constituting the spacer particles can be used.

上記カチオン性微粒子を製造する方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、ミニエマルジョン重合法、エマルジョン重合法、転層乳化重合法、マイクロサスペンジョン重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー(析出)重合法等が挙げられる。なかでも、粒径の制御に優れることから、分散重合法、ソープフリー(析出)重合法等が好適に用いられる。 The method for producing the cationic fine particles is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Examples thereof include a mini-emulsion polymerization method, an emulsion polymerization method, a phase inversion emulsion polymerization method, a micro suspension polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, and a soap-free (precipitation) polymerization method. Among these, a dispersion polymerization method, a soap-free (precipitation) polymerization method and the like are preferably used because of excellent control of the particle diameter.

上記カチオン性微粒子の表面にカチオン性を付与する方法としては特に限定されず、上記スペーサ粒子の表面にマイナスの電荷を付与する方法と同様の方法を用いることができる。 The method for imparting cationicity to the surface of the cationic fine particles is not particularly limited, and a method similar to the method for imparting a negative charge to the surface of the spacer particles can be used.

また、上記カチオン性微粒子を製造する方法において、カチオン性を付与する単量体としては、例えば、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の重合性基を有するアミン、ビニルピリジン等の重合性基を有する含窒素芳香族化合物、メタクリル酸フェニルジメチルスルホニウム等の重合性基を有するスルホニウム等が挙げられる。 Further, in the method for producing the cationic fine particles, examples of the monomer that imparts cationicity include amines having a polymerizable group such as dimethylaminomethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate, and polymerizable groups such as vinylpyridine. And nitrogen-containing aromatic compounds, sulfonium having a polymerizable group such as phenyldimethylsulfonium methacrylate, and the like.

上記カチオン性微粒子の平均粒径としては特に限定されないが、上記スペーサ粒子の平均粒径の10%以下であることが好ましい。上記カチオン性微粒子の平均粒径が上記スペーサ粒子の平均粒径の10%を越えるとスペーサ粒子に対するカチオン性微粒子の被覆率が低下し、スペーサ粒子のSUS製フィルターへの付着性を阻害する効果が小さくなったり、カチオン性微粒子が大きすぎるためにセルギャップが不均一になったりすることがある。 The average particle size of the cationic fine particles is not particularly limited, but is preferably 10% or less of the average particle size of the spacer particles. When the average particle size of the cationic fine particles exceeds 10% of the average particle size of the spacer particles, the coverage of the cationic fine particles on the spacer particles is lowered, and the effect of inhibiting the adhesion of the spacer particles to the SUS filter is obtained. The cell gap may become small or the cell gap may become non-uniform because the cationic fine particles are too large.

上記カチオン性微粒子の粒径は揃っていなくてもよいが、液晶表示装置として表示不良をなくすべくギャップ精度を厳密に制御したり、被覆率を均一にしたりする場合は、粒径分布を表す粒径の変動係数(CV値:粒径分布の標準偏差値を平均粒径で除して百分率とした値)が20%以下であることが好ましい。上記粒径の変動係数のより好ましい範囲は1〜10%である。 The particle size of the cationic fine particles may not be uniform. However, in the case where the gap accuracy is strictly controlled or the coverage is uniform so as to eliminate display defects as a liquid crystal display device, particles representing a particle size distribution are used. The diameter variation coefficient (CV value: a value obtained by dividing the standard deviation value of the particle size distribution by the average particle size as a percentage) is preferably 20% or less. A more preferable range of the coefficient of variation of the particle diameter is 1 to 10%.

上記カチオン性エマルジョンを製造する方法において、カチオン性を付与する乳化剤としては、脂肪族アミン、ピリジン誘導体、イミダゾール誘導体等が挙げられる。 In the method for producing the cationic emulsion, examples of the emulsifier imparting cationicity include aliphatic amines, pyridine derivatives, and imidazole derivatives.

上記カチオン性のエマルジョンを構成する分散液滴成分は、スペーサ分散液を構成する溶媒と混合しないものであれば特に限定されないが、乾燥工程で蒸発しやすいため沸点が低く疎水性の高い低分子量の飽和炭化水素化合物が好適に用いられる。 The dispersion droplet component constituting the cationic emulsion is not particularly limited as long as it is not mixed with the solvent constituting the spacer dispersion liquid. However, since it easily evaporates in the drying process, it has a low molecular weight with a low boiling point and high hydrophobicity. Saturated hydrocarbon compounds are preferably used.

上記カチオン性微粒子、及び、カチオン性エマルジョンは、上記スペーサ粒子がインクジェット装置のSUS製フィルターに付着して目詰まりを起こすことを防止するものであるが、液晶表示装置を製造する際に加熱することによって溶融し、スペーサ粒子を基板に強固に接着、固定する役割を有すればなおよい。 The cationic fine particles and the cationic emulsion prevent the spacer particles from adhering to the SUS filter of the ink jet device and causing clogging, but are heated when manufacturing a liquid crystal display device. It is even better if it has a role of melting and solidly adhering and fixing the spacer particles to the substrate.

上記接着性を有するカチオン性微粒子又はカチオン性エマルジョンを構成する材料としては、加熱により溶融又は軟化し、上記スペーサ粒子を基板に接着させることができるものであれば特に限定されないが、加熱により溶融又は軟化変形し、基板と上記スペーサ粒子との接着面積が増大し、結果として接着力が強くなることから、熱可塑性樹脂が好適に用いられる。 The material constituting the cationic fine particles or cationic emulsion having adhesiveness is not particularly limited as long as it can be melted or softened by heating and can adhere the spacer particles to the substrate. A thermoplastic resin is preferably used because it is softened and deformed, and an adhesion area between the substrate and the spacer particles is increased, resulting in an increase in adhesion.

上記接着性を有するカチオン性微粒子又はカチオン性エマルジョンを構成する材料の軟化点としては特に限定されないが、好ましい下限は40℃、好ましい上限は120℃である。上記軟化点が40℃未満であると、液晶パネルを長期間使用している際、発熱等により接着性微粒子又はエマルジョン成分が軟化し、スペーサの固着性を損なう場合がある。上記軟化点が120℃を超えると、スペーサを固定する際の加熱温度が高くなり、配硬膜やガラス基板の負担が大きく、配向不良や歪み等の原因となる場合がある。 Although it does not specifically limit as a softening point of the material which comprises the cationic fine particle or cationic emulsion which has the said adhesiveness, A preferable minimum is 40 degreeC and a preferable upper limit is 120 degreeC. When the softening point is less than 40 ° C., the adhesive fine particles or the emulsion component may be softened due to heat generation or the like when the liquid crystal panel is used for a long period of time, and the adhesion of the spacer may be impaired. When the softening point exceeds 120 ° C., the heating temperature for fixing the spacer becomes high, the burden on the hardened film and the glass substrate is large, and this may cause orientation failure and distortion.

本発明のスペーサ粒子分散液における上記カチオン性微粒子及びカチオン性エマルジョンの配合量としては特に限定されないが、上記スペーサ粒子100重量部に対して、好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が200重量部である。上記カチオン性微粒子及びカチオン性エマルジョンの配合量が0.1重量部未満であると、スペーサ粒子のSUS製フィルターへの付着性を阻害する効果が小さくなり、SUS製フィルターの目詰まりが発生することがある。上記カチオン性微粒子及びカチオン性エマルジョンの配合量が200重量部を超えると、インク乾燥時に本発明のスペーサ粒子分散液が着弾した部分の配向膜にカチオン性微粒子及びカチオン性エマルジョンが残り、光抜け等の原因となり、コントラストや色調が低下して表示品質悪化の原因となることがある。上記カチオン性微粒子及びカチオン性エマルジョンの配合量のより好ましい下限は1重量部、より好ましい上限は100重量部である。 The blending amount of the cationic fine particles and the cationic emulsion in the spacer particle dispersion of the present invention is not particularly limited, but a preferred lower limit is 0.1 parts by weight and a preferred upper limit is 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the spacer particles. Part. When the amount of the cationic fine particles and the cationic emulsion is less than 0.1 part by weight, the effect of inhibiting the adhesion of the spacer particles to the SUS filter is reduced, and the SUS filter is clogged. There is. When the blending amount of the cationic fine particles and the cationic emulsion exceeds 200 parts by weight, the cationic fine particles and the cationic emulsion remain in the portion of the alignment film where the spacer particle dispersion of the present invention has landed when the ink is dried. May cause deterioration in display quality due to a decrease in contrast and color tone. The more preferable lower limit of the blending amount of the cationic fine particles and the cationic emulsion is 1 part by weight, and the more preferable upper limit is 100 parts by weight.

本発明のスペーサ粒子分散液は、溶媒を含有する。
上記溶媒としては特に限定されないが、水溶性又は親水性の溶媒が好ましい。インクジェット装置には、水系媒体用のノズルが用いられることがある。水系媒体用のノズルが用いられる場合には、溶媒として疎水性の強い溶媒を用いると、ノズルを構成する部材中に溶媒が侵入したり、部材を接着している接着剤の一部が溶媒に溶解したりすることがある。よって、水系媒体用のノズルが用いられる場合には、本発明のスペーサ粒子分散液中には、水溶性又は親水性の溶媒が含まれていることが好ましい。
なお、上記溶媒は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The spacer particle dispersion of the present invention contains a solvent.
The solvent is not particularly limited, but a water-soluble or hydrophilic solvent is preferable. A nozzle for an aqueous medium may be used in an ink jet apparatus. When a nozzle for an aqueous medium is used, if a highly hydrophobic solvent is used as the solvent, the solvent penetrates into the member constituting the nozzle or a part of the adhesive bonding the member becomes the solvent. May dissolve. Therefore, when a nozzle for an aqueous medium is used, the spacer particle dispersion of the present invention preferably contains a water-soluble or hydrophilic solvent.
In addition, the said solvent may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記水溶性又は親水性の溶媒としては、水の他、モノアルコール類、エチレングリコールの多量体、プロピレングリコールの多量体、グリコール(上記エチレングリコールやプロピレングリコールを指す)類のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等の低級モノアルキルエーテル類、グリコール類のジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジプロピルエーテル等の低級ジアルキルエーテル類、グリコール類のモノアセテート、ジアセテート等のアルキルエステル類、ジオール類、ジオール類のエーテル誘導体、ジオール類のアセテート誘導体、多価アルコール類又はそのエーテル誘導体若しくはアセテート誘導体、エステル類等が挙げられる。 Examples of the water-soluble or hydrophilic solvents include water, monoalcohols, ethylene glycol multimers, propylene glycol multimers, monomethyl ethers and monoethyl ethers of glycols (referring to ethylene glycol and propylene glycol). Lower monoalkyl ethers such as monoisopropyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether, lower dimethyl ethers such as glycol dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, dipropyl ether, etc., glycol monoacetates, diacetates, etc. Examples include alkyl esters, diols, ether derivatives of diols, acetate derivatives of diols, polyhydric alcohols or ether derivatives or acetate derivatives thereof, esters, etc. It is.

上記モノアルコール類としては特に限定されず、例えば、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、1−ヘキサノール、1−メトキシ−2−プロパノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等が挙げられる。
上記エチレングリコールの多量体としては特に限定されず、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等が挙げられる。
上記プロピレングリコールの多量体としては特に限定されず、例えば、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等が挙げられる。
上記ジオール類としては特に限定されず、例えば、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−ヘキセン−2,5−ジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等が挙げられる。
上記多価アルコール類又はそのエーテル誘導体若しくはアセテート誘導体としては特に限定されず、例えば、グリセリン、1,2,4−ブタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等が挙げられる。
上記エステル類としては特に限定されず、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。
また、上記水溶性又は親水性の溶媒としてはこれらの他に、ジメチルスルホキシド、チオジグリコール、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジン、スルフォラン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、α−テルピネオール、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ビス−β−ヒドロキシエチルスルフォン、ビス−β−ヒドロキシエチルウレア、N,N−ジエチルエタノールアミン、アビエチノール、ジアセトンアルコール、尿素等が挙げられる。
これらの水溶性又は親水性の溶媒は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
なかでも、上記溶媒としては、水、イソプロパノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、及び、グリセリンからなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
The monoalcohols are not particularly limited, and examples thereof include ethanol, n-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butanol, 1-hexanol, 1-methoxy-2-propanol, and furfuryl alcohol. And tetrahydrofurfuryl alcohol.
The ethylene glycol multimer is not particularly limited, and examples thereof include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol.
The propylene glycol multimer is not particularly limited, and examples thereof include propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and tetrapropylene glycol.
The diols are not particularly limited, and examples thereof include 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 3-methyl-1,5-pentanediol. 3-hexene-2,5-diol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, Neopentyl glycol and the like can be mentioned.
The polyhydric alcohols or ether derivatives or acetate derivatives thereof are not particularly limited. For example, glycerin, 1,2,4-butanetriol, 1,2,6-hexanetriol, 1,2,5-pentanetriol, Examples include trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol and the like.
The esters are not particularly limited, and examples thereof include methyl acetate and ethyl acetate.
In addition to these, the water-soluble or hydrophilic solvents include dimethyl sulfoxide, thiodiglycol, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl- 2-Imidazolidine, sulfolane, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N-methylformamide, acetamide, N-methylacetamide, α-terpineol, ethylene carbonate, propylene carbonate, bis-β-hydroxy Examples include ethyl sulfone, bis-β-hydroxyethyl urea, N, N-diethylethanolamine, abiethinol, diacetone alcohol, urea and the like.
These water-soluble or hydrophilic solvents may be used alone or in combination of two or more.
Among these, the solvent preferably contains at least one selected from the group consisting of water, isopropanol, ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, and glycerin.

上記溶媒としては、上述した水溶性又は親水性の溶媒を2種以上組み合わせた混合溶媒であることが好ましい。後述する本発明のスペーサ粒子分散液の粘度及び表面張力を調整することができ、また、基板上に吐出した液滴を乾燥させたときに、着弾中心に向かって縮小していくとともに、その液滴中に1個以上含まれるスペーサ粒子がその液滴中心に寄り集まることが可能となるからである。
このような混合溶媒としては、低沸点低表面張力の溶媒と、高沸点高表面張力の溶媒とを混合することが好ましく、具体的には、例えば、沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒、沸点が150℃以上で表面張力が30mN/m以上の溶媒、及び、水を含有する混合溶媒(1)が好適に挙げられる。
The solvent is preferably a mixed solvent obtained by combining two or more of the above water-soluble or hydrophilic solvents. The viscosity and surface tension of the spacer particle dispersion of the present invention to be described later can be adjusted, and when the liquid droplets discharged onto the substrate are dried, they shrink toward the landing center and the liquid This is because one or more spacer particles contained in the droplet can gather near the center of the droplet.
As such a mixed solvent, it is preferable to mix a low boiling point low surface tension solvent and a high boiling point high surface tension solvent. Specifically, for example, the boiling point is less than 150 ° C. and the surface tension is 28 mN / Preferable examples include a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, a surface tension of 30 mN / m or higher, and a mixed solvent (1) containing water.

上記沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒としては特に限定されないが、エタノール、2−プロパノール(IPA)、t−ブタノール等が好適に用いられる。
また、上記沸点が150℃以上で表面張力が30mN/m以上の溶媒としては特に限定されないが、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、グリセリン等が好適に用いられる。
Although it does not specifically limit as said solvent whose boiling point is less than 150 degreeC and surface tension is less than 28 mN / m, Ethanol, 2-propanol (IPA), t-butanol etc. are used suitably.
The solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher is not particularly limited, but propylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, glycerin. Etc. are preferably used.

上記混合溶媒(1)における沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒の配合量としては特に限定されないが、好ましい下限は2重量%、好ましい上限は40重量%(より好ましい下限は5重量%、より好ましい上限は20重量%)であり、沸点が150℃以上で表面張力が30mN/m以上の溶媒の配合量の好ましい下限は30重量%、好ましい上限は96重量%(より好ましい下限は40重量%、より好ましい上限は90重量%)であり、水の配合量の好ましい下限は0重量%、好ましい上限は60重量%(より好ましい下限は5重量%、より好ましい上限は40重量%)である。
なお、上記混合溶媒(1)における上記沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒と水とを足した割合は、沸点が150℃以上で表面張力が30mN/m以上の溶媒を除いた量、すなわち、好ましい下限を4重量%、好ましい上限を70重量%(より好ましい下限を6重量%、より好ましい上限を55重量%)とする。
The blending amount of the solvent having a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m in the mixed solvent (1) is not particularly limited, but the preferred lower limit is 2% by weight and the preferred upper limit is 40% by weight (more preferred lower limit is 5% by weight, more preferred upper limit is 20% by weight), the preferred lower limit of the amount of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher is 30% by weight, and the preferred upper limit is 96% by weight (more preferred) The lower limit is 40% by weight, and the more preferred upper limit is 90% by weight. The preferred lower limit of the amount of water is 0% by weight, the preferred upper limit is 60% by weight (the more preferred lower limit is 5% by weight, and the more preferred upper limit is 40% by weight). %).
In the mixed solvent (1), the ratio of the solvent having a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m and water is determined by adding a solvent having a boiling point of 150 ° C. or more and a surface tension of 30 mN / m or more. The excluded amount, that is, the preferred lower limit is 4% by weight and the preferred upper limit is 70% by weight (more preferred lower limit is 6% by weight, more preferred upper limit is 55% by weight).

上記沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒が2重量%未満であると、本発明のスペーサ粒子分散液の表面張力が高くなりすぎ、スペーサ粒子分散液をインクジェット装置のヘッドへ導入する際にインク室に気泡が残存し、吐出しないノズルが発生する問題が発生することがある。また、水と沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒とを加えた量が4重量%未満であると、本発明のスペーサ粒子分散液の粘度が高すぎ、インクジェットヘッドより吐出しづらくなる(駆動電圧が高くなりすぎる)問題が発生することがあり、70重量%を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液の粘度が低くなりすぎ、吐出安定性、特に高周波数駆動状態の安定性が低くなる問題が発生したり、インクジェット装置のノズルの先端でスペーサ粒子分散液が乾燥したりすることがある。 If the solvent having a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m is less than 2% by weight, the surface tension of the spacer particle dispersion of the present invention becomes too high, and the spacer particle dispersion is applied to the head of the inkjet apparatus. When introduced, bubbles may remain in the ink chamber, which may cause a problem that nozzles that do not discharge are generated. Further, when the amount of water and a solvent having a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m is less than 4% by weight, the viscosity of the spacer particle dispersion of the present invention is too high, and is discharged from the inkjet head. When the amount exceeds 70% by weight, the viscosity of the spacer particle dispersion of the present invention becomes too low, and the discharge stability, particularly in the high frequency driving state, may occur. There may be a problem that the stability is lowered, or the spacer particle dispersion may be dried at the tip of the nozzle of the ink jet apparatus.

また、インクジェット装置のSUS製フィルターが特に親水性の高い場合や、本発明のスペーサ粒子分散液を導入する前に、2−プロパノール等の表面張力が低く上記接液部をよくぬらすことのできる溶媒で充填して気泡を充分に除去した後、気泡を巻き込まないようにしてスペーサ粒子分散液でSUS製フィルターを置換できる場合は、上記混合溶媒には、沸点が150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒を加える必然性は特にない。
この場合、上記沸点が150℃以上で表面張力が30mN/m以上の溶媒の配合量の好ましい下限が30重量%、好ましい上限が96重量%(より好ましい下限は45重量%、より好ましい上限は94重量%)と、水の配合量の好ましい下限が4重量%、好ましい上限が70重量%(より好ましい下限は6重量%、より好ましい上限は55重量%)との組み合わせからなる混合溶媒(2)が挙げられる。
このような組み合わせの混合溶媒(2)における水の配合量が4重量%未満であると、本発明のスペーサ粒子分散液の粘度が高すぎて、インクジェットヘッドより吐出しづらくなる(駆動電圧が高くなりすぎる)問題が発生することがある。上記混合溶媒(2)における水の配合量が70重量%を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液の粘度が低くなりすぎ、吐出安定性、特に高周波数駆動状態の安定性が低くなる問題が発生することがある。なお、この場合でも、150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒を加えることは何ら問題ない。ただし、150℃未満で表面張力が28mN/m未満の溶媒を2重量%以上加える場合は、吐出性を左右する粘度等の制限から先に述べた組み合わせからなる混合溶媒(1)が好ましい。
In addition, when the SUS filter of the ink jet device is particularly highly hydrophilic, or before introducing the spacer particle dispersion of the present invention, a solvent that has a low surface tension such as 2-propanol and can wet the liquid contact part well. When the SUS filter can be replaced with the spacer particle dispersion liquid so that the bubbles are not entrained after the bubbles are sufficiently removed by filling with the above, the mixed solvent has a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of 28 mN / There is no particular necessity to add a solvent of less than m.
In this case, the preferable lower limit of the amount of the solvent having the boiling point of 150 ° C. or higher and the surface tension of 30 mN / m or higher is 30% by weight, and the preferable upper limit is 96% by weight (the more preferable lower limit is 45% by weight, and the more preferable upper limit is 94 %) And a preferred lower limit of the amount of water mixed is 4% by weight, and a preferred upper limit is 70% by weight (more preferred lower limit is 6% by weight, more preferred upper limit is 55% by weight). Is mentioned.
When the blending amount of water in the mixed solvent (2) in such a combination is less than 4% by weight, the viscosity of the spacer particle dispersion of the present invention is too high and it is difficult to eject from the inkjet head (the driving voltage is high). Problems may occur. When the blending amount of water in the mixed solvent (2) exceeds 70% by weight, there is a problem that the viscosity of the spacer particle dispersion of the present invention becomes too low and the discharge stability, particularly the stability in a high frequency driving state is lowered. May occur. Even in this case, there is no problem in adding a solvent having a surface tension of less than 150 mN / m at less than 150 ° C. However, when adding a solvent having a surface tension of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m in an amount of 2% by weight or more, the mixed solvent (1) composed of the combinations described above is preferable due to the limitation on the viscosity and the like that affect the discharge performance.

本発明のスペーサ粒子分散液は、本発明の目的を阻害しない範囲において、スペーサ粒子の分散性を改良したり、表面張力や粘度等の物理特性を制御して吐出精度を改良したり、スペーサ粒子の移動性を改良したりする目的で各種の界面活性剤、粘性調整剤等を含有してもよい。 The spacer particle dispersion of the present invention improves the dispersibility of the spacer particles within the range that does not impair the purpose of the present invention, controls the physical properties such as surface tension and viscosity, improves the discharge accuracy, Various surfactants, viscosity modifiers, and the like may be contained for the purpose of improving the mobility of these.

本発明のスペーサ粒子分散液のpHとしては特に限定されないが、好ましい下限は7、好ましい上限は13である。本発明のスペーサ粒子分散液のpHが7未満であると、SUS製フィルターへのスペーサ粒子の付着を阻害する効果が不充分となり、フィルターに目詰まりを生じることがある。本発明のスペーサ粒子分散液のpHが13を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液が着弾した部分の配向膜に汚染が生じたり、インクジェット装置のヘッド及び流路に使用されている耐塩基性の弱い部材を劣化させたりすることがある。本発明のスペーサ粒子分散液のpHのより好ましい下限は8、より好ましい上限は12である。
また、通常、カチオン性化合物を添加する前の本発明インクのpHは、5前後になることが多い。カチオン性化合物を少量添加するとpHは上昇する。スペーサの表面状態、溶媒組成、カチオン性化合物の種類等によって一概には言えないが、上記カチオン性化合物を0.1mmol/kg加えるとpHは、7前後になる。上記カチオン性化合物を1.0〜10mmol/kg加えると8前後になり、10〜200mmol/kg加えると9前後になる。
Although it does not specifically limit as pH of the spacer particle dispersion liquid of this invention, A preferable minimum is 7 and a preferable upper limit is 13. If the pH of the spacer particle dispersion of the present invention is less than 7, the effect of inhibiting the adhesion of the spacer particles to the SUS filter becomes insufficient, and the filter may be clogged. When the pH of the spacer particle dispersion of the present invention exceeds 13, the alignment film on the portion where the spacer particle dispersion of the present invention has landed is contaminated, or the base resistance used in the head and flow path of the inkjet device The weak member may be deteriorated. The more preferred lower limit of the pH of the spacer particle dispersion of the present invention is 8, and the more preferred upper limit is 12.
In general, the pH of the ink of the present invention before adding the cationic compound is often around 5. When a small amount of a cationic compound is added, the pH rises. Although it cannot be generally stated depending on the surface state of the spacer, the solvent composition, the type of the cationic compound, etc., the pH becomes around 7 when 0.1 mmol / kg of the cationic compound is added. When 1.0 to 10 mmol / kg of the cationic compound is added, the amount is about 8. When 10 to 200 mmol / kg is added, the amount is about 9.

上記カチオン性化合物の残留量としては特に限定されないが、好ましい上限は1重量%である。上記カチオン性化合物の残留量が1重量%を超えると配向膜に異常をきたし、液晶セルを組んだ際配向不良を起こして表示不良になることがある。上記カチオン性化合物の残留量のより好ましい上限は0.1重量%である。 The residual amount of the cationic compound is not particularly limited, but a preferable upper limit is 1% by weight. If the residual amount of the cationic compound exceeds 1% by weight, the alignment film may become abnormal, and when the liquid crystal cell is assembled, alignment failure may occur and display failure may occur. A more preferable upper limit of the residual amount of the cationic compound is 0.1% by weight.

本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子を除く不揮発成分の含有量が少ないことが好ましく、具体的には、本発明のスペーサ粒子分散液全体に対して、1μmよりも小さい粒径を有する不揮発成分の含有量の好ましい上限は0.001重量%である。上記不揮発成分の含有量が0.001重量%を超えると、液晶や配向膜が汚染されて、液晶表示装置のコントラスト等の表示品質が劣ることがある。
上記不揮発成分としては特に限定されず、例えば、大気中のゴミ、スペーサ粒子を分散させるのに用いた溶媒中に含まれていた不純物、スペーサ粒子の粉砕物、金属イオン等のイオン性化合物等や、スペーサ粒子分散液中における保形性を有さない固形分や非球形の微粒子等が挙げられる。
The spacer particle dispersion of the present invention preferably has a small content of non-volatile components excluding the spacer particles. Specifically, the spacer particle dispersion has a particle size of less than 1 μm with respect to the entire spacer particle dispersion of the present invention. The upper limit with preferable content of a component is 0.001 weight%. When the content of the nonvolatile component exceeds 0.001% by weight, the liquid crystal and the alignment film are contaminated, and the display quality such as contrast of the liquid crystal display device may be deteriorated.
The non-volatile component is not particularly limited, for example, dust in the atmosphere, impurities contained in the solvent used to disperse the spacer particles, pulverized spacer particles, ionic compounds such as metal ions, etc. Examples thereof include solids and non-spherical fine particles having no shape retention in the spacer particle dispersion.

本発明のスペーサ粒子分散液中の不揮発成分を少なくする方法としては特に限定されず、例えば、まずスペーサ粒子の粒径よりも大きい濾過径を有するフィルターで本発明のスペーサ粒子分散液を濾過して大きなゴミを除き、続いて本発明のスペーサ粒子分散液を遠心してスペーサ粒子を沈殿させた後、上澄み液を捨て、更に濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルターで濾過した溶媒を加えてスペーサ粒子を分散させる方法、スペーサ粒子の粒径よりも小さい濾過径を有するフィルターでスペーサ粒子を濾取し、濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルターで濾過した溶媒に分散させる方法、層状珪酸塩等のイオン吸着性固体を用いる方法等が挙げられる。これらの方法は、繰り返して行われてもよい。 The method for reducing the non-volatile components in the spacer particle dispersion of the present invention is not particularly limited. For example, the spacer particle dispersion of the present invention is first filtered with a filter having a filtration diameter larger than the particle diameter of the spacer particles. After removing large dust, the spacer particle dispersion of the present invention was centrifuged to precipitate the spacer particles, and then the supernatant was discarded. Further, the filtered spacer particles were filtered through a filter having a filtration diameter of 1 μm and added with a solvent. A method of dispersing spacer particles, a method of filtering spacer particles with a filter having a filtration diameter smaller than the particle diameter of the spacer particles, and dispersing the filtered spacer particles in a solvent filtered with a filter having a filtration diameter of 1 μm And a method using an ion-adsorptive solid such as a layered silicate. These methods may be repeated.

本発明のスペーサ粒子分散液におけるスペーサ粒子の比重と、スペーサ粒子を除く液状部分の比重との差としては特に限定されないが、好ましい上限は0.5である。上記スペーサ粒子とスペーサ粒子を除く液状部分の比重の差が0.5を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液の保存中にスペーサ粒子が沈降してしまい、吐出された本発明のスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の数が不均一になることがある。 The difference between the specific gravity of the spacer particles in the spacer particle dispersion of the present invention and the specific gravity of the liquid portion excluding the spacer particles is not particularly limited, but a preferable upper limit is 0.5. When the difference in specific gravity between the liquid particles excluding the spacer particles and the spacer particles exceeds 0.5, the spacer particles settle during storage of the spacer particle dispersion of the present invention and the dispersed spacer particle of the present invention is dispersed. The number of spacer particles in the liquid may become uneven.

本発明のスペーサ粒子分散液におけるスペーサ粒子の表面の溶解度パラメータ値と、スペーサ粒子を除く液状部分の溶解度パラメータ値との差としては特に限定されないが、好ましい上限は5.0である。上記スペーサ粒子とスペーサ粒子を除く液状部分の溶解度パラメータ値の差が5.0を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液中におけるスペーサ粒子の分散性が劣り、吐出された本発明のスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の数が不均一になることがある。 The difference between the solubility parameter value of the spacer particle surface in the spacer particle dispersion of the present invention and the solubility parameter value of the liquid part excluding the spacer particles is not particularly limited, but a preferred upper limit is 5.0. When the difference in solubility parameter value between the liquid particles excluding the spacer particles and the spacer particles exceeds 5.0, the dispersibility of the spacer particles in the spacer particle dispersion of the present invention is inferior, and the dispersed spacer particles of the present invention are dispersed. The number of spacer particles in the liquid may become uneven.

本発明のスペーサ粒子分散液の23℃における表面張力としては特に限定されないが、好ましい下限は25mN/m、好ましい上限は50mN/mである。表面張力がこの範囲外であるとインクジェット装置で本発明のスペーサ粒子分散液を安定的に吐出することが難しくなることがある。
また、上記スペーサ粒子分散液の表面張力の値から基板の表面張力の値を減じた値としては特に限定されないが、好ましい下限は−2mN/m、好ましい上限は40mN/mである。上記スペーサ粒子分散液の表面張力の値から基板の表面張力の値を減じた値が−2mN/m未満であると、本発明のスペーサ粒子分散液が基板上に着弾した際の着弾径が非常に大きくなってしまうことがある。上記スペーサ粒子分散液の表面張力の値から基板の表面張力の値を減じた値が40mN/mを超えると、着弾したスペーサ粒子分散液が容易に移動してしまい、正確にスペーサ粒子を配置できないことがある。
なお、本明細書において、上記表面張力は、白金板を使用するウイルヘルミー法にて測定された値である。
Although it does not specifically limit as surface tension in 23 degreeC of the spacer particle dispersion liquid of this invention, A preferable minimum is 25 mN / m and a preferable upper limit is 50 mN / m. If the surface tension is outside this range, it may be difficult to stably discharge the spacer particle dispersion of the present invention using an inkjet apparatus.
Further, the value obtained by subtracting the surface tension value of the substrate from the surface tension value of the spacer particle dispersion is not particularly limited, but a preferable lower limit is −2 mN / m and a preferable upper limit is 40 mN / m. When the value obtained by subtracting the surface tension value of the substrate from the surface tension value of the spacer particle dispersion liquid is less than −2 mN / m, the landing diameter when the spacer particle dispersion liquid of the present invention lands on the substrate is very large. May become large. If the value obtained by subtracting the surface tension value of the substrate from the surface tension value of the spacer particle dispersion exceeds 40 mN / m, the landed spacer particle dispersion easily moves, and the spacer particles cannot be arranged accurately. Sometimes.
In the present specification, the surface tension is a value measured by a Wilhelmy method using a platinum plate.

本発明のスペーサ粒子分散液においては、例えば、表面張力について上記要件を満たすように上述の低沸点低表面張力の溶媒と高沸点高表面張力の溶媒とを混合することが好ましい。このような組み合わせを選択することにより、着弾した本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥するにつれ表面張力が高くなるので、液滴が乾燥するに従って液滴の径が小さくなるような力が働き、最終的なスペーサ粒子が配置される範囲を限定することができる。 In the spacer particle dispersion of the present invention, for example, it is preferable to mix the above-described low boiling point low surface tension solvent and high boiling point high surface tension solvent so as to satisfy the above-mentioned requirements for surface tension. By selecting such a combination, the surface tension increases as the landed droplets of the spacer particle dispersion liquid of the present invention dry, so that the force that reduces the diameter of the droplets as the droplets dry is obtained. It can limit the range in which the final spacer particles are disposed.

本発明のスペーサ粒子分散液における基板に対する後退接触角(θr)としては特に限定されないが、好ましくは5度以上である。上記後退接触角が5度以上であると、基板に着弾した本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥するときに、その中心に向かって縮小していくとともに、その液滴中に1個以上含まれるスペーサ粒子がその液滴中心に寄り集まることが可能となる。上記後退接触角が5度未満であると、基板上で液滴の着弾した箇所の中心(着弾中心)を中心として液滴が乾燥し、その液滴径が縮小するとともに、スペーサ粒子がその中心に集まり難くなることがある。
なお、本明細書において後退接触角とは、基板上に置かれた本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が、基板上に置かれてから乾燥するまでの過程で、基板上に最初に置かれた際の着弾径より小さくなりだした時(液滴が縮みだした時)に示す接触角、又は、液滴の揮発成分の内80〜95重量%が揮発した際に示す接触角をいう。
The receding contact angle (θr) with respect to the substrate in the spacer particle dispersion of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5 degrees or more. When the receding contact angle is 5 degrees or more, when the droplet of the spacer particle dispersion liquid of the present invention that has landed on the substrate is dried, it shrinks toward the center and one droplet in the droplet. The spacer particles contained above can be gathered near the center of the droplet. When the receding contact angle is less than 5 degrees, the droplet dries around the center (landing center) where the droplet landed on the substrate, the droplet diameter is reduced, and the spacer particle is centered. It may be difficult to get together.
In this specification, the receding contact angle refers to the process in which the droplet of the spacer particle dispersion liquid of the present invention placed on the substrate is first placed on the substrate after it is placed on the substrate and dried. The contact angle shown when it starts to become smaller than the landing diameter when it is applied (when the droplet starts to shrink), or the contact angle shown when 80 to 95% by weight of the volatile components of the droplet volatilizes. .

また、上記後退接触角は、いわゆる接触角(液滴を基板に置いた際の初期接触角で通常はこれを接触角と呼ぶことがほとんどである)に比べ小さくなる傾向がある。これは、初期の接触角が、本発明のスペーサ粒子分散液を構成する溶媒に接触していない基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるのに対し、後退接触角は本発明のスペーサ粒子分散液を構成する溶媒に接触した後の基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるためと考えられる。すなわち、後退接触角が初期接触角に対して著しく低い場合は、それらの溶媒によって配向膜が損傷を受けていることを示しており、これらの溶媒を使用することが配向膜汚染に対して好ましくないことを示すと考えられる。 The receding contact angle tends to be smaller than the so-called contact angle (the initial contact angle when a droplet is placed on a substrate, which is usually called the contact angle in most cases). This is the contact angle of the droplet with respect to the substrate on the substrate surface that is not in contact with the solvent constituting the spacer particle dispersion of the present invention, whereas the receding contact angle is that of the present invention. This is considered to be due to the contact angle of the droplet with respect to the substrate on the substrate surface after contacting the solvent constituting the spacer particle dispersion. That is, when the receding contact angle is significantly lower than the initial contact angle, it indicates that the alignment film is damaged by those solvents, and it is preferable to use these solvents against alignment film contamination. It is thought that it shows that there is not.

本発明のスペーサ粒子分散液と基板面との初期接触角θとしては特に限定されないが、好ましい下限は10度、好ましい上限は110度である。上記初期接触角θが10度未満であると、基板上に吐出された本発明のスペーサ粒子分散液液滴が、基板上に濡れ拡がった状態となりスペーサ粒子の配置間隔を狭くできないことがある。上記初期接触角θが110度を超えると、少しの振動で液滴が基板上を動き回り易く、結果として配置精度が悪化したり、スペーサ粒子と基板との密着性が悪くなったりすることがある。 The initial contact angle θ between the spacer particle dispersion of the present invention and the substrate surface is not particularly limited, but a preferred lower limit is 10 degrees and a preferred upper limit is 110 degrees. When the initial contact angle θ is less than 10 degrees, the spacer particle dispersion liquid droplets of the present invention discharged onto the substrate may be wet and spread on the substrate, and the arrangement interval of the spacer particles may not be narrowed. When the initial contact angle θ exceeds 110 degrees, the liquid droplets easily move around on the substrate with a slight vibration, and as a result, the placement accuracy may deteriorate and the adhesion between the spacer particles and the substrate may deteriorate. .

インクジェット装置からの吐出時のヘッド温度における、E型粘度計又はB型粘度計により測定した本発明のスペーサ粒子分散液の粘度としては特に限定されないが、好ましい下限は0.5mPa・s、好ましい上限は15mPa・sである。上記吐出時のヘッド温度における粘度が0.5mPa・s未満であると、インクジェット装置から吐出するときの吐出量をコントロールすることが困難になることがある。上記吐出時のヘッド温度における粘度が15mPa・sを超えると、インクジェット装置で吐出できないことがある。上記吐出時のヘッド温度における粘度のより好ましい下限は5mPa・s、より好ましい上限は10mPa・sである。
なお、本発明のスペーサ粒子分散液を吐出する際に、インクジェット装置のヘッド温度をペルチェ素子や冷媒等により冷却したり、ヒーター等で加温したりして、スペーサ粒子分散液の吐出時の液温を−5℃から50℃の間に調整してもよい。
The viscosity of the spacer particle dispersion of the present invention measured with an E-type viscometer or a B-type viscometer at the head temperature during ejection from an inkjet apparatus is not particularly limited, but a preferred lower limit is 0.5 mPa · s, a preferred upper limit. Is 15 mPa · s. When the viscosity at the head temperature during ejection is less than 0.5 mPa · s, it may be difficult to control the ejection amount when ejecting from the ink jet apparatus. When the viscosity at the head temperature at the time of ejection exceeds 15 mPa · s, the ink jet apparatus may not be able to eject. A more preferable lower limit of the viscosity at the head temperature at the time of ejection is 5 mPa · s, and a more preferable upper limit is 10 mPa · s.
When discharging the spacer particle dispersion liquid of the present invention, the head temperature of the ink jet apparatus is cooled by a Peltier element, a refrigerant, or the like, or heated by a heater, etc. The temperature may be adjusted between -5 ° C and 50 ° C.

本発明のスペーサ粒子分散液におけるスペーサ粒子の配向膜溶媒溶解度としては特に限定されないが、好ましい上限は5%である。上記スペーサ粒子の配向膜溶媒溶解度が5%を超えると、配向膜を損傷したり、液晶汚染の原因となったりすることがある。
上記配向膜溶媒溶解度は、例えば、以下の方法により測定することができる。すなわち、固形分で100mg相当の本発明のスペーサ粒子分散液を真空中において90℃で5時間乾燥させ、更に真空中において150℃で5時間乾燥させることで、乾固させた後、220℃で1時間ベークする。硬化物の重量(Wa)を測定した後、10gのN−メチル−2−ピロリドンに入れ振とうさせながら5時間放置し、固形分を濾別し、真空中において150℃で5時間乾燥させ乾固させた重量(Wb)を測定する。
なお、上記配向膜溶媒溶解度は、下記式により求めることができる。
配向膜溶媒溶解度=(Wa−Wb)/Wa
The solubility of the alignment particles in the spacer particle dispersion of the present invention is not particularly limited, but the preferred upper limit is 5%. When the solubility of the spacer film in the alignment film exceeds 5%, the alignment film may be damaged or liquid crystal contamination may occur.
The alignment film solvent solubility can be measured, for example, by the following method. That is, the spacer particle dispersion of the present invention corresponding to 100 mg in solid content was dried at 90 ° C. for 5 hours in a vacuum and further dried at 150 ° C. for 5 hours in a vacuum, and then dried at 220 ° C. Bake for 1 hour. After measuring the weight (Wa) of the cured product, it was placed in 10 g of N-methyl-2-pyrrolidone and allowed to stand for 5 hours while shaking, the solid content was filtered off, dried in vacuum at 150 ° C. for 5 hours and dried. The solidified weight (Wb) is measured.
In addition, the alignment film solvent solubility can be obtained by the following formula.
Alignment film solvent solubility = (Wa−Wb) / Wa

以上、マイナスの電荷を有するスペーサ粒子を含有する本発明のスペーサ粒子分散液について発明したが、例えば、スペーサ粒子の表面にカチオン性官能基(アミン等)が導入されると、スペーサ粒子は、表面電荷(ゼータ電位)がプラスとなる。一方、インクジェット装置のSUS製フィルターが、表面に、例えば、エポキシ化合物やフッ素等でコーティング(撥水処理)がされている場合、該SUS製フィルターの電荷はマイナスとなる。このような場合も、静電相互作用によりインクジェット装置のフィルターにスペーサ粒子が付着する。
スペーサ粒子の表面電荷がプラスである場合、本発明のスペーサ粒子分散液としては、上述した溶媒にカチオン性化合物の代わりにアニオン性化合物を1種又は2種以上含有することが好ましい。このような溶媒にアニオン性化合物を含有するスペーサ粒子分散液を用いることで、上記SUS製フィルターにスペーサ粒子が付着することを防止できる。
これは、本発明のスペーサ粒子分散液中にアニオン性化合物、特に酸性化合物を加えることで、スペーサ粒子表面のカチオン性官能基にカウンターアニオンとして酸が加えられ、スペーサ粒子とインクジェット装置のSUS製フィルターとの静電相互作用が弱められるからであると考えられる。更に、上記アニオン性化合物は、スペーサ粒子表面のカチオン性官能基と錯形成し、親水性を向上させて疎水性相互作用を弱める効果を有する。
As described above, the spacer particle dispersion of the present invention containing spacer particles having a negative charge has been invented. For example, when a cationic functional group (such as amine) is introduced on the surface of the spacer particles, the spacer particles Charge (zeta potential) is positive. On the other hand, when the surface of the SUS filter of the ink jet apparatus is coated (water repellent treatment) with, for example, an epoxy compound or fluorine, the charge of the SUS filter is negative. Even in such a case, the spacer particles adhere to the filter of the ink jet apparatus by electrostatic interaction.
When the surface charge of the spacer particles is positive, the spacer particle dispersion of the present invention preferably contains one or more anionic compounds in place of the cationic compound in the solvent described above. By using a spacer particle dispersion containing an anionic compound in such a solvent, the spacer particles can be prevented from adhering to the SUS filter.
This is because, by adding an anionic compound, particularly an acidic compound, to the spacer particle dispersion of the present invention, an acid is added as a counter anion to the cationic functional group on the surface of the spacer particle. This is thought to be because the electrostatic interaction with is weakened. Further, the anionic compound has an effect of forming a complex with a cationic functional group on the surface of the spacer particle, improving hydrophilicity and weakening hydrophobic interaction.

上記酸性化合物としては特に限定されず、例えば、マロン酸、酢酸、シュウ酸等の有機酸、硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸等が挙げられ、また、カルボン酸、リン酸、スルホン酸等の官能基を有する誘導体等も挙げられる。上記酸性化合物は、ポリマーであってもよい。更に、ポリビニルアルコール酸変性物等の一般的な界面活性剤であってもよい。 The acidic compound is not particularly limited, and examples thereof include organic acids such as malonic acid, acetic acid, and oxalic acid, and inorganic acids such as nitric acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid, and also include carboxylic acid, phosphoric acid, sulfonic acid, and the like. Examples include derivatives having functional groups. The acidic compound may be a polymer. Further, it may be a general surfactant such as a modified polyvinyl alcohol acid.

本発明のスペーサ粒子分散液は、インクジェット装置を用いて該スペーサ粒子分散液の液滴を吐出して基板上の所定の位置に着弾させた後、乾燥させることによりスペーサ粒子を基板上に所定の位置に配置することができる。
すなわち、画素領域と非画素領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、本発明のスペーサ粒子分散液を、インクジェット装置を用いて第1の基板又は第2の基板の非画素領域に対応する特定の位置に配置する工程、上記スペーサ粒子分散液を乾燥させる工程、及び、上記第1の基板と第2の基板とを、液晶及びスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程を有する液晶表示装置の製造方法もまた、本発明の1つである。
The spacer particle dispersion liquid of the present invention is a method in which droplets of the spacer particle dispersion liquid are ejected by using an ink jet apparatus to land on a predetermined position on the substrate and then dried to dry the spacer particles on the substrate. Can be placed in position.
That is, a method of manufacturing a liquid crystal display device having a pixel region and a non-pixel region, wherein the spacer particle dispersion of the present invention is applied to the non-pixel region of the first substrate or the second substrate using an inkjet device. A step of arranging at a specific position, a step of drying the spacer particle dispersion, and a step of superposing the first substrate and the second substrate so as to face each other through the liquid crystal and the spacer particles. A method for manufacturing a liquid crystal display device is also one aspect of the present invention.

本発明の液晶表示装置の製造方法において、スペーサ粒子分散液を基板上に吐出するのに用いられるインクジェット装置としては特に限定されず、例えば、ピエゾ素子の振動によって液体を吐出するピエゾ方式、急激な加熱による液体の膨張を利用して液体を吐出させるサーマル方式等の従来公知の吐出方法によるインクジェット装置が挙げられる。なかでも、吐出されるスペーサ粒子分散液に対して熱的な影響の少ないピエゾ方式が好適である。 In the method for producing a liquid crystal display device of the present invention, the ink jet device used for discharging the spacer particle dispersion onto the substrate is not particularly limited. For example, a piezo method for discharging liquid by vibration of a piezo element, or a rapid Examples thereof include an inkjet apparatus using a conventionally known ejection method such as a thermal method in which liquid is ejected by utilizing expansion of the liquid by heating. Among these, a piezo method having a small thermal influence on the discharged spacer particle dispersion is preferable.

本発明の液晶表示装置の製造方法に供される基板としては特に限定されず、ガラスや樹脂等、通常液晶表示装置のパネル基板として使用されるものを用いることができる。また、一対の基板のうち、一方の基板には画素領域にカラーフィルタが設けられた基板を用いることができる。この場合、画素領域は、実質的にほとんど光を通さないクロム等の金属やカーボンブラック等が分散された樹脂等のブラックマトリックスで画されている。このブラックマトリックスが非画素領域を構成することになる。 It does not specifically limit as a board | substrate provided with the manufacturing method of the liquid crystal display device of this invention, What is normally used as a panel substrate of a liquid crystal display device, such as glass and resin, can be used. Of the pair of substrates, a substrate in which a color filter is provided in a pixel region can be used as one substrate. In this case, the pixel region is defined by a black matrix such as a resin in which a metal such as chrome or carbon black that hardly transmits light is dispersed. This black matrix constitutes a non-pixel region.

上記基板は、本発明のスペーサ粒子分散液との接触角が20度以上になるように予め撥水処理が施されていることが好ましい。 The substrate is preferably subjected to a water repellent treatment in advance so that the contact angle with the spacer particle dispersion of the present invention is 20 degrees or more.

本発明の液晶表示装置の製造方法において、基板の本発明のスペーサ粒子分散液が吐出され着弾する箇所は、非画素領域に対応する位置である。
上記非画素領域に対応する位置とは、非画素領域(カラーフィルタ基板であれば上述のブラックマトリックス)、又は、もう一方の基板(TFT液晶パネルであればTFTアレイ基板)上で、その基板を非画素領域を有する基板と重ね合わせた際の非画素領域に対応する領域(TFTアレイ基板であれば配線部等)のいずれかを意味する。
上記非画素領域に対応する位置には、周囲と段差を有する箇所が含まれてもよい。ここでいう段差とは、基板上に設けられた配線等によって生じる非意図的な凹凸(周囲との高低差)、スペーサ粒子を集めるために意図的に設けられた凹凸をいい、凸凹表面下の構造は問わない。従ってここでいう段差は、表面凹凸形状における凹部又は凸部と平坦部(基準面)との段差をいう。
In the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the location where the spacer particle dispersion of the present invention is discharged and landed is a position corresponding to a non-pixel region.
The position corresponding to the non-pixel area is the position of the substrate on the non-pixel area (the above-described black matrix for a color filter substrate) or the other substrate (a TFT array substrate for a TFT liquid crystal panel). It means any one of the areas corresponding to the non-pixel areas when overlapped with the substrate having the non-pixel areas (in the case of a TFT array substrate, a wiring portion or the like).
The position corresponding to the non-pixel region may include a portion having a periphery and a step. The step here means an unintentional unevenness (level difference from the surroundings) caused by wiring provided on the substrate, an unevenness intentionally provided to collect spacer particles, and is below the uneven surface. Any structure is acceptable. Therefore, the step here refers to a step between a concave portion or a convex portion and a flat portion (reference surface) in the surface uneven shape.

上記スペーサ粒子が配置された基板におけるスペーサ粒子と基板との間隔としては特に限定されないが、好ましい上限は0.2μmである。上記スペーサ粒子と基板との間隔が0.2μmを超えると、正確にセルギャップを実現できないことがある。
上記スペーサ粒子が配置された基板におけるスペーサ粒子の最上部(基板からもっとも離れた箇所)と基板との間隔のばらつき(標準偏差)としては特に限定されないが、好ましくは10%以下である。上記スペーサ粒子の最上部と基板との間隔のばらつき(標準偏差)が10%を超えると、正確にセルギャップを実現できないことがある。
Although it does not specifically limit as a space | interval of the spacer particle | grains in a board | substrate with which the said spacer particle | grains are arrange | positioned, A preferable upper limit is 0.2 micrometer. If the distance between the spacer particles and the substrate exceeds 0.2 μm, the cell gap may not be realized accurately.
The variation (standard deviation) between the uppermost portion of the spacer particles (the place farthest from the substrate) and the substrate in the substrate on which the spacer particles are disposed is not particularly limited, but is preferably 10% or less. If the variation (standard deviation) between the top of the spacer particles and the substrate exceeds 10%, the cell gap may not be realized accurately.

上記スペーサ粒子が配置された基板におけるスペーサ粒子の最上部(基板からもっとも離れた箇所)から、基板方向に10%変位した時の応力(10%変形応力)としては特に限定されないが、好ましい下限は0.2mN、好ましい上限は10mNである。
なお、上記10%変形応力は、以下の方法により測定することができる。すなわち、10の配置位置において、微小硬度計(例えば、島津社製)にて100μmの触針子で10%変位した時の応力を測定する。1配置位置毎に、応力を測定し、それをその配置位置に存在するスペーサ粒子の個数で除した値を求め、その平均値を、10%変形応力とする。
The stress (10% deformation stress) when displaced 10% in the substrate direction from the uppermost portion of the spacer particles (the place farthest from the substrate) in the substrate on which the spacer particles are arranged is not particularly limited, but the preferred lower limit is The upper limit is preferably 0.2 mN and 10 mN.
The 10% deformation stress can be measured by the following method. That is, at 10 positions, the stress when 10% is displaced with a 100 μm stylus using a micro hardness meter (for example, manufactured by Shimadzu Corporation) is measured. For each placement position, the stress is measured, a value obtained by dividing the stress by the number of spacer particles present at the placement position is determined, and the average value is defined as 10% deformation stress.

上記スペーサ粒子が配置された基板におけるスペーサ粒子の回復率としては特に限定されないが、好ましい下限は40%である。
なお、上記回復率は、以下の方法により測定することができる。すなわち、10の配置位置において、それぞれの配置毎に、9.8(mN)にその配置位置に存在するスペーサ粒子の個数を乗じた加重を1秒かけ、基板とスペーサ粒子の最上部(基板からもっとも離れた箇所)との距離の変化を、加重の前後で測定する。加重後の距離を加重前の距離で除した値の、10の配置位置での平均値を回復率とする。
The recovery rate of the spacer particles in the substrate on which the spacer particles are arranged is not particularly limited, but a preferable lower limit is 40%.
The recovery rate can be measured by the following method. That is, at 10 arrangement positions, for each arrangement, a weight obtained by multiplying 9.8 (mN) by the number of spacer particles present at the arrangement position is applied for 1 second, and the top of the substrate and the spacer particles (from the substrate) The change in distance to the farthest point) is measured before and after weighting. The average value at the ten arrangement positions of the value obtained by dividing the weighted distance by the distance before weighting is taken as the recovery rate.

上記スペーサ粒子が配置された基板においては、スペーサ粒子の80%以上が、液晶表示装置の遮光領域に相当する基板上の領域に存在することが好ましい。 In the substrate on which the spacer particles are arranged, it is preferable that 80% or more of the spacer particles exist in a region on the substrate corresponding to the light shielding region of the liquid crystal display device.

上記スペーサ粒子が配置された基板においては、JIS C 0040(ショック加振(加速度50G(9m秒)))、正弦波5分間加振(0.1KHz30G,1KHz30G)に準じた方法による振動試験前後での、スペーサ粒子の存在比の変化率が±20%以内であることが好ましい。 In the substrate on which the spacer particles are arranged, before and after a vibration test by a method according to JIS C 0040 (shock excitation (acceleration 50G (9 msec))) and sine wave excitation for 5 minutes (0.1 KHz30G, 1 KHz30G). The change rate of the abundance ratio of the spacer particles is preferably within ± 20%.

以上のように、基板上にスペーサ粒子を配置してスペーサ粒子が配置された基板を得た後、常法によりスペーサ粒子が配置された基板に、もう一方の基板をスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせた後、加熱圧着され、形成された基板間の空隙に液晶が充填されて液晶表示装置が作製される(真空注入法)。また、片方の基板に周辺シール剤を塗布しそれに囲まれた範囲内に液晶を滴下しもう一方の基板を貼り合わせシール剤を硬化させて液晶表示装置が作製される(液晶滴下工法)。 As described above, after obtaining the substrate on which the spacer particles are arranged by arranging the spacer particles on the substrate, the other substrate is opposed to the substrate on which the spacer particles are arranged through the spacer particles by a conventional method. After being superposed in such a manner, the liquid crystal is filled in the gap between the formed substrates by heat-compression bonding, and a liquid crystal display device is manufactured (vacuum injection method). Also, a peripheral sealing agent is applied to one substrate, liquid crystal is dropped within a range surrounded by the other substrate, the other substrate is bonded, the sealing agent is cured, and a liquid crystal display device is manufactured (liquid crystal dropping method).

本発明の液晶表示装置の製造方法では、上述した本発明のスペーサ粒子分散液を用いるため、インクジェット装置のSUS製フィルターに目詰まりが生じることがなく、スペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示措置を製造することができる。
本発明の液晶表示装置の製造方法により製造されてなる液晶表示装置もまた、本発明の1つである。
In the method for producing a liquid crystal display device of the present invention, since the spacer particle dispersion of the present invention described above is used, the SUS filter of the ink jet device is not clogged, and the arrangement of the spacer particles is continuously stabilized. The liquid crystal display measure which can be performed and is excellent in display quality can be manufactured.
A liquid crystal display device produced by the method for producing a liquid crystal display device of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明のスペーサ粒子分散液は、上述したようにスペーサ粒子、カチオン性化合物、及び、溶媒等を含有するものであるが、スペーサ粒子以外の成分(以下、本発明に係る分散溶剤ともいう)、すなわち、カチオン性化合物、及び、溶媒等を含有する分散溶剤は、表面に電荷を有するスペーサ粒子を含有するスペーサ粒子分散液を基板上に吐出する際に用いられるインクジェット装置を洗浄するためのインクジェット装置用洗浄液として用いることもできる。 The spacer particle dispersion of the present invention contains spacer particles, a cationic compound, and a solvent as described above, but the components other than the spacer particles (hereinafter also referred to as the dispersion solvent according to the present invention), That is, a dispersion solvent containing a cationic compound, a solvent, and the like is an inkjet device for cleaning an inkjet device used when a spacer particle dispersion liquid containing spacer particles having a charge on the surface is discharged onto a substrate. It can also be used as a cleaning solution.

従来、インクジェット装置の接液部にスペーサ粒子が付着した場合、スペーサ粒子分散液に用いた分散溶剤等を洗浄液としてインクジェット装置の洗浄を行い、スペーサ粒子を除去する方法が用いられている。しかしながら、従来の洗浄液ではスペーサ粒子を効率よく除去することができなかった。 Conventionally, when spacer particles adhere to a liquid contact portion of an ink jet device, a method of cleaning the ink jet device using a dispersion solvent or the like used for the spacer particle dispersion as a cleaning liquid to remove the spacer particles has been used. However, the conventional cleaning liquid cannot efficiently remove the spacer particles.

インクジェット装置を洗浄する洗浄液として、本発明のスペーサ粒子分散液に用いた分散溶剤、すなわち、カチオン性化合物、及び、溶媒等を含有する分散溶剤を用いることにより、インクジェット装置内の流路、ヘッド又はSUS製フィルターに付着したスペーサ粒子の表面電荷を中和し、これにより容易にかつ効率的にスペーサ粒子を除去できる。 By using a dispersion solvent used in the spacer particle dispersion of the present invention, that is, a dispersion solvent containing a cationic compound and a solvent, as a cleaning liquid for cleaning the inkjet apparatus, a flow path, head, or head in the inkjet apparatus is used. By neutralizing the surface charge of the spacer particles adhering to the SUS filter, the spacer particles can be removed easily and efficiently.

スペーサ粒子の表面電荷がプラスである場合、本発明に係る分散溶剤は、カチオン性化合物の代わりにアニオン性化合物を1種又は2種以上含有することが好ましい。本発明に係る分散溶剤がカチオン性化合物の代わりにアニオン性化合物を含有することで、インクジェット装置を洗浄する際に、インクジェット装置の接液部に付着したスペーサ粒子を容易にかつ効率的に除去することができる。
これは、本発明に係る分散溶剤中にアニオン性化合物、特に酸性化合物を加えることで、インクジェット装置の接液部に付着しているスペーサ粒子表面のカチオン性官能基にカウンターアニオンとして酸が加えられ、スペーサ粒子とインクジェット装置の接液部との静電相互作用を弱めることができるからであると考えられる。更に、上記アニオン性化合物は、スペーサ粒子表面のカチオン性官能基と錯形成し、親水性を向上させて疎水性相互作用を弱める効果を有する。
When the surface charge of the spacer particles is positive, the dispersion solvent according to the present invention preferably contains one or more anionic compounds instead of the cationic compounds. When the dispersion solvent according to the present invention contains an anionic compound instead of a cationic compound, the spacer particles adhering to the liquid contact portion of the inkjet device can be easily and efficiently removed when the inkjet device is washed. be able to.
This is because by adding an anionic compound, particularly an acidic compound, to the dispersion solvent according to the present invention, an acid is added as a counter anion to the cationic functional group on the surface of the spacer particles adhering to the liquid contact portion of the ink jet device. This is considered to be because the electrostatic interaction between the spacer particles and the liquid contact portion of the ink jet apparatus can be weakened. Further, the anionic compound has an effect of forming a complex with a cationic functional group on the surface of the spacer particle, improving hydrophilicity and weakening hydrophobic interaction.

本発明に係る分散溶剤を洗浄液として用いる場合、インクジェット装置を洗浄する方法としては、例えば、上記インクジェット装置内に本発明に係る分散溶剤を用いた洗浄液を充填した後、本発明に係る分散溶剤を用いた洗浄液を吐出する方法、インクジェット装置のヘッドから吸引又はポンプにより排出する方法等が挙げられる。 When the dispersion solvent according to the present invention is used as a cleaning liquid, as a method for cleaning an ink jet apparatus, for example, after the cleaning liquid using the dispersion solvent according to the present invention is filled in the ink jet apparatus, the dispersion solvent according to the present invention is used. Examples thereof include a method of discharging the used cleaning liquid, a method of discharging from a head of an ink jet apparatus by suction or a pump, and the like.

本発明によれば、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液提供することができる。また、該スペーサ粒子分散液を用いてなる液晶表示装置の製造方法、及び、液晶表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the spacer particle dispersion which can arrange | position the spacer particle | grain on the board | substrate by an inkjet apparatus stably continuously and can obtain the liquid crystal display device excellent in display quality can be provided. . Moreover, the manufacturing method of the liquid crystal display device using this spacer particle dispersion liquid, and a liquid crystal display device can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1〜19、比較例1〜3)
(スペーサ粒子1の作製)
セパラブルフラスコ内に、ジビニルベンゼン15重量部、ブチルアクリレート3重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート2重量部、及び、重合開始剤として過酸化ベンゾイル1.3重量部を投入し、均一に撹拌混合した。次に、ポリビニルアルコール(商品名「クラレポバールGL−03」、クラレ社製)の3重量%水溶液20重量部及びドデシル硫酸ナトリウム0.5重量部を投入し、均一に撹拌混合した後、イオン交換水140重量部を投入した。次いで、窒素ガス気流下において、この水溶液を撹拌しながら80℃で15時間重合反応を行って微粒子を得た。得られた微粒子を熱水及びアセトンで充分に洗浄した後、分級操作を行い、アセトンを揮発させて、実施例1に係るスペーサ粒子1を得た。得られたスペーサ粒子1の平均粒子径は4μmであり、CV値は3.0%であった。得られたスペーサ粒子1のゼータ電位は、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)を用いて測定した。結果を表1〜3に示した。
(Examples 1-19, Comparative Examples 1-3)
(Preparation of spacer particles 1)
In a separable flask, 15 parts by weight of divinylbenzene, 3 parts by weight of butyl acrylate, 2 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 1.3 parts by weight of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were added and stirred and mixed uniformly. . Next, 20 parts by weight of a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (trade name “Kuraray Poval GL-03”, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 0.5 parts by weight of sodium dodecyl sulfate were added, mixed uniformly, and then ion exchanged. 140 parts by weight of water was added. Next, under a nitrogen gas stream, this aqueous solution was stirred and polymerized at 80 ° C. for 15 hours to obtain fine particles. After the obtained fine particles were sufficiently washed with hot water and acetone, classification operation was performed, and acetone was volatilized to obtain spacer particles 1 according to Example 1. The average particle diameter of the obtained spacer particles 1 was 4 μm, and the CV value was 3.0%. The zeta potential of the obtained spacer particles 1 was measured using a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft). The results are shown in Tables 1-3.

(スペーサ粒子2の作製)
セパラブルフラスコ内に、ジビニルベンゼン15重量部、イソオクチルアクリレート5重量部及び重合開始剤として過酸化ベンゾイル1.3重量部を投入し、均一に撹拌混合した。次に、重量平均分子量が25万のポリアクリル酸の5重量%水溶液20重量部を投入し、均一に撹拌混合した後、イオン交換水140重量部を投入した。次いで、窒素ガス気流下において、この水溶液を撹拌しながら80℃で15時間重合反応を行って微粒子を得た。得られた微粒子を熱水及びアセトンで充分に洗浄した後、分級操作を行い、アセトンを揮発させて、実施例2及び比較例1に係るスペーサ粒子2を得た。得られたスペーサ粒子2の平均粒子径は4μmであり、CV値は2.8%であった。得られたスペーサ粒子2のゼータ電位は、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)を用いて測定した。結果を表1〜3に示した。
(Preparation of spacer particles 2)
In a separable flask, 15 parts by weight of divinylbenzene, 5 parts by weight of isooctyl acrylate, and 1.3 parts by weight of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were added and stirred and mixed uniformly. Next, 20 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution of polyacrylic acid having a weight average molecular weight of 250,000 was added, and after stirring and mixing uniformly, 140 parts by weight of ion-exchanged water was added. Next, under a nitrogen gas stream, this aqueous solution was stirred and polymerized at 80 ° C. for 15 hours to obtain fine particles. After the fine particles obtained were sufficiently washed with hot water and acetone, classification operation was performed, and acetone was volatilized to obtain spacer particles 2 according to Example 2 and Comparative Example 1. The average particle diameter of the obtained spacer particles 2 was 4 μm, and the CV value was 2.8%. The zeta potential of the obtained spacer particles 2 was measured using a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft). The results are shown in Tables 1-3.

(スペーサ粒子3の作製)
平均粒径が4.0μmの微粒子(商品名「ミクロパール EX004」、積水化学工業社製)5重量部をジメチルスルホキシド(DMSO)100重量部と、表1〜3に示す割合で各材料を混合した原料単量体100重量部との中に投入し、ソニケータによって均一に分散させた。その後、反応系に窒素ガスを導入し30℃にて2時間撹拌を続けた。次に、1Nの硝酸水溶液で調製した0.1mol/Lの硝酸第2セリウムアンモニウム溶液20重量部を添加し、40℃で5時間反応を続け、スペーサ粒子表面に厚さ30nmの被覆層を形成した。その後、1μmのメンブランフィルターを用いて、スペーサ粒子と反応液とを濾別した。このスペーサ粒子をエタノール及びアセトンにて充分洗浄し、真空乾燥器にて減圧乾燥を行い、実施例3〜19及び比較例2、3に係るスペーサ粒子3を得た。得られたスペーサ粒子3のゼータ電位は、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)を用いて測定した。結果を表1〜3に示した。
(Preparation of spacer particles 3)
5 parts by weight of fine particles having an average particle size of 4.0 μm (trade name “Micropearl EX004”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 100 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO) were mixed with each material in the ratios shown in Tables 1 to 3. The raw material monomer was introduced into 100 parts by weight of the raw material monomer and dispersed uniformly by a sonicator. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the reaction system and stirring was continued at 30 ° C. for 2 hours. Next, 20 parts by weight of a 0.1 mol / L ceric ammonium nitrate solution prepared with a 1N nitric acid aqueous solution is added, and the reaction is continued at 40 ° C. for 5 hours to form a coating layer having a thickness of 30 nm on the surface of the spacer particles. did. Thereafter, the spacer particles and the reaction solution were separated by filtration using a 1 μm membrane filter. The spacer particles were sufficiently washed with ethanol and acetone, and dried under reduced pressure in a vacuum drier to obtain spacer particles 3 according to Examples 3 to 19 and Comparative Examples 2 and 3. The zeta potential of the obtained spacer particles 3 was measured using a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft). The results are shown in Tables 1-3.

(スペーサ粒子分散液の調製)
得られたスペーサ粒子から所定の粒子濃度(1.5重量%)となる必要量を、エチレングリコールが75重量%、イソプロピルアルコールが15重量%、水が10重量%の混合溶媒にゆっくり添加し、ソニケータを使用しながら充分撹拌することによって分散させた。そこに、表1〜3に示すカチオン性化合物を表1〜3に示す濃度となるように添加した。その後、20μmの目開きのステンレスメッシュで濾過して凝集物を除去して、実施例1〜19及び比較例1〜3に係るスペーサ粒子分散液を得た。得られた分散液のpHは、pHメータ(「カニスターLABpHメータ F−21」、堀場製作所社製)にて測定した。結果を表1〜3に示した。
(Preparation of spacer particle dispersion)
The required amount that gives a predetermined particle concentration (1.5% by weight) from the obtained spacer particles is slowly added to a mixed solvent of 75% by weight of ethylene glycol, 15% by weight of isopropyl alcohol, and 10% by weight of water, Dispersion was performed by thorough stirring while using a sonicator. The cationic compound shown to Tables 1-3 was added there so that it might become the density | concentration shown to Tables 1-3. Then, the aggregate was removed by filtering with a 20 μm mesh stainless steel mesh to obtain spacer particle dispersions according to Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 3. The pH of the obtained dispersion was measured with a pH meter (“Canister LAB pH meter F-21”, manufactured by Horiba, Ltd.). The results are shown in Tables 1-3.

(カチオン性化合物の残留量評価)
実施例1〜19、比較例1〜3に係るスペーサ粒子分散液をインクジェットヘッドにより0.7mm厚のガラス基板上に吐出し(液適量40Ng/液滴、吐出ピッチ133μm×133μm)、その基板を180℃のホットプレート上で10分間乾燥させた。乾燥済のガラス基板をガスクロマトグラフィ用アンプルに入れて封じ、180℃で20分間養生して残留物を気化させた。気化した残留物をガスクロマトグラフィによって定量し、カチオン性化合物の残留量を定量した。
残留量(重量%)は、(ガスクロマトグラフィで定量されたカチオン化合物量)/(基板上に吐出されたインク中のカチオン化合物量)で計算した。結果を表1〜3に示した。
(Evaluation of residual amount of cationic compound)
The spacer particle dispersions according to Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 3 were discharged onto a 0.7 mm thick glass substrate by an inkjet head (appropriate amount of liquid 40 Ng / droplet, discharge pitch 133 μm × 133 μm), and the substrate was It was dried on a hot plate at 180 ° C. for 10 minutes. The dried glass substrate was sealed in a gas chromatography ampoule and cured at 180 ° C. for 20 minutes to vaporize the residue. The vaporized residue was quantified by gas chromatography, and the residual amount of the cationic compound was quantified.
The residual amount (% by weight) was calculated by (the amount of the cation compound determined by gas chromatography) / (the amount of the cation compound in the ink ejected on the substrate). The results are shown in Tables 1-3.

(循環評価)
実施例1〜19、比較例1〜3に係るスペーサ粒子分散液1kgを密閉できる容器に取り、直径10mmのSUS製フィルター(270/2000メッシュ、目開き10μm)を途中に設置したチューブによりポンプを用いて毎時150mLの流速により循環させた。そのまま3時間循環を行いフィルターの詰まり度合いを確認した。フィルターの詰まりの程度は下記の基準で判定した。結果を表1〜3に示した。
◎:3時間後フィルター上に固形物が全く無く、スペーサ粒子分散液の循環も停止しない。
○:3時間後フィルター上に目視で分かる程度の固形物が存在するが、スペーサ粒子分散液の循環は停止しない。
△:1時間以上、3時間未満の間でスペーサ粒子分散液の循環が停止する。
×:1時間未満でスペーサ粒子分散液の循環が停止する。
(Circulation evaluation)
Take 1 kg of spacer particle dispersions according to Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 3 in a container that can be sealed, and use a tube with a 10 mm diameter SUS filter (270/2000 mesh, opening 10 μm) installed in the middle. Used and circulated at a flow rate of 150 mL per hour. Circulation was continued for 3 hours, and the degree of clogging of the filter was confirmed. The degree of filter clogging was determined according to the following criteria. The results are shown in Tables 1-3.
A: After 3 hours, there is no solid matter on the filter, and the circulation of the spacer particle dispersion does not stop.
◯: Solid matter that can be visually recognized is present on the filter after 3 hours, but the circulation of the spacer particle dispersion does not stop.
Δ: Circulation of the spacer particle dispersion is stopped between 1 hour and less than 3 hours.
X: The circulation of the spacer particle dispersion stops in less than 1 hour.

Figure 0004420969
Figure 0004420969

Figure 0004420969
Figure 0004420969

Figure 0004420969
Figure 0004420969

(スペーサ粒子4の作製)
平均粒径が4.0μmの微粒子(商品名「ミクロパール EX004」、積水化学工業社製)5重量部を、ジメチルスルホキシド(DMSO)20重量部、ヒドロキシメチルメタクリレート20重量部、及び、ラウリルアクリレート8重量部中に投入し、ソニケータによって均一に分散させた。その後、反応系に窒素ガスを導入し、30℃で2時間攪拌を続けた。次いで、反応系に1Nの硝酸水溶液で調製した0.1mol/L の硝酸第2セリウムアンモニウム溶液10重量部を添加し、5時間反応を行った後、反応液を取り出し、3μmのメンブランフィルターを用いて粒子と反応液とを濾別した。次いで、得られた粒子をエタノール及びアセトンで充分に洗浄した後、真空乾燥器で減圧乾燥を行って、表面修飾されたスペーサ粒子4を得た。
得られたスペーサ粒子4のゼータ電位は、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)を用いて測定した。結果を表4に示した。
(Preparation of spacer particles 4)
5 parts by weight of fine particles having an average particle size of 4.0 μm (trade name “Micropearl EX004”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), 20 parts by weight of dimethyl sulfoxide (DMSO), 20 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate, and lauryl acrylate 8 It was put in a weight part and dispersed uniformly by a sonicator. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the reaction system, and stirring was continued at 30 ° C. for 2 hours. Next, 10 parts by weight of a 0.1 mol / L ceric ammonium nitrate solution prepared with a 1N aqueous nitric acid solution was added to the reaction system, and after 5 hours of reaction, the reaction solution was taken out and a 3 μm membrane filter was used. The particles and the reaction solution were separated by filtration. Next, the obtained particles were sufficiently washed with ethanol and acetone, and then dried under reduced pressure with a vacuum drier to obtain surface-modified spacer particles 4.
The zeta potential of the obtained spacer particles 4 was measured using a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft). The results are shown in Table 4.

(スペーサ粒子5の作製)
平均粒径が4.0μmの微粒子(商品名「ミクロパール EX004」、積水化学工業社製)5重量部を、DMSO20重量部、ヒドロキシメチルメタクリレート10重量部、メタクリル酸16重量部、及び、ラウリルアクリレート2重量部中に投入した。その後、スペーサ粒子4と同様にして、表面修飾されたスペーサ粒子5を作製した。
得られたスペーサ粒子5のゼータ電位は、レーザー・回転プリズム方式ゼータ電位測定装置(日本ルフト社製)を用いて測定した。結果を表4に示した。
(Preparation of spacer particles 5)
5 parts by weight of fine particles having an average particle size of 4.0 μm (trade name “Micropearl EX004” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), 20 parts by weight of DMSO, 10 parts by weight of hydroxymethyl methacrylate, 16 parts by weight of methacrylic acid, and lauryl acrylate Charged into 2 parts by weight. Thereafter, the surface-modified spacer particles 5 were produced in the same manner as the spacer particles 4.
The zeta potential of the obtained spacer particles 5 was measured using a laser / rotating prism type zeta potential measuring device (manufactured by Nippon Luft). The results are shown in Table 4.

(スペーサ粒子分散液1の調製)
エチレングリコール60重量部、イソプロピルアルコール20重量部及びイオン交換水20重量部を均一に攪拌混合して、分散溶剤を調製した。得られた分散溶剤の20℃における表面張力は、32.0mN/mであった。作製したスペーサ粒子4を0.5重量部、分散溶剤100重量部中にゆっくり添加し、ソニケータにより均一に攪拌混合して、スペーサ粒子分散液1を調製した。
(Preparation of spacer particle dispersion 1)
60 parts by weight of ethylene glycol, 20 parts by weight of isopropyl alcohol and 20 parts by weight of ion-exchanged water were uniformly stirred and mixed to prepare a dispersion solvent. The surface tension of the obtained dispersion solvent at 20 ° C. was 32.0 mN / m. The produced spacer particles 4 were slowly added to 0.5 part by weight and 100 parts by weight of the dispersion solvent, and stirred and mixed uniformly with a sonicator to prepare spacer particle dispersion 1.

(スペーサ粒子分散液2の調製)
スペーサ粒子4をスペーサ粒子5に代えた以外は、スペーサ粒子分散液1と同様にしてスペーサ粒子分散液2を調製した。
(Preparation of spacer particle dispersion 2)
A spacer particle dispersion 2 was prepared in the same manner as the spacer particle dispersion 1, except that the spacer particles 4 were replaced with the spacer particles 5.

(洗浄液1の調製)
イソプロパノール100重量部に、ジエチルアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液1を調製した。
なお、得られた洗浄液1の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は2.4mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は22.8mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 1)
Cleaning solution 1 was prepared by dissolving 0.5 part by weight of diethylamine in 100 parts by weight of isopropanol.
In addition, the viscosity at 20 ° C. of the obtained cleaning liquid 1 measured with a rotary viscometer is 2.4 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate is 22.8 mN / s. m.

(洗浄液2の調製)
イソプロパノール50重量部、水50重量部に、ジエタノールアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液2を調製した。
なお、得られた洗浄液2の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は3.9mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は26.8mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 2)
Cleaning solution 2 was prepared by dissolving 0.5 parts by weight of diethanolamine in 50 parts by weight of isopropanol and 50 parts by weight of water.
In addition, the viscosity at 20 ° C. of the obtained cleaning liquid 2 measured with a rotary viscometer is 3.9 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate is 26.8 mN / s. m.

(洗浄液3の調製)
エチレングリコール50重量部、イソプロパノール30重量部、水20重量部に、N−メチルイソプロピルアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液3を調製した。
なお、得られた洗浄液3の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は6.5mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は31.6mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 3)
Cleaning solution 3 was prepared by dissolving 0.5 parts by weight of N-methylisopropylamine in 50 parts by weight of ethylene glycol, 30 parts by weight of isopropanol, and 20 parts by weight of water.
The cleaning liquid 3 obtained had a viscosity at 20 ° C. measured with a rotary viscometer of 6.5 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate was 31.6 mN / s. m.

(洗浄液4の調製)
イソプロパノール100重量部に、トリエタノールアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液4を調製した。
なお、得られた洗浄液4の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は2.4mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は22.7mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 4)
Cleaning solution 4 was prepared by dissolving 0.5 parts by weight of triethanolamine in 100 parts by weight of isopropanol.
In addition, the viscosity at 20 ° C. of the obtained cleaning liquid 4 measured with a rotary viscometer is 2.4 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate is 22.7 mN / s. m.

(洗浄液5の調製)
イソプロパノール50重量部、水50重量部に、トリメチルアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液5を調製した。
なお、得られた洗浄液5の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は3.9mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は26.7mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 5)
Cleaning solution 5 was prepared by dissolving 0.5 parts by weight of trimethylamine in 50 parts by weight of isopropanol and 50 parts by weight of water.
In addition, the viscosity at 20 ° C. of the obtained cleaning liquid 5 measured with a rotary viscometer is 3.9 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate is 26.7 mN / s. m.

(洗浄液6の調製)
エチレングリコール50重量部、イソプロパノール30重量部、水20重量部に、トリエチルアミン0.5重量部を溶解させて洗浄液6を調製した。
なお、得られた洗浄液6の回転式粘度計で測定した20℃での粘度は6.5mPa・sであり、白金板を用いたウイルヘルミー法で測定した20℃での表面張力は31.5mN/mであった。
(Preparation of cleaning solution 6)
A cleaning solution 6 was prepared by dissolving 0.5 parts by weight of triethylamine in 50 parts by weight of ethylene glycol, 30 parts by weight of isopropanol, and 20 parts by weight of water.
In addition, the viscosity at 20 ° C. measured with a rotary viscometer of the obtained cleaning liquid 6 is 6.5 mPa · s, and the surface tension at 20 ° C. measured by the Wilhelmy method using a platinum plate is 31.5 mN / s. m.

(スペーサ粒子が付着したSUS板1の作製)
調製したスペーサ粒子分散液1(固形分5%)中に、インクジェット装置の接液部の代替としてSUS板(SUS304)を1時間浸漬させ、表面にスペーサ粒子4が付着したSUS板1を作製した。
(Preparation of SUS plate 1 with spacer particles attached)
In the prepared spacer particle dispersion 1 (5% solids), a SUS plate (SUS304) was immersed for 1 hour as an alternative to the wetted part of the ink jet device, and the SUS plate 1 with the spacer particles 4 attached to the surface was produced. .

(スペーサ粒子が付着したSUS板2の作製)
調製したスペーサ粒子分散液2(固形分5%)中に、インクジェット装置の接液部の代替としてSUS板(SUS304)を1時間浸漬させ、表面にスペーサ粒子5が付着したSUS板2を作製した。
(Preparation of SUS plate 2 with spacer particles attached)
In the prepared spacer particle dispersion 2 (solid content 5%), a SUS plate (SUS304) was immersed for 1 hour as an alternative to the liquid contact part of the ink jet device, and the SUS plate 2 with the spacer particles 5 attached to the surface was produced. .

(参考例1)
200mLのビーカーに洗浄液1を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 1)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 1, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例2)
200mLのビーカーに洗浄液1を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 2)
A 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 1, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例3)
200mLのビーカーに洗浄液2を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 3)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 2, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例4)
200mLのビーカーに洗浄液2を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 4)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 2, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例5)
200mLのビーカーに洗浄液3を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 5)
A 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 3, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例6)
200mLのビーカーに洗浄液3を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 6)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 3, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例7)
200mLのビーカーに洗浄液4を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 7)
A 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 4, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例8)
200mLのビーカーに洗浄液4を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 8)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 4, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例9)
200mLのビーカーに洗浄液5を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 9)
A 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 5, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例10)
200mLのビーカーに洗浄液5を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 10)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 5, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例11)
200mLのビーカーに洗浄液6を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 11)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 6, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例12)
200mLのビーカーに洗浄液6を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 12)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning liquid 6, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例13)
洗浄液7としてイソプロパノールのみからなるものを用意した。
200mLのビーカーに洗浄液7を満たして、SUS板1を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 13)
A cleaning liquid 7 comprising only isopropanol was prepared.
The 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 7, the SUS plate 1 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(参考例14)
200mLのビーカーに洗浄液7を満たして、SUS板2を浸し、軽く揺すり洗浄を行った。
(Reference Example 14)
The 200 mL beaker was filled with the cleaning solution 7, the SUS plate 2 was immersed, and lightly shaken for cleaning.

(洗浄評価)
参考例1〜14でそれぞれ行った洗浄後のSUS板の表面を光学顕微鏡にて観察し、以下の基準にて評価を行った。結果を表4に示した。
◎:SUS板上にスペーサ粒子の付着が一視野内(400倍)に0〜10個未満
○:SUS板上にスペーサ粒子の付着が一視野内(400倍)に10〜数十個未満
△:SUS板上にスペーサ粒子の付着が一視野内(400倍)に数十〜百数十個未満
△×:SUS板上にスペーサ粒子の付着が一視野内(400倍)に百数十個以上
×:SUS板上にスペーサ粒子の付着が一視野内(400倍)に一面
(Cleaning evaluation)
The surface of the SUS board after washing performed in Reference Examples 1 to 14 was observed with an optical microscope and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 4.
◎: Spacer particle adhesion on the SUS plate is less than 0 to 10 in one field of view (400 times) ○: Spacer particle adhesion on the SUS plate is less than 10 to several tens in one field of view (400 times) Δ : Adhesion of spacer particles on SUS plate within several tens to less than hundreds within one field of view (400 times) Δ ×: Adhesion of spacer particles on SUS plate within one field of view (400 times) ×: Spacer particles adhere to the SUS plate in one field of view (400 times)

Figure 0004420969
Figure 0004420969

本発明によれば、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液を提供することができる。また、該スペーサ粒子分散液を用いてなる液晶表示装置の製造方法、及び、液晶表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the spacer particle dispersion liquid which can arrange | position the spacer particle | grain on the board | substrate by an inkjet apparatus stably continuously, and can obtain the liquid crystal display device excellent in display quality is provided. it can. Moreover, the manufacturing method of the liquid crystal display device using this spacer particle dispersion liquid, and a liquid crystal display device can be provided.

Claims (5)

インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上の任意の位置に配置するためのスペーサ粒子分散液であって、
表面にマイナスの電荷を有するスペーサ粒子、カチオン性化合物、及び、溶媒を含有する
ことを特徴とするスペーサ粒子分散液。
A spacer particle dispersion for disposing spacer particles at an arbitrary position on a substrate using an inkjet device,
A spacer particle dispersion, comprising spacer particles having a negative charge on the surface, a cationic compound, and a solvent.
カチオン性化合物は、アミン誘導体であることを特徴とする請求項1記載のスペーサ粒子分散液。The spacer particle dispersion according to claim 1, wherein the cationic compound is an amine derivative. 溶媒は、水、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及び、グリセリンからなる群より選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1又は2記載のスペーサ粒子分散液。The spacer particle dispersion according to claim 1 or 2, wherein the solvent contains at least one selected from the group consisting of water, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin. pHが7以上であり、カチオン性化合物の濃度が0.1mmol/kg〜10mol/kgであることを特徴とする請求項1、2又は3記載のスペーサ粒子分散液。The spacer particle dispersion according to claim 1, wherein the pH is 7 or more and the concentration of the cationic compound is 0.1 mmol / kg to 10 mol / kg. 画素領域と非画素領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、
請求項1、2、3又は4記載のスペーサ粒子分散液を、インクジェット装置を用いて第1の基板又は第2の基板の非画素領域に対応する特定の位置に配置する工程、前記スペーサ粒子分散液を乾燥させる工程、及び、前記第1の基板と第2の基板とを、液晶及びスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device having a pixel region and a non-pixel region,
Disposing the spacer particle dispersion according to claim 1, 2, 3, or 4 at a specific position corresponding to a non-pixel region of the first substrate or the second substrate using an ink jet device, the spacer particle dispersion A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: a step of drying a liquid; and a step of superposing the first substrate and the second substrate so as to face each other with liquid crystal and spacer particles interposed therebetween.
JP2008532523A 2007-07-09 2008-07-07 Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display Expired - Fee Related JP4420969B2 (en)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007180202 2007-07-09
JP2007180203 2007-07-09
JP2007180202 2007-07-09
JP2007180203 2007-07-09
JP2007280686 2007-10-29
JP2007280686 2007-10-29
PCT/JP2008/062270 WO2009008401A1 (en) 2007-07-09 2008-07-07 Spacer particle dispersion solution, method for production of liquid crystal display device, and liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP4420969B2 true JP4420969B2 (en) 2010-02-24
JPWO2009008401A1 JPWO2009008401A1 (en) 2010-09-09

Family

ID=40228571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008532523A Expired - Fee Related JP4420969B2 (en) 2007-07-09 2008-07-07 Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4420969B2 (en)
KR (1) KR100963456B1 (en)
TW (1) TW200909956A (en)
WO (1) WO2009008401A1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276988A (en) * 2009-05-29 2010-12-09 Ulvac Japan Ltd Inkjet head regenerating method and inkjet head regenerating device
WO2015069669A1 (en) 2013-11-05 2015-05-14 Elena Molokanova Nanostructure conjugates for modulation of location-specific subtypes of receptors and ion channels
US11514137B1 (en) 2016-03-30 2022-11-29 Mckesson Corporation Alternative therapy identification system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003302643A (en) 2002-04-10 2003-10-24 Nippon Shokubai Co Ltd Spacer particle composition for wet spraying
JP4796751B2 (en) 2004-05-07 2011-10-19 積水化学工業株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display device
JP4504741B2 (en) 2004-04-09 2010-07-14 積水化学工業株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2009008401A1 (en) 2010-09-09
KR20100018049A (en) 2010-02-16
KR100963456B1 (en) 2010-06-17
TW200909956A (en) 2009-03-01
WO2009008401A1 (en) 2009-01-15
TWI330745B (en) 2010-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100363823C (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
US20090033859A1 (en) Liquid Crystal Spacer, Spacer Diffusion Liquid, Liquid Crystal Display Device Manufacturing Method, and Liquid Crystal Display Device
JP3924587B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device and spacer particle dispersion
JP4420969B2 (en) Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display
JP2003295198A (en) Spacer dispersion for manufacturing liquid crystal display
JP4796751B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
JP4504741B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
CN101103306A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device, spacer dispersion liquid, and liquid crystal display device
JP2007047773A (en) Liquid crystal display device manufacturing method, liquid crystal display device, and spacer particle dispersion
JP4904236B2 (en) Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display
JP5033369B2 (en) Spacer particle dispersion
JP4733763B2 (en) Spacer particle dispersion
JP2004021199A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device, substrate for liquid crystal display device, and method for manufacturing substrate for liquid crystal display device
JP2006171343A (en) Spacer dispersion for manufacturing liquid crystal display device and liquid crystal display device
JP2007304580A (en) Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display
JP2008134627A (en) Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display
JP2009229925A (en) Spacer particle dispersion, method for manufacturing liquid crystal display device, and liquid crystal display device
JP2009175547A (en) Spacer particle dispersion and liquid crystal display device
JP2010266874A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
JP2006243719A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device, spacer particle dispersion and liquid crystal display device
JP2010078786A (en) Method of manufacturing spacer particle, spacer particle dispersion liquid, and liquid crystal display device
JP2006209105A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device, spacer particle dispersion and liquid crystal display device
JP2008197474A (en) Spacer particle dispersion, liquid crystal display manufacturing method, and liquid crystal display
JP2008122704A (en) Liquid crystal spacer particle dispersion, liquid crystal display device manufacturing method, and liquid crystal display device
JP2010078689A (en) Spacer particle dispersion liquid, and liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091104

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091201

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131211

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees