JP4423732B2 - EL element driving apparatus and EL element aging method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、EL素子を発光させる際にその一対の電極間に正負のフィールド毎に異なる極性の電圧を印加するようにしたEL素子駆動装置及びエージング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば特許第2914234号に記載されたEL表示装置においては、マトリクス型に配置されたEL素子の走査電極に対し正負のフィールド毎に異なる極性の走査電圧を印加する構成としている。
具体的には、上記EL表示装置は、正フィールド期間において、電圧供給回路から走査側ドライバICに対し正極性の走査電圧及び接地レベルより高いオフセット電圧が供給されるようになっており、走査側ドライバICは、EL素子の非点灯期間に走査電極に対しオフセット電圧を印加すると共に、EL素子の点灯タイミングに対応した期間に走査電極に対し正極性の走査電圧を印加する。また、負フィールド期間においては、電圧供給回路から走査側ドライバICに対し、上記正極性の走査電圧及びオフセット電圧の差電圧を極性反転させた状態の負極性の走査電圧及び接地電圧が供給されるようになっており、走査側ドライバICは、EL素子の非点灯期間に走査電極に対し接地電圧を印加すると共に、EL素子の点灯タイミングに対応した期間に走査電極に対し上記負極性の走査電圧を印加する。
【0003】
一方、データ側ドライバICには、電圧供給回路から接地電圧及び変調電圧(オフセット電圧と同じ電圧レベル)が供給されるようになっており、そのデータ側ドライバICは、正フィールド期間において、発光状態とするEL素子のデータ電極に対し接地電圧を印加し、負フィールド期間において当該データ電極に対し変調電圧を印加する。
これにより、正負の各フィールドにおいて走査側のドライバICに印加される電圧が走査電圧より所定のオフセット電圧分だけ低くなるものであり、以て当該ドライバICに必要な耐圧を低くできる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図13には、EL素子の基本的な断面構造の一例が模式的に示され、また、図14には、この構造のEL素子を前記従来構成の駆動装置により駆動する場合の印加電圧波形の一例が示されている。図13において、EL素子1は、ガラス基板2上に透明電極3、下部絶縁層4、発光層5、上部絶縁層6、透明電極7をこの順に積層して構成されている。この場合、透明電極3及び7はITO膜、下部絶縁層4はTa・Sn・O+N(TaO5 :SnO2 =9:1)膜、発光層5はMnドープZnS膜、上部絶縁層6はATO膜(Al2 O3 とTiO2 の多層積層構造膜)により形成されており、EL素子1の各絶縁層4及び6は非対称構造となっている。このような構造のEL素子1を単純マトリクス型に配置することによりEL表示パネルが構成されるものであり、ここでは、例えば透明電極3を走査電極、透明電極7をデータ電極として使用するものとする。
【0005】
図14の印加電圧波形例において、正フィールド期間には、走査電極側の透明電極7に対し、オフセット電圧(45V)と正極性の走査電圧(+245V)を印加すると共に、発光させようとするEL素子1のデータ電極側の透明電極3に対し接地レベルのデータ電圧(0V)を印加するものであり、これにより当該EL素子1は、電極7及び3間にしきい値レベル以上の正極性電圧(+245V)が印加された期間に発光する。また、負フィールド期間には、透明電極7に対し、接地電圧と負極性の走査電圧(−200V)を印加すると共に、発光させようとするEL素子1の透明電極3に対しオフセット電圧(45V)に相当した正極性のデータ電圧(+45V)を印加するものであり、これにより当該EL素子1は、電極7及び3間にしきい値レベル以上の負極性電圧(−245V)が印加された期間に発光する。尚、図14の例では、正及び負フィールド期間はそれぞれ1m秒、しきい値レベル以上の正及び負極性電圧の印加期間はそれぞれ30μ秒である。
【0006】
図15には、上記のような非対称構造のEL素子1に対し図14に示すような波形の電圧、つまり正及び負の各フィールドにおいて対称な波形となる電圧を連続的に印加した場合における輝度/電圧特性(L−V特性)を所定時間経過毎に測定した結果が示されている。
【0007】
この図15から明らかなように、電圧印加開始後に20時間が経過するまでの間に、L−V曲線が一旦プラス側(高電圧側)へシフトした後に、さらに時間が経過するのに応じてマイナス側(低電圧側)へ漸次シフトしていき、256時間が経過した時点ではL−V曲線が大きくダレた状態で安定する。このようなL−V特性のダレ現象は、図13に示すEL素子1のように上部及び下部絶縁層4及び6の材料や構造が大きく異なった場合(つまり、互いに電気的特性が異なった場合)、その界面に電荷がトラップされる準位の数が異なり、発光層5の内部の電界が非対称になることに起因するものと考えられる。
【0008】
このため、従来構成のEL素子駆動装置では、上記のようなダレの発生に伴い発光しきい値電圧(輝度が1Cd/m2 となるときの印加電圧)が初期値から大きく変動してネガティブシフトを引き起こすため、非点灯モードにおいてEL素子1が発光状態を呈してしまうという所謂「焼付き」現象を発生するという問題点が出てくる。
【0009】
また、EL素子1のエージングを行う場合、従来では、図15から理解できるように、L−V特性が安定した状態になるまできわめて長い時間を要するため、そのエージング処理を十分に行うことが困難になるという問題点もあった。
【0010】
本発明は上記のような事情に鑑みてなされたものであり、第1の目的は、EL素子の輝度/電圧特性がダレることを抑制できて、そのEL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになるEL素子駆動装置を提供することにあり、第2の目的は、EL素子のエージング処理を短時間で十分に行い得るようになるEL素子のエージング方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記第1の目的を達成するために請求項1に記載した手段を採用できる。駆動対象のEL素子の第1絶縁層及び第2絶縁層の電気的特性が互いに異なっている場合(その材料や構造が異なっている場合)には、その界面に電荷がトラップされる準位の数が異なるようになってEL素子の発光層内部の電界が非対称になり、これに起因して当該EL素子の輝度/電圧特性(L−V特性)のダレ現象が発生することが考えられる。この場合、請求項1記載の手段によれば、駆動回路が、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加する電圧の波形を正フィールド期間と負フィールド期間とで異ならせる制御を行うようになるから、第1及び第2の絶縁層の界面に電荷がトラップされる準位の数が異なることに起因して発光層の内部電界が非対称になる現象、ひいてはこの現象によりEL素子の輝度/電圧特性がダレる事態を抑制することが可能になる。この結果、発光層の内部電界が非対称になることに起因して発光しきい値電圧が初期値から大きく変動することがなくなり、EL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0012】
請求項2記載の手段によれば、駆動回路が、EL素子に対しこれが発光状態となるしきい値レベル以上の電圧を印加する期間を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった状態となるように制御するから、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項1記載の手段と同様に、発光層の内部電界が非対称になる現象を抑制することが可能になって、EL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0013】
請求項3記載の手段によれば、駆動回路が、EL素子に印加する電圧のピーク値を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった状態となるように制御するから、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項1記載の手段と同様に、発光層の内部電界が非対称になる現象を抑制することが可能になって、EL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0014】
請求項4記載の手段によれば、駆動回路が、正フィールド期間において印加する第1のオフセット電圧の絶対値レベルと、負フィールド期間に印加する第2のオフセット電圧の絶対値レベルとを互いに異ならせる制御を行うから、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項1記載の手段と同様に、発光層の内部電界が非対称になる現象を抑制することが可能になって、EL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0015】
請求項5記載の手段によれば、駆動回路が、EL素子に印加する電圧波形の積分値を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異ならせる制御(各電圧波形により囲まれた領域の面積を異ならせる制御)を行うから、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項1記載の手段と同様に、発光層の内部電界が非対称になる現象を抑制することが可能になって、EL素子の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0016】
前記第2の目的を達成するために請求項6に記載した方法を採用できる。駆動対象のEL素子の第1絶縁層及び第2絶縁層の電気的特性が互いに異なっている場合(その材料や構造が異なっている場合)には、その界面に電荷がトラップされる準位の数が異なるようになってEL素子の発光層内部の電界が非対称になることに起因して、当該EL素子の輝度/電圧特性が劣化すると考えられる。この場合、請求項6記載の方法によれば、EL素子の第1電極及び第2電極間に、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった電圧波形となる駆動電圧を所定時間だけ印加するというエージング処理が行われるから、第1及び第2の絶縁層の界面に電荷がトラップされる準位の数が異なることに起因して発光層の内部電界が非対称になる現象、ひいてはこの現象に伴うEL素子の輝度/電圧特性の劣化を短時間で促進させることが可能になる。この結果、EL素子の輝度/電圧特性が安定した状態になるまでの所要時間を短縮できるから、そのエージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0017】
請求項7記載の方法によれば、EL素子に対しこれが発光状態となるしきい値レベル以上の電圧を印加する期間を、正及び負の各フィールド期間において互いに異ならせるというエージング処理が行われるから、そのエージング処理時には、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項6記載の方法と同様に、EL素子の輝度/電圧特性の劣化を短時間で促進させることが可能になって、エージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0018】
請求項8記載の方法によれば、EL素子に印加する電圧のピーク値を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異ならせることによりエージング処理が行われるから、そのエージング処理時には、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項6記載の方法と同様に、EL素子の輝度/電圧特性の劣化を短時間で促進させることが可能になって、エージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0019】
請求項9記載の方法によれば、正フィールド期間において印加する第1のオフセット電圧の絶対値レベルと、負フィールド期間に印加する第2のオフセット電圧の絶対値レベルとを互いに異ならせることによりエージング処理が行われるから、そのエージング処理時には、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項6記載の方法と同様に、EL素子の輝度/電圧特性の劣化を短時間で促進させることが可能になって、エージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0020】
請求項10記載の方法によれば、EL素子に印加する電圧波形の積分値を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異ならせる(各電圧波形により囲まれた領域の面積を異ならせる)ことによりエージング処理が行われるから、そのエージング処理時には、EL素子の第1電極及び第2電極間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記請求項6記載の方法と同様に、EL素子の輝度/電圧特性の劣化を短時間で促進させることが可能になって、エージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0021】
【発明の実施の形態】
(第1の実施の形態)
以下、本発明をEL素子駆動装置に適用した第1実施例について図1ないし図4を参照しながら説明する。
図2には、EL素子の基本的な断面構造の一例が模式的に示されている。この図2において、EL素子11は、ガラス基板12上に透明電極13(第1電極に相当)、下部絶縁層14(第1絶縁層に相当)、発光層15、上部絶縁層16(第2絶縁層に相当)、透明電極17(第2電極に相当)をこの順に積層して構成されている。この場合、透明電極13及び17はITO膜のスパッタリング、下部絶縁層14はTa・Sn・O+N(TaO5 :SnO2 =9:1)膜のスパッタリングにより成膜し、発光層15はMnドープZnS膜の電子ビーム蒸着装置を使用した成膜により形成されている。また、上部絶縁層16は、ATO膜(Al2 O3 とTiO2 の多層積層構造膜)により形成されるものであり、そのステップカバレージを高めるために原子層エピタキシャル成長装置(ALE装置)を使用して成膜される。要するに、EL素子11の各絶縁層14及び16は非対称構造となっている。本実施例では、このような構造のEL素子11を用いたセグメント表示型EL表示パネルに適用した例で説明するが、EL素子11を単純マトリクス配置したマトリクス型EL表示パネルなどにも応用できることは勿論である。
【0022】
図1には、EL素子11を駆動するための回路構成が機能ブロックの組合わせにより概略的に示されている。尚、この図1の回路構成は本発明の目的を達成するためにモデル的に示したものであり、必要に応じて他の回路構成を採用することができる。
【0023】
図1において、電源供給回路18は、EL素子11の透明電極13に接続された第1の駆動回路19に対して、正極性の駆動電圧Vr(例えば200V)、負極性の駆動電圧−Vr′(例えば−190V)、正極性の第1のオフセット電圧Vm(例えば55V)、負極性の第2のオフセット電圧−Vn(例えば−45V)を与え、EL素子11の透明電極17に接続された第2の駆動回路20に対して、前記第1のオフセット電圧Vm、第2のオフセット電圧−Vn、接地電圧(=0)を与える構成となっている。
【0024】
EL素子11にあっては、正及び負の各フィールド期間毎に前記透明電極13及び17間に異なる極性の電圧が交互に印加されるものであり、これに応じて、発光層15中のキャリア(電子或いは正孔)が加速されてその発光中心を衝突励起し、このように励起された発光中心が基底状態に戻るときに放出されるエネルギの一部が発光現象を引き起こす。
【0025】
この場合、第1の駆動回路19は、正フィールド期間において、EL素子11の非点灯期間に透明電極13に対し第1のオフセット電圧Vmを印加すると共に、EL素子11の点灯タイミングに対応した期間に透明電極13に対し正極性の駆動電圧Vrを印加する。また、負フィールド期間においては、EL素子11の非点灯期間に透明電極13に対し第2のオフセット電圧−Vnを印加すると共に、EL素子11の点灯タイミングに対応した期間に透明電極13に対し負極性の駆動電圧−Vr′を印加する。
【0026】
一方、第2の駆動回路20は、正フィールド期間において、発光状態とするEL素子11の透明電極17に対し接地電圧を印加すると共に、その発光タイミングにおいて透明電極17に対し第2のオフセット電圧−Vnを印加する。また、負フィールド期間において、発光状態とするEL素子11の透明電極17に対し接地電圧を印加すると共に、その発光タイミングにおいて透明電極17に対し第1のオフセット電圧Vmを印加する。
【0027】
この結果、図3に示すように、発光状態とされるEL素子11の透明電極13及び17間には、正フィールド期間において第1のオフセット電圧Vm(55V)が印加されると共に、発光タイミングにおいて正極性の駆動電圧Vr(200V)と第2のオフセット電圧−Vn(−45V)との差電圧に相当した正極性の電圧(245V)が印加される。また、当該透明電極13及び17間には、負フィールド期間において第2のオフセット電圧−Vn(−45V)が印加されると共に、発光タイミングにおいて負極性の駆動電圧−Vr′(−190V)と第1のオフセット電圧Vm(55V)との差電圧に相当した負極性の電圧(−245V)が印加される。尚、図3の例では、正及び負フィールド期間はそれぞれ1m秒、しきい値レベル以上の正及び負極性電圧(245V及び−245V)の印加期間はそれぞれ30μ秒である。
【0028】
図4には、EL素子11の透明電極13及び17間に図3に示すような波形の電圧、つまり正及び負の各フィールド期間において異なる波形(正側のオフセット電圧が負側のオフセット電圧より大きい非対称な波形)となる電圧を連続的に印加した場合における輝度/電圧特性(L−V特性)を所定時間経過毎に測定した結果が示されている。
【0029】
この図4から明らかなように、本実施例のように、正及び負の各フィールド期間における印加電圧波形が異なる場合、具体的には正極性の第1のオフセット電圧Vmが負極性の第2のオフセット電圧−Vnより大きい場合、L−V曲線は、従来構成の場合(図15参照)と同様に、電圧印加開始後に一旦プラス側(高電圧側)へ最大量シフトし(31時間経過時点)、この後に、さらに時間が経過するのに応じてマイナス側(低電圧側)へシフトする特性を示すようになるが207時間が経過した時点で安定するようになる。本実施例では、特性が安定した状態でのL−V曲線のダレが、従来構成に比べて大幅に低減していることが分かる。
【0030】
この場合、L−V曲線のダレ現象は、EL素子11の上部絶縁層14及び下部絶縁層16の材料や構造が大きく異なった場合(つまり、互いに電気的特性が異なった場合)に、その界面に電荷がトラップされる準位の数が異なるようになって発光層15の内部の電界が非対称になることに起因するものと考えられるが、本実施例のように、正及び負の各フィールド期間における印加電圧波形を異ならせた場合、具体的には、第1のオフセット電圧Vm(ATO膜より成る上部絶縁層16に加わる電圧)を、第2のオフセット電圧−Vn(Ta・Sn・O+N膜より成る下部絶縁層14に加わる電圧)より大きくした場合には、下部絶縁層14及び上部絶縁層16の界面に電荷がトラップされる準位の数が異なることに起因して発光層15の内部電界が非対称になる現象が抑制されて、L−V曲線のダレが大幅に低減したと考えられる。
【0031】
従って、本実施例によるEL素子駆動装置では、L−V特性のダレに伴い発光しきい値電圧(輝度が1Cd/m2 となるときの印加電圧)が初期値から大きく変動してネガティブシフトを引き起こす可能性が低くなるため、非点灯モードにおいてEL素子11が発光状態を呈してしまうという所謂「焼付き」現象の発生を効果的に抑制できるようになる。
【0032】
(第2の実施の形態)
図5及び図6には本発明の第2実施例が示されており、以下これについて前記第1実施例と異なる部分のみ説明する。
即ち、本実施例では図5に示すように、EL素子11の一方の透明電極13を接地し、他方の透明電極17に対し駆動回路21を通じて正及び負の駆動電圧を印加する構成としている。駆動回路21には、電源供給回路22から正極性の駆動電圧Vr、負極性の駆動電圧−Vrが与えられる。尚、駆動電圧Vr及び−Vrは、EL素子11が発光状態となるしきい値レベル以上の電圧に設定されるものであり、それぞれ同一レベル(例えば245V及び−245V)に設定される。
【0033】
駆動回路21は、図6に示すように、正フィールド期間におけるEL素子11の点灯期間に透明電極13に対し正極性の駆動電圧Vrを予め設定された時間w1だけ印加し、負フィールド期間におけるEL素子11の点灯期間に透明電極13に対し負極性の駆動電圧−Vrを前記時間w1より短く設定された時間w2だけ印加する。
【0034】
要するに、駆動回路21は、EL素子11を駆動する場合、つまり正及び負の各フィールド期間毎に透明電極13及び17間に異なる極性の電圧を印加して発光層15を発光させる場合に、各フィールドでの駆動電圧Vr及び−Vrの印加時間を異ならせる(正フィールド期間での印加時間を負フィールド期間の印加時間より長くする)ことにより、正フィールド期間と負フィールド期間とで印加電圧波形が異なるように制御するものである。従って、このような構成とした本実施例によっても、前記第1実施例と同様の作用・効果を奏することができる。
【0035】
(第3の実施の形態)
図7及び図8には、上記第2実施例に変更を加えた本発明の第3実施例が示されており、以下これについて当該第2実施例と異なる部分のみ説明する。
即ち、本実施例では図7に示すように、電源供給回路22から駆動回路21に対して、それぞれEL素子11が発光状態となるしきい値レベル以上に設定された正極性の駆動電圧Vr1、負極性の駆動電圧−Vr2が与えられる。この場合、各駆動電圧Vr1及び−Vr2は、互いに異なるレベル(例えば、Vr1=255V、−Vr2=−235V)に設定されるものである。
【0036】
駆動回路21は、正フィールド期間におけるEL素子11の点灯期間に透明電極13に対し正極性の駆動電圧Vr1を予め設定された時間wだけ印加し、負フィールド期間におけるEL素子11の点灯期間に透明電極13に対し負極性の駆動電圧−Vr2を前記時間wだけ印加する。
【0037】
要するに、駆動回路21は、EL素子11を駆動する場合、つまり正及び負の各フィールド期間毎に透明電極13及び17間に異なる極性の電圧を印加して発光層15を発光させる場合に、各フィールドでの印加電圧Vr1及び−Vr2のピーク値を異ならせる(印加電圧Vr1のピーク値を印加電圧−Vr2のピーク値より高くする)ことにより、正フィールド期間と負フィールド期間とで印加電圧波形が異なるように制御するものである。従って、このような構成とした本実施例によっても、前記第1実施例と同様の作用・効果を奏することができる。
【0038】
(第4の実施の形態)
図9ないし図12には本発明をEL素子のエージング方法に適用した第4実施例が示されており、以下これについて前記第1実施例の構成を援用しながら説明する。
即ち、図9には、EL素子11の透明電極13及び17間に、第1実施例における第1の駆動回路19及び第2の駆動回路20(図1参照)を利用して印加した電圧波形の一例が示されている。この電圧波形は、第1実施例における印加電圧波形(図3参照)が、正側のオフセット電圧を負側のオフセット電圧より大きくした非対称波形となっているのに対し、負側のオフセット電圧を正側のオフセット電圧より大きくした非対称波形となっている。
【0039】
この場合、第1の駆動回路19には、電源供給回路18(図1参照)から、正極性の駆動電圧Vr(例えば185V)、負極性の駆動電圧−Vr′(例えば−225V)、正極性の第1のオフセット電圧Vm(例えば20V)、負極性の第2のオフセット電圧−Vn(例えば−60V)が与えられる構成となっており、また、第2の駆動回路20には、電源供給回路18から、前記第1のオフセット電圧Vm、第2のオフセット電圧−Vn、接地電圧が与えられる構成となっている。
【0040】
そして、発光状態とされるEL素子11の透明電極13及び17間には、正フィールド期間において第1のオフセット電圧Vm(20V)が印加されると共に、正極性の駆動電圧Vr(185V)と第2のオフセット電圧−Vn(−60V)との差電圧に相当した正極性の電圧(245V)が印加される。また、当該透明電極13及び17間には、負フィールド期間において第2のオフセット電圧−Vn(−60V)が印加されると共に、負極性の駆動電圧−Vr′(−225V)と第1のオフセット電圧Vm(20V)との差電圧に相当した負極性の電圧(−245V)が印加される。
【0041】
図10には、EL素子11の透明電極13及び17間に図9に示すような波形の電圧、つまり正及び負の各フィールド期間において異なる波形(負側のオフセット電圧が正側のオフセット電圧より大きい非対称な波形)となる電圧を連続的に印加した場合における輝度/電圧特性(L−V特性)を所定時間経過毎に測定した結果が示されている。
【0042】
この図10から明らかなように、正及び負の各フィールド期間における印加電圧波形が異なる場合、具体的には負極性の第2のオフセット電圧−Vn(Ta・Sn・O+N膜より成る下部絶縁層14に加わる電圧)が正極性の第1のオフセット電圧Vm(ATO膜より成る上部絶縁層16に加わる電圧)より大きい場合、L−V曲線は、短時間でマイナス側(低電圧側)へ大きくシフトしていき、48時間程度経過した時点で安定した状態になるという特性を示すようになる。このような特性は、EL素子11において、電気的特性が互いに異なる下部絶縁層14及び上部絶縁層16の界面に電荷がトラップされる準位の数が異なることに起因して発光層15の内部電界が非対称になる現象が促進され、これによりEL素子11の輝度/電圧特性の劣化が早期に進行するために起きると考えられる。従って、上記のような特性を利用すれば、EL素子11のエージング処理を短時間で行い得る。
【0043】
このことを実証するために、EL素子11の透明電極13及び17間に、図11に示すような非対称波形の駆動電圧(正負のピーク値がそれぞれ245V及び−245V、第1のオフセット電圧Vm=0V、第2のオフセット電圧−Vn=−50V)を例えば4時間だけ印加してエージング処理を行った後に、当該透明電極13及び17間に、対称波形の駆動電圧(図14参照)を連続的に印加した場合における輝度/電圧特性(L−V特性)を所定時間経過毎に測定した。
【0044】
この図11から明らかなように、72時間が経過した時点以降においては、輝度/電圧特性のシフトがきわめて小さくなっており、エージング処理の効果が現れていることが分かる。要するに、EL素子11の透明電極13及び17間に、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった電圧波形となる駆動電圧を所定時間だけ印加するというエージング処理を短時間行うだけでEL素子11の輝度/電圧特性が安定した状態になるまでの所要時間を短縮できるものである。つまり、EL素子11のエージング処理を短時間で十分に行い得るようになる。
【0045】
(その他の実施の形態)
本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、次のような変形または拡張が可能である。
第1ないし第3実施例におけるEL素子駆動装置において、EL素子11に印加する電圧波形の積分値(電圧波形により囲まれた領域の面積)を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった状態(正フィールド期間における積分値が負フィールド期間における積分値より大きくなる状態)となるように制御する駆動回路を設ける構成としても良い。この構成によれば、駆動回路が、EL素子11に印加する電圧波形の積分値を、正フィールド期間側が負フィールド期間側より大きくなる制御を行うから、EL素子11の透明電極13及び17間に印加される電圧の波形が正フィールド期間と負フィールド期間とで異なることになる。このため、前記第1ないし第3実施例と同様に、発光層15の内部電界が非対称になる現象を抑制することが可能になって、EL素子11の光学的特性を長期間にわたって良好な状態に維持できるようになる。
【0046】
第4実施例におけるEL素子11のエージング方法では、第1実施例に記載した駆動回路構成を利用するようにしたが、第2及び第3実施例に記載した駆動回路構成を利用しても良い。
具体的には、第2実施例に記載した駆動回路構成を利用する場合、エージング処理時において、正及び負の各フィールド期間毎にEL素子11の透明電極13及び17間に異なる極性の電圧を印加する際に、各フィールドでの駆動電圧Vr及び−Vrの印加時間を異ならせる(負フィールド期間での印加時間を正フィールド期間での印加時間より長くする)ことにより、EL素子11の輝度/電圧特性の劣化が早期に進行させる。
【0047】
第3実施例に記載した駆動回路構成を利用する場合、エージング処理時において、正及び負の各フィールド期間毎にEL素子11の透明電極13及び17間に異なる極性の電圧を印加する際に、各フィールドでの印加電圧Vr1及び−Vr2のピーク値を異ならせる(負フィールド期間での印加電圧−Vr2のピーク値を正フィールド期間での印加電圧Vr1のピーク値より高くする)ことにより、EL素子11の輝度/電圧特性の劣化が早期に進行させる。
【0048】
また、エージング処理時において、EL素子11に印加する電圧波形の積分値(電圧波形により囲まれた領域の面積)を、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった状態(負フィールド期間における積分値が正フィールド期間における積分値より大きくなる状態)とすることにより、EL素子11の輝度/電圧特性の劣化が早期に進行させる方法も採用できる。
【0049】
下部絶縁層14をTa・Sn・O+N膜で形成した例で説明したが、酸化膜層(例えばシリコン酸化膜)と窒化膜層(例えばシリコン窒化膜)とを積層して形成するなど、他の構造としても良い。上部絶縁層16をATO膜(Al2 O3 とTiO2 の多層積層構造膜)で形成した例で説明したが、これとは異なる多層積層構造膜(例えばAl2 O3 とSi3 N4 の多層積層構造膜)で形成するなど、他の構造としても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例における駆動回路構成を示す機能ブロック図
【図2】EL素子の基本的な断面構造例を示す模式図
【図3】駆動電圧波形図
【図4】輝度/電圧特性図
【図5】本発明の第2実施例を示す図1相当図
【図6】図3相当図
【図7】本発明の第3実施例を示す図1相当図
【図8】図3相当図
【図9】本発明の第4実施例を示す駆動電圧波形図その1
【図10】輝度/電圧特性図その1
【図11】駆動電圧波形図その2
【図12】輝度/電圧特性図その2
【図13】従来例を説明するための図2相当図
【図14】図3相当図
【図15】図4相当図
【符号の説明】
11はEL素子、13は透明電極(第1電極)、14は下部絶縁層(第1絶縁層)、15は発光層、16は上部絶縁層(第2絶縁層)、17は透明電極(第2電極)、18は電源供給回路、19は第1の駆動回路、20は第2の駆動回路、21は駆動回路、22は電源供給回路を示す。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an EL element driving apparatus and an aging method in which voltages having different polarities are applied between positive and negative fields between a pair of electrodes when an EL element emits light.
[0002]
[Prior art]
For example, the EL display device described in Japanese Patent No. 2914234 has a configuration in which scanning voltages having different polarities are applied to the scanning electrodes of EL elements arranged in a matrix type for each positive and negative field.
Specifically, the EL display device is configured so that a positive scan voltage and an offset voltage higher than the ground level are supplied from the voltage supply circuit to the scan side driver IC in the positive field period. The driver IC applies an offset voltage to the scan electrode during a non-lighting period of the EL element, and applies a positive scan voltage to the scan electrode during a period corresponding to the lighting timing of the EL element. In the negative field period, a negative scan voltage and a ground voltage in a state where the polarity of the differential voltage between the positive scan voltage and the offset voltage is inverted are supplied from the voltage supply circuit to the scan side driver IC. The scanning side driver IC applies a ground voltage to the scan electrode during the non-lighting period of the EL element, and also applies the negative scanning voltage to the scan electrode during a period corresponding to the lighting timing of the EL element. Apply.
[0003]
On the other hand, the data side driver IC is supplied with a ground voltage and a modulation voltage (the same voltage level as the offset voltage) from the voltage supply circuit, and the data side driver IC is in a light emitting state during the positive field period. A ground voltage is applied to the data electrode of the EL element, and a modulation voltage is applied to the data electrode in the negative field period.
As a result, the voltage applied to the scanning-side driver IC in each of the positive and negative fields is lower than the scanning voltage by a predetermined offset voltage, so that the breakdown voltage required for the driver IC can be lowered.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
FIG. 13 schematically shows an example of a basic cross-sectional structure of an EL element, and FIG. 14 shows an applied voltage waveform when the EL element having this structure is driven by the driving device having the conventional configuration. An example is shown. In FIG. 13, the
[0005]
In the applied voltage waveform example of FIG. 14, during the positive field period, an offset voltage (45V) and a positive scanning voltage (+ 245V) are applied to the
[0006]
FIG. 15 shows the luminance when a voltage having a waveform as shown in FIG. 14, that is, a voltage having a symmetrical waveform in each of the positive and negative fields is continuously applied to the
[0007]
As is apparent from FIG. 15, after the LV curve is once shifted to the plus side (high voltage side) until 20 hours elapse after the voltage application starts, as time further elapses. It gradually shifts to the minus side (low voltage side), and at the time when 256 hours have elapsed, the LV curve is stabilized in a largely distorted state. Such a sagging phenomenon of the LV characteristic is caused when the materials and structures of the upper and lower
[0008]
For this reason, in the EL element driving device of the conventional configuration, the light emission threshold voltage (luminance is 1 Cd / m with the occurrence of the sagging as described above. 2 (Applied voltage at the same time) greatly fluctuates from the initial value and causes a negative shift, which causes a problem that a so-called “burn-in” phenomenon occurs in which the
[0009]
Further, when aging the
[0010]
The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and a first object is to suppress the brightness / voltage characteristics of the EL element from decreasing, and to improve the optical characteristics of the EL element over a long period of time. A second object of the present invention is to provide an EL element driving apparatus that can maintain a good state, and a second object is to provide an EL element aging method that can sufficiently perform an aging process of an EL element in a short time. There is.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the first object, the means described in
[0012]
According to the second aspect of the invention, the drive circuit has different periods for applying a voltage equal to or higher than a threshold level at which the EL element emits light to the light emitting state between the positive field period and the negative field period. Thus, the waveform of the voltage applied between the first electrode and the second electrode of the EL element is different between the positive field period and the negative field period. For this reason, as in the means described in
[0013]
According to the third aspect of the present invention, the drive circuit controls the peak value of the voltage applied to the EL element so as to be different between the positive field period and the negative field period. The waveform of the voltage applied between the electrode and the second electrode is different between the positive field period and the negative field period. For this reason, as in the means described in
[0014]
According to a fourth aspect of the present invention, the drive circuit differs between the absolute value level of the first offset voltage applied in the positive field period and the absolute value level of the second offset voltage applied in the negative field period. Therefore, the waveform of the voltage applied between the first electrode and the second electrode of the EL element differs between the positive field period and the negative field period. For this reason, as in the means described in
[0015]
According to the means described in claim 5, the drive circuit controls the integrated value of the voltage waveform applied to the EL element to be different between the positive field period and the negative field period (the area of the region surrounded by each voltage waveform is reduced). Therefore, the waveform of the voltage applied between the first electrode and the second electrode of the EL element is different between the positive field period and the negative field period. For this reason, as in the means described in
[0016]
In order to achieve the second object, the method described in
[0017]
According to the method of
[0018]
According to the method of the eighth aspect, the aging process is performed by making the peak value of the voltage applied to the EL element different between the positive field period and the negative field period. The waveform of the voltage applied between the first electrode and the second electrode is different between the positive field period and the negative field period. For this reason, similarly to the method of the sixth aspect, it is possible to accelerate the deterioration of the luminance / voltage characteristics of the EL element in a short time, and the aging process can be sufficiently performed in a short time.
[0019]
10. The method according to claim 9, wherein the absolute value level of the first offset voltage applied in the positive field period and the absolute value level of the second offset voltage applied in the negative field period are made different from each other. Since the process is performed, during the aging process, the waveform of the voltage applied between the first electrode and the second electrode of the EL element differs between the positive field period and the negative field period. For this reason, similarly to the method of the sixth aspect, it is possible to accelerate the deterioration of the luminance / voltage characteristics of the EL element in a short time, and the aging process can be sufficiently performed in a short time.
[0020]
According to the method of
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment in which the present invention is applied to an EL element driving apparatus will be described with reference to FIGS.
FIG. 2 schematically shows an example of a basic cross-sectional structure of the EL element. In FIG. 2, an
[0022]
FIG. 1 schematically shows a circuit configuration for driving the
[0023]
In FIG. 1, the
[0024]
In the
[0025]
In this case, in the positive field period, the
[0026]
On the other hand, in the positive field period, the
[0027]
As a result, as shown in FIG. 3, the first offset voltage Vm (55 V) is applied between the
[0028]
FIG. 4 shows a voltage having a waveform as shown in FIG. 3 between the
[0029]
As apparent from FIG. 4, when the applied voltage waveforms in the positive and negative field periods are different as in this embodiment, specifically, the first offset voltage Vm having the positive polarity is the second polarity having the negative polarity. When the offset voltage is larger than the offset voltage −Vn, the LV curve is shifted to the plus side (high voltage side) once by the maximum amount after the voltage application is started as in the case of the conventional configuration (see FIG. 15). After that, as the time further elapses, the characteristic shifts to the minus side (low voltage side), but becomes stable when 207 hours elapses. In this example, it can be seen that the sagging of the LV curve when the characteristics are stable is greatly reduced as compared with the conventional configuration.
[0030]
In this case, the sagging phenomenon of the LV curve occurs when the materials and structures of the upper insulating layer 14 and the lower insulating layer 16 of the
[0031]
Therefore, in the EL element driving device according to the present embodiment, the light emission threshold voltage (luminance is 1 Cd / m with the LV characteristic sagging). 2 (Applied voltage at the time of) is greatly fluctuated from the initial value and the possibility of causing a negative shift is reduced, so that a so-called “burn-in” phenomenon occurs in which the
[0032]
(Second Embodiment)
5 and 6 show a second embodiment of the present invention. Hereinafter, only portions different from the first embodiment will be described.
That is, in this embodiment, as shown in FIG. 5, one
[0033]
As shown in FIG. 6, the drive circuit 21 applies a positive drive voltage Vr to the
[0034]
In short, when the driving circuit 21 drives the
[0035]
(Third embodiment)
FIGS. 7 and 8 show a third embodiment of the present invention in which a modification is made to the second embodiment, and only parts different from the second embodiment will be described below.
That is, in this embodiment, as shown in FIG. 7, a positive drive voltage Vr1 set to a threshold level or more at which the
[0036]
The drive circuit 21 applies a positive drive voltage Vr1 to the
[0037]
In short, when the driving circuit 21 drives the
[0038]
(Fourth embodiment)
FIGS. 9 to 12 show a fourth embodiment in which the present invention is applied to an aging method for an EL element, and this will be described below with reference to the configuration of the first embodiment.
That is, FIG. 9 shows voltage waveforms applied between the
[0039]
In this case, the
[0040]
The first offset voltage Vm (20 V) is applied between the
[0041]
FIG. 10 shows a voltage having a waveform as shown in FIG. 9 between the
[0042]
As is apparent from FIG. 10, when the applied voltage waveforms in the positive and negative field periods are different, specifically, the second offset voltage −Vn (a lower insulating layer made of a Ta · Sn · O + N film) having a negative polarity. 14) is higher than the first positive offset voltage Vm (voltage applied to the upper insulating layer 16 made of an ATO film), the LV curve increases to the minus side (low voltage side) in a short time. The characteristic shifts and becomes stable when about 48 hours elapses. Such characteristics are caused by the difference in the number of levels in which charges are trapped at the interface between the lower insulating layer 14 and the upper insulating layer 16 having different electrical characteristics in the
[0043]
In order to verify this, a driving voltage having an asymmetric waveform as shown in FIG. 11 (positive and negative peak values are 245 V and −245 V, respectively, and the first offset voltage Vm = between the
[0044]
As can be seen from FIG. 11, the shift of the luminance / voltage characteristic is extremely small after 72 hours, and the effect of the aging process appears. In short, the
[0045]
(Other embodiments)
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and the following modifications or expansions are possible.
In the EL element driving apparatus in the first to third embodiments, the integrated value of the voltage waveform applied to the EL element 11 (area of the region surrounded by the voltage waveform) is different between the positive field period and the negative field period. A configuration may be provided in which a drive circuit that controls the integrated value in the positive field period to be larger than the integrated value in the negative field period is provided. According to this configuration, the drive circuit controls the integrated value of the voltage waveform applied to the
[0046]
In the aging method of the
Specifically, when the drive circuit configuration described in the second embodiment is used, voltages having different polarities are applied between the
[0047]
When using the drive circuit configuration described in the third embodiment, when applying voltages of different polarities between the
[0048]
Further, during the aging process, the integrated value of the voltage waveform applied to the EL element 11 (area of the region surrounded by the voltage waveform) is different between the positive field period and the negative field period (integrated value in the negative field period). In a state where the value is larger than the integral value in the positive field period), it is also possible to adopt a method in which the deterioration of the luminance / voltage characteristics of the
[0049]
Although the example in which the lower insulating layer 14 is formed of a Ta / Sn / O + N film has been described, other layers such as an oxide film layer (for example, silicon oxide film) and a nitride film layer (for example, silicon nitride film) are stacked. It is good also as a structure. The upper insulating layer 16 has been described as an example in which the ATO film (Al2 O3 and TiO2 multi-layered laminated film) is formed. For example, other structures may be used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a functional block diagram showing a drive circuit configuration in a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a basic cross-sectional structure of an EL element.
[Fig. 3] Drive voltage waveform diagram
FIG. 4 is a luminance / voltage characteristic diagram.
FIG. 5 is a view corresponding to FIG. 1 showing a second embodiment of the present invention.
6 is a view corresponding to FIG.
FIG. 7 is a view corresponding to FIG. 1 showing a third embodiment of the present invention.
FIG. 8 is equivalent to FIG.
FIG. 9 is a drive voltage waveform diagram 1 showing a fourth embodiment of the present invention;
FIG. 10 is a diagram of luminance / voltage characteristics.
FIG. 11 is a drive voltage waveform diagram 2
FIG. 12 is a diagram of luminance / voltage characteristics.
FIG. 13 is a view corresponding to FIG. 2 for explaining a conventional example.
14 is a view corresponding to FIG.
15 is equivalent to FIG.
[Explanation of symbols]
11 is an EL element, 13 is a transparent electrode (first electrode), 14 is a lower insulating layer (first insulating layer), 15 is a light emitting layer, 16 is an upper insulating layer (second insulating layer), and 17 is a transparent electrode (first electrode). 2 electrodes), 18 is a power supply circuit, 19 is a first drive circuit, 20 is a second drive circuit, 21 is a drive circuit, and 22 is a power supply circuit.
Claims (10)
前記駆動回路は、前記第1電極及び第2電極間に印加する電圧の波形を正フィールド期間と負フィールド期間とで異ならせる制御を行うことを特徴とするEL素子駆動装置。An EL device comprising: a first insulating layer and a second insulating layer, which are disposed opposite to each other with a light emitting layer therebetween and having different electrical characteristics; and a first electrode and a second electrode which are respectively disposed outside each insulating layer. An EL element drive comprising a drive circuit for driving the light emitting layer by applying a voltage having a different polarity between the first electrode and the second electrode for each positive and negative field period In the device
2. The EL element driving apparatus according to claim 1, wherein the driving circuit performs control to make a waveform of a voltage applied between the first electrode and the second electrode different between a positive field period and a negative field period.
前記第1及び第2のオフセット電圧の絶対値レベルを互いに異ならせたことを特徴とする請求項1記載のEL素子駆動装置。In the positive field period, the driving circuit applies a first offset voltage having a positive polarity during a non-lighting period of the EL element, and the EL element is in a light emitting state during a period corresponding to the lighting timing of the EL element. In the negative field period, a negative second offset voltage is applied in the non-lighting period of the EL element, and the EL element is applied in the period corresponding to the lighting timing of the EL element. The device is configured to apply a negative driving voltage that is equal to or higher than a threshold level at which the device is in a light emitting state.
2. The EL element driving apparatus according to claim 1, wherein absolute value levels of the first and second offset voltages are different from each other.
前記第1電極及び第2電極間に、正フィールド期間と負フィールド期間とで異なった電圧波形となる駆動電圧を所定時間だけ印加してエージング処理を行うことを特徴とするEL素子のエージング方法。A first insulating layer and a second insulating layer which are disposed opposite to each other with a light emitting layer and have different electrical characteristics; and a first electrode and a second electrode which are respectively disposed on the outer sides of the respective insulating layers. In an aging method of an EL element in which voltages having different polarities are applied between the first electrode and the second electrode for each field period of
An aging method for an EL element, wherein a driving voltage having a voltage waveform different between a positive field period and a negative field period is applied between the first electrode and the second electrode for a predetermined time to perform an aging process.
前記第1及び第2のオフセット電圧の絶対値レベルを互いに異ならせた状態で前記エージング処理を行うことを特徴とする請求項6記載のEL素子のエージング方法。In the positive field period, a positive first offset voltage is applied during a non-lighting period of the EL element, and a positive electrode equal to or higher than a threshold level at which the EL element is in a light emitting state during a period corresponding to the lighting timing of the EL element. In the negative field period, a negative second offset voltage is applied during the non-lighting period of the EL element, and the EL element is in a light emitting state during a period corresponding to the lighting timing of the EL element. Configured to apply a negative drive voltage that is equal to or higher than the threshold level,
The EL device aging method according to claim 6, wherein the aging process is performed in a state where the absolute value levels of the first and second offset voltages are different from each other.
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