JP4425973B2 - 感熱転写記録材料及び感熱転写記録方法 - Google Patents

Description

本発明は、特定の色素を含有する感熱転写記録材料及び感熱転写記録方法に関する。

感熱転写記録は、操作や保守が容易であること、装置の小型化、低コスト化が可能なこと、更にランニングコストが安いこと等の利点を有している。感熱転写記録によって得られた画像の安定性、特に定着性や耐光性を改良する目的でキレート化可能な熱拡散性色素（以下キレート色素という。）を用いる感熱転写記録材料及び画像形成方法が提案されており、特許文献１〜３に記載されている。この特許文献１〜３で開示されているキレート色素は、アゾ色素を配位子として金属イオンに２座配位または３座配位して形成した金属キレート色素である。これらのキレート色素を用いて形成された画像は耐光性や定着性に優れているが、感熱転写記録材料の感度や色調の点では十分に満足できるものではなく、更に改良が望まれていた。

ピラゾロン色素は、これまでに数多く合成されており、その有用性が確認され、広く用いられている。近年、写真感光材料、感熱転写記録材料、カラートナー、光記録媒体、カラーフィルターなど、様々な用途に適用することが多くなってきた。

これまでのピラゾロン色素は、ピラゾロン１位の窒素原子上にフェニル基の置換しているものが殆どであり（特許文献４〜９参照）、また特許文献１０にはピラゾロン１位の窒素原子上にメチル基が置換された化合物が記載されているが、この様なピラゾロン色素は、溶剤溶解性が悪く、また、感熱転写記録材料として用いようとした場合には、低感度であったり、耐光性が劣るなどの問題を有していた。
特開昭５９−７８８９３号公報 特開昭５９−１０３４９号公報 特開昭６０−２３９８号公報 米国特許第２２６５９０８号 米国特許第２３６９３５５号 米国特許第２３９８９９９号 米国特許第２４０９１８９号 米国特許第２４３０５５８号 米国特許第２５１９００１号 米国特許第４７５７０４６号

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明は、色再現性上好ましい色相を有し、耐光性に優れた、感度の高い新規色素を含有する感熱転写記録材料及び感熱転写記録方法を提供することを課題とする。

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
１．下記一般式（ＩＩ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。

（一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。Ｒ_７、Ｒ_８は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。但し、Ｒ_７とＲ_８は互いに結合し環を形成していても良い。）

２．下記一般式（ＩＩＩ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。

（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の和は３以上である。Ｒ_１３は、ハロゲン原子、置換基を表し、ｌは０〜４の整数を表す。）

３．下記一般式（Ｖ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。

（一般式（Ｖ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。Ｒ_１５は、ハロゲン原子、置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表す。但し、隣り合う炭素原子上に置換しているＲ _１５ は互いに結合し環を形成していても良い。）

４．支持体上に前記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（Ｖ）で表される色素の少なくとも１種を含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、該受像材料に画像を形成することを特徴とする感熱転写記録方法。

５．支持体上に前記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（Ｖ）で表される色素の少なくとも１種を含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、支持体上に金属イオン含有化合物を含む色素受像層を有する受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、金属キレート色素画像を該受像材料に形成することを特徴とする感熱転写記録方法。

本発明の参考発明として下記が挙げられる。
（１）下記一般式（Ｉ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表し、Ｒ_２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１とＲ_２の炭素数の総和は３以上である。Ｘは、−ＣＲ_４Ｒ_５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ_６−を表し、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ_６は、水素原子、置換基を表す。Ｙは、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。）

（２）前記一般式（Ｉ）におけるＲ_２がアルキル基であることを特徴とする前記（１）に記載の感熱転写記録材料。

（３）前記一般式（Ｉ）におけるＲ_１がアルキル基であることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の感熱転写記録材料。

（４）前記一般式（Ｉ）におけるＲ_１が分岐アルキル基であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかに記載の感熱転写記録材料。

（５）前記一般式（Ｉ）におけるＸが−ＣＲ_４Ｒ_５−、−Ｓ−又は−Ｏ−であることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の感熱転写記録材料。
（６）下記一般式（ＩＶ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。

（一般式（ＩＶ）中、Ｒ _１ ´´は、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基を表し、Ｒ _２ ´´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ _３ は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ _１ ´´とＲ _２ ´´の炭素数の総和は３以上である。Ｒ _４ 、Ｒ _５ 水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ _１４ は、ハロゲン原子、置換基を表し、ｍは０〜４の整数を表す。但し、隣り合う炭素原子上に置換しているＲ _４ 、Ｒ _５ 、Ｒ _１４ は互いに結合し環を形成していても良い。）

請求項１〜３に記載の発明によれば、色再現性上好ましい色相を有し、耐光性に優れた、感度の高い新規色素を含有する感熱転写記録材を得ることができ、請求項４及び５に記載の発明によれば、色再現性上好ましい色相を有し、耐光性に優れた、感度の高い新規色素を含有する感熱転写記録材を用いることにより、高感度で、色再現性のよい、且つ耐光性のよい画像を形成できる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。

まず、本発明の参考発明に係る色素について詳述する。
一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、アシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等が挙げられ、アミド基としては、例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられ、アミノ基としては、例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基であり、更に好ましくはアルキル基である。アルキル基の中でも、更に好ましくは、分岐アルキル基であり、分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。

本発明においては、Ｒ_１が嵩高くなることにより、色素の耐光性が向上する。

Ｒ_２は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

好ましくはアルキル基、アシル基、カルバモイル基であり、更に好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

本発明の様にＲ_２がアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基の場合、色素は溶剤溶解性に優れ、またグラムεも高くなる。

本発明においては、Ｒ_１とＲ_２の炭素数の総和は３以上である。即ち、Ｒ_１とＲ_２の炭素数の総和が３以上になると、溶剤溶解性が更に良好になる。

Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

好ましくは、アルキル基であり、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

Ｘは、−ＣＲ_４Ｒ_５−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ_６−を表し、好ましくは、−ＣＲ_４Ｒ_５−、−Ｓ−、−Ｏ−である。

Ｒ_４、Ｒ_５は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基としては、置換基としてはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、シアノ基、 ニトロ基、などが挙げられる。

好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

Ｒ_６は、水素原子、置換基を表す。
置換基としては上記Ｒ_４、Ｒ_５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。

好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基が好ましく、アルキル基の中で好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

Ｙは、５〜６員環を形成するのに必要な原子群を表す。
好ましくは、５員環を形成するのに必要な原子群であり、例えば、−ＣＲ_７＝ＣＲ_８−、−ＣＲ_９Ｒ_１０−ＣＲ_１１Ｒ_１２−が挙げられる。Ｒ_７とＲ_８、もしくは、Ｒ_９とＲ_１１は互いに結合し環を形成していても良く、Ｒ_７〜Ｒ_１２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。

置換基としては、上記Ｒ_４、Ｒ_５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、より好ましくは、アルキル基である。最も好ましくは、水素原子、メチル基が好ましい。また、Ｒ_７とＲ_８、もしくは、Ｒ_９とＲ_１１は互いに結合し５〜６員環を形成していても良く、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられるが、好ましくは、ベンゼン環である。

次に一般式（ＩＩ）について説明する。
一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１´はアルキル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。

好ましくは、分岐アルキル基である。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。

Ｒ_２´はアルキル基、アシル基、カルバモイル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基、アシル基である。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

アシル基の中でも好ましくは、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基であるが、最も好ましくは、アセチル基、イソブチルカルボニル基である。

本発明においては、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。即ち、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和が３以上になると、溶剤溶解性が更に良好になる。

Ｒ_３はアルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

Ｒ_７、Ｒ_８は水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、好ましくは、水素原子、置換基を表し、Ｒ_７、Ｒ_８は互いに結合し環を形成していても良い。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基としては上記Ｒ_４、Ｒ_５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基であり、より好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。また、Ｒ_７とＲ_８は互いに結合し５〜６員の環を形成していても良く、５〜６員の環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ピリジン環、ナフタレン環などが挙げられるが、好ましくは、ベンゼン環である。

次に、一般式（ＩＩＩ）について説明する。
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ_１´はアルキル基を表す。

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。

好ましくは、分岐アルキル基である。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。

Ｒ_２´はアルキル基、アシル基、カルバモイル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基、アシル基である。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

アシル基の中でも好ましくは、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基であるが、最も好ましくは、アセチル基、イソブチルカルボニル基である。

本発明においては、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。即ち、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和が３以上になると、溶剤溶解性が更に良好になる。

Ｒ_３はアルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

Ｒ_１３はハロゲン原子、置換基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。

置換基としては上記Ｒ_４、Ｒ_５の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

ｌは０〜４の整数を表す。
ｌが２以上の場合、Ｒ_１３は同じであっても異なっていても良い。

次に一般式（ＩＶ）について説明する（参考発明）。
一般式（ＩＶ）中、Ｒ_１´´はトリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基を表す。

アルコキシカルボニル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。

好ましくは、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基である。
アルコキシカルボニル基の中でも好ましくは、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基である。

Ｒ_２´´はアルキル基、アシル基、カルバモイル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基、アシル基である。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

アシル基の中でも好ましくは、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基であるが、最も好ましくは、アセチル基、イソブチルカルボニル基である。

本発明においては、Ｒ_１´´とＲ_２´´の炭素数の総和は３以上である。即ち、Ｒ_１´´とＲ_２´´の炭素数の総和が３以上になると、溶剤溶解性が更に良好になる。

Ｒ_３はアルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

Ｒ_４´、Ｒ´_５、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｒ_１４はハロゲン原子、置換基を表し、ｍは０〜４の整数を表す。

Ｒ_４´、Ｒ_５は´、一般式（Ｉ）中のＲ_４、Ｒ_５と同義であるが、好ましくは、水素原子、アルキル基を表し、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基である。

Ｒ_１４は一般式（ＩＩＩ）中のＲ_１３と同義であるが、好ましくは、アルキル基を表し、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基である。

ｍは０〜４の整数を表す。
ｍが２以上の場合、Ｒ_１４は同じであっても異なっていても良い。

また、隣り合う炭素原子上に置換しているＲ_４´、Ｒ_５´、Ｒ_１４は互いに結合し環を形成していても良い。

次に一般式（Ｖ）について説明する。
一般式（Ｖ）中、Ｒ_１´はアルキル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。

好ましくは、分岐アルキル基である。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。

Ｒ_２´はアルキル基、アシル基、カルバモイル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基、アシル基である。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。

アシル基の中でも好ましくは、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基であるが、最も好ましくは、アセチル基、イソブチルカルボニル基である。

本発明においては、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。即ち、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和が３以上になると、溶剤溶解性が更に良好になる。

Ｒ_３はアルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

Ｒ_１５は、ハロゲン原子、置換基を表す。
Ｒ_１５は一般式（ＩＩＩ）中のＲ_１３と同義であるが、好ましくは、水素原子、アルキル基を表し、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基である。

ｎは０〜４の整数を表す。
ｎが２以上の場合、Ｒ_１５は同じであっても異なっていても良い。
また、隣り合う炭素原子上に置換しているＲ_１５は互いに結合し環を形成していても良い。

Ｒ_１、Ｘ、Ｙの組合せは、色再現性の上で非常に重要であり、上記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）の組合せの場合に、より良好な色再現性を発揮することができる。

以下に、前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）で表される、本発明に係る色素の代表的な具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
但し、下記具体例中、１〜１６、２６〜３７、５２〜７０、１４３〜１５２が本発明の具体例であり、それ以外のものは本発明から除外される。

以下に、一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される色素の合成例を示す。
合成例１

エタノール３００ｍｌに、７．７１ｇの３−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−５−ピラゾロン、２１．０１ｇの２−［２−（アセチル−フェニル−アミノ）−ビニル］−３−メチルベンゾオキサゾール−３−ニウム；アイオダイド、および１０．０１ｇのトリエチルアミンを加え、約８０℃に加熱で約３時間反応させた。反応終了後、減圧下でエタノールとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣をアセトニトリルにより再結晶し、例示化合物３を６．７９ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物３であることが確認された。

合成例２

エタノール３００ｍｌに、８．４１ｇの３−ｔｅｒｔ−ブチル−１−イソプロパノイル−５−ピラゾロン、２１．０１ｇの２−［２−（アセチル−フェニル−アミノ）−ビニル］−３−メチルベンゾオキサゾール−３−ニウム；アイオダイド、および１０．０１ｇのトリエチルアミンを加え、約８０℃に加熱で約３時間反応させた。反応終了後、減圧下でエタノールとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣をアセトニトリルにより再結晶し、例示化合物１３を９．０９ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物１３であることが確認された。

合成例３

エタノール３００ｍｌに、７．７１ｇの３−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−５−ピラゾロン、１９．９１ｇの２−［２−（アセチル−フェニル−アミノ）−ビニル］−３、４、５−トリメチルオキサゾール−３−ニウム；アイオダイド、および１０．０１ｇのトリエチルアミンを加え、約８０℃に加熱で約３時間反応させた。反応終了後、減圧下でエタノールとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣をアセトニトリルにより再結晶し、例示化合物２８を６．５１ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物３であることが確認された。

合成例４

エタノール３００ｍｌに、７．７１ｇの３−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−５−ピラゾロン、１９．４１ｇの２−［２−（アセチル−フェニル−アミノ）−ビニル］−３−メチル−４、５−ジヒドロ−チアゾール−３−ニウム；アイオダイド、および１０．０１ｇのトリエチルアミンを加え、約８０℃で３時間反応させた。反応終了後、減圧下でエタノールとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣を酢酸エチルとヘキサンにより再結晶し、例示化合物５７を４．７５ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物５７であることが確認された。

合成例５

ピリジン１００ｍｌに、１０．５１ｇの３−カルボン酸エチルエステル−１−メチル−５−ピラゾロン、１６．４１ｇの１−メチル−５−（２−フェニルアミノ−ビニル）−３、４−ジヒドロ−ピロールニウム；アイオダイド、および５．０１ｇのトリエチルアミン、５．１０ｇの無水酢酸を加え、約８０℃で３時間反応させた。反応終了後、減圧下でピリジンとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣を酢酸エチルとヘキサンにより再結晶し、例示化合物９７を６．４１ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物９７であることが確認された。

合成例６

ピリジン１００ｍｌに、１０．５１ｇの３−カルボン酸エチルエステル−１−メチル−５−ピラゾロン、１９．５６ｇの１、３−ジメチル−２−（２−フェニルアミノ−ビニル）−ベンゾイミダゾール−１−ニウム；アイオダイド、および５．０１ｇのトリエチルアミン、５．１０ｇの無水酢酸を加え、約８０℃で３時間反応させた。反応終了後、減圧下でピリジンとトリエチルアミンを取り除いた後、得られた残渣をアセトニトリルにより再結晶し、例示化合物１１５を１１．１６ｇ得た。得られた固体の１Ｈ−ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルによる分析結果より例示化合物１１５であることが確認された。

本発明に係る他の色素も上記合成法に準じて容易に合成することができる。

以下、本発明の感熱転写記録材料（以下、熱転写シートともいう。）について説明する。

（支持体）
本発明の感熱転写記録材料に用いられる支持体は、従来の熱転写シートに使用されているものと同じ支持体を特別の制限なく用いることが出来、特に限定されるものではない。好ましい支持体の具体例としては、グラシン紙、コンデンサー紙、パラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネイト、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸或いは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものなどが挙げられる。

この支持体の厚さは、強度、熱伝導性、耐熱性等が適切になるように材料に応じて適宜選択することが出来るが、通常は１〜１００μｍ程度のものが好ましく用いられる。

上記のごとき支持体は、この表面に形成する色素供与層（以下、感熱転写層又はインク層ともいう。）との密着が乏しい場合には、その表面にプライマー処理や、コロナ処理を施すことが好ましい。

（インク層）
本発明において、支持体の一方の面に設けるインク層に含有させる熱拡散性インクとしては、本発明の一般式（１）〜（Ｖ）で表される色素を少なくとも１種用いる。

本発明に用いられる色素の添加量は、通常、後述するインク層１ｍ^２に対し、０．０５ｇ〜２０ｇが好ましく、更に０．１ｇ〜５ｇがより好ましい。

（バインダー）
インク層に用いられるバインダー樹脂は、セルロース系、ポリアクリル酸系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系等の水溶性ポリマー、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネイト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、エチルセルロース、ニトロセルロース等の有機溶媒に可溶のポリマーが有る。これらの樹脂の中でも、保存性の優れたポリビニルブチラール、ポリビニルアセタールあるいはセルロース系樹脂が好ましい。有機溶剤に可溶のポリマーを用いる場合、１種又は２種以上を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分散の形で使用してもよい。バインダー樹脂の使用量としては、支持体１ｍ^２あたり０．１ｇ〜５０ｇが好ましい。

又、色素受像層（以下、染料受像層ともいう。）との離型性を向上させるために、離型剤を添加、あるいは離型剤を含有する別個の離型層を設けてもよい。離型剤としては、反応硬化型シリコーン、燐酸エステル系界面活性剤、フッ素化合物等を用いることが出来る。離型剤の使用量は、含有させる層の固形分に対し、０．５〜４０質量％が好ましい。又、離型層を設ける場合、バインダーは上記インク層に用いられるものと同様のものが使用可能である。

（ＢＣ層：バックコート層、バックコーティング層、スティッキング防止層、背面層等とも言われている。）
支持体の、インク層を設けた面とは反対側の面に、耐熱性や熱転写シートの安定した走行性を付与するためのＢＣ層を設けることが好ましい。ＢＣ層に使用されるバインダー樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリルースチレン共重合体等のアクリル系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等が挙げられる。

また、これらの樹脂は混合して用いても良い。ＢＣ層の耐熱性をより高めるために、前記の樹脂のうち、水酸基などの反応性基を有している樹脂を使用し、架橋剤としてポリイソシアネート等を併用して架橋樹脂層としてもよい。さらに、サーマルヘッドのような加熱手段との滑り性を向上させるために、ＢＣ層に固形あるいは液状の離型剤または滑剤を加えて、耐熱滑性をもたせてもよい。離型剤または滑剤としては、例えばポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワックス類、高級脂肪族アルコール、オレガノポリシロキサン、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、有機カルボン酸及びその誘導体、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、タルク、シリカ、硫化モリブデン等の無機化合物の微粒子等を用いることができる。ＢＣ層への滑剤の好ましい添加量は、ＢＣ層の全固形分に対し、５〜５０質量％であり、特に好ましくは１０〜３０質量％である。ＢＣ層の厚みは、塗布乾燥後で０．１〜１０μｍ程度が好ましい。

（後加熱処理領域）
本発明に用いられる熱転写記録においては、色素（染料）転写後の転写された表面と、非転写性樹脂層（以下、非転写性離型層ともいう。）の表面を対面させ、非転写性樹脂層とは反対の側より熱を与えることで後加熱処理を行う。

本発明に用いられる非転写性の樹脂層は、前記インク層と同一面上に、いわゆる面順次で設けることも出来る。非転写性樹脂層を単独でシートとして用いる場合は、支持体やＢＣ層は前述したものと同様のものを用いることが出来る。

非転写性樹脂層に用いられるバインダー樹脂は、インク層に用いたバインダー樹脂と同様のものを用いることができる。

非転写性樹脂層を、インク層と面順次に設ける場合には、樹脂層に微粒子を含有することが好ましい。これは塗布後ロール状態で保存した際に、ＢＣ層に染料がわずかながら移行し、製品形態で小巻にした時に、このＢＣ層に移行した染料が、非転写性樹脂層へ再転写するという、いわゆるキックバックという現象が生じるのを防止する目的で行われる。キックバックが生じると、樹脂層へ再転写した染料が、印画時受像面を着色することになり、画質を著しく損なう。微粒子としては、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム等の無機微粒子の他に、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂などの樹脂微粒子、あるいはワックス粒子等が使用できる。これら微粒子の粒径は、好ましくは０．１〜５０μｍとする。０．１μｍ未満では樹脂層表面の凹凸が少なすぎて，キックバックに対する効果がなく、また５０μｍを超えると印画後の画像表面を荒らしてしまい、画質を損なう。上記微粒子の好ましい添加量としては、樹脂層全固形分に対し１〜５０質量％であり、特に好ましくは５〜３０質量％である。１質量％未満では樹脂層表面の凹凸が少なすぎてキックバックに対する効果が少なく、また５０質量％を超えると印画後の画像表面を荒らしてしまい、画質を損なう。

本発明において、樹脂層（非転写性離型層）に金属イオン含有化合物を含有してもよく、該金属イオン含有化合物としては、金属イオンの無機又は有機の塩及び金属錯体が挙げられ、中でも有機酸の塩及び錯体が好ましい。金属としては、周期律表の第Ｉ〜第ＶＩＩＩ族に属する１価及び多価の金属が挙げられるが、中でもＡｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｇ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｎｉ，Ｓｎ，Ｔｉ及びＺｎが好ましく、特にＮｉ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｃｏ及びＺｎが好ましい。金属イオン含有化合物の具体例としては、Ｎｉ^２＋，Ｃｕ^２＋，Ｃｒ^２＋，Ｃｏ^２＋及びＺｎ^２＋と酢酸やステアリン酸等の脂肪族の塩、或いは安息香酸、サルチル酸等の芳香族カルボン酸の塩等が挙げられる。

本発明に用いられる金属イオン含有化合物の添加量は、通常、支持体に対して、０．５〜２０ｇ／ｍ^２が好ましく、１〜１５ｇ／ｍ^２がより好ましい。

金属イオン含有化合物の添加量は、樹脂層全固形分に対し０．０１〜１質量％が好ましく、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。０．０１質量％より少ないと、添加する効果が少なく、また１質量％より多いと、上述したキックバックの発生がより顕著になる。

又、色素受像層と後加熱領域の非熱転写性樹脂層との離型性を向上させるために、離型剤を添加、あるいは離型剤を含有する別個の離型層を設けてもよい。離型剤としては、反応硬化型シリコーン、燐酸エステル系界面活性剤、フッ素化合物等を用いることが出来る。離型剤の使用量は、含有させる層の固形分に対し、０．５〜４０質量％が好ましい。又、離型層を設ける場合、バインダーは上記インク層に用いられるものと同様のものが使用可能である。

（保護層）
本発明に用いられる熱転写性の保護層（以下、保護転写層ということもある。）は、受像シート上に熱転写して形成された画像の表面を覆う保護層となる透明な樹脂層からなる。

熱転写性保護層を形成する樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、これらの各樹脂のエポキシ変性樹脂、これらの樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物、電離放射線硬化性樹脂、紫外線遮断性樹脂等を例示することができる。好ましい樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ変性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、ジオール成分および酸成分が１種類以上の脂環族化合物を有する脂環族ポリエステル樹脂が好ましい。ポリカーボネート樹脂としては、芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましく、特開平１１−１５１８６７号に記載された芳香族ポリカーボネート樹脂が特に好ましい。

本発明に使用されるエポキシ変性樹脂としてはエポキシ変性ウレタン、エポキシ変性ポリエチレン、エポキシ変性ポリエチレンテレフタレート、エポキシ変性ポリフェニルサルファイト、エポキシ変性セルロース、エポキシ変性ポリプロピレン、エポキシ変性ポリ塩化ビニル、エポキシ変性ポリカーボネート、エポキシ変性アクリル、エポキシ変性ポリスチレン、エポキシ変性ポリメチルメタクリレート、エポキシ変性シリコーン、エポキシ変性ポリスチレンとエポキシ変性ポリメチルメタクリレートの共重合体、エポキシ変性アクリルとエポキシ変性ポリスチレンの共重合体、エポキシ変性アクリルとエポキシ変性シリコーンの共重合体が挙げられ、好ましくはエポキシ変性アクリル、エポキシ変性ポリスチレン、エポキシ変性ポリメチルメタクリレート、エポキシ変性シリコーンであり、更に好ましくはエポキシ変性ポリスチレンとエポキシ変性ポリメチルメタクリレートの共重合体、エポキシ変性アクリルとエポキシ変性ポリスチレンの共重合体、エポキシ変性アクリルとエポキシ変性シリコーンの共重合体である。

〈電離放射線硬化性樹脂〉
熱転写性保護層として電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱転写性保護層に含有することにより、耐可塑剤性や耐擦過性が特に優れている。電離放射線硬化性樹脂としては公知のものを特別の制限なく使用することができ、例えば、ラジカル重合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電子線や紫外線によって重合架橋させたものを使用することができる。

（紫外線遮断性樹脂）
熱転写性保護層として紫外線遮断性樹脂を含有する保護層を用いることができる。この紫外線遮断性樹脂を含有する保護層は、印画物に耐光性を付与することを主目的とする。紫外線遮断性樹脂としては、例えば、反応性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用することができる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系のような従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合性二重結合（例えばビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等）、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような反応性基を導入したものを例示することができる。

上記のごとき単層構造の熱転写性保護層又は多層構造の熱転写性保護層中に設けられた主保護層は、保護層形成用樹脂の種類にもよるが、通常は０．５〜１０μｍ程度の厚さに形成する。

本発明の熱転写性保護層は、熱転写シートの支持体上に非転写性離型層を介して設けることが好ましい。

非転写性離型層は、支持体と非転写性離型層との間の接着力を、非転写性離型層と熱転写性保護層（保護転写層）との間の接着力よりも常に充分高くし、且つ、熱を印加する前の非転写性離型層と熱転写性保護層との間の接着力が、熱印加後のそれに対し高くなるようにする目的で、（１）樹脂バインダーと共に、平均粒子径が４０ｎｍ以下の無機微粒子を３０〜８０質量％含有しているか、（２）アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、その誘導体、或いはそれらの混合物を合計２０質量％以上の割合で含有しているか、或いは（３）アイオノマーを２０質量％以上の割合で含有している、ことが好ましい。非転写性離型層には、必要に応じて他の添加物が含有されていてもよい。

無機微粒子としては、例えば、無水シリカ、コロイダルシリカ等のシリカ微粒子や、酸化錫、酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛等の金属酸化物を使用することが出来る。無機微粒子の粒子径は、４０ｎｍ以下とすることが好ましい。４０ｎｍを超えると、離型層表面の凹凸に起因して熱転写性保護層の表面の凹凸も大きくなり、その結果保護層の透明性が低下してしまい好ましくない。

無機微粒子と混合する樹脂バインダーは特に制限されず、混合可能なあらゆる樹脂を用いることが出来る。例えば、各種ケン化度のポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ）；ポリビニルアセタール樹脂；ポリビニルブチラール樹脂；アクリル系樹脂；ポリアミド系樹脂；酢酸セルロース、アルキルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース等のセルロース系樹脂；ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。

無機微粒子と樹脂バインダーを主体とする他の配合成分との配合比（無機微粒子／他の配合成分）は、質量比で３０／７０以上、８０／２０以下の範囲とすることが好ましい。配合比が３０／７０未満になると、無機微粒子の効果が不十分となり、一方８０／２０を超えると離型層が完全な膜とならず、支持体と熱転写性保護層が直接触れる部分が生じてしまう。

前記（２）に記載のアルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体又はその誘導体としては、例えば、アルキルビニルエーテル部分のアルキル基がメチル基或いはエチル基であるもの、無水マレイン酸部分が部分的に又は完全にアルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等）とのハーフエステルとなったものを用いることができる。

離型層は、アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、その誘導体、或いはそれらの混合物だけで形成しても良いが、離型層と保護層の間の剥離力を調整する目的で、他の樹脂又は微粒子をさらに加えても良い。その場合、離型層には、アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、その誘導体、或いはそれらの混合物が２０質量％以上含有されているのが望ましい。含有量が２０質量％未満になると、アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体又はその誘導体の効果が十分に得られなくなる。

アルキルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体又はその誘導体に配合される樹脂又は微粒子としては、混合可能で、被膜形成時に高い膜透明性が得られるもので有れば特に限定されず、あらゆる材料を用いることが出来る。例えば、前述の無機微粒子及び無機微粒子と混合可能な樹脂バインダーは好ましく用いられる。

前記（３）に記載のアイオノマーとしては、例えば、サーリンＡ（デュポン社製）や、ケミパールＳシリーズ（三井石油化学社製）等を使用することができる。また、アイオノマーには、例えば、前述の無機微粒子、無機微粒子と混合可能な樹脂バインダー、或いはその他の樹脂や微粒子をさらに加えることが出来る。

非転写性離型層を形成するには、上記（１）乃至（３）いずれかの成分を所定の配合割合で含有する塗布液を調製し、かかる塗布液を、グラビアコート法、グラビアリバースコート法のような公知の技術で支持体上に塗布し、塗布層を乾燥させる。非転写性離型層の厚みは、通常、乾燥後の厚みで０．１〜２μｍ程度とする。

非転写性離型層を介して、あるいは介さずに支持体上に積層される熱転写性保護層（保護転写層）は、多層構造をとっていてもよいし、単層構造をとっていてもよい。多層構造をとる場合には、画像に各種の耐久性を付与するための主体となる主保護層の他、熱転写性保護層と印画物の受像面との接着性を高めるために、熱転写性保護層の最表面に配置される接着層や、補助的な保護層や、保護層本来の機能以外の機能を付加するための層（例えば偽造防止層、ホログラム層等）が設けられてもよい。主保護層とその他の層の順序は任意であるが、通常は、転写後に主保護層が受像材料ないし受像シートの受像面の最表面となるように、接着層と主保護層との間に他の層を配置する。

熱転写性保護層の最表面には接着層（以下、感熱接着層ということもある。）が形成されていても良い。接着層は、例えばアクリル樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂のような加熱時接着性の良好な樹脂で形成することができる。また、上記樹脂に加え、上述した電離放射線硬化性樹脂、紫外線遮断性樹脂などを必要に応じて混合してもよい。接着層の厚さは、通常０．１〜５μｍとする。

非転写性離型層上あるいは支持体上に熱転写性保護層を形成するには、例えば、保護層形成用樹脂を含有する保護層用塗布液、熱接着性樹脂を含有する接着層用塗布液、その他必要に応じて付加される層を形成するための塗布液をあらかじめ調製し、それらを所定の順序で非転写性離型層上あるいは支持体上に塗布し、乾燥させる。各塗布液は従来公知の方法で塗布すればよい。また、各層の間には適切なプライマー層を設けても良い。

〈ＵＶ吸収剤〉
熱転写性保護層（熱転写性保護層が複数層から成るときは、その少なくとも１層）に、紫外線吸収剤が含有されていることが好ましいが、透明樹脂層に含有させた場合、保護層転写後は透明樹脂層が印画物の最表面に存在するため、長期間の間に環境などの影響を受け経時的にその効果が低下することから、特に好ましくは、感熱接着剤層に含有させる。

紫外線吸収剤としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤が挙げられ、例えば具体的にはＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、Ｔｉｎｕｖｉｎ ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２７、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３１２、Ｔｉｎｕｖｉｎ ３１５（チバガイギー社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１１０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１３０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３２０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−４００（住友化学工業社製）、Ｍａｒｋ ＬＡ−３２、Ｍａｒｋ ＬＡ−３６、Ｍａｒｋ １４１３（アデカアーガス化学社製）等の商品名で市場から入手でき、いずれも本発明で使用することが出来る。

又、反応性紫外線吸収剤とアクリル系モノマーとがランダム共重合したＴｇ６０℃以上、好ましくは８０℃以上のランダム共重合体を用いることも出来る。

上記の反応性紫外線吸収剤は、従来公知のサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系等の非反応性紫外線吸収剤に、例えば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等の付加重合性二重結合、或いは、アルコール系水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入したものを使用することができる。具体的には、ＵＶＡ６３５Ｌ、ＵＶＡ６３３Ｌ（ＢＡＳＦジャパン社製）、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学社製）等の商品名で市場から入手でき、何れも本発明で使用することが出来る。

以上のような反応性紫外線吸収剤とアクリル系モノマーとのランダム共重合体における反応性紫外線吸収剤の量は１０〜９０質量％、好ましくは３０〜７０質量％の範囲である。また、このようなランダム共重合体の分子量は５０００〜２５００００程度、好ましくは９０００〜３００００程度とすることが出来る。上述した紫外線吸収剤、及び、反応性紫外線吸収剤とアクリル系モノマーとのランダム共重合体は、各々単独で含有させても良いし、両方を含有させても良い。反応性紫外線吸収剤とアクリル系モノマーとのランダム共重合体の添加量は、含有させる層に対し５〜５０質量％の範囲で含有させることが好ましい。

もちろん紫外線吸収剤以外にも他の耐光化剤を含有させても良い。ここで耐光化剤とは、光エネルギー、熱エネルギー、酸化作用など、染料を変質あるいは分解する作用を吸収又は遮断して染料の変質や分解を防止する薬剤であり、具体的には上述した紫外線防止剤の他、従来合成樹脂の添加剤などとして知られている酸化防止剤、光安定剤が挙げられる。その場合も、熱転写性保護層の少なくとも１層、即ち前記剥離層、透明樹脂層、感熱接着層のうち少なくとも１層に含有させてよいが、特に好ましくは、感熱接着層に含有させる。

酸化防止剤としてはフェノール系、モノフェノール系、ビスフェノール系、アミン系等の１次酸化防止剤、或いは硫黄系、リン系等の２次酸化防止剤が挙げられる。又、光安定剤としてはヒンダードアミン系等が挙げられる。

上記の、紫外線吸収剤を含む、耐光化剤の使用量は特に限定されないが、好ましくは含有させる層を形成する樹脂１００質量部当たり０．０５〜１０質量部、好ましくは３〜１０質量部の割合で使用する。使用量が少なすぎると耐光化剤としての効果が得難く、一方多すぎては不経済である。

又、上記の耐光化剤の他にも、例えば、蛍光増白剤、充填剤等の各種の添加剤も同時に接着剤層に適当な量で添加することができる。

尚、熱転写性保護層は、上記のように熱転写シートのインク層と面順次に設けても良いし、別個の支持体上に単独で設けて、保護層転写シートを作製してもよい。

（受像シートの基材）
受像シートの基材（以下、支持体ともいう。）は、色素受像層を保持するという役割を有するとともに、熱転写時には熱が加えられるため、過熱された状態でも取り扱い上支障のない程度の機械的強度を有することが好ましい。

このような基材の材料としては特に限定されず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙（ポリオレフィン系、ポリスチレン系）、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、壁紙、裏打用紙、合成樹脂又はエマルジョン含浸紙、合成ゴムラテックス含浸紙、合成樹脂内添紙、板紙等、セルロース繊維紙、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネイト、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、セルロース誘導体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、アクリル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビニルエーテル、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド等のフィルムが挙げられ、また、これらの合成樹脂に白色顔料や充填剤を加えて成膜した白色不透明フィルムあるいは発泡させた発泡シートも使用でき、特に限定されない。

また、上記基材の任意の組み合わせによる積層体も使用できる。代表的な積層体の例として、セルロース繊維紙と合成紙或いはセルロース合成紙とプラスチックフィルムとの合成紙が挙げられる。これらの支持体の厚みは任意でよく、通常１０〜３００μｍ程度である。

より高い印字感度を有すると共に、濃度ムラや白抜けのない高画質を得るためには、微細空隙を有する層（以下、微細空隙樹脂層ともいう。）を存在させることが好ましい。微細空隙樹脂層としては、内部に微細空隙を有するプラスチックフィルムや合成紙を用いることが出来る。また、各種支持体の上に、各種の塗工方式で微細空隙樹脂層を形成できる。微細空隙を有するプラスチックフィルム又は合成紙としては、ポリオレフィン、特にポリプロピレンを主体として、それに無機顔料及び／又はポリプロピレンと非相溶なポリマーをブレンドし、これらをボイド（空隙）形成開始剤として用い、これらの混合物を延伸、成膜したプラスチックフィルム又は合成紙が好ましい。これらがポリエステル等を主体としたものの場合には、その粘弾性的あるいは熱的性質から、クッション性、及び断熱性が、ポリプロピレンを主体としたものに比較して劣るため、印字感度に劣り、濃度ムラなども生じやすい。

これらの点を考慮すると、プラスチックフィルム及び合成紙の２０℃における弾性率は５×１０^８Ｐａ〜１×１０^１０Ｐａが好ましい。また、これらのプラスチックフィルムや合成紙は、通常２軸延伸により成膜されたものであるが故に、これらは加熱により収縮する。これらを１１０℃下で６０秒放置した場合の収縮率は０．５〜２．５％である。上述のプラスチックフィルムや合成紙は、それ自体が、微細空隙を含む層の単層で合っても良いし、複数の層構成であっても良い。複数の層構成の場合には、その構成する全ての層に微細空隙を含有しても良いし、微細空隙が存在しない層が含有されていても良い。このプラスチックフィルムや合成紙には、必要に応じて隠蔽剤として、白色顔料を混入させてもよい。又、白色性を増すために、蛍光増白剤等の添加剤を含有させても良い。微細空隙樹脂層は、３０〜８０μｍの厚みが好ましい。

微細空隙樹脂層としては、基材の上にコーティング法によって微細空隙樹脂層を形成することも可能である。使用するプラスチック樹脂としては、ポリエステル、ウレタン樹脂、ポリカーボネイト、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等の公知の樹脂を単独或いは複数をブレンドして使用することができる。

又、必要に応じて、基材の色素受像層を設ける側とは反対側の面に、カール防止の目的として、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、変性ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネイト等の樹脂や合成紙の層を設けることが出来る。貼り合わせ方法としては、例えば、ドライラミネーション、ノンソルベント（ホットメルト）ラミネーション、ＥＣラミネーション法等の公知の積層方法が使用できるが、好ましい方法はドライラミネーション及びノンソルベントラミネーション法である。ノンソルベントラミネーション法に好適な接着剤としては、例えば、武田薬品工業社製のタケネート７２０Ｌ等が挙げられ、ドライラミネーションに好適な接着剤としては、例えば、武田薬品工業社製のタケラックＡ９６９／タケネートＡ−５（３／１）、昭和高分子社製の、ポリゾール ＰＳＡ ＳＥ−１４００、ビニロール ＰＳＡ ＡＶ−６２００シリーズ等が挙げられる。これらの接着剤の使用量としては、固形分で約１〜８ｇ／ｍ^２、好ましくは２〜６ｇ／ｍ^２の範囲である。

上述したような、プラスチックフィルムと合成紙、或いはそれら同士、或いは各種紙とプラスチックフィルムや合成紙、等を積層する場合、接着層により貼り合わせることが出来る。

上記基材と色素受像層（熱転写受像層及びインクジェット受像層といわれることもある。）の接着強度を大きくする等の目的で、基材の表面に各種プライマー処理やコロナ放電処理を施すのが好ましい。

（受像シート中間層）
色素像層と受像シート基材との間には、少なくとも１層以上の中間層を設けても良い。中間層は、接着層（プライマー層）、バリアー層、紫外線吸収層、発泡層、帯電防止層等、受像層と基材の間に設ける層すべてを意味し、公知のものは、必要に応じていずれも使用できる。さらに、基材のギラツキ感やムラを隠蔽するために、中間層に酸化チタン等の白色顔料を添加すると、基材選択の自由度が広がるので好ましい。中間層樹脂と白色顔料との含有量は、樹脂固形分１００質量部に対し、白色顔料固形分３０〜３００質量部が好ましいが、隠蔽性を高めるには１００〜３００質量部の範囲で用いることがさらに好ましい。

中間層としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、或いは官能基を有する熱可塑性樹脂を、各種の添加剤その他の手法を用いて硬化させた層を用いることができる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエステル、塩素化ポリプロピレン、変性ポリオレフィン、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネイト、アイオノマー、単官能及び／又は多官能水酸基含有のプレポリマーをイソシアネート等で硬化させた樹脂等を使用することが出来る。

（受像層）
色素受像層は基材の一方の面に、バインダー樹脂と、必要に応じて離型剤等の各種添加剤及び金属イオン含有化合物から構成されている。金属イオン含有化合物を添加する場合その添加量は、通常、受像層固形分に対し１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。

バインダー樹脂は公知のものを用いることができ、染料が染着しやすいものを用いることが好ましい。具体的にはポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステルなどのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ樹脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体、ポリウレタン、ポリカーボネイト、アクリル樹脂、アイオノマー、セルロース誘導体等の単体、又は混合物を用いることができ、これらの中でもポリエステル系樹脂、及びビニル系樹脂が好ましい。

色素受像層は、インク層との熱融着を防止するために、離型剤を添加することが好ましい。離型剤としては、燐酸エステル系可塑剤、フッ素系化合物、シリコーンオイル（反応硬化型シリコーンを含む）等を使用することができるが、この中でもシリコーンオイルが好ましい。シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンを始め各種の変性シリコーンを用いることができる。具体的には、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、ビニル変性シリコーン、ウレタン変性シリコーン等を用い、これらをブレンドしたり、各種の反応を用いて重合させて用いることもできる。離型剤は１種もしくは２種以上のものが使用される。また、離型剤の添加量は、受像層形成用樹脂１００質量部に対し、０．５〜３０質量部が好ましい。この添加量の範囲を満たさない場合は、熱転写シートと受像シートの受像層との融着もしくは印画感度低下などの問題が生じる場合がある。尚、これらの離型剤は受像層に添加せず、受像層上に別途離型層として設けても良い。

（層構成、塗布方法等）
以上の色素受像層は、基材上に、水又は有機溶剤などの溶媒に溶解又は分散させた塗布液を、バーコーター、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ロールコーティング法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、エクストルージョンコート法などの通常の方法で塗布し、乾燥して形成することができる。バリアー層、中間層、裏面層の形成手段も、上記の受像層の場合と同様の方法で行われる。又、受像層は、上記のように基材上に直接塗布液を塗布し、乾燥して形成するだけでなく、別の支持体に受像層を予め形成してあるものから、基材上に受像層を転写形成してもよい。また、各層を２層以上同時塗布法によって塗設することもでき、特に全ての層を１回の塗布で済ます同時塗布を行うこともできる。

受像層の厚さは、塗布乾燥後の膜厚で、０．１〜１０μｍ程度が好ましい。

（受像シート形状）
本発明で用いられる受像シートは、プリンターに枚葉で供給されてもロール形態で供給されても良い。枚葉供給とは、例えば、受像シートを一定サイズにカットし、５０枚程度を１セットとしてカセットに入れ、プリンターに装着して使用される形態を指す。又、ロール形態とは、その形でプリンタに受像シートを供給し、印画後所望のサイズに切断して使用する形態のことである。特に後者は、２枚差し等の給紙不良や排出不良等の搬送系のトラブルが解消される他、印画可能枚数の大容量化にも対応することが出来るため好ましい。

ロール形態で受像シートを供給する場合、特に、上述したようなハガキ仕様にした場合や、ラベルやシールタイプの受像シートを用いる場合は、裏面側に形成された郵便番号枠等のデザインマークや、シールのハーフカットの位置に対して切断位置を合わせるために、検知マークを裏面側に設けることが出来る。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
《熱転写シートの作製》
［熱転写シート１の作製］
（バックコート層付の支持体Ａの作製）
厚さ４．５μｍの易接層付きポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製ルミラー）の一方の面に、下記の組成かならるバックコート層塗布液１を、グラビア塗布方式で塗布、乾燥した後、加熱硬化処理を行い、乾燥膜厚１．０μｍのバックコート層を有する支持体Ａを作製した。

〈バックコート層塗布液１の調製〉
ポリビニルブチラール樹脂（積水化学工業社製エスレックＢＸ−１） ３．５質量部
リン酸エステル系界面活性剤（第一工業製薬社製 プライサーフＡ２０８Ｓ）
３．０質量部
リン酸エステル系界面活性剤（東邦化学社製 フォスファノールＲＤ７２０）
０．３質量部
ポリイソシアネート（大日本インキ化学工業社製、バーノックＤ７５０−４５）
１９．０質量部
タルク（日本タルク社製 Ｙ／Ｘ＝０．０３） ０．２質量部
メチルエチルケトン ３５．０質量部
トルエン ３５．０質量部

〔色素層（インク層）、保護転写層の形成〕
バックコート層付の支持体Ａのバックコート面とは反対側の面に、下記組成からなるイエロー染料塗布液１を用いて形成したインク層（乾燥膜厚が１μｍ）と、多層構成保護転写層（非転写性離型層／保護転写層／接着層の３層構成）とをグラビア法により面順次に設けて、熱転写シート１を作製した。

〔インク層〕
〈イエロー染料塗布液１〉
色素（例示化合物１３） ４．５質量部
ポリビニルアセトアセタール樹脂（積水化学社製、エスレックＫＳ−５） ５．０質量部
ウレタン変性シリコーン樹脂（大日精化社製、ダイアロマーＳＰ−２１０５）
０．５質量部
メチルエチルケトン ４５．０質量部
トルエン ４５．０質量部

〔多層構成保護転写層〕
（非転写性離型層）
下記の組成からなる非転写性離型層塗布液１をグラビアコート法により、乾燥後固形分量が０．５ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥して、非転写性離型層を形成した。

〈非転写性離型層塗布液１〉
コロイダルシリカ（日産化学社製スノーテックス５０） １．５質量部
ポリビニルアルコール ４．０質量部
イオン交換水 ３．０質量部
変性エタノール １０質量部

（保護転写層）
上記形成した非転写性離型層上に、下記の組成からなる保護転写層塗布液１をグラビアコート法により、乾燥後固形分量が２．０ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥して、保護転写層を形成した。

〈保護転写層塗布液１〉
アクリル樹脂 １５質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５質量部
反応性紫外線吸収剤を反応結合した共重合樹脂（ＢＡＳＦジャパン社製ＵＶＡ−６３５Ｌ）
４０質量部
ポリエチレンワックス ０．３質量部
ポリエステル樹脂 ０．１質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
トルエン ４０質量部
アンチモン酸亜鉛（日産化学社製セルナックス） ２０質量部

（接着層）
上記形成した保護転写層上に、下記の組成からなる接着層塗布液１を、グラビアコート法により、乾燥後固形分量が２．０ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥して、接着層を形成した。

〈接着層塗布液１〉
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部

以上により、非転写性離型層上に、保護転写層と接着層の積層体である保護転写層を剥離可能に備えた多層構成保護転写層を作製した。

〔熱転写シート２〜７の作製〕
上記熱転写シート１の作製において、イエロー染料層塗布液１に代えて、下記の組成からなるイエロー染料層塗布液２〜７を用いた以外は同様にして、熱転写シート２〜７を作製した。

（イエロー染料層塗布液２）
前記イエロー染料層塗布液１において、色素（例示化合物１３）に代えて、下記表１に示すイエロー分散染料を用いた以外は同様にして、イエロー染料層塗布液２〜７を調製した。

《熱転写受像シートの作製》
〔熱転写受像シート１の作製〕
下記の内容に従って、熱転写受像シート１を作製した。

（支持体の作製）
受像シートの支持体として、コート紙（米坪量１５７ｇ／ｍ^２ ＯＫトップコートＳ王子製紙社製）を用い、その一方の面にコロナ放電処理を施した後、その面に裏面樹脂層として、エチレン−αオレフィン共重合体（タフマーＡ−４０８５三井石油化学工業社製）を１５質量％ブレンドした高密度ポリエチレン（ジェイレックスＬＺ０１３９−２、密度０．９５２、日本ポリオレフィン社製 以下、これをＨＤＰＥと略す。）と、ポリプロピレン（ジェイアロマーＬＲ７１１−５、密度０．９０５、日本ポリオレフィン社製 以下、これをＰＰと略す。）とを公知の多層Ｔダイによる共押し出しコート法でＨＤＰＥ側がコート紙に接するように２層共押し出しして積層した。また、外側になるＰＰ面には、コロナ放電処理を施した後、下記の組成からなる裏面層塗布液１を、乾燥固形分量が１．５ｇ／ｍ^２となるように塗布、乾燥して、支持体Ｂを作製した。なお、裏面樹脂層の厚さは、エチレン−αオレフィン共重合体ブレンドのＨＤＰＥ層が１４μｍ、ＰＰ層が１９μｍ、合計３３μｍとなるように加工した。

〈裏面層塗布液１の調製〉
アクリル樹脂（三菱レイヨン社製ＢＲ−８５） １９．８質量部
ナイロンフィラー（神東塗料社製ＭＷ−３３０） ０．６質量部
メチルエチルケトン ３９．８質量部
トルエン ３９．８質量部

（熱転写受像シートの作製）
一方、微細空隙樹脂層として、厚さ３５μｍの発泡ポリプロピレンシート（３５ＭＷ８４６ Ｍｏｂｉｌ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｅｕｒｏｐｅ社製）を用い、その一方の面に、下記の組成からなる中間層用塗布液と色素（染料）受像層用塗布液とを、グラビアリバースコート法により、各々乾燥時の塗布膜厚が１μｍと３μｍとになるように、順次塗布、乾燥して、中間層と染料受像層とが積層された発泡ポリプロピレンシートを作製した。

次に、上記発泡ポリプロピレンシートの中間層及び染料受像層を設けていない側の面（発泡ポリプロピレンシート面）と、前記支持体Ｂの裏面樹脂層を設けていない側の面（コート紙面）とを下記組成の接着剤を用いてドライラミネート法で貼り合わせて、熱転写受像シート１を作製した。

〈中間層塗布液の調製〉
ウレタン系樹脂（ニッポラン５１９９、日本ポリウレタン社製） ５．７質量部
酸化チタン（ＴＣＡ８８８、トーケム・プロダクツ社製） １１．４質量部
蛍光増白剤（ユビテックスＯＢ、日本チバガイギー社製） ０．２質量部
イソシアネート（タケネートＡ−１４、武田薬品工業社製） ２．０質量部
メチルエチルケトン １５．５質量部
トルエン １５．５質量部
イソプロピルアルコール ７．７質量部

〈色素（染料）受像層塗布液の調製〉
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（デンカビニル＃１０００Ａ 電気化学工業社製）
７．２質量部
塩化ビニル−スチレン−アクリル共重合体（デンカラック＃４００ 電気化学工業社製）
１．６質量部
ポリエステル（バイロン６００ 東洋紡績社製） １１．２質量部
金属イオン含有化合物（ＭＳ−１ ＊１） ８．０質量部
ビニル変性シリコーン（Ｘ−６２−１２１２ 信越化学工業社製） ２．０質量部
触媒：ＣＡＴ ＰＬＲ−５（信越化学工業社製） １．０質量部
触媒：ＣＡＴ ＰＬ−５０Ｔ（信越化学工業社製） １．２質量部
溶剤：メチルエチルケトン ３９．０質量部
溶剤：トルエン ３９．０質量部
＊１）ＭＳ−１：Ｎｉ^２＋［Ｃ_６Ｈ_５ＯＣ_４Ｈ_８ＣＯＣ（ＣＯＯＣ_４Ｈ_９）＝Ｃ（ＣＨ_３）Ｏ^‐］_２

〔熱転写受像シート２の作製〕
上記熱転写受像シート１の作製において、前記染料受像層塗布液から金属イオン含有化合物（ＭＳ−１）を除いた以外は同様にして、熱転写受像シート２を作製した。

《印画試料の作製》
上記作製した熱転写シート１〜７及び熱転写受像シート１〜２を使用し、昇華熱転写プリンター（コニカミノルタフォトイメージング社製 ＲＣ−６０２型）を用いて、１５階調ごと順次増加される階調値にてステップパターンを転写させて、引き続いて、画像上に透明保護層を転写させて印画試料１〜８を作製した。

得られた画像試料の感熱転写記録材料の感度、画像の耐光性、及び色再現性について下記に従って評価した。

《感度の評価》：
印画試料８（比較例）の画像濃度が１．０となる時の印加エネルギーを１とした時の各材料の相対的な印加エネルギーを求めた。数字が小さいほど感度が高いことを示す。結果を表２に示す。

《耐光性》：
得られた画像に対してキセノンフェードメーターで５日間光照射を行い耐光性を評価した。
光照射後の化合物残存率の結果を表２に示す。
尚、化合物残存率は光照射前の濃度をＤ_０、光照射後の濃度をＤとしてＤ／Ｄ_０×１００で表す。

《色再現性》
得られた画像の色調を目視で評価した。１０人のモニターによる目視評価により
鮮やかな色・・・○
くすんだ色・・・△
汚い色・・・・・×
の３段階で評価を行った。
結果を表２に示す。

表２が示す通り、本発明の化合物を用いた感熱転写記録材料は高感度で画像保存性（耐光性）および色再現性の良好な画像を得ることができる。

Claims (5)

1. 下記一般式（ＩＩ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。
   

   

   （一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。Ｒ_７、Ｒ_８は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。但し、Ｒ_７とＲ_８は互いに結合し環を形成していても良い。）
2. 下記一般式（ＩＩＩ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。
   

   

   （一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の和は３以上である。Ｒ_１３は、ハロゲン原子、置換基を表し、ｌは０〜４の整数を表す。）
3. 下記一般式（Ｖ）で表される色素を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。
   

   

   （一般式（Ｖ）中、Ｒ_１´は、アルキル基を表し、Ｒ_２´は、アルキル基、アシル基、カルバモイル基を表し、Ｒ_３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。但し、Ｒ_１´とＲ_２´の炭素数の総和は３以上である。Ｒ_１５は、ハロゲン原子、置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表す。但し、隣り合う炭素原子上に置換しているＲ _１５ は互いに結合し環を形成していても良い。）
4. 支持体上に前記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（Ｖ）で表される色素の少なくとも１種を含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、該受像材料に画像を形成することを特徴とする感熱転写記録方法。
5. 支持体上に前記一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（Ｖ）で表される色素の少なくとも１種を含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、支持体上に金属イオン含有化合物を含む色素受像層を有する受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、金属キレート色素画像を該受像材料に形成することを特徴とする感熱転写記録方法。