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JP4433296B2 - Active oxygen sterilization apparatus and active oxygen sterilization method - Google Patents
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Description

本発明は、例えば、細菌対策を必要とする医療分野、食品分野、衛生分野、遺伝子工学分野等の各分野において利用される活性酸素殺菌装置に関するものである。   The present invention relates to an active oxygen sterilizer that is used in various fields such as the medical field, the food field, the sanitary field, and the genetic engineering field that require countermeasures against bacteria.

従来、医療や食品や微生物関連産業等で利用される殺菌装置又は滅菌装置には、高温高圧蒸気殺菌(オートクレーブ)装置、エチレンオキサイドガス(EOG)殺菌装置、γ線等を利用した放射線殺菌装置等がある。   Conventionally, sterilizers or sterilizers used in medicine, food, microorganism-related industries, etc. include high-temperature and high-pressure steam sterilizers (autoclave) devices, ethylene oxide gas (EOG) sterilizers, radiation sterilizers using γ rays, etc. There is.

高温高圧蒸気殺菌装置は、約120℃の高温、高圧の水蒸気で殺菌(滅菌)する方法を利用したものである。この高温高圧蒸気殺菌装置は、金属製の器具等を殺菌する場合に使用することができるが、プラスチック製の容器等のように高温で変形してしまう製品を殺菌する場合には使用することができない。   The high-temperature and high-pressure steam sterilizer uses a method of sterilization (sterilization) with high-temperature and high-pressure steam at about 120 ° C. This high-temperature and high-pressure steam sterilizer can be used when sterilizing metal instruments and the like, but can be used when sterilizing products that are deformed at high temperatures such as plastic containers. Can not.

エチレンオキサイドガス殺菌装置は、エチレンオキサイドガスの毒性により病原菌や微生物を不活化する方法を利用したものである。このエチレンオキサイドガス殺菌装置は、プラスチック製の容器等も殺菌することができる。しかし、エチレンオキサイドガスは変異原性、発ガン性などの毒性、爆発性等を有するため、当該殺菌装置を使用する際には、作業者の健康上及び作業環境上の危険性が高い。しかも、処理に使用した高濃度のエチレンオキサイドガスが低濃度になるまでに長い時間を要し、総処理時間が長くなるという問題があった。また、使用済みのガスを大気中に放出すると、大気汚染の原因にもなる。そこで、現在では、他の方法によっては殺菌することが難しい場合のみ、エチレンオキサイドガス殺菌装置を使用するよう奨励されている。   The ethylene oxide gas sterilizer uses a method of inactivating pathogens and microorganisms due to the toxicity of ethylene oxide gas. This ethylene oxide gas sterilizer can sterilize plastic containers and the like. However, since ethylene oxide gas has toxicity such as mutagenicity and carcinogenicity, explosiveness, etc., when using the sterilizer, there is a high risk to workers' health and working environment. In addition, there is a problem that it takes a long time for the high concentration ethylene oxide gas used in the treatment to become a low concentration, and the total treatment time becomes long. Moreover, if used gas is released into the atmosphere, it may cause air pollution. Therefore, at present, it is recommended to use an ethylene oxide gas sterilizer only when it is difficult to sterilize by other methods.

γ線等を利用した放射線殺菌装置は、透過力があり加熱の必要もないのでプラスチック製の容器などを殺菌するのに適している。しかしながら、放射線であるために被曝したときの人体への影響が大きく、このため放射能を確実に管理する必要性から設備が大型になる。したがって、放射線殺菌を行うには、専門業者から殺菌(滅菌)した容器を購入するか、或いは委託して殺菌してもらう必要がある。   A radiation sterilization apparatus using gamma rays or the like is suitable for sterilizing plastic containers and the like because it has a permeability and does not require heating. However, since it is a radiation, it has a great influence on the human body when exposed to radiation. For this reason, the facility becomes large due to the necessity of reliably managing radioactivity. Therefore, in order to carry out radiation sterilization, it is necessary to purchase a sterilized (sterilized) container from a specialist or to have a sterilized contract.

また、従来から、オゾン供給装置、紫外線発生ランプ及び攪拌装置を備え、活性酸素を用いて殺菌する活性酸素殺菌装置も提案されている(例えば、特許文献1参照。)。この活性酸素殺菌装置では、オゾン供給装置から供給されたオゾンに紫外線発生ランプからの紫外線を照射することにより活性酸素を発生させ、その発生させた活性酸素を用いて容器等を殺菌する。   Conventionally, an active oxygen sterilization apparatus that includes an ozone supply device, an ultraviolet ray generation lamp, and a stirring device and sterilizes using active oxygen has also been proposed (see, for example, Patent Document 1). In this active oxygen sterilizer, active oxygen is generated by irradiating ozone supplied from an ozone supply device with ultraviolet rays from an ultraviolet ray generation lamp, and the generated active oxygen is used to sterilize containers and the like.

特許第2555613号公報Japanese Patent No. 2555613

活性酸素殺菌装置は、紫外線が直接届く表面の殺菌を行うことができるだけでなく、活性酸素を使用するので、被処理物の内側まで殺菌することができる。しかしながら、従来の活性酸素殺菌装置では、例えば、袋内に収納された医療器具を、医療福祉分野で求められる殺菌レベルまで殺菌する場合、袋内に十分な量の活性酸素を入り込ませることができず、このため殺菌処理に時間がかかるという問題があった。   The active oxygen sterilizer can not only sterilize the surface which ultraviolet rays reach directly, but also uses active oxygen, so it can sterilize the inside of the object to be processed. However, in a conventional active oxygen sterilization apparatus, for example, when a medical instrument stored in a bag is sterilized to a sterilization level required in the medical welfare field, a sufficient amount of active oxygen can enter the bag. Therefore, there has been a problem that the sterilization treatment takes time.

本発明は上記事情に基づいてなされたものであり、十分な量の活性酸素により、医療福祉分野等で求められている高い殺菌レベルの処理を短時間で行うことができる活性酸素殺菌装置及び活性酸素殺菌方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and an active oxygen sterilizer capable of performing a high sterilization level treatment required in the medical welfare field and the like in a short time with a sufficient amount of active oxygen and an active The object is to provide an oxygen sterilization method.

上記の目的を達成するための本発明に係る活性酸素殺菌装置は、処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、前記処理室内を冷却する冷却手段と、を具備し、前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記冷却手段を用いて前記処理室内の温度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とするものである。 An active oxygen sterilization apparatus according to the present invention for achieving the above object is an apparatus for sterilizing bacteria attached to an object to be processed with active oxygen in a processing chamber, and an oxygen supply means for supplying a gas containing oxygen into the processing chamber. A first lamp that generates at least ultraviolet light in the vacuum ultraviolet region, a second lamp that generates only ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm, a pressure reducing means for reducing the pressure in the processing chamber, and cooling the processing chamber. Cooling means, and after reducing the pressure in the processing chamber by the pressure reducing means, supplying the oxygen-containing gas into the processing chamber by the oxygen supply means , turning on the first lamp, and ultraviolet is generated active oxygen into the processing chamber by irradiating on the supplied the oxygen into the processing chamber to the front by controlling the temperature of the processing chamber and using the cooling means There row sterilized of said object to be processed by the active oxygen, wherein after completion of the sterilization process, the second of the residual ozone and active oxygen by lamp lit irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber the process of reducing the concentration is characterized in row Ukoto.

また、上記の目的を達成するための本発明に係る活性酸素殺菌装置は、処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、前記処理室内を加湿する加湿手段と、を具備し、前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記加湿手段を用いて前記処理室内の湿度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とするものである。 In addition, an active oxygen sterilization apparatus according to the present invention for achieving the above object is an apparatus for sterilizing bacteria attached to an object to be processed with active oxygen in a processing chamber, and supplying oxygen-containing gas into the processing chamber. A supply unit; a first lamp that generates at least ultraviolet rays in a vacuum ultraviolet region; a second lamp that generates only ultraviolet rays having a wavelength longer than 200 nm; a decompression unit that reduces the pressure in the processing chamber; Humidifying means for humidifying, and after the processing chamber is decompressed by the decompression means, the oxygen supply means supplies the oxygen-containing gas into the processing chamber, and the first lamp is turned on. to generate active oxygen into the processing chamber by irradiating the ultraviolet rays to the oxygen supplied into the processing chamber Te, and controls the humidity in the processing chamber using said humidifying means The have rows sterilization of the object to be processed by the active oxygen, the sterilization process after completion of the residual ozone by lit the second lamp irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber and Te the process of reducing the concentration of active oxygen is characterized in row Ukoto.

また、上記の目的を達成するための本発明に係る活性酸素殺菌装置は、処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、前記処理室内を冷却する冷却手段と、前記処理室内を加湿する加湿手段と、を具備し、前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記冷却手段を用いて前記処理室内の温度を制御すると共に前記加湿手段を用いて前記処理室内の湿度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とするものである。 In addition, an active oxygen sterilization apparatus according to the present invention for achieving the above object is an apparatus for sterilizing bacteria attached to an object to be processed with active oxygen in a processing chamber, and supplying oxygen-containing gas into the processing chamber. A supply unit; a first lamp that generates at least ultraviolet rays in a vacuum ultraviolet region; a second lamp that generates only ultraviolet rays having a wavelength longer than 200 nm; a decompression unit that reduces the pressure in the processing chamber; A cooling means for cooling and a humidifying means for humidifying the inside of the processing chamber, and after reducing the pressure in the processing chamber by the pressure reducing means, the oxygen supply means supplies the gas containing oxygen into the processing chamber. and, to generate active oxygen into the processing chamber by irradiating the ultraviolet lights the first lamp on the supplied the oxygen into the processing chamber, and the cooling hand There row sterilized of said object to be processed by the active oxygen by controlling the humidity in the processing chamber using said humidifying means to control the temperature of the processing chamber with after completion of the sterilizing treatment, the is characterized in row Ukoto the process to reduce the concentration of the residual ozone and active oxygen by irradiating the second of said ultraviolet light the lamp residual ozone in the processing chamber.

更に、上記の目的を達成するための本発明に係る活性酸素殺菌方法は、処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する方法において、前記処理室内を減圧状態にした後に、酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記処理室内の温度を約10〜40℃に制御すると共に前記処理室内の相対湿度を約20〜50%に制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とするものである。 Further, active oxygen disinfection method according to the present invention for achieving the above object, a method for sterilizing microorganisms from the object to be treated by the active oxygen in the process chamber, after the processing chamber in a reduced pressure state, the oxygen A gas containing the active oxygen is supplied to the processing chamber by illuminating the oxygen supplied to the processing chamber by turning on a first lamp that generates at least a vacuum ultraviolet region. is generated in, and row physician sterilized of said object to be processed by the active oxygen by controlling the relative humidity in the processing chamber to about 20-50% to control the temperature of the processing chamber to about 10 to 40 ° C. After completion of the sterilization treatment, the residual ozone is irradiated by illuminating the residual ozone in the processing chamber by turning on a second lamp that generates only ultraviolet rays having a wavelength longer than 200 nm. The process to reduce the concentration of fine active oxygen and is characterized in row Ukoto.

本発明は、処理室内の温度及び/又は湿度を所定の値に制御することにより、処理室内の活性酸素の濃度を高めることができ、これにより医療福祉分野等で求められている高い殺菌レベルの処理を短時間で行なうことができる。   By controlling the temperature and / or humidity in the processing chamber to a predetermined value, the present invention can increase the concentration of active oxygen in the processing chamber, thereby achieving a high sterilization level required in the medical welfare field and the like. Processing can be performed in a short time.

以下に、図面を参照して、本願に係る発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は本発明の1実施形態である活性酸素殺菌装置の概略構成図である。図1に示すように、本実施形態の活性酸素殺菌装置は、被処理物を収納するチャンバー(処理室)10と、チャンバー10に酸素を含んだガスを供給する酸素供給装置(酸素供給手段)20と、ガスの流量(注入速度)を制御するマスフローコントローラ30と、活性酸素発生用ランプ(第一のランプ)40と、活性酸素分解用ランプ(第二のランプ)50と、チャンバー10内のガスを循環させる送風ファン60a,60bと、チャンバー10内を減圧する真空ポンプ(減圧手段)70と、オゾン分解触媒71と、チャンバー10内を冷却する冷却装置(冷却手段)80と、冷却用配管81と、チャンバー10内を加湿する加湿装置(加湿手段)90と、被処理物を載置する処理台11(不図示)と、チャンバー10内の温度と湿度を制御する制御部(制御手段)100と、チャンバー10内の温度を検出する温度センサ(温度検出手段)101と、チャンバー10内の湿度を検出する湿度センサ(湿度検出手段)102とを備えるものである。尚、図1においては、図を簡略化するために、処理台11は省略している。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an active oxygen sterilizer according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the active oxygen sterilizer of this embodiment includes a chamber (processing chamber) 10 for storing an object to be processed, and an oxygen supply device (oxygen supply means) for supplying a gas containing oxygen to the chamber 10. 20, a mass flow controller 30 that controls the flow rate (injection speed) of the gas, an active oxygen generation lamp (first lamp) 40, an active oxygen decomposition lamp (second lamp) 50, Blowers 60a and 60b for circulating gas, a vacuum pump (decompression unit) 70 for depressurizing the inside of the chamber 10, an ozone decomposition catalyst 71, a cooling device (cooling unit) 80 for cooling the interior of the chamber 10, and a cooling pipe 81, a humidifying device (humidifying means) 90 for humidifying the inside of the chamber 10, a processing table 11 (not shown) on which an object to be processed is placed, and the temperature and humidity in the chamber 10 are controlled. A control unit (control means) 100 for controlling, a temperature sensor (temperature detection means) 101 for detecting the temperature in the chamber 10, and a humidity sensor (humidity detection means) 102 for detecting the humidity in the chamber 10 are provided. is there. In FIG. 1, the processing table 11 is omitted to simplify the drawing.

図2は本実施形態の活性酸素殺菌装置のチャンバー10の概略斜視図、図3は本実施形態の処理台11に被処理物1を載置した状態を示す概略斜視図、図4は低圧水銀ランプの発光分布と酸素及びオゾンの吸収帯とを説明するための図、図5は活性酸素を発生させる原理を説明するための図である。チャンバー10は、活性酸素を用いて処理台11に載置した被処理物1を殺菌処理するためのものである。酸素供給装置20は、チャンバー10内に酸素を含むガスを供給するものである。酸素を含むガスとしては、少なくとも空気に含まれる酸素の割合と同じ割合の酸素を含むガス、すなわち、少なくとも酸素が全体の約20%(体積)を占めるようなガスを用いることが望ましい。例えば、酸素を含むガスとして、空気や純酸素またはPSA等の酸素ガス発生装置を用いることができる。また、マスフローコントローラ30は、酸素供給装置20からチャンバー10内に供給するガスの流量(注入速度)をコントロールするものである。具体的には、当該ガスがある一定の流量以上でチャンバー10内に流入しないようにコントロールしている。   FIG. 2 is a schematic perspective view of the chamber 10 of the active oxygen sterilizer according to the present embodiment, FIG. 3 is a schematic perspective view showing a state in which the workpiece 1 is placed on the processing table 11 of the present embodiment, and FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining the light emission distribution of the lamp and oxygen and ozone absorption bands, and FIG. 5 is a diagram for explaining the principle of generating active oxygen. The chamber 10 is for sterilizing the workpiece 1 placed on the processing table 11 using active oxygen. The oxygen supply device 20 supplies a gas containing oxygen into the chamber 10. As the gas containing oxygen, it is desirable to use a gas containing at least the same proportion of oxygen contained in air, that is, a gas in which at least oxygen occupies about 20% (volume). For example, an oxygen gas generator such as air, pure oxygen, or PSA can be used as the gas containing oxygen. The mass flow controller 30 controls the flow rate (injection speed) of the gas supplied from the oxygen supply device 20 into the chamber 10. Specifically, the gas is controlled not to flow into the chamber 10 at a certain flow rate or higher.

活性酸素発生用ランプ40は、真空紫外域の紫外線を発生するものであり、活性酸素分解用ランプ50は、真空紫外域以外の紫外線を発生するものである。これらの紫外線ランプ40,50は、チャンバー10内に設けられている。ここで、真空紫外域の紫外線とは、波長が200nmから1nmまでの範囲にある紫外線をいい、真空紫外域以外の紫外線とは、波長が400nmから200nmまでの範囲にある紫外線をいう。   The active oxygen generation lamp 40 generates ultraviolet light in the vacuum ultraviolet region, and the active oxygen decomposition lamp 50 generates ultraviolet light outside the vacuum ultraviolet region. These ultraviolet lamps 40 and 50 are provided in the chamber 10. Here, the ultraviolet ray in the vacuum ultraviolet region means an ultraviolet ray having a wavelength in the range from 200 nm to 1 nm, and the ultraviolet ray outside the vacuum ultraviolet region means an ultraviolet ray having a wavelength in the range from 400 nm to 200 nm.

通常、かかる紫外線発生ランプ40,50としては、例えば低圧水銀ランプやキセノンガスを封じてあるエキシマランプが用いられる。図4に一般の低圧水銀ランプの発光分布を示す。図4において横軸は波長(nm)、縦軸は比エネルギー(%)である。低圧水銀ランプでは、図4に示すように、飛び飛びの波長の光が出力される。主な出力光は、波長185nm、波長254nm、波長313nm、波長366nm等の紫外線である。尚、図4において比エネルギーとは、最大出力の波長254nmの光のエネルギーに対する当該光のエネルギーの割合(%)のことである。   Usually, as the ultraviolet ray generation lamps 40 and 50, for example, a low-pressure mercury lamp or an excimer lamp in which xenon gas is sealed is used. FIG. 4 shows the light emission distribution of a general low-pressure mercury lamp. In FIG. 4, the horizontal axis represents wavelength (nm) and the vertical axis represents specific energy (%). In the low-pressure mercury lamp, as shown in FIG. 4, light having a jumping wavelength is output. The main output light is ultraviolet light having a wavelength of 185 nm, a wavelength of 254 nm, a wavelength of 313 nm, a wavelength of 366 nm, and the like. In FIG. 4, the specific energy is the ratio (%) of the energy of the light to the energy of the light having the maximum output wavelength of 254 nm.

活性酸素発生用ランプ40と活性酸素分解用ランプ50は本来同一のランプ(例えば、低圧水銀ランプ)であるが、発光管の材質を変えることにより、所望の波長域の紫外線が外部に出力されるように調整している。具体的には、活性酸素発生用ランプ40における発光管の材質としては、例えば普通石英(天然溶融石英ガラス)又は合成石英を用いている。かかる合成石英等は波長200nm以下の紫外線も透過するので、活性酸素発生用ランプ40からは、波長が200nmより長い紫外線とともに、波長が200nm以下である紫外線も外部に出力される。また、活性酸素分解用ランプ50における発光管の材質としては、例えば石英に酸化チタンを入れた石英ガラスを用いている。かかる酸化チタンは波長200nm以下の紫外線を吸収するので、活性酸素分解用ランプ50からは波長が200nmより長い紫外線だけが外部に出力される。尚、活性酸素発生用ランプ40は、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生するものであればよく、この例のように、活性酸素発生用ランプ40としては、真空紫外域の紫外線と真空紫外域以外の紫外線とを両方発生するものを用いてもよい。   The active oxygen generation lamp 40 and the active oxygen decomposition lamp 50 are essentially the same lamp (for example, a low-pressure mercury lamp), but ultraviolet rays in a desired wavelength region are output to the outside by changing the material of the arc tube. It is adjusted so that. Specifically, as the material of the arc tube in the active oxygen generation lamp 40, for example, ordinary quartz (natural fused quartz glass) or synthetic quartz is used. Since such synthetic quartz or the like also transmits ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less, the active oxygen generation lamp 40 outputs ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm and ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less to the outside. Further, as a material of the arc tube in the active oxygen decomposition lamp 50, for example, quartz glass in which titanium oxide is added to quartz is used. Since such titanium oxide absorbs ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or less, only the ultraviolet rays having a wavelength longer than 200 nm are output from the active oxygen decomposition lamp 50 to the outside. The active oxygen generation lamp 40 may be any lamp that generates at least ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region. As in this example, the active oxygen generation lamp 40 is not limited to ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region and the vacuum ultraviolet region. Those that generate both ultraviolet rays may be used.

本実施形態の活性酸素殺菌装置では、反応性の高い活性酸素により被処理物の殺菌処理を行う。かかる活性酸素は、図5に示す反応を利用して発生させる。図4には酸素及びオゾンの吸収帯も示されている。かかる吸収帯に関しては、図4の縦軸は吸収率を表す。酸素は、図4に示すように、波長200nm以下の紫外線に対する吸収をもっている。このため、酸素が波長200nm以下の紫外線を受けると、図5(a)に示す反応により、活性酸素が生成される。本実施形態では、活性酸素発生用ランプ40から発せられる波長185nmの紫外線により、図5(a)の反応を進行させることになる。また、活性酸素は不安定なものであるので、図5(a)に示す反応の逆反応により活性酸素が活性酸素と結合して再び酸素に戻ったり、あるいは、図5(b)に示す反応により活性酸素が酸素と結合してオゾンが発生したりする。一方、オゾンは、図4に示すように、波長260nm付近をピークとする紫外線に対する吸収をもっている。このため、オゾンが波長254nm付近の紫外線を受けると、図5(c)に示す反応により、オゾンは酸素と活性酸素に分解する。本実施形態では、活性酸素分解用ランプ50から発せられる波長254nmの紫外線により、図5(c)の反応を進行させることになる。   In the active oxygen sterilization apparatus of this embodiment, an object to be processed is sterilized with active oxygen having high reactivity. Such active oxygen is generated using the reaction shown in FIG. FIG. 4 also shows oxygen and ozone absorption bands. For such an absorption band, the vertical axis in FIG. 4 represents the absorption rate. As shown in FIG. 4, oxygen has absorption for ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or less. For this reason, when oxygen receives ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or less, active oxygen is generated by the reaction shown in FIG. In the present embodiment, the reaction shown in FIG. 5A is caused to proceed by ultraviolet rays having a wavelength of 185 nm emitted from the active oxygen generation lamp 40. Further, since active oxygen is unstable, the active oxygen is combined with active oxygen and returned to oxygen again by the reverse reaction of the reaction shown in FIG. 5A, or the reaction shown in FIG. 5B. As a result, active oxygen is combined with oxygen to generate ozone. On the other hand, as shown in FIG. 4, ozone has absorption with respect to ultraviolet rays having a peak near a wavelength of 260 nm. For this reason, when ozone receives ultraviolet rays having a wavelength of around 254 nm, ozone is decomposed into oxygen and active oxygen by the reaction shown in FIG. In the present embodiment, the reaction shown in FIG. 5C is advanced by ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm emitted from the active oxygen decomposition lamp 50.

このように、本実施形態の活性酸素殺菌装置では、活性酸素発生用ランプ40で紫外線を発生させることにより、図5(a)に示す反応を利用して、チャンバー10内に活性酸素を発生させることができる。したがって、本実施形態の活性酸素殺菌装置は、チャンバー10内に酸素を含むガスを供給し、その酸素から活性酸素を生成している点で、従来の活性酸素殺菌装置とは異なる。従来の活性酸素殺菌装置では、オゾナイザー等からチャンバー内にオゾンを供給し、そのオゾンから活性酸素を生成しているのである。   As described above, in the active oxygen sterilization apparatus of the present embodiment, the active oxygen generation lamp 40 generates ultraviolet rays to generate active oxygen in the chamber 10 using the reaction shown in FIG. be able to. Therefore, the active oxygen sterilizer of this embodiment is different from the conventional active oxygen sterilizer in that a gas containing oxygen is supplied into the chamber 10 and active oxygen is generated from the oxygen. In the conventional active oxygen sterilizer, ozone is supplied into the chamber from an ozonizer or the like, and active oxygen is generated from the ozone.

尚、活性酸素発生用ランプ40は、その真空紫外域の紫外線を効率よく酸素に照射するために、酸素供給装置20からの酸素がチャンバー10に流入する流入口の近傍に設けることが望ましい。   The active oxygen generation lamp 40 is desirably provided in the vicinity of the inlet through which oxygen from the oxygen supply device 20 flows into the chamber 10 in order to efficiently irradiate oxygen with ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region.

活性酸素分解用ランプ50は、殺菌処理後にチャンバー10内に残留しているオゾンの分解処理のために使用する。すなわち、殺菌処理が終了した後、活性酸素発生用ランプ40を消灯した状態にすると図5(a)に示す反応により発生した活性酸素は不安定な物質であるので、図5(b)に示す反応により、オゾンが発生しチャンバー10内に残留する。チャンバー10内のオゾンの濃度が高いと人体に悪影響を及ぼすので、活性酸素分解用ランプ50を点灯することにより、図5(c)に示す反応を進行させて、チャンバー10内に残留したオゾンを分解することができる。これにより、チャンバー10内のオゾン濃度が急速に低下し、これに伴い、活性酸素は図5(a)に示す反応と逆の反応により酸素に戻るので、活性酸素の濃度も急速に低下することになる。本実施形態の活性酸素殺菌装置では、殺菌処理後にチャンバー10内に残留しているオゾン及び活性酸素を容易に分解することができるので、オゾン等の自然消滅を待たずに、殺菌処理後短時間で、被処理物1をチャンバー10から取り出すことができる。このように、活性酸素分解用ランプ50は、殺菌処理後にオゾンを分解してオゾン及び活性酸素の濃度を低下させる役割を果たす。   The active oxygen decomposing lamp 50 is used for decomposing ozone remaining in the chamber 10 after sterilization. That is, when the active oxygen generation lamp 40 is turned off after the sterilization process is completed, the active oxygen generated by the reaction shown in FIG. 5A is an unstable substance. Ozone is generated by the reaction and remains in the chamber 10. Since the human body is adversely affected if the ozone concentration in the chamber 10 is high, by turning on the active oxygen decomposition lamp 50, the reaction shown in FIG. Can be disassembled. As a result, the ozone concentration in the chamber 10 rapidly decreases, and the active oxygen returns to oxygen by a reaction opposite to the reaction shown in FIG. 5 (a), so that the concentration of active oxygen also decreases rapidly. become. In the active oxygen sterilization apparatus of the present embodiment, ozone and active oxygen remaining in the chamber 10 after sterilization can be easily decomposed, so that a short time after sterilization without waiting for natural disappearance of ozone or the like. Thus, the workpiece 1 can be taken out from the chamber 10. As described above, the active oxygen decomposition lamp 50 plays a role of decomposing ozone after the sterilization treatment to lower the concentration of ozone and active oxygen.

なお、空気中の酸素に紫外線を照射すると、実際には、オゾン(O3)と活性酸素(O・)の他に、スーパーオキサイド、ヒドロキシラジカル等、酸素原子を含む多種多様な活性酸素化学種が生成される。しかし、オゾン(O3)と活性酸素(O・)以外の化学種は存在比率が小さくまた寿命も短いので、上記の説明では簡単化のために、活性酸素化学種のうちオゾンと活性酸素だけを取り上げて記述した。 In addition, when ultraviolet rays are irradiated to oxygen in the air, in fact, in addition to ozone (O 3 ) and active oxygen (O.), a wide variety of active oxygen species including oxygen atoms such as superoxide and hydroxy radicals. Is generated. However, chemical species other than ozone (O 3 ) and active oxygen (O.) have a small abundance ratio and a short lifetime, so in the above description, for the sake of simplicity, only ozone and active oxygen are included in the active oxygen species. Was taken up and described.

また、紫外線発生ランプ40,50は、紫外線を効率よく放射する電極部の温度帯があり、本ランプの場合、約40℃である。このため、本紫外線発生ランプ40,50には、ランプの電極部を冷却するための専用の冷却装置(不図示)が設けられている。   Further, the ultraviolet ray generating lamps 40 and 50 have a temperature zone of an electrode portion that efficiently radiates ultraviolet rays, and in the case of this lamp, the temperature is about 40 ° C. For this reason, the ultraviolet ray generation lamps 40 and 50 are provided with a dedicated cooling device (not shown) for cooling the electrode portions of the lamps.

真空ポンプ70は、チャンバー10内の圧力を減じるものである。この真空ポンプ70としては、大気圧を100kPaとしたときに、チャンバー10内の圧力を1kPa程度に減圧させる能力があるものであれば十分であり、例えばロータリー真空ポンプやスクロール式真空ポンプやダイヤフラム式真空ポンプ等を用いることができる。本実施形態では、後述するように、チャンバー10内を減圧状態にした後、殺菌処理を開始する。尚、以下では、大気圧を100kPaとして、圧力を表現することにする。   The vacuum pump 70 reduces the pressure in the chamber 10. As the vacuum pump 70, it is sufficient if it has an ability to reduce the pressure in the chamber 10 to about 1 kPa when the atmospheric pressure is set to 100 kPa. For example, a rotary vacuum pump, a scroll vacuum pump, a diaphragm type, etc. A vacuum pump or the like can be used. In the present embodiment, as will be described later, the sterilization process is started after the inside of the chamber 10 is in a reduced pressure state. In the following, the pressure is expressed by assuming that the atmospheric pressure is 100 kPa.

また、真空ポンプ70とチャンバー10との間にはオゾン分解触媒71を設けている。オゾン分解触媒71としては、例えばマンガン系の金属触媒が用いられる。これにより、チャンバー10内のガスを排気するときに残留オゾンが外部に排出されるのを防止することができる。   An ozone decomposition catalyst 71 is provided between the vacuum pump 70 and the chamber 10. As the ozonolysis catalyst 71, for example, a manganese metal catalyst is used. Thereby, it is possible to prevent residual ozone from being discharged to the outside when the gas in the chamber 10 is exhausted.

二台の送風ファン60は、チャンバー10内に含まれるガス(活性酸素を含む)を攪拌するためのものであり、図2に示すように送風ファン60aは処理台11の下に、また送風ファン60bは処理台11の近傍に設けられている。送風ファン60aは、チャンバー10の底面からチャンバー10の上蓋10aに向かってガスの流れができるように送風する。また、送風ファン60bは、チャンバー10の上蓋10aからチャンバー10の底面に向かってガスの流れができるように送風する。この二台の送風ファン60により、チャンバー10内のガスは処理台11の下から上に流れ、チャンバー10の内側面に沿って上から下に流れる。すなわち、本実施形態では、チャンバー10内のガスは、チャンバー10の中央では下から上に流れ、チャンバー10の周側部では上から下に流れてチャンバー10内を循環する。このように殺菌処理時に送風ファン60を回転させてガスを循環させることにより、チャンバー10内の活性酸素はランプ等の陰になる部分にも回りこませることができるので、当該陰になる部分の被処理物1も効果的に殺菌することができる。   The two blower fans 60 are for agitating the gas (including active oxygen) contained in the chamber 10, and as shown in FIG. 2, the blower fan 60 a is placed under the processing table 11 and the blower fan. 60 b is provided in the vicinity of the processing table 11. The blower fan 60 a blows air so that a gas can flow from the bottom surface of the chamber 10 toward the upper lid 10 a of the chamber 10. The blower fan 60 b blows air so that a gas can flow from the upper lid 10 a of the chamber 10 toward the bottom surface of the chamber 10. By these two blower fans 60, the gas in the chamber 10 flows from the bottom to the top of the processing table 11 and flows from the top to the bottom along the inner surface of the chamber 10. That is, in the present embodiment, the gas in the chamber 10 flows from the bottom to the top in the center of the chamber 10 and flows from the top to the bottom in the peripheral side portion of the chamber 10 to circulate in the chamber 10. In this way, by rotating the blower fan 60 and circulating the gas during the sterilization process, the active oxygen in the chamber 10 can be circulated to the shadowed portion of the lamp or the like. The workpiece 1 can also be sterilized effectively.

冷却装置80は、チャンバー10内を冷却するためのものであり、水冷式のチリングユニットを用いている。冷却用配管81内には、冷却装置80により冷却されたクーラント(冷却液)が循環して流れる。冷却用配管81は、チャンバー10内の被処理物1を置く処理台11を囲むようにして配置されている。尚、冷却配管81は、図2に示すように本実施形態では被処理物1を置く処理台11を囲むようにして一重に配管してあるが、冷却効果を向上させるために二重、三重又はそれ以上にしても構わない。   The cooling device 80 is for cooling the inside of the chamber 10 and uses a water-cooled chilling unit. In the cooling pipe 81, the coolant (coolant) cooled by the cooling device 80 circulates and flows. The cooling pipe 81 is disposed so as to surround the processing table 11 on which the workpiece 1 in the chamber 10 is placed. In the present embodiment, the cooling pipe 81 is formed as a single pipe so as to surround the processing table 11 on which the workpiece 1 is placed as shown in FIG. 2, but in order to improve the cooling effect, the cooling pipe 81 is double, triple or It does not matter even if it is above.

加湿装置90は、チャンバー10内を加湿するためのものであり、本実施形態では超音波式の加湿装置90を使用している。超音波式の加湿装置90は、超音波の振動で水を霧状にするタイプのものである。尚、本実施形態では超音波振動式の加湿装置90を用いたがチャンバー10内を加湿できるものであれば、加熱式等のものでもよい。   The humidifier 90 is for humidifying the inside of the chamber 10, and the ultrasonic humidifier 90 is used in this embodiment. The ultrasonic humidifier 90 is of a type that makes water mist by ultrasonic vibration. In the present embodiment, the ultrasonic vibration type humidifier 90 is used. However, a heating type or the like may be used as long as the inside of the chamber 10 can be humidified.

チャンバー10内には、温度センサ101及び湿度センサ102が取り付けられている。制御部100は、温度センサ101が検出したチャンバー10内の温度に基づいて、冷却装置80を制御してチャンバー10内を所定の温度に制御する。また、制御部100は、湿度センサ102が検出したチャンバー10内の湿度に基づいて、加湿装置90を制御してチャンバー10内を所定の湿度に制御する。本実施形態の活性酸素殺菌装置では、活性酸素発生用ランプ40を点灯すると、このランプの熱でチャンバー10内の温度が上昇し、チャンバー10内の温度が40°C以上になることがある。チャンバー10内の温度が40°C以上になると、活性酸素による殺菌効果が低くなり、殺菌処理に時間がかかるようになる。また、チャンバー10内の温度が10°C以下になると、活性酸素発生用ランプ40の発光効率が極端に落ちるので、十分な量の活性酸素を生成することができなくなる。このため、制御部100は、冷却装置80を駆動して、チャンバー10内の温度が約10〜40℃の範囲内の所定の温度になるように制御する。   A temperature sensor 101 and a humidity sensor 102 are attached in the chamber 10. The controller 100 controls the cooling device 80 based on the temperature in the chamber 10 detected by the temperature sensor 101 to control the inside of the chamber 10 to a predetermined temperature. Further, the control unit 100 controls the humidifier 90 based on the humidity in the chamber 10 detected by the humidity sensor 102 to control the inside of the chamber 10 to a predetermined humidity. In the active oxygen sterilization apparatus of this embodiment, when the active oxygen generation lamp 40 is turned on, the temperature in the chamber 10 is increased by the heat of the lamp, and the temperature in the chamber 10 may become 40 ° C. or higher. When the temperature in the chamber 10 is 40 ° C. or higher, the sterilizing effect due to active oxygen becomes low, and the sterilization process takes time. Further, when the temperature in the chamber 10 is 10 ° C. or lower, the luminous efficiency of the active oxygen generation lamp 40 is extremely lowered, so that a sufficient amount of active oxygen cannot be generated. For this reason, the control part 100 drives the cooling device 80, and controls it so that the temperature in the chamber 10 may become predetermined temperature in the range of about 10-40 degreeC.

また、本実施形態の活性酸素殺菌装置では、チャンバー10内を減圧するので、この減圧処理により、チャンバー内の相対湿度は約10%以下になる。また、減圧後に、例えば酸素を含むガスを供給しても、この酸素を含むガスには水分は含まれていないので、チャンバー内の相対湿度は下がったままである。更に、本実施形態の装置では、チャンバー内を冷却するために、冷却装置80を駆動する。すると、チャンバー10内に配管した冷却用配管81が冷えて、冷却用配管81に結露が生じ、チャンバー10内の湿度はさらに下がる。このようにチャンバー10内の相対湿度が10%より下がると、後述するように活性酸素による殺菌効果が低くなり、処理に時間がかかるようになる。このため、本実施形態は、チャンバー内の湿度を湿度センサ102によって検出し、検出した湿度に基づいて制御部100が加湿装置90を駆動して、チャンバー10を加湿している。本実施形態の装置では、チャンバー内の湿度は、約20〜50%の範囲内の所定の湿度に保持される。   Moreover, in the active oxygen sterilizer of this embodiment, since the inside of the chamber 10 is pressure-reduced, the relative humidity in a chamber will be about 10% or less by this pressure reduction process. Further, even if a gas containing oxygen is supplied after decompression, for example, the gas containing oxygen does not contain moisture, so the relative humidity in the chamber remains low. Furthermore, in the apparatus of this embodiment, the cooling device 80 is driven to cool the inside of the chamber. Then, the cooling pipe 81 piped in the chamber 10 is cooled, condensation occurs in the cooling pipe 81, and the humidity in the chamber 10 further decreases. Thus, when the relative humidity in the chamber 10 falls below 10%, the sterilizing effect by active oxygen is lowered as described later, and the processing takes time. For this reason, in this embodiment, the humidity in the chamber is detected by the humidity sensor 102, and the control unit 100 drives the humidifier 90 based on the detected humidity to humidify the chamber 10. In the apparatus of this embodiment, the humidity in the chamber is maintained at a predetermined humidity within a range of about 20 to 50%.

処理台11は、図3に示すように、被処理物1を載置するためのものであり、送風ファン60により循環される活性酸素が効率よく被処理物1に行渡るように丸棒で形成されている。被処理物1は、袋2に入れた状態で滅菌処理される。この袋2の表面の素材には、活性酸素や水蒸気を透過する素材である、高密度ポリエチレンを用いたフラッシュ紡糸不織布、例えば、タイベック(米国デュポン社、登録商標)を用いている。また、袋2の裏面の素材には、ポリプロピレンを用いている。尚、袋2は、本実施形態の素材に限られるものではなく、活性酸素が効率よく透過するものであればどのようなものであってもよい。例えば、表面及び裏面の一部、或いは表面及び裏面の両面全体にタイベック(米国デュポン社、登録商標)を用いた袋でもよい。   As shown in FIG. 3, the processing table 11 is for placing the object to be processed 1 and is a round bar so that the active oxygen circulated by the blower fan 60 can be efficiently distributed to the object to be processed 1. Is formed. The object to be processed 1 is sterilized while being put in the bag 2. The material of the surface of the bag 2 is a flash-spun nonwoven fabric using high-density polyethylene, which is a material that transmits active oxygen or water vapor, such as Tyvek (DuPont, USA). In addition, polypropylene is used as a material for the back surface of the bag 2. In addition, the bag 2 is not restricted to the raw material of this embodiment, What kind of thing may be used if active oxygen permeate | transmits efficiently. For example, it may be a bag using Tyvek (DuPont, USA) on a part of the front and back surfaces, or on both the front and back surfaces.

通常、医療器具の製造会社では、医療器具を殺菌袋に入れて殺菌した状態で販売する。医療機関で、この医療器具を使用するときには、この袋を破って、収納されている器具を取り出して使用している。本実施形態でも、より実際に近い状態で、殺菌処理を行うために、以下では、医療器具等の被処理物1を袋2に入れた状態で殺菌処理を行う場合について説明する。   Usually, a medical instrument manufacturer sells a medical instrument in a sterilized bag. When using this medical instrument in a medical institution, the bag is broken and the stored instrument is taken out and used. In the present embodiment as well, in order to perform sterilization processing in a state closer to reality, a case will be described below in which sterilization processing is performed in a state where an object 1 such as a medical instrument is placed in a bag 2.

なお、被処理物1が、紫外線を直接照射しても材質劣化の生じないテフロン(登録商標)樹脂製や金属製のものである場合、紫外線を直接照射するようにすれば紫外線による効果と活性酸素による効果の相乗効果が得られ、より高いレベルの殺菌処理を迅速に行うことができる。また、被処理物1が、紫外線で材質劣化等が懸念されるプラスチック製品や紙製品の場合、紫外線が直接被処理物1に当たらないように紫外線をカットする金属板やガラス板等を被処理物1と紫外線ランプとの間に配置することにより、紫外線の照射を避けて、活性酸素による殺菌処理を行うことができる。   In addition, when the to-be-processed object 1 is a Teflon (trademark) resin or metal thing which does not produce material deterioration even if it irradiates directly with an ultraviolet-ray, if it irradiates with an ultraviolet-ray directly, the effect and activity by ultraviolet-ray A synergistic effect of the effect of oxygen is obtained, and a higher level of sterilization can be performed quickly. In addition, when the object to be processed 1 is a plastic product or paper product whose material deterioration is a concern due to ultraviolet rays, a metal plate or glass plate that cuts ultraviolet rays so that ultraviolet rays do not directly hit the object to be treated 1 is treated. By disposing it between the object 1 and the ultraviolet lamp, sterilization with active oxygen can be performed while avoiding irradiation with ultraviolet rays.

次に、本実施形態の活性酸素殺菌装置において被処理物の殺菌を行う処理手順を説明する。図6は本実施形態の活性酸素殺菌装置において被処理物の殺菌を行う処理手順を説明するためのフローチャートである。   Next, a processing procedure for sterilizing an object to be processed in the active oxygen sterilizer according to this embodiment will be described. FIG. 6 is a flowchart for explaining a processing procedure for sterilizing an object to be processed in the active oxygen sterilizer of this embodiment.

まず、片面にタイベック(米国デュポン社、登録商標)を用いた袋2に被処理物1を入れ、その袋2をチャンバー10内の処理台11に載置する(S1)。次に、真空ポンプ70により、チャンバー10内の圧力を減じる(S2)。例えば、チャンバー10内の圧力を1kPaに減圧する。その後、酸素供給装置20から酸素を含むガスをチャンバー10内に供給すると共に、活性酸素発生用ランプ40を点灯する(S3)。これにより、図5(a)に示す反応が起こり、チャンバー10内には活性酸素が発生する。このとき、チャンバー10内を減圧状態にした後、酸素供給装置20から酸素を含むガスをチャンバー10内に供給するので、チャンバー10内に流入した酸素を含むガスや発生した活性酸素等は、チャンバー10内のすべての部分に急速に拡散していく。このため、例えば、袋2に入れた被処理物1を殺菌する場合にその袋2内に活性酸素等を十分入り込ませたり、筒状の被処理物1を殺菌する場合には、その被処理物1の内部にまで活性酸素等を行渡らせたりすることができる。   First, the workpiece 1 is placed in a bag 2 using Tyvek (DuPont, USA, registered trademark) on one side, and the bag 2 is placed on the processing table 11 in the chamber 10 (S1). Next, the pressure in the chamber 10 is reduced by the vacuum pump 70 (S2). For example, the pressure in the chamber 10 is reduced to 1 kPa. Thereafter, a gas containing oxygen is supplied from the oxygen supply device 20 into the chamber 10, and the active oxygen generation lamp 40 is turned on (S3). Thereby, the reaction shown in FIG. 5A occurs, and active oxygen is generated in the chamber 10. At this time, after the inside of the chamber 10 is depressurized, a gas containing oxygen is supplied from the oxygen supply device 20 into the chamber 10, so that the gas containing oxygen flowing into the chamber 10, the generated active oxygen, etc. It spreads rapidly to all parts of 10. For this reason, for example, when sterilizing the object to be processed 1 placed in the bag 2, if the active oxygen or the like is sufficiently introduced into the bag 2 or if the cylindrical object to be processed 1 is sterilized, the object to be processed Active oxygen or the like can be distributed to the inside of the object 1.

尚、真空ポンプ70によりチャンバー10内をどの程度減圧させるのかについては、例えば、チャンバー10内の圧力を10kPaから0.1kPaまでの範囲にすることが望ましい。0.1kPaよりも大きく減圧できるようにするには、装置の製造コストがかさんでしまい、また、少なくとも10kPa程度にチャンバー10内を減圧すれば、活性酸素をある程度拡散させることができるからである。   As to how much the inside of the chamber 10 is depressurized by the vacuum pump 70, for example, it is desirable to set the pressure in the chamber 10 to a range from 10 kPa to 0.1 kPa. This is because, in order to be able to depressurize more than 0.1 kPa, the manufacturing cost of the apparatus is increased, and if the pressure in the chamber 10 is reduced to at least about 10 kPa, active oxygen can be diffused to some extent. .

こうして酸素を含むガスをチャンバー10内に供給すると、チャンバー10内の圧力は徐々に大気圧に戻ってくる。そして、酸素を含むガスの供給開始から所定時間経過したときに、酸素を含むガスの供給を停止する(S4)。ここで、所定時間とは、チャンバー10内の圧力が大気圧よりも少し低い所定の圧力、例えば94kPaになるまでの時間である。このように、ガスの供給停止時にチャンバー10内の圧力を大気圧から若干減圧した状態にしているのは、大気圧にしてしまうと、チャンバー10内のガスが外部に漏れてしまうおそれがあるからである。尚、このときも、活性酸素発生用ランプ40は点灯したままにしておく。   When the gas containing oxygen is supplied into the chamber 10 in this way, the pressure in the chamber 10 gradually returns to atmospheric pressure. And supply of the gas containing oxygen is stopped when predetermined time passes since the supply start of the gas containing oxygen (S4). Here, the predetermined time is a time until the pressure in the chamber 10 reaches a predetermined pressure slightly lower than the atmospheric pressure, for example, 94 kPa. As described above, when the gas supply is stopped, the pressure in the chamber 10 is slightly reduced from the atmospheric pressure because the gas in the chamber 10 may leak to the outside if the atmospheric pressure is increased. It is. At this time, the active oxygen generation lamp 40 is kept lit.

酸素を含むガスの供給を停止した後、冷却装置80・加湿装置90を始動する(S5)。チャンバー内を冷却しないと、活性酸素発生用ランプ40の点灯により、チャンバー10内の温度は、外気温度にも左右されるが約60℃以上になることがある。このようにチャンバー内が高温になると、活性酸素による殺菌効果が低くなり、処理に時間がかかるようになる。活性酸素の殺菌効果はチャンバー10内の温度が低ければ低いほどよい。   After the supply of the gas containing oxygen is stopped, the cooling device 80 and the humidifying device 90 are started (S5). If the inside of the chamber is not cooled, the temperature in the chamber 10 may be about 60 ° C. or higher although the temperature in the chamber 10 depends on the outside air temperature due to the lighting of the active oxygen generation lamp 40. Thus, when the inside of a chamber becomes high temperature, the sterilization effect by active oxygen will become low and processing will take time. The sterilizing effect of active oxygen is better as the temperature in the chamber 10 is lower.

また、チャンバー10内は減圧により湿度が約10%以下になり、酸素供給装置20から送られる酸素を含むガスは、ボンベなどに乾燥したガスの状態で貯蔵されているためにほとんど湿度がない。したがって、ガスを供給しても、チャンバー内の湿度は上がらない。また、冷却装置80を駆動すると、冷却用配管81に結露が生じ、これによりチャンバー内の湿度は更に低下する。後述するように、湿度が20%より低くなると、活性酸素により殺菌効果が低くなる。このため、本実施形態では、チャンバー内の湿度が20〜50%の範囲内の所定の湿度なるように加湿装置90によりチャンバー10内の加湿を行う。   Further, the humidity in the chamber 10 is reduced to about 10% or less due to the reduced pressure, and the gas containing oxygen sent from the oxygen supply device 20 has almost no humidity because it is stored in a dry gas state in a cylinder or the like. Therefore, even if gas is supplied, the humidity in the chamber does not increase. In addition, when the cooling device 80 is driven, dew condensation occurs in the cooling pipe 81, thereby further reducing the humidity in the chamber. As will be described later, when the humidity is lower than 20%, the sterilizing effect is lowered by the active oxygen. For this reason, in this embodiment, the humidity in the chamber 10 is humidified by the humidifier 90 so that the humidity in the chamber becomes a predetermined humidity within a range of 20 to 50%.

その後、送風ファン60を回転させる。これにより、チャンバー10内の活性酸素をランプの陰になる部分等にまで回りこませることができる。そして、所定の時間(処理時間)だけ、活性酸素発生用ランプ40の点灯状態、送風ファン60の回転状態を維持する(S6)。この間に、活性酸素が被処理物1に接触し、活性酸素による被処理物1の殺菌処理が進行することになる。かかる処理時間は、一般的には、チャンバー10の大きさ、被処理物1の殺菌レベルや形状や大きさ、活性酸素の濃度、チャンバー10内の温度・湿度等によって異なるが、通常、約30分程度必要である。   Thereafter, the blower fan 60 is rotated. Thereby, the active oxygen in the chamber 10 can be circulated to a portion or the like that is behind the lamp. Then, the lighting state of the active oxygen generation lamp 40 and the rotation state of the blower fan 60 are maintained for a predetermined time (processing time) (S6). During this time, active oxygen comes into contact with the object to be processed 1 and the sterilization treatment of the object to be processed 1 with active oxygen proceeds. The treatment time generally varies depending on the size of the chamber 10, the sterilization level and shape and size of the workpiece 1, the concentration of active oxygen, the temperature / humidity in the chamber 10, and the like. About a minute is necessary.

こうして、所定の処理時間が経過した後、活性酸素発生用ランプ40を消灯する(S7)。続いて活性酸素分解用ランプ50を点灯する(S8)。活性酸素分解用ランプ50を点灯することにより、チャンバー10内のオゾン及び活性酸素の濃度を低下させる。   Thus, after a predetermined processing time has elapsed, the active oxygen generation lamp 40 is turned off (S7). Subsequently, the active oxygen decomposition lamp 50 is turned on (S8). By lighting the active oxygen decomposition lamp 50, the concentrations of ozone and active oxygen in the chamber 10 are lowered.

そして、所定の時間が経過した後、活性酸素分解用ランプ50を消灯する(S9)。ここで、所定の時間とは、チャンバー10内のオゾン及び活性酸素の濃度が十分低下するのに要する時間である。活性酸素分解用ランプ50を消灯した後に、送風ファン60・加湿装置90を停止する(S10)。   Then, after a predetermined time has elapsed, the active oxygen decomposition lamp 50 is turned off (S9). Here, the predetermined time is a time required for the concentration of ozone and active oxygen in the chamber 10 to sufficiently decrease. After the active oxygen decomposition lamp 50 is turned off, the blower fan 60 and the humidifier 90 are stopped (S10).

次に、上記のステップS2からステップS10までの処理を所定回数だけ繰り返す(S11)。すなわち、真空ポンプ70により、チャンバー10内のガスを排気してチャンバー10内を減圧状態にした後(S2)、引き続き、ステップS3からステップS10までの処理を行う。通常、ステップS6の処理において、所定の処理時間以上が経過すると、活性酸素による殺菌効果はだんだん低下する。これは、活性酸素はとても不安定であるので、他の物質と反応して消滅してしまうからだと考えられる。このため、本実施形態では、ステップS2からステップS10までの1回の処理で所望のレベルの殺菌を行うことができない場合には、上記のステップS2からステップS10までの処理を繰り返し、再度、活性酸素による殺菌処理を行うことにしている。例えば、殺菌処理を滅菌レベルまで行いたいような場合には、上記の処理を3回以上繰り返すようにすることが望ましい。尚、チャンバー10の大きさ等によっては、ステップS2からステップS10までの処理を1回だけ行うことにより、高い濃度の活性酸素を発生させて、被処理物1を所望の殺菌レベルまで殺菌することできる。当然のことであるが、このような場合であれば、上記のステップS2からステップS10までの処理を複数回繰り返す必要はない。   Next, the processing from step S2 to step S10 is repeated a predetermined number of times (S11). That is, after the gas in the chamber 10 is exhausted by the vacuum pump 70 to reduce the pressure in the chamber 10 (S2), the processing from step S3 to step S10 is subsequently performed. Usually, in the process of step S6, when a predetermined processing time or more elapses, the sterilization effect by active oxygen gradually decreases. This is thought to be because active oxygen is so unstable that it reacts with other substances and disappears. For this reason, in this embodiment, when the desired level of sterilization cannot be performed by a single process from step S2 to step S10, the process from step S2 to step S10 is repeated, and the activation is performed again. It is decided to sterilize with oxygen. For example, when it is desired to perform the sterilization process up to the sterilization level, it is desirable to repeat the above process three times or more. Depending on the size of the chamber 10 and the like, the processing from step S2 to step S10 is performed only once, thereby generating high concentration of active oxygen and sterilizing the workpiece 1 to a desired sterilization level. it can. As a matter of course, in such a case, it is not necessary to repeat the processing from step S2 to step S10 a plurality of times.

こうして、ステップS2からステップS10までの処理が所定回数だけ繰り返し行われた後、ステップ12に移行し、チャンバー10内の圧力を減じる。チャンバー10内の圧力が下がったら、冷却装置80を停止する(S13)。最後に、チャンバー10の蓋を開ける等して、チャンバー10内に空気を供給してチャンバー10内を大気圧と同じにする(S14)。最後に、チャンバー10内のオゾン及び活性酸素の濃度が十分低下したチャンバー10内から被処理物1を入れた袋2を取り出す(S15)。以上により、殺菌処理が終了する。   Thus, after the processing from step S2 to step S10 is repeatedly performed a predetermined number of times, the process proceeds to step 12, and the pressure in the chamber 10 is reduced. When the pressure in the chamber 10 decreases, the cooling device 80 is stopped (S13). Finally, by opening the lid of the chamber 10 or the like, air is supplied into the chamber 10 to make the inside of the chamber 10 the same as the atmospheric pressure (S14). Finally, the bag 2 containing the workpiece 1 is taken out from the chamber 10 where the ozone and active oxygen concentrations in the chamber 10 are sufficiently reduced (S15). Thus, the sterilization process is completed.

次に、本発明者は、実際に微生物を使用して、本実施形態の活性酸素殺菌装置による殺菌処理の効果を確認する実験を行った。本実験は、チャンバー内の温度及び湿度と、活性酸素による殺菌効果との関係を調べるものである。本実験のチャンバー10としては、空間容積が約50リットルのものを用いた。チャンバー10内には3本の活性酸素発生用ランプ40が取り付けられている。この活性酸素発生用ランプ40としては、200WのU字管合成石英製低圧水銀ランプ(岩崎電気株式会社製 型式QGL200G-3)を用いた。容積当りの紫外線照射量は12W/リットルとなる。照射時間は60分間行い、処理回数は1回とした。また、酸素供給装置20としては、純酸素を供給するものを使用した。   Next, the present inventor conducted an experiment to confirm the effect of the sterilization treatment by the active oxygen sterilization apparatus of the present embodiment by actually using microorganisms. This experiment examines the relationship between the temperature and humidity in the chamber and the sterilizing effect of active oxygen. As the chamber 10 in this experiment, a chamber having a space volume of about 50 liters was used. Three active oxygen generating lamps 40 are mounted in the chamber 10. As the active oxygen generation lamp 40, a 200 W U-tube synthetic quartz low-pressure mercury lamp (model QGL200G-3 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used. The amount of ultraviolet irradiation per volume is 12 W / liter. The irradiation time was 60 minutes, and the number of treatments was one. As the oxygen supply device 20, a device that supplies pure oxygen was used.

本実験で用いた試料の菌種は、Geobacillus Stearothermophylus ATCC7954 である。この菌種が植菌されたものを片面タイベック(米国デュポン社、登録商標)の袋2に入れたものを試料と使用した。この試料を本実施形態の活性酸素殺菌装置で殺菌処理したものを培地で約48時間培養し、生存している菌数を数えて測定した。なお、本実験では、市販されているバイオインジケータである、初発菌数4.0×10CFUで使用した。CFUはColony Forming Unitの略称で、コロニーの個数を表す。 The bacterial species of the sample used in this experiment is Geobacillus Stearothermophylus ATCC7954. A sample inoculated with this bacterial species in a bag 2 of a single-sided Tyvek (DuPont, USA) was used as a sample. This sample was sterilized with the active oxygen sterilizer of this embodiment, cultured in a medium for about 48 hours, and the number of surviving bacteria was counted and measured. In this experiment, it was used with a commercially available bioindicator, the initial bacterial count of 4.0 × 10 6 CFU. CFU is an abbreviation for Colony Forming Unit and represents the number of colonies.

図7は、チャンバー内の湿度を20%に保持し、温度を変えて殺菌処理を行った第1実験の結果を示すグラフである。図7では、横軸に温度(℃)を縦軸に菌数(CFU)を取っている。図7に示すように、チャンバー内の湿度を20%に保持したときには、温度が上昇するにつれて殺菌処理後の生存菌数が増加することがわかる。図7を詳しく見ると、殺菌処理後の生存菌数は、10℃から20℃付近のときは10 のオーダであるが、20℃付近からは極端に菌数が増え、40℃付近以上から菌数が10 のオーダとなり、50℃以降は約2.0×10 CFU付近からそれ程変化が見られなくなった。 FIG. 7 is a graph showing the results of the first experiment in which the humidity in the chamber was kept at 20% and the temperature was changed to perform the sterilization treatment. In FIG. 7, the horizontal axis represents temperature (° C.), and the vertical axis represents bacterial count (CFU). As shown in FIG. 7, when the humidity in the chamber is kept at 20%, it can be seen that the number of viable bacteria after the sterilization treatment increases as the temperature rises. A closer look to Figure 7, survival bacteria after sterilization from but when the 10 ° C. of around 20 ° C. 10 0 the order of, from 20 near ° C. extremely increased number of bacteria, 40 ° C. vicinity or higher The number of bacteria was on the order of 10 2 , and after 50 ° C., no change was observed from about 2.0 × 10 2 CFU.

第1実験から、例えば、要求される殺菌レベルが菌数10 のオーダ以下であれば、湿度20%の状況下で、要求される殺菌レベルの条件を満たす温度は、図7に示すように約10℃以上25℃未満である。このため、チャンバー10内の湿度が20%のときは、温度は10℃以上25℃未満の範囲で温度制御を行えば要求される殺菌レベルの効果が得られる。尚、温度が10℃以下になると、活性酸素発生用ランプ40の発光効率が極端に落ちるために10℃以上からの測定とした。 From the first experiment, for example, equal to or smaller than the requested order sterilization level bacterial number 10 1 is, in the context of the humidity of 20% satisfy the temperature of the required disinfection level, as shown in FIG. 7 It is about 10 ° C. or higher and lower than 25 ° C. For this reason, when the humidity in the chamber 10 is 20%, the effect of the required sterilization level can be obtained by controlling the temperature in the range of 10 ° C. or more and less than 25 ° C. When the temperature was 10 ° C. or lower, the luminous efficiency of the active oxygen generation lamp 40 was extremely reduced, so that the measurement was performed from 10 ° C. or higher.

図8は、チャンバー内の温度を40°Cに保持し、湿度を変えて殺菌処理を行った第2実験の結果を示すグラフである。図8は、横軸に相対湿度(%)を縦軸に菌数(CFU)を取っている。図8に示すように、殺菌処理後の生存菌数は、湿度が20%付近までは、10のオーダで推移しており、20%以降から菌数が10のオーダに減り始め、湿度が50%付近までは101のオーダとなっている。また、湿度が50%以降は極端に菌数が増えていく結果となった。 FIG. 8 is a graph showing the results of a second experiment in which the temperature in the chamber was kept at 40 ° C. and the sterilization treatment was performed while changing the humidity. In FIG. 8, the horizontal axis represents relative humidity (%), and the vertical axis represents the number of bacteria (CFU). As shown in FIG. 8, number of surviving bacteria after sterilization treatment, humidity up to around 20%, and remained at 10 2 on the order, beginning decrease the number of bacteria 20% later in 10 1 of the order, humidity However, it is on the order of 10 1 up to around 50%. In addition, when the humidity was 50% or later, the number of bacteria increased extremely.

第2実験から、例えば、要求される殺菌レベルが菌数10以下であれば、チャンバー内の温度が40℃に保持された状況下では、要求される殺菌レベルの条件を満たす湿度は、図8に示すように、20%以上52%以下である。このため、チャンバー10内の温度が40℃のときは、湿度が20%以上52%以下の範囲で湿度制御を行えば要求される殺菌効果が得られる。 From the second experiment, for example, if the required sterilization level number 10 2 or less bacteria, in a situation where the temperature of the chamber was held at 40 ° C., satisfying humidity required sterilization level, FIG. As shown in FIG. 8, it is 20% or more and 52% or less. For this reason, when the temperature in the chamber 10 is 40 ° C., the required bactericidal effect can be obtained if the humidity is controlled in the range of 20% to 52%.

尚、今回の実験では紫外線の照射時間が60分で1回の処理回数であったが、15分〜30分の照射時間で且つ処理回数を増やしたほうが、短時間で医療福祉分野において求められる高い殺菌レベルの殺菌効果が得られる。また、紫外線の照射時間を増やすことにより、上述した第1実験の温度範囲よりも、より広い温度範囲まで用いることができるようになる。湿度についても同様である。   In this experiment, the irradiation time of ultraviolet rays was 60 minutes, and the number of treatments was one. However, it is required in the medical welfare field in a shorter time to increase the number of treatments with an irradiation time of 15 minutes to 30 minutes. High bactericidal level bactericidal effect can be obtained. Further, by increasing the irradiation time of the ultraviolet rays, it is possible to use a temperature range wider than the temperature range of the first experiment described above. The same applies to humidity.

上記の第1実験及び第2実験の結果から、チャンバー内の温度は約10〜40°C範囲内であれば、温度を制御していない従来の装置(チャンバー内温度は約60°Cになることもあり、同じ実験条件の下で同様の結果を得るためには約3時間を要する。)に比べて、はるかに短い時間で従来の装置と同様の殺菌処理ができることを確認できた。また、チャンバー内の相対湿度は約20%〜50%の範囲内であれば、湿度制御をしていない従来の装置(チャンバー内湿度は10%以下になり、同じ実験条件の下で同様の結果を得るためには約3時間を要する)に比べて、はるかに短い時間で従来の装置と同様の殺菌処理ができることを確認できた。   From the results of the first experiment and the second experiment described above, if the temperature in the chamber is in the range of about 10 to 40 ° C., a conventional apparatus that does not control the temperature (the temperature in the chamber is about 60 ° C. In other cases, it takes about 3 hours to obtain the same result under the same experimental conditions.) It was confirmed that the sterilization treatment similar to that of the conventional apparatus can be performed in a much shorter time. In addition, if the relative humidity in the chamber is in the range of about 20% to 50%, a conventional device without humidity control (the humidity in the chamber is 10% or less, and the same result under the same experimental conditions. It was confirmed that sterilization treatment similar to that of the conventional apparatus can be performed in a much shorter time than that of the conventional apparatus.

以上の実験結果を踏まえて、要求される殺菌レベルに合わせて所定の範囲内で湿度及び温度を制御することにより、温度及び湿度を制御せずに行う従来の酸素殺菌処理装置に比べて、短時間で且つ少ない処理回数で医療福祉分野等において求められる高い殺菌レベルの殺菌効果が得られる。   Based on the above experimental results, the humidity and temperature are controlled within a predetermined range according to the required sterilization level, which is shorter than the conventional oxygen sterilization treatment apparatus that performs without controlling the temperature and humidity. A sterilizing effect with a high sterilization level required in the medical welfare field or the like can be obtained with a small number of treatments in a short time.

尚、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が可能である。たとえば、上記の実施形態では、温度と湿度の両方を制御する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、温度と湿度の何れか一方のみを制御するものであってもよい。   In addition, this invention is not limited to said embodiment, A various deformation | transformation is possible within the range of the summary. For example, in the above embodiment, the case where both temperature and humidity are controlled has been described. However, the present invention is not limited to this, and only one of temperature and humidity may be controlled. Good.

また、上記の実施形態では、制御部が温度と湿度を制御する場合について説明したが、制御部はリレー等を用いて真空ポンプのオン・オフを制御したり、電磁弁を用いて酸素供給装置からのガス供給のオン・オフを制御したりするようにしてもよい。   In the above embodiment, the case where the control unit controls the temperature and humidity has been described. However, the control unit controls the on / off of the vacuum pump using a relay or the like, or the oxygen supply device using a solenoid valve. It is also possible to control the on / off of the gas supply from.

また、上記の実施形態では、医療福祉分野で使用される医療器具の殺菌について説明したが、本発明は医療福祉分野に限られるものではなく、食品分野、衛生分野、遺伝子工学分野で使用される器具等の殺菌にも適用できる。   In the above embodiment, sterilization of a medical instrument used in the medical welfare field has been described. However, the present invention is not limited to the medical welfare field, and is used in the food field, the hygiene field, and the genetic engineering field. It can also be applied to sterilization of instruments.

また、上記の実施形態では、2台の送風ファンを設けた場合について説明したが、送風ファンは1台でも、3台以上設けるようにしてもよい。   Moreover, although said embodiment demonstrated the case where two ventilation fans were provided, you may make it provide one ventilation fan or 3 or more.

また、上記の実施形態では、加湿装置及び送風ファンをチャンバー内に配置したものについて説明したが、加湿装置や送風ファンはチャンバーの外に配置するようにしてもよい。   In the above embodiment, the humidifier and the blower fan are disposed in the chamber. However, the humidifier and the blower fan may be disposed outside the chamber.

以上説明したように、本発明の活性酸素殺菌装置によれば、チャンバー内の温度と湿度を制御することにより、チャンバー内の活性酸素の濃度を高めることができ、これにより医療福祉分野等で求められる高い殺菌レベルまでの処理時間を従来の装置に比べて短縮することができる。したがって、本発明の活性酸素殺菌装置は、医療福祉分野等で使用される医療器具の殺菌に適用することができる。   As described above, according to the active oxygen sterilization apparatus of the present invention, the concentration of active oxygen in the chamber can be increased by controlling the temperature and humidity in the chamber, which is required in the medical welfare field and the like. The processing time to a high sterilization level can be shortened as compared with the conventional apparatus. Therefore, the active oxygen sterilizer of the present invention can be applied to sterilization of medical instruments used in the medical welfare field and the like.

本発明の1実施形態である活性酸素殺菌装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the active oxygen sterilizer which is one Embodiment of this invention. 本発明の1実施形態である活性酸素殺菌装置のチャンバーの概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the chamber of the active oxygen sterilizer which is one Embodiment of this invention. 処理台に被処理物を載置した状態を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the state which mounted the to-be-processed object on the process stand. 低圧水銀ランプの発光分布と酸素及びオゾンの吸収帯とを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the light emission distribution of a low pressure mercury lamp, and the absorption band of oxygen and ozone. 活性酸素を発生させる原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle which generates active oxygen. 本実施形態の活性酸素殺菌装置において被処理物の殺菌を行う処理手順を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the process sequence which sterilizes a to-be-processed object in the active oxygen sterilizer of this embodiment. チャンバー内の湿度を20%に保持し、温度を変えて殺菌処理を行った第1実験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the 1st experiment which maintained the humidity in a chamber at 20%, and changed temperature and performed sterilization treatment. チャンバー内の温度を40°Cに保持し、湿度を変えて殺菌処理を行った第2実験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the 2nd experiment which maintained the temperature in a chamber at 40 degreeC, changed humidity, and performed sterilization.

符号の説明Explanation of symbols

1 被処理物
2 袋
10 チャンバー
11 処理台
20 酸素供給装置
30 マスフローコントローラ
40 活性酸素発生用ランプ
50 活性酸素分解用ランプ
60a、60b 送風ファン
70 真空ポンプ
71 オゾン分解触媒
80 冷却装置
81 冷却用配管
90 加湿装置

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 To-be-processed object 2 Bag 10 Chamber 11 Treatment stand 20 Oxygen supply apparatus 30 Mass flow controller 40 Active oxygen generation lamp 50 Active oxygen decomposition lamp 60a, 60b Blower fan 70 Vacuum pump 71 Ozone decomposition catalyst 80 Cooling apparatus 81 Cooling pipe 90 Humidifier

Claims (8)

処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、
前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、
少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、
波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、
前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、
前記処理室内を冷却する冷却手段と、
を具備し、
前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記冷却手段を用いて前記処理室内の温度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とする活性酸素殺菌装置。
In an apparatus for sterilizing the adherent bacteria of the object to be processed with active oxygen in the processing chamber ,
Oxygen supply means for supplying a gas containing oxygen into the processing chamber;
A first lamp that generates at least ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region;
A second lamp that generates only ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm;
Pressure reducing means for reducing the pressure in the processing chamber;
Cooling means for cooling the processing chamber;
Comprising
After the pressure inside the processing chamber is reduced by the pressure reducing means, the oxygen supply means supplies the oxygen-containing gas into the processing chamber, turns on the first lamp, and supplies the ultraviolet light into the processing chamber. said oxygen to generate active oxygen into the processing chamber by irradiating on, have and row sterilized of said cooling means with controlling the temperature of the processing chamber said object to be processed by the active oxygen, wherein after completion of the sterilization process, the second lamp lit activity, wherein row Ukoto the process to reduce the concentration of the residual ozone and active oxygen by irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber Oxygen sterilizer.
処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、
前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、
少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、
波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、
前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、
前記処理室内を加湿する加湿手段と、
を具備し、
前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記加湿手段を用いて前記処理室内の湿度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とする活性酸素殺菌装置。
In an apparatus for sterilizing the adherent bacteria of the object to be processed with active oxygen in the processing chamber ,
Oxygen supply means for supplying a gas containing oxygen into the processing chamber;
A first lamp that generates at least ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region;
A second lamp that generates only ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm;
Pressure reducing means for reducing the pressure in the processing chamber;
Humidifying means for humidifying the processing chamber;
Comprising
After the pressure inside the processing chamber is reduced by the pressure reducing means, the oxygen supply means supplies the oxygen-containing gas into the processing chamber, turns on the first lamp, and supplies the ultraviolet light into the processing chamber. wherein to generate active oxygen into the processing chamber by irradiating oxygen, have and row sterilized of said humidifying means the object to be treated by the active oxygen by controlling the humidity in the processing chamber by using the said after completion of the sterilization process, the second lamp lit activity, wherein row Ukoto the process to reduce the concentration of the residual ozone and active oxygen by irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber Oxygen sterilizer.
処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する装置において、
前記処理室内に酸素を含む気体を供給する酸素供給手段と、
少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプと、
波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプと、
前記処理室内の圧力を減ずる減圧手段と、
前記処理室内を冷却する冷却手段と、
前記処理室内を加湿する加湿手段と、
を具備し、
前記減圧手段により前記処理室内を減圧状態にした後に、前記酸素供給手段により前記酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、前記第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記冷却手段を用いて前記処理室内の温度を制御すると共に前記加湿手段を用いて前記処理室内の湿度を制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、前記第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とする活性酸素殺菌装置。
In an apparatus for sterilizing the adherent bacteria of the object to be processed with active oxygen in the processing chamber ,
Oxygen supply means for supplying a gas containing oxygen into the processing chamber;
A first lamp that generates at least ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region;
A second lamp that generates only ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm;
Pressure reducing means for reducing the pressure in the processing chamber;
Cooling means for cooling the processing chamber;
Humidifying means for humidifying the processing chamber;
Comprising
After the pressure inside the processing chamber is reduced by the pressure reducing means, the oxygen supply means supplies the oxygen-containing gas into the processing chamber, turns on the first lamp, and supplies the ultraviolet light into the processing chamber. It said oxygen to generate active oxygen into the processing chamber by irradiating on, and said cooling means using controls the temperature of the processing chamber by controlling the humidity in the processing chamber using said humidifying means is There row sterilized of said object to be processed by the active oxygen, wherein after completion of the sterilization process, the second of the residual ozone and active oxygen by lamp lit irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber active oxygen sterilizer characterized rows Ukoto a treatment for reducing the concentration of.
前記処理室内の温度を検出する温度検出手段と、前記処理室内の湿度を検出する湿度検出手段と、前記温度検出手段が検出した温度に基づいて前記冷却手段を制御すると共に、前記湿度検出手段が検出した湿度に基づいて前記加湿手段を制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項3記載の活性酸素殺菌装置。 Temperature detecting means for detecting the temperature of the processing chamber, and humidity detecting means for detecting the humidity in the processing chamber, together with the temperature detecting means to control said cooling means based on the detected temperature, said humidity detecting means active oxygen disinfection apparatus according to claim 3, characterized in that it comprises a control means for controlling the humidifying means based on the detected humidity. 前記制御手段により、前記処理室内の温度を約10〜40℃に制御し、前記処理室内の相対湿度を約20〜50%に制御することを特徴とする請求項4記載の活性酸素殺菌装置。 The active oxygen sterilizer according to claim 4 , wherein the control means controls the temperature in the processing chamber to about 10 to 40 ° C and controls the relative humidity in the processing chamber to about 20 to 50%. 高密度ポリエチレンを用いたフラッシュ紡糸不織布の袋にいれて前記被処理物を殺菌処理することを特徴とする請求項1、2、3、4又は5記載の活性酸素殺菌装置。   6. The active oxygen sterilizer according to claim 1, wherein the article to be processed is sterilized by being put in a bag of flash-spun nonwoven fabric using high-density polyethylene. 前記酸素を含む気体は、純酸素であることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6記載の活性酸素殺菌装置。   7. The active oxygen sterilizer according to claim 1, wherein the gas containing oxygen is pure oxygen. 処理室内で活性酸素により被処理物の付着菌を殺菌する方法において、前記処理室内を減圧状態にした後に、酸素を含む気体を前記処理室内に供給し、少なくとも真空紫外域の紫外線を発生する第一のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内に供給された前記酸素に照射することにより活性酸素を前記処理室内に発生させ、且つ前記処理室内の温度を約10〜40℃に制御すると共に前記処理室内の相対湿度を約20〜50%に制御して前記活性酸素による前記被処理物の殺菌処理を行い、前記殺菌処理の終了後、波長が200nmより長い紫外線だけを発生する第二のランプを点灯して前記紫外線を前記処理室内の残留オゾンに照射することにより前記残留オゾン及び活性酸素の濃度を低下させる処理を行うことを特徴とする活性酸素殺菌方法。 A method for sterilizing microorganisms from the object to be processed in the processing chamber by the active oxygen, after the processing chamber in a reduced pressure state, the gas containing oxygen is supplied into the processing chamber, which generates ultraviolet rays of at least the vacuum ultraviolet region together with the ultraviolet lit one of the lamps by generating active oxygen into the processing chamber by irradiating on the supplied the oxygen into the processing chamber, and controlling the temperature of the processing chamber to about 10 to 40 ° C. said handle relative humidity of the room is controlled to about 20-50% have rows sterilized of said object to be processed by the active oxygen, after completion of the sterilization process, the second wavelength is generated only long ultraviolet than 200nm active oxygen lamp lit in that said row Ukoto the process to reduce the concentration of the residual ozone and active oxygen by irradiating the ultraviolet to the residual ozone in the processing chamber Bacteria method.
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