JP4437896B2 - Planographic printing plate precursor - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はポジ型平版印刷版原版に係り、より詳細には、コンピュータ等のディジタル信号から直接製版可能な所謂ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。
【0003】
従来公知のダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型感光性画像形成材料においては、アルカリ水溶液可溶性樹脂としてノボラック樹脂等が用いられている。
例えば、ポジ型感光性画像形成材料としては、ノボラック樹脂等のフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収して熱を発生する物質と、種々のオニウム塩、キノンジアジド化合物類等のようなポジ型感光性化合物を添加したものであって、該ポジ型感光性化合物が、画像部ではアルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、非画像部では熱により溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去され得るようになって、画像が形成されるものが開示されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
また、ポジ型感光性画像形成材料としては、光を吸収して熱を発生する物質と、熱によりアルカリ水溶液溶解性が変化する樹脂とからなるものであって、画像部ではアルカリ水溶液溶解性が低く、非画像部では熱によりアルカリ水溶液可溶性が高くなり、現像により除去され得るようになって画像が形成されるものが開示されている(特許文献2及び3参照。)。
【0005】
従来の平版印刷用原版において、ノボラック樹脂は、溶解抑制剤と強く相互作用するため露光部と非露光部とで現像液に対する溶解性の差が大きくなること、インキ受容性に優れること等の理由から、特に好ましく用いられている。そして、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版においても、同様の理由からノボラック樹脂が用いられている。該ノボラック樹脂としては、特にフェノール、クレゾール、キシレノール等のフェノール類を、酸性条件下においてホルムアルデヒドを用いて重合したものが一般的である。
【0006】
しかし、前述のノボラック樹脂を用いた平版印刷版原版は、露光後時間が経つと現像性が低下し現像不良を発生する問題があることが分かってきた。このような露光後の経時による現像性の低下は、製版工程において問題であり、改善が求められている。(なお、以下、露光後の現像性変動の度合いの大小を、焼きだめ性の良否で表し、現像性の低下が大きいものほど「焼きだめ性が悪い」と称する。)
【0007】
【特許文献1】
特開平7−285275号公報
【特許文献2】
国際公開第97/39894号パンフレット
【特許文献3】
欧州特許出願公開第0823327A2号明細書
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、露光部と非露光部との現像液に対する溶解性の差(溶解性ディスクリミネーション:以下、適宜「溶解性ディスクリ」と称する。)に優れ、且つ、露光後の経時による現像性変化の度合いが小さい(焼きだめ性が良好な)ポジ型平版印刷版原版を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、ノボラック型フェノール樹脂が有するフェノール性水酸基の一部をエーテル基に置換した樹脂を、ポジ型平版印刷版原版の画像記録層に含有させることにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。
【0010】
即ち、本発明のポジ型平版印刷版原版は、親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される部分構造を含むノボラック型フェノール樹脂(以下、適宜、「特定フェノール樹脂」と称する。)、及び(B)光熱変換剤を含有し、且つ赤外レーザ露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する画像記録層を設けてなることを特徴とする。
【化2】
[一般式(I)中、R 1 は、炭素数1〜12の直鎖状の無置換のアルキル基、炭素数3〜12の分岐状の無置換のアルキル基、又は炭素数5〜10の環状の無置換のアルキル基を表し、R 2 、R 3 及びR 4 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はハロゲン原子を表す。]
【0011】
本発明の作用機構は明確になっていないが、以下のように推測される。
即ち、本発明に係る画像記録層に含まれる特定フェノール樹脂は、該樹脂が有するフェノール性水酸基がエーテル基に置換されたことでアルカリ溶解抑制能が向上し、これにより画像部の耐現像性が向上して膜減りを抑制できる。また、フェノール性水酸基をエーテル基に置換したことにより、特定フェノール樹脂は露光時における運動性の自由度が高まり、大きな位置移動を起こし易い。さらに、フェノール性水酸基間の水素結合等に起因する再結合性が起こり難い。この結果生じた変化、即ち露光部における溶解抑制能の解除は、露光による瞬間的な熱を失った露光後においても維持されるため、焼きだめ性の向上に繋がったものと推定される。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。
【0013】
[画像記録層]
本発明に係る画像記録層には、(A)特定フェノール樹脂、及び(B)光熱変換剤を含有することを要する。
まず、本発明に係る画像記録層を構成する特徴的な成分である(A)フェノール樹脂が有する水酸基の一部をエーテル基に置換した樹脂(特定フェノール樹脂)について説明する。
【0014】
<(A)特定フェノール樹脂>
本発明に係る特定フェノール樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂が有するフェノール性水酸基の一部をエーテル基に置換した樹脂であり、下記一般式(I)で表される部分構造を含むノボラック型フェノール樹脂であることを要する。
【化3】
[一般式(I)中、R 1 は、炭素数1〜12の直鎖状の無置換のアルキル基、炭素数3〜12の分岐状の無置換のアルキル基、又は炭素数5〜10の環状の無置換のアルキル基を表し、R 2 、R 3 及びR 4 は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はハロゲン原子を表す。]
ここで、フェノール性水酸基(以下、特定フェノール樹脂の説明中では、適宜「水酸基」と称する。)とは、フェノール樹脂を構成するベンゼン骨格に直接結合した水酸基を意味する。本発明の平版印刷版原版は、このような水酸基の一部をエーテル基に置換したフェノール樹脂を、画像記録層中に含有することにより、感度を低下させることなく、溶解性ディスクリ及び焼きだめ性について優れた効果を発揮するものである。
特定フェノール樹脂中における水酸基のエーテル基への置換率は、置換対象となるフェノール樹脂の種類等により適宜決定されるが、好ましくは1モル%〜50モル%程度である。
【0015】
本発明における特定フェノール樹脂を構成するフェノール樹脂としては、ノボラック型フェノール樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性の点から用いられる。
【0018】
一般式(I)について説明する。
一般式(I)中、R1は、炭素数1〜12の直鎖状の無置換のアルキル基、炭素数3〜12の分岐状の無置換のアルキル基、又は炭素数5〜10の環状の無置換のアルキル基を表し、R2、R3及びR4は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
【0019】
一般式(I)中、R1は、炭素数1〜12の直鎖状の無置換のアルキル基、炭素数3〜12の分岐状の無置換のアルキル基、及び炭素数5〜10の環状の無置換のアルキル基である。
これらの中でも、更に好ましくは炭素数1〜8の直鎖状のアルキル基及び炭素数5〜7の環状のアルキル基であり、最も好ましくは炭素数3〜7の直鎖状のアルキル基である。
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び2−ノルボルニル基等を挙げることができる。
【0021】
一般式(I)中、R2及びR3で表されるアルキル基としては、炭素数1〜3のアルキル基であることが好ましく、より好ましくは炭素数1又は2のアルキル基である。
上記アルキル基の具体例としては、メチル基又はエチル基等を挙げることができる。
一般式(I)中、R4で表されるアルキル基としては、炭素数3〜6のアルキル基、又はシクロアルキル基であることが好ましい。
一般式(I)中、R2、R3及びR4で表されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子のいずれかであり、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
【0022】
一般式(I)で表される部分構造を含む特定フェノール樹脂のより好ましい態様は、(A−1)ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂、から選択される樹脂である。さらに好ましい態様は、(A−2)構造単位としてフェノールを含むノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂、から選択される樹脂である。
【0023】
<(A−1)ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂>
まず、上記(A−1)ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂(以下、適宜、(A−1)樹脂と称する。)について詳細に説明する。
【0024】
(A−1)樹脂を得るために用いられるノボラック型フェノール樹脂としては、下記一般式(II)で表されるフェノール類の1種又は2種以上をアルデヒド類で縮合してなるノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。
【0025】
【化2】
【0026】
一般式(II)において、R2、R3及びR4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はハロゲン原子を表す。
一般式(II)中、R2及びR3で表されるアルキル基は、前記一般式(I)におけるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(II)中、R4で表されるアルキル基は、前記一般式(I)におけるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(II)中、R2、R3及びR4で表されるハロゲン原子は、前記一般式(I)におけるハロゲン原子と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【0027】
一般式(II)で表されるフェノール類として、具体的には、例えば、イソプロピルフェノール、t−ブチルフェノール、t−アミルフェノール、ヘキシルフェノール、シクロヘキシルフェノール、3−メチル−4−クロロ−6−t−ブチルフェノール、イソプロピルクレゾール、t−ブチルクレゾール、及びt−アミルクレゾールが挙げられる。好ましくは、t−ブチルフェノール、及びt−ブチルクレゾールである。
【0028】
(A−1)樹脂に用いられるノボラック型フェノール樹脂を得るために用いられるアルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド等の脂肪族及び芳香族アルデヒドが挙げられる。好ましくはホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドであり、ホルムアルデヒドであることが最も好ましい。
【0029】
(A−1)樹脂における水酸基のアルキルエーテル基への置換率としては、好ましくは1〜80モル%であり、1〜50モル%であることがさらに好ましく、1〜20モル%であることが最も好ましい。
【0030】
また、(A−1)樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1,000〜30,000であり、更に1,500〜20,000であることが好ましく、2,000〜10,000であることが特に好ましい。
【0031】
本発明の平版印刷版原版に係る画像記録層中の全固形分に対する(A−1)樹脂の割合は、感度を低下させることなく本発明の効果を発揮させる観点から、好ましくは0.1重量%〜20重量%であり、更に0.2重量%〜10重量%であることが好ましく、特に0.2重量%〜5重量%であることが好ましい。
【0032】
<(A−2)構造単位としてフェノールを含むノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂>
次に、前記(A−2)構造単位としてフェノールを含むノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換してなる樹脂(以下、適宜、(A−2)樹脂と称する)について詳細に説明する。
【0033】
(A−2)樹脂を得るために用いられるノボラック型フェノール樹脂としては、フェノール及び置換フェノール類をアルデヒド類で縮合してなるノボラック型フェノール樹脂が挙げられる。
【0034】
(A−2)樹脂に用いられるノボラック型フェノール樹脂を得るために用いられるアルデヒド類としては、(A−1)の説明において述べたものが同様に挙げられる。
【0035】
(A−2)樹脂を得るために用いられるノボラック型フェノール樹脂としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂などが好ましく挙げられる。
【0036】
(A−2)樹脂を得るために用いられるノボラック型フェノール樹脂を構成するモノマー中のフェノール含有率は、好ましくは10〜90モル%であり、15〜70モル%であることがさらに好ましく、20〜60モル%であることが最も好ましい。
【0037】
また、モノマー中に含まれるフェノール以外の成分(置換フェノール成分)数としては、2成分以下が好ましく、更に好ましくは1成分である。
1成分で用いられる置換フェノール成分としては、クレゾールが好ましく、m−クレゾールが最も好ましい。
2成分での好ましい組合せは、「m−クレゾール」と、「p−クレゾール、o−クレゾール、又は、キシレノール」との組合せであり、さらに好ましくは、m−クレゾールとp−クレゾールとの組合せである。
また、2成分の場合の成分量としては、m−クレゾールを10モル%以上含有させたものが好ましく、更に好ましくは、20モル%以上含有させることである。
1成分の場合でのフェノール以外の成分量としては、好ましくは10モル%以上であり、更に好ましくは20モル%以上であり、特に30モル%以上であることが好ましい。
【0038】
(A−2)樹脂における水酸基のアルキルエーテル基への置換率は、好ましくは1〜80モル%であり、1〜60モル%であることがさらに好ましく、1〜50モル%であることが最も好ましい。
【0039】
(A−2)樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1,000〜30,000であり、更に1,500〜20,000であることが好ましく、特に2,000〜10,000であることが好ましい。また、その数平均分子量が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であることが好ましい。
【0040】
また、(A−2)樹脂は、バーニング処理による耐刷向上効果等の観点から、平版印刷版原版の画像記録層全固形分中、10重量%〜95重量%であることが好ましく、更に20重量%〜90重量%であることが好ましい。
【0041】
本発明に係る(A−1)樹脂及び(A−2)樹脂などの特定フェノール樹脂は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。本発明に係る特定フェノール樹脂以外の一般的なノボラック樹脂を併用する場合、全ノボラック樹脂に対する特定フェノール樹脂以外のノボラック樹脂の含有割合は、5〜90重量%の範囲であり、10〜80重量%の範囲であることが好ましく、20〜70重量%の範囲であることが特に好ましい。
【0042】
フェノール性水酸基の一部をアルキルエーテル基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。
即ち、フェノール及び/又は置換フェノール類(例えば、(A−1)樹脂及び(A−2)樹脂の説明において挙げたクレゾール類など)を、溶媒中、酸を触媒として、ホルムアルデヒド水溶液と共に反応させて、フェノール又は置換フェノール成分におけるo−位又はp−位と、ホルムアルデヒドとを、脱水縮合させることにより製造することができる。
【0043】
フェノール又は置換フェノール成分のo−位又はp−位と、ホルムアルデヒドとの脱水縮合は、以下のように行うことができる。
即ち、フェノール及び置換フェノール成分の総重量を濃度60〜90重量%(好ましくは70〜80重量%)になるよう溶媒に溶解し、これにホルムアルデヒドをフェノール及び置換フェノール成分の総モル数に対するモル比率が0.2〜2.0(好ましくは0.4〜1.4、特に好ましくは0.6〜1.2)になるよう加え、更に、酸触媒をフェノール及び置換フェノール成分の総モル数に対するモル比率が0.01〜0.1、(好ましくは0.02〜0.05)になるように10℃〜150℃の範囲の温度条件下で加え、その温度範囲に維持しながら数時間攪拌することにより行うことができる。なお、反応温度は、70℃〜150℃の範囲であることが好ましく、90℃〜140℃の範囲であることがより好ましい。
【0044】
反応に用いられる溶媒としては、例えば、水、酢酸、メタノール、エタノール、2−プロパノール、2−メトキシエタノール、エチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、4−メチル−2−ペンタノン、ジオキサン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。
【0045】
また、上記酸触媒としては、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、シュウ酸、酒石酸、クエン酸、酢酸亜鉛、酢酸マンガン、酢酸コバルト、メチルスルホン酸マグネシウム、塩化アルミニウム、酸化亜鉛等を挙げられる。
【0046】
本発明に係る特定フェノール樹脂は、水酸基の一部をエーテル基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂を、溶媒中で、塩基を触媒として、アルキル化剤と共に反応させて、アルキル化剤の脱離基をアルコキシド(フェノキシド)で置換することにより製造することができる。
【0047】
水酸基の一部をエーテル基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂のフェノキシドと、アルキル化剤の脱離基との置換反応は、以下のように行うことができる。
即ち、水酸基の一部をエーテル基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂の総重量を、濃度20〜80重量%(好ましくは30〜70重量%)になるよう溶媒に溶解し、これに当該ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の総モル数に対して、アルキル化剤をそのモル比率がエーテル基に置換したいモル比率になるように加え、更に、塩基触媒をアルキル化剤のモル数に対するモル比率が0.5〜5.0(好ましくは1.0〜2.5)になるように40℃〜200℃の範囲の温度条件下で加え、その温度範囲に維持しながら数時間攪拌することにより行うことができる。なお、反応温度は、50℃〜150℃の範囲であることが好ましく、60℃〜100℃の範囲であることがより好ましい。
【0048】
反応に用いられるアルキル化剤としては、例えば、ハロゲン化アルキル、硫酸エステル、芳香族スルホン酸エステル、シュウ酸エステル、カルボン酸エステル、リン酸エステル、オルトエステル、ジメチルホルムアミドアセタール、トリフルオロメタンスルホン酸エステル、アルキルアンモニウム塩、アルキルジアゾニウム、アルキルオキソ二ウム塩、アルキルスルホニウム塩、アルキルヨードニウム塩、フルオロ硫酸エステル、トリフルオロメタンスルホン酸エステルなどが挙げられる。その中でも特に、ハロゲン化アルキルを用いることが好ましい。また、ハロゲン化アルキルの中でも、ヨウ化アルキルを用いることがより好ましい。
【0049】
反応に用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、トルエン、ベンゼン、DMSO、DMF、DME、THF等が挙げられ、アセトンを溶媒として用いることが好ましい。
【0050】
また、上記塩基触媒としては、ナトリウムアミド、炭酸カリウム、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、酸化バリウム、酸化銀、水素化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ピリジン、ヨウ化銅(I)、水酸化カリウム等が挙げれ、炭酸カリウムを塩基触媒として用いるのが好ましい。
【0051】
本発明において好適に用いられる特定フェノール樹脂の具体例[(S−1)〜(S−19)]を以下に示す。なお、本発明に係る特定フェノール樹脂は、これらに限られるものではない。
【0052】
(S−1)フェノールとm−クレゾールとの縮重合体(モル比60:40、重量平均分子量12000)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、10モル%ペンチル基に置換したノボラック樹脂。
(S−2)フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとの縮重合体(モル比20:70:10、重量平均分子量4600)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、5モル%ノニル基に置換したノボラック樹脂。
(S−3)フェノールとp−クレゾールとの縮重合体(モル比40:60、重量平均分子量3200)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、15モル%イソペンチル基に置換したノボラック樹脂。
(S−4)m−クレゾールとp−クレゾールとの縮重合体(モル比50:50、重量平均分子量4900)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、1モル%シクロヘキシル基に置換したノボラック樹脂。
【0053】
(S−6)フェノールとp−エチルフェノールとの縮重合体(モル比60:40、重量平均分子量4900)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、0.5モル%2−ノルボルニル基に置換したノボラック樹脂。
(S−7)フェノールとp−ターシャリーブチルフェノールとの縮重合体(モル比70:30、重量平均分子量3100)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、55モル%メチル基に置換したノボラック樹脂
(S−8)フェノールと2,5−キシレノールとの縮重合体(モル比60:40、重量平均分子量3500)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、3モル%イソブチル基に置換したノボラック樹脂。
(S−10)フェノールと2,4−キシレノールとの縮重合体(モル比60:40、重量平均分子量5500)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、55モル%ブチル基に置換したノボラック樹脂。
【0054】
(S−11)フェノールと3,4−キシレノールとの縮重合体(モル比55:45、重量平均分子量6800)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、12モル%2−エチルヘキシル基に置換したノボラック樹脂。
(S−12)フェノールとp−ノニルフェノールとの縮重合体(モル比80:20、重量平均分子量8800)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、15モル%1−メチルブチル基に置換したノボラック樹脂。
(S−13)フェノールとp−ノニルフェノールとの縮重合体(モル比80:20、重量平均分子量8800)が有する水酸基を、水酸基の総モル数に対して、5モル%シクロペンチル基に置換したノボラック樹脂
【0056】
これらの中においても、(S−1)〜(S−4)、(S−6)〜(S−8)が好ましく、特に、(S−1)〜(S−3)がより好ましい。
【0057】
本発明の平版印刷版原版には、更に、(A−1)樹脂又は(A−2)樹脂等の特定フェノール樹脂以外の、水不溶且つアルカリ水可溶性樹脂(以下、適宜、「他のアルカリ可溶性樹脂」と称する。)を併用してもよい。
【0058】
他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体の他、特開平7−28244号公報記載のスルホニルイミド系ポリマー、特開平7−36184号公報記載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。その他、特開昭51−34711号公報に開示されているようなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特開平2−866号に記載のスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂等、種々のアルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができる。
【0059】
他のアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が500〜200,000で数平均分子量が200〜60,000のものが好ましい。
他のアルカリ可溶性樹脂は、1種単独で用いてもよく、2種類以上を組合せて用いてもよい。併用可能な添加量としては、画像記録層全固形分中、0.5〜30重量%であることが好ましく、さらに好ましくは0.5〜20重量%である。
【0060】
また、特定フェノール樹脂と他のアルカリ可溶性樹脂との含有比としては、1:1〜100:1が好ましく、5:1〜25:1がより好ましい。
【0061】
〔(B)光熱変換剤〕
本発明の平版印刷版原版に係る画像記録層は、(B)光熱変換剤を含有することを要する。
本発明に係る(B)光熱変換剤は、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができる。入手が容易である高出力レーザへの適合性の観点からは、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
【0062】
赤外線吸収性染料としては、市販の染料、例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。
【0063】
好ましい赤外線吸収性染料としては、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料;特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料;特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料;特開昭58−112792号公報等に記載されているスクアリリウム色素;英国特許434,875号明細書に記載のシアニン染料;等を挙げることができる。
【0064】
また、米国特許第5,156,938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩;特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩;特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物;特開昭59−216146号公報に記載のシアニン色素;米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等;特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【0065】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【0066】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明に係る画像記録層に使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【0067】
【化3】
【0068】
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は、酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ハロゲン原子、及びセレン原子を示す。
【0069】
【化4】
【0070】
上記式中、Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
【0071】
一般式(a)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
【0072】
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。
Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。
R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。
また、Za-は、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Za-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【0073】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。
【0074】
【化5】
【0075】
【化6】
【0076】
【化7】
【0077】
【化8】
【0078】
一般式(b)中、Lは共役炭素数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。
Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。
R9乃至R14及びR15乃至R20は、互いに独立に、水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9乃至R14及びR15乃至R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【0079】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0080】
【化9】
【0081】
【化10】
【0082】
一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
R21乃至R24及びR25乃至R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。
また、式中Za-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。
【0083】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0084】
【化11】
【0085】
【化12】
【0086】
一般式(d)中、R29乃至R31は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。
n及びmは各々独立に0ないし4の整数を示す。
R29とR30又はR31とR32は、それぞれ結合して環を形成してもよい。また、R29及び/又はR30はR33と、R31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよい。さらに、R33又はR34が複数存在する場合は、R33同士又はR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。
X2及びX3は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示し、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。
Qは、置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。
Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。
【0087】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0088】
【化13】
【0089】
【化14】
【0090】
一般式(e)中、R35乃至R50は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、又はオニウム塩構造を示す。
Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示し、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられる。中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【0091】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0092】
【化15】
【0093】
本発明において光熱変換剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
【0094】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【0095】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0096】
顔料の粒径は、顔料の画像記録層塗布液中での分散安定性、及び画像記録層の均一性の観点からは、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。
【0097】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0098】
これらの顔料又は染料は、感度及び画像記録層の均一性の観点からは、全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1〜10重量%の割合で添加することができる。
これらの染料又は顔料は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
【0099】
次に、本発明の平版印刷版原版の作製において、画像記録層用の感光性組成物を調製するに際して添加することのできる他の成分について説明する。
【0100】
感光性組成物中には、必要に応じて、感度を高めるための環状酸無水物、フェノール類、有機酸類を添加することができる。また、露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤としての染料、その他のフィラーなどを加えることができる。
【0101】
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
【0102】
フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【0103】
有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがある。具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%である。
【0104】
露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化合物と、酸と塩を形成して色調を変える有機染料との組み合わせを挙げることができる。
【0105】
露光によって酸を放出する感光性化合物としては、例えば、特開昭50−36,209号公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド;特開昭53−36223号公報に記載されているトリハロメチル−2−ビロンやトリハロメチル−s−トリアジン;特開昭55−62444号公報に記載されている種々のo−ナフトキノンジアジド化合物;特開昭55−77742号公報に記載されている2−トリハロメチル−5−アリール−1,3,4−オキサジアゾール化合物;ジアゾニウム塩などを挙げることができる。
これらの化合物は、単独又は混合して使用することができる。その添加量としては、感光性組成物の全重量に対し、0.3〜15重量%の範囲が好ましい。
【0106】
本発明の平版印刷版原版に用いられる画像記録層用組成物(感光性組成物)中には、光分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成物と相互作用することによって、その色調を変える有機染料が少なくとも一種類以上用いられる。
このような有機染料としては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタン系、チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサンテン系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系の色素を用いることができる。具体的には次のようなものである。
【0107】
ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、1,3−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、フエナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー#603〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルピンク#312〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルレッド5B〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルスカーレット#308〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルレッドOG〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルレッドRR〔オリエント化学工業(株)製〕、オイルグリーン#502〔オリエント化学工業(株)製〕、スピロンレッドBEHスペシャル〔保土谷化学工業(株)製〕、ビクトリアピュアーブルーBOH〔保土谷化学工業(株)製〕、
【0108】
パテントピュア−ブルー〔住友三国化学工業(株)製〕、スーダンブルーII〔BASF社製〕、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、ファーストアッシドバイオレットR、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒドロオキシエチル−アミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベンゾイル−p′−ジエチルアミノ−o′−メチルフェニルイミノアセトアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルイミノアセトアニリド、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等、が挙げられる。
【0109】
特に好ましい有機染料は、トリアリールメタン系染料である。トリアリールメタン系染料としては、特開昭62−2932471号公報、特許第2969021号公報に示されているような対アニオンとしてスルホン酸化合物を有するものが特に有用である。
これらの染料は、単独又は混合して使用することができる。添加量としては、画像記録層用組成物の総重量に対して0.3〜15重量%が好ましい。
また必要に応じて他の染料、顔料と併用できる。その使用量としては、染料及び顔料の総重量に対して70重量%以下、より好ましくは50重量%以下である。
【0110】
その他、画像記録層用組成物中には、種々の目的に応じて各種添加剤を加えることができる。具体的には次のようなものである。画像のインキ着肉性を向上させるための疎水基を有する各種樹脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、t−ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、t−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等;塗膜の可撓性を改良するための可塑剤、例えば、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等;が挙げられる。
これらの各種添加剤の添加量としては、画像記録層用組成物全重量に対して、0.01〜30重量%の範囲が好ましい。
【0111】
更に、画像記録層用組成物中には、皮膜の耐摩耗性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。これらの樹脂としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。これらは単独又は混合して使用することができる。添加量は組成物全重量に対して、2〜40重量%の範囲が好ましい。
【0112】
また、画像記録層用組成物中には、現像のラチチュードを広げるために、特開昭62−251740号公報や、特開平4−68355号公報に記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、アモーゲンK(商品名、第一工業製薬(株)製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げられる。
上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤が画像記録層用組成物中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%である。
【0113】
画像記録層用組成物中には、塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全組成物の0.001〜1.0重量%であり、更に好ましくは0.005〜0.5重量%である。
【0114】
また、画像記録層用組成物中には、黄色系染料、好ましくは417nmにおける吸光度が436nmにおける吸光度の70%以上である黄色系染料を添加することができる。
【0115】
本発明の平版印刷版原版を得るに際しては、まず、画像記録層用樹脂組成物を適当な支持体上に塗布することにより画像記録層が設けられる。
画像記録層は、画像記録層用組成物を下記の有機溶剤に、単独で又は混合したものに溶解又は分散し、支持体に塗布し、乾燥することにより形成される。
有機溶剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できる。本発明においては、乾燥の際における有利さから、沸点40℃〜200℃、特に60℃〜160℃の範囲のものが選択される。
【0116】
有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−又はイソ−プロピルアルコール、n−又はイソ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メトキシベンゼン等の炭化水素類;エチルアセテート、n−又はイソ−プロピルアセテート、n−又はイソ−ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類;メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハロゲン化物;イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;
【0117】
エチレングリコール、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール等の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが、単独あるいは混合して好適に使用される。そして、塗布する組成物中の固形分の濃度は、2〜50重量%とするのが適当である。
【0118】
本発明の平版印刷版原版において、画像記録層用組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレーコーティング等の方法が用いられる。
乾燥後の画像記録層の重量としては0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印刷版が得られる。
【0119】
支持体上に塗布された画像記録層用組成物の乾燥は、通常加熱された空気によって行われる。乾燥温度としては、30℃〜200℃、特に、40℃〜140℃の範囲が好適である。乾燥温度は、乾燥中一定に保たれる方法だけでなく、段階的に上昇させる方法も実施し得る。また、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場合もある。加熱された空気は、塗布面に対し0.1m/秒〜30m/秒、特に0.5m/秒〜20m/秒の割合で供給するのが好適である。
【0120】
上記のようにして設けられた画像記録層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際に、真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭50−125805号公報、特公昭57−6582号公報、同61−28986号公報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。
【0121】
[支持体]
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であればよく、従来、印刷版の支持体として使用されたものを好適に使用することができる。
かかる支持体としては、紙、プラスチックス(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記した金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルムなどが含まれる。本発明においては、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば、ケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【0122】
支持体は、必要に応じて表面処理される。支持体に表面処理が施される場合には、親水化処理が施されることが好ましい。また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。また、支持体としては、米国特許第2,714,066号明細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第3,181,461号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
上記陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液、或いは非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【0123】
また、親水化処理としては、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、画像記録層との密着性を向上させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施してもよい。
前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【0124】
砂目立て方法としては、機械的方法、化学的方法及び電気化学的のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがある。化学的方法としては、特開昭54−31187号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しいる。電気化学的方法としては、塩酸、硝酸又はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭55−137993号公報に記載されているような機械的粗面化方法と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。
【0125】
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は、必要に応じて水洗及び化学的にエッチングされる。
エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基又は酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた支持体表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては、硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等が挙げられるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属(例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等)の塩は、エッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これらのエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間1分あたり0.3グラムから40g/m2になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回る又は下回るものであっても差支えない。
【0126】
エッチングは、エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われる。エッチングは、エッチング量が0.5〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好ましい。エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。
【0127】
エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中で、アルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜100V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の中でも、特に英国特許第1,412,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法、及び米国特許第3,511,661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
【0128】
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理してもよい。親水化処理の好ましい例としては、米国特許第2,714,066号明細書及び同第3,181,461号明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)、特公昭36−22063号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム、及び米国特許第4,153,461号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【0129】
[有機下塗層]
本発明の平版印刷版原版には、必要に応じて、画像記録層と支持体の間に有機下塗層を設けることができる。
【0130】
有機下塗層に用いられる有機化合物としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム;2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸;置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸;置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩;などから選ばれるが、これらを二種以上混合して用いてもよい。
また、有機下塗り層には、オニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物としては、特開2000−10292号公報、特開2000−108538号公報等に詳述されている。
【0131】
その他、有機下塗層には、ポリ(p−ビニル安息香酸)などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることができる。より具体的には、p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
【0132】
この有機下塗層は、次のような方法で設けることができる。即ち、水、又は、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤、或いはそれらの混合溶剤に、(i)上記した有機化合物を溶解させた溶液を、アルミニウム板上に塗布、乾燥して有機下塗層を設ける方法と、(ii)水、又は、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤、或いはそれらの混合溶剤に、上記した有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、然る後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。
前者の方法では、上記した有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。塗布方法としては、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
【0133】
有機下塗層の塗布液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。
また、平版印刷版原版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加することもできる。さらにこの塗布液には、下記一般式(f)で示される化合物を添加することもできる。
【0134】
一般式(f)
(HO)x−R5−(COOH)y
【0135】
一般式(f)中、R5は置換基を有してもよい炭素数14以下のアリーレン基を表す。x及びyは、各々独立して、1から3の整数を表す。
一般式(f)で示される化合物の具体的な例としては、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、10−ヒドロキシ−9−アントラセンカルボン酸などが挙げられる。
【0136】
有機下塗層の乾燥後の被覆量としては、耐刷性の観点から、1〜100mg/m2が適当であり、好ましくは2〜70mg/m2である。
【0137】
[有機中間層]
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、画像記録層と支持体の間に有機中間層を設けることができる。
有機中間層を設けることで、露光によりアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感応層(画像記録層)が露光面或いはその近傍に設けられることになり、赤外線レーザに対する感度がより良好になる。また、支持体と赤外線感応層との間に高分子からなる有機中間層を設けると、該有機中間層が断熱層として機能するために、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず効率良く画像形成に使用され、高感度化も図れるという利点を有する。
また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である画像記録層自体が有機中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像を形成することができ、且つ経時的な安定性も確保されるものと考えられる。
さらに、有機中間層はアルカリ可溶性高分子を含有した層として構成されるため、現像液に対する溶解性が極めて良好な層であることから、このような有機中間層を支持体に隣接して設けることにより、例えば活性の低下した現像液などを用いた場合であっても、露光により溶解抑制能が解除された感光層の成分が現像液に溶解・分散する際に、残膜などが発生することなく速やかに露光部が除去される。このことが現像性の向上にも寄与するものと考えられる。以上の理由から有機中間層は有用であると考えられる。
【0138】
この有機中間層は、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有して構成される。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、有機中間層自体が、特に非画像部領域において、高いアルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点からは、前記画像記録層の説明において記載された他のアルカリ可溶性樹脂が好ましく挙げられる。これらの中でも、感度、画像形成性の観点からは前記画像記録層に用いられる特定フェノール樹脂よりも相互作用を形成し難く、アルカリ現像液に対する溶解性に優れた樹脂を選択することが好ましい。このような樹脂としては、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、アセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン樹脂等を好ましく挙げることができる。
【0139】
また、有機中間層に用いるアルカリ可溶性樹脂としては、画像記録層を塗布する際にその塗布溶媒により溶解され難い樹脂を選択することが重要となる。このような樹脂を選択することで、2つの層の界面において所望されない相溶が抑制されるとともに、耐薬品性の一層の向上も期待できる。このような観点から、上記した樹脂の中でも、アクリル樹脂が特に好ましい。
【0140】
以下、有機中間層に適用されるアルカリ可溶性樹脂として好適な、水不溶性且つアルカリ可溶性のアクリル樹脂(以下、適宜、「アクリル樹脂」と称する。)について詳細に説明する。
ここで用いられるアクリル樹脂は、水に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶であれば特に制限はない。このようなアクリル樹脂は、前記画像記録層において好ましく用いられるフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂との相溶性が低いため、前記画像記録層と重層構造を形成するのに特に適している。また、アクリル樹脂は樹脂自体のアルカリ可溶性にも優れる。
【0141】
アクリル樹脂としては、スルホンアミド基(−SO2NH−R、ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。)、活性イミド基〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R、ここで、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。〕、カルボン酸基(−CO2H)、スルホン酸基(−SO3H)、リン酸基(−OPO3H2)などのアルカリ可溶性基を有し、且つ、アルカリ可溶性樹脂の共重合成分として好適な、脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類;アルキルアクリレート類;アルキルメタクリレート類;アクリルアミド若しくはメタクリルアミド;アルキルマレイミド、アリールマレイミドなどの不活性イミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル類;などを構成成分として含む樹脂が挙げられる。また、特開平2−866号公報に記載のスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂なども本発明に好適に適用し得る。
【0142】
アクリル樹脂の分子量としては、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
【0143】
本発明に係る有機中間層成分中のアルカリ可溶性樹脂の含有量は、有機中間層に含まれる全固形分中、約40〜95重量%、好ましくは約50〜90重量%である。
また。有機中間層には、アルカリ可溶性樹脂に加えて、さらに、前記画像記録層に用いられたような光熱変換剤や種々の添加剤を併用することができる。
【0144】
<バックコート>
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物、及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層、が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【0145】
作製された平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【0146】
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0147】
上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液であり、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」である。
【0148】
前者の現像液において、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4重量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。
【0149】
また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」も、本発明の平版印刷版材料の現像に適用するのに好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版材料の現像処理を行うと、画像記録層の表面を劣化させることがなく、かつ画像記録層の着肉性をより良好な状態に維持することができる。
【0150】
このような現像液は、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のpHが9.0〜13.5の範囲であることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット及びアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトール及びオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に用いられる。
これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
【0151】
これらの非還元糖は、単独又は二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は0.1〜30重量%が好ましく、更に好ましくは、1〜20重量%である。
この範囲以下では充分な緩衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。尚、還元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色に変色し、pHも徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題点がある。
【0152】
非還元糖に組み合わせる塩基としては、従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【0153】
これらのアルカリ剤は、単独又は二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いpH領域でpH調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は、現像液のpHを9.0〜13.5の範囲になるように添加され、その添加量は所望のpH、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいpH範囲は10.0〜13.2である。
【0154】
現像液には、更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましい。
このような弱酸としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載されているものから選ばれる。例えば、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1(PKa12.74)、トリフルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−アルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、サリチル酸(同13.0)、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール(同11.34)、o−クレゾール(同10.33)、レゾルシノール(同11.27)、p−クレゾール(同10.27)、m−クレゾール(同10.09)などのフェノール性水酸基を有する化合物、
【0155】
2−ブタノンオキシム(同12.45)、アセトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジオンジオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.35)などのオキシム類、アデノシン(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸(同12.10)、1,1−エチリデンジホスホン酸(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.5)などの弱酸が挙げられる。
【0156】
これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は二種以上を組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は、濃度及び組み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用される。
【0157】
現像液には、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
【0158】
界面活性剤の好ましい例としては、以下のものが挙げられる。
非イオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどが挙げられる。
【0159】
アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤が挙げられる。
【0160】
カチオン系界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤が挙げられる。
両性界面活性剤としては、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。
以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
【0161】
更に好ましい界面活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤は、単独又は2種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加される。
【0162】
現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が挙げられる。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56−142528号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。
【0163】
更に、特開昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公報記載の酸又はアルコールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【0164】
現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール及び4−メチルシクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミン及びN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。
有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【0165】
現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものである。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸及び亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.05〜5重量%の範囲で含有される。
【0166】
現像液には、更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は、炭素数6〜20の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸及びステアリン酸などがあり、特に好ましいものは炭素数8〜12のアルカン酸である。また、脂肪族カルボン酸は、炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあり、ヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
【0167】
上記脂肪族及び芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩又はアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液中における有機カルボン酸の含有量としては格別な制限はないが、0.1重量%より低いと効果が充分でなく、また10重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.5〜4重量%である。
【0168】
現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤などを含有させることもできる。
硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸及びそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸及び1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸、及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩若しくはアンモニウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)及び1−ヒドロキシタエン−1,1−ジホスホン酸、及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩若しくはアンモニウム塩を挙げることができる。
【0169】
このような硬水軟化剤は、そのキレート化と使用される硬水の硬度及び硬水の量によって最適値が変化する。硬水軟化剤の一般的な使用量としては、使用時の現像液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が充分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響が出てくる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。
【0170】
本発明の平版印刷版原版の現像液としては、また、特開平6−282079号公報記載の現像液も使用できる。これは、SiO2/M2O(Mはアルカリ金属を示す)のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物とを含有する現像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基及びケトン基を還元して、それぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの貝体的な例としては、D,L−トレイット、エリトリット、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタ及びヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコール1モルに対し5モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。さらにエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は、単独又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は、現像液(使用液)に対して0.001〜5重量%が適しており、より好ましくは0.001〜2重量%である。
【0171】
この現像液にはさらに、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
【0172】
かかる組成の現像液で現像処理された平版印刷版原版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明に係る平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【0173】
近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置と、各処理液槽及びスプレー装置とからなり、露光済みのPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像及び後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。
【0174】
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じて、それぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、本発明には、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0175】
【実施例】
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるものではない。
【0176】
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を組み合わせて処理することで支持体A、B、C、Dを作製した。
(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラは、ブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向は、アルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
【0177】
(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、温度70℃のNaOH水溶液(濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0178】
(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【0179】
(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0180】
(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0181】
(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15重量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【0182】
(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0183】
(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0184】
(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【0185】
(j)陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
【0186】
<支持体A>
上記(a)〜(j)の各工程を順に行い、(e)工程におけるエッチング量は3.4g/m2となるようにして支持体Aを作製した。
<支持体B>
上記工程のうち(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Bを作製した。
【0187】
<支持体C>
上記工程のうち(a)及び(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Cを作製した。
<支持体D>
上記工程のうち(a)及び(d)(e)(f)の工程を省略した以外は各工程を順に行い、(g)工程における電気量の総和が450C/dm2となるようにして支持体Dを作製した。
上記によって得られた支持体A、B、Cには、引き続き下記の親水化処理、下塗り処理を行った。
【0188】
(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を、温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1重量%水溶液の処理層中に、10秒間、浸漬することでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は3.6mg/m2であった。
【0189】
〔(1)下塗りの形成〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は18mg/m2であった。
【0190】
<下塗り液組成>
下記高分子化合物 0.3g
メタノール 100g
水 1.0g
【0191】
【化16】
【0192】
〔特定フェノール樹脂の合成〕
(合成例) フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール(20/70/10)のノ二ル化(5モル%)
フェノール/m−クレゾール/p−クレゾール(20/70/10)11.18g、ヨウ化ノニル1.13gをアセトン10gに溶解させた。この溶液を65℃に加熱し、これに炭酸カリウム0.69gを加えた。65℃で8時間攪拌した後、徐々に室温まで戻した。反応液に1N塩酸20ml加えてしばらく攪拌した。反応液に蒸留水75mlを加え2回洗浄した。得られた固形物を30mlのメタノールで溶解した後、これを蒸留水3Lに30分かけて滴下すると、5モル%ノニル化されたフェノール/m−クレゾール/p−クレゾール(20/70/10)ノボラック樹脂が得られた。
なお、以下の各実施例に使用した上記以外の特定フェノール樹脂についても、同様の方法で合成した。
【0193】
(実施例1〜6)
得られた支持体A〜Dに、以下の画像記録層塗布液1(感光性組成物)を塗布して、150℃のオーブンで1分間乾燥し、乾燥膜厚が1.7g/m2のポジ型平版印刷版原版を作製した。
【0194】
<画像記録層塗布液1>
【0195】
【化17】
【0196】
(実施例7)
得られた支持体Aに、以下の画像記録層塗布液2を塗布量が0.9g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して160℃で60秒間乾燥し、実施例7のポジ型平版印刷版原版を得た。
【0197】
<画像記録層塗布液2>
【0200】
(実施例8)
得られた支持体Aに、下記組成の第1層(有機中間層)用塗布液を、ワイヤーバーで塗布したのち、135℃の乾燥オーブンで90秒間乾燥して塗布量を0.85g/m2とした。
得られた有機中間層付き支持体に、下記組成の第2層(画像記録層)用塗布液をワイヤーバーで塗布した。塗布後、乾燥オーブンで、150℃で50秒間の乾燥を行い、総塗布量を1.1g/m2としてポジ型平版印刷版原版を作製した。
【0201】
<第1層(有機中間層)用塗布液>
【0202】
【化18】
【0203】
<第2層(画像記録層)用塗布液>
【0204】
【化19】
【0208】
(実施例9)
前記画像記録層塗布液1において用いた特定フェノール樹脂の代わりに、ノボラック型フェノール樹脂の水酸基の一部をフッ素含有アルキルエーテル基に修飾した樹脂〔フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールからなるノボラック樹脂(モル比20:70:10)を5% 6−(パーフルオロブチル)ヘキシル化したノボラック樹脂(重量平均分子量4800)〕を用いた以外は、実施例1〜6と同様にして、実施例9のポジ型平版印刷版原版を作製した。
【0209】
(比較例1)
前記画像記録層塗布液1において、特定フェノール樹脂の代わりに、フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとからなるノボラック樹脂(モル比20:70:10、重量平均分子量4600)を用いた以外は、実施例1〜6と同様にして、比較例1のポジ型平版印刷版原版を得た。
【0210】
(平版印刷版原版の評価)
1.現像ラチチュードの評価
得られた各平版印刷版原版を温度20℃相対湿度45%の条件下で6日間保存した後に、Creo社製Trendsetter3244VXにてビーム強度8.0W、ドラム回転速度120rpmでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
その後、下記A組成及びB組成のアルカリ現像液の水の量を変更することにより、希釈率を変えて電導度を変化させたものを仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間22秒で現像した。この時、画像部が溶出されず、且つ、現像不良の画像記録層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物の差を現像ラチチュードとして評価した。結果を表2に示す。
【0211】
<アルカリ現像液A組成>
・SiO2・K2O(K2O/SiO2=1/1(モル比)) 5.0重量%
・クエン酸 0.4重量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.6重量%
(重量平均分子量1,000)
・水 94.0重量%
【0212】
<アルカリ現像液B組成>
・Dソルビット 3.0重量%
・水酸化ナトリウム 0.8重量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.6重量%
(重量平均分子量1,000)
・水 95.6重量%
【0213】
2.感度の評価
得られた各平版印刷用原板に対して、Creo社製Trendsetter3244VXにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、上記現像ラチチュードの評価において画像部が溶出されず、かつ、現像不良の画像記録層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現像液の電導度の一番高いものと、一番低い物の中間(平均値)の電導度のアルカリ現像液で現像し、この現像液で非画像部が現像できる露光量(ドラム回転速度120rpmのときのビーム強度)を測定し、感度とした。数値が小さいほど高感度であると評価する。結果を下記表2に示す。
【0214】
3.焼きだめ性の評価
得られた各平版印刷用原板に対して、上記感度評価と同様に露光した後、20℃相対湿度80%の環境で一時間保存した後に、上記感度評価と同様の評価を行い、露光直後からの感度の低下度合いを焼きだめ性の指針とした。なお、数値は露光1時間後の感度を表し、当該数値が露光直後の感度に近いほど焼きだめ性が良好であると評価する。
【0215】
【表1】
【0216】
【表2】
【0217】
表2から明らかなように、本発明に係る特定フェノール樹脂を用いた実施例1〜9の平版印刷版原版は、シリケート現像、非シリケート現像の如何に拘わらず、焼きだめ性に優れたものであった。また、得られた平版印刷版原版は、感度に優れ、且つ、現像ラチチュードが広いことから、現像時の残膜の発生が抑制され、コントラストに優れた画像形成が可能であることがわかった。さらに、実施例8の結果より、本発明の平版印刷版原版は、単層のみならず、重層構造の画像記録層を有する場合にも、優れた効果を奏することがわかった。
一方、フェノール樹脂として、フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールからなるノボラック樹脂を用いた比較例1の平版印刷版原版は、実施例に比較して焼きだめ性に劣り、現像ラチチュードがやや狭いことがわかる。
【0218】
【発明の効果】
本発明の平版印刷版原版は、赤外線レーザによりダイレクト製版が可能であり、露光部と非露光部との現像液に対する溶解性の差(溶解性ディスクリ)に優れ、且つ、露光後の経時による現像性変化の度合いが小さい(焼きだめ性が良好な)という効果を奏する。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a positive lithographic printing plate precursor, and more particularly, to a positive lithographic printing plate precursor for infrared laser for so-called direct plate making which can be directly made from a digital signal of a computer or the like.
[0002]
[Prior art]
The development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.
[0003]
In a known positive photosensitive image forming material for infrared laser for direct plate making, a novolak resin or the like is used as an alkaline aqueous solution-soluble resin.
For example, as a positive type photosensitive image forming material, a substance capable of generating heat by absorbing light, a variety of onium salts, quinonediazide compounds, etc., in an aqueous alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group such as a novolak resin. A positive photosensitive compound, which acts as a dissolution inhibitor that substantially reduces the solubility of the aqueous alkali-soluble resin in the image area, and is heated by heat in the non-image area. There has been disclosed a technique in which an image is formed so that the dissolution inhibiting ability does not appear and can be removed by development (see, for example, Patent Document 1).
[0004]
Further, the positive photosensitive image forming material is composed of a substance that generates heat by absorbing light and a resin whose alkali aqueous solution solubility is changed by the heat. Low and non-image areas are disclosed in which an aqueous alkali solution becomes highly soluble by heat and can be removed by development to form an image (see Patent Documents 2 and 3).
[0005]
In conventional lithographic printing plate precursors, novolak resin interacts strongly with the dissolution inhibitor, so the difference in solubility in the developer between the exposed and non-exposed areas is large, and the reasons for excellent ink acceptability, etc. Therefore, it is particularly preferably used. In addition, novolak resin is also used in positive-type planographic printing plate precursors for infrared lasers for the same reason. As the novolak resin, a resin obtained by polymerizing phenols such as phenol, cresol and xylenol using formaldehyde under acidic conditions is generally used.
[0006]
However, it has been found that the lithographic printing plate precursor using the above-described novolak resin has a problem that developability deteriorates and development failure occurs with time after exposure. Such a decrease in developability with time after exposure is a problem in the plate making process, and improvement is required. (Hereinafter, the degree of change in developability after exposure is expressed by the quality of image transferability, and the greater the decrease in developability is referred to as “bad image transfer”.)
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-7-285275
[Patent Document 2]
International Publication No. 97/39894 Pamphlet
[Patent Document 3]
European Patent Application No. 0823327A2
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the object of the present invention is excellent in the difference in solubility in the developer between the exposed area and the unexposed area (dissolvable discrimination: hereinafter referred to as “soluble disk” as appropriate), and after exposure. It is an object of the present invention to provide a positive planographic printing plate precursor having a small degree of change in developability with time (good shrinkage).
[0009]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive research,Novolac phenolic resinIt has been found that the above problem can be solved by incorporating a resin in which a part of the phenolic hydroxyl group possessed by an ether group is substituted into an image recording layer of a positive type lithographic printing plate precursor, thereby completing the present invention. It was.
[0010]
That is, the positive type lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises (A) a hydrophilic support.Novolac-type phenolic resin containing a partial structure represented by the following general formula (I)(Hereinafter referred to as “specific phenol resin” as appropriate) and (B) an image recording layer containing a photothermal conversion agent and having increased solubility in an alkaline aqueous solution by infrared laser exposure. And
[Chemical 2]
[In general formula (I), R 1 Represents a linear unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched unsubstituted alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic unsubstituted alkyl group having 5 to 10 carbon atoms, R 2 , R Three And R Four Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. ]
[0011]
Although the action mechanism of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
That is, the specific phenol resin contained in the image recording layer according to the present invention has improved alkali dissolution inhibiting ability by replacing the phenolic hydroxyl group of the resin with an ether group, thereby improving the development resistance of the image area. It can improve and suppress film loss. In addition, by replacing the phenolic hydroxyl group with an ether group, the specific phenol resin has a high degree of freedom in mobility during exposure and is likely to cause a large position shift. Furthermore, recombination due to hydrogen bonding between phenolic hydroxyl groups is unlikely to occur. Since the change resulting from this, that is, the release of the dissolution inhibiting ability in the exposed portion is maintained even after the exposure that has lost the instantaneous heat due to the exposure, it is presumed that this has led to an improvement in the shrinkage.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
[0013]
[Image recording layer]
The image recording layer according to the present invention includes (A)specificPhenolic treeFat,And (B) It is necessary to contain a photothermal conversion agent.
First, a resin (specific phenol resin) obtained by substituting a part of the hydroxyl groups of the phenol resin (A), which is a characteristic component constituting the image recording layer according to the present invention, with an ether group will be described.
[0014]
<(A) Specific phenol resin>
The specific phenolic resin according to the present invention isNovolac phenolic resinA resin in which a part of the phenolic hydroxyl group possessed byTherefore, it is necessary to be a novolac type phenol resin containing a partial structure represented by the following general formula (I).
[Chemical Formula 3]
[In general formula (I), R 1 Represents a linear unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched unsubstituted alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic unsubstituted alkyl group having 5 to 10 carbon atoms, R 2 , R Three And R Four Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. ]
Here, the phenolic hydroxyl group (hereinafter referred to as “hydroxyl group” as appropriate in the description of the specific phenol resin) means a hydroxyl group directly bonded to the benzene skeleton constituting the phenol resin. The lithographic printing plate precursor according to the invention contains a phenolic resin in which a part of the hydroxyl group is substituted with an ether group in the image recording layer, so that the soluble discreet and the tempering can be performed without lowering the sensitivity. It exhibits an excellent effect on the properties.
Although the substitution rate of the hydroxyl group to the ether group in the specific phenol resin is appropriately determined depending on the type of the phenol resin to be substituted, etc., it is preferably about 1 mol% to 50 mol%.
[0015]
As a phenol resin constituting the specific phenol resin in the present invention,From the point of solubility of novolac type phenolic resin in alkaline developerUsed.
[0018]
The general formula (I) will be described.
In general formula (I), R1IsA linear unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched unsubstituted alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic unsubstituted alkyl group having 5 to 10 carbon atomsRepresents R2, RThreeAnd RFourEach independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom.
[0019]
In general formula (I), R1IsA linear unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched unsubstituted alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic unsubstituted alkyl group having 5 to 10 carbon atoms..
Among these, FurtherA linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and a cyclic alkyl group having 5 to 7 carbon atoms are preferable, and a linear alkyl group having 3 to 7 carbon atoms is most preferable.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group. , Octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group , Cyclopentyl group, 2-norbornyl group and the like.
[0021]
In general formula (I), R2And RThreeIs preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
Specific examples of the alkyl group include a methyl group or an ethyl group.
In general formula (I), RFourThe alkyl group represented by is preferably an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group.
In general formula (I), R2, RThreeAnd RFourIs a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom.
[0022]
A more preferable embodiment of the specific phenol resin including the partial structure represented by the general formula (I) is selected from (A-1) a resin obtained by substituting a part of the hydroxyl group of the novolac type phenol resin with an alkyl ether group. Resin. A more preferred embodiment is a resin selected from (A-2) a resin obtained by substituting a part of the hydroxyl group of a novolac type phenol resin containing phenol as a structural unit with an alkyl ether group.
[0023]
<(A-1) Resin formed by substituting a part of hydroxyl group of novolak type phenolic resin with an alkyl ether group>
First, the resin (hereinafter referred to as (A-1) resin as appropriate) obtained by substituting a part of the hydroxyl group of the (A-1) novolak type phenol resin with an alkyl ether group will be described in detail.
[0024]
(A-1) As a novolak type phenol resin used for obtaining a resin, a novolac type phenol resin obtained by condensing one or more of phenols represented by the following general formula (II) with an aldehyde Is mentioned.
[0025]
[Chemical 2]
[0026]
In general formula (II), R2, RThreeAnd RFourEach independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom.
In general formula (II), R2And RThreeThe alkyl group represented by these is synonymous with the alkyl group in the said general formula (I), and its preferable range is also the same.
In general formula (II), RFourThe alkyl group represented by these is synonymous with the alkyl group in the said general formula (I), and its preferable range is also the same.
In general formula (II), R2, RThreeAnd RFourThe halogen atom represented by these is synonymous with the halogen atom in the said general formula (I), and its preferable range is also the same.
[0027]
Specific examples of phenols represented by the general formula (II) include isopropylphenol, t-butylphenol, t-amylphenol, hexylphenol, cyclohexylphenol, 3-methyl-4-chloro-6-t- Examples include butylphenol, isopropyl cresol, t-butyl cresol, and t-amyl cresol. T-butylphenol and t-butylcresol are preferable.
[0028]
(A-1) Examples of aldehydes used for obtaining a novolak-type phenol resin used for the resin include aliphatic and aromatic aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, acrolein, and crotonaldehyde. Formaldehyde or acetaldehyde is preferred, and formaldehyde is most preferred.
[0029]
(A-1) The substitution rate of hydroxyl groups to alkyl ether groups in the resin is preferably 1 to 80 mol%, more preferably 1 to 50 mol%, and more preferably 1 to 20 mol%. Most preferred.
[0030]
The weight average molecular weight of the (A-1) resin is preferably 1,000 to 30,000, more preferably 1,500 to 20,000, and 2,000 to 10,000. Is particularly preferred.
[0031]
The ratio of the resin (A-1) to the total solid content in the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably 0.1% from the viewpoint of exerting the effects of the invention without reducing the sensitivity. % To 20% by weight, more preferably 0.2% to 10% by weight, and particularly preferably 0.2% to 5% by weight.
[0032]
<(A-2) Resin formed by substituting a part of hydroxyl groups of a novolak type phenol resin containing phenol as a structural unit with an alkyl ether group>
Next, a resin obtained by substituting a part of hydroxyl groups of a novolak type phenol resin containing phenol as the structural unit (A-2) with an alkyl ether group (hereinafter, appropriately referred to as (A-2) resin). This will be described in detail.
[0033]
(A-2) As a novolak-type phenol resin used in order to obtain resin, the novolak-type phenol resin formed by condensing phenol and substituted phenol with aldehydes is mentioned.
[0034]
(A-2) Examples of the aldehydes used for obtaining the novolak type phenol resin used for the resin include those described in the description of (A-1).
[0035]
(A-2) As a novolak type phenol resin used for obtaining a resin, a phenol formaldehyde resin, a phenol / cresol (any of m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, etc. A novolak resin etc. are mentioned preferably.
[0036]
(A-2) The phenol content in the monomer constituting the novolak type phenol resin used for obtaining the resin is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 15 to 70 mol%, Most preferred is ˜60 mol%.
[0037]
Further, the number of components other than phenol (substituted phenol component) contained in the monomer is preferably 2 or less, more preferably 1 component.
As the substituted phenol component used as one component, cresol is preferable, and m-cresol is most preferable.
A preferable combination of two components is a combination of “m-cresol” and “p-cresol, o-cresol, or xylenol”, and more preferably a combination of m-cresol and p-cresol. .
Moreover, as a component amount in the case of 2 components, what contained 10 mol% or more of m-cresol is preferable, More preferably, it is made to contain 20 mol% or more.
The amount of components other than phenol in the case of one component is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and particularly preferably 30 mol% or more.
[0038]
(A-2) The substitution rate of the hydroxyl group to the alkyl ether group in the resin is preferably 1 to 80 mol%, more preferably 1 to 60 mol%, and most preferably 1 to 50 mol%. preferable.
[0039]
(A-2) The weight average molecular weight of the resin is preferably 1,000 to 30,000, more preferably 1,500 to 20,000, and particularly 2,000 to 10,000. preferable. The number average molecular weight is preferably 500 or more, and more preferably 750 to 650,000. The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
[0040]
The resin (A-2) is preferably 10% by weight to 95% by weight in the total solid content of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor, from the viewpoint of the printing durability improvement effect by the burning treatment, It is preferable that it is weight%-90 weight%.
[0041]
The specific phenol resin such as the (A-1) resin and the (A-2) resin according to the present invention may be used alone or in combination of two or more. When a general novolac resin other than the specific phenol resin according to the present invention is used in combination, the content ratio of the novolac resin other than the specific phenol resin to the total novolak resin is in the range of 5 to 90% by weight, and 10 to 80% by weight. Is preferable, and the range of 20 to 70% by weight is particularly preferable.
[0042]
A novolac-type phenol resin for substituting a part of the phenolic hydroxyl group with an alkyl ether group can be produced, for example, as follows.
That is, phenol and / or substituted phenols (for example, (A-1) resin and cresols mentioned in the description of (A-2) resin) are reacted with an aqueous formaldehyde solution in a solvent using an acid as a catalyst. The o-position or p-position in the phenol or substituted phenol component and formaldehyde can be produced by dehydration condensation.
[0043]
Dehydration condensation between the o-position or p-position of the phenol or substituted phenol component and formaldehyde can be carried out as follows.
That is, the total weight of phenol and substituted phenol components is dissolved in a solvent to a concentration of 60 to 90% by weight (preferably 70 to 80% by weight), and formaldehyde is added to this in a molar ratio to the total number of moles of phenol and substituted phenol components. Is 0.2 to 2.0 (preferably 0.4 to 1.4, particularly preferably 0.6 to 1.2), and an acid catalyst is added to the total number of moles of phenol and substituted phenol components. Add under a temperature condition of 10 ° C to 150 ° C so that the molar ratio is 0.01 to 0.1 (preferably 0.02 to 0.05), and stir for several hours while maintaining the temperature range This can be done. In addition, it is preferable that reaction temperature is the range of 70 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is the range of 90 to 140 degreeC.
[0044]
Examples of the solvent used for the reaction include water, acetic acid, methanol, ethanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, ethyl propionate, ethoxyethyl propionate, 4-methyl-2-pentanone, dioxane, xylene, Examples include benzene.
[0045]
Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, phosphoric acid, oxalic acid, tartaric acid, citric acid, zinc acetate, manganese acetate, cobalt acetate, magnesium methylsulfonate, aluminum chloride, and zinc oxide. Can be mentioned.
[0046]
The specific phenol resin according to the present invention includes a novolak type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with an ether group, in a solvent, with a base as a catalyst, together with an alkylating agent, thereby eliminating the alkylating agent. It can be prepared by substituting a group with an alkoxide (phenoxide).
[0047]
The substitution reaction of the phenoxide of the novolak type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with the ether group and the leaving group of the alkylating agent can be carried out as follows.
That is, the total weight of the novolak-type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with an ether group is dissolved in a solvent so as to have a concentration of 20 to 80% by weight (preferably 30 to 70% by weight). The molar ratio of the alkylating agent to the molar ratio of the alkylating agent is further added to the total molar number of hydroxyl groups of the type phenol resin so that the molar ratio of the alkylating agent is desired to be replaced with an ether group. It is carried out by adding it under a temperature condition in the range of 40 ° C. to 200 ° C. so as to be 0.5 to 5.0 (preferably 1.0 to 2.5) and stirring for several hours while maintaining the temperature range. be able to. In addition, it is preferable that reaction temperature is the range of 50 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is the range of 60 to 100 degreeC.
[0048]
Examples of the alkylating agent used in the reaction include alkyl halides, sulfuric acid esters, aromatic sulfonic acid esters, oxalic acid esters, carboxylic acid esters, phosphoric acid esters, orthoesters, dimethylformamide acetals, trifluoromethanesulfonic acid esters, Examples include alkylammonium salts, alkyldiazonium, alkyloxodium salts, alkylsulfonium salts, alkyliodonium salts, fluorosulfuric acid esters, and trifluoromethanesulfonic acid esters. Among these, it is particularly preferable to use an alkyl halide. Of the alkyl halides, alkyl iodide is more preferably used.
[0049]
Examples of the solvent used in the reaction include acetone, toluene, benzene, DMSO, DMF, DME, THF, and the like, and it is preferable to use acetone as the solvent.
[0050]
Examples of the base catalyst include sodium amide, potassium carbonate, triethylamine, sodium hydroxide, barium oxide, silver oxide, sodium hydride, potassium iodide, pyridine, copper (I) iodide, potassium hydroxide, and the like. Preference is given to using potassium carbonate as the base catalyst.
[0051]
Specific examples [(S-1) to (S-19)] of specific phenol resins suitably used in the present invention are shown below. The specific phenol resin according to the present invention is not limited to these.
[0052]
(S-1) A novolak in which the hydroxyl group of a polycondensation product of phenol and m-cresol (molar ratio 60:40, weight average molecular weight 12000) is substituted with 10 mol% pentyl group with respect to the total number of moles of hydroxyl group. resin.
(S-2) The hydroxyl group of a polycondensation product of phenol, m-cresol and p-cresol (molar ratio 20:70:10, weight average molecular weight 4600) is 5 mol% with respect to the total number of moles of hydroxyl groups. A novolak resin substituted with a nonyl group.
(S-3) A novolak in which the hydroxyl group of a polycondensation product of phenol and p-cresol (molar ratio 40:60, weight average molecular weight 3200) is substituted with 15 mol% isopentyl group with respect to the total number of moles of hydroxyl group resin.
(S-4) The hydroxyl group of the polycondensation product of m-cresol and p-cresol (molar ratio 50:50, weight average molecular weight 4900) is substituted with 1 mol% cyclohexyl group with respect to the total number of moles of hydroxyl groups. Novolac resin.
[0053]
(S-6) The hydroxyl group of the polycondensation product of phenol and p-ethylphenol (molar ratio 60:40, weight average molecular weight 4900) is 0.5 mol% 2-norbornyl with respect to the total number of moles of hydroxyl groups. Novolac resin substituted on the group.
(S-7) The hydroxyl group of the polycondensation product of phenol and p-tertiary butylphenol (molar ratio 70:30, weight average molecular weight 3100) is substituted with 55 mol% methyl group based on the total number of moles of hydroxyl group. Novolac resin
(S-8) A hydroxyl group of a polycondensation product of phenol and 2,5-xylenol (molar ratio 60:40, weight average molecular weight 3500) is substituted with 3 mol% isobutyl group based on the total number of moles of hydroxyl groups. Novolac resin.
(S-10) The hydroxyl group of the polycondensation product of phenol and 2,4-xylenol (molar ratio 60:40, weight average molecular weight 5500) is replaced with 55 mol% butyl group based on the total number of moles of hydroxyl group. Novolac resin.
[0054]
(S-11) 12 mol% 2-ethylhexyl group based on the total number of moles of the hydroxyl group of the condensation polymer of phenol and 3,4-xylenol (molar ratio 55:45, weight average molecular weight 6800) Novolak resin replaced with.
(S-12) The hydroxyl group of the polycondensation product of phenol and p-nonylphenol (molar ratio 80:20, weight average molecular weight 8800) is replaced with 15 mol% 1-methylbutyl group with respect to the total number of moles of hydroxyl groups. Novolac resin.
(S-13) A novolak in which the hydroxyl group of a polycondensation product of phenol and p-nonylphenol (molar ratio 80:20, weight average molecular weight 8800) is substituted with 5 mol% cyclopentyl group with respect to the total number of moles of hydroxyl group resin
[0056]
Among these, (S-1) to(S-4), (S-6) to(S-8) is preferable, and (S-1) to (S-3) are more preferable.
[0057]
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a water-insoluble and alkaline water-soluble resin (hereinafter, appropriately referred to as “other alkali-soluble”) other than the specific phenol resin such as the resin (A-1) or the resin (A-2). May be used in combination.
[0058]
Examples of other alkali-soluble resins include polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide copolymer, hydroquinone monomethacrylate copolymer, and JP-A-7-28244. Examples thereof include sulfonylimide-based polymers described in the publication, and carboxyl group-containing polymers described in JP-A-7-36184. In addition, an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group as disclosed in JP-A-51-34711, an acrylic resin having a sulfonamide group described in JP-A-2-866, and a urethane-based resin Various alkali-soluble polymer compounds can also be used.
[0059]
Other alkali-soluble resins preferably have a weight average molecular weight of 500 to 200,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000.
Other alkali-soluble resins may be used singly or in combination of two or more. The addition amount that can be used in combination is preferably 0.5 to 30% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight, based on the total solid content of the image recording layer.
[0060]
Moreover, as content ratio of specific phenol resin and other alkali-soluble resin, 1: 1 to 100: 1 are preferable and 5: 1 to 25: 1 are more preferable.
[0061]
[(B) Photothermal conversion agent]
The image recording layer according to the lithographic printing plate precursor according to the invention needs to contain (B) a photothermal conversion agent.
The (B) photothermal conversion agent according to the present invention can be used without any limitation in the absorption wavelength region as long as it is a substance that absorbs light energy irradiation rays and generates heat. From the viewpoint of compatibility with a high-power laser that is easily available, an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable.
[0062]
As the infrared absorbing dye, a commercially available dye, for example, a known dye described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.
[0063]
Preferred infrared absorbing dyes are described in, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Cyanine dyes: methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc .; JP-A-58-112793, JP-A Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. A squarylium dye described in JP-A-58-112792, a cyanine dye described in British Patent 434,875, and the like It is possible.
[0064]
Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted aryl benzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferably used. (Thio) pyrylium salt; trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169); JP-A-58-181051 and JP-A-58-220143 No. 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, and pyrylium compounds described in JP-A-59-216146. Cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,283,475, etc .; Pyrylium compounds disclosed in JP same 5-19702 are also preferably used.
[0065]
Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
[0066]
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because of their excellent photothermal conversion efficiency. Particularly, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is used in the image recording layer according to the present invention. In this case, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.
[0067]
[Chemical Formula 3]
[0068]
In general formula (a), X1Is a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh2, X2-L1Or the group shown below is represented. Where X2Represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L1Represents a C 1-12 hydrocarbon group, an aromatic ring having a hetero atom, and a C 1-12 hydrocarbon group containing a hetero atom. In addition, a hetero atom shows a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, a halogen atom, and a selenium atom here.
[0069]
[Formula 4]
[0070]
In the above formula, Xa-Is Za which will be described later-Is defined in the same way as RaRepresents a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.
[0071]
In general formula (a), R1And R2Each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R1And R2Is preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, and further R1And R2Are particularly preferably bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
[0072]
Ar1, Ar2These may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.
Y1, Y2May be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
RThree, RFourThese may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group.
RFive, R6, R7And R8May be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.
Za-Represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by the general formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary, Za-Is not necessary. Preferred Za-Is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexafluorophosphate, from the storage stability of the recording layer coating solution. Ions and aryl sulfonate ions.
[0073]
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, Examples thereof include those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.
[0074]
[Chemical formula 5]
[0075]
[Chemical 6]
[0076]
[Chemical 7]
[0077]
[Chemical 8]
[0078]
In general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring structure. .
Zb+Indicates a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni+, K+, Li+) And the like.
R9To R14And R15To R20Are independently selected from a hydrogen atom or a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Represents a group or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure.
Here, in the general formula (b), L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms, and R9To R14And R15To R20In which all represent hydrogen atoms are preferred from the viewpoint of availability and effects.
[0079]
Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.
[0080]
[Chemical 9]
[0081]
[Chemical Formula 10]
[0082]
In general formula (c), YThreeAnd YFourEach independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms.
Rtwenty oneTo Rtwenty fourAnd Rtwenty fiveTo R28Each may be the same or different, and may be a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group, Or represents an amino group.
In the formula, Za-Represents a counter anion, and Za in the general formula (a)-It is synonymous with.
[0083]
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.
[0084]
Embedded image
[0085]
Embedded image
[0086]
In general formula (d), R29To R31Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R33And R34Each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom.
n and m each independently represents an integer of 0 to 4.
R29And R30Or R31And R32May be bonded to each other to form a ring. R29And / or R30Is R33And R31And / or R32Is R34To form a ring. In addition, R33Or R34If there is more than one, R33Each other or R34They may be bonded to each other to form a ring.
X2And XThreeEach independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and X2And XThreeAt least one of represents a hydrogen atom or an alkyl group.
Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group.
Zc-Represents a counter anion, and Za in the general formula (a)-It is synonymous with.
[0087]
In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.
[0088]
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[0089]
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[0090]
In general formula (e), R35To R50Each independently represents a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group which may have a substituent. A group, an amino group, or an onium salt structure is shown.
M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein include IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, third Examples include periodic transition metals and lanthanoid elements. Among these, copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.
[0091]
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.
[0092]
Embedded image
[0093]
Examples of the pigment used as the photothermal conversion agent in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology”. (CMC Publishing, published in 1986) and “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, published in 1984).
[0094]
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.
[0095]
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Is mentioned. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
[0096]
The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, preferably from 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoints of dispersion stability of the pigment in the image recording layer coating solution and uniformity of the image recording layer. More preferably, it is in the range of 0.1 μm to 1 μm.
[0097]
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
[0098]
These pigments or dyes are 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0 to 10% by weight, based on the total solid content, from the viewpoint of sensitivity and uniformity of the image recording layer. In the case of a pigment, it can be added at a ratio of 3.1 to 10% by weight.
These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
[0099]
Next, other components that can be added in preparing the photosensitive composition for the image recording layer in the production of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.
[0100]
In the photosensitive composition, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids for enhancing sensitivity can be added as necessary. Moreover, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent, other fillers, and the like can be added.
[0101]
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used.
[0102]
As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.
[0103]
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, carboxylic acids and the like described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. is there. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, Examples include p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0104]
Examples of the print-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure include a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye that forms a salt with the acid to change the color tone.
[0105]
Examples of the photosensitive compound that releases an acid upon exposure include o-naphthoquinone diazide-4-sulfonic acid halogenide described in JP-A-50-36,209; JP-A-53-36223. Trihalomethyl-2-bilone and trihalomethyl-s-triazine; various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-62444; described in JP-A-55-77742 And 2-trihalomethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazole compounds; diazonium salts and the like.
These compounds can be used alone or in combination. The addition amount is preferably in the range of 0.3 to 15% by weight with respect to the total weight of the photosensitive composition.
[0106]
In the composition for image recording layer (photosensitive composition) used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the color tone of the composition by interacting with the photodecomposition product of a compound that generates an acidic substance upon photolysis. At least one kind of organic dye is used.
As such organic dyes, diphenylmethane, triarylmethane, thiazine, oxazine, phenazine, xanthene, anthraquinone, iminonaphthoquinone, and azomethine dyes can be used. Specifically, it is as follows.
[0107]
Brilliant green, eosin, ethyl violet, erythrosine B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyltriazine, alizarin red S, thymolphthalein, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, Thymolsulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, orange IV, diphenylthiocarbazone, 2,7-dichlorofluorescein, paramethyl red, congo red, benzopurpurin 4B, α-naphthyl red, Nile blue 2B, Nile blue A , Phenacetalin, methyl violet, malachite green, parafuchsin, oil blue # 603 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], oil pink # 312 [ Oil Red 5B [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Red RR [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Victoria Pure Blue BOH [Hodogaya Chemical Industry ( Manufactured by)
[0108]
Patent Pure-Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Sudan Blue II (manufactured by BASF), m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, first acid violet R, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carbostearylamino-4-p-dihydroxyoxyethyl-amino-phenyliminonaphthoquinone, p-methoxybenzoyl-p '-Diethylamino-o'-methylphenyliminoacetanilide, cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilide, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone 1-beta-naphthyl -4-p-diethylamino-phenyl imino-5-pyrazolone and the like, can be mentioned.
[0109]
Particularly preferred organic dyes are triarylmethane dyes. As triarylmethane dyes, those having a sulfonic acid compound as a counter anion as disclosed in JP-A-62-2932471 and JP-A-296921 are particularly useful.
These dyes can be used alone or in combination. The addition amount is preferably 0.3 to 15% by weight based on the total weight of the image recording layer composition.
Moreover, it can use together with another dye and a pigment as needed. The amount used is 70% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, based on the total weight of the dye and the pigment.
[0110]
In addition, various additives can be added to the image recording layer composition according to various purposes. Specifically, it is as follows. Various resins having a hydrophobic group for improving the ink inking property of an image, such as octylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / benzaldehyde resin, rosin-modified novolak resin, and o of these modified novolak resins -Naphthoquinone diazide sulfonate ester etc .; Plasticizers for improving the flexibility of the coating film, such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl glycolate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, etc.
The addition amount of these various additives is preferably in the range of 0.01 to 30% by weight based on the total weight of the image recording layer composition.
[0111]
Furthermore, a known resin for further improving the abrasion resistance of the film can be added to the image recording layer composition. Examples of these resins include polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, vinyl chloride resin, nylon, polyester resin, and acrylic resin. These can be used alone or in combination. The addition amount is preferably in the range of 2 to 40% by weight with respect to the total weight of the composition.
[0112]
Further, in the composition for an image recording layer, a nonionic surfactant as described in JP-A Nos. 62-251740 and 4-68355 is used in order to widen the development latitude. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, Amorgen K (trade name, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., N-tetradecyl-N, N-betaine type) 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl imidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, Sanyo Kasei Co., Ltd., alkyl imidazoline series) and the like.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording layer composition is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0113]
In the image recording layer composition, a surfactant for improving the coating surface quality, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A No. 62-170950 can be added. . A preferable addition amount is 0.001 to 1.0% by weight of the total composition, and more preferably 0.005 to 0.5% by weight.
[0114]
In the image recording layer composition, a yellow dye, preferably a yellow dye having an absorbance at 417 nm of 70% or more of the absorbance at 436 nm can be added.
[0115]
In obtaining the lithographic printing plate precursor according to the invention, first, an image recording layer is provided by applying a resin composition for an image recording layer on a suitable support.
The image recording layer is formed by dissolving or dispersing the composition for an image recording layer in the following organic solvent, alone or in a mixture, coating the support, and drying.
Any known organic solvent can be used. In the present invention, those having a boiling point in the range of 40 ° C. to 200 ° C., particularly 60 ° C. to 160 ° C. are selected because of the advantage in drying.
[0116]
Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol, n- or iso-butyl alcohol, diacetone alcohol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl Ketones such as amyl ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetylacetone; hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, methoxybenzene; ethyl acetate, n- or iso-propyl acetate , N- or iso-butyl acetate, ethyl butyl acetate, hexyl acetate and other acetic acid esters; methylene dichloride, ethylene dichloride, monochloro Halides such as benzene; isopropyl ether, n- butyl ether, dioxane, dimethyl dioxane, tetrahydrofuran and the like;
[0117]
Ethylene glycol, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, diethyl cellosolve, cellosolve acetate, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl Polyhydric alcohols such as ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol and derivatives thereof; Methyl sulfoxide, N, N-and special solvents such as dimethylformamide are suitably used singly or as a mixture. The solid content in the composition to be applied is suitably 2 to 50% by weight.
[0118]
In the planographic printing plate precursor of the present invention, the image recording layer composition may be applied by, for example, roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, gravure offset coating, hopper coating, blade coating, wire doctor coating, spraying. A method such as coating is used.
The weight of the image recording layer after drying is 0.3 to 4.0 g / m.2Is preferred. As the coating amount decreases, the exposure amount for obtaining an image can be reduced, but the film strength decreases. As the coating amount increases, the exposure amount is required but the photosensitive film becomes stronger, and a printing plate having a high printable number (high printing durability) can be obtained.
[0119]
The image recording layer composition coated on the support is usually dried by heated air. As a drying temperature, the range of 30 degreeC-200 degreeC, especially 40 degreeC-140 degreeC is suitable. In addition to a method in which the drying temperature is kept constant during drying, a method in which the drying temperature is increased stepwise can be implemented. Also, good results may be obtained by dehumidifying the dry air. The heated air is preferably supplied at a rate of 0.1 m / second to 30 m / second, particularly 0.5 m / second to 20 m / second, with respect to the coated surface.
[0120]
A mat layer is preferably provided on the surface of the image recording layer provided as described above in order to reduce the time for evacuation and prevent blurring during close contact exposure using a vacuum baking frame. . Specifically, a method for providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, and JP-A-61-2986, and JP-B-62-62337. And a method of heat-sealing the solid powder as described above.
[0121]
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention may be a dimensionally stable plate-like material, and those conventionally used as a support for printing plates can be suitably used. .
Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plates such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc., cellulose diacetate , Cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Paper or plastic film is included. In the present invention, an aluminum plate is particularly preferable. The aluminum plate includes a pure aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, and aluminum is used. These compositions contain some iron and titanium plus other negligible amounts of impurities.
[0122]
The support is surface-treated as necessary. When the surface treatment is performed on the support, it is preferable to perform a hydrophilic treatment. In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or anodization treatment may be performed. It is preferable that it is made. Further, as described in U.S. Pat. No. 2,714,066, as a support, an aluminum plate which has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution, U.S. Pat. No. 3,181,461. As described in the specification, an aluminum plate that has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used.
The anodizing treatment may be performed by, for example, using an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution of these salts, or a non-aqueous solution alone or in combination. This is carried out by passing an electric current in the combined electrolyte using an aluminum plate as an anode.
[0123]
In addition, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective as a hydrophilic treatment. These hydrophilic treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to adhere to the image recording layer. It is given in order to improve. Prior to graining the aluminum plate, the surface may be pretreated as necessary to remove the rolling oil on the surface and expose a clean aluminum surface.
For the former, a solvent such as trichlene, a surfactant or the like is used. For the latter, a method using an alkali / etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.
[0124]
As the graining method, any of a mechanical method, a chemical method, and an electrochemical method is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, and a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush. As a chemical method, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A No. 54-31187 is suitable. As the electrochemical method, an AC electrolysis method in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof is preferable. Among such surface roughening methods, in particular, a surface roughening method that combines mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-55-137993 is a fat-sensitive material. This is preferable because the adhesive strength of the image to the support is strong. Graining by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
[0125]
The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched as necessary.
The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etching solution component should not be formed on the etched support surface. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate and the like as basic substances; Examples include sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof, but salts of metals that have a lower ionization tendency than aluminum (such as zinc, chromium, cobalt, nickel, copper, etc.) form unnecessary films on the etched surface. It is not preferable. These etching agents have a dissolution rate of aluminum or an alloy to be used of 0.3 g to 40 g / m / min.2Although it is most preferable to carry out so that it becomes, it may be above or below this.
[0126]
Etching is performed by immersing an aluminum plate in an etchant or applying an etchant to the aluminum plate. For etching, the etching amount is 0.5 to 10 g / m.2It is preferable to process so that it may become this range. As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmut process is performed. Examples of the acid used for the desmut treatment include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid.
[0127]
The etched aluminum plate is washed with water and anodized as necessary. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is passed through aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution in which sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid and the like or a combination of two or more thereof are combined, An anodized film can be formed on the surface of the aluminum support. Since the treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, they cannot generally be determined, but in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.8. 5-60 amps / dm2A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are suitable. Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768, and U.S. Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred.
[0128]
The aluminum plate roughened and further anodized as described above may be hydrophilized as necessary. Preferred examples of the hydrophilization treatment include alkali metal silicates (for example, sodium silicate aqueous solution) such as those disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,461, There is a method of treatment with potassium fluorinated zirconate disclosed in JP-A 36-22063 and polyvinylphosphonic acid as disclosed in US Pat. No. 4,153,461.
[0129]
[Organic subbing layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an organic undercoat layer can be provided between the image recording layer and the support, if necessary.
[0130]
Examples of organic compounds used in the organic undercoat layer include carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic; phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid; organic such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent Phosphoric acid; organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent; amino acids such as glycine and β-alanine; and hydrochloride of triethanolamine With hydroxyl group Amine hydrochloride; -alanine etc., may be used by mixing two or more of these.
The organic undercoat layer preferably contains a compound having an onium group. The compounds having an onium group are described in detail in JP-A Nos. 2000-10292 and 2000-108538.
[0131]
In addition, for the organic undercoat layer, at least one compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) in the molecule can be used. More specifically, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride, and the like can be given.
[0132]
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, (i) a solution in which the above organic compound is dissolved in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is applied onto an aluminum plate and dried to form an organic undercoat layer. And (ii) water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof in which the above organic compound is dissolved, and an aluminum plate is immersed in the organic compound. In this method, the organic undercoat layer is formed by adsorbing and then washing and drying with water or the like.
In the former method, a solution of the organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. As a coating method, for example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
[0133]
The coating solution for the organic undercoat layer can be used in the pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor. Furthermore, the compound shown by the following general formula (f) can also be added to this coating liquid.
[0134]
Formula (f)
(HO)x-RFive-(COOH)y
[0135]
In general formula (f), RFiveRepresents an arylene group having 14 or less carbon atoms which may have a substituent. x and y each independently represents an integer of 1 to 3.
Specific examples of the compound represented by the general formula (f) include 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2 -Hydroxy-3-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 10-hydroxy-9-anthracenecarboxylic acid and the like.
[0136]
The coating amount after drying of the organic undercoat layer is 1 to 100 mg / m from the viewpoint of printing durability.2Is suitable, preferably 2 to 70 mg / m2It is.
[0137]
[Organic intermediate layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an organic intermediate layer can be provided between the image recording layer and the support, if necessary.
By providing an organic intermediate layer, an infrared-sensitive layer (image recording layer) whose solubility in an alkali developer is improved by exposure is provided on the exposed surface or in the vicinity thereof, and sensitivity to an infrared laser is improved. . In addition, when an organic intermediate layer made of a polymer is provided between the support and the infrared sensitive layer, the organic intermediate layer functions as a heat insulating layer, so that the heat generated by the infrared laser exposure is diffused to the support. Therefore, it has the advantage that it can be used efficiently for image formation and can be highly sensitive.
Further, in the unexposed area, the image recording layer itself that is impermeable to the alkali developer functions as a protective layer for the organic intermediate layer, so that the development stability is improved and the discrimination is excellent. It is considered that an image can be formed and stability over time is secured.
Further, since the organic intermediate layer is configured as a layer containing an alkali-soluble polymer, the organic intermediate layer is a layer having extremely good solubility in a developing solution. Therefore, such an organic intermediate layer is provided adjacent to the support. For example, even when a developer with reduced activity is used, a residual film or the like may be generated when the components of the photosensitive layer whose dissolution inhibiting ability is released by exposure are dissolved and dispersed in the developer. The exposed part is removed quickly. This is considered to contribute to the improvement of developability. For these reasons, the organic intermediate layer is considered useful.
[0138]
This organic intermediate layer is configured to contain a water-insoluble and alkali-soluble resin. As such an alkali-soluble resin, it is necessary for the organic intermediate layer itself to exhibit high alkali-solubility, particularly in the non-image area, and therefore it is necessary to select a resin that does not impair this property. From this viewpoint, other alkali-soluble resins described in the description of the image recording layer are preferable. Among these, from the viewpoints of sensitivity and image formability, it is preferable to select a resin that is less likely to form an interaction than the specific phenol resin used in the image recording layer and has excellent solubility in an alkaline developer. Preferred examples of such a resin include polyamide resin, epoxy resin, acetal resin, acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, urethane resin, and the like.
[0139]
As the alkali-soluble resin used for the organic intermediate layer, it is important to select a resin that is difficult to be dissolved by the coating solvent when the image recording layer is applied. By selecting such a resin, undesired compatibility is suppressed at the interface between the two layers, and further improvement in chemical resistance can be expected. From such a viewpoint, acrylic resin is particularly preferable among the above-described resins.
[0140]
Hereinafter, a water-insoluble and alkali-soluble acrylic resin (hereinafter, appropriately referred to as “acrylic resin”) suitable as an alkali-soluble resin applied to the organic intermediate layer will be described in detail.
The acrylic resin used here is not particularly limited as long as it is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution. Such an acrylic resin is particularly suitable for forming a multilayer structure with the image recording layer because of its low compatibility with an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group that is preferably used in the image recording layer. The acrylic resin is also excellent in alkali solubility of the resin itself.
[0141]
Acrylic resins include sulfonamide groups (-SO2NH—R, where R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ), An active imide group [-SO2NHCOR, -SO2NHSO2R, -CONHSO2R, where R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. ], Carboxylic acid group (-CO2H), a sulfonic acid group (—SOThreeH), phosphate group (-OPOThreeH2Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group, which have an alkali-soluble group such as) and are suitable as a copolymer component of an alkali-soluble resin; alkyl acrylates; alkyl methacrylates; acrylamide or methacrylamide A resin containing inactive imides such as alkylmaleimide and arylmaleimide, and nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Also, acrylic resins having a sulfonamide group described in JP-A-2-866 can be suitably applied to the present invention.
[0142]
As the molecular weight of the acrylic resin, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferable. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .
[0143]
The content of the alkali-soluble resin in the organic intermediate layer component according to the present invention is about 40 to 95% by weight, preferably about 50 to 90% by weight, based on the total solid content in the organic intermediate layer.
Also. In addition to the alkali-soluble resin, the organic intermediate layer can be used in combination with a photothermal conversion agent and various additives as used in the image recording layer.
[0144]
<Back coat>
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. Such a back coat comprises an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Of these coating layers, Si (OCHThree)Four, Si (OC2HFive)Four, Si (OCThreeH7)Four, Si (OCFourH9)FourA silicon alkoxy compound such as the above is inexpensive and readily available, and a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.
[0145]
The produced lithographic printing plate precursor is usually subjected to image exposure and development. As an actinic ray light source used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.
[0146]
The developer that can be applied to the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
[0147]
Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. An aqueous solution having a pH of 12 or more called “silicate developer”, and another more preferable developer does not contain an alkali silicate but contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Non-silicate developer ".
[0148]
In the former developer, the aqueous solution of alkali metal silicate is silicon oxide SiO which is a component of silicate.2And alkali metal oxide M2O ratio (generally [SiO2] / [M2The development property can be adjusted by adjusting the concentration and the concentration of O], for example, as disclosed in JP-A-54-62004.2/ Na2The molar ratio of O is 1.0 to 1.5 (ie [SiO2] / [Na2O] is 1.0 to 1.5), and SiO2An aqueous solution of sodium silicate having a content of 1 to 4% by weight, and as described in JP-B-57-7427, [SiO 22] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO2] / [M2O] is 1.0 to 1.5), and SiO2An aqueous alkali metal silicate solution having a concentration of 1 to 4% by weight and wherein the developer contains at least 20% potassium, based on gram atoms of all alkali metals present therein. Preferably used.
[0149]
A so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is also preferable for application to the development of the lithographic printing plate material of the present invention. When the development processing of the lithographic printing plate material is performed using this developer, the surface of the image recording layer is not deteriorated and the inking property of the image recording layer can be maintained in a better state.
[0150]
Such a developer preferably comprises at least one compound selected from non-reducing sugars and at least one base, and the pH of the solution is in the range of 9.0 to 13.5. Such non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducing properties, and are trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and glycosides in which a reducing group of saccharides and non-saccharides are bonded. It is classified into sugar alcohols reduced by hydrogenating the body and saccharides, and any of them is preferably used. Trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used.
Among these, sugar alcohol and saccharose are particularly preferred non-reducing sugars, and D-sorbite, saccharose, and reduced syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
[0151]
These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more thereof, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight.
Below this range, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and when the concentration is above this range, it is difficult to achieve high concentration and there is a problem of increased costs. In addition, when reducing sugar is used in combination with a base, there is a problem that the color changes to brown over time, the pH gradually decreases, and thus developability decreases.
[0152]
A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include inorganic alkali agents such as ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
[0153]
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts relative to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering action.
These alkali agents are added so that the pH of the developer is in the range of 9.0 to 13.5, and the addition amount is determined by the desired pH, the type and addition amount of the non-reducing sugar, but is more preferable. The pH range is 10.0 to 13.2.
[0154]
Further, an alkaline buffer composed of a weak acid other than saccharides and a strong base can be used in combination with the developer. As the weak acid used as such a buffer, one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2 is preferable.
Such a weak acid is selected from those described in IONATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press. For example, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (PKa 12.74), trifluoroethanol (12.37), trichloroethanol (12.24), pyridine-2-aldehyde ( 12.68), aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (12.05), salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12. 6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1 2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34), o-cresol (10.33) Resorcinol (same 11.27), p-cresol (at 10.27), m-cresol compound having a phenolic hydroxyl group, such as (at 10.09),
[0155]
2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (same) 12.3), nucleic acid-related substances such as cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1- Amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidenediphosphonic acid (12.10), 1,1-ethylidene Phosphonic acid (11.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12) .55) and weak acids such as barbituric acid (12.5).
[0156]
Of these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferred. As the base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. The above various alkali agents are used by adjusting the pH within a preferable range by the concentration and combination.
[0157]
Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
[0158]
Preferable examples of the surfactant include the following.
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid di Ethanol amides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, such as trialkylamine oxides.
[0159]
Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid ester salts, linear alkyl benzene sulfonic acid salts, branched alkyl benzene sulfonic acid salts, alkyl naphthalene sulfone. Acid salts, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfuric acid Tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate ester salt, alkyl sulfate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salt, fatty acid monoglyceride sulfate ester Oxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styrylphenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates, styrene / anhydrous maleic Examples include anionic surfactants such as partially saponified products of acid copolymers, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.
[0160]
Examples of the cationic surfactant include cationic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
Examples of amphoteric surfactants include amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.
Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.
[0161]
A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkyl amine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned. Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001 to 10 weight% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01 to 5 weight%.
[0162]
Various development stabilizers can be used in the developer. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. Salt. Furthermore, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A No. 50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A No. 55-95946, and JP-A No. 56-142528 are described. And water-soluble amphoteric polymer electrolytes that have been used.
[0163]
Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And fluorine-containing surfactants having a functional group, water-soluble ethylene oxide addition compounds obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol described in JP-A-2-39157, water-soluble polyalkylene compounds, and the like.
[0164]
If necessary, an organic solvent is further added to the developer. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably those having a solubility in water of 5% by weight or less are selected. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine.
The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight with respect to the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because the amount of the surfactant is small, and when the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, so that it is impossible to expect good developability.
[0165]
A reducing agent can be further added to the developer. This prevents the printing plate from being stained. Preferable organic reducing agents include phenol compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, metol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned.
Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by weight with respect to the developer at the time of use.
[0166]
An organic carboxylic acid can also be added to the developer. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . In addition, the aliphatic carboxylic acid may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc., specifically, o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p -Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3 , 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, etc. Hydroxynaphthoic acid is particularly effective.
[0167]
The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient, and if it is 10% by weight or more, the effect is further improved. Not only can it be measured, it can interfere with dissolution when used with other additives. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 4% by weight with respect to the developing solution in use.
[0168]
If necessary, the developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like.
Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, and their sodium, potassium or ammonium salts; aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta ( Methylenephosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1- Dorokishitaen 1,1 diphosphonic acid, and sodium salts thereof, and potassium salts or ammonium salts.
[0169]
The optimum value of such a hard water softener varies depending on the chelation, the hardness of the hard water used, and the amount of hard water. A general usage amount of the water softener is 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 0.5% by weight in the developing solution at the time of use. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur. The remaining component of the developer is water. It is advantageous in terms of transportation that the developer is a concentrated solution having a water content less than that in use and is diluted with water when in use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation.
[0170]
As the developer for the lithographic printing plate precursor according to the invention, a developer described in JP-A-6-282079 can also be used. This is SiO2/ M2Water-soluble ethylene oxide addition obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to a sugar alcohol having a molar ratio of O (M represents an alkali metal) of 0.5 to 2.0 and a sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups A developer containing a compound. Sugar alcohols are polyhydric alcohols corresponding to those obtained by reducing sugar aldehyde groups and ketone groups to form primary and secondary alcohol groups, respectively. Examples of sugar alcohol shells include D, L-trait, erythrite, D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, dulcite, allozulcit, and the like, and di-, tri-, tetra-, penta-, and hexaglycerin condensed with a sugar alcohol are also included. The water-soluble ethylene oxide addition compound can be obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of the sugar alcohol. Further, propylene oxide may be block-copolymerized in the ethylene oxide addition compound as required in a range where solubility is acceptable. These ethylene oxide addition compounds may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of these water-soluble ethylene oxide addition compounds is suitably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.001 to 2% by weight, based on the developer (working solution).
[0171]
The above-mentioned various surfactants and organic solvents can be added to the developer as needed for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
[0172]
A lithographic printing plate precursor developed with a developer having such a composition is subjected to a post-treatment with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher or a protective gum solution mainly composed of gum arabic or starch derivatives. Is done. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention.
[0173]
In recent years, automatic developing machines for PS plates have been widely used in the stencil and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for transporting the PS plate, each processing solution tank and a spray device, and is pumped by a pump while transporting the exposed PS plate horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. In addition, recently, a PS plate is immersed and transported in a processing solution tank filled with a processing solution by a guide roll in the solution, and a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface for washing. A method is also known in which the waste water is reused as dilution water for the developer stock solution.
[0174]
In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with each replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing solution can be applied to the present invention. The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0175]
【Example】
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0176]
(Production of support)
Supports A, B, C, and D were prepared by using a JIS-A-1050 aluminum plate having a thickness of 0.3 mm in combination with the following processes.
(A) Mechanical roughening treatment
While a suspension of a polishing agent (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water was supplied to the surface of the aluminum plate as a polishing slurry, mechanical surface roughening was performed with a rotating roller-like nylon brush. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.
[0177]
(B) Alkali etching treatment
The aluminum plate obtained above was sprayed with an aqueous NaOH solution (concentration 26 wt%, aluminum ion concentration 6.5 wt%) at a temperature of 70 ° C., and the aluminum plate was 6 g / m 2.2Dissolved. Thereafter, washing with water was performed using well water.
[0178]
(C) Desmut treatment
The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.
[0179]
(D) Electrochemical roughening treatment
An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform has an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current, with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1 went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density is 30 A / dm at the peak current value.2The amount of electricity is 220 C / dm in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate is the anode.2Met. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Thereafter, washing with water was performed using well water.
[0180]
(E) Alkali etching treatment
The aluminum plate was etched at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26 wt% and an aluminum ion concentration of 6.5 wt%, and the aluminum plate was 0.20 g / m.2Dissolve and remove the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening was performed using alternating current in the previous stage, and dissolve the edge part of the generated pit to produce the edge part Made smooth. Thereafter, washing with water was performed using well water.
[0181]
(F) Desmut treatment
The desmutting treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water using well water. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.
[0182]
(G) Electrochemical roughening treatment
An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density is 25 A / dm at the peak current value.2The amount of electricity is 50 C / dm as the total amount of electricity when the aluminum plate is the anode.2Met.
Thereafter, washing with water was performed using well water.
[0183]
(H) Alkali etching treatment
The aluminum plate was etched at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26 wt% and an aluminum ion concentration of 6.5 wt%, and the aluminum plate was 0.10 g / m.2Dissolves and removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical roughening treatment is performed using the alternating current of the previous stage, and dissolves the edge part of the generated pit The part was smoothed. Thereafter, washing with water was performed using well water.
[0184]
(I) Desmut treatment
A desmutting treatment was performed by spraying with an aqueous solution of sulfuric acid having a concentration of 25% by weight (containing 0.5% by weight of aluminum ions) at a temperature of 60 ° C., followed by washing with water using well water.
[0185]
(J) Anodizing treatment
Sulfuric acid was used as the electrolytic solution. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5% by weight of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Both current densities are about 30 A / dm2Met. The final oxide film amount is 2.7 g / m2Met.
[0186]
<Support A>
The steps (a) to (j) are performed in order, and the etching amount in the step (e) is 3.4 g / m.2The support A was prepared as described above.
<Support B>
A support B was prepared by sequentially performing the steps except that the steps (g), (h), and (i) were omitted.
[0187]
<Support C>
A support C was prepared by sequentially performing the steps except that the steps (a), (g), (h), and (i) were omitted.
<Support D>
Of the above steps, the steps (a) and (d) (e) (f) are omitted except that the steps are performed in order, and the total amount of electricity in the step (g) is 450 C / dm.2Thus, a support D was produced.
The following supports A, B, and C obtained as described above were subsequently subjected to the following hydrophilization treatment and undercoating treatment.
[0188]
(K) Alkali metal silicate treatment
The aluminum support obtained by the anodizing treatment is immersed in a treatment layer of 1 wt% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds to perform alkali metal silicate treatment (silicate treatment). went. Then, the water washing by the spray using well water was performed. In this case, the amount of silicate attached is 3.6 mg / m2Met.
[0189]
[(1) Formation of undercoat]
On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds. The coating amount after drying is 18 mg / m2Met.
[0190]
<Undercoat liquid composition>
The following polymer compound 0.3g
Methanol 100g
1.0g of water
[0191]
Embedded image
[0192]
[Synthesis of specific phenolic resin]
(Synthesis Example) Phenol / m-cresol / p-cresol (20/70/10) nonylation (5 mol%)
11.18 g of phenol / m-cresol / p-cresol (20/70/10) and 1.13 g of nonyl iodide were dissolved in 10 g of acetone. This solution was heated to 65 ° C., and 0.69 g of potassium carbonate was added thereto. After stirring at 65 ° C. for 8 hours, the temperature was gradually returned to room temperature. 20 ml of 1N hydrochloric acid was added to the reaction solution and stirred for a while. 75 ml of distilled water was added to the reaction solution and washed twice. The obtained solid was dissolved in 30 ml of methanol and then added dropwise to 3 L of distilled water over 30 minutes. When 5 mol% nonylated phenol / m-cresol / p-cresol (20/70/10) A novolac resin was obtained.
The specific phenol resins other than those used in the following examples were also synthesized in the same manner.
[0193]
(Examples 1-6)
The following image recording layer coating liquid 1 (photosensitive composition) is applied to the obtained supports A to D, dried in an oven at 150 ° C. for 1 minute, and the dry film thickness is 1.7 g / m.2A positive lithographic printing plate precursor was prepared.
[0194]
<Image recording layer coating solution 1>
[0195]
Embedded image
[0196]
(Example 7)
On the obtained support A, the following image recording layer coating solution 2 was applied in an amount of 0.9 g / m.2After coating, the Wind Control was set to 7 with PERFECT OVEN PH200 manufactured by Tabai Co. and dried at 160 ° C. for 60 seconds to obtain a positive planographic printing plate precursor of Example 7.
[0197]
<Image recording layer coating solution 2>
[0200]
(Example8)
A coating solution for the first layer (organic intermediate layer) having the following composition was applied to the obtained support A with a wire bar, and then dried in a drying oven at 135 ° C. for 90 seconds to obtain a coating amount of 0.85 g / m.2It was.
A coating solution for the second layer (image recording layer) having the following composition was applied to the obtained support with an organic intermediate layer with a wire bar. After coating, drying is performed at 150 ° C. for 50 seconds in a drying oven, and the total coating amount is 1.1 g / m.2A positive type lithographic printing plate precursor was prepared.
[0201]
<First layer (organic intermediate layer) coating solution>
[0202]
Embedded image
[0203]
<Second layer (image recording layer) coating solution>
[0204]
Embedded image
[0208]
(Example9)
Instead of the specific phenol resin used in the image recording layer coating solution 1, a resin in which a part of the hydroxyl group of the novolak type phenol resin is modified with a fluorine-containing alkyl ether group [a novolak resin comprising phenol, m-cresol and p-cresol Example 1 was carried out in the same manner as in Examples 1 to 6 except that a novolak resin (weight average molecular weight 4800) obtained by 5% 6- (perfluorobutyl) hexylation (molar ratio 20:70:10) was used.9A positive lithographic printing plate precursor was prepared.
[0209]
(Comparative Example 1)
In the image recording layer coating solution 1, except that a novolak resin (molar ratio 20:70:10, weight average molecular weight 4600) composed of phenol, m-cresol and p-cresol was used instead of the specific phenol resin, In the same manner as in Examples 1 to 6, a positive planographic printing plate precursor of Comparative Example 1 was obtained.
[0210]
(Evaluation of lithographic printing plate precursor)
1. Evaluation of development latitude
Each lithographic printing plate precursor thus obtained was stored for 6 days under conditions of a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 45%. I did.
Thereafter, by using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., in which the conductivity was changed by changing the dilution rate by changing the amount of water of the alkaline developer of the following A composition and B composition, The liquid temperature was kept at 30 ° C., and development was performed with a development time of 22 seconds. At this time, the image portion is not eluted, and the developer having the highest and lowest conductivity of the developer that can be satisfactorily developed without being stained or colored due to poorly developed image recording layer residual film. Was evaluated as development latitude. The results are shown in Table 2.
[0211]
<Alkali developer A composition>
・ SiO2・ K2O (K2O / SiO2= 1/1 (molar ratio)) 5.0 wt%
・ Citric acid 0.4% by weight
・ Polyethylene glycol lauryl ether 0.6% by weight
(Weight average molecular weight 1,000)
・ Water 94.0% by weight
[0212]
<Alkali developer B composition>
・ D sorbit 3.0% by weight
・ 0.8% by weight of sodium hydroxide
・ Polyethylene glycol lauryl ether 0.6% by weight
(Weight average molecular weight 1,000)
・ Water 95.6% by weight
[0213]
2. Sensitivity evaluation
With respect to each obtained lithographic printing original plate, the exposure energy was changed with a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo, and a test pattern was drawn in an image form. Thereafter, in the evaluation of the development latitude, the image portion was not eluted, and the developer having the highest conductivity was able to be satisfactorily developed without being stained or colored due to a poorly developed image recording layer residual film. Developed with an alkaline developer having an intermediate conductivity (average value) of the lowest one, and measured the exposure amount (beam intensity at a drum rotation speed of 120 rpm) that can develop a non-image area with this developer. It was. The smaller the numerical value, the higher the sensitivity. The results are shown in Table 2 below.
[0214]
3. Evaluation of bakeability
Each obtained lithographic printing plate is exposed in the same manner as in the sensitivity evaluation, and after being stored for one hour in an environment of 20 ° C. and a relative humidity of 80%, the same evaluation as in the sensitivity evaluation is performed. The degree of decrease in sensitivity was used as a guideline for shrinkage. The numerical value represents the sensitivity after 1 hour of exposure, and the closer the numerical value is to the sensitivity immediately after exposure, the better the shrinkage.
[0215]
[Table 1]
[0216]
[Table 2]
[0217]
As is apparent from Table 2, Examples 1 to 3 using the specific phenol resin according to the present invention were used.9The lithographic printing plate precursor was excellent in shrinkage regardless of silicate development or non-silicate development. Further, the obtained lithographic printing plate precursor was excellent in sensitivity and wide in development latitude, so that it was found that the formation of a residual film during development was suppressed and image formation with excellent contrast was possible. Further examples8From these results, it was found that the lithographic printing plate precursor according to the present invention exhibits excellent effects not only when it has a single layer but also when it has an image recording layer having a multilayer structure.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 using a novolak resin composed of phenol, m-cresol and p-cresol as the phenolic resin is inferior in shrinkage compared to the examples and has a somewhat narrow development latitude. I understand.
[0218]
【The invention's effect】
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can be directly made by an infrared laser, is excellent in a difference in solubility in a developing solution between an exposed portion and a non-exposed portion (dissolvable discrepancy), and depends on the time after exposure. There is an effect that the degree of change in developability is small (the shrinkage is good).
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