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JP4452017B2 - セリンプロテアーゼインヒビター - Google Patents
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Description

発明の詳細な説明
本発明は、セリンプロテアーゼであるトリプターゼのインヒビターである化合物、その医薬組成物およびヒトまたは動物の身体の治療におけるその使用に関する。さらに詳しくは、本発明は、喘息ならびに他のアレルギー性および炎症性コンディションなどのマスト細胞媒介性疾患の治療において使用するための化合物、その医薬組成物およびヒトまたは動物の身体の治療におけるその使用に関する。
すべてのマスト細胞媒介性コンディションのうちで最も蔓延している喘息は、工業国において人口の約５％を冒しており、その発病率および重篤度は次第に増大している。さらに、小児喘息の発病率が上昇しており、環境汚染物質および疾患の兆候の間の関連が示唆されている。
最初は、気管支収縮、すなわち肺における気道の狭小化が喘息の主な特徴であると考えられた。しかし、現在では、肺における炎症が、該疾患の発症の必須要素であると認識されている。
喘息患者によるアレルゲンの吸入が、炎症細胞からヒスタミンおよびロイコトリエンなどの種々の炎症メディエーターの放出を誘発する強い免疫系応答を引き起こす。これらは、血管壁の透過性を増大し、組織内へ炎症細胞を誘引し、気道の周囲の平滑筋を収縮させる。結果として、血液から液体が漏出し、組織が膨潤し、さらには気道が狭小化する。炎症細胞は、神経終末を露出している気道を内張りしている上皮細胞に損傷を引き起こし、該損傷が粘液の分泌を刺激し、ならびにニューロキニンの放出を引き起こすことにって炎症を増大させる。
このように、喘息は、気道を内張りしている上皮を刺激し、下にある組織の病的肥厚化を引き起こす慢性炎症反応の結果としての気管および気管支の高応答性の進行性発達によって特徴付けられることが多い複合疾患である。
白血球およびマスト細胞は、気管支の上皮および平滑筋組織に存在し、それらは、最初はＩｇＥ受容体に特異的な吸入抗原の結合によって活性化される。活性化されたマスト細胞は、多くの喘息における炎症応答の予備成形的または一次的化学メディエーターならびに酵素を放出する。さらに、活性化マスト細胞の酵素反応によって炎症の二次的メディエーターが生成され、マスト細胞の脱顆粒反応によって多くの巨大分子が放出される。
したがって、マスト細胞からの化学物質の放出が、空中のアレルゲンに曝された後に影響されやすい個人に起こる早期細気管支収縮応答の原因であるという
ことが提案されている。早期喘息応答は、アレルゲン曝露後およそ１５分で最大化し、１〜２時間経過すると回復する。約３０％の個人において、早期喘息応答の後に、通常２,３時間以内に始まり、曝露の６〜１２時間後に最大化する、さらなる呼吸機能の減衰が起こる。この遅延型喘息応答には、細気管支平滑筋および上皮組織に浸潤し、気道内に溢流している炎症細胞の数の著しい増加が伴う。これらの細胞は、マスト細胞誘導走化性剤の放出によって該部位に誘引される。
喘息の発作に対処する最も容易な方法は、気道の拡張を引き起こす気管支拡張薬によるものである。最も効果的な気管支拡張薬は、アドレナリンの作用を模倣するβアドレナリンアゴニストである。これらは、広範に用いられ、吸入器によって肺へ簡便に投与される。しかし、最初は、気管支収縮を起こさせる薬物が、短期症状軽減において用いられ、喘息の発作および長期にわたる肺機能の低下を予防しない。
クロモグリケートおよびコルチコステロイドなどの抗炎症薬もまた喘息療法において広範に用いられる。クロモグリケートは、抗炎症活性をもち、非常に安全であることがわかっている。このようなクロモリンは、副作用が最小であり、現在、小児の初期予防療法にとって好ましいが、効力に制限があることがよく知られている。
コルチコステロイドは、非常に有効な抗炎症薬であるので、喘息療法におけるその使用は大きな進歩であったが、しかし、ステロイドは非常に強力で広いスペクトルの抗炎症薬であり、その能力および非特異性は、それらが副作用によってゆゆしく制限されることを意味する。吸入器技術を用いる肺への局所ステロイド処置は、副作用を低減化するが、吸入に続く低減化された全身曝露は、依然としてある程度の望ましくない効果をもたらす。それゆえに、疾患の過程において初期にステロイドを用いるのは不本意なものである。
したがって、慢性喘息を治療に用いることができる安全で、有効な、抗炎症薬または免疫調節薬である別の喘息療法が依然として必要とされている。
トリプターゼは、ヒトマスト細胞の主な分泌プロテアーゼであり、神経ペプチドプロセシングおよび組織炎症に関与することが示唆されている。トリプターゼは、凝血、繊維素溶解、受精、発生、悪性腫瘍、神経筋パタニングおよび炎症などの広範な種々の生理的プロセスの調節において中枢の役割を演じる多数のセリンプロテアーゼ酵素の１つである。多数のセリンプロテアーゼが広範に研究されているが、トリプターゼはいまだ比較的調査されていない。
成熟ヒトトリプターゼは、グリコシル化された、酵素活性サブユニットのヘパリン関連四量体である。そのアミノ酸構造は、特徴決定されている他のセリンプロテアーゼの中に近い対応物がないと思われる。トリプターゼはマスト細胞分泌顆粒内に貯蔵され、マスト細胞活性化後、ヒトトリプターゼは種々の液体中で容易に測定することができる。たとえば、アナフィラキシー後、トリプターゼは血流中に現れ、数時間の間用意に検出可能である。トリプターゼはまた、特異的抗原チャレンジを受けたアトピー患者からの鼻および肺洗浄液のサンプルにも現れる。トリプターゼは、マスト細胞の活性化および脱顆粒反応が起こる種々の生物学的プロセスに関与している。したがって、マスト細胞トリプターゼの阻害は、種々のマスト細胞媒介性コンディションの予防および治療において大きな価値をもつ。マスト細胞は、ＩｇＥ従属性および非従属性メカニズムの両方によって脱顆粒することができ、それによってアトピー性および非アトピー性炎症コンディションの両方においてトリプターゼを巻き込んでいる。トリプターゼは、プロウロキナーゼおよびプロＭＭＰ３（プロマトリックスメタロプロテアーゼ３、プロストロメライシン）などのプロテアーゼを活性化することができ、それによって組織の炎症および修復において病理的役割を示す。さらに、トリプターゼがあるＧタンパク質共役受容体（ＰＡＲ２など）を活性化し、神経性炎症を誘発することができるという最近の証拠は、たとえば、痛みのメカニズムの調節における、より広い生理的役割を指摘する。トリプターゼの作用の多くのメカニズムを仮定して、トリプターゼインヒビターが広範な疾患において利点があるかもしれないということが提案されている。これらには、喘息（炎症要素、根底にある高反応性および平滑筋肥厚化による慢性繊維性損傷に特異的に影響を及ぼす）；慢性閉塞性灰疾患（ＣＯＰＤ）および肺繊維性疾患；鼻炎；乾癬；蕁麻疹；皮膚炎；関節炎；クローン病；大腸炎；血管新生；アテローム性動脈硬化；多発性硬化症；腸管膀胱炎；片頭痛；神経炎および神経痛メカニズム；創傷治癒；肝硬変；キムラ病；子癇前症；月経に関連する出血問題および閉経；ガン（特にメラノーマおよび腫瘍転移）；膵炎；およびウイルス感染（Yong, Exp. Toxic Pathol, 1997,49,409 ; Steinhoffら, Nat. Med., 2000,6,151; Downing および Miyan, Immunol. Today, 2000,21,281 ; Tetlow および Wooley, Ann. Rheum. Dis., 1995,54,549; Jeziorska, Salamonsen および Wooley, Biol. Reprod., 1995,53,312; Brain, Nat. Med., 2000,6,134;Olnessら, Headache, 1999,39,101）などのコンディションが含まれる。根底にある原理は、トリプターゼインヒビターが、マスト細胞が、モルヒネ誘発性気管支収縮といったような外因性物質によるアナフィラキシー反応などの何らかのメカニズムによって脱顆粒することを誘発されている場所において有用性をもつべきであるということである（Bowman および Rand, Textbook of Pharmacology, 2nd edt., 1980）。
ＷＯ９６／０９２９７、ＷＯ９５／３２９４５、ＷＯ９４／２０５２７およびＵＳ ５，５２５，６２３には、種々のペプチドベース化合物が、強力なマスト細胞プロテアーゼトリプターゼのインヒビターとして示唆されている。ＷＯ９５／０３３３３には、hirudo medicinalisというヒルから入手可能なポリペプチドによるトリプターゼインヒビターが提供されている。ＷＯ９６／０８２７５には、分泌性白血球プロテアーゼインヒビター（ＳＬＰＩ）およびその活性フラグメントが、トリプターゼのタンパク質分解性活性を阻害することが見出されている。ＷＯ９９／５５６６１には、ある４−アミノメチル安息香酸エステル誘導体が、強力なトリプターゼインヒビターとして提案されている。
我々は、今や、親油性側鎖を有する、ある芳香族化合物が、セリンプロテアーゼであるトリプターゼのインヒビターとして特に有効であることを見出した。これらの化合物の幾つかは、さらに良好な経口バイオアベイラビリティを持つことが見出された。
本発明化合物は、喘息のみならず、アレルギー性鼻炎；湿疹、乾癬、アトピー性皮膚炎および蕁麻疹などの皮膚状態；関節リウマチ；結膜炎；炎症性腸疾患；神経炎；アテローム性動脈硬化ならびにガンなどのトリプターゼによって媒介される他のアレルギー性および炎症性コンディションの治療および予防に有用であることが予見される。
したがって、本発明の１つの態様は、式（Ｉ）：
Figure 0004452017
 [式中、Ｒ５は、アミノ、ヒドロキシ、アミノメチル、ヒドロキシメチルまたは水素であり；
Ｒ６ａは、水素またはメチルであり；
Ｘ−Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＮＲ１a−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＲ１a−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＲ１a−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣ＝Ｏ−および−ＣＨ２ＣＨ２−から選ばれ;
Ｒ１aは、水素、（１−６Ｃ）アルキルまたはフェニル（１−６Ｃ）アルキルであり;
Ｌは、ＣＯまたはＣＯＮＲ１ｄ（ＣＨ２）m（ここで、ｍは、０または１であり、Ｒ１ｄは水素、（１−６Ｃ）アルキルまたはフェニル（１−６Ｃ）アルキルである）であり;
Ｃyは、飽和または不飽和の、単環または多環式の、ホモまたはヘテロ環式基であって、５〜１０個の環原子を含むのが好ましく、必要に応じて１つまたはそれ以上のＲ３a−またはＲ３ｉＸｉ−で置換され；
各Ｒ３aは独立して、水素、ヒドロキシル、（１−６Ｃ）アルコキシ、（１−６Ｃ）アルキル、（２−６Ｃ）アルケニル、（２−６Ｃ）アルキニル、（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル、カルボキシ、（１−６Ｃ）アルコキシアルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、アミノ（１−６Ｃ）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、アミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、（１−６Ｃ）アルキルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（１−６Ｃ）アルキルチオ、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（１−６Ｃ）アルキルイミダゾリル、（１−６Ｃ）アルキルスルホンアミド、（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（１−６Ｃ）ハロアルコキシまたは（１−６Ｃ）ハロアルキルであり；
Ｘｉは、結合、Ｏ、ＮＨ、ＣＨ２、ＣＯ、ＣＯＮＲ１ｐ、ＮＲ１ｐＣＯ、ＳＯ２、ＮＲ１ｐＳＯ２またはＳＯ２ＮＲ１ｐであり；
Ｒ３iは、フェニルまたはピリジルであり；
Ｒ １ｐ は、Ｒ １a と同意義であり；
Ｌｐは、
Figure 0004452017
Figure 0004452017
 から選ばれ；
ここで、Ｒ３は、アミノ酸残基、Ｎ−（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、Ｎ−（１−６Ｃ）アルキルアミノアルカノイル、Ｎ−（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、Ｃ−ヒドロキシアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、ヒドロキシ（２−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、水素、ヒドロキシル、（１−６Ｃ）アルコキシ、（１−６Ｃ）アルカノイルオキシ、（１−６Ｃ）アルキル、（２−６Ｃ）アルケニル（２−６Ｃ）アルキニル、（３−６Ｃ）アルケニルオキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルカノイル、アミノ（１−６Ｃ）アルキル、アミド（ＣＯＮＨ２）、アミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、アミノカルボニル（１−５Ｃ）アルカノイル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル（１−５Ｃ）アルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（１−６Ｃ）アルキルチオ、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニルおよびヒドラジドであり；
Ｒ３ｙは、Ｒ３または式：−Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−であり；
ここで、Ｇ２は不在または（１−３Ｃ）アルカンジイル；Ｘａは不在またはＯ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲＬ、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＣＯＮＲＬ、ＮＲＬＣＯ、ＳＯ２ＮＲＬもしくはＮＲＬＳＯ２；Ｒｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基；およびＲＬは水素または（１−６Ｃ）アルキルである；
Ｒ３ｚはオキソまたはＲ３ｙと同意義であり；および
ＸｚはＯ、ＳまたはＮＲｚ（ここで、ＲｚはＲ３ｙに対して定義された基から独立して選ばれる）である]
で示される化合物またはその生理学的に許容しうる塩（たとえば、ハライド、ホスフェートまたはスルフェート塩もしくはアンモニウムまたはエチルアミンまたはメグルミンといったような有機アミンとの塩）を提供する。
化合物（Ｉ）は、驚くべきことに、トリプターゼのインヒビターとして特に有効であり、他のセリンプロテアーゼよりもトリプターゼに対して驚くべき選択性を示すことが見出された。
他の態様において、本発明は、上記化合物（Ｉ）またはその生理学的に許容しうる塩を提供する：
ここで、各Ｒ３ａは独立して、水素、ヒドロキシル、（１−６Ｃ）アルコキシ、（１−６Ｃ）アルキル、（２−６Ｃ）アルケニル、（２−６Ｃ）アルキニル、（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル、カルボキシ、（１−６Ｃ）アルコキシアルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、アミノ（１−６Ｃ）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（１−６Ｃ）アルキルチオ、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（１−６Ｃ）アルキルイミダゾリル、（１−６Ｃ）アルキルスルホンアミド、（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（１−６Ｃ）ハロアルコキシまたは（１−６Ｃ）ハロアルキルであり；
Ｘｉは結合、Ｏ、ＮＨまたはＣＨ２であり；およびＲ３ｉは必要に応じてＲ３ａで置換されるフェニルであり；
Ｌｐは、
Figure 0004452017
 から選ばれ；
ここで、Ｒ３は、アミノ酸残基、Ｎ−（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、Ｎ−（１−６Ｃ）アルキルアミノアルカノイル、Ｎ−（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、Ｃ−ヒドロキシアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、ヒドロキシ（２−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、水素、ヒドロキシル、（１−６Ｃ）アルコキシ、（１−６Ｃ）アルカノイルオキシ、（１−６Ｃ）アルキル、（２−６Ｃ）アルケニル（２−６Ｃ）アルキニル、（３−６Ｃ）アルケニルオキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルカノイル、アミノ（１−６Ｃ）アルキル、アミド（ＣＯＮＨ２）、アミノ（１−６Ｃ）アルカノイル、アミノカルボニル（１−５Ｃ）アルカノイル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル（１−５Ｃ）アルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（１−６Ｃ）アルキルチオ、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニルおよびヒドラジドであり；
Ｒ３ｙは、Ｒ３または式：−Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−であり；
ここで、Ｇ２は結合または（１−３Ｃ）アルカンジイル；Ｘａは結合、Ｏ、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯまたはＮＨＣＯ；およびＲｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基である。
各ＸａおよびＧ２が結合である場合、−Ｇ２−Ｘａ−は結合である。したがって、本明細書において、用語「不在」および「結合」は互換的に用いられる。
本発明化合物において、Ｒ５がアミノまたは水素であるのが好ましく、水素がより好ましい。
本発明化合物において、α原子（＊）が、Ｄ−α−アミノ酸であるＮＨ２−ＣＨ（Ｃy）−ＣＯＯＨ（ここで、ＮＨ２はＸ−Ｘの部分である）からの配置から得られる配座を有するのが好ましい。当然のことながら、本明細書において、ＤはＲ配置を意味する。
本発明化合物において、他に特記しない限り、アリール基が、必要に応じて１、Ｏ、ＮおよびＳから選ばれる２または３個のヘテロ原子を含む５〜１０個の環原子を含み；アルキル、アルケニルもしくはアルキニル基またはアルキレン部分が、たとえば、Ｃ１−６またはＣ１−３などの６個以下の炭素を含むのが好ましく；環式基が、３〜８原子という環サイズを有するのが好ましく；および縮合多環式基が、８〜１６個の環原子を含むのが好ましい。
Ｒ１ａが、水素であるのが好ましい。
Ｘ−Ｘは、たとえば、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＮＲ１ａ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣ＝Ｏ−および−ＣＨ２ＣＨ２−から選ばれてよい。
α原子に最も近いＸ部分が、ＮＨまたはＯ原子であるのが好ましく、ＮＨ基であるのが最も好ましい。芳香環に対するＸ部分のαが、ＣＨ２またはＣＯなどの炭素ベース基であるのが好ましく、ＣＯが最も好ましい。したがって、リンカーＸ−Ｘが、−ＣＯＮＨ−であるのが特に好ましい。
Ｒ１ｄの特定の例は、水素；メチルまたはエチルなどの（１−６Ｃ）アルキル;ベンジルまたはフェニルエチルなどのフェニル（１−６Ｃ）アルキルである。
Ｒ１ｄが、水素であるのが好ましい。
Ｌが、ＣＯＮＨ、ＣＯＮ（ＣＨ３）およびＣＯＮＨＣＨ２であるのが好ましく、ＣＯＮＨまたはＣＯＮ（ＣＨ３）がより好ましい。
Ｌｐが炭素環式基Ｒｋである場合、これは、たとえば、２５個以下の炭素原子、好ましくは１０個以下の炭素原子を含む非芳香族または芳香族の単環または多環式炭化水素基である。したがって、炭素環式基が、シクロアルキル、ポリシクロアルキル、フェニルもしくはナフチル基またはフェニル基と縮合したシクロアルキル基であるのが好ましい。
シクロアルキル基の特定の例は、シクロペンチルおよびシクロヘキシルなどの（３−６Ｃ）シクロアルキル基である。シクロアルキル基が、非置換であるかまたは好ましくはアミノまたはアルキル基などの１個のＲ３基で置換されているのが好ましい。
ポリシクロアルキル基の特定の例は、デカリニルまたはノルボルニルといったようなビシクロアルキルなどの（６−１０Ｃ）ポリシクロアルキル基である。ポリシクロアルキル基が、非置換であるかまたは好ましくはメチルといったようなアルキルなどの１、２または３個のＲ３基で置換されているのが好ましい。アルキルで置換されたポリシクロアルキル基の例は、イソピノカムフェニルである。
フェニル基が、非置換であるかまたは１または２個のＲ３基で置換されているのが好ましい。
ナフチル基が、非置換であるかまたは１個のＲ３基で置換されているのが好ましい。
フェニル基と縮合したシクロアルキルまたはシクロアルケニル基の例は、インダニルおよびテトラヒドロナフチルである。この基が、非置換であるかまたは酸素もしくは１または２個のＲ３基で置換されているのが好ましい。酸素で置換された基の例は、１−オキソインダン−５−イル、１−オキソ−１,２,３,４−テトラヒドロナフト−７−イルおよび１−オキソ−１,２,３,４−テトラヒドロ−ナフト−６−イルである。
Ｌｐがヘテロ環式基Ｐｋである場合、これは、たとえば、環系に１または２個の酸素、窒素またはイオウ原子を含み、２５個以下、より好ましくは１０個以下の環系原子を含む非芳香族または芳香族の単環または多環式炭化水素基である。したがって、炭素環式基が、シクロアルキル、ポリシクロアルキル、フェニルもしくはナフチル基またはフェニル基と縮合したシクロアルキル基であるのが好ましい。
非芳香族単環式基である場合のヘテロ環式基の例は、ピロリジニルおよびピペリジニルなどのアザシクロアルキル基；ピロリニルなどのアザシクロアルケニル基;ピペラジニルなどのジアザシクロアルキル基；テトラヒドロピラニルなどのオキサシクロアルキル基；モルホリノなどのオキサアザシクロアルキル基;およびテトラヒドロチオピラニルなどのチアシクロアルキル基である。非芳香族単環式基が、５、６または７個の環原子を含み、非置換であるかまたは１個のＲ３基で置換されているのが好ましい。
非芳香族多環式基である場合のヘテロ環式基の例は、たとえば、ジヒドロインドリル、ジヒドロイソインドリル、テトラヒドロキノリニルおよびテトラヒドロイソキノリニルなどのフェニルと縮合したアザシクロアルキル；デカヒドロイソキノリニルなどのシクロアルキルと縮合したアザシクロアルキル；およびテトラヒドロベンゾ[b]チエニルまたは４Ｈシクロペンタ（b）チエニルなどのシクロアルキルと縮合したチエニルといったような二環式基である。シクロアルキルと縮合したチエニルの例は、４Ｈ−シクロヘプタ（b）チエニルおよびテトラヒドロ−４、７−メタノベンゾ（b）チオフェニルである。二環式基のさらなる例は、４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]ピラニル、４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]チオピラニルおよびテトラヒドロチエノ[２,３b]ピリジニルなどのヘテロシクロアルキル基と縮合したチエニルである。
芳香族単環式基である場合のヘテロ環式基の例は、フリル、ピロリル、チエニル、イミダゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルおよびトリアジニルであり、非置換であるかまたは１または２個のＲ３基で置換されているのが好ましい。
芳香族多環式基である場合のヘテロ環式基の例は、ベンゾフリル、キノリニル、イソキノリニル、ベンゾチエニル、インドリルおよびベンゾチアゾリルなどの二環式基である。
Ｒ３の特定の例は、Ｎ−アセチルアラニノイル、セリノイル、トレオニノイル、アスパルトイルまたはグルタモイルなどのアミノ酸残基；Ｎ−（１,３−ジメチル）ブチルアミノカルボニルなどのＮ−（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル；Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノカルボニルなどのＮ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル；Ｎ−メチルアセチルなどのＮ−（１−６Ｃ）アルキルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル；２−Ｎ−アセチルアミノアセチル、２−Ｎ−アセチルアミノプロパノイルまたは２−Ｎ−（２−メチルプロパノイル）アミノアセチルなどのＮ−（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル；２−アミノ−３−ヒドロキシプロパノイルまたは２−アミノ−３−ヒドロキシブタニルなどのＣ−ヒドロキシアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル；２−ヒドロキシアセチルアミノアセチルなどのヒドロキシ（２−６Ｃ）アルカノイルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル；ジメチルアミノスルホニルなどのジ（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル；水素；ヒドロキシル；メトキシなどの（１−６Ｃ）アルコキシ；アセトキシなどの（１−６Ｃ）アルカノイルオキシ；メチル、エチル、プロピル、２−プロピルまたは２,２−ジメチルエチルなどの（１−６Ｃ）アルキル；アリルなどの（２−６Ｃ）アルケニル；プロピニルなどの（２−６Ｃ）アルキニル；アリルオキシカルボニルなどの（３−６Ｃ）アルケニルオキシカルボニル；アセチル、プロピオニルまたはイソブチリルなどの（１−６Ｃ）アルカノイル；アミノメチルなどのアミノ（１−６Ｃ）アルキル；アミド（ＣＯＮＨ２）；アミノアセチル（ＣＯＣＨ２ＮＨ２）、アミノプロピオニル（ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２）または２−アミノプロピオニル（ＣＯＣＨ（ＣＨ３）ＮＨ２）などのアミノ（１−６Ｃ）アルカノイル；アミノカルボニルアセチルなどのアミノカルボニル（１−５Ｃ）アルカノイル；ヒドロキシメチルまたは１−ヒドロキシエチルなどのヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル；カルボキシ；２−ヒドロキシアセチルまたは２ヒドロキシプロパノイルなどのヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイル；（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルカノイル：メトキシアセチルなどの（１−６Ｃ）アルコキシアセチル；メトキシメチルなどの（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルキル；メトキシカルボニルメチルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル（１−５Ｃ）アルキル；メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル；ホルミルアミノまたはアセチルアミノなどの（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；アミノ；クロロなどのハロ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオなどの（１−６Ｃ）アルキルチオ；メチルスルホニルまたはエチルスルホニルなどの（１−６Ｃ）アルキルスルホニル；メチルスルフェニルなどの（１−６Ｃ）アルキルスルフェニル（（１−６Ｃ）アルキルＳＯ−）；およびヒドラジドである。
Ｒ３のさらなる特定の例は、Ｎ−メチルアミノカルボニルまたはＮ−イソブチルアミノカルボニルなどのＮ−（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル；およびＮ,Ｎ−ジメチルアミノカルボニルまたはＮ、Ｎ−ジエチルアミノカルボニルなどのＮ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニルである。
たとえば、親油性基Ｌｐは、
Figure 0004452017
Figure 0004452017
Figure 0004452017
 [ここで、Ｒ３、Ｒ３ｙおよびＲ３ｚは、前記と同意義である]
から選ばれる。
Ｌｐがチアゾリル基である場合の特定の例は：４−メチル−５−アセチルチアゾール−２−イル、４,５−ジメチルチアゾール−２−イル、４−メチル−５−エトキシカルボニルチアゾール−２−イル、３−シアノ−４−メチル−５エトキシカルボニルチアゾール−２−イル、４−メトキシカルボニルメチル−５−メチルチアゾール−２−イルまたは５−フェニルチアゾール−２−イルである。
化合物（Ｉ）のもう１つの特定のグループは、ＬがＣＯＮＲ１ｄ（ＣＯＮＨまたはＣＯＮＣＨ３など）であり、Ｌｐが、
Figure 0004452017
 である化合物である。
このグループの化合物において、ヘテロ環式基は、１または２個のＲ３基で置換されているのが好ましい。各Ｒ３基が、水素、塩素などのハロゲン、メチルなどの（１−６Ｃ）アルキルおよびメトキシなどの（１−６Ｃ）アルコキシから選ばれるのが好ましい。
したがって、Ｌｐの特定の例は、ベンゾチアゾール−２−イル、４−クロロベンゾチアゾール−２−イル、４−メチルベンゾチアゾール−２−イル、６−メチルベンゾチアゾール−２−イル、４−メトキシベンゾチアゾール−２−イルおよび５,６−ジメチルベンゾチアゾール−２−イルである。さらなる例は、４−メトキシ−７−メチルベンゾチアゾール−２−イル、６−ニトロベンゾチアゾール−２−イル、４,７−ジメトキシベンゾチアゾール−２−イル、４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イル、５−メチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イル、６−メチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イル、５−エチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イルおよび７−エチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イルである。またさらなる例は、５−ヒドロキシメチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イル、６−ヒドロキシメチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イルおよび７−オキソ−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチアゾール−２−イルである。
化合物（Ｉ）のもう１つの特定のグループは、ＬがＣＯＮＲ１ｄ（ＣＯＮＨまたはＣＯＮＣＨ３など）であり、Ｌｐが、
Figure 0004452017
 [式中、Ｒ３ｙは、Ｒ３または式：−Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−
（ここで、Ｇ２は結合または（１−３Ｃ）アルカンジイル、Ｘａは結合、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯまたはＮＨＣＯ；およびＲｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基）
である]
である化合物である。
Ｒｋの特定の例は、Ｌｐの部分を形成している上記炭素環式またはヘテロ環式基についての上記例である。特に列挙すると、フェニル；シクロプロピルなどのシクロアルキル；ピペリジン−１−イルなどのアザシクロアルキル；モルホリノなどのオキシアザシクロアルキル；およびピリド−３−イルなどのピリジルである。さらに列挙すると、ピペラジン−１−イルジアザシクロアルキル；フル−２−イルなどのフリル；チエン−２−イルなどのチエニル；ピロリジン−１−イルおよびピリド−２−イルである。他の例は、ピリド−５−イルである。
Ｇ２の例は、−ＣＨ２−およびＣＨ２ＣＨ２である。
上記４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエニル基を含む化合物の構造の例は、
Figure 0004452017
 である。
上記４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエニル基を含む化合物の構造のさらなる例は、
Figure 0004452017
 である。
構造の他の例は、
Figure 0004452017
 である。
Ｒ３が、ピペラジニル基の１位における置換基である場合、水素、ホルミルなどの（１−６Ｃ）アルカノイル、またはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルが好ましい。
Ｒ３が、ピペリジン−１−イル基における置換基である場合、３位または４位であって、水素、メチルなどの（１−６Ｃ）アルキル、アミドまたはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルが好ましい。
Ｒ３が、４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチオフェン基の３位における置換基である場合、カルボキシ基；メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル基；またはＮ−１,３−ジメチルブチルアミノカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル基が好ましい。（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル基の他の例は、メチルアミノカルボニルおよびイソブチルアミノカルボニルである。
したがって、Ｌｐの特定の例は、３−カルボキシ−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−エトキシ−カルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−Ｎ−（２,３−ジメチルブチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。さらなる例は、３−Ｎ−メチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−Ｎ−イソブチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。
Ｒ３が、４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチオフェン基の３位における置換基である場合のさらなる例は、ジメチルアミノカルボニルまたはジエチルアミノカルボニルなどのＮ,Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル；アミド；メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル；シアノおよびメチルスルホニルなどの（１−６Ｃ）アルキルスルホニルである。（１−６Ｃ）アルキルスルホニル基の他の例は、ｔ−ブチルスルホニルである。
したがって、Ｌｐの特定の例は、３−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−エトキシカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−アミド−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−メチルスルホニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−シアノ−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−エトキシカルボニル−４Ｈ−シクロペンタ（b）チエニルである。他の例は、３−ｔ−ブチルスルホニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。
Ｒ３が、フェニルまたはピリジル基における置換基である場合、水素原子が好ましい。
したがって、Ｌｐの特定の例は、３−ベンジルオキシカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−ベンジルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（３−ピリジル）メチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロ−ベンゾチエン−２−イル、３−シクロプロピルメチルアミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−モルホリノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−ピペリジノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。さらなる例は、３−ピペラジニル−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（４−ホルミル）ピペラジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（４−エトキシカルボニル）ピペラジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（４−メトキシベンジル）アミノカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（４−エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（３−アミド）−ピペリジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（４−アミド）−ピペリジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−メチルピペリジン−１−イルカルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（２−チエニル）カルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（２−フリルメチルアミノ−カルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−（１−ピロリジニル）カルボニル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−（２−ピリジル）−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。
Ｒ３が、４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル基の４、５、６および／または７位における置換基であるかまたは４Ｈ−シクロペンタ（ｂ）チエニル基の４、５および／または６位における置換基である場合、水素原子またはメチルなどの（１−６Ｃ）アルキル基が好ましい。
したがって、Ｌｐの特定の例は、３−エトキシカルボニル−４−メチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イル、３−エトキシカルボニル−５−メチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルおよび３−エトキシカルボニル−６−メチル−４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチエン−２−イルである。
化合物（Ｉ）のもう１つの特定のグループは、ＬがＣＯＮＲ１ｄ（ＣＯＮＨまたはＣＯＮＣＨ３など）であり、Ｌｐが、
Figure 0004452017
 [式中、Ｒ３ｙ、Ｒ３ｚ、ＸｚおよびＸｚａは、前記と同意義である]
である化合物である。
Ｒ３ｙの特定の例は、エトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノカルボニルなどのＮ,Ｎ−ジアルキルアミノカルボニルおよびシアノである。
Ｒ３ｚが水素であるのが好ましい。
ＸｚにおけるＲｚが、水素、（１−６Ｃ）アルカノイル、アミノ（１−６Ｃ）アルカノイルまたはベンジルオキシカルボニルであるのが好ましい。Ｒｚの特定の例は、水素、アセチル、アミノアセチルおよびベンジルオキシカルボニルである。
ＸｚａがＣＨ２であるのが好ましい。
したがって、Ｌｐの特定の例は、３−エトキシカルボニル−テトラヒドロ−４Ｈ−シクロヘプタ（b）チエン−２−イル、３−エトキシカルボニル−４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]ピラニル、３−エトキシカルボニル−４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]チオピラニル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−ベンジルオキシカルボニルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−テトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−アセチルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−アミノアセチルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−メトキシアセチル−テトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イルおよび３−エトキシカルボニル−テトラヒドロ−４,７−メタノベンゾ（b）チオフェン−２−イルである。
化合物(Ｉ）の好ましいサブグループは、ＬがＣＯＮＨであり、Ｌｐが、
Figure 0004452017
 [式中、Ｒ３ｙは、Ｎ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、（３−６Ｃ）アルケニルオキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルカノイル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシ（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニルおよび式：−Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−（式中、ＸａがＣＯ、ＯＣＯ、ＮＲＬＣＯ（ここでＲＬは（１−６Ｃ）アルキル）、ＳＯ２またはＮＲＬＳＯ２であって、ＲｋとＧ２が前記と同意義であるか、あるいは、ＸａとＧ２は両方が不在であって、Ｒｋがピリド−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イル、ピリミジン−２−イルまたはピリミジン−４−イルであるかのいずれかである）から選ばれる]
である化合物である。
このサブグループに属する化合物は、良好なバイオアベイラビリティを示すことが見出されている。
α炭素に結合した環式基（Ｃｙ）は、シクロアルキル（シクロヘキシルなど）、ピペリジニル（ピペリジン−４−イルなど）、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フリル（フル−２−イルなど）、チエニル（チエン−２−イルまたはチエン−３−イルなど）、イミダゾリル（イミダゾール−４−イルなど）、オキサゾリル（オキサゾール−４−イルまたはオキサゾール−５−イルなど）、チアゾリル（チアゾール−４−イルまたはチアゾール−５−イルなど）、ピリジル（ピリド−２−イル、ピリド−３−イルまたはピリド−４−イルなど）、ピリミニジル（ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イルまたはピリミジン−５−イルなど）、ピラジニル（ピラジン−２−イルまたはピラジン−３−イルなど）、ナフチル（ナフト−１−イルまたはナフト−２−イルなど）、インドリル（インド−５−イルなど）、インダニル（インダン−５−イルなど）、３,４−ジヒドロベンゾフリル（３,４−ジヒドロベンゾフル−２−イルなど）、ベンゾフリル（ベンゾフル−２−イルなど）、ベンゾ[b]チエニル（ベンゾ[b]チエン−２−イルなど）基が好ましく、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３ｉＸｉで置換される。
Ｒ３ａの特定の例は、水素；ヒドロキシル；メトキシ、エトキシまたはイソプロポキシなどの（１−６Ｃ）アルコキシ；メチル、エチルまたはイソプロピルなどの（１−６Ｃ）アルキル；アセチル、プロパノイルまたはイソプロパノイルなどの（１−６Ｃ）アルカノイル；メチルアミノメチルまたはジメチルアミノメチルなどの（１−６Ｃ）アルキルアミノアルキル；ヒドロキシメチルカルボキシなどの（１−６Ｃ）ヒドロキシアルキル；メトキシメチルなどの（１−６Ｃ）アルコキシアルキル；メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル；メチルアミノカルボニルまたはジメチルアミノカルボニルなどの（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル；アミノメチルなどの（１−６Ｃ）アミノアルキル；ＣＯＮＨ２；ＣＨ２ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；ホルミルアミノまたはアセチルアミノなどの（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；ヒドロキシアセチルアミノなどのヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；アミノアセチルアミノなどのアミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；:メチルアミノアセチルといったような（１−６Ｃ）アルキルアミノアセチルなどの（１−６Ｃ）アルキルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；ジメチルアミノアセチルアミノなどのジ（１−６Ｃ）アルキルアミノ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ；メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノまたはt−ブトキシカルボニルアミノなどの（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルアミノ；アミノ；フルオロ、クロロまたはブロモなどのハロ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオなどの（１−６Ｃ）アルキルチオ；メチルスルホニルまたはエチルスルホニルなどの（１−６Ｃ）アルキルスルホニル；メチルスルフェニルなどの（１−６Ｃ）アルキルスルフェニル；イミダゾール−４−イルなどのイミダゾリル；ヒドラジド；２−メチルイミダゾール−４−イルなどの（１−６Ｃ）アルキルイミダゾリル；メチルスルホニルアミドまたはエチルスルホニルアミドなどの（１−６Ｃ）アルキルスルホンアミド；メチルアミノスルホニルまたはエチルアミノスルホニルなどの（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル；アミノスルホニル；トリフルオロメトキシなどの（１−６Ｃ）ハロアルコキシ；およびトリフルオロメチルなどの（１−６Ｃ）ハロアルキルである。
Ｒ３ｉの例は、フェニルが好ましい。
Ｒ３ｉＸｉの特定の例は、フェニル、フェノキシ、フェニルアミノおよびベンジルである。
Ｒ１ｐが、水素であるのが好ましい。
Ｃｙが、非置換であるかまたは１または２個のＲ３ａ基で置換されているのが好ましい。
Ｒ３ａが、水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、イソプロピル、アセチル、プロパノイル、イソプロパノイル、イソプロポキシ、アミノ、アミノメチル、ヒドロキシメチル、カルボキシ、アミド、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、アミノアセチルまたはカルボキシであるのが好ましい。
Ｃｙの特定の例は、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、１−アセチルピペリジン−４−イル、１−プロパノイルピペリジン−４−イル、１−イソブチリルピペリジン−４−イル、１−アミノアセチルピペリジン−４−イル、フェニル、２−アミノフェニル、４−アミノフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−メチルフェニル、２,４−ジメチルフェニル、３,６−ジメチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−アミノメチルフェニル、４−アミノメチルフェニル、４−(Ｈ２ＮＣＯ)フェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメチルフェニル、２−ヒドロキシメチルフェニル、４−カルボキシフェニル、４−イソプロピルフェニル、２−クロロフェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、４−フェニルフェニル、４−フェノキシフェニル、５−メチルフル−２−イル、イミダゾール−４−イル、２−メチルチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−４−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール５−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−５−イル、２−フェニルチアゾール−４−イル、４−アミノピリド−３−イル、６−メチルピリド−２−イル、３−アミノ−ピリド−４−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、ベンゾフル−２−イル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、インダン−５−イル、２−メチルチオフェニル、３−メチルチオフェニル、３−メチルスルフィニルフェニル、２−メチルスルホニルフェニル、３−メチルスルホニルフェニル、３−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノフェニル、２,３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル、３−ブロモフェニル、３−シアノフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル、２−エトキシカルボニルフェニル、２−メチルフェニル、２−フルオロフェニル、６−アミノピリド−３−イル、２−エチルチアゾール−４−イル、２−ベンジルチアゾール−４−イル、２−メチルスルホンアミドチアゾール−４−イル、２−クロロピリド−３−イル、２−ヒドロキシアセチルアミノチアゾール−４−イル、２−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノアセチル−アミノチアゾール−４−イル、２−トリフルオロメトキシフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル、３−クロロピリド−２−イル、３−メチルピリド−２−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イル、ピリミジン−２−イルおよびピリミジン−４−イルである。
化合物（Ｉ）の１つのサブグループにおいて、α炭素に結合した環式基は、シクロアルキル（シクロヘキシルなど）、ピペリジニル（ピペリジン−４−イルなど）、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フリル（フル−２−イルなど）、チエニル（チエン−２−イルまたはチエン−３−イルなど）、イミダゾリル（イミダゾール−４−イルなど）、チアゾリル（チアゾール−４−イルまたはチアゾール−５−イルなど）、ピリジル（ピリド−２−イル、ピリド−３−イルまたはピリド−４−イルなど）、ナフチル（ナフト−１−イルまたはナフト−２−イルなど）、ベンゾフリル（ベンゾフル−２−イルなど）またはベンゾ[b]チエニル（ベンゾ[b]チエン−２−イルなど）基であり、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３ｉＸｉ（ここで、Ｘｉは結合、Ｏ、ＮＨまたはＣＨ２であり、Ｒ３ｉは必要に応じてＲ３ａで置換されるフェニルである）で置換され；および各Ｒ３ａは独立して、水素、ヒドロキシル、（１−６Ｃ）アルコキシ、（１−６Ｃ）アルキル、（１−６Ｃ）アルカノイル、（１−６Ｃ）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルキル、カルボキシ、（１−６Ｃ）アルコキシアルキル、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル、（１−６Ｃ）アルキルアミノカルボニル、アミノ（１−６Ｃ）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、（１−６Ｃ）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（１−６Ｃ）アルキルチオ、（１−６Ｃ）アルキルスルホニル、（１−６Ｃ）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（１−６Ｃ）アルキルイミダゾリル、（１−６Ｃ）アルキルスルホンアミド、（１−６Ｃ）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（１−６Ｃ）ハロアルコキシまたは（１−６Ｃ）ハロアルキルである。
このグループにおいて、Ｒ３ａの例は、水素；ヒドロキシル；メトキシ；エトキシ；イソプロポキシ；メチル；エチル；イソプロピル；アセチル；プロパノイル；イソプロパノイル；メチルアミノメチル；ジメチルアミノメチル；ヒドロキシメチル；カルボキシ；メトキシメチル；メトキシカルボニル；エトキシカルボニル；メチルアミノカルボニル；ジメチルアミノカルボニル；アミノメチル；ＣＯＮＨ２；ＣＨ２ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；ホルミルアミノ；アセチルアミノ；メトキシカルボニルアミノ；エトキシカルボニルアミノ；t−ブトキシカルボニルアミノ；アミノ；フルオロ；クロロ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオ；メチルスルホニル；エチルスルホニル；メチルスルフェニル；イミダゾール−４−イル；ヒドラジド；２−メチルイミダゾール−４−イル；メチルスルホニルアミド；エチルスルホニルアミド；メチルアミノスルホニル；エチルアミノスルホニル；アミノスルホニル；トリフルオロメトキシまたはトリフルオロメチルであり；Ｒ３ｉＸｉは、フェニル、フェノキシ、フェニルアミノまたはベンジルである。
このグループにおけるＣｙの例は、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、１−アセチルピペリジン−４−イル、１−プロパノイルピペリジン−４−イル、１−イソブチリルピペリジン−４−イル、１−アミノアセチルピペリジン−４−イル、フェニル、４−アミノフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−メチルフェニル、２,４−ジメチルフェニル、３,６−ジメチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−アミノメチルフェニル、４−アミノメチルフェニル、４−(Ｈ２ＮＣＯ)フェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメチルフェニル、２−ヒドロキシメチルフェニル、４−カルボキシフェニル、４−イソプロピルフェニル、２−クロロフェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、４−フェニルフェニル、４−フェノキシフェニル、５−メチルフル−２−イル、イミダゾール−４−イル、２−メチルチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−４−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール５−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−５−イル、２−フェニルチアゾール−４−イル、４−アミノピリド−３−イル、６−メチルピリド−２−イル、３−アミノ−ピリド−４−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、ベンゾフル−２−イルまたは３−メチルベンゾチエン−２−イルである。
特定の化合物の１つのグループは、Ｃｙが式：
Figure 0004452017
 [式中、ＸａおよびＸｂの一方はＮ、他方は、ＮＨまたはＳであり、各Ｒ３rおよびＲ３ｓはＲ３aと同意義である]
で示される基である化合物である。
このサブグループに属する化合物は、良好なバイオアベイラビリティを示すことが見出されている。
ＸａがＳまたはＮＨであり、ＸｂがＮであるのが好ましい。
Ｒ３ｓが水素であるのが好ましい。
Ｒ３rが、水素、（１−６Ｃ）アルキル、アミノ、（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、ヒドロキシ（１−６Ｃ）アルカノイルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ（１−６Ｃ）アルキルアミノアルカノイルアミノ、フェニルまたはベンジルであるのが好ましい。
良好なバイオアベイラビリティが見出されている化合物のもう１つのグループは、Ｃｙが、ピリド−２−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イルまたはオキサゾール−４−イルであり、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３iＸｉで置換される化合物（Ｉ）である。
本発明化合物は、たとえば、芳香族官能基をα原子にカップリングするため、および親油性官能基をα原子にカップリングするためのアミド結合の形成といったような慣例の化学合成経路によって調製することができる。環式基とα原子の組み合わせは、α−アミノ酸（Ｄ（すなわちＲ）配置が好ましい）と、たとえばアミノメチル安息香酸などのＲ２に基く化合物の酸誘導体などに由来している芳香族基（容易に入手できる）から慣例的に誘導することができる。このような試薬からのアミド形成（いずれのアミノまたはヒドロキシ官能基（特に、アミノメチル基）も、合成ステップの幾つかまたはすべてにおいて必要に応じて保護することができる）から、式（Ｖ）で示される化合物が得られる。
Ｒ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ(Ｃｙ)−ＣＯＯＨ （Ｖ）
[式中、Ｒ２は、
Figure 0004452017
 およびＣｙは前記と同意義である]
反応前に、Ｂｏｃ、Ｚ、ＦｍｏｃまたはＢｐｏｃといったような適当な保護基ＰＧによってアミノアルキル基中のアミノ基を保護すべきである。保護基の使用は、McOmie、"Protective Groups in Organic Chemistry"、Plenum、１９７３およびGreene、"Protective Groups in Organic Synthesis"、Wiley Interscience、１９８１に記載されている。
次いで、必要に応じて、酸クロリドまたは活性エステルなどの活性型に変換した後、化合物（Ｖ）（またはもう１つの類縁カルボン酸）とアミン基を含む親油性基を反応させて、α原子と親油性基の間に−ＣＯ−または−ＣＯ−ＮＲ１ｄ(ＣＨ２)m−結合をもつ化合物を製造することによって、親油性基を慣例的に導入する。次いで、保護基ＰＧを除去する。
別法として、イソブチルクロロホルメートと反応させ、水素化ホウ素ナトリウムで還元することによって、化合物（Ｖ）またはもう１つの類縁カルボン酸をアルコールに変換してもよい。
このようなアルコール、たとえば、式（ＶＩ）：
Ｒ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ(Ｃｙ)−ＣＨ２ＯＨ （ＶＩ）
で示されるアルコールは、以下のような反応によって反応させて親油性基を導入することができる：すなわち、該アルコールを酸化して対応するアルデヒドを形成し（たとえば、二酸化マンガンまたはＤＭＳＯ／オキサリルクロリドまたはＤＭＳＯ／ＳＯ３またはデス−マーチン試薬を用いる酸化による）、該アルデヒドをグリニャール試薬などの有機金属試薬と反応させ、次いで得られるヒドロキシル基を酸化する（たとえば、ＭｎＯ２、ＤＭＳＯ／オキサリルクロリドまたはデス−マーチン試薬を用いる）といったような反応によって反応させて親油性基を導入する。
この方法によって、α炭素と親油性基の間に−ＣＯ−連結をもつ化合物を製造する。
これらの化合物への別の経路は、上記化学反応のいずれかを実行して、親油性基を化合物（ＶＩＩ）：
Figure 0004452017
 ［ＰＧは保護基である］
などの保護中間体に組み込むすることである。
次いで、保護基を除去した後、３−アミノメチル安息香酸をカップリングする（必要に応じて保護）。
アミノおよびカルボン酸の保護は、McOmie、Protecting Groups in Organic Chemistry、Plenum Press、NY、１９７３およびGreeneおよびWuts、Protecting Groups in Organic Synthesis、２nd.Ed.、John Wiley & Sons、NY、１９９１に記載されている。カルボキシ保護基の例として、メチル、エチル、ｔ−ブチルおよびｔ−アミルなどのＣ１−Ｃ６アルキル基；ベンジル、４−ニトロベンジル、４−メトキシベンジル、３,４−ジメトキシベンジル、２,４−ジメトキシベンジル、２,４,６−トリメトキシベンジル、２,４,６−トリメチルベンジル、ベンズヒドリルおよびトリチルなどの(Ｃ１−Ｃ４)アルキル基；トリメチルシリルおよびｔ−ブチルジメチルシリルなどのシリル基；およびアリルおよび１−(トリメチルシリルメチル)プロプ−１−エン−３−イルなどのアリル基が挙げられる。
アミン保護基（ＰＧ）の例として、式：ＲＣＯ［式中、Ｒは、Ｃ１−６アルキル、Ｃ３−１０シクロアルキル、フェニルＣ１−６アルキル、フェニル、Ｃ１−６アルコキシ、フェニルＣ１−６アルコキシまたはＣ３−１０シクロアルコキシ（ここで、フェニル基は、必要に応じて非置換であるかまたは１または２個のハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキルおよびＣ１−Ｃ４アルコキシなどで置換される）である］などのアシル基が挙げられる。好ましいアミノ保護基は、ｔ−ブトキシカルボニル(Ｂｏｃ)およびベンジルである。
市販されていないα−アミノ酸（ＶＩＩ）は、たとえば、“Synthesis of Optically Active α−Amino Acids”by Robert M.Williams(Pergamon Press、１９８９)および“Asymmetric Synthesis of ArylGlycines”、Chem.Rev.１９９２、８８９−９１７に記載されているような当業界で公知の方法によって合成することができる。
（ＶＩＩ）型の化合物は、（たとえば）１つまたはそれ以上の下記方法によって調製することができる。
（ｉ）保護基の除去および置換ならびにストレッカー合成またはその変更法、ブッヘラー−ベルクスヒダントイン合成またはＵｇｉ方法論（Isonitrile Chemistry、Ugi I.Ed.；Academic: New York、１９７１ pp１４５−１９９）によってアリールまたはヘテロアリールアルデヒドから；
（ii）シャープレス方法論（J.Am.Chem.Soc.１９９８、１２０、１２０７−１２１７）によってスチレンから；
（iii）保護基の除去および置換ならびに（Tetrahedron、１９９７、５３、１６４６３−１６４７０）によってアリールボロン酸から；
（iv）エヴァンのアジ化（Synthesis、１９９７、５３６−５４０）またはオキシム化に続く還元および保護基の付加によってアリールおよびヘテロアリール酢酸から；
（ｖ）たとえば、ヒドロキシ基のアルキル化、ヒドロキシ基から誘導されたトリフレートのパラジウム／炭素によるカルボニル化、および水添分解分解によるカルボキシルエステルのカルボン酸化、カルボン酸の活性化によるカルボキサミド形成およびアミンのカップリング、カルボン酸におけるカルチウス反応によるアミン形成というさらなる操作といったような官能基の操作によって、存在するアリールグリシンから；
（vi）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−α−ホスホノグリシントリエチルエステルのホーナー−エモンズ反応を用いて脂環式、炭素環式および非芳香族へテロ環式アルデヒドおよびケトンから（Synthesis、１９９２、４８７−４９０）。
合成反応工程式の例を以下に示す。
保護４−アミノメチルフェニルグリシンの合成
Figure 0004452017
保護４−ピペリジルグリシンの合成
Figure 0004452017
保護２−アミノチアズ−４−イルグリシンの合成
Figure 0004452017
Figure 0004452017
アルキル／アリールチアゾリルグリシンの合成
Figure 0004452017
いずれかのＣｙ基を用いるＵｇｉ合成によるＬｐ基の合成
Tetrahedron、１９９９、５５、７４１１
Figure 0004452017
他の２−置換アミノ化合物の製造に用いる２−アミノチアゾール−４−イルグリシンの合成
Figure 0004452017
Ｌｐがテトラヒドロベンゾチオフェンである化合物（Ｉ）の合成
Figure 0004452017
Ｌｐがテトラヒドロベンゾチアゾールである化合物（Ｉ）の合成
Figure 0004452017
したがって、さらなる態様において、本発明は、式（ＶＩＩＩ）：
Ｒ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ(Ｃｙ)−Ｚ１ （ＶＩＩＩ）
［式中、Ｒ２、ＸおよびＣｙは、前記と同意義であり、Ｚ１は、反応性官能基である］
で示される化合物またはその保護誘導体に親油性基をカップリングすることを特徴とする本発明化合物の製造方法を提供する。
反応性官能基Ｚ１を、たとえば、カルボン酸；クロリドまたはブロミドなどの酸ハライド；（１−６Ｃ）アルコキシカルボニル基などのエステルまたは混合無水物などの活性化エステルであってよく、１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）などのカップリング剤を用いてインシトゥで形成されてよい。化合物（ＶＩＩＩ）が、ヘキサフルオロリン酸ブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム（ＰｙＢｒｏＰ）の作用によってインシトゥで形成された酸ブロミドである条件を用いて親油性基をカップリングさせるのが好ましい。この反応は、触媒としてジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）を用い、ジクロロメタン中、縮合条件下で都合よく行われる。
最終段階の処理ステップでＬ−Ｌｐを導入する代りに、別法として、Ｒ２基を最終処理ステップで導入する処理によって、化合物（Ｉ）を調製することができる。
したがって、もう１つの態様において、本発明は、式（ＩＸ）：
Ｚ２−ＣＨ(Ｃｙ)−Ｌ−Ｌｐ （ＩＸ）
［式中、Ｃｙ、ＬおよびＬｐは、前記と同意義であり、Ｚ２は、ＨＸ（Ｈ２Ｎなど）または反応性官能基である］
で示される化合物またはその保護誘導体を、式（Ｘ）：
Ｒ２−Ｚ３ （Ｘ）
［式中、Ｒ２は、前記と同意義であり、Ｚ３は、ＸＨまたは適当な反応性基である］
で示される化合物またはその保護誘導体と反応させ、要すれば、次いで、いずれかの保護基を除去することを特徴とする本発明化合物のを提供する。
したがって、本明細書中の実施例に記載するように、Ｘ−ＸがＣＯＮＨである化合物（Ｉ）は、Ｚ２がＨ２Ｎである化合物（ＩＸ）を、Ｚ３がＣＯＯＨである化合物（ＩＸ）またはアシルハライドもしくは無水物といったようなその反応性誘導体と反応させることによって製造される。
化合物（ＩＸ）およびその塩は、新規であり、本発明の別の態様として提供される。
もう１つの態様において、本発明は、式（Ｉ'）：
Ｒ２'−Ｘ−Ｘ−ＣＨ(Ｃｙ')−Ｌ−Ｌｐ （Ｉ'）
［式中、Ｒ２'はＲ２（前記と同意義）または保護されたＲ２（３−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノメチルフェニル）、Ｃｙ'はＣｙ（前記と同意義）または保護されたＲ２、およびＬｐ'はＬｐ（前記と同意義）または保護されたＬｐであり；少なくとも１つの保護基が存在する］
で示される化合物を脱保護することを特徴とする化合物（Ｉ）の製造方法に関する。
ＬがＣＯＮＨであり、Ｘ−ＸがＣＯＮＲ１ａ'（ここで、Ｒ１ａ'は、２,４−ジメトキシベンジルなどの必要に応じて置換されたベンジル基である）である化合物（Ｉ'）は、式：ＣｙＣＨＯのアルデヒド、必要に応じて置換されたベンジルアミン：Ｒ１ａ'ＮＨ２、イソニトリル：ＣＮ−Ｌｐおよび３−ＢＯＣ−アミノメチル安息香酸などのＮ−保護３−アミノメチル安息香酸から出発するＵｇｉ方法論を用いて製造することができる。保護基はトリフルオロ酢酸を用いて除去することができる。好ましくは、式：ＣＮ−Ｌｐのイソニトリルから出発するよりも、式（ＸＩ）：
ＣＮ−Ｃ(ＣＨ３)ＣＨ２ＯＣＯＯＲ （ＸＩ）
[式中、Ｒは、メチルなどの（１−６Ｃ）アルキル基である]
のイソニトリルから出発して、式（ＸＩＩ）：
Ｒ２'−ＣＯＮＲ１ａ'−ＣＨ(Ｃｙ')−ＣＯＮＨ−Ｃ(ＣＨ３)ＣＨ２ＯＣＯＯＲ （ＸＩＩ）
を得るのが有利であることがわかっている。
次いで、化合物（ＸＩＩ）をカリウムｔ−ブトキシドなどの強塩基で処理して、式（ＸＩＩＩ）：
Ｒ２'−ＣＯＮＲ１ａ'−ＣＨ(Ｃｙ')−ＣＯＯＲ （ＸＩＩＩ）
を得る。
次いで、たとえば、エタノール中で水酸化ナトリウムで処理することによって、化合物（ＸＩＩＩ）を加水分解して、式（ＸＩＶ）：
Ｒ２'−ＣＯＮＲ１ａ'−ＣＨ(Ｃｙ')−ＣＯＯＨ （ＸＩＶ）
を得る。
次いで、化合物（ＸＩＶ）をアミド結合形成条件下で式：Ｈ２Ｎ−Ｌｐのアミンと反応させて、化合物（Ｉ'）を得る。
本明細書に記載した中間体は新規である。本発明は、該新規中間体も提供する。
要すれば、当業界で公知の方法を用いて、生理学的に許容しうる塩を製造することができる。
親油性基Ｌｐが１つ以上の基を含む場合、それは、一般に、慣例の方法または実施例に記載の方法を用いて、化合物（Ｉ）の製造における適当な段階でこれらの基を一緒にカップリングすることによって形成される。
本発明化合物は、たとえば、胃腸管（直腸または経口）、鼻、肺、筋肉組織または脈管構造内もしくは経皮などのいずれの経路によっても投与することができる。化合物は、たとえば、錠剤、散剤、カプセル剤、液剤、分散剤、懸濁剤、シロップ剤、スプレー剤、座剤、ゲル剤、乳剤、パッチ剤などのいずれの慣例の投与剤形においても投与することができる。このような組成物は、たとえば、希釈剤、担体、ｐＨ調節剤、甘味料、バルキング剤およびさらなる有効成分などの製薬において慣例の成分を含むことができる。組成物が滅菌され、注射または点滴に適した液剤または懸濁剤の剤形であるのが好ましい。このような組成物は、さらなる本発明の態様である。
以下の記載は、本発明化合物の医薬組成物の例である。
製剤例１
以下の成分を用いて、硬ゼラチンカプセルを調製する。
量(mg/カプセル)
有効成分 ２５０
デンプン、乾燥 ２００
ステアリン酸マグネシウム １０
合計 ４６０mg
上記成分を混合し、４６０mgを硬ゼラチンカプセルに充填する。
製剤例２
それぞれ６０mgの有効成分を含む錠剤を以下の通り調製する。
有効成分 ６０mg
デンプン ４５mg
微結晶セルロース ３５mg
ポリビニルピロリドン ４mg
カルボキシメチルナトリウムデンプン ４.５mg
ステアリン酸マグネシウム ０.５mg
タルク １mg
合計 １５０mg
有効成分、デンプンおよびセルロースをＮｏ.４５メッシュＵ.Ｓ.篩に通し、完全に攪拌する。得られる粉末をポリビニルピロリドンの溶液と混合し、次いで、Ｎｏ.１４メッシュＵ.Ｓ.篩に通す。そのようにして製造した顆粒を５０℃にて乾燥し、Ｎｏ.１８メッシュＵ.Ｓ.篩に通す。次いで、顆粒に、あらかじめＮｏ.６０メッシュＵ.Ｓ.篩に通したカルボキシメチルナトリウムデンプン、ステアリン酸マグネシウムおよびタルクを加え、混合した後、それぞれ１５０mgの重量の錠剤を打錠機にて作成する。
この態様において、本発明は、本発明セリンプロテアーゼ（トリプターゼ）インヒビターおよび少なくとも１種の医薬的に許容しうる担体または賦形剤を含む医薬組成物を提供する。医薬組成物は、必要に応じて少なくとも１種のさらなる抗炎症薬を含むこともできる。
別の態様において、本発明は、有効量の本発明化合物を投与することを含む、本発明は、トリプターゼインヒビターに応答するコンディションと戦う（すなわち、治療または予防する）ためのヒトまたは非ヒト動物の身体（たとえば、哺乳類、鳥類または爬虫類の身体）の治療に使用する医薬の製造のための該インヒビターの使用を提供する。
さらに別の態様において、本発明は、トリプターゼインヒビターに応答するコンディションと戦うためのヒトまたは非ヒト動物の身体（たとえば、哺乳類、鳥類または爬虫類の身体）の治療方法を提供する。
本発明インヒビター化合物の用量は、治療されるコンディションの性質および重篤度、投与経路および患者の大きさおよび種類に応じて変化する。しかし、一般に、０.０１〜１００μmol／体重kgの量を投与する。
本明細書に引用したすべての文献は、全体を参考文献として本発明に援用される。
以下の非制限的実施例に関して、本発明をさらに説明する。
実験：
反応工程式および実施例に用いる略語は、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢ学術用語法にしたがって用いる。特別の略語は ＢＯＣ：t−ブチルオキシカルボニル；ＨＰＬＣ：高性能液体クロマトグラフィー；ＬＣ：液体クロマトグラフィー；ＭＳ：質量分析；Ｒt：保持時間；ＮＭＲ：核磁気共鳴；ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド；Quant：定量的；ＤＭＡＰ：ジメチルアミノピリジン；ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸；Ｓat.：飽和；Ａｑ.：水性；ＤＣＭ：ジクロロメタン；ＰｙＢｒｏＰ：ヘキサフルオロリン酸ブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム；Ｐｈｇ：フェニルグリシン；Ｃｈｅｘ：シクロヘキシル；ＴＨＦ：テトラヒドロフラン；ＤｉＢａｌ：水素化ジイソブチルアルミニウム；ＫＨＭＤＳ：カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド；ＤＢＵ：１,８−ジアザビシクロ[５.４０.]ウンデク−７−エン；Ｔｒｉｓｙｌ：トリイソプロピルベンゼンスルホニル；Ｚ：ベンジルオキシカルボニル；およびＥＤＣ：１−(３−ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩である。出発物質は、Aldrich(Gillingham、UK)、Lancaster(Morecambe、UK)、Avocado(Heysham、UK)、Maybridge(Tintagel、UK)、Nova Biochem(Nottingham、UK)またはBachemから購入する。
精製：
メルクシリカゲル Ｓi６０(４０〜６３μm、２３０〜４００メッシュ)を用いてフラッシュカラムクロマトグラフィーを行う。最終生成物の精製は、結晶化、フラッシュカラムクロマトグラフィーまたはWaters Deltaprep ４０００において、流速５０ml／分にて、Deltapak Ｃ１８ラジアル圧縮カラム(４０mmｘ２１０mm、粒子径１０〜１５mm)を用いる勾配逆相ＨＰＬＣによって行う。溶離液Ａは、水性トリフルオロ酢酸(０.１％)からなり、溶離液Ｂは、水性トリフルオロ酢酸(０.１％)中、９０％アセトニトリルからなり、勾配溶離は(勾配、０分 ５％Ｂ１分、次いで、５％Ｂ〜２０％Ｂ ４分、次いで、２０％Ｂ〜６０％Ｂ ３２分)である。凍結乾燥のために純度＞９５％でプールする前に、分析的ＨＰＬＣおよびＬＣ/ＭＳによって画分を分析する。
分析：
プロトン核磁気共鳴(１Ｈ ＮＭＲ)スペクトルをBruker ＤＰＸ３００(３００ＭＨz)において記録する。オートサンプラーを備えたShimadzu ＬＣ６勾配システムにおいて分析的ＨＰＬＣを行う。溶離液Ａは、水性トリフルオロ酢酸(０.１％)からなり、溶離液Ｂは、トリフルオロ酢酸(０.１％)を含む９０％アセトニトリルおよび１０％水からなる。勾配１の溶離は、５％Ｂから開始し、７分で１００％Ｂまで上昇する。勾配２の溶離は、５％Ｂから開始し、１０分で１００％Ｂ まで上昇する。勾配３の溶離は、５％Ｂで１分から開始し、４分後に２０％Ｂまで、１４分後に４０％Ｂまで、次いで、１５分後に１００％Ｂまで上昇する。カラムは、Luna ２ Ｃ１８(３μ、３０mmｘ４.６mm)、Luna ２ Ｃ１８(５μ、１５０mmｘ２mm)およびSymmetry Ｒp８(３.５μ、５０ｘ２.１mm)を用いる。
Luna ２ Ｃ１８カラム(３、３０ mmｘ４.６ mm)を備えたPESCIEXシングル四極子ＡＰＩ−１５０ＥＸ装置において、２０％〜１００％アセトニトリル／水で５分溶離する(勾配４)ＬＣ/ＭＳを行う。
方法1
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミド ビス(トリフルオロアセテート)塩
2,6−ジアミノベンゾチアゾール
2−アミノ−6−ベンゾチアゾール(500 mg, 2.56 mmol)をメタノール(20 mL)に溶解し、メタノール(1 mL)中、10 % パラジウム／炭素(50 mg)をスラリーとして加える。雰囲気を水素で置き換え、懸濁液を一夜攪拌する。吸引濾過により触媒を除去し、溶媒を蒸発して、2,6−ジアミノベンゾチアゾール(420 mg, 99 %)を淡黄色固体で得る。
N−BOC−D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミド
N−BOC−D−フェニルグリシン(250 mg, 1.0 mmol)、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド・塩酸塩(190 mg、1.0 mmol)および7−アザ−1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(140 mg、1.0 mmol)をジメチルホルムアミド(3 mL)中、１０分間攪拌する。次いで、2,6−ジアミノベンゾチアゾール(160 mg、1.0 mmol)を加え、溶液を室温にて一夜攪拌する。酢酸エチル(15 mL)を加え、溶液を水(5 mL)、飽和クエン酸溶液(5 mL)、飽和NaHCO3(5 mL)および水(5 mL)で洗浄し、乾燥（硫酸マグネシウム）する。溶媒を減圧除去し、N−BOC−D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミドを得る。
1H NMR(CDCl3): 8.93(1 H、br s、C(O)NHAr); 7.72(1 H、s、ベンゾチアゾール C(7)H); 7.35(2 H、br s、Ph); 7.23−7.05(3 H、m、Ph); 6.93(1 H、d、J = 10 Hz、ベンゾチアゾール C(4)H or C(5)H); 6.72(1 H、d、J = 10 Hz、ベンゾチアゾール C(4)H or C(5)H); 6.05(1 H、d、J = 7 Hz、CHPh); 5.92(2 H、br s、NH2); 5.45(1 H、br s、BOCNH); 1.27(9 H、s、tBu)。
D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミド
ジクロロメタン(5 mL)中のN−BOC−D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミドの溶液をトリフルオロ酢酸(5 mL)で処理し、３０分間攪拌する。ジクロロメタンおよび過剰のトリフルオロ酢酸を減圧除去し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして、D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミドをそのトリフルオロ酢酸塩(350 mg、89 %)で得る。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 2−アミノベンゾチアゾール−6−アミド トリフルオロ酢酸塩
Ｎ−ＢＯＣ−３−アミノメチル安息香酸(２５０mg、１.０mmol)、１−(３− ジメチルアミノプロピル)−３−エチルカルボジイミド塩酸塩(１９０mg、１.０mmol)および７−アザ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール(１４０mg、１.０mmol)をジメチルホルムアミド(１０mL)中で５分攪拌する。次いで、Ｄ−フェニルグリシン ２−アミノベンゾチアゾール−６−アミド トリフルオロアセテート塩(３５０mg、０.８５mmol)を加え、混合物を一夜攪拌する。溶液を酢酸エチル(２０mL)に注ぎ、５％ＨＣＬ(５mL)、飽和ＮaＨＣＯ３(５mL)および水(５mL)で洗浄し、ＭgＳＯ４で乾燥し、溶媒を減圧除去する。粗生成物をシリカゲルを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(６０％酢酸エチル/４０％ヘキサン〜１００％酢酸エチル)により精製し、３−(Ｎ−ＢＯＣ−アミノメチル)ベンゾイル−Ｄ−フェニルグリシン ２アミノベンゾチアゾール−６−アミドを得る。これをジクロロメタン(５mL)に溶解し、トリフルオロ酢酸(５mL)を加える。溶液を室温にて３０分攪拌した後、ジクロロメタンおよび過剰のトリフルオロ酢酸を減圧除去する。残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして、３−(アミノメチル)ベンゾイル−Ｄ−フェニルグリシン ２−アミノベンゾチアゾール−６アミドをそのトリフルオロアセテート塩(１５０mg、３２％)で得る。
１Ｈ ＮＭＲ(d４ ＭeＯＨ):８.２１ppm(１Ｈ、s、ベンゾチアゾールＣ(７)Ｈ)；７.９７(１Ｈ、s、アミノメチルベンゾイルＣ(２)Ｈ)；７.９４(１Ｈ、d、Ｊ＝５Ｈz、３(アミノメチル)ベンゾイルＣ(６)Ｈ)；７.８０−７.４８(５Ｈ、m、Ar)；７.４７７.３２(４Ｈ、m、Ar)；５.８１(１Ｈ、s、ＣＨPh)；４.２２(２Ｈ、s、ＣＨ２ＮＨ２)。
ＨＰＬＣ(Luna ２、勾配１):保持時間＝２.８０分。
ＬＣ/ＭＳ(Luna ２、勾配４):保持時間＝１.４０分、４３２(ＭＨ)+。
実施例１−５は、２,６−ジアミノベンゾチアゾールの代りに指示されるアミンを用いて、方法１の化合物と同様の方法で合成する。
実施例1
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 5−アセチル−4−メチルチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
5−アセチル−4−メチルチアゾール−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.92(1 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 7.95(2 H、br s、NH 2); 7.78−7.65(2 H、m、Ar); 7.40−7.14(7 H、m、Ar); 5.61(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 3.87(2 H、br d、J = 5 Hz、CH2NH2); 2.32(3 H、s、CH 3); さらなるメチル基は、2.20および2.30ppmの間の溶媒ピークによって隠れる。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.55分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.78分，423(MH)+。
実施例2
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 5−フェニルチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
5−フェニルチアゾール−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 12.81(1 H、s、H−結合NHAr); 9.07(1 H、d、J = 6 Hz、NHCO); 8.12(2 H、br s、CH 2NH2); 8.07−7.84(3 H、m、Ar); 7.62−7.28(12 H、m、Ar); 5.88(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.10(2 H、m、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.36分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.23分，443(MH)+。
実施例3
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5−ジメチル−チアゾール−2アミド トリフルオロ酢酸塩
4,5−ジメチルチアゾール−2−アミンから。
１H NMR(d4 メタノール): 9.01(部分交換による0.5 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 7.99−7.93(2 H、m、Ar); 7.61−7.43(7 H、m、Ar); 5.85(1 H、dの上に重なるs、J 6 Hz、α−CH); 4.18(2 H、s、CH 2NH2); 2.29 & 2.18(2 x 3 H、2 x s、2 x CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.67分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.96分，395(MH)+。
実施例4
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4−メチル−5エトキシカルボニルチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−メチル−5−エトキシカルボニルチアゾール−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.20(1 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 8.02(1 H、s、Ar); 7.76(1 H、d、J = 7 Hz、Ar); 7.52−7.30(7 H、m、Ar); 5.78(1 H、d、J 6 Hz、α−CH); 4.16(2 H、q、J = 6 Hz、CH 2CH3); 4.11(2 H、s、CH 2NH2); 2.45(3 H、s、ArCH 3); 1.21(3 H、t、J = 6 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.73分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.13分，453(MH)+。
実施例5
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4(メトキシカルボニルメチル)−5−メチルチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−メトキシカルボニルメチル−5−メチルチアゾール−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.02−7.97(2 H、m、Ar & NHCH); 7.87(1 H、d、J = 8 Hz、Ar); 7.59−7.33(7 H、m、Ar); 7.21(2 H、br s、NH 2); 5.81(1 h、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.18(2 H、s、CH 2NH2); 3.58(3 H、s、CO2CH 3); 3.55(2 H、s、CH 2CO); 2.31(3 H、s、ArCH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.54分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.05分，453(MH)+。
実施例6
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 5、6−ジヒドロ−3 メトキシカルボニル−4H−シクロペンタ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
5,6−ジヒドロ−3−メトキシカルボニル−4H−シクロペンタ(b)チオフェン−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.30(1 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 8.04(1 H、Ar); 7.85(1 H、d、J = 8 Hz、Ar); 7.62−7.30(7 H、m、Ar); 5.80(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.16(2 H、s、CH 2NH2); 3.72(3 H、s、CH 3); 2.87 & 2.84(2 x 2 H、2 x t、2 x J = 6 Hz、CH 2CH2CH 2); 2.30(2 H、５重、J = 6 Hz、CH2CH 2CH2)
HPLC(対称、勾配2):保持時間＝6.56分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.26分，464(MH)+。
実施例7
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.25(部分交換による0.6 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 8.06(1 H、s、Ar); 7.86(1 H、d、J = 7 Hz、Ar); 7.52−7.23(7 H、m、Ar); 5.79(1 H、dの上に重なるs、J = 6 Hz、α−CH); 4.18−4.04(4 H、m、CH 2NH2 & CH 2CH3); 2.65 & 2.50(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2); 1.82−1.70(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.15分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.42分，492(MH)+。
実施例8
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 3−ベンゾイルオキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−ベンゾイルオキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン2−アミンから。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.02−7.95(2 H、m、1 x Ar & NHCH; 7.92(1 H、d、J = 7 Hz、Ar); 7.72−7.32(12 H、m、Ar); 5.81(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 5.22(2 H、s、CH 2Ar); 4.18(2 H、s、CH 2NH2); 2.70 & 2.59(2 x 2 H、2 x t、2 x J = 5 Hz CH 2CH2CH2CH 2); 1.82−1.68(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.40分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.75分，554(MH)+。
実施例9
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(4−モルホリンカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−(BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(ヒドロキシカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
メタノール(20 mL)中の3−(BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−ベンジルオキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド(実施例８の保護型およびその合成における中間体 )(1.00 g、1.6 mmol)の溶液を水素雰囲気下、10% パラジウム／炭素を加えて2時間攪拌する。混合物を濾過し、メタノールを減圧蒸発して、酸(0.86 g、定量的)を得、さらに精製することなく次工程に用いる。
１H NMR(d6 DMSO): 11.91(1 H、br s CO2 H); 9.46(1 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 7.90(1 H、d、J = 6 Hz、NHBoc); 7.86(1 H、s、Ar); 7.55−7.32(7 H、m、Ar); 5.92(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.20(2 H、d、J = 6 Hz、CH 2NH2); 2.71 & 2.59(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2); 1.72−1.60(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2); 1.34(9 H、s、C(CH3)3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(4−モルホリンカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン2−アミド トリフルオロ酢酸塩
DMF(2 mL)中のカルボン酸(55 mg、0.10 mmol)の溶液を室温にて攪拌し、ジイソプロピルエチルアミン(52 p、L、39 mg、0.30 mmol)、モルホリン(87 μL、87 mg、1.00 mmol)およびO−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N'、N'、N'、N'−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート(114 mg、0.30 mmol)を加える。HPLCが出発物質の完全消費を示すまで室温にて攪拌する（5日間）。次いで、酢酸エチル(20 mL)を加え、1N HCl(20 mL)、重炭酸ナトリウム(飽和水溶液、20 mL)および水(20 mL)溶液で抽出し、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮し、フラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製する。ジクロロメタン(2 mL)中のアミドの溶液をトリフルオロ酢酸(2 mL)で1時間処理する。過剰のTFAおよびジクロロメタンを蒸発し、残渣をジエチルエーテルでのトリチュレーションによって精製して、3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(4−モルホリンカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン2−アミドをそのトリフルオロ酢酸塩で得る。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.02 ppm(1 H、s、NHAr); 7.85−7.70(3 H、m、NHCH & 2 x Ar); 7.50−7.25(7 H、m、Ar); 5.64(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.03(2 H、br s、CH 2NH2); 3.40−2.89(8 H、m、2 x CH2O & CH 2CH2CH2CH 2); 2.52−2.45 & 2.30−2.15(2 x 2 H、2 x m、2 x モルホリン CH 2N); 1.75−1.60(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.68分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.91分，533(MH)+。
指示されたアミンを用い、実施例９と同様の方法にて、3−(N−BOC− アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン) 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(ヒドロキシカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミドから実施例10−14 を製造する。
実施例10
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 3−ベンジルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ベンジルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.02−7.91(3 H、m、2 x Ar & NHCH; 7.60−7.25(12 H、m、Ar); 6.73(1 H、t、J = 5 Hz、NHBn); 5.79(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.41(2 H、d、J = 5 Hz、CH 2Ar); 4.16(2 H、s、CH 2NH2); 2.71 & 2.62(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2)i 1.85−1.76(4 H、m、CHzCH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.47分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.40分，553(MH)+。
実施例11
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(3−ピリジルメチルアミノカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド ビス−トリフルオロ酢酸塩
3−ピリジルメチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.37(1H、s、Ar); 8.34(1 H、d、J = 5 Hz、NHCH); 8.25(1 H、d、J = 6 Hz、Ar); 7.78−7.14(11 H、m、Ar); 6.81(1 H、t、J = 5 Hz、NHBn); 5.58(1 H、d、J = 5 Hz、α−CH); 4.42(2 x 1 H、2 x dd、2 x J = 8 Hz、5 Hz、NHCH 2Ar); 4.04(2 H、s、CH 2NH2); 2.58 & 2.46(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2); 1.62−1.53(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.32分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.59分，554(MH)+。
実施例12
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(1−ピペリジンカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ピペリジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.20(1 H、s、NHAr); 8.15−7.26(9 H、m、Ar); 5.82(1 H、br s、α−CH); 4.06(2 H、br s、CH 2NH2; 3.20−1.15(18 H、m、ピペリジルおよびシクロヘキシルプロトン)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.94分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.02分，531(MH)+。
実施例13
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 3(シクロプロピルメチルアミノカルボニル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
シクロプロピルメチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.76−7.58(3 H、m、2 x Ar & NHCH; 7.40−7.12(7 H、m、Ar); 6.18(1 H、t、J = 5 Hz、NHBn); 5.50(1 H、d、J = 5 Hz、α−CH); 4.00(2 H、br s、CH 2NH2); 2.92(2H、t、J = 5 Hz、CH 2cPr); 2.48 & 2.40(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2); 1.65−1.55(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2); 0.81−0.65、0.28−0.17 & 0.05 〜−0.05(1 H、2 H & 2 H、3 x m、cPr プロトン)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.19分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.18分，517(MH)+。
実施例14
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(1,3−ジメチルブチルアミノカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ラセミ1,3−ジメチルブチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.88−7.75(3 H、m、2 x Ar & NHCH; 7.48−7.25(7 H、m、Ar); 5.97(1 H、d、J = 5 Hz、α−CH); 5.68 & 5.65(2 x 0.5 H、2 x d、2 x J = 4 Hz、NHHex); 4.12−4.02(2 H、m、CH 2NH2); 4.01−3.90(1 H、m、CH3CHNH); 2.59 & 2.47(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2); 1.73−1.62(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2); 1.53−0.70(12 H、m、残留ヘキシルプロトン)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.63分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.53分，547(MH)+。
実施例15
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(ヒドロキシカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ジクロロメタン(2 mL)中の実施例13−17で製造した化合物である3−(BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3−(ヒドロキシカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド(50 mg、0.9 mmol)の溶液を調製し、室温にて１時間トリフルオロ酢酸(2 mL)で処理する。溶媒を蒸発し、残渣をトリチュレートして、標記化合物をオフホワイト固体で得る。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.25−8.17(2 H、m、Ar); 8.01(1 H、d、J = 6 Hz、NHCH); 7.75−7.52(7 H、m、Ar); 6.00(1 H、d、J = 6 Hz、α−CH); 4.35(2 H、br s、CH 2NH2); 2.85 & 2.71(2 x 2 H、2 x br s、CH 2CH2CH2CH 2); 1.92−1.80(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.31分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.07分，464(MH)+。
実施例16
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
α−N−BOC−D/L−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2−アミド
無水テトラヒドロフラン(20 mL)中のN−BOC−D−フェニルグリシン(750 mg、3.0 mmol)の溶液をアルゴン下、室温にてを攪拌する。クロロギ酸イソブチル(0.52 mL、4.0 mmol)およびジイソプロピルエチルアミン(0.81 mL、4.7 mmol)を加え、溶液を30分間攪拌する。テトラヒドロフラン(10 mL)中の2−アミノベンゾチアゾール(500 mg、3.3 mmol)の溶液を混合無水物溶液に加え、 室温にて一夜攪拌する。酢酸エチル(50 mL)を加え、有機相を水(25 mL)、5 % HCl溶液(25 mL)、飽和水性NaHCO3(25 mL)および水(25 mL)で洗浄した後、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮する。溶離液として酢酸エチル/ヘキサン＝1/1を用いるフラッシュクロマトグラフィーにより残渣を精製して、カップリング生成物(785 mg、68 %)を黄色油状物で得る。
１H NMR(CDCl3): 7.71 ppm(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.42(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.36(8 H、m、ArおよびNH); 6.29(1 H、br s、CH); 5.60(1 H、br s、NH); 1.30(9 H、s、C4H9)。
3−(N−BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2−アミド
ジクロロメタン(5 mL)中のα−N−BOC−D/L−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2アミド(785 mg、2.24 mmol)の溶液をトリフルオロ酢酸(2 mL)で処理し、室温にて１時間攪拌する。溶液を減圧濃縮し、残留するTFA塩にジメチルホルムアミド(15 mL)を加える。この溶液をトリエチルアミン(0.92 mL、6.6 mmol)、1−(3−ジメチルアミノプロピル)3−エチルカルボジイミド・塩酸塩(478 mg、2.5 mmol)、3−(N−BOC−アミノメチル)安息香酸(562 mg、2.24 mmol)およびDMAP(50 mg)で処理し、室温にて一夜攪拌する。溶液を酢酸エチル(25 mL)および水(25 mL)に分配し、有機相を5 % HCl溶液(25 mL)、飽和水性NaHCO3(25 mL)および水(25 mL)で洗浄した後、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮して、黄色油状物を得る。溶離液として酢酸エチル/ヘキサン＝1/1を用いるフラッシュクロマトグラフィーにより残渣を精製して、無色固体(185 mg、16 %)を得る。
１H NMR(CDCl3): 7.87−7.73 ppm(2 H、m、ArおよびNH); 7.667.45(3 H、m、ArおよびNH); 7.40−7.30(3 H、m、Ar); 7.267.00(6 H、m、Ar); 6.11(1 H、d、J = 6.9 Hz、CHPh); 4.98(1 H、br s、NH); 4.02(2 H、d、J = 6.5 Hz、CH 2NH2)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ジクロロメタン(3 mL)中の3−(N−BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニル−グリシン ベンゾチアゾール−2−アミド(156 mg、0.3 mmol)の溶液を室温にて攪拌し、トリフルオロ酢酸(2 mL)を加える。攪拌をさらに1時間継続し、溶媒を減圧除去して、黄色油状物を得、ジエチルエーテルでトリチュレートして、トリフルオロ酢酸塩(120 mg、96 %)を無色固体で得る。
１H NMR(d4 メタノール): 7.82 − 7.67(3 H、m、Ar); 7.56(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.53−7.21(8 H、m、Ar); 7.19−7.09(1 H、m、CHPh); 3.89(2 H、s、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.95分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.88分，417(MH)+
2−アミノベンゾチアゾールの代りに指示されたアミンを用いる以外は実施例16と同様にして、実施例17−23を製造する。
実施例17
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5,6−ジメチルベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−5,6−ジメチルベンゾチアゾールから。
１H NMR(d4 メタノール): 7.80−7.63 ppm(2 H、m、Ar); 7.47−7.07(9 H、m、Ar); 5.71(1 H、s、CHPh); 3.92(2 H、s、CH 2NH2); 2.12(6 H、s、2 x CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.39分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.10分，445(MH)+。
実施例18
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−メトキシ ベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−6−メトキシベンゾチアゾールから。
１H NMR(CDCl3): 8.18 ppm(3 H、br s、ArおよびNH); 7.90(1 H、s、Ar); 7.79(1 H、s、Ar); 7.71(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.637.28(8 H、m、ArおよびNH); 7.24(1 H、s、Ar); 7.10(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 5.72(1 H、d、J = 6.5 Hz、CHPh); 4.09(2 H、s、CH 2NH2); 3.88(3 H、s、OCH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.26分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.94分，447(MH)+。
実施例19
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−メチルベンゾチアゾール− 2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−6−メチルベンゾチアゾールから。
１H NMR(d4 メタノール): 8.02−7.90 ppm(2 H、m、Ar); 7.70−7.54(6 H、m、Ar); 7.48−7.37(3 H、m、Ar); 7.25(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 5.92(1 H、s、CHPh); 4.19(2 H、s、CH 2NH2); 2.46(3 H、s、CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.21分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.26分，431(MH)+。
実施例20
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4メトキシベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−4−メトキシベンゾチアゾールから。
１H NMR(dg メタノール): 7.88 ppm(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.79(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.64−7.14(9 H、m、Ar); 6.94(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 5.89(1 H、s、CHPh); 4.03(2 H、s、CH 2NH2); 3.93(3 H、s、OCH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.95分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.88分，447(MH)+。
実施例21
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4−メチルベンゾチアゾール− 2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−4−メチルベンゾチアゾールから。
１H NMR(d4 メタノール): 7.95 ppm(1 H、s、Ar); 7.89(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.69−7.33(8 H、m、Ar); 7.27−7.12(2 H、m、Ar); 5.91(1 H、s、CHPh); 4.03(2 H、s、CH 2NH2); 2.60(3 H、s、CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.31分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.18分，431(MH)+。
実施例22
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4−クロロベンゾチアゾール− 2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−4−クロロベンゾチアゾールから。
１H NMR(d4 メタノール): 8.00−7.85 ppm(2 H、m、Ar); 7.82−7.74(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.67−7.35(8 H、m、Ar); 7.25(1 H、t、J = 7.2 Hz、Ar); 5.89(1 H、s、CHPh); 4.10(2 H、s、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.29分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.05分，451(MH)+。
実施例23
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド
4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアズ−2−アミンから、以下の通り合成する。
4,5,6,7−テトラヒドロ−1,3−ベンゾチアゾール−2−アミン
テトラヒドロフラン(20 ml)中の2−クロロシクロヘキサノン(200 mg、1.5 mmol)およびチオウレア(114 mg、1.5 mmol)の攪拌溶液を6時間加熱還流する。溶液を減圧濃縮し、溶離液として酢酸エチル/ヘキサン＝1/1を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーによりアミンを精製して、無色油状物(169 mg、74 %)を得る。
１H NMR(CDCl3): 5.06(2 H、br s、NH2); 2.40−2.23(4 H、m、2 x CH2); 1.64−1.51(4 H、m、2 x CH2)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド
１H NMR(d4 メタノール): 8.01−7.92(2 H、m、Ar); 7.68(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.61−7.51(3 H、m、Ar); 7.47−7.34(3 H、m、Ar); 5.90(1 H、s、CH); 4.20(2 H、s、CH 2NH2); 2.69(2 H、br s、CH2); 2.60(2 H、br s、CH2); 1.98(4 H、br s、2 x CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.55分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間=1.88分，421(M + H)+。
3−(N−BOC−アミノメチル)ベンゾイル−Dフェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(ヒドロキシカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド および指示されたアミンを用い、実施例9に記載の方法を用いて、実施例24−37を合成する 。
実施例24
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3furフリルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2アミド トリフルオロ酢酸塩
フルフリルアミンから製造。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.88−7.74 & 7.50−7.23(4 H & 11 H、2 x m、10 x Ar & 5 x NH)、6.22 & 6.14(2 x 1 H、2 x s、フリル CH's)、5.65(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.32(2 H、d、J 5 Hz、CH 2フリル)、4.04(2 H、br s、CH 2NH2)、2.58−2.44(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.70−1.58(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.20分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.18分，543(MH+)。
実施例25
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(パラ−メトキシベンジルアミノカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
パラ−メトキシベンジルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.01−7.35(9 H、m、Ar)、7.27 & 6.80(2 x 2 H、2 x d、2 x J 7 Hz para−subs Ar)、5.78(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.48−4.35(2 H、m、CH 2pMB)、4.24(2 H、br s、CH 2NH2)、3.78(3 H、s、OCH3)、2.72−2.60(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.85−1.73(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.36分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.33分，543(MH+)。
実施例26
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−ジエチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2アミド トリフルオロ酢酸塩
ジエチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 大部分のピークがロトマー(rotomer)効果により広げられる。9.02(1 H、br s、NH)、7.91−6.86(13 H、m、9 x Ar、3 x
NH)、5.68(1 H、d、J 6 Hz,α−CH)、4.02(2 H、br s、ArCH 2NH2)、3.07−2.82(4 H、m、N(CH 2)2)2.56−2.47 & 2.28−2.16(2 x 2H、2 x m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.72−1.52(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)、0.99−0.88 & 0.82−0.69(2 x 3 H、2 x m、2 x CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.02分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.03分，519(MH+)。
実施例27
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(メチルアミノカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
メチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.95−7.82 & 7.51−7.28(3 H & 6 H、2 x m、Ar)、6.85−6.30(5 H、m、5 x NH)、5.71(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.15 & 4.10(2 H、ABq、J 5 Hz、ArCH 2NH2)、2.71(3 H、d、J 4 Hz、CH3)、2.65−2.56(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.78−1.69(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.99分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.88分，477(MH+)。
実施例28
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−イソブチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
イソブチルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.91−7.80 & 7.52−7.20(3 H & 6 H、2 x m、Ar)、6.84−6.25(5 H、m、5 x NH)、5.72(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.16 & 4.11(2 H、ABq、J 5 Hz、ArCH 2NH2)、3.01(2 H、t、J 7 Hz、CH 2iPr)、2.65−2.51(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.78−1.67(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)0.88−0.76(6 H、m、2 x CH 3)CHMe2消失、2ppm付近のピークによって覆い隠される。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.65分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.23分，519(MH+)。
実施例29
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン 3−(3− アミノカルボニルピペリジン−1−カルボニル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−(アミノカルボニル)ピペリジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトルおよびジアステレオマー)8.15−5.72(種々の Ar、NH & α−CH)、4.20−4.06(2
H、m、ArCH 2NH2)、3.50−1.20(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.58,3.67分(比率 1: 1)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.70分，574(MH+)。
実施例30
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(4− エトキシカルボニルピペリジン−l−カルボニル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−エトキシカルボニルピペリジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.55−9.35 & 8.10−7.25(1 H & 13 H、種々の Ar、NH)5.82−5.72(1 H、m、α−CH)、4.15−4.00(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.80−1.20(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.982分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.10分，603(MH+)。
実施例31
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(4− ホルミル)ピペラジンカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−ホルミルピペラジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.40−9.28 & 8.15−7.22(1 H & 13 H、種々の)5.85−5.78(1 H、m、α−CH)、4.18−3.97(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.40−1.62(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.30分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.94分，560(MH+)。
実施例32
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(4− メチルピペリジン)カルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−メチルピペリジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.22−9.02 & 7.86−6.70(種々の)5.75−5.58(1 H、m、α−CH)、4.30−0.65(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.14分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.37分，545(MH+)。
実施例33
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(4− アミノカルボニルピペリジン)カルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−アミノカルボニルピペリジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.51−6.35(種々の)5.78−5.62(1 H、m,α−CH)、4.15−1.18(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.48分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.72分，574(MH+)。
実施例34
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3(ピペラジンカルボニル)ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド ビストリフルオロ酢酸塩
ピペラジンから製造する。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.07分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.40分，532(MH+)。
実施例35
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(4− エトキシカルボニル)ピペラジンカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
4−エトキシカルボニルピペラジンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.22−9.08 & 7.85−6.72(種々の)5.78−5.68(1 H、m、α−CH)、4.09−3.85(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.51−2.10(種々の脂肪族)、1.70−1.51(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)、1.13−1.00(3 H、m、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.77分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.26分，604(MH+)。
実施例36
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロ−3[(ピリド−4−イルエチル)アミノカルボニル] ベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
ピリド−4−イルエチルアミンから製造する。
１H NMR(d6 DMSO): 9.32−9.23(1 H、d、J 7 Hz、NH)、8.69 & 7.72(2 x 2H、2 x d、2 x J 9 Hz、ピリジル)、8.25(3 H、br s、NH3+)、8.01−7.30(11 H、m、3 x NH、8 x Ar)、5.91(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.05(2 H、br d、J 4 Hz、ArCH 2NH2)、3.01(2 H、t、J 6 Hz、NHCH 2CH2)、2.60(2 H、t、J 6 Hz、NHCH2CH 2)、CH 2CH2CH2CH 2 2.50ppmにおける溶媒ピークにより、ピークは覆い隠されている、1.72−1.58(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.32分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.67分，568(MH+)。
実施例37
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(l−エチル−lH−ピラゾール−5−イル)アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン2−アミド トリフルオロ酢酸塩
1−エチル−lH−ピラゾール−5−イルアミンから製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.01−7.84 & 7.63−7.39(3 H & 10 H、2 x m、Ar、3 x NH)、7.00(3 H、br s、NH 3+)、6.34(1 H、s、ピラゾリルC4−H)、5.81(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.20−4.09(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、2.85−2.77 & 2.64−2.56(2 x 2 H、2 x m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.85−1.73(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)、1.30(3 H、t、J 7 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.22分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.16分，557(MH+)。
実施例38−56の合成には、下記の一般的手順を用いて適当な2−アミノチオフェンを合成する。
一般的手順A(２段階経路)。
シクロヘキサノン(または置換シクロヘキサノン、ピリドン、シクロヘプタノン、など)(10 mmol)、マロノニトリル(またはシアノ酢酸エチル、メタンスルホニルアセトニトリルなどの適当な置換アセトニトリル)(10 mmol)、酢酸(8 mmol)および酢酸アンモニウム(2 mmolをベンゼン(25 mL)に溶解する。反応容器にディーン−スタークコレクターを備え付け、水の発生が収まるまで加熱還流する(代表的には２〜14時間)。次いで、混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルで100 mLに希釈し、重炭酸ナトリウム溶液(飽和水溶液、50 mL)で抽出する。次いで、反応混合物の揮発成分を減圧除去して、粗オレフィン／オレフィン混合物を得る。次いで、粗生成物をエタノール(20 mL)に溶解し、イオウ(10 mmol)およびモルホリン(10 mmol)を加える。次いで、TLCが出発物質の完全消費を示すまで混合物を加熱還流する(代表的には、30分〜22時間)。冷却後、反応混合物を酢酸エチルで100 mLに希釈し、塩酸(1N、2 x 30 mL)で抽出する。次いで、有機部分を減圧濃縮して、粗生成物を得る。生成物のHPLCによる 純度が80% 以上であれば、精製を行わないが、フラッシュカラムクロマトグラフィー(SiO２、代表的な溶媒混合物は、EtOAc：ヘキサン＝1: 1)により精製する場合もある。
一般的手順B(単一容器経路)。
ケトン(10 mmol)、アセトニトリル誘導体(10 mmol)およびイオウ(10 mmol)の混合物をエタノールに溶解する。混合物を加熱還流し、2時間にわたってモルホリン(15 mmol)を滴下する。さらに2時間後、反応混合物を冷却し、酢酸エチルで100 mLに希釈し、塩酸(1N、2 x 25 mL)で抽出する。次いで、溶液を減圧濃縮し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製する(SiO2、代表的溶媒混合物はEtOAc：ヘキサン＝1：1)。
実施例38
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
2−アミノ−3−シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
DCM(4 mL)中の2−アミノ−3−シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン(230 mg、1.29 mmol)の溶液に、N−Boc−D−Phg(340 mg、1.35 mmol)、次いで、PyBrOP(631 mg、1.35 mmol)を加える。混合物を０℃に冷却し、ジイソプロピルエチルアミン(550 mg、4.26 mmol)を滴下する。次いで、混合物を室温まで温め、一夜攪拌する。次いで、反応物に塩酸(0.5 N、aq.、25 mL)を加えて反応を停止し、DCM(2 x 25 mL)で抽出する。次いで、合わせた有機層を蒸発し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(SiO2、アセトン：ヘキサン＝1；5)により精製して、カップリング生成物(146 mg)を淡黄色固体で得る。固体をDCM(5 mL)に溶解し、TFA(2 mL)を加える。2時間攪拌後、反応混合物を蒸発し、DMF(5 mL)を加える。次いで、3−(N−Boc−アミノメチル)安息香酸(100 mg、0.40 mmol)を加え、次いで、EDC(200 mg、1.04 mmol)、DMAP(5 mg、触媒量)およびジイソプロピルエチルアミン(180 mg、1.39 mmol)を加える。反応混合物を16時間攪拌し、酢酸エチル(50 mL)で希釈し、次いで、塩酸(1 N、aq.、25 mL)、重炭酸ナトリウム(飽和aq.、25 mL)および水(25 mL)で抽出する。溶液を乾燥(硫酸マグネシウム）し、蒸発し、フラッシュカラムクロマトグラフィー(SiO2、アセトン：ヘキサン＝1：4)により精製して、カップリング生成物を白色固体で得る(125 mg)。次いで、生成物をDCM(5 mL)に溶解し、TFA(2 mL)を加える。2時間攪拌後、反応混合物を蒸発し、水(50 mL)に溶解し、凍結乾燥して、3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−シアノ4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミドをそのトリフルオロ酢酸塩(120 mg、0.21 mmol、17 %)で白色固体で得る。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.80(1 H、s、H−結合NH)、7.90−7.71 & 7.58−7.27(4 H & 6 H、2 x m、NH & 9 x Ar)、6.81(3 H、br s、NH 3+)、5.86(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.09 & 4.05(2 H、ABq、J 6 Hz、ArCH 2NH2)、2.52−2.34(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.75−1.61(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.31分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.21分，445(MH+)。
指示されたアミンを用いる以外は実施例38と同様の方法を用いて、実施例39−56を合成する（一般的手順Aを用いて合成またはBを用いて順に合成する）。
実施例39
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(2−チエノイル)− 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−(2−チエノイル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 10.21(1 H、s、H−結合NH)、8.117.23(15 H、4 x NH & 11 x Ar)、6.85(1H、t、J 3 Hz、チオフェン C(4)H)、5.65(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.02(2 H、s、ArCH 2NH2)、2.57−2.18(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.78−1.42(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.62分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.37分，530(MH+)。
実施例40
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−ピロリジノイル− 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−ピロリジノイル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.31(1 H、s、H−結合NH)、8.06−6.85(13 H、m、4 x NH & 9 x Ar)、5.81(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.15(2 H、br d、J 7 Hz、ArCH 2NH2)、3.46−1.60(m、種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.96分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.50分，517(MH+)。
実施例41
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.51(1 H、br s、H−結合NH)、8.01−7.20(13 H、m、4 x NH & 9 x Ar)、5.65(1 H、br s、α−CH)、4.15−3.80(2 H、m、ArCH 2NH2)、2.90−1.55(種々の脂肪族)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.92分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.02分，491(MH+)。
実施例42
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル4,5,6,7−テトラヒドロ−6−オキサベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロ−6−オキサベンゾ(b)チオフェン−2−アミンを用いて合成(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.95−7.75 & 7.46−7.24(3 H & 8H、2 x m、Ar & NH's)、6.71(3 H、br s、ＮH 3+)、5.73(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.42(2 H、s、環CH2O)、4.10−3.97(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.66 & 2.65(2 x 2 H、2 x t、2 x J 7 Hz、CH 2CH 2)、1.10(3 H、t、J 7 Hz、CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.272分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.18分，494(MH+)。
実施例43
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニルシクロヘプタ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−エトキシカルボニルシクロヘプタ[b] チオフェンから合成(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.20 & 8.01−7.39(1 H & 10 H、d、J 8
Hz & m、Ar & 2 x NH)、6.98(3 H、br s、ＮH 3+)、5.91(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.22−4.09(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.02−2.93、2.70−2.60,1.82−1.71 & 1.65−1.50(2 H、2 H、2 H & 4 H、脂肪族環H's)、1.30−1.15(3 H、m、CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.24分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.63分，506(MH+)。
実施例44
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル−6メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3エトキシカルボニル−6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチオフェンからジアステレオマー混合物として合成(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.02−7.85 & 7.62−7.38(3 H & 8 H、2 x m、Ar & 2 x NH)、6.83(3 H、br s、ＮH 3+)、5.89(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.29−4.13(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、2.99−1.20(7 H、m、脂肪族環H's)、1.30−1.18(3 H、m、CH3)、1.08−0.99(3 H、m、CHCH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.35分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.78分，506(MH+)。
実施例45
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル4,5,6,7−テトラヒドロ−6−チアベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロ−6チアベンゾ(b)チオフェン−2−アミンを用いて合成(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.01−7.85 & 7.65−7.38(3 H & 8H、2 x m、Ar & NH's)、6.81(3 H、br s、ＮH 3+)、5.84(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.30−4.15(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.68(2 H、s、環CH 2S)、3.05−2.81(4 H、m、CH 2CH 2)、1.25(3 H、t、J 7 Hz、CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.64分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.40分，510(MH+)。
実施例46
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル−5− メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3エトキシカルボニル−5−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチオフェンからジアステレオマー混合物として合成(一般的手順Aに従って製造)
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.19−7.85 & 7.65−7.36(3 H & 8 H、2 x m、Ar & 2 x NH)、6.88(3 H、br s、ＮH 3+)、5.90(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.28−4.14(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.00−1.22(7 H、m、脂肪族環H's)、1.30−1.19(3 H、m、CH 3)、1.06(3 H、d、J 7 Hz、CHCH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.20分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.61分，506(MH+)。
実施例47
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル−4メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3エトキシカルボニル−4−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチオフェンからジアステレオマー混合物として合成(一般的手順Aに従って製造)
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.06−7.88 & 7.65−7.40(3 H & 8 H、2 x m、Ar & 2 x NH)、6.87(3 H、br s、ＮH 3+)、5.94−5.86(1 H、m、α−CH)、4.36−4.15(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.36−3.24(1 H、m、CHCH3)、2.71−2.48(2 H、m、CH 2CS)、1.91−1.62(4 H、m、CH 2CH 2)、1.31−1.22(3 H、m、CH 3)、1.18 & 1.14(3 H、2 x d、2 x J 7 Hz、CHCH 3 各ジアステレオマーについて)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.14分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.59分，506(MH+)。
実施例48
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニルシクロペンタ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−エトキシカルボニルシクロペンタ(b)−チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.00−7.78 & 7.52−7.30(3 H & 8 H、2 x NH & 9 x Ar)、6.86(3 H、br s、ＮH 3+)、5.82(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.20−4.08(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、2.80−2.65(4 H、m、CH 2CH2CH 2)、2.25(2 H、５重、J 7 Hz、CH2CH 2CH2)、1.18(3 H、t、J 7 Hz、CH 2CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.71分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.47分，478(MH+)。
実施例49
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル4,6,6−トリメチルシクロペンタ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3エトキシカルボニル−4,6,6−トリメチルシクロペンタ [b] チオフェンからジアステレオマー混合物として製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.10−7.10(14 H、5 x NH & 9 x Ar)、5.70−5.58(1 H、m、α−CH)、4.10−3.99(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.15−2.95(1 H、m、CHCH3)、2.40−2.10(2 H、m、CH2CH 2CH2)、1.181.01(3 H、m、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.60分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.79分，520(MH+)。
実施例50
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−エトキシカルボニル− 4,5,6,7−テトラヒドロ−4,7−メタノベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロ−4,7−メタノベンゾ(b)チオフェンからジアステレオマー混合物として製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.30−7.26(14 H、5 x NH & 9 x Ar)、5.82−5.72(1 H、m、α−CH)、4.25−4.06(4 H、m、CH 2CH3 & ArCH 2NH2)、3.68−3.60 & 3.41−3.32(2 x 1 H、2 x m、2 x CHCH2)、1.90−1.18(6
H、m、環CH2's)、1.25−1.14(3 H、m、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.12分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.60分，504(MH+)。
実施例51
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−(ピリド−2−イル)− 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−(ピリド−2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d6 DMSO): 9.40(1 H、dd、J 9,1 Hz、ピリジル C(6)H)、8.30(3 H、br s、ＮH 3+)、8.10−7.19(14 H、2 x NH & 12 x Ar)、5.97(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.18−4.08(2 H、m、ArCH 2NH2)、2.75−2.60(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.85−1.62(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.85分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.44分，497(MH+)。
実施例52
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−メタンスルホニル−4,5,6,7− テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Bを用いて合成)。
１H NMR(d6 DMSO): 10.97(1 H、s、H−結合NH)、9.52(1 H、d、J 6 Hz、NHCH)、8.31(3 H、br s、ＮH 3+)、8.10−7.99 & 7.67−7.35(2 H & 7 H、Ar)、5.99(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.15−4.02(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.21(3 H、s、CH 3)、2.72−2.59(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.80−1.67(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.25分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.17分，498(MH+)。
実施例53
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−メトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−メトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d6 DMSO): 9.58(1 H、d、J 6 Hz、NHCH)、8.42(3 H、br s、ＮH 3+)、8.20−8.10 & 7.。8 3−7.5 0(2 H & 8 H、NH & Ar)、6.13(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.29−4.18(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.81(3 H、s、CH 3)、2.85−2.61(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.91−1.78(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.71分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.49分，478(MH+)。
実施例54
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(d6 DMSO): 9.39(1 H、d、J 6 Hz、NHCH)、8.35(3 H、br s、ＮH 3+)、8.05−7.98 & 7.62−7.30(2 H & 8 H、NH & Ar)、5.83(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.10−3.97(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.81(3 H、s、CH 3)、3.00−2.51(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.82−1.70(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.01分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.10分，463(MH+)。
実施例55
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン 3−シアノ−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−シアノ−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(を用いて合成一般的手順B)。
１H NMR(d6 DMSO): 9.14(1 H、d、J 6 Hz、NHCH)、8.20(3 H、br s、ＮH 3+)、7.99−7.26(10 H、NH & Ar)、6.11(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.03−3.92(2 H、m、ArCH 2NH2)、2.75−2.68(2 H、m、CH 2CH2CH2CO)、2.05−1.92(4 H、m、CH2CH 2CH2)、CH 2COピークは観察されない、おそらく水のピーク2.40ppmの下にある。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.77分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.91分，459(MH+)。
実施例56
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アザ−6ベンジルオキシカルボニル−3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
6−アザ−6−ベンジルオキシカルボニル−3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミンを用いて合成(を用いて合成一般的手順B)。
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.50(1 H、br s、ＮH)、8.05−7.30(10 H、ＮH & 9 x Ar)、6.90(3 H、br s、ＮH 3+)、5.81(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、5.11(2 H、br s、CH 2Ph)、4.60−4.49(2 H、m、環CH 2N)、4.20−4.16(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.71−3.58(2 H、m、CH2CH 2N)、3.01 & 2.89(2 x 3 H、2 x s、2 x CH 3)、2.60−2.48(2 H、m、CH 2CH2N)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.13分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.25分，626(MH+)。
実施例56の経路の中間体から作成される3−(N−BOC− アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アザ−3ジメチルアミドカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ−(b)チオフェンを用い、標準的脱保護およびカップリング方法を用いて、実施例57−61を合成する。
実施例57
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アザ−3ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン 2アミド ビス(トリフルオロアセテート)塩
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)10.12(1 H、br s、ＮH)、8.60−7.25(15 H、6 x ＮH & 9 x Ar)、5.91−5.70(1 H、m、α−CH)、4.30−4.14(4 H、m、環CH ２N & ArCH 2NH2)、3.59−3.30(2 H、m、CH2CH 2N)、3.00−2.30(8 H、m、2 x
CH 3 & CH 2CH2N)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝2.59分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.47分，492(MH+)。
実施例58
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アセチル−6−アザ−3ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ−(b)チオフェン−2アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル、9.65−9.45(1 H、br s、ＮH)、7.85−6.73(13 H、4 x ＮH & 9 x Ar)、5.70−5.56(1 H、m、α−CH)、4.60−4.33(2 H、m、環CH 2N)、4.103.85(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.69−3.31(2 H、m、CH2CH 2N)、2.90−2.30(8 H、m、2 x CH 3 & CH 2CH2N)、1.95(3 H、s、CH3CO)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝2.59分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.47分，492(MH+)。
実施例59
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アミノアセチル−6−アザ3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.60−9.48(1 H、br s、ＮH)、7.80−6.81(16 H、7 x ＮH & 9 x Ar)、5.60−5.49(1 H、m、α−CH)、4.41 & 4.33(2 x 1H、ABq、J 12 Hz、環CH 2N)、3.95−3.83(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.71−3.25(4 H、m、NCH ２CO & CH2CH 2N)、2.68−2.25(8 H、m、2 x CH 3 & CH 2CH2N)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝2.69分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.25分，549(MH+)。
実施例60
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アザ−6−(3− メチルブタノイル)−3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ−(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)9.73−9.40(1 H、m、ＮH)、7.99−7.32(10 H、ＮH & 9 x Ar)、6.95(3
H、br s、ＮH 3+)、5.72(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.58 & 4.52(2 x 1H、Abq、J 12 Hz、環CH 2N)、4.13−4.01(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.82−3.59(2 H、m、CH2CH 2N)、2.91−2.40(9 H、m、2 x CH 3、CH 2CH2N & CHMe2)、0.89−0.80(6 H、m、CH(CH 3)3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.72分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.94分，576(MH+)。
実施例61
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−アザ−6メトキシアセチル−3−ジメチルアミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル):(ロトマーによって複雑になったスペクトル)10.50−10.18(1 H、br s、ＮH)、7.90−6.80(13 H、4 x ＮH & 9 x
Ar)、5.70−5.52(1 H、m、α−CH)、4.80−2.20(16 H、m、ArCH 2NH2、NCH 2CO & CH 2CH 2N、2 x CH 3 & CH 2CH2N)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.17分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.68分，564(MH+)。
実施例62
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−4−(アミノメチル)フェニルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド ビス(トリフルオロアセテート)塩
D/L−4−(N−BOC−アミノメチル)−α−(N− ベンジルオキシカルボニル)フェニルグリシンを用いる以外は、実施例1と同様にして、2−アミノ−3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造し、以下の通り合成する。
4−ブロモフェニル酢酸メチル
メタノール(250 mL)中の4−ブロモフェニル酢酸(50 g; 0.23 mol)の溶液に塩化チオニル(18 mL、0.25 mol)を滴下する。得られる混合物を室温にて１時間攪拌した後、メタノールを減圧除去する。酢酸エチル(300 mL)を加え、得られる溶液を水(3 x 150 mL)および1M 水性NaHCO3(1 x 150 mL)で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム）し、蒸発して、エステル(52.8 g; 100 %)をオレンジ色油状物で得、さらに精製することなく次工程に用いる。
１H NMR(CDCl3): 7.38 ppm(2 H、d、J = 8.4 Hz、C(2)HおよびC(6); 7.09(2 H、d、J = 8.4 Hz、C(3)HおよびC(5)H); 3.63(3 H、s、OMe); 3.51(2 H、s、CH2)。
4−シアノフェニル酢酸メチル
ジメチルホルムアミド(150 mL)中の4−ブロモフェニル酢酸メチル(20 g、0.088 mol)の溶液に、シアン化亜鉛(10.4 g、0.088 mol)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(5 g、4.4 mmol)を加える。得られる混合物を80℃にて5時間攪拌し、次いで、室温まで冷却する。トルエン(500 mL)および1 M 水性アンモニア(500 mL)を加え、層を分離し、有機層を食塩水(100 mL)で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム）する。溶媒を蒸発して、白色固体を得、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、ニトリル(11.3 g ; 73 %)を白色固体で得る。
１H NMR(CDCl3): 7.65 ppm(2 H、d、J = 8.4 Hz、C(3)HおよびC(5); 7.42(2 H、d、J = 8.1 Hz、C(2)HおよびC(6)H); 3.74(3H、s、OMe); 3.72(2H、s、CH2)。
4−シアノフェニル酢酸
エタノール(250 mL)中の4−シアノフェニル酢酸メチル(23.9 g ; 0.136 mol)の溶液を室温にて攪拌し、水酸化ナトリウム(6.0 g; 0.15 mol)の水溶液(25 mL) 水を加える。2時間後、エタノールを減圧除去する。酢酸エチル(300 mL)および5% 水性HCl(300 mL)を加え、層を分離する。水性層を酢酸エチル(300 mL)で抽出し、有機層を合わせて、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧蒸発して、酸(21.6 g ; 99 %)を得、さらに精製することなく次工程に用いる。
１H NMR(CDCl3): 7.57 ppm(2 H、d、J = 8.3 Hz、C(3)HおよびC(5); 7.34(2 H、d、J = 8.2 Hz、C(2)HおよびC(6)H); 3.64(2 H、s、CH2)。
4−(N−BOC−アミノメチル)フェニル酢酸
水(163 mL)および濃水性アンモニア(40 mL)中の4−シアノフェニル酢酸(12.11 g、0.075 mol)の溶液を室温にて攪拌し、ラニーニッケル(6.3 g)を加える。得られる懸濁液を水素雰囲気下で24時間攪拌した後、反応混合物をセライトで濾過し、減圧蒸発して、粗4−(アミノメチル)−フェニル酢酸(12.57 g; 100 %)を淡青色固体で得る。水(50 mL)および1,4−ジオキサン(50 mL)中の粗アミノ酸(12.57 g、0.075 mol)の溶液を室温にて攪拌し、水酸化ナトリウム(3 g、0.075 mol)およびジ−tブチルジカーボネート(16.4 g、0.075 mol)を同時に加える。24時間後、1,4−ジオキサンを減圧除去し、水性層を飽和水性クエン酸(200 mL)で酸性化する。溶液を酢酸エチル(3 x 150 mL)で抽出し、有機層を合わせて、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧蒸発して、N−BOC−アミン(17.6 g、88 %)を白色固体で得、さらに精製することなく次工程に用いる。
１H NMR(CDCl3): 7.00 ppm(4 H、m、Ar); 4.65(1 H、br s、i 4.09(2 H、d、J = 6 Hz、CH 2ＮH); 3.43(2H、s、CH2); 1.25(9H、s、tBu)。
4−(N−BOC−アミノメチル)フェニル酢酸メチル
メタノール(200 ml)中の4−(N−BOC− アミノメチル)フェニル酢酸(47.8 g、0.18 mol)の溶液に1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド・塩酸塩(34.8 g、0.18 mol)および4−(N、N−ジメチルアミノ)ピリジン(220 mg、1.8 mmol)を加える。18時間攪拌後、メタノールを減圧除去し、反応混合物を酢酸エチル(200 mL)および飽和水性クエン酸(200 mL)に分配する。有機相を分離し、飽和水性NaHCO3(200 mL)および食塩水(200 mL)で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム）し、蒸発して、メチルエステル(49.8 g; 99 %)を得る。
１H NMR(CDCl3): 7.42 ppm(4 H、s、Ar); 5.02(1 H、br s、N-H; 4.48(2 H、d、J = 5.7 Hz、CH 2ＮH); 3.87(3 H、s、OMe); 3.79(2 H、s、CH2); 1.64(9 H、s、tBu)。
4−(N−BOC−アミノメチル)−α−アジドフェニル酢酸メチル
THF(100 mL)中のメチル 4−(N−BOC−アミノメチル)フェニル酢酸(9.34 g ; 0.033 mol)の溶液をアルゴン下、−78℃にて攪拌し、THF(50 mL)中のカリウムビス(トリメチルシリル)アミド(16.7 g、0.084 mol)を加える。30分攪拌後、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルアジド(31.1 g、0.101 mol)を固体で加える。5分後、酢酸(10 mL、0.175 mol)を加え、反応物を室温まで温める。次いで、反応混合物を酢酸エチル(500 mL)および水(500 mL)に分配し、分離し、有機層を乾燥(硫酸マグネシウム）する。溶媒を蒸発し、シリカゲルクロマトグラフィーにより残渣を精製して、アジド(7.1 g、67 %)を得る。 １H NMR(CDCl3): 7.28 ppm(4 H、s、Ar); 4.92(1 H、s、CHN3); 4.25(2 H、s、CH 2ＮH); 3.69(3 H、s、OMe); 1.38(9 H、s、tBu)。
4−(N−BOC−アミノメチル)−α−アミノフェニル酢酸メチル
酢酸エチル(50 mL)中の4−(N−BOC−アミノメチル)−α−アジドフェニル酢酸メチル (7.1 g、0.022 mol)の溶液をパラジウム／炭素(5%)とともに攪拌する。反応容器を250 p.s.i.の水素にて17時間処理する。反応混合物をセライトで濾過し、減圧蒸発して、アミン(6.47 g、100 %)を淡色固体で得る
１H NMR(CDCl3): 7.20 ppm(2 H、m、Ar); 7.12(2 H、m、Ar); 4.81(1 H、br s、ＮH); 4.45(1 H、s、CH); 4.18(2 H、d、J = 6 Hz、CH 2ＮH); 3.54(3 H、s、OMe); 2.09(2 H、br s、NH2); 1.30(9 H、s、tBu)。
4−(N−BOC−アミノメチル)−α−(N−ベンジルオキシカルボニルアミノ)フェニル酢酸メチル
テトラヒドロフラン(15 mL)中のアミン(530 mg、1.8 mmol)の溶液をトリエチルアミン(0.25 mL、1.8 mmol)およびクロロギ酸ベンジル(0.26 mL、1.8 mmol)で処理し、室温にて1時間攪拌する。反応物を酢酸エチル(40 mL)で希釈し、食塩水(2 x 25 mL)で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮して、黄色油状物を得る。ベンジルオキシカルボニルエステルをフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン＝1：1)により精製して、黄色固体(312 mg、66 %)を得る。
１H NMR(CDCl3): 7.32−7.15 ppm(9 H、m、9 Ar); 5.80(1 H、br s、ＮH); 5.30(1 H、d、J = 9.6 Hz、CH); 5.01(2 H、s、CH2Ph); 4.22(2 H、d、J = 7.2 Hz、CH 2NHBoc); 3.63(3 H、s、OCH3); 1.39(9 H、s、tBu)。
D/L−4−(N−BOC−アミノメチル)−α−(N−ベンジルオキシカルボニル)− フェニルグリシン
テトラヒドロフラン(15 mL)中のエステル(356 mg、0.83 mmol)の溶液を1 M LiOH(1.7 mL、1.7 mmol)で処理し、3時間加熱還流する。溶媒を減圧除去し、残渣を水(20 mL)で希釈する。5 % 水性HClを用いてpHを4まで下げ、水相を酢酸エチル(3 x 20 mL)で抽出する。有機抽出物を合わせ、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮して、酸(273 mg、79 %)を黄色固体で得、さらに精製することなく次に用いる。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−4−(アミノメチル)フェニルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド ビス(トリフルオロアセテート)塩
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.50、8.01、7.75−6.88(1 H、1 H、14 H、d、J 6 Hz、s、m、Ar & NH's)、5.81(1 H、d、J 8 Hz、α−CH)、4.15−3.95(6 H、m、CH 2CH3 & 2 x ArCH 2NH2)、2.65−2.45(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.72−1.60(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)、0.84(3 H、t、J 7 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.382分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.17分，521(MH+)。
2−アミノベンゾチアゾールの代りに指示されたアミンを用いる以外は実施例16と同様にして、実施例63−70を製造する。
実施例63
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−ニトロベンゾチアゾール2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−6−ニトロベンゾチアゾールから製造する。
１H NMR(d4 メタノール): 8.62(1 H、s、Ar); 8.09(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.94−7.81(2 H、m、Ar); 7.67−7.23(8 H、m、Ar); 5.88(1 H、s、CH); 4.10(2 H、s、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.76分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.91分，462(MH)+。
実施例64
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−エトキシカルボニル− ベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−6−エトキシカルボニルベンゾチアゾールから製造する。
１H NMR(d4 メタノール): 8.57(1 H、s、Ar); 8.09(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.97(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.70−7.35(7 H、m、Ar); 5.92(1 H、s、CH); 4.38(2 H、q、J = 7 Hz、CH 2CH3); 4.18(2 H、s、CH 2NH2); 1.41(3 H、t、J = 7 Hz、CH 2CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.88分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.07分，489(MH)+。
実施例65
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,7−ジメトキシベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−4,7−ジメトキシベンゾチアゾールから製造(以下の通り合成)。
2−アミノ−4,7−ジメトキシベンゾチアゾール
チオシアン酸ナトリウム(830 mg、10.2 mmol)および2,5−ジメトキシアニリン(1.56 g、10.2 mmol)をアルゴン下、5℃にて、メタノール(10 mL)中で一緒に攪拌する。臭素(262 μL、5.1 mmol)を滴下し、溶液を２時間攪拌する。反応物を酢酸エチル(100 mL)および水(100 mL)に分配する。有機相を食塩水(100 mL)、で洗浄し、乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮する。溶離液としてアセトン/ヘキサン＝1/3を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより、アミノベンゾチアゾールを精製して、無色固体(668 mg、31%)を得る。
１H NMR(CDCl3): 6.90(1 H、s、Ar); 6.34(1 H、s、Ar); 4.20(2 H、br s、NH2): 3.84(6 H、s、2 x OCH3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4,7ジメトキシベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 8.16(1 H、s、Ar); 7.72−7.62(2 H、m、Ar); 7.60−7.36(9 H、m、Ar); 5.93(1 H、s、CH); 3.97(2 H、s、CH 2NH2); 3.90(3 H、s、OCH3); 3.83(3 H、s、OCH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.23分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.22分，477(MH)+。
実施例66
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4−メトキシ−7メチルベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−4−メトキシ−7−メチルベンゾチアゾールから製造；実施例65に記載の2−アミノ−4,7−ジメトキシベンゾチアゾールに対する方法と同様の方法で合成する。
2−アミノ−4−メトキシ−7−メチルベンゾチアゾール
１H NMR(CDCl3): 6.96(1 H、s、Ar); 6.59(1 H、s、Ar); 4.12(2 H、br s、NH2); 3.83(3 H、s、OCH3); 2.40(3 H、s、CH3)。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.10分，194(MH)+。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 4−メトキシ−7メチルベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 8.08(1 H、s、Ar); 7.92−7.82(2 H、m、Ar); 7.61−7.45(5 H、m、Ar); 7.35−7.23(3 H、m、Ar); 7.10(1 H、s、Ar); 5.93(1 H、s、CH); 4.09(2 H、s、CH 2NH2); 3.70(3 H、s、OCH3); 2.30(3 H、s、CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.88分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.22分，461(MH)+。
実施例67
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールから製造(以下の通り製造)。
2−クロロ−4−メチルシクロヘキサノン
ジクロロメタン(80 mL)中の4−メチルシクロヘキサノン(897 mg、8 mmol)、Mn(acac)3(28 mg、0.08 mmol)および湿潤アルミナ(4 g)の攪拌混合物に、アルゴン下、微細な微紛状にした塩化ナトリウム(1.8 g、16 mmol)を加え、混合物を16時間激しく攪拌する。混合物をセライトで濾過し、残渣を減圧濃縮する。溶離液として酢酸エチル/ヘキサン(1: 9 )を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、クロロシクロヘキサノン(230 mg、20 %)を無色液体で得る。
１H NMR(CDCl3): 4.15(1 H、m、CHCl); 2.97−2.85(1 H、m、chex); 2.36−2.10(3 H、m、chex); 2.00−1.87(1 H、m、chex); 1.85−1.73(1 H、m、chex); 1.45−1.28(1 H、m、chex); 0.97(3 H、d、J = 7 Hz、CHCH 3)。
2−アミノ−6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール
THF(10 mL)中の 2−クロロ−4−メチルシクロヘキサノン(230 mg、1.42 mmol)およびチオウレア(119 mg、1.56 mmol)を16時間加熱還流する。混合物を減圧濃縮し、溶離液としてメタノール/ジクロロメタン(1: 9)を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製して、アミン(87 mg、36 %)を黄色油状物で得る。
１H NMR(CDCl3): 4.60(2 H、br s、NH2); 2.44−2.20(3 H、m、chex); 2.03−1.87(1 H、m、chex); 1.76−1.53(2 H、m、chex); 1.31−1.16(1 H、m、chex); 0.86(3 H、d、J = 7 Hz、CHCH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 8.06−7.93(2 H、m、Ar); 7.67−7.63(1 H、d、J = 7.2 Hz、Ar); 7.60−7.51(3 H、m、Ar); 7.49−7.33(3 H、m、Ar); 5.90(1H、s、CH); 4.22(2 H、s、CH 2NH2); 3.89−2.51(3 H、m、chex); 2.40−2.22(1 H、m、chex); 2.09−1.88(2 H、m、chex); 1.61−1.40(1 H、m、chex); 1.11(3 H、d、J = 7 Hz、CHCH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.12分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.14分，435(MH)+。
実施例68
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5−エチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−5−エチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールから製造(実施例67に記載の2−アミノ−6−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールに対する方法と同様の方法で製造)。
6−クロロ−3−エチルシクロヘキサノン
１H NMR(CDCl3): 4.32−4.24(1 H、m、CHCl); 3.12−2.94(1 H、m、chex); 2.46−2.29(2 H、m、chex); 2.22−2.06(2 H、m、chex); 1.96−1.83(1 H、m、chex); 1.56−1.30(3 H、m、chex、CH 2CH3); 1.03(3 H、m、J = 7 Hz、CH2CH 3)。
2−アミノ−5−エチル−4,5,6、7−テトラヒドロベンゾチアゾール
１H NMR(CDCl3): 5.01(2 H、br s、NH2); 2.64−2.36(2 H、m、chex); 2.19−2.03(1 H、m、chex); 1.93−1.75(2 H、m、chex); 1.69−1.55(1 H、m、chex); 1.46−1.26(3 H、m、chex、CH 2CH3); 0.90(3 H、m、J = 7 Hz、CH2CH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5−エチル−4,5,6,7− テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 7.89 − 7.79(2 H、m、Ar); 7.55(1 H、d、= 7.2 Hz、Ar); 7.50−7.41(3 H、m、Ar); 7.38−7.23(3 H、m、Ar); 5.87(1 H、s、CH); 4.09(2H、s、CH 2NH2); 2.80−2.40(3 H、m、chex); 2.29−2.12(1 H、m、chex); 1.97−1.85(1 H、m、chex); 1.70−1.53(1 H、m、chex); 1.47−1.30(3 H、m、chex、CH 2CH3); 0.89(3 H、t、J = 7 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配):保持時間＝4.5分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.32分，449(MH)+。
実施例69
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−5−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールから製造(実施例67に記載の2−アミノ−6−メチル 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールに対する方法と同様の方法で製造)。
6−クロロ−3−メチルシクロヘキサノン。
１H NMR(CDCl3): 4.13(1 H、m、CHCl); 2.60−2.49(1 H、m、chex); 2.28−1.99(3 H、m、chex); 1.97−1.80(1 H、m、chex); 1.75−1.50(2 H、m、chex); 1.03−0.91(3 H、m、CHCH 3)。
2−アミノ−5−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール
１H NMR(CDCl3): 4.71(2 H、br s、NH2); 2.62−2.49(2 H、m、chex); 2.15−1.76(4 H、m、chex); 1.50−1.31(1 H、m、chex); 1.01(3 H、d、J = 7 Hz、CHCH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン 5−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 8.00−7.88(2 H、m、Ar); 7.73−7.36(7 H、m、Ar); 5.90(1 H、s、CH); 4.20(2 H、s、CH 2NH2); 2.962.61(3 H、m、chex); 2.31−2.16(1 H、m、chex); 2.07−1.84(2 H、m、chex); 1.60−1.04(5 H、m、chex、CHCH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.20分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.10分，435(MH)+。
実施例70
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 7−エチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−7−エチリデニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾールから製造(以下の通り製造);触媒的水素添加を用いて、エチリデン残渣を合成中の適当な時点で還元する。
2−アミノ−7−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール
ベンゼン(100 mL)中の1,3シクロヘキサンジオン(2.24 g、20 mmol)、N−ブロモスクシンイミド(3.56 g、20 mmol)およびチオウレア(1.52 g、20 mmol)の混合物に、痕跡量の過酸化ベンゾイルを加え、混合物を３時間加熱還流する。溶液を冷却し、減圧濃縮し、飽和NaHCO3溶液(100 mL)に再溶解する。水溶液を酢酸エチル(3 x 100 mL)で抽出し、有機抽出物を合わせ、減圧濃縮する。溶離液としてメタノール/ジクロロメタン(1: 9)を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製して、ケトン(747 mg、22 %)を黄色粉末で得る。
１H NMR(d6 DMSO): 8.25(2 H、s、NH2); 2.88−2.80(2 H、m、COCH2); 2.58−2.49(2 H、m、NCCH2); 2.20−2.08(2 m、CH2CH 2CH2)。
2−アミノ−7−エチリデニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール
臭化エチルマグネシウム(3 MのTHF溶液、0.8 mL、2.4 mmol)の溶液をTHF(10 mL)中のケトン(83 mg、0.54 mmol)の溶液にアルゴン下、室温にて滴下し、溶液を１時間攪拌する。NH4Cl水溶液(1 mL)を加え、懸濁液を減圧濃縮する。溶離液としてメタノール/ジクロロメタン(1: 9)を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製して、アミン(56 mg、63 %)を黄色固体で得る。
１H NMR(CDCl3): 5.19(1 H、q、J = 6.9 Hz、CHCH3); 4.97(2 H、br s、NH2); 2.61−2.52(2 H、m、CH=CCH 2); 2.39−2.30(2 H、m、NCCH2); 1.84 − 1.73(2 H、m、CH2CH 2CH2)；1.65(3 H、d、J = 6.9 Hz、CHCH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 7−エチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d4 メタノール): 7.92−7.84(2 H、m、Ar); 7.60−7.28(7
H、m、Ar); 5.77(1 H、s、CH); 4.11(2 H、s、CH 2NH2); 2.742.60(1 H、m、chex); 2.58−2.40(2 H、m、chex); 2.03−1.86(2 H、m、chex); 1.76−1.57(2 H、m、chex); 1.53−1.36(2 H、m、CH 2CH3); 0.92(3 H、t、J = 7 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.25分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.22分，448(MH)+。
実施例71
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
保護フェニルグリシンの代りに保護アミノ酸であるN−tブトキシカルボニル−D/L−2−クロロフェニルグリシンを用いる以外は、実施例6と同様にして製造する(以下の通り製造)。
N−tブチルオキシカルボニル−D/L−2−クロロフェニルグリシン
2,4−ジメトキシベンジルアミン(3.00 mL、3.34 g、20 mmol)および2−クロロベンズアルデヒド(2.25 mL、2.81 g、20 mmol)をDCM(20 mL)に溶解する。反応物を周囲温度で2時間攪拌する。次いで、反応物をDCM(20 mL)で希釈し、有機抽出物を乾燥(硫酸マグネシウム）し、.溶液を減圧濃縮し、得られる混合物をDCM(20 mL)に溶解する。酢酸(1.15 mL、1.20 g、20 mmol)およびtブチルイソニオリル(2.26 mL、1.66 g、20 mmol)を加え、反応物を周囲温度で48時間攪拌する。トリフルオロ酢酸(30 mL)およびテトラエチルシラン(5 mL)を加え、反応物を周囲温度でさらに24時間攪拌する。溶液を減圧濃縮し、粗反応混合物を塩酸(50 mL、6N)に溶解し、24時間加熱還流する。冷却後、反応混合物を酢酸エチル(3 x 25 mL)で洗浄する。水性層を減圧濃縮して、粗アミノ酸を得る。アミノ酸をNaHCO3(sat。aq.、50 mL)に溶解し、酢酸エチル(2 x 50 mL)で洗浄する。ジオキサン(10 mL)中のジ−tブチルジカーボネート(8.73 g、40 mmol)の溶液を加え、得られる溶液を周囲温度で12時間攪拌する。反応混合物をジエチルエーテルで100 mLに希釈し、層を分離する。水性層をHCl(6 N)でpH 1 に酸性化し、酢酸エチル(3 x 75 mL)で抽出する。有機層を蒸発して、保護アミノ酸をオフホワイト固体で得、さらに精製することなく次工程に用いる。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d6 DMSO): 9.80(1H、d、J 7 Hz、ＮH)、8.45(2H、br s、NH 2)、8.20(2H、d、J 7 Hz、Ar)、7.90(1H、d、J 6 Hz、Ar)、7.70(4H、m、Ar、ＮH)、7.50(2H、m、Ar)、6.45(1H、d、J 6 Hz、NHCH)、4.25(4H、m、CH 2CH3、CH 2NH2)、2.90(2H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル CH 2)、2.80(2H、br s、ベンゾ [b] チオフェニルCH 2)、1.90(4H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル、2x CH 2)、1.35(3H、t、J 8 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.18 分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.64分，526(MH)+。
実施例72
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3−シアノ4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
保護フェニルグリシンの代りに、保護アミノ酸であるN−tブトキシカルボニル−D/L−2クロロフェニルグリシン(実施例71に記載)を用いる以外は、実施例38と同様の方法で製造する。
１H NMR(d6 DMSO): 9.05(1H、d、J 7 Hz、ＮH)、8.15(2H、br s、NH 2)、7.90(1H、s、Ar)、7.80(1H、d、J 7 Hz、Ar)、7.50(1H、m、Ar)、7.40(2H、m、Ar)、7.30(2H、m、Ar)、7.05(1H、m、Ar)、6.15(1H、d、J 6 Hz、CHＮH)、4.00(2H、d、J 6 Hz、CH 2NH2)、2.50(2H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル CH 2)、2.40(2H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル CH 2)、1.60(4H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル、2x CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.48 分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.33分，479(MH)+。
実施例73
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド 塩酸塩
3−(BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−N−(2、4−ジメトキシベンジル)−2クロロフェニルグリシン 2−(メトキシカルボニルオキシ)−1、1−ジメチルエチルアミド
ジクロロメタン(5 mL)中の2−クロロベンズアルデヒド(1.12 g、8 mmol)および2,4ジメトキシベンジルアミン(1.2 mL、8 mmol)の混合物を室温にて1時間攪拌する。溶液を乾燥(硫酸ナトリウム）し、濾過し、次いで、減圧蒸発する。得られる油状物をメタノール(30 mL)および3−(N−Boc−アミノメチル)安息香酸(2.0 g、8 mmol)に溶解し、次いで、(2−イソシアノ−2−メチル)プロピル メチルカーボネート(Tetrahedron、55(1999)7411−7420)(1.26 g、8 mmol)を加える。次いで、反応混合物を攪拌し,60℃にて3日間加熱する。反応混合物をシリカに吸着させ、酢酸エチル/ヘキサンで溶離するフラッシュクロマトグラフィーにより精製する。所望の画分を集め、減圧蒸発して、泡状物(3.3 g)を得る。
１H NMR(CDCl3): 7.62(1 H、bs、ＮH); 7.44(2 H、m、Ar); 7.30(3 H、m、Ar); 7.15(3 H、m、Ar); 6.63(1 H、br s、NHCMe2); 6.35(1 H、d、J = 10 Hz、Ar); 6.21(1 H、s、Ar); 5.45(1 H、s、CH 2ClPh); 5.03(1 H、m、NHBoc); 4.65(1 H、d、J = 13 Hz、CH 2DMP); 4.53(1 H、d、J = 13 Hz、CH 2DMP); 4.3−4.15(4 H、m、NHCH 2 & CH 2O); 3.76(3 H、s、OMe); 3.74(3 H、s、OMe); 3.62(3 H、s、OMe); 1.43(9 H、s、Boc); 1.25(6 H、s、CH2Me2)。
3−(BOC−アミノメチル)ベンゾイル−D/L−N−(2、4−ジメトキシベンジル)−2−クロロフェニルグリシン
無水THF(40 mL)中の炭酸メチル(3.3 g、4.7mmol)の攪拌溶液に、カリウム tert−ブトキシド(9.5 mL、1.0 M THF、9.4 mmol)を加える。次いで、反応混合物を室温にて2時間攪拌する。次いで、混合物をHCl(濃塩酸水溶液)で酸性化する。得られる固体を濾去し、黄色溶液を減圧蒸発して、オレンジ色油状物を得る。これを酢酸エチル/ヘキサンで溶離するフラッシュクロマトグラフィーにより精製する。所望の画分を集め、蒸発して、メチルエステル(1.8 g、3.1 mmol)を白色泡状物で得る。
THF(15 mL)中のエステル(1.8 g、3.1 mmol)の溶液を攪拌し、エタノール(15 mL)および水(5 mL)を加え、次いで、LiOHを加える。H2O(26 mg、6.2 mmol)。溶液を60℃にて16時間加熱する。反応混合物を濃縮してTHFおよびエタノールを除去する。残渣を水(70 mL)および酢酸エチル(40 mL)に分配する。水溶液をHCl(1 M)で酸性化し、次いで、酢酸エチル(100 mL)で抽出する。乾燥(硫酸マグネシウム）した抽出物を濾過し、蒸発して、酸(1.29 g)を白色泡状物で得る。
１H NMR(CDCl3): 7.58(1 H、m、Ar); 7.44(2 H、m、Ar); 7.3(3 H、m、Ar); 7.15(3 H、m、Ar); 6.35(1 H、d、J = 10 Hz、Ar); 6.21(1 H、s、Ar); 5.66(1 H、s、CH 2ClPh); 5.18(1 H、m、NHBoc); 4.59(1 H、d、J = 13 Hz、CH 2DMP); 4.45(1 H、d、J = 13 Hz、CH 2DMP); 4.28(2 H、d、J = 5 Hz、NHCH2); 3.72(3H、s、; 3.58(3H、s、OMe); 1.44(9H、s、Boc)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド 塩酸塩
ジメチルホルムアミド(20 mL)中の上記酸(250 mg、0.44 mmol)、1− [3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド・塩酸塩(101 mg、0.53 mmol)および1−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾール(72 mg、0.53 mmol)の溶液を室温にて攪拌し、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b]−チアゾール−2−アミン(実施例23に記載の通り合成)を加え、混合物を一夜攪拌する。ジメチルホルムアミドを減圧除去し、残渣を水(20 mL)および酢酸エチル(30 mL)に分配する。次いで、酢酸エチル層をHCl(1 M、20 mL)およびNaHCO3(sat。aq.、20 mL)で洗浄する。乾燥(硫酸マグネシウム）した酢酸エチル層をシリカに吸着させ、酢酸エチル/ヘキサンで溶離するフラッシュクロマトグラフィーにより精製する。所望の画分を集め、蒸発して、アミド(127 mg)を黄色油状物で得る。
油状物(127 mg、0.18 mmol)をジクロロメタンに溶解し、トリエチルシラン(0.06 mL)、次いで、トリフルオロ酢酸(5 mL)を加える。１時間後、溶媒を減圧除去しジクロロメタン中の5% 2 N NH3/MeOHで溶離するSCXイオン交換カラムにて、残渣を精製する。得られる油状物をエーテル性HClで処理し、HCl塩として単離する。
１H NMR(MeOH): 7.88(2 H、m、Ar); 7.58(1 H、d、J = 9 Hz、Ar); 7.45(2 H、m、Ar); 7.32(3 H、m、Ar); 6.22(1 H、s、NHCHAr); 4.1(2 H、s、CH 2NH2); 2.62(2 H、br s、テトラヒドロベンゾチアゾール C(7)H2); 2.52(2 H、br s、テトラヒドロベンゾチアゾール C(4)H2); 1.77(4 H、br s、テトラヒドロベンゾチアゾール C(5)H2およびC(6)H2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.95分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.22分，455(MH)+。
実施例74
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6、7−テトラヒドロベンゾ[b]チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
保護フェニルグリシンの代りに、保護アミノ酸であるN−tブトキシカルボニル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン(以下の通り製造)を用いる以外は、実施例6と同様の方法で製造する。
N−t−ブトキシカルボニル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン
無水ベンゼン(15 mL)中のγ−クロロ−α−オキシミノアセトエチル酢酸(2.00 g、10.3 mmol)およびチオプロピオンアミド(0.92g、10.3 mmol)の溶液を加熱還流する。4時間後、反応混合物にNaHCO3(飽和水溶液、50 mL)を加える。得られる混合物を酢酸エチル(2 x 50 mL)で抽出し、抽出物を合わせて乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧蒸発する。次いで、フラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝1：4)に付して、不純なα−オキシミノ−2−エチルチアゾール−4−酢酸エチル(0.83g)を得る。次いで、粗オキシムをメタノール(25 mL)に溶解し、ギ酸(50% aq.、10 mL)を加える。混合物を０℃に冷却し、亜鉛末(1.00 g、15.3 mmol)を30分間にわたって分割して加える。反応混合物を室温まで温め、6時間攪拌する。次いで、溶液を濾過し、固体NaHCO3でpH 9まで塩基性化し、酢酸エチル(3 x 80 mL)で抽出する。次いで、抽出物を合わせ、蒸発して、D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン エチルエステル(0.56 g、2.6 mmol)を得る。
エステル(560 mg、2.6 mmol)をテトラヒドロフラン(50 mL)に溶解する。トリエチルアミン(0.4 mL、3.9 mmol)を加え、次いで、ジ−t−ブチルジカーボネート(0.57 g、2.6 mmol)を加える。室温にて一夜攪拌後、混合物を濃縮し、水(20 mL)を加え、溶液を酢酸エチル(2 x 20 mL)で抽出する。抽出物を合わせ、蒸発して、N−t−ブトキシカルボニル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン エチルエステル(824 mg)を金色油状物で得る。油状物をメタノール(25 mL)に溶解し、水酸化ナトリウム(2 M aq.、5 mL)を加える。室温にて2時間攪拌した後、溶液を濃縮し、水(30 mL)を加え、溶液を酢酸エチル(30 mL)で抽出する。次いで、水性層を2N HClでpH 4まで酸性化し、酢酸エチル(2 x 20 mL)で抽出する。後者の抽出物を合わせ、蒸発して、N−t−ブトキシカルボニル−D/L−2− エチルチアゾール−4−イルグリシン(450 mg)を白色固体で得る。
１H NMR(CDCl3): 10.1(1 H、br s、CO2 H)、7.20(1 H、s、チアゾールCH)、5.85(1 H、br d、J = 6 Hz、NHBoc)、5.52(1 H、br d、J = 6 Hz、α−CH)、3.05(2 H、q、J = 5 Hz、CH 2CH3)、1.49(9 H、s、C(CH 3)3)、1.42(3 H、t、J = 5 Hz、CH2CH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.05(1H、s、Ar)、7.90(1H、d、J 7 Hz、Ar)、7.60(1H、d、J 7 Hz、Ar)、7.45(1H、m、Ar)、7.35(1H、s、Ar)、6.00(1H、m、CHＮH)、4.20(2H、q、CH 2CH3)、4.10(2H、s、CH 2NH2)、2.95(2H、q、CH 2CH3)、2.70(2H、s、ベンゾ [b] チオフェニル CH 2)、2.50(2H、s、ベンゾ [b] チオフェニル CH 2)、1.80(4H、s、ベンゾ [b] チオフェニル、2x CH 2)、1.30(3H、t、CH 3)、1.15(3H、t、CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.17 分。
LC/MS(Luna 2 勾配4):保持時間＝2.69分，527(MH)+。
実施例75
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3−シアノ4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
保護フェニルグリシンの代りに、保護アミノ酸であるN−tブトキシカルボニル−D/L−2− エチルチアゾール−4−イルグリシン(実施例74に記載)を用いる以外は、実施例38の記載と同様の方法で製造する。
１H NMR(CDCl3): 8.30(3H、m、Ar)、7.85(1H、s、Ar)7.65(1H、d、J 6 Hz、Ar)、6.15(1H、d、J 6 Hz、NHCH)、3.90(2H、s、NH2CH 2)、2.95(2H、q、CH 2CH3)、2.35(4H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル、2x CH 2)、1.65(4H、br s、ベンゾ [b] チオフェニル、2x CH 2)、1.25(3H、t、CH 3CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.46 分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.28分，480(MH)+。
実施例76
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−メチルチアゾール−4−イルグリシン ベンズチアゾール−2−アミド
保護フェニルグリシンの代りに、保護アミノ酸であるN−tブトキシカルボニル−D/L−2−メチルチアゾール−4−イルグリシン(チオプロピオンアミドの代りに、チオアセタミドを用いる以外は、実施例74におけるN−tブトキシカルボニル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシンに対する記載と同様の方法で製造)を用いる以外は、実施例16の記載と同様にして製造する。
１H NMR(d4 MeOH): 7.84(2H、m、Ar); 7.7(1 H、d、J = 9 Hz、Ar); 7.58(1 H、d、J = 9 Hz、Ar); 7.52−7.38(2 H、m、Ar); 7.35(1 H、s、Ar); 7.26(1 H、t、J = 6 Hz、Ar); 7.14(1 H、t、J = 6 Hz、Ar); 5.95(1 H、s、CH−チアゾール); 4.03(2 H、s、CH 2NH2); 2.57(3 H、s、CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.56分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.68分，438(M+)。
指示されたアミンを用いて、実施例38の方法に従って、実施例77−79を合成。
実施例77
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−ピリド−4−イルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
2−アミノ−3−ピリド−4−イル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(CD3CN): 8.96(1 H、br s、ＮH)、8.25(2 H、d、J 8 Hz、ピリジル C1 H & C6 H)、7.95−7.28(12 H、ＮH & 11 x Ar)、5.52(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.19−4.09(2 H、m、ArCH 2NH2)、2.75−2.65、2.40−2.28,1.84−1.73 & 1.72−1.59(4 x 2 H、4 x m、CH 2CH 2CH 2CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.42分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.93分，497(MH+)。
実施例78
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−tert−ブチルスルホニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
2−アミノ−3−tert−ブチルスルホニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(CD3CN):(ロトマーにより広がったピーク)10.75(1 H、s、H結合ＮH)、8.25−7.24(11 H、m、Ar & 2 x ＮH)、5.74−5.66(1 H、m、α−CH)、4.16−4.04(2 H、m、ArCH 2NH2)、2.56−2.38(4H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.91(9 H、s、C(CH 3)3)、1.80−1.66(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.63分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.98分，540(MH+)。
実施例79
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 3−フェニルスルホニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
2−アミノ−3−フェニルスルホニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェンから製造(一般的手順Aを用いて合成)。
１H NMR(D6 DMSO): 9.49(1 H、d、J 8 Hz、ＮH)、8.18(3 H、br s、ＮH 3+)、8.10−7.32(16 H、m、Ar & 2 x ＮH)、6.08(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.12−4.00(2 H、m、ArCH 2NH2)、1.70−1.64(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。CH 2CH2CH2CH 2のピークは、2.5 ppm付近のDMSOピークによって覆い隠される。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.80分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.06分，560(MH+)。
実施例80
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン− テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
以下の通り合成される2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロチアナフテンおよび実施例1の方法から製造する。
2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロチアナフテン
エチレングリコール(4 mL)中の4−ケト−4,5,6,7−テトラヒドロチアナフテン(910 mg、5.98 mmol)、水素化ヒドラジン(619 mg、12.4 mmol)およびKOH(730 mg、13.0 mmol)の溶液を１７０℃に加熱する。6時間後、溶液を冷却し、EtOAc(100 mL)を加える。混合物をHCl(1N、aq.、2 x 50 mL)で抽出し、減圧濃縮して、粗4,5,6,7−テトラヒドロチアナフタレン(670 mg)を茶色油状物で得る。油状物の一部(423 mg)を酢酸無水物(1 mL)に溶解し、０℃に冷却し、発煙硝酸(250 mg、3.75 mmol)を酢酸溶液(2 mL)として滴下する。反応混合物を室温まで温め、2時間攪拌し、次いで、氷(50 g)を加える。氷が溶けた後、EtOAc(50 mL)を加え、溶液をNaHCO3(飽和水溶液、50 mL)およびHCl(lN、水溶液、50 mL)で抽出する。混合物を減圧濃縮し、フラッシュクロマトグラフィー(SiO2、アセトン：ヘキサン＝1：10)により精製して、0.80におけるスポットを集め、2−ニトロ−4,5,6,7−テトラヒドロチアナフテン(48 mg)を黄色油状物で得る。次いで、油状物をMeOH(2 mL)に溶解し、10% Pd/C(10 mg)を加え、反応混合物を水素雰囲気下、18時間攪拌する。次いで、混合物をセライトで濾過して、2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロチアナフテン(31 mg)を黄色油状物で得、さらに精製することなく次の合成に用いる。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.58(1 H、s、ＮH)、7.92−7.26(10 H、Ar CH's & ＮH)、7.12(3 H、br s、ＮH3+)、6.24(1 H、s、チオフェン CH)、5.62(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.09(2 H、br s、CH 2N)、2.52& 2.39(2 x 2H、2 x t、2 x J 6 Hz、CH 2CH2CH2CH 2)、1.74−1.56(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.29分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.31分，420(MH+)。
指示されたアミンおよび保護アミノ酸であるN−t−ブトキシカルボニル−2−トリフルオロメチル−D/L−フェニルグリシンを用い、実施例1の方法に従って、実施例81−82を合成する。該アミノ酸は、2−クロロベンズアルデヒドの代りに、2−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて、実施例71に記載の通り製造する。
実施例81
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−(2−トリフルオロメチル)−フェニルグリシン ベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノベンゾチアゾールを用いて製造する。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 7.96−7.30(12 H、Ar)、6.52(3 H、br s、ＮH3+)、6.10(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.04 & 3.97(2 x 1 H、Abq、J 6 Hz、CH 2N)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.19分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.60分，485(MH+)。
実施例82
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−(2−トリフルオロメチル)−フェニルグリシン テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノテトラヒドロベンゾチアゾールを用いて製造
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.00−7.28(12 H、Ar)、6.78(3 H、br s、ＮH3+)、6.12(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.11−4.00(2 H、m、CH 2N)、2.63−2.50(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.80−1.69(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.16分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.58分，489(MH+)。
指示されたアミンおよび保護アミノ酸であるN−t−ブトキシカルボニル−2−トリフルオロメチル−D/L−フェニルグリシンを用い、実施例38の方法に従って、実施例83−85を合成する。該アミノ酸は、2−クロロベンズアルデヒドの代りに、2−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて、実施例71に記載の通り製造する。
実施例83
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−(2−トリフルオロメチル)フェニル−グリシン 3−メトキシカルボニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−メトキシカルボニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミドを用いて製造(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.70(1 H、d、J 8 Hz、ＮH)、8.22(3 H、br s、ＮH3+)、8.09−7.54(9 H、Ar CH's & ＮH)、6.22(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.20−4.09'(2 H、m、CH 2N)、3.74(3 H、s、CO2CH 3)、2.80−2.59(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.82−1.69(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.03分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.15分，546(MH+)。
実施例84
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−(2−トリフルオロメチル)フェニル−グリシン 3−メタンスルホニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−メタンスルホニルテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミドを用いて製造(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 8.09−7.67(10 H、Ar CH's & 2 x ＮH)、6.99(3 H、br s、ＮH3+)、6.27(1 H、d、J 7 Hz、α−CH)、4.37−4.24(2 H、m、CH 2N)、3.15(3 H、s、SO2CH 3)、2.86−2.64(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.97−1.84(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.51分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.09分，566(MH+)。
実施例85
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−(2−トリフルオロメチル)フェニル−グリシン 3−シアノテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
2−アミノ−3−シアノ テトラヒドロベンゾ(b)−チオフェン−2アミドを用いて製造(一般的手順Aに従って製造)。
１H NMR(d3 アセトニトリル): 9.61(1 H、s、ＮH)、7.91−7.24(10 H、Ar CH's & ＮH)、6.80(3 H、br s、ＮH3+)、6.04(1 H、d、J 7 Hz,α−CH)、4.05−3.94(2 H、m、CH 2N)、2.45−2.24(4 H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.66−1.53(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.64分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.32分，513(MH+)。
実施例86
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−メチルチアゾール−4−イルグリシン 3メタンスルホニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
実施例38の方法を用い、2−アミノ−3−メタンスルホニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン(一般的手順Aに従って製造)および保護アミノ酸であるN−t−ブトキシカルボニル−2−メチル−チアゾール−4−イルグリシンを用いて製造する。アミノ酸は、実施例76に記載の手順を用いて製造する。
１H NMR(CD3CN): 8.23−7.30(9 H、m、5 x Ar、NH、ＮH 3+)、6.00(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.16(2 H、br s、ArCH 2NH2)、3.02(3 H、s、SO2CH 3)、2.70−2.57(7H、m、チアゾリルCH 3 & CH 2CH2CH2CH 2)、1.851.74(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.89分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.71分，519(MH+)。
実施例87
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3メタンスルホニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド
実施例38の方法を用い、2−アミノ−3−メタンスルホニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン(一般的手順Aに従って製造)および保護アミノ酸であるN−t−ブトキシカルボニル−2−エチル−チアゾール−4−イルグリシンを用いて製造する。アミノ酸は、実施例74に記載の手順を用いて製造する。
１H NMR(CD3CN): 8.45(1 H、br s、ＮH)、8.12−7.95 & 7.70−7.54(2 H & 3 H、2 x m、Ar CH's)、6.18−6.11(1 H、m、α−CH)、4.28−4.19(2 H、m、ArCH 2NH2)、3.15(2 H、q、CH 2CH3)、3.10(3 H、s、SO2Me)、2.78−2.66(4H、m、CH 2CH2CH2CH 2)、1.90−1.79(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)1.40(3 H、t、J 7 Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.24分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.86分，533(MH+)。
実施例88
3−(アミノメチル)ベンゾイル−(D/L)−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チアゾール−2−アミド トリフルオロアセテート
2−クロロベンズアルデヒドの代りに、2−クロロニコチンアルデヒドを用い、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(d6 DMSO)12.30(1H、s、CONH−チアズ)、9.15(1H、d、J=7Hz、ArCOＮH)、8.25(1H、dd、J=5 & 2Hz、PyH)、8.00(3H、br。s、NH3、7.94(1H、s、ArH)、7.78(1H、d、J=7Hz、ArH)、7.52(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.46(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.38(1H、d、J=8.5Hz、ArH)、7.32(1H、m、PyH)、5.92(1H、d、J=7Hz、a−H)、3.92(2H、m、ArCH 2NH3)、2.55(1H、m、ArCH 2 CH 2 )、2.46(2H、m、ArCH 2 CH 2 )2.13(1H、m、ArCH2CH2)および1.59(4H、m、2 x ArCH 2 CH 2 )。
HPLC(16分間で20% B~100% Bにて溶離するShimadzu LC10AD 勾配システム、Luna 2で行う):保持時間＝5.30分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.98分，456/457(MH+)。
実施例89
3−(アミノメチル)ベンゾイル−(D/L)−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−クロロニコチンアルデヒドを用い、 2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チアゾールの代りに実施例38の記載の通り（一般的手順Ａ）製造した2−アミノ−3−シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンを用いて、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(d6 DMSO)12.22(1H、s、CONH−チオフェン)、9.36(1H、d、J=7Hz、ArCOＮH)、8.45(1H、dd、J=5 & 2Hz、PyH)、8.16(3H、br。s、ＮH 3+)、8.01(1H、s、ArH)、7.95(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.68−7.60(2H、m、ArH)、7.56(1H、d、J=7.5Hz、ArH)、7.53−7.46(1H、m、PyH)、6.24(1H、d、J=7Hz、a−H)、4.09(2H、br。m、ArCH 2NH3)、2.73 (1H、m、ArCH 2CH2)、2.60(2H、m、ArCH 2CH2)2.27(1H、m、ArCH 2CH2)および1.76(4H、m、2 x ArCH2 CH 2 )。
HPLC(16分間で20% B~100% Bにて溶離するShimadzu LC10AD 勾配システム、Luna 2で行う):保持時間＝6.44分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.26分，480/482(MH+)。
実施例90
3−(アミノメチル)ベンゾイル−(D/L)−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−クロロニコチンアルデヒドを用い、 2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チアゾールの代りに実施例38の記載の通り（一般的手順Ａ）製造した2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−3カルボン酸エチルを用いて、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(d6 DMSO)11.63(1H、s、CONH−チオフェン)、9.63(1H、d、J=8Hz、ArCOＮH)、8.42(1H、dd、J=5 & 2Hz、PyH)、8.13(3H、br。s、ＮH 3+)、7.98(1H、s、ArH)、7.89(1H、dd、J=2 & 7Hz、ArH)、7.64 (1H、d、J=8Hz、ArH)、7.56(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.53−7.44(1H、m、PyH)、6.20(1H、d、J=8Hz、α−H)、4.13(2H、q、J=7.5Hz、CO2CH 2CH3)4.08(2H、br。m、ArCH 2NH3)、2.70(1H、m、ArCH 2CH2)、2.59(2H、m、ArCH 2CH2)2.24(1H、m、ArCH 2CH2)、1.69(4H、m、2 xArCH2 CH 2 )および1.16(3H、t、J=7.5Hz、CO2CH 2 CH 3)。
HPLC(16分間で20% B〜100% Bにて溶離するShimadzu LC10AD 勾配システム、Luna 2で行う):保持時間＝8.16分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.58分，527/529(MH+)。
実施例91
3−(アミノメチル)ベンゾイル−(D/L)−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−クロロニコチンアルデヒドを用い、 2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チアゾールの代りに実施例38の記載の通り（一般的手順Ａ）製造した2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ [b] チオフェン−3−カルボキサミドを用いて、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(CD3CN)12.66(1H、s、CONH−チオフェン)、8.61(1H、d、J=7Hz、ArCOＮH)、8.42(1H、dd、J=5 & 2Hz、PyH)、8.35(1H、s、ArH)、8.05(1H、dd、J=2 & 8Hz、ArH)、7.91(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.90(3H、br。s、Nu3+)、7.66(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.59(1H、m、ArH)、7.43(1H、dd、J=5 & 8Hz、PyH)、6.50(2H、br。s、CONH2)6.33 (1H、d、J=8Hz、a−H)、4.31(2H、br。s、ArCH 2NH3)、2.75(6H、m、ArCH 2CH2)および2.25(2H、m、ArCH 2CH2)。
HPLC(16分間で20% B〜100% Bにて溶離するShimadzu LC10AD 勾配システム、Luna 2で行う):保持時間＝6.47分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.10分，498/500(MH+)。
実施例92
3−(アミノメチル)ベンゾイル−(D/L)−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3メチルスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−クロロニコチンアルデヒドを用い、 2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チアゾールの代りに実施例38の記載の通り（一般的手順Ａ）製造した2−アミノ−3−メチルスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンを用いて、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(CD3CN)11.08(部分的に交換された1H、s、CONH−チオフェン)、8.57(部分的に交換された1H、m、ArCOＮH)、8.33 (1H、dd、J=5 & 2Hz、PyH)、8.13(1H、s、ArH)、7.95(1H、dd、J=2 & 8Hz、ArH)、7.87(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.57(1H、d、J=8Hz、ArH)、7.50(3H、br。s、ＮH3+)、7.49(1H、m、ArH)、7.34(1H、dd、J=2 & 5Hz、PyH)、6.22(1H、m、a−H)、4.14(2H、br.s、ArCH 2NH3)、2.99(3H、s、SO2Me)、2.63(4H、m、ArCH 2 CH 2 )および1.75(2H、m、ArCH2 CH 2 )。
HPLC(16分間で20% B~100% Bにて溶離するShimadzu LC10AD 勾配システム、Luna 2で行う):保持時間＝6.82分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.20分，533/535(MH+)。
実施例93
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 7−オキソテトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロアセテート
以下の通り合成する2−アミノ7−オキソテトラヒドロベンゾチアゾールを用い、実施例16の方法に従って製造する。
2−アミノ−7−オキソテトラヒドロベンゾチアゾール
ベンゼン(100 mL)中の1,3シクロヘキサンジオン(2.24 g、20 mmol)、N−ブロモスクシンイミド(3.56 g、20 mmol)およびチオウレア(1.52 g、20 mmol)の混合物に、痕跡量の過酸化ベンゾイルを加え、混合物を３時間加熱還流する。溶液を冷却し、減圧濃縮し、飽和NaHCO3溶液(100 mL)に再溶解する。水溶液を酢酸エチル(3 x 100 mL)で抽出し、有機抽出物を合わせ、減圧濃縮する。溶離液としてメタノール/ジクロロメタン(1: 9)を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーによりケトンを精製して、黄色粉末(747 mg、22 %)をで得る。
１H NMR(d6 DMSO): 8.25(2 H、s、NH2); 2.88−2.80(2 H、m、COCH2); 2.58−2.49(2 H、m、NCCH2); 2.20−2.08(2 H、m、CH2CH 2CH2)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 7−オキソ テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロアセテート
１H NMR(d4 メタノール): 7.90−7.74(2 H、m、Ar); 7.67−7.14(7
H、m、Ar); 5.79(1 H、s、CH); 4.10(2 H、s、CH 2NH2); 2.892.70(2 H、m、SCOCH2); 2.61−2.40(2 H、m、NCH 2CH2); 2.121.97(2 H、m、CH2CH 2CH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.36分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.50分，435(M + H)+。
実施例94
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5−(ヒドロキシメチル)ベンゾチアゾール−2−アミド
以下の通り合成する2−アミノ−S−エトキシカルボニル−ベンゾチアゾールを用い、実施例1の手順に従って製造する。最終脱保護段階の前に、無水THF中の水素化アルミニウムジイソブチルを用いて、5−エトキシカルボニル基を還元して、5−ヒドロキシメチル基にする。
2−アミノ−5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール
メタノール(50 ml)中のエチル−2−アミノベンゾエート(4.13 ml、27.7 mmol)およびチオシアン酸ナトリウム(2.25 g、27.7 mmol)の溶液を−５℃にて攪拌する。臭素(0.712 ml、13.9 mmol)を加え、溶液を−５℃にて2時間攪拌する。反応物を酢酸エチル(250 ml)および水(250 ml)に分配する。有機相を乾燥(硫酸マグネシウム）し、減圧濃縮する。溶離液として酢酸エチル/ヘキサン＝3/7を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製して、アミノベンゾチアゾール(1.25 g、20 %)を無色固体で得る。
１H NMR(CDCl3): 7.48(1 H、d、J = 7.5 Hz、Ar); 7.24(1 H、s、; 6.76(1 H、d、J = 7.5 Hz、Ar); 4.21(2 H、q、J = 7.2 Hz、OCH 2CH3); 3.86(2 H、br s、NH2); 1.25(3 H、t、J = 7.2 Hz、OCH2CH 3)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン 5−(ヒドロキシメチル)ベンゾチアゾール−2−アミド
１H NMR(d4 メタノール): 8.15−7.56(12 H、m、Ar)5.97(1 H、s、CH); 4.30(2 H、s、CH ２ＯＨ); 4.19(2 H、s、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.38分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.50分，447(M + H)+。
実施例95
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン 6(ヒドロキシメチル)ベンゾチアゾール−2−アミド
エチル−3−アミノベンゾエートの代りにエチル−4−アミノベンゾエートを用い、実施例91に記載の方法を用いて製造する。
１H NMR(d4 メタノール): 7.97−7.87(2 H、m、Ar); 7.81(1 H、s、Ar); 7.70−7.31(9 H、m、Ar); 5.90(1 H、s、CH); 4.68(2 H、s、CH2OH); 4.17(2 H、s、CH 2NH2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.29分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.58分，447(M + H)+。
実施例96
3−(アミノメチル)ベンゾイル−DL−フェニルグリシン N−メチルテトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド。
以下の通り合成する2−メチルアミノ−テトラヒドロベンゾチアゾールを用い、実施例16の方法に従って製造する。
2−メチルアミノ−テトラヒドロベンゾチアゾール
テトラヒドロフラン(30 ml)中の2−クロロシクロヘキサノン(1.14 ml、10 mmol)およびメチルチオウレア(902 mg、10 mmol)の混合物を6時間加熱還流する。溶液を室温まで冷却し、減圧濃縮し、溶離液として酢酸エチル/ヘキサン＝1/2を用いるフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製して、チアゾールを無色固体で得る(1.07 g、63 %)。
１H NMR(CDCl3): 5.98(1 H、br s、ＮH); 2.98(3 H、s、HNCH 3); 2.68−2.53(4 H、m、2 x CH2chex); 1.92−1.80(4 H、m、2 x CH2chex)。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−フェニルグリシン N−メチルテトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド
１H NMR(d4 メタノール): 7.93−7.81(2 H、m、Ar); 7.62−7.26(7 H、m、Ar); 6.27(1 H、s、CH); 4.08(2 H、s、CH 2NH2); 3.51(3 H、br s、HNCH 3); 2.66−2.50(4 H、m、2 x CH2chex); 1.85−1.68(4 H、m、2 x CH2chex)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.22分。
LCMS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.55分，435(M + H)+。
実施例97
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−3−(メチル)フェニルグリシン テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド
2−クロロベンズアルデヒドの代りに3−メチルチオベンズアルデヒドを用い、実施例73に記載の方法に従って製造する。最終カップリング段階の前に、メタクロロ過安息香酸を用い、3−メチルチオ基を酸化して3−メチルスルホニル基にする。
１H NMR(d4 MeOH): 8.07(1H、s、Ar); 7.90−7.77(4H、m、Ar); 7.62−7.42(3H、m、Ar); 5.91(1H、s、CHPh); 4.09(1H、s、CH 2NH2); 3.05(3H、s、SO２CH ３); 2.60(2H、bs、CH 2); 2.51(2H、bs、CH 2); 1.75(4H、bs、CH 2CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.685(96%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝1.98分，499 MH+。
実施例98
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−3−(メタンスルホニル)フェニル−グリシン 3−エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)−チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−アミノ−テトラヒドロベンゾチアゾールの代りに2−アミノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−3−カルボン酸エチルを用い、実施例93に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(d4 MeOH): 8.09(1H、s、Ar); 8.0−7.86(3H、m、Ar); 7.83−7.77(1H、m、Ar); 7.66−7.48(3H、m、Ar); 6.08(1H、s、CHPh); 4.16(2H、m、CH 2CH3); 4.11(1H、s、CH 2NH2); 3.08(3H、s、SO2CH 3); 2.68(2H、bs、CH 2); 2.57(2H、bs、CH 2); 1.70(4H、bs、CH2CH 2); 1.21(3H、t、J = 7Hz、CH2CH 3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.733(96%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.604分，570 MH+。
実施例99
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロアセテート
2−アミノテトラヒドロベンゾチアゾールの代りに2−アミノ−3−アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェンを用い、実施例73に記載の方法に従って製造する。
１H NMR(d4 MeOH): 8.14(2H、m、Ar); 7.80−7.56(4H、m、Ar); 7.56−7.45(2H、m、Ar); 6.43(1H、s、CHPh); 4.32(1H、s、CH 2 NH2); 2.87(2H、bs、CH 2); 2.82(2H、bs、CH 2); 1.97(4H、pent、J = 3Hz、CH 2CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.138(99%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.25分，497/499 MH+。
実施例100
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン−3− アミノカルボニル−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド 塩酸塩
2−アミノ−3−シアノテトラヒドロベンゾ(b)チオフェン(一般的手順Aに従って製造)および保護アミノ酸であるN−t−ブチルオキシカルボニル−2−エチル−チアゾール−4−イルグリシンを用い、実施例38の方法を用いて製造する。該アミノ酸は、実施例74に記載の手順を用いて製造する。最終脱保護段階において、HCl/ジエチルエーテルを用いて、3−シアノ基を加水分解して3−アミノカルボニルにする。
１H NMR(d4 MeOH): 8.18(1H、s、Ar); 8.13(1H、d、J = 7.5 Hz、Ar); 7.82(1H、s、Ar); 7.77(1H、d、J = 7.5 Hz、Ar); 7.69(1H、t、J = 7.5 Hz、Ar); 6.26(1H、s、CHPh); 4.31(1H、s、CH 2NH2); 3.27(2H、q、J = 7.5 Hz、CH 2CH3); 2.82(2H、bs、CH 2); 2.77(2H、bs、CH 2); 1.93(4H、bd、CH 2CH 2); 1.52(3H、t、J = 7.5 Hz、CH 2CH3)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝3.82(95%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.73分，498 MH+。
実施例101
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−(トリフルオロメトキシ)フェニル−グリシン テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド TFA塩
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−トリフルオロメトキシベンズアルデヒドを用い、実施例73の方法に従って製造する。
１H NMR(d4 MeOH): 7.9(2H、m、Ar); 7.71−7.37(6H、m、Ar); 6.29(1H、s、CHPh); 4.20(2H、s、CH 2NH2); 2.72(2H、bs、CH 2); 2.63(2H、bs、CH 2); 1.88(4H、s、2 x CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.11(99%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.88分，506 MH+。
実施例102
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−(トリフルオロメトキシ)フェニル グリシン−l−(3−メトキシカルボニル)−テトラヒドロベンゾチオフェン−2−アミド TFA塩
2−クロロベンズアルデヒドの代りに2−トリフルオロメトキシベンズアルデヒドを用い、2−アミノテトラヒドロベンゾチアゾールの代りに2−アミノ−3−メトキシカルボニル−テトラヒドロベンゾチオフェンを用い、実施例73の方法に従って製造する。
１H NMR(d4 MeOH): 8.05(1H、s、Ar); 8.00(1H、s、Ar); 7.7−7.4 (6H、m、Ar); 6.3(1H、s、CHPh); 4.21(2H、s、CH 2NH2); 3.77(3H、s、CO2CH 3); 2.77(2H、bs、CH 2); 2.67(2H、bs、CH 2); 1.84(4H、s、2 CH 2)。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝5.027(100%)。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝3.13分，562 MH+。
実施例103
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩
１H NMR(d6 DMSO): 8.90(1 H、d、J 6 Hz、ＮH)、8.05(3 H、br s、ＮH 3+)、7.91−7.10(11 H、ＮH & Ar)、5.91(1 H、d、J 6 Hz、α−CH)、4.20(2 H、s、CH2Ph)、4.01−3.90(2 H、m、CH 2N)、1.71−1.59(4 H、m、CH2CH 2CH 2CH2)。CH 2CH2CH2CH 2 プロトンによるピークは、2.4ppm付近の水(d6 DMSOから)ピークによって覆い隠される。
HPLC(Luna 2、勾配1):保持時間＝4.34分。
LC/MS(Luna 2、勾配4):保持時間＝2.39分，518(MH+)。
上記に例示した化合物は、Tapparelli ら,(1993)J．Biol．Chem．、268, 4734−4741の方法によって、トリプターゼのインヒビターであることがわかっており、試験した他のセリンプロテアーゼよりもトリプターゼに対して選択的であることがわかっている。
実施例1−103の記載と同様の方法によって、下記化合物を合成する。
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例99)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 3−(ピリド−2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例87)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例100)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−エチルチアゾール−4−イルグリシン 3(ピリド−2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例92)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例91)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3−シアノ4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例89)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3−(ピリド− 2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロ−3−ピリジルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例90)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−クロロフェニルグリシン 4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例88)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 3メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 3シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 3(ピリド−2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 3エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−2−ベンジルチアゾール−4−イルグリシン 4,5、6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩(実施例103)；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン 3メタンスルホニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン 3アミノカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン 3
シアノ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン 3−(ピリド−2−イル)−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン 3 エトキシカルボニル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ(b)チオフェン−2−アミド トリフルオロ酢酸塩；
3−(アミノメチル)ベンゾイル−D/L−6−メチルピリジン−2−イルグリシン
4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−2−アミド トリフルオロ酢酸塩。

Claims (31)

  1. 式（Ｉ）：
    Figure 0004452017
    [式中、Ｒ５は、アミノ、ヒドロキシ、アミノメチル、ヒドロキシメチルまたは水素であり；
    Ｒ６ａは、水素またはメチルであり；
    Ｘ−Ｘは、−ＣＯ−ＮＨ−であり；
    Ｌは、ＣＯＮHであり；
    Ｃyは、飽和または不飽和の、単環または多環式の、ホモまたはヘテロ環式基であって、５〜１０個の環原子を含み、必要に応じて１つまたはそれ以上のＲ３ a−またはＲ３ｉＸｉ−で置換され；
    各Ｒ３ aは独立して、水素、ヒドロキシル、（Ｃ１−６）アルコキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ２−６）アルケニル、（Ｃ２−６）アルキニル、（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルキル、カルボキシ、（Ｃ１−６）アルコキシアルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、アミノ（Ｃ１−６）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、アミノ（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、（Ｃ１−６）アルキルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（Ｃ１−６）アルキルチオ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（Ｃ１−６）アルキルイミダゾリル、（Ｃ１−６）アルキルスルホンアミド、（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（Ｃ１−６）ハロアルコキシまたは（Ｃ１−６）ハロアルキルであり；
    Ｘｉは、結合、Ｏ、ＮＨ、ＣＨ２、ＣＯ、ＣＯＮＲ１ｐ、ＮＲ１ｐＣＯ、ＳＯ２、ＮＲ１ｐＳＯ２またはＳＯ２ＮＲ１ｐであり；
    Ｒ１ｐは、水素、（Ｃ１−６）アルキルまたはフェニル（Ｃ１−６）アルキルであり
    Ｒ３ iは、フェニルまたはピリジルであり；
    Ｒ １ｐ は、水素、（１−６Ｃ）アルキルまたはフェニル（１−６Ｃ）アルキルであり；
    Ｌｐは、
    Figure 0004452017
    から選ばれ；
    ここで、Ｒ３は、アミノ酸残基、Ｎ−（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、Ｎ−（Ｃ１−６）アルキルアミノアルカノイル、Ｎ−（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、Ｃ−ヒドロキシアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、ヒドロキシ（Ｃ２−６）アルカノイルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、水素、ヒドロキシル、（Ｃ１−６）アルコキシ、（Ｃ１−６）アルカノイルオキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ２−６）アルケニル（Ｃ２−６）アルキニル、（Ｃ３−６）アルケニルオキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルカノイル、アミノ（Ｃ１−６）アルキル、アミド（ＣＯＮＨ２）、アミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、アミノカルボニル（Ｃ１−５）アルカノイル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（Ｃ１−６）アルキルチオ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニルおよびヒドラジドであり；
    Ｒ３ｙは、Ｒ３または式：Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−であり；
    ここで、Ｇ２は不在または（Ｃ１−３）アルカンジイル；Ｘａは不在またはＯ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲＬ、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＣＯＮＲＬ、ＮＲＬＣＯ、ＳＯ２ＮＲＬもしくはＮＲＬＳＯ２；Ｒｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基；およびＲＬは水素または（Ｃ１−６）アルキルである；
    Ｒ３ｚはオキソまたはＲ３ｙと同意義であり
    ＸｚａはＣＨ２であり；および
    ＸｚはＯ、ＳまたはＮＲｚ（ここで、ＲｚはＲ３ｙに対して定義された基から独立して選ばれる）である]
    で示される化合物またはその生理学的に許容しうる塩。
  2. 各Ｒ３ａが独立して、水素、ヒドロキシル、（Ｃ１−６）アルコキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ２−６）アルケニル、（Ｃ２−６）アルキニル、（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルキル、カルボキシ、（Ｃ１−６）アルコキシアルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、アミノ（Ｃ１−６）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（Ｃ１−６）アルキルチオ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（Ｃ１−６）アルキルイミダゾリル、（Ｃ１−６）アルキルスルホンアミド、（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（Ｃ１−６）ハロアルコキシまたは（Ｃ１−６）ハロアルキルであり；
    Ｘｉが結合、Ｏ、ＮＨまたはＣＨ２であり；およびＲ３ｉは必要に応じてＲ３ａで置換されるフェニルであり；
    Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    Figure 0004452017
    から選ばれ；
    ここで、Ｒ３は、アミノ酸残基、Ｎ−（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、Ｎ−（Ｃ１−６）アルキルアミノアルカノイル、Ｎ−（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、Ｃ−ヒドロキシアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、ヒドロキシ（Ｃ２−６）アルカノイルアミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、水素、ヒドロキシル、（Ｃ１−６）アルコキシ、（Ｃ１−６）アルカノイルオキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ２−６）アルケニル（Ｃ２−６）アルキニル、（Ｃ３−６）アルケニルオキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルカノイル、アミノ（Ｃ１−６）アルキル、アミド（ＣＯＮＨ２）、アミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、アミノカルボニル（Ｃ１−５）アルカノイル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル（Ｃ１−５）アルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（Ｃ１−６）アルキルチオ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニルおよびヒドラジドであり；
    Ｒ３ｙが、Ｒ３または式：Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−であり；
    ここで、Ｇ２は結合または（Ｃ１−３）アルカンジイル；Ｘａは結合、Ｏ、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯまたはＮＨＣＯ；およびＲｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基である請求項１に記載の化合物。
  3. Ｒ５がアミノまたは水素である請求項１または２に記載の化合物。
  4. Ｒ５が水素である請求項３に記載の化合物。
  5. Ｒ６ａが水素である請求項４に記載の化合物。
  6. α原子（＊）が、Ｄ−α−アミノ酸であるＮＨ２−ＣＨ（Ｃy）−ＣＯＯＨ（ここで、ＮＨ２はＸ−Ｘの部分である）からの配置から得られる配座を有する請求項１〜５のいずれか１つに記載の化合物。
  7. Ｃｙが、シクロアルキル、ピペリジニル、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フリル、チエニル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ナフチル、インドリル、インダニル、３,４−ジヒドロベンゾフリル、ベンゾフリルまたはベンゾ[b]チエニル基であって、必要に応じてＲ３ aまたはＲ３ｉＸｉで置換される請求項１〜６のいずれか１つに記載の化合物。
  8. Ｃｙが、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フル−２−イル、チエン−２−イル、チエン−３−イル、イミダゾール−４−イル、オキサゾール−４−イル、オキサゾール−５−イル、チアゾール−４−イル、チアゾール−５−イル、ピリド−２−イル、ピリド−３−イル、ピリド−４−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピリミジン−５−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、インド−５−イル、インダン−５−イル、３,４−ジヒドロベンゾフル−２−イル、ベンゾフル−２−イルまたはベンゾ[b]チエン−２−イルであって、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３ｉＸｉで置換される請求項７に記載の化合物。
  9. Ｒ３ａが、水素；ヒドロキシル；メトキシ；エトキシ；イソプロポキシ；メチル；エチル；イソプロピル；アセチル；プロパノイル；イソプロパノイル；メチルアミノメチル；ジメチルアミノメチル；ヒドロキシメチル；カルボキシ；メトキシメチル；メトキシカルボニル；エトキシカルボニル；メチルアミノカルボニル；ジメチルアミノカルボニル；アミノメチル；ＣＯＮＨ２；ＣＨ２ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；ホルミルアミノ；アセチルアミノ；ヒドロキシアセチルアミノ；ジメチルアミノアセチルアミノ；メトキシカルボニルアミノ；エトキシカルボニルアミノ；t−ブトキシカルボニルアミノ；アミノ；フルオロ；クロロ；ブロモ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオ；メチルスルホニル；エチルスルホニル；メチルスルフェニル；イミダゾール−４−イル；ヒドラジド；２−メチルイミダゾール−４−イル；メチルスルホニルアミド；エチルスルホニルアミド；メチルアミノスルホニル；エチルアミノスルホニル；アミノスルホニル；トリフルオロメトキシまたはトリフルオロメチル；およびＲ３ｉＸｉが、フェニル、フェノキシ、フェニルアミノまたはベンジルである請求項７または８に記載の化合物。
  10. Ｃｙが、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、１−アセチルピペリジン−４−イル、１−プロパノイルピペリジン−４−イル、１−イソブチリルピペリジン−４−イル、１−アミノアセチルピペリジン−４−イル、フェニル、２−アミノフェニル、４−アミノフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−メチルフェニル、２,４−ジメチルフェニル、３,６−ジメチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−アミノメチルフェニル、４−アミノメチルフェニル、４−(Ｈ２ＮＣＯ)フェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメチルフェニル、２−ヒドロキシメチルフェニル、４−カルボキシフェニル、４−イソプロピルフェニル、２−クロロフェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、４−フェニルフェニル、４−フェノキシフェニル、５−メチルフル−２−イル、イミダゾール−４−イル、２−メチルチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−４−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−５−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−５−イル、２−フェニルチアゾール−４−イル、４−アミノピリド−３−イル、６−メチルピリド−２−イル、３−アミノ−ピリド−４−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、ベンゾフル−２−イル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、インダン−５−イル、２−メチルチオフェニル、３−メチルチオフェニル、３−メチルスルフィニルフェニル、２−メチルスルホニルフェニル、３−メチルスルホニルフェニル、３−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノフェニル、２,３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル、３−ブロモフェニル、３−シアノフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル、２−エトキシカルボニルフェニル、２−メチルフェニル、２−フルオロフェニル、６−アミノピリド−３−イル、２−エチルチアゾール−４−イル、２−ベンジルチアゾール−４−イル、２−メチルスルホンアミドチアゾール−４−イル、２−クロロピリド−３−イル、２−ヒドロキシアセチルアミノチアゾール−４−イル、２−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノアセチル−アミノチアゾール−４−イル、２−トリフルオロメトキシフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル、３−クロロピリド−２−イル、３−メチルピリド−２−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イル、ピリミジン−２−イルおよびピリミジン−３−イルから選ばれる請求項９に記載の化合物。
  11. Ｃｙが、式：
    Figure 0004452017
    [式中、ＸａおよびＸｂの一方はＮ、他方は、ＮＨまたはＳであり、各Ｒ３ rおよびＲ３ｓはＲ３ aと同意義である]
    で示される基である請求項１〜６のいずれか１つに記載の化合物。
  12. ＸａがＳであり、ＸｂがＮである請求項１１に記載の化合物。
  13. Ｒ３ｓが水素であり、Ｒ３ rが、水素、（Ｃ１−６）アルキル、アミノ、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノアルカノイルアミノ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニルアミノ、フェニルまたはベンジルである請求項１１または１２に記載の化合物。
  14. Ｃｙが、ピリド−２−イル、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イルまたはオキサゾール−４−イルであって、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３ iＸｉで置換される請求項８に記載の化合物。
  15. Ｃｙが、シクロアルキル、ピペリジニル、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フリル、チエニル、イミダゾリル、チアゾリル、ピリジル、ナフチル、ベンゾフリルまたはベンゾ[b]チエニル基であって、必要に応じてＲ３ aまたはＲ３ｉＸｉで置換され；Ｘｉが、結合、Ｏ、ＮＨまたはＣＨ２であり、Ｒ３ｉが、必要に応じてＲ３ａで置換されるフェニルであり、各Ｒ３ａが独立して、水素、ヒドロキシル、（Ｃ１−６）アルコキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルキルアミノアルキル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルキル、カルボキシ、（Ｃ１−６）アルコキシアルキル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、アミノ（Ｃ１−６）アルキル、ＣＯＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、アミノアセチル、（Ｃ１−６）アルカノイルアミノ、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニルアミノ、アミノ、ハロ、シアノ、ニトロ、チオール、（Ｃ１−６）アルキルチオ、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニル、イミダゾリル、ヒドラジド、（Ｃ１−６）アルキルイミダゾリル、（Ｃ１−６）アルキルスルホンアミド、（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、アミノスルホニル、（Ｃ１−６）ハロアルコキシまたは（Ｃ１−６）ハロアルキルである請求項１〜６のいずれか１つに記載の化合物。
  16. Ｃｙが、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、フェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、フル−２−イル、チエン−２−イル、チエン−３−イル、イミダゾール−４−イル、チアゾール−４−イル、チアゾール−５−イル、ピリド−２−イル、ピリド−３−イル、ピリド−４−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、ベンゾフル−２−イルまたはベンゾ[b]チエン−２−イル基であって、必要に応じてＲ３ａまたはＲ３ｉＸｉで置換される請求項１５に記載の化合物。
  17. Ｒ３ａが、水素；ヒドロキシル；メトキシ；エトキシ；イソプロポキシ；メチル；エチル；イソプロピル；アセチル；プロパノイル；イソプロパノイル；メチルアミノメチル；ジメチルアミノメチル；ヒドロキシメチル；カルボキシ；メトキシメチル；メトキシカルボニル；エトキシカルボニル；メチルアミノカルボニル；ジメチルアミノカルボニル；アミノメチル；ＣＯＮＨ２；ＣＨ２ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；ホルミルアミノ；アセチルアミノ；メトキシカルボニルアミノ；エトキシカルボニルアミノ；t−ブトキシカルボニルアミノ；アミノ；フルオロ；クロロ；ブロモ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオ；メチルスルホニル；エチルスルホニル；メチルスルフェニル；イミダゾール−４−イル；ヒドラジド；２−メチルイミダゾール−４−イル；メチルスルホニルアミド；エチルスルホニルアミド；メチルアミノスルホニル；エチルアミノスルホニル；アミノスルホニル；トリフルオロメトキシまたはトリフルオロメチル；およびＲ３ｉＸｉが、フェニル、フェノキシ、フェニルアミノまたはベンジルである請求項１５または１６に記載の化合物。
  18. Ｃｙが、シクロヘキシル、ピペリジン−４−イル、１−アセチルピペリジン−４−イル、１−プロパノイルピペリジン−４−イル、１−イソブチリルピペリジン−４−イル、１−アミノアセチルピペリジン−４−イル、フェニル、４−アミノフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−メチルフェニル、２,４−ジメチルフェニル、３,６−ジメチルフェニル、４−エチルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３−アミノメチルフェニル、４−アミノメチルフェニル、４−(Ｈ２ＮＣＯ)フェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメチルフェニル、２−ヒドロキシメチルフェニル、４−カルボキシフェニル、４−イソプロピルフェニル、２−クロロフェニル、３,４−メチレンジオキシフェニル、４−フェニルフェニル、４−フェノキシフェニル、５−メチルフル−２−イル、イミダゾール−４−イル、２−メチルチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−４−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−４−イル、２−アミノチアゾール−５−イル、２−ホルミルアミノチアゾール−５−イル、２−フェニルチアゾール−４−イル、４−アミノピリド−３−イル、６−メチルピリド−２−イル、３−アミノ−ピリド−４−イル、ナフト−１−イル、ナフト−２−イル、ベンゾフル−２−イルまたは３−メチルベンゾチエン−２−イルである請求項１７に記載の化合物。
  19. Ｒ３が、Ｎ−アセチルアラニノイル；セリノイル；トレオニノイル；アスパルトイル；グルタモイル；Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノカルボニル；Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノカルボニル；Ｎ−（１,３−ジメチル）ブチルアミノカルボニル；Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノカルボニル；Ｎ−メチルアセチル；２−Ｎ−アセチルアミノアセチル、２−Ｎ−アセチルアミノプロパノイル；２−Ｎ−（２−メチルプロパノイル）アミノアセチル；２−アミノ−３−ヒドロキシプロパノイル；２−アミノ−３−ヒドロキシブタノイル；２−ヒドロキシアセチルアミノアセチル；ジメチルアミノスルホニル；水素；ヒドロキシル；メトキシ；アセトキシ；メチル；エチル；プロピル；２−プロピル；２,２−ジメチルエチル；アリル；プロピニル；アリルオキシカルボニル；アセチル；プロピオニル；イソブチリル；アミノメチル；ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；アミノプロピオニル；２−アミノプロピオニル；アミノカルボニルアセチル；ヒドロキシメチル；１−ヒドロキシエチル；カルボキシ；２−ヒドロキシアセチル；２−ヒドロキシプロパノイル；メトキシアセチル；メトキシメチル；メトキシカルボニルメチル；メトキシカルボニル；エトキシカルボニル；ホルミルアミノ；アセチルアミノ；アミノ；クロロ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオ；メチルスルホニル；エチルスルホニル；メチルスルフェニル；およびヒドラジドからから選ばれる請求項１に記載の化合物。
  20. Ｒ３が、Ｎ−アセチルアラニノイル；セリノイル；トレオニノイル；アスパルトイル；グルタモイル；；Ｎ−（１,３−ジメチル）ブチルアミノカルボニル；Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノカルボニル；Ｎ−メチルアセチル；２−Ｎ−アセチルアミノアセチル、２−Ｎ−アセチルアミノプロパノイル；２−Ｎ−（２−メチルプロパノイル）アミノアセチル；２−アミノ−３−ヒドロキシプロパノイル；２−アミノ−３−ヒドロキシブタノイル；２−ヒドロキシアセチルアミノアセチル；ジメチルアミノスルホニル；水素；ヒドロキシル；メトキシ；アセトキシ；メチル；エチル；プロピル；２−プロピル；２,２−ジメチルエチル；アリル；プロピニル；アリルオキシカルボニル；アセチル；プロピオニル；イソブチリル；アミノメチル；ＣＯＮＨ２；アミノアセチル；アミノプロピオニル；２−アミノプロピオニル；アミノカルボニルアセチル；ヒドロキシメチル；１−ヒドロキシエチル；カルボキシ；２−ヒドロキシアセチル；２−ヒドロキシプロパノイル；メトキシメチル；メトキシカルボニルメチル；メトキシカルボニル；エトキシカルボニル；ホルミルアミノ；アセチルアミノ；アミノ；クロロ；シアノ；ニトロ；チオール；メチルチオ；メチルスルホニル；エチルスルホニル；メチルスルフェニル；およびヒドラジドからから選ばれる請求項２に記載の化合物。
  21. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    である請求項１に記載の化合物。
  22. Ｒ３が独立して、水素、アミノ、ヒドロキシ、（Ｃ１−６）アルキル、（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルカノイルオキシ、（Ｃ１−５）アルコキシカルボニル（Ｃ１−６）アルキル、アミノ（Ｃ１−６）アルキルおよびシアノから選ばれる請求項２１に記載の化合物。
  23. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    [式中、Ｒ３ｙは、Ｒ３または式：Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−
    （ここで、Ｇ２は結合または（Ｃ１−３）アルカンジイル；Ｘａは結合、ＣＯ、ＯＣＯ、ＣＯＯまたはＮＨＣＯ；およびＲｋは必要に応じてＲ３で置換される炭素環式またはヘテロ環式基）
    である]
    である請求項１に記載の化合物。
  24. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    Figure 0004452017
    [式中、（ｉ）Ｒ３が、４,５,６,７−テトラヒドロベンゾチオフェン基の３位における置換基である場合、Ｒ３はカルボキシ基；（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル基；または（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル基であり；および（ii）Ｒ３が、フェニルまたはピリジル基における置換基である場合、Ｒ３は水素原子である]
    から選ばれる請求項２３に記載の化合物。
  25. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    である請求項１に記載の化合物。
  26. ヘテロ環式基が、１または２個のＲ３基で置換される請求項２５に記載の化合物。
  27. 各Ｒ３基が、水素、ハロゲン、（Ｃ１−６）アルキルおよび（Ｃ１−６）アルコキシから選ばれる請求項２６に記載の化合物。
  28. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    [式中、Ｒ３ｙ、Ｒ３ｚ、ＸｚおよびＸｚａは、前記と同意義である]
    である請求項１に記載の化合物。
  29. Ｒ３ｙが、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、Ｎ,Ｎ−ジアルキルアミノカルボニルまたはシアノ；Ｒ３ｚが水素；ＸｚがＯ、ＳまたはＮＲｚ、Ｒｚが、水素、（Ｃ１−６）アルカノイル、アミノ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルカノイルまたはベンジルオキシカルボニル；およびＸｚａがＣＨ２である請求項２８に記載の化合物。
  30. Ｌｐが、３−エトキシカルボニル−テトラヒドロ−４Ｈ−シクロヘプタ（b）チエン−２−イル、３−エトキシカルボニル−４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]ピラニル、３−エトキシカルボニル−４,５−ジヒドロ−５Ｈ−チエノ[２,３−c]チオピラニル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−ベンジルオキシカルボニルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−テトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−アセチルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−アミノアセチルテトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イル、３−ジメチルアミノカルボニル−６−メトキシアセチル−テトラヒドロチエノ[２,３−b]ピリジン−２−イルまたは３−エトキシカルボニル−テトラヒドロ−４,７−メタノベンゾ（b）チオフェン−２−イルである請求項２９に記載の化合物。
  31. Ｌｐが、
    Figure 0004452017
    [式中、Ｒ３ｙは、Ｎ,Ｎ−ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ１−６）アルキルアミノスルホニル、（Ｃ３−６）アルケニルオキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルカノイル、ヒドロキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシ（Ｃ１−６）アルカノイル、（Ｃ１−６）アルコキシカルボニル、（Ｃ１−６）アルキルスルホニル、（Ｃ１−６）アルキルスルフェニルおよび式：Ｒｋ−Ｇ２−Ｘａ−（式中、ＸａがＣＯ、ＯＣＯ、ＮＲＬＣＯ（ここでＲＬは（Ｃ１−６）アルキル）、ＳＯ２またはＮＲＬＳＯ２であって、ＲｋとＧ２が前記と同意義であるか、あるいは、ＸａとＧ２は両方が不在であって、Ｒｋがピリド−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾール−４−イル、ピラジン−２−イル、ピラジン−３−イル、ピリミジン−２−イルまたはピリミジン−４−イルであるかのいずれかである）から選ばれる]
    である請求項１に記載の化合物。
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