JP4452809B2 - N置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体 - Google Patents
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Description
本発明は、医薬、特にキマーゼを選択的に阻害するN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又は薬学的に許容しうるその塩、及びそれらを有効成分とするキマーゼ阻害剤に関する。それらの化合物は、キマーゼに対する選択的な阻害作用を有するため、キマーゼ活性に基づくアンギオテンシンII(以下、AngIIと略す)産生又はエンドセリンI(以下、ET−1と略す)産生の異常亢進又は肥満細胞の活性化に起因する高血圧、心肥大、心筋梗塞、動脈硬化、糖尿病性又は非糖尿病性腎疾患、糖尿病性網膜症、経皮的冠状動脈形成術(以下、PTCAと略す)施行後の再狭窄、バイパスグラフト施行後の内膜肥厚、慢性関節リウマチ、ケロイド、乾癬、アレルギー、炎症、喘息、アトピー性皮膚炎、固形腫瘍の予防・治療剤として有用である。
背景技術
AngII及びET−1は、血圧上昇作用のほか、細胞増殖促進作用を有することから、高血圧、心肥大、心筋梗塞、動脈硬化、糖尿病性及び非糖尿病性腎疾患、PTCA施行後の再狭窄等の疾患の原因物質又は危険因子と考えられている。また、AngIIはアンギオテンシン変換酵素(以下、ACEと略す)によりアンギオテンシンI(以下、AngIと略す)から生成することが知られており、ACE阻害剤は上記疾病の予防・治療剤として多数開発されている。一方、ET−1はエンドセリン変換酵素(以下、ECEと略す)によりビッグエンドセリン(以下、BigET−1と略す)から生成する21アミノ酸残基からなる生理活性ペプチド(以下、ET(1−21)と略す)であることが知られているが、ECE阻害剤及びET−1受容体拮抗剤は未だ医薬品として開発段階にある。
近年、ACEの他にも肥満細胞顆粒に由来する酵素キマーゼが、AngIからAngIIを産生することが見出された。浦田らは、ヒト心臓からキマーゼを精製し、心臓や血管で産生されるAngII量の7〜8割がキマーゼによるものであることを示した(J.Biol.Chem.,265,22348(1990))。また、ACE阻害剤にPTCA後の再狭窄に対する有効性が認められなかった事実[MERCAPTOR試験(Circulation,86(1),100(1992))及びMARCAPTOR試験(J.Am.Coll.Cardiol.,27(1),1頁(1996))]及びイヌ頸静脈を用いたグラフト血管の内膜肥厚モデルに対しキマーゼ阻害剤が有効であったこと(宮崎、高井ら;Febs.Lett.,467,141,(2000))を考え合わせるとAngII産生の異常亢進に起因する心臓・循環器系疾患の予防・治療には、ACEよりもむしろキマーゼを阻害することが重要であり、キマーゼ阻害剤の心臓・循環器系疾患への応用を示唆するものである。
さらに、最近においてキマーゼはBigET−1を特異的に31アミノ酸残基からなる生理活性ペプチド(以下ET(1−31)と略す)に分解することが明らかとなった。このET(1−31)は、本来のET(1−21)が作用する受容体に作用して、気管支収縮や血管収縮を起こすことが報告されている(木戸ら;J.Immunol.,159,1987(1997))。なお、ヒト血中での濃度はET(1−31)及びET(1−21)のいずれも、ほぼ同程度の分布と活性を有し、心筋梗塞後ではET(1−31)がET(1−21)よりも増加し、発症2週間後まで維持されることが明らかとなり(玉置、西栖ら;Jpn.J.Pharmacol.,82(suppl I),26(2000))、キマーゼを阻害することの重要性、キマーゼ阻害剤の心臓・循環器系疾患への応用を示唆するものである。
以上より、キマーゼは、生理活性ペプチドの産生・分解、細胞外マトリックスのリモデリング、サイトカインとのネットワーク、免疫等に関与し、代謝回転の修復に寄与するものと考えられる。これらのことから、キマーゼ阻害剤は心臓・循環器系疾患への応用が期待される。
また、ハムスタースポンジ皮下移植モデルに対し、AngIIをスポンジ内投与し、7日目にスポンジを摘出し、ヘモグロビン含量を測定した結果、血管新生が認められた(毛細血管が主)。感作動物に抗原であるオボアルブミン(10μg/site/day)をスポンジ投与するとコンパウンド48/80の場合と同様に血管新生が起こる。この血管新生もキモスタチンにより阻害された(村松ら.;J.Biol.Chem.,275(8),5545(2000))。以上の結果から、抗原刺激による肥満細胞活性化も血管新生を引き起こし得ることを示しており、この過程にもキマーゼが関与すると考えられ、様々な炎症性アレルギー疾患におけるキマーゼの新たな役割を示唆している。このような観点から、キマーゼ阻害剤は固形腫瘍、糖尿病性網膜症、関節リウマチ、粥状動脈硬化に対する効果が期待される。
現在、キマーゼに対する阻害剤としては、特開平10−7661号、特開平11−49739号、特開平11−246437号、国際公開WO98/09949号、WO98/18794号、WO99/45928号、WO99/32459号及びWO00/06594号にペプチド型のキマーゼ阻害剤が開示されている。一方、特開平10−87493号、特開平10−245384号、特開平12−95770号、WO96/04248号、WO97/11941号、WO99/09977号、WO00/03997号、WO00/05204号、WO00/10982号、WO00/32587、WO01/32214号、WO01/32621号及びWO01/83471号に非ペプチド型のキマーゼ阻害剤が開示されている。しかしながら、現在までに臨床的に応用可能なキマーゼ阻害剤は見出されておらず、AngII及びET−1産生の異常亢進に起因する心臓・循環器系疾患の予防・治療に結びつく臨床応用可能なキマーゼ阻害剤の開発が望まれている。
発明の開示
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、N置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩が、優れたヒトキマーゼ阻害活性と酵素選択性を有することを見出した。すなわち、本発明は、一般式(I)
[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又は低級アルキル基を、R2及びR3はそれぞれ異なっていてもよく低級アルキル基を、R4は
(Xは酸素原子又はNHを、Yは酸素原子、硫黄原子又はNHを、R5及びR6はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基又はヒドロキシ低級アルキル基を、R7及びR8はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基又はカルボキシル基を、R9及びR10はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい低級アルキル基、低級アルコキシ基又はヒドロキシ低級アルキル基を示す(ただし、R5及びR6、R7及びR8並びにR9及びR10はそれぞれ同時に水素原子ではない))で表される単環複素環基又は
で表される基(式中、R11及びR12はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、低級アルキルスルファニル基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基又は低級アルコキシカルボニル基を示す]により表されるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩に関するものである。
本発明の一般式(I)で表されるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩は、キマーゼに対して強力な阻害活性を有し、キマーゼ活性に基づくAngII及びET−1産生の異常亢進又は肥満細胞の活性化に起因する心臓・循環器系疾患の予防・治療に結びつく極めて有用な化合物である。
R1のハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられ、なかでもフッ素原子又は塩素原子が好ましい。
R1、R2、R3、R11及びR12の低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基が挙げられ、なかでもメチル基又はエチル基が好ましい。
R5、R6、R7、R8、R9及びR10のハロゲン原子で置換していてもよい低級アルキル基としては、低級アルキル基又はハロゲン原子で置換している低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられ、低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基が挙げられる。ハロゲン原子で置換している低級アルキル基としては、例えばクロロメチル基、ブロモメチル基、1−クロロエチル基が挙げられ、クロロメチル基が好ましい。
R5、R6、R7、R8、R9及びR10の低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基又はtert−ブチルオキシ基が挙げられ、なかでもメトキシ基又はエトキシ基が好ましい。
R5、R6、R7、R8、R9及びR10のヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基が挙げられ、なかでもヒドロキシメチル基又はヒドロキシエチル基が好ましい。
R7、R8、R11及びR12の低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基又はtert−ブチルオキシカルボニル基が挙げられ、なかでもメトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基が好ましい。
R11及びR12の低級アルキルスルファニル基としては、例えばメタンスルファニル基、エタンスルファニル基、プロパンスルファニル基、ブタンスルファニル基等の炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが挙げられ、なかでもメタンスルファニル基又はエタンスルファニル基が好ましい。
R11及びR12の低級アルキルスルフィニル基としては、例えばメタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、ブタンスルフィニル基等の炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが挙げられ、なかでもメタンスルフィニル基又はエタンスルフィニル基が好ましい。
R11及びR12の低級アルキルスルホニル基としては、例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基等の炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが挙げられ、なかでもメタンスルホニル基又はエタンスルホニル基が好ましい。
なお、具体的な化合物の例としては、2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸、2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸メチルエステル、5−フルオロ−N−[4−(4−ヒドロキシメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、N−[4−(4−クロロメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(2−メチルチアゾール−4−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4,5−ジメチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[4−(4−ヒドロキシメチルオキサゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、N−[4−(4−クロロメチルオキサゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−エトキシ−4−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4,5−ジメチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−((E)−2−メタンスルフィニル−2−メチルスルファニルビニル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミドが挙げられる。
次に、本発明のN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩の製造法について説明する。本発明の一般式(I)の化合物は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造することができる。
すなわち、化合物(III)で示されるアミン(式中、R3及びR4は一般式(I)の化合物と同義である)をジオキサン、テトラヒドロフラン(以下、THFと略す)、アセトン、ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略す)、ジメチルスルホキシド(以下、DMSOと略す)、クロロホルム、ピリジン等又はそれらの混合溶媒中、−10℃から溶媒の沸点温度までの範囲でナトリウムアミド、リチウムアミド、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム tert−ブトキシド、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデック−7−エン(以下、DBUと略す)等の塩基存在下、スルホニルクロリド(II)(式中、R1及びR2は一般式(I)の化合物と同義である)と反応させることにより製造することができる。
なお、一般式(I)の化合物のR4が、
であり、R6又はR8が水素原子以外の置換基を有する化合物の場合には、一般式(I)の化合物は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造することもできる。
すなわち、文献既知の方法(J.Med.Chem.,40,2017(1997))に従い4−クロロ安息香酸から合成した化合物(IV)で示されるアミン(式中、R3は一般式(I)の化合物と同義であり、R13は低級アルキル基を示す)をジオキサン、THF、アセトン、DMF、DMSO、クロロホルム、ピリジン等又はそれらの混合溶媒中、−10℃から溶媒の沸点温度までの範囲でナトリウムアミド、リチウムアミド、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム tert−ブトキシド、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、DBU等の塩基存在下、スルホニルクロリド(II)(式中、R1及びR2は一般式(I)の化合物と同義である)と反応させ、化合物(V)を得た(工程B)後、エステル加水分解により化合物(VI)を得る(工程C)。次に、化合物(VI)と一般式(VII)で示されるアミン(R14は水素原子又は低級アルキル基を、R15は低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す)をトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、DBU等の塩基存在下、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(以下、DCCと略す)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(以下、EDCと略す)等の縮合剤を用いて反応させ化合物(VIII)を得た(工程D)後、オキシ塩化リン又は五硫化二リンを用いて化合物(Ia)及び化合物(Ib)を得る(工程E)ことにより製造することができる。
また、一般式(I)の化合物のR4が
であり、R6及びR8が水素原子である化合物の場合には、一般式(I)の化合物は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造することもできる。
すなわち、化合物(VI)とセリンエステル塩酸塩、システインエステル塩酸塩又はS−トリチルシステインエステル等をトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、DBU等の塩基存在下、EDC等の縮合剤を用いて反応させて得た化合物(IX)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義であり、R16はトリチル基等の保護基を有してもよいヒドロキシメチル基又はメルカプトメチル基等を表し、R17は低級アルキル基を示す)を、文献既知の方法(Tetrahedron.Letters.,33,907(1992)、J.Org.Chem.,38,26(1973)、J.Org.Chem.,58,4494(1993)、Org.Lett.,2,1165(2000)、Tetrahedron.Letters.,42,4171(2001))に従って化合物(XI)を得る(工程F及びG。式中、Zは酸素原子、硫黄原子又はNHを示す)。さらにエステル基の還元によりヒドロキシメチル基に変換することにより化合物(Ic)を製造することができる(工程H)。また、化合物(Ic)をハロゲン化することにより化合物(Id)(R18はハロゲン原子を示す)を製造することができ(工程I)、さらに化合物(Id)のハロゲン原子の還元によりメチル基に変換することにより化合物(Ie)を製造することができる(工程J)。
なお、化合物(XI)のZが硫黄原子である化合物(If)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義であり、R19は低級アルキル基を示す)をエステル加水分解することにより化合物(Ig)を製造することができる(工程K)。
また、一般式(I)の化合物のR4が、
である場合には、一般式(I)の化合物は、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造することもできる。
すなわち、化合物(XII)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義である)から、文献既知の方法(特開2000−256262号)に従い化合物(XIII)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義であり、R20はハロゲン原子を示す)を得る(工程L)。さらにチオアセトアミド又はホルムアミドにより閉環させることにより化合物(Ih)を製造することができる(工程M)。
なお、一般式(I)の化合物のR4が、
である場合には、下記に示す反応式で説明される製造法によって製造することができる。
すなわち、化合物(V)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義であり、R13は低級アルキル基を示す)のエステル基を還元し、続いて酸化することによりアルデヒド基に変換した化合物(XV)を得(工程N、O)、文献既知の方法(Bull.Chem.Soc.Jpn.,52,2013(1979))に従い化合物(Ii)(式中、R1、R2及びR3は一般式(I)の化合物と同義であり、R11及びR12は前記と同義である)を製造することができる(工程P)。
このようにして生成された一般式(I)の化合物は、再結晶やカラムクロマトグラフィー等の慣用的手段により単離精製することができる。
本発明の一般式(I)の化合物は、常法により薬学的に許容しうる酸又は塩基との塩、化合物によって塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩等の無機酸との塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、シュウ酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メシル酸塩、トシル酸塩等の有機酸との塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属との塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属との塩に導くことができる。
一般式(I)の化合物には、水和物、各種溶媒和物が含まれる。一般式(I)の化合物にはそれらの結晶形がすべて包含される。
一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容しうる塩は、経口又は非経口的(例えば、静脈もしくは筋肉内に注射)に投与することができる。
経口投与用製剤としては、例えば錠剤(糖衣錠、フィルムコーティング錠を含む)、丸剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤(ソフトカプセル剤を含む)、シロップ剤、乳剤、懸濁剤等が挙げられる。
この経口投与用製剤は製剤分野において通常用いられる添加剤を配合し、公知の方法に従って製造することができる。このような添加剤としては、例えば乳糖、マンニトール、無水リン酸水素カルシウム等の賦形剤、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の結合剤、でんぷん、カルボキシメチルセルロース等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤等が用いられる。
非経口投与用製剤としては、例えば注射剤等が挙げられる。このような注射剤は公知の方法、例えば一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容しうる塩を日局注射用水に溶解することにより製造される。必要により塩化ナトリウム等の等張化剤、リン酸水素ナトリウム、リン酸−水素ナトリウム等の緩衝剤等を配合してもよい。
一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容しうる塩の成人1日当たりの投与量は、患者の症状や体重、年齢、化合物の種類、投与経路によって変動し得るが経口投与の場合には、約0.01mgから1,000mgが適切であり、約0.1mgから300mgが好ましい。非経口投与の場合は、経口投与の10分の1量から2分の1量を投与すればよい。これらの投与量は、患者の症状や体重、年齢等により適宜増減することが可能である。
発明を実施するための最良の形態
次に本発明について、参考例及び実施例を挙げてより具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
[参考例1]メチル 4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルベンゾエート
メチル 4−アミノ−3−メタンスルホニルベンゾエート14.0gをTHF300mLに溶解し、0℃にて水素化ナトリウム(油状、60%)6.10gを加えた。同温にて40分間撹拌後、0℃にて2−クロロスルホニル−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン16.0gを加え、室温にて3時間撹拌した。原料消失を確認後、0℃にて2mol/L塩酸を加えて反応を停止した後、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を酢酸エチルにて希釈し、その溶液を活性炭処理した後に酢酸エチル−エーテル(3:1)から再結晶することにより、無色粉末として標題化合物24.8gを得た。
融点:202−204℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.69(3H,s),3.06(3H,s),3.90(3H,s),7.28(1H,ddd,J=2.6,8.7,8.9Hz),7.46(1H,dd,J=2.6,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.9Hz),7.87(1H,d,J=8.8Hz),8.19(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.50(1H,d,J=2.0Hz),9.83(1H,s).
IR νmax(KBr):3182,1724,1604,1504,1442,1396,1346,1303,1157cm−1.
[参考例2][4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニル]安息香酸
参考例1の化合物24.8gをメタノール500mLに溶解し、1mol/L水酸化ナトリウム50mLを加えた。加熱還流下3時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に水を加えエーテルで洗浄した。水層に2mol/L塩酸を加え、酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をエーテル洗浄し、無色粉末として標題化合物14.3gを得た。
融点:290℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.66(3H,s),3.05(3H,s),6.76(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.45(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),7.75(1H,dd,J=4.6,9.0Hz),7.82(1H,d,J=8.8Hz),8.17(1H,dd,J=2.0,8.8Hz),8.49(1H,d,J=2.0Hz).
IR νmax(KBr):3239,2925,1687,1609,1501,1442,1421,1400,1356,1287,1161cm−1.
[参考例3](2S)−2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニルカルボキシアミド]プロピオン酸メチルエステル
L−アラニンメチルエステル塩酸塩3.78gをジクロロメタン100mLに懸濁し、0℃にてトリエチルアミン3.8mLを加えた。ここに、参考例2の化合物10.0gのジクロロメタン懸濁液100mLを加えた。同温にて5分間撹拌後、EDC塩酸塩5.19gを加え、室温にて19時間撹拌した。1mol/L塩酸にて反応を停止した後、ジクロロメタン層を分離し、溶媒を減圧留去して得られた残渣に酢酸エチル−THF混合溶液(1:1)を加え水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をメタノールにて洗浄し、無色粉末として標題化合物9.22gを得た。
融点:162−163℃
1H−NMR(CDCl3):δ1.49(3H,d,J=7.3Hz),2.69(3H,s),3.07(3H,s),3.79(3H,s),4.74(1H,dq,J=7.3,7.3Hz),6.96(1H,d,J=7.3Hz),7.28(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.8Hz),7.47(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.77(1H,dd,J=4.7,8.8Hz),7.81(1H,d,J=8.7Hz),7.89(1H,dd,J=2.0,8.7Hz),8.25(1H,d,J=2.0Hz),9.71(1H,s).
IR νmax(KBr):3323,3222,3068,3003,2924,1737,1636,1607,1496,1306,1165,924cm−1.
[参考例4](4R)−2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾリン−4−カルボン酸メチルエステル
(2R)−2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニルカルボキシアミド]−3−トリチルチオプロピオン酸メチルエステル31.04gをジクロロメタン1500mLに溶解した。これを、0℃に冷却しヘキサメチルホスホルアミド19.8mLを加え、さらに四塩化チタン12.9mLを溶解したジクロロメタン溶液435mLを滴下した。室温にて21時間撹拌した後、水を加えて反応を停止した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を、酢酸エチルに溶解し、水、飽和食塩水にて順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、クロロホルム−ヘキサン(3:1)から再結晶することにより、無色粉末として標題化合物11.09gを得た。
融点:170−171℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.68(3H,s),3.03(3H,s),3.66(1H,dd,J=9.1,11.5Hz),3.73(1H,dd,J=9.1,11.5Hz),3.82(3H,s),5.25(1H,dd,J=9.1Hz),7.28(1H,ddd,J=2.5,8.7,8.9Hz),7.46(1H,dd,J=2.5,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.9Hz),7.85(1H,d,J=8.6Hz),8.01(1H,dd,J=2.0,8.6Hz),8.31(1H,d,J=2.0Hz),9.76(1H,s).
IR νmax(KBr):3186,3029,3000,2954,2920,1744,1606,1498,1357,1293,1225,1163,1131,989,927cm−1.
[参考例5]5−フルオロ−N−(4−ヒドロキシメチル−2−メタンスルホニルフェニル)−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド
参考例1の化合物2.08gをトルエン120mLに溶解し、−30℃に冷却後、1.01mol/Lジイソブチルアルミニウムヒドリドのトルエン溶液22.5mLを加えた。同温にて5時間撹拌し、反応溶液に水を加えて反応を停止した後、酢酸エチルで希釈し、飽和酒石酸ナトリウムカリウム水溶液を加え、30分間室温で攪拌した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し、無色粉末として標題化合物1.38gを得た。
融点:120−121℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.68(3H,s),2.96(3H,s),4.68(2H,s),7.26(1H,ddd,J=2.4,8.7,9.0Hz),7.46(1H,dd,J=2.4,9.0Hz),7.57(1H,dd,J=1.8,8.4Hz),7.75(1H,dd,J=4.5,8.7Hz),7.77(1H,d,J=8.4Hz),7.86(1H,d,J=1.8Hz),9.48(1H,s).
IR νmax(KBr):3504,3221,1608,1497,1347,1296,1150,926cm−1.
[参考例6]4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド)−3−メタンスルホニルベンズアルデヒド
参考例5の化合物830mgを酢酸エチル25mLに溶解し、活性二酸化マンガン4.15gを加え、室温で5時間攪拌した。反応溶液を酢酸エチルで希釈し、セライト濾過を行い、二酸化マンガンを除去した。溶媒留去し、無色粉末として標題化合物696mgを得た。
融点:167−170℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.70(3H,s),3.10(3H,s),7.31(1H,ddd,J=2.4,8.7,9.0Hz),7.48(1H,dd,J=2.4,9.0Hz),7.78(1H,dd J=4.5,9.0Hz),7.96(1H,d,J=8.7Hz),8.06(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),8.36(1H,d,J=2.1Hz),9.90(1H,s),9.92(1H,s).
IR νmax(KBr):3260,1694,1602,1496,1308,1164,912cm−1.
[実施例1]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物1)
アルゴン雰囲気下、2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルチアゾール−2−イル)アニリン41mgを、THF(3mL)−ジメチルアセトアミド(3mL)の混合溶液に溶解した。これを−25℃に冷却し、水素化ナトリウム(油状、60%)15mgを加え、同温にて10分間攪拌した。さらに、2−クロロスルホニル−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン44mgを加え、同温にて2時間撹拌後、1moL/L塩酸にて反応を停止した。反応液を室温に戻した後、酢酸エチル−トルエン(2:1)にて抽出し、有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し、淡黄色粉末として標題化合物51mgを得た。
融点:216−217℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.29(3H,s),2.68(3H,s),2.99(3H,s),3.93(3H,s),7.27(1H,ddd,J=2.6,8.6,8.8Hz),7.46(1H,dd,J=2.6,9.2Hz),7.75(1H,dd,J=4.7,8.8Hz),7.82(1H,d,J=8.7Hz),7.96(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),8.25(1H,d,J=2.1Hz),9.57(1H,s).
IR νmax(KBr):3202,2989,2910,1604,1558,1501,1441,1349,1298,1253,1156,1133,926cm−1.
[実施例2]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物2)
オキシ塩化リン26mLに、参考例3の化合物5.28gを加え、3時間加熱還流した。反応液を室温に戻し、氷に注ぎ、クロロホルムにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、無色粉末として標題化合物2.02gを得た。
融点:232−233℃
1H−NMR(DMSO−d6):δ2.02(3H,s),2.57(3H,s),3.32(3H,s),3.96(3H,s),7.46(1H,ddd,J=2.5,9.0,9.0Hz),7.54(1H,d,J=8.4Hz),7.81(1H,dd,J=2.5,9.9Hz),8.06(1H,dd,J=1.9,8.4Hz),8.10(1H,dd,J=4.9,9.0Hz),8.26(1H,d,J=1.9Hz).
IR νmax(KBr):3253,3083,3000,2922,1665,1491,1442,1393,1354,1308,1169,1131cm−1.
[実施例3]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物3)
4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニル−N−(2−オキソプロピル)ベンズアミド150mgの1,4−ジオキサン溶液5mLに、五硫化二リン135mgを加え4.5時間加熱還流した。反応液に水を加えて反応を停止し、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシルカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル2:1〜1:1)にて精製し、アモルファスとして標題化合物115mgを得た。
1H−NMR(CDCl3):2.51(3H,s),2.69(3H,s),3.02(3H,s),7.27(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.9Hz),7.47(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.50(1H,s),7.76(1H,dd,J=4.8,8.9Hz),7.86(1H,d,J=8.8Hz),8.05(1H,dd,J=2.1,8.8Hz),8.35(1H,d,J=2.1Hz),9.64(1H,s).
IR νmax(KBr):3240,3010,2926,1607,1499,1353,1302,1160,994cm−1.
以下、実施例2及び実施例3と同様にして実施例4〜8の化合物4〜8を合成した。
[実施例9]5−フルオロ−N−[4−(4−ヒドロキシメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンソ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物9)
リチウムアルミニウムヒドリド298mgのTHF懸濁液226mLに、5℃にて化合物15 4.52gを溶解したTHF溶液452mLを滴下し、室温にて6時間攪拌した。さらにリチウムアルミニウムヒドリド298mgを加え、室温にて14時間攪拌した。原料消失を確認後、10℃にて水10mLを加えて反応を停止し、30分間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣にクロロホルムを加え、有機層を1mol/L硫酸、水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製した。得られた結晶にクロロホルム140mL、ヘキサン28mLを加え加熱還流した。熱時ろ過した後、再結晶により得られた結晶をろ取し、減圧下乾燥し、淡黄色粉末として標題化合物2.58gを得た。
融点:209−210℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.69(3H,s),3.04(3H,s),4.80(2H,s),7.22(1H,s),7.27(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.8Hz),7.47(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.8Hz),7.88(1H,d,J=8.8Hz),8.09(1H,dd,J=2.2,8.8Hz),8.42(1H,d,J=2.2Hz),9.65(1H,s).
IR νmax(KBr):3423,3237,3114,3026,2930,1605,1509,1445,1354,1294,1152,1135cm−1.
[実施例10]N−[4−(4−クロロメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物10)
化合物9 159mgをクロロホルム20mLに懸濁した。0℃にて塩化チオニル47μLを加え、室温にて21時間撹拌した。さらに塩化チオニル1mLを加え1時間加熱還流した。さらにトリエチルアミン2mLを0℃にて加え3時間撹拌した後、1mol/L塩酸にて反応を停止した。酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、淡褐色粉末として標題化合物104mgを得た。
融点:190−191℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.69(3H,s),3.04(3H,s),4.70(2H,s),7.28(1H,ddd,J=2.5,8.6,8.8Hz),7.34(1H,s),7.47(1H,dd,J=2.5,9.2Hz),7.76(1H,dd,J=4.7,8.8Hz),7.89(1H,d,J=8.8Hz),8.11(1H,dd,J=2.2,8.8Hz),8.41(1H,d,J=2.2Hz),9.66(1H,s).
IR νmax(KBr):3236,3098,3027,2927,1607,1507,1457,1354,1306,1156,1137,912cm−1.
[実施例11]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(4−メチルチアゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物11)
化合物10 64mgをアセトン10mLに溶解し、ヨウ化ナトリウム180mgを加え24時間加熱還流した後、さらにヨウ化ナトリウム180mgを加えて19時間加熱還流した。溶媒を減圧留去した後、残渣を酢酸エチルに溶解し水、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水にて順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた5−フルオロ−N−[4−(4−ヨードメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミドを、トルエン(5mL)−ジメチルスルホキシド(0.5mL)の混合溶液に溶解し、水素化トリブチルスズ45μL及び1.06mol/Lトリエチルホウ素のヘキサン溶液13μLを加え室温にて6時間撹拌した。さらに水素化トリブチルスズ24μLを加えて室温にて3時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した。酢酸エチルにて抽出し、有機層を水、飽和食塩水にて順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン〜ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、無色粉末として標題化合物29mgを得た。
融点:199−200℃
1H−NMR(CDCl3):δ2.48(3H,s),2.69(3H,s),3.03(3H,s),6.91(1H,s),7.27(1H,ddd,J=2.4,8.6,8.8Hz),7.46(1H,dd,J=2.4,9.2Hz),7.75(1H,dd,J=4.7,8.8Hz),7.87(1H,d,J=8.7Hz),8.09(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),8.40(1H,d,J=2.1Hz),9.65(1H,s).
IR νmax(KBr):3243,3105,3028,2925,1607,1508,1442,1355,1308,1162,1135,913cm−1.
以下、実施例9〜11と同様にして実施例12〜14の化合物12〜14を合成した。
[実施例15]2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸メチルエステル(化合物15)
参考例4の化合物11.06gをジクロロメタン204mLに溶解し、0℃にてブロモトリクロロメタン2.4mLを5分間かけて滴下した。同温にて20分間撹拌した後、DBU7.6mLを15分間かけて滴下した。室温にて5時間撹拌した後、1mol/L塩酸にて反応を停止した。有機層を分離し、水および飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、無色粉末として標題化合物9.18gを得た。
融点:241−242℃
1H−NMR(DMSO−d6):δ2.61(3H,s),3.38(3H,s),3.87(3H,s),7,47(1H,ddd,J=2.5,9.0,9.0Hz),7.60(1H,d,J=8.6Hz),7.83(1H,dd,J=2.5,9.9Hz),8.11(1H,dd,J=4.7,9.0Hz),8.22(1H,dd,J=2.1,8.6Hz),8.44(1H,d,J=2.1Hz),8.63(1H,s).
IR νmax(KBr):3193,3113,3021,3003,2923,1730,1606,1509,1392,1359,1295,1225,1162,1131,988,918cm−1.
[実施例16]2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸(化合物16)
化合物15 954mgをメタノール45mLに溶解し、1mol/L水酸化ナトリウム4.0mLを加えた。加熱還流下20分間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をエーテル−水(1:1)にて抽出した。水層に2mol/L塩酸を加え、析出した結晶をエーテル洗浄し、無色粉末として標題化合物746mgを得た。
融点:257−258℃
1H−NMR(DMSO−d6):δ2.59(3H,s),3.36(3H,s),7.45(1H,ddd,J=2.3,8.8,8.8Hz),7.57(1H,d,J=8.5Hz),7.81(1H,dd,J=2.3,9.9Hz),8.09(1H,dd,J=5.0,8.8Hz),8.18(1H,dd,J=2.0,8.5Hz),8.42(1H,d,J=2.0Hz),8.51(1H,s).
IR νmax(KBr):3448,3233,3104,3027,2924,1711,1607,1516,1461,1352,1306,1217,1153,1137cm−1.
[実施例17]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(2−メチルチアゾール−4−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物17)
N−(4−アセチル−2−メタンスルホニルフェニル)−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド200mgをクロロホルム4.0mLに溶解し、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロマイド194mgを加え、室温で1時間攪拌した。反応溶液に水を加えて反応を停止した後、一度溶媒留去し、1mol/L塩酸を加えpH2〜3に調整した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をメタノールで洗浄し、無色固体としてN−(4−ブロモアセチル−2−メタンスルホニルフェニル)−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド201mgを得た。このようにして得られたN−(4−ブロモアセチル−2−メタンスルホニルフェニル)−5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド150mgをジオキサン(1.5mL)−エタノール(1.5mL)の混合溶液に溶解し、炭酸水素ナトリウム53mg、チオアセトアミド26mgを順次加え、加熱還流下2時間攪拌した。反応溶液に水を加えて反応を停止した後、溶媒を減圧留去し、1mol/L塩酸を加えpH2〜3に調整し、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色結晶の標題化合物61mgを得た。
融点:217−220℃
1H−NNR(CDCl3):δ2.68(3H,s),2.75(3H,s),2.99(3H,s)7.27(1H,ddd,J=2.4,8.7,9.0Hz),7.33(1H,s),7.45(1H,dd,J=2.4,9.3Hz),7.75(1H,dd J=4.5,9.0Hz),7.84(1H,d,J=8.7Hz),8.06(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),8.35(1H,d,J=2.1Hz),9.55(1H,s).
IR νmax(KBr):3237,1604,1514,1352,1296,1163,899cm−1.
[実施例18]5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−((E)−2−メタンスルフィニル−2−メチルスルファニルビニル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド(化合物18)
参考例6の化合物135mgをアルゴン雰囲気下THF2mLに溶解し、室温でメチルメチルスルフィニルメチルスルフィド196mg,40%トライトンBのメタノール溶液862μLを順次加え、加熱還流下、16時間攪拌した。反応溶液に1mol/L塩酸を加えて反応を停止した後、酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)にて精製し、無色アモルファスの標題化合物105mgを得た。
1H−NMR(CDCl3):δ2.32(3H,s),2.70(3H,s),2.76(3H,s),3.04(3H,s),7.28(1H,ddd,J=2.4,9.0,9.3Hz),7.48(1H,dd,J=2.4,9.3Hz),7.52(1H,s),7.78(1H,dd J=4.8,9.0Hz),7.83(1H,d,J=8.7Hz),8.02(1H,dd,J=2.1,8.7Hz),8.46(1H,d,J=2.1Hz),9.65(1H,s).
IR νmax(KBr):3446,3225,1604,1492,1303,1163,1133,924cm−1.
以下に、各実施例の機器データを示す。
次に、本発明の代表的な化合物について、下記の試験例により、キマーゼ阻害活性について試験した。
[試験例1]ヒトキマーゼ阻害活性の測定
ヒトキマーゼはヒトキマーゼをコードする遺伝子(FEBS.Let.,412,86(1997))を組み込んだバキュロウィルスを感染させたカイコから得られたものを用いた。
キマーゼ活性は、文献既知の方法(宮崎ら;血管,20,207(1997))を参考にした。すなわち、AngIIと共に生成する遊離His−Leuとo−フタルアルデヒド(以下、OPTと略す)を反応させて蛍光誘導体とし、その量を蛍光光度計を用いて定量することにより測定した。
まず各被検化合物3.6μmolを試験管に秤量し、DMSO3mLに溶解した。このDMSO溶液を0.01%トライトンX−100及び0.5mol/L塩化カリウムを含む20mmol/Lトリス−塩酸緩衝液(pH8.0)で1000倍希釈して1.2×10−6mol/L溶液とし、さらに緩衝液で順次希釈して、1.2×10−6mol/Lから1.2×10−9mol/Lまでの被検試料溶液を調製した。各濃度の被検試料溶液又は緩衝液500μLに対し酵素溶液50μLを加え、37℃で10分間プレインキュベーションした後、0.1mmol/L AngI溶液50μLを加えて反応を開始した。AngIはヒトアンギオテンシンI(SIGMA製)を使用した。反応に用いる酵素溶液はこの条件で約6割の基質を加水分解するように調整し、酵素を含まない緩衝液を添加した反応を盲検とした。37℃で120分間インキュベートした後15%トリクロロ酢酸900μLを加えて反応を停止した。その後反応液を4℃、3,000rpmで10分間遠心分離して得た上清1mLに2mol/L水酸化ナトリウム2mL及びメタノール1mLを加えた。ここに1mL中にN−アセチル−L−システイン1.2mg及びOPT1mgを含むメタノール溶液100μLを加えて誘導体化反応を開始し、室温にて正確に1時間放置した後、励起波長304nm、蛍光波長502nmの蛍光強度を測定した。測定は各試料及び盲検について2回繰返し、その平均値から盲検の平均値を差引いた蛍光強度をキマーゼ活性とした。
なお、被検試料溶液に替えて緩衝液を用いて酵素反応を行ったものをコントロールとし、またキマーゼ活性の阻害率はコントロールのキマーゼ活性から被検試料添加時の活性を減じた差をコントロールのキマーゼ活性で除して求めた。また、各阻害率から50%阻害濃度(以下、IC50値という)を算出した。
代表的な化合物についてのヒトキマーゼの10−7mol/Lにおける阻害率及びIC50値を表4に示す。
産業上の利用分野
本発明のN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩は、キマーゼに対する選択的な阻害作用を有し、キマーゼ活性に基づくアンギオテンシンII又はエンドセリンI産生の異常亢進に又は肥満細胞の活性化に起因する心臓・循環器系疾患、特に心筋梗塞、PTCA施行後の再狭窄及びバイパスグラフト後の内膜肥厚の予防・治療剤として有用である。
Claims (4)
- 一般式(I)
[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基を、R2及びR3はそれぞれ異なっていてもよく炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基を、R4は
(Xは酸素原子又はNHを、Yは酸素原子、硫黄原子又はNHを、R5及びR6はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルコキシ基又はヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基及びヒドロキシブチル基からなる群より選択されるヒドロキシ低級アルキル基を、R7及びR8はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルコキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基及びヒドロキシブチル基からなる群より選択されるヒドロキシ低級アルキル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルコキシカルボニル基又はカルボキシル基を、R9及びR10はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子で置換していてもよい炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルコキシ基又はヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基及びヒドロキシブチル基からなる群より選択されるヒドロキシ低級アルキル基を示す(ただし、R5及びR6、R7及びR8並びにR9及びR10はそれぞれ同時に水素原子ではない))で表される単環複素環基又は
で表される基(式中、R11及びR12はそれぞれ異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキルスルファニル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキルスルフィニル基、炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルキルスルホニル基又は炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の低級アルコキシカルボニル基を示す)]により表されるN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩。 - 2−[4−(5−フルオロ−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホニルアミノ)−3−メタンスルホニルフェニル]チアゾール−4−カルボン酸、5−フルオロ−N−[4−(4−ヒドロキシメチルチアゾール−2−イル)−2−メタンスルホニルフェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メトキシ−4−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−(5−メチルオキサゾール−2−イル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミド、5−フルオロ−N−[2−メタンスルホニル−4−((E)−2−メタンスルフィニル−2−メチルスルファニルビニル)フェニル]−3−メチルベンゾ[b]チオフェン−2−スルホンアミドから選ばれる請求項1記載のN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩。
- 請求項1又は2に記載のN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩を含有することを特徴とするキマーゼ阻害剤。
- 請求項1又は2に記載のN置換ベンゾチオフェンスルホンアミド誘導体又はその薬学的に許容しうる塩を含有することを特徴とする医薬。
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