JP4453316B2 - 有機発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence；以下、単に「ＥＬ」という。）現象を利用して発光する有機発光装置およびその製造方法、ならびに有機発光装置を利用して映像を表示する表示装置に関する。

近年、フラットパネルディスプレイの１つとして、有機ＥＬ現象を利用して映像を表示する有機ＥＬディスプレイが注目されている。この有機ＥＬディスプレイは、有機発光素子自体の発光現象を利用しているために視野角が広く、かつ消費電力が低い点において優れている。特に、有機ＥＬディスプレイは、例えば、高精細度の高速ビデオ信号に対して十分な応答性を有するものと考えられており、映像分野等において実用化に向けて開発が進められている。

有機ＥＬディスプレイは、主に、有機発光素子およびその有機発光素子を駆動させるための駆動素子（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）が設けられた駆動パネルと封止パネルとが対向配置され、これらの駆動パネルと封止パネルとが有機発光素子を挟むように接着層を介して貼り合わされた構成を有している。有機発光素子は、２つの電極層の間に発光層を含む層が挟まれた構成を有しており、この発光層を含む層は、光の発生源としての発光層と共に、その発光層以外の層として正孔輸送層や電子輸送層などを含んで構成されている。この有機ＥＬディスプレイの表示方式としては、例えば、発光層において発生した光を一方の電極層（封止パネルに近い側の電極層）を経由して放出するトップエミッション型と、他方の電極層（駆動パネルに近い側の電極層）を経由して放出するボトムエミッション型とが知られている。

この有機ＥＬディスプレイにおいて、有機発光素子を利用してフルカラーの映像を表示する機構としては、既にいくつかの機構が技術化されている。具体的には、例えば、光の３原色に対応する３色の光、すなわち赤色（Ｒ；Red ）の光、緑色（Ｇ；Green ）の光および青色（Ｂ；Blue）の光を別々に発生可能な３種類の発光層を蒸着して塗り分けることにより３つの有機発光素子を形成し、これらの３つの有機発光素子に基づいて３色の画素を構成する表示機構が技術化されている。また、例えば、白色光を発生させる３つの有機発光素子を使用し、色変換用のカラーフィルタを利用して各白色光を３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の光に変換することにより映像を表示する表示機構が技術化されている。この場合には、カラーフィルタの色変換機能を確保するために、フィルタ濃度を高めにしたり、あるいはフィルタ厚を厚めに設計する必要がある。

なお、有機ＥＬディスプレイの表示機構に関しては、他の関連技術もいくつか提案されている。具体的には、例えば、有機発光素子から放出される光の放出効率を向上させるために、発光層を含む層のうち、その発光層以外の層の厚さを各色ごとに異ならせる技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）。この有機ＥＬディスプレイでは、発光層以外の層の厚さの差異、すなわち光の放出過程における光路長の差異に基づき、光の干渉現象を利用して各色ごとに光の放出効率が向上する。
特開平２０００−３２３２７７号公報

また、例えば、上記した関連技術と同様に光の放出効率を向上させるために、発光層以外の層の厚さを各色ごとに一定にした上で、電極層（透明電極）の厚さを各色ごとに異ならせる技術が知られている（例えば、特許文献２参照。）。この有機ＥＬディスプレイでは、電極層の厚さの差異に基づき、光の干渉現象を利用して各色ごとに光の放出効率が向上する。
特開２００３−１４２２７７号公報

また、例えば、電極層（透明電極）を低抵抗化するために、その電極層に金属薄膜（例えば５０ｎｍ以下の厚さの銀（Ａｇ））を挿入する技術が知られている（例えば、特許文献３参照。）。この有機ＥＬディスプレイでは、金属薄膜の導電特性を利用して、電極層が低抵抗化される。
特開２００２−３３４７９２号公報

また、例えば、高輝度の白色光を効率よく発生させるために、青色の光を発生させる青色発光層と、緑色の光を発生させる緑色発光層と、赤色の光を発生させる赤色発光層とを積層することにより発光層を構成する技術が知られている（例えば、特許文献４参照。）。この有機ＥＬディスプレイでは、青色発光層、緑色発光層および赤色発光層が積層されることにより構成された発光層の構成的特徴に基づき、白色光が高輝度化すると共に、その白色光の発生効率が向上する。
特開平１０−００３９９０号公報

ところで、有機ＥＬディスプレイの普及を図るためには、例えば、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立する必要がある。しかしながら、上記した従来の有機ＥＬディスプレイでは、主に表示機構や製造手法に起因して、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが困難であるという問題があった。

具体的には、３種類の発光層を蒸着して塗り分けることにより３つの有機発光素子が形成された従来の有機ＥＬディスプレイでは、例えば、各有機発光素子において発生した３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の光をそのまま利用することが可能なため、光の利用損失が少ないという表示性能面において利点を有しているが、３種類の発光層を蒸着して塗り分けるためにマスク（例えばメタルマスク）が必要なため、このメタルマスクの大型化が困難な点に起因して、ディスプレイサイズの大型化が困難であるという製造可能性面において欠点を有している。一方、カラーフィルタを使用して白色光を３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の光に変換する従来の有機ＥＬディスプレイでは、例えば、各発光層が互いに同一の材質であり、メタルマスクを使用した発光層の塗り分けが不要であるため、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能であるという製造可能性面において利点を有しているが、高濃度かつ厚めのカラーフィルタを使用して白色光を３色の光に変換する過程において光が吸収されやすいため、光の利用損失が大きくなるという表示性能面において欠点を有している。

なお、従来の有機ＥＬディスプレイに関しては、一連の関連技術として上記したように、主に表示性能面のみにおいて改善を図るためにいくつかの提案がなされている現状にあるため、有機ＥＬディスプレイが普及しつつある今日の市場動向を考慮すれば、製造可能性面において未だ改善の余地があると言える。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが可能な表示発光装置を提供することにある。

また、本発明の第２の目的は、本発明の有機発光装置を容易かつ安定に製造することが可能な有機発光装置の製造方法を提供することにある。

さらに、本発明の第３の目的は、本発明の表示発光装置を備えた表示装置を提供することにある。

本発明に係る有機発光装置は、下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備え、下部電極層が発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含み、発光層が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子が発光層において発生した光を反射層のうちの最上層の共振端面と上部電極層との間において共振させたのちその上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、反射層およびバリア層の積層方向における共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なっているものである。

また、本発明に係る有機発光装置の製造方法は、下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備えた有機発光装置の製造工程が、発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含むように下部電極層を形成する工程を含み、発光層が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子が発光層において発生した光を反射層のうちの最上層の共振端面と上部電極層との間において共振させたのちその上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、反射層およびバリア層の積層方向における共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なり、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なるようにしたものである。

さらに、本発明に係る表示装置は、下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備え、下部電極層が発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含み、発光層が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子が発光層において発生した光を反射層のうちの最上層の共振端面と上部電極層との間において共振させたのちその上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、反射層およびバリア層の積層方向における共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なっているものである。

本発明に係る有機発光装置では、下部電極層が発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共にその積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含んでいると共に、反射層のうちの最上層の共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、かつ、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なっている。この場合には、発光層から赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生させることにより、バリア層の厚さの差異に基づく共振長の差異に起因した光の干渉現象を利用して赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子からそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光が放出される。

また、本発明に係る有機発光装置の製造方法では、発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共にその積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含むように下部電極層を形成すると共に、反射層のうちの最上層の共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なり、かつ、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なるようにした。この場合には、下部電極層を継続的に再現性よく形成するために、既存の薄膜プロセスしか使用せず、新規かつ煩雑な製造プロセスを使用しない。

さらに、本発明に係る表示装置では、本発明の有機発光装置を備えているため、表示装置を製造する上でメタルマスクを使用して発光層を塗り分ける必要がないと共に、発光層において発生した光をカラーフィルタで色変換する必要がない。これにより、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能になると共に、光の利用効率を確保することが可能になる。

本発明に係る有機発光装置によれば、下部電極層が発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共にその積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含んでいると共に、反射層のうちの最上層の共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、かつ、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なっている。よって、赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子からそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出することが可能になるため、この有機発光装置を利用して、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することが可能な表示装置を構成することができる。

また、本発明に係る有機発光装置の製造方法によれば、既存の薄膜プロセスのみを使用して、発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共にその積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含むように下部電極層を形成すると共に、反射層のうちの最上層の共振端面の位置ならびに下部電極層における積層単位の数が赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なり、かつ、バリア層のうちの最上層の厚さが赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子の間において互いに異なる有機発光装置を製造することが可能である。よって、有機発光装置を容易かつ安定に製造することができる。

さらに、本発明に係る表示装置によれば、本発明の有機発光装置を備え、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能になると共に光の利用効率を確保することが可能になるため、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。

［第１の実施の形態］
まず、図１を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る表示装置としての有機ＥＬディスプレイの構成について説明する。図１は、有機ＥＬディスプレイの断面構成を表している。

この有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ現象を利用して映像を表示するものであり、例えば、図１に示したように、有機発光素子３０およびその有機発光素子３０を駆動させるための駆動素子（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）１２が設けられた有機発光装置としての駆動パネル１０と封止パネル５０とが対向配置され、これらの駆動パネル１０と封止パネル５０とが有機発光素子３０を挟むように接着層６０を介して貼り合わされた構成を有している。この有機ＥＬディスプレイは、例えば、有機発光素子３０において発生した光Ｅを上方、すなわち封止パネル５０から外部に放出するトップエミッション型構造を有している。

駆動パネル１０は、基体としての駆動用基板１１に、上記した有機発光素子３０として３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが設けられた構成を有している。この駆動パネル１０は、具体的には、例えば、駆動用基板１１の一面に、ＴＦＴ１２として３つのＴＦＴ１２１，１２２，１２３と、層間絶縁層１３と、各ＴＦＴ１２１〜１２３ごとに２組ずつ設けられた配線１４と、有機発光素子３０（３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ）が配設される下地領域としての平坦化層１５と、上記した有機発光素子３０（３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ）、補助配線４０および層内絶縁層１７と、保護層２０とがこの順に積層された構成を有している。

駆動用基板１１は、有機発光素子３０およびＴＦＴ１２を支持するためのものであり、例えば、ガラスなどの絶縁性材料により構成されている。

ＴＦＴ１２（１２１，１２２，１２３）は、有機発光素子３０（３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ）を駆動させて発光させるためのものである。このＴＦＴ１２は図示しないゲート電極、ソース電極およびドレイン電極を含んで構成されており、そのゲート電極は走査回路（図示せず）に接続され、ソース電極およびドレイン電極はいずれも層間絶縁層１３に設けられた接続孔（図示せず）を通じて配線１４に接続されている。なお、ＴＦＴ１２の構成は特に限定されず、例えば、ボトムゲート型であってもよいし、あるいはトップゲート型であってもよい。

層間絶縁層１３は、各ＴＦＴ１２１〜１２３間を電気的に分離するためのものであり、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）やＰＳＧ（Phospho-Silicate Glass）などの絶縁性材料により構成されている。

配線１４は、信号線として機能するものであり、例えば、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム銅合金（ＡｌＣｕ）などの導電性材料により構成されている。

平坦化層１５は、有機発光素子３０が配設される下地領域を平坦化し、その有機発光素子３０を構成する一連の層を高精度に形成するためのものであり、例えば、ポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールなどの有機絶縁性材料や、酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）などの無機絶縁性材料により構成されている。

有機発光素子３０（３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｒ）は映像表示用の光Ｅを発生するものであり、具体的には、後述する発光層を含む層１８において発生した所定の色（波長）の光を光の３原色に対応する３色（Ｒ；Red ，Ｇ；Green ，Ｂ；Blue）の光に変換して放出するものである。有機発光素子３０Ｒは、赤色の光ＥＲを放出するものであり、駆動用基板１１に近い側から順に、第１の電極層としての下部電極層１６Ｒと、発光層を含む層１８と、第２の電極層としての上部電極層１９とが積層された構成を有している。有機発光素子３０Ｇは、緑色の光ＥＧを放出するものであり、駆動用基板１１に近い側から順に、第１の電極層としての下部電極層１６Ｇと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。有機発光素子３０Ｂは、青色の光ＥＢを放出するものであり、駆動用基板１１に近い側から順に、第１の電極層としての下部電極層１６Ｂと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。これらの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂは、例えば、各ＴＦＴ１２１〜１２３にそれぞれ対応して配置されており、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、いずれも平坦化層１５に設けられた接続孔（図示せず）を通じて各ＴＦＴ１２１〜１２３ごとに設けられた配線１４に接続されている。なお、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの詳細な構成に関しては後述する（図２および図３参照）。

補助配線４０は、図示しない電源と上部電極層１９との間の抵抗の差異を緩和することにより３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の抵抗差を低減させるためのものであり、その上部電極層１９と電気的に接続されている。この補助配線４０は、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂと同一階層に配設されており、例えば、その有機発光素子３０Ｒとほぼ同様の構成を有している。なお、補助配線４０の詳細な構成に関しては後述する（図２参照）。

層内絶縁層１７は、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂおよび補助配線４０間を電気的に分離すると共に、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから放出される光Ｅ（ＥＲ，ＥＧ，ＥＢ）の放出範囲を規定するためのものであり、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂおよび補助配線４０の周囲に配設されている。この層内絶縁層１７は、例えば、ポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールなどの有機絶縁性材料や酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）などの無機絶縁性材料により構成されており、その厚さは約６００ｎｍである。

保護層２０は、有機発光素子３０を保護するためのものであり、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ₂ ）や窒化シリコン（ＳｉＮ）などの光透過性の誘電材料により構成されたパッシベーション膜である。

封止パネル５０は、封止用基板５１の一面にカラーフィルタ５２が設けられた構成を有している。

封止用基板５１は、カラーフィルタ５２を支持すると共に、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから放出された光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを透過して外部に放出可能とするためのものであり、例えば、ガラスなどの絶縁性材料により構成されている。

カラーフィルタ５２は、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂからそれぞれ放出された光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを有機ＥＬディスプレイの外部へ導くと共に、その有機ＥＬディスプレイの内部へ外光が侵入して各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂや補助配線４０において反射した際に、その反射光を吸収することによりコントラストを確保するためのものである。このカラーフィルタ５２は、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂに対応して配置された３つの領域、すなわち赤色領域５２Ｒ、緑色領域５２Ｇおよび青色領域５２Ｂを含んで構成されており、これらの赤色領域５２Ｒ、緑色領域５２Ｇおよび青色領域５２Ｂは、例えば、それぞれ赤色、緑色および青色の顔料が混入された樹脂により構成されている。

接着層６０は、駆動パネル１０と封止パネル５０とを貼り合わせるためのものであり、例えば、熱硬化型樹脂などの接着性材料により構成されている。

なお、図１では、図示を簡略化するために３つのＴＦＴ１２（ＴＦＴ１２１〜１２３）および１組の有機発光素子３０（３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ）のみを示したが、実際には駆動用基板１１に複数のＴＦＴ１２がマトリックス状に設けられており、この複数のＴＦＴ１２に対応して複数組の有機発光素子３０が配置されている。

次に、図１および図２を参照して、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂおよび補助配線４０の詳細な構成について説明する。図２は、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂおよび補助配線４０の断面構成を拡大して模式的に表している。

有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂは、例えば、図２に示したように、互いに異なる総厚を有する積層構造を有している。これらの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、それぞれ発光層を含む層１８から遠い側から順に、その発光層を含む層１８において発生した光を上部電極層１９との間で共振させるための端面（共振端面）ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１を有する反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂと、これらの反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂを保護するためのバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂとが積層された積層構造を含んで構成されている。具体的には、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、例えば、発光層を含む層１８から遠い側から順に「下部電極構成層」と「上部電極構成層」とが積層された積層単位Ｕを有し、この積層単位Ｕが１または２以上繰り返された積層構造を含んで構成されている。この「下部電極構成層」とは、後述するように、実質的に共振機能を担う「真の反射層（反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂ）」と、実質的に共振機能を担わない「模擬的な反射層」との双方を含む概念の層であり、「上部電極構成層」も同様に、実質的に保護機能を担う「真のバリア層（バリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂ）」と、実質的に保護機能を担わない「模擬的なバリア層」との双方を含む概念の層である。

第１の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｒは、例えば、上記したように、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層１６Ｒと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｒは、例えば、上記した積層単位Ｕを２つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層１６１Ｒと、下部電極構成層１６２Ｒ１と、上部電極構成層１６３Ｒ１と、下部電極構成層１６２Ｒ２と、上部電極構成層１６３Ｒ２とが積層された構成を有しており、下部電極構成層１６２Ｒ１，１６２Ｒ２のうちの最上層（下部電極構成層１６２Ｒ２）が「真の反射層１６２Ｒ」であり、上部電極構成層１６３Ｒ１，１６３Ｒ２のうちの最上層（上部電極構成層１６３Ｒ２）が「真のバリア層１６３Ｒ」である。このバリア層１６３Ｒは、例えば、下層としての下部バリア層１６３ＲＸと、上層としての上部バリア層１６３ＲＹとがこの順に積層された構成を有している。この有機発光素子３０Ｒは、上記したように、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｒと上部電極層１９との間で共振させる共振構造（一種の狭帯域フィルタ）を有しており、反射層１６２Ｒと上部電極層１９との間の光学的距離Ｌ（ＬＲ）は、例えば、下記の数２の関係を満たしている。特に、有機発光素子３０Ｒは、発光層を含む層１８において発生した光を赤色の光ＥＲに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイでは、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｒと上部電極層１９との間で共振させたのちに上部電極層１９を経由して放出するものである。

（数２）
（２ＬＲ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍＲ
（式中、ＬＲ，λ，Φ，ｍＲは、ＬＲが反射層１６２Ｒ（反射層１６２のうちのバリア層１６３Ｒに隣接する第１の端面としての端面（共振端面）ＰＲ１）と上部電極層１９（上部電極層１９のうちの発光層を含む層１８に隣接する第２の端面としての端面ＰＲ２）との間の光学的距離、λが放出したい光のスペクトルのピーク波長、Φが反射層（端面ＰＲ１）および上部電極層（端面ＰＲ２）で生じる反射光の位相シフト、ｍＲが０または整数（例えばｍＲ＝０）をそれぞれ表している。）

密着層１６１Ｒは、駆動用基板１１、より具体的にはその駆動用基板１１の一面に設けられた平坦化層１５に対する反射層１６２Ｒおよびバリア層１６３Ｒの密着性を高めるためのものである。この密着層１６１Ｒは、例えば、クロム（Ｃｒ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）およびモリブデン（Ｍｏ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物またはその金属窒化物などにより構成されており、その厚さは約１ｎｍ〜３００ｎｍである。これらの「合金」、「金属酸化物」および「金属窒化物」としては、例えば、合金としてインジウム錫合金（ＩｎＳｎ）、インジウム亜鉛合金（ＩｎＺｎ）、アルミニウムネオジム合金（ＡｌＮｄ）およびアルミニウム銅合金ケイ素化物（ＡｌＣｕＳｉ）、金属酸化物として酸化インジウム錫（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ；Indium Zinc Oxide ）または酸化クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）、金属窒化物として窒化チタン（ＴｉＮ）などが挙げられる。特に、密着層１６１Ｒは、例えば、密着性や導電性に優れたＩＴＯやＩＺＯにより構成されているのが好ましい。この密着層１６１Ｒの厚さは、例えば、上記したように導電性に優れたＩＴＯやＩＺＯにより構成されている場合には約１ｎｍ〜３００ｎｍが好ましい上、さらにＩＴＯの表面平坦性を考慮すれば約３ｎｍ〜５０ｎｍがより好ましく、一方、ＩＴＯやＩＺＯよりも導電性が劣る酸化クロムにより構成されている場合には、配線１４と下部電極層１６Ｒとの間の接続抵抗が大きくなりすぎることを防止する上で約１ｎｍ〜２０ｎｍが好ましい。

反射層１６２Ｒ（下部電極構成層１６２Ｒ２）は、発光層を含む層１８において発生した光を上部電極層１９との間で共振させるための反射層として機能するものであり、例えば、銀（Ａｇ）または銀を含む合金により構成されている。この銀を含む合金としては、例えば、銀と共に、パラジウム（Ｐｄ）、ネオジウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、イットリウム（Ｙ）、セリウム（Ｃｅ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、スカンジウム（Ｓｃ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）を含む群のうちの少なくとも１種を含む合金、具体的には銀パラジウム銅合金（ＡｇＰｄＣｕ）などが挙げられる。この反射層１６２Ｒの厚さは、例えば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイでは上部電極層１９の厚さよりも厚くなっており、約１００ｎｍ〜３００ｎｍである。なお、下部電極構成層１６２Ｒ１は、実質的に共振機能を担わない模擬層であり、例えば、反射層１６２Ｒ（下部電極構成層１６２Ｒ２）と同様の材料により構成されている。

バリア層１６３Ｒ（上部電極構成層１６３Ｒ２）は、例えば、反射層１６２Ｒ（下部電極構成層１６２Ｒ２）よりも仕事関数が大きい材料により構成されており、その厚さは約１ｎｍ〜２００ｎｍである。具体的には、バリア層１６３Ｒは、例えば、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物を含む光透過性材料により構成されている。これらの「合金」、「金属酸化物」および「金属窒化物」としては、例えば、合金としてインジウム錫合金やインジウム亜鉛合金、金属酸化物としてＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化インジウム（Ｉｎ₂ Ｏ₃ ）、酸化錫（ＳｎＯ₂ ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）および酸化クロム（ＣｒＯ₂ ）、金属窒化物として窒化チタンや窒化クロム（ＣｒＮ）などが挙げられる。このバリア層１６３Ｒのうちの下部バリア層１６３ＲＸは、例えばＩＴＯにより構成されており、上部バリア層１６３ＲＹは、例えばＩＺＯにより構成されている。なお、上部電極構成層１６３Ｒ１は、実質的に保護機能を担わない模擬層であり、例えば、バリア層１６３Ｒ（上部電極構成層１６３Ｒ２）と同様の材料により構成されている。

第２の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｇは、例えば、バリア層１６３Ｇの構成が異なる点を除き、有機発光素子３０Ｒとほぼ同様の構成を有している。すなわち、有機発光素子３０Ｇは、例えば、上記したように、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層１６Ｇと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｇは、例えば、上記した積層単位Ｕを２つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層１６１Ｇと、下部電極構成層１６２Ｇ１と、上部電極構成層１６３Ｇ１と、下部電極構成層１６２Ｇ２と、上部電極構成層１６３Ｇ２とが積層された構成を有しており、下部電極構成層１６２Ｇ１，１６２Ｇ２のうちの最上層（下部電極構成層１６２Ｇ２）が「真の反射層１６２Ｇ」であり、上部電極構成層１６３Ｇ１，１６３Ｇ２のうちの最上層（上部電極構成層１６３Ｇ２）が「真のバリア層１６３Ｇ」である。このバリア層１６３Ｇは、例えば、有機発光素子３０Ｒのうちのバリア層１６３Ｒとは異なり、単層構造を有している。なお、下部電極層１６Ｇのうちの下部電極構成層１６２Ｇ１，１６２Ｇ２の材質は、例えば、下部電極層１６Ｒのうちの下部電極構成層１６２Ｒ１，１６２Ｒ２と同様であり、上部電極構成層１６３Ｇ１，１６３Ｇ２の材質は、例えば、上部電極構成層１６３Ｒ１，１６３Ｒ２と同様である。

この有機発光素子３０Ｇは、有機発光素子３０Ｒと同様に、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｇと上部電極層１９との間で共振させる共振構造を有しており、反射層１６２Ｇと上部電極層１９との間の光学的距離Ｌ（ＬＧ）は、例えば、下記の数３の関係を満たしている。特に、有機発光素子３０Ｇは、発光層を含む層１８において発生した光を緑色の光ＥＧに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイでは、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｇと上部電極層１９との間で共振させたのちに上部電極層１９を経由して放出するものである。

（数３）
（２ＬＧ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍＧ
（式中、ＬＧ，Φ，ｍＧは、ＬＧが反射層１６２Ｇ（反射層１６２Ｇのうちのバリア層１６３Ｇに隣接する第１の端面としての端面（共振端面）ＰＧ１）と上部電極層１９（上部電極層１９のうちの発光層を含む層１８に隣接する第２の端面としての端面ＰＧ２）との間の光学的距離、Φが反射層１６２Ｇ（端面ＰＧ１）および上部電極層１９（端面ＰＧ２）で生じる反射光の位相シフト、ｍＧが０または整数（例えばｍＧ＝０）をそれぞれ表している。）

第３の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｂは、例えば、上記したように、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層１６Ｂと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｂは、例えば、上記した積層単位Ｕを１つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層１６１Ｂと、下部電極構成層１６２Ｂ１と、上部電極構成層１６３Ｂ１とが積層された構成を有しており、その下部電極構成層１６２Ｂ１が「真の反射層１６２Ｂ」であり、上部電極構成層１６３Ｂ１が「真のバリア層１６３Ｂ」である。なお、下部電極層１６Ｂのうちの下部電極構成層１６２Ｂ１の材質は、例えば、下部電極層１６Ｒのうちの下部電極構成層１６２Ｒ１，１６２Ｒ２と同様であり、上部電極構成層１６３Ｂ１の材質は、例えば、上部電極構成層１６３Ｒ１，１６３Ｒ２と同様である。

この有機発光素子３０Ｂは、有機発光素子３０Ｒと同様に、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｂと上部電極層１９との間で共振させる共振構造を有しており、反射層１６２Ｂと上部電極層１９との間の光学的距離Ｌ（ＬＢ）は、例えば、下記の数４の関係を満たしている。特に、有機発光素子３０Ｂは、発光層を含む層１８において発生した光を青色の光ＥＢに変換するものであり、より具体的には、例えば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイでは、発光層を含む層１８において発生した光を反射層１６２Ｂと上部電極層１９との間で共振させたのちに上部電極層１９を経由して放出するものである。

（数４）
（２ＬＢ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍＢ
（式中、ＬＢ，Φ，ｍＢは、ＬＢが反射層１６２Ｂ（反射層１６２Ｂのうちのバリア層１６３Ｂに隣接する第１の端面としての端面（共振端面）ＰＢ１）と上部電極層１９（上部電極層１９のうちの発光層を含む層１８に隣接する第２の端面としての端面ＰＢ２）との間の光学的距離、Φが反射層１６２Ｂ（端面ＰＢ１）および上部電極層１９（端面ＰＢ２）で生じる反射光の位相シフト、ｍＢが０または整数（例えばｍＢ＝０）をそれぞれ表している。）

確認までに、図２では、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の構成の差異を見やすくするために、発光層を含む層１８および上部電極層１９を双方を各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂごとに分離して示しているが、実際には、例えば、図１および図２に示したように、発光層を含む層１８は、有機発光素子３０Ｒのうちの下部電極層１６Ｒ（バリア層１６３Ｒ）上、有機発光素子３０Ｇのうちの下部電極層１６Ｇ（バリア層１６３Ｇ）上、ならびに有機発光素子３０Ｂのうちの下部電極層１６Ｂ（バリア層１６３Ｂ）上の全てを経由するように連続的に延在していると共に、上部電極層１９は、発光層を含む１８を覆うように連続的に延在しており、すなわち発光層を含む層１８および上部電極層１９の双方は、いずれも各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにより共有されている。なお、発光層を含む１８の詳細な構成に関しては後述する（図３参照）。

上部電極層１９は、例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、またはその金属を含む合金などにより構成されている。この「金属を含む合金」としては、例えば、マグネシウム銀合金（ＭｇＡｇ）などが挙げられる。この上部電極層１９の厚さは、例えば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイでは反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂの厚さよりも薄くなっており、約１ｎｍ〜２０ｎｍである。特に、上部電極層１９は、上記したように有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂがいずれも共振構造を有している点に基づき、発光層を含む１８において発生した光を反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂとの間で共振させるために反射させると共に必要に応じて共振後の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを外部に放出させるために透過させる半透過反射層として機能するものである。

図２に示したように、反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂのうちの共振端面ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１の積層方向（図中の上下方向）における位置（高さ）は、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの少なくとも２つ間において互いに異なっている。具体的には、共振端面ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１の位置は、例えば、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ間において互いに一致していると共に、それらの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇと有機発光素子３０Ｂとの間で互いに異なっており、すなわち共振端面ＰＲ１，ＰＧ１の位置は共振端面ＰＢ１の位置よりも高くなっている。

また、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの発光層を含む層１８の厚さＨＲ，ＨＧ，ＨＢは、例えば、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに等しくなっている（ＨＲ＝ＨＧ＝ＨＢ）。この発光層を含む層１８は、例えば、有機層であり、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに等しい色（波長）の光を発生させるものである。

特に、バリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂの厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢは、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに異なっており、具体的には、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから放出される３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに対応して互いに異なっている。すなわち、厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢは、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが発光層を含む層１８において発生した光をそれぞれ赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢに変換して放出可能となるように設定されており、具体的には、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから放出される赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢに対応して順に薄くなっている（ＤＲ＞ＤＧ＞ＤＢ）。上記した「発光層を含む層１８において発生した光を赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢに変換して放出する」とは、例えば、図２に示したように、発光層を含む層１８中の点ＮＲ，ＮＧ，ＮＢにおいて発生した光が反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂと上部電極層１９との間で共振したのちにその上部電極層１９を経由して放出される過程において、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の共振長が互いに異なることに起因する光の干渉現象を利用して、ＮＲ，ＮＧ，ＮＢにおいて発生した際に互いに同一の波長を有していた光の波長を放出時に各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂごとに異ならせ、すなわち有機発光素子３０Ｒにおいて赤色に対応する波長、有機発光素子３０Ｇにおいて緑色に対応する波長、ならびに有機発光素子３０Ｂにおいて青色に対応する波長にそれぞれシフトさせることにより、最終的に赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢを生成するという意味である。

補助配線４０は、配線抵抗を極力低下させるため、例えば、図２に示したように、発光層を含む層１８を含んでいない点を除き、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの最も総厚が大きい素子、すなわち有機発光素子３０Ｒと同様の積層構成を有している。

次に、図１〜図３を参照して、発光層を含む１８の詳細な構成について説明する。図３は、発光層含む層１８の断面構成を拡大して模式的に表している。

発光層を含む層１８は、例えば、上記したように、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにより共有され、すなわち有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において共通の構成を有しており、所定の色（波長）の光として白色光を発生させるものである。この発光層を含む層１８は、例えば、図２および図３に示したように、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに近い側から順に、正孔輸送層１８１と、発光層１８２と、電子輸送層１８３とが積層された構成を有している。この発光層１８２は、例えば、正孔輸送層１８１に近い側から順に、赤色の光を発生させる赤色発光層１８２Ｒと、緑色の光を発生させる１８２Ｇと、青色の光を発生させる１８２Ｂとが積層された構成を有しており、すなわち赤色発光層１８２Ｒ、緑色発光層１８２Ｇおよび青色発光層１８２Ｂからそれぞれ発生した赤色の光、緑色の光および青色の光を合成することにより、結果として白色光を発生させるようになっている。

正孔輸送層１８１は、発光層１８２へ注入される正孔の注入効率を高めるためのものであり、例えば、正孔注入層としての機能も兼ねている。この正孔輸送層１８１は、例えば、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）またはα−ナフチルフェニルジアミン（αＮＰＤ）などの正孔輸送性材料により構成されており、その厚さは約４０ｎｍである。

赤色発光層１８２Ｒは、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂから正孔輸送層１８１を経由して注入された正孔の一部と上部電極層１９から電子輸送層１８３を経由して注入された電子の一部とを再結合させることにより、赤色の光を発生させるものである。この赤色発光層１８２Ｒは、例えば、赤色発光材料（蛍光性または燐光性）、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷（正孔，電子）輸送性材料を含む群のうちの少なくとも１種により構成されており、その厚さは約５ｎｍである。この赤色発光層１８２Ｒの具体的な構成材料としては、例えば、２，６−ビス［（４’―メトキシジフェニルアミノ）スチリル］−１，５−ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）が約３０重量％混合された４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）などが挙げられる。

緑色発光層１８２Ｇは、赤色発光層１８２Ｒにおいて再結合されなかった正孔と電子とを再結合させることにより、緑色の光を発生させるものである。この緑色発光層１８２Ｇは、例えば、緑色発光材料（蛍光性または燐光性）、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷輸送性材料を含む群のうちの少なくとも１種により構成されており、その厚さは約１０ｎｍである。この緑色発光層１８２Ｇの具体的な構成材料としては、例えば、クマリン６が約５重量％混合されたＤＰＶＢiなどが挙げられる。

青色発光層１８２Ｂは、赤色発光層１８２Ｒや緑色発光層１８２Ｇにおいて再結合されなかった正孔と電子とを再結合させることにより、青色の光を発生させるものである。この青色発光層１８２Ｂは、例えば、青色発光材料（蛍光性または燐光性）、正孔輸送性材料、電子輸送性材料および両電荷（正孔，電子）輸送性材料を含む群のうちの少なくとも１種により構成されており、その厚さは約３０ｎｍである。この青色発光層１８２Ｂの具体的な構成材料としては、例えば、４，４’−ビス［２，｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）が約２．５重量％混合されたＤＰＶＢｉなどが挙げられる。

電子輸送層１８３は、発光層１８２へ注入される電子の注入効率を高めるためのものであり、例えば、電子注入層としての機能も兼ねている。この電子輸送層１８３は、例えば、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ₃ ）により構成されており、その厚さは約２０ｎｍである。

次に、図１〜図３を参照して、有機ＥＬディスプレイの動作について説明する。

この有機ＥＬディスプレイでは、図１に示したように、ＴＦＴ１２（１２１〜１２３）を利用して３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが駆動され、すなわち下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと上部電極層１９との間にそれぞれ電圧が印加されると、図３に示したように、発光層を含む層１８のうちの発光層１８２において、正孔輸送層１８１から供給された正孔と電子輸送層１８３から供給された電子とが再結合することにより、白色光が発生する。この白色光は、赤色発光層１８２Ｒにおいて発生した赤色の光と、緑色発光層１８２Ｇにおいて発生した緑色の光と、青色発光層１８２Ｂにおいて発生した青色の光とが合成された合成光である。

この白色光は、図２に示したように、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから映像表示用の光Ｅとして有機ＥＬディスプレイの外部へ放出される過程において、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の共振長が互いに異なることに起因する光の干渉現象を利用して波長変換され、すなわち有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｒにおいてそれぞれ赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢに変換される。これにより、図１に示したように、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂからそれぞれ赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢが放出されるため、これらの３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに基づいて映像が表示される。

なお、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢが放出される際には、図２に示したように、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにおいて、発光層を含む層１８において発生した光が下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂのうちの反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂと上部電極層１９との間で共振されるため、その光が多重干渉を起こす。これにより、最終的に有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂから放出される光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢの半値幅が減少し、色純度が向上する。

次に、図１〜図１１を参照して、図１〜図３に示した有機ＥＬディスプレイの製造方法について説明する。図４〜図１１は有機ＥＬディスプレイの主要部（下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ）の製造工程を説明するためのものであり、いずれも図２に対応する断面構成を表している。なお、図４〜図１１に示した領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢは、それぞれ後工程において有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが形成されることとなる領域を表している。

以下では、まず、図１〜図３を参照して、有機ＥＬディスプレイ全体の製造工程について簡単に説明したのち、図１〜図１１を参照して、本発明に係る有機発光装置の製造方法が適用される有機ＥＬディスプレイの主要部の形成工程について説明する。なお、有機ＥＬディスプレイのうちの一連の構成要素の材質、厚さおよび構造的特徴については既に詳述したので、それらの説明を適宜省略するものとする。

この有機ＥＬディスプレイは、スパッタリングなどの成膜技術、フォトリソグラフィなどのパターニング技術、ならびにドライエッチングやウェットエッチングなどのエッチング技術を含む既存の薄膜プロセスを使用して製造可能である。すなわち有機ＥＬディスプレイを製造する際には、まず、図１に示したように、駆動用基板１１の一面に、複数のＴＦＴ１２（ＴＦＴ１２１〜１２３）をマトリックス状にパターン形成し、引き続きＴＦＴ１２１〜１２３およびその周辺の駆動用基板１１を覆うように層間絶縁層１３を形成したのち、各ＴＦＴ１２１〜１２３ごとに２組ずつ配線１４をパターン形成する。続いて、配線１４およびその周辺の層間絶縁層１３を覆うように平坦化層１５を形成することにより、後工程において有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが形成されることとなる下地領域を平坦化する。続いて、平坦化層１５上に、各ＴＦＴ１２１〜１２３の配設位置に対応して１組の有機発光素子３０（３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ）をパターン形成する。具体的には、下部電極層１６Ｒ、発光層を含む層１８および上部電極層１９をこの順に積層させることにより有機発光素子３０Ｒを形成し、下部電極層１６Ｇ、発光層を含む層１８および上部電極層１９をこの順に積層することにより有機発光素子３０Ｇを形成し、下部電極層１６Ｂ、発光層を含む層および上部電極層１９をこの順に積層することにより有機発光素子３０Ｂを形成する。これらの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂを形成する際には、例えば、図１に示したように、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ上を経由して連続的に延在し、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにより共有されるように発光層を含む層１８および上部電極層１９を形成すると共に、図１および図２に示したように、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂのうちの一部を構成する密着層１６１Ｒ，１６１Ｇ，１６１Ｂを駆動用基板１１、より具体的には駆動基板１１を覆うように設けられた平坦化層１５上に形成して密着させるようにする。続いて、上部電極層１９を覆うように保護層２０を形成することにより、駆動パネル１０を形成する。

続いて、封止用基板５１の一面に、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂに対応して赤色領域５２Ｒ、緑色領域５２Ｇおよび青色領域５２Ｂを含むカラーフィルタ５２を形成することにより、封止パネル５０を形成する。

最後に、接着層６０を使用して、駆動用基板１１と封止用基板５１との間に有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが挟まれるように駆動パネル１０と封止パネル５０とを貼り合わせることにより、有機ＥＬディスプレイが完成する。

この有機ＥＬディスプレイの主要部である下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを形成する際には、まず、図４に示したように、例えばスパッタリングを使用して、図１に示した駆動用基板１１、より具体的には駆動用基板１１に設けられた平坦化層１５を覆うように、密着層１６１（厚さ＝約２０ｎｍ）と、第１の下部電極構成層としての下部電極構成層１６２１（厚さ＝約１００ｎｍ）と、第１の上部電極構成層としての上部電極構成層１６３１（厚さ＝約１ｎｍ〜２０ｎｍ）と、第２の下部電極構成層としての下部電極構成層１６２２（厚さ＝約１００ｎｍ）と、第２の上部電極構成層としての上部電極構成層１６３２（厚さ＝約２０ｎｍ〜６０ｎｍ）と、第３の上部電極構成層としての上部電極構成層１６３３（厚さ＝約５０ｎｍ〜１００ｎｍ）とをこの順に形成して積層させる。これらの密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２および上部電極構成層１６３１〜１６３３は、いずれも最終的にエッチング処理を使用してパターニングされることにより、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂのそれぞれの一部を構成することとなる準備層である。密着層１６１および上部電極構成層１６３１〜１６３３を形成する際には、形成材料として上記した金属、金属酸化物、金属窒化物または金属化合物を使用し、例えば、密着層１６１および上部電極構成層１６３１，１６３２としてＩＴＯを使用し、上部電極構成層１６３３としてＩＺＯを使用する。また、下部電極構成層１６２１，１６２２を形成する際には、形成材料として上記した銀や銀を含む合金を使用し、例えば、銀パラジウム銅合金（ＡｇＰｄＣｕ）を使用する。特に、ＩＴＯよりなる上部電極構成層１６３２を形成する際には、例えば、後工程においてＩＺＯよりなる上部電極構成層１６３３をウェットエッチングする際に、上部電極構成層１６３２がエッチング処理の進行を停止させるストップ層として機能し得るように、その上部電極構成層１６３２を高温下で成膜するか、あるいは成膜後にアニールし、ＩＴＯを結晶化させる。なお、スパッタリングを使用して密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２および上部電極構成層１６３１〜１６３３を形成して積層させる際には、例えば、これらの一連の層を同一の真空環境中において連続的に形成する。

上部電極構成層１６３１〜１６３３を形成する際には、特に、上記にて図２を参照して説明したように、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにおいて光の干渉現象を利用して白色光を互いに異なる３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに変換するために必要な共振長を確保し得るように、各上部電極構成層１６３１〜１６３３の厚さを設定する。具体的には、例えば、有機発光素子３０Ｒにおいて白色光を赤色の光ＥＲに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層１６３２，１６３３の総厚を設定し、有機発光素子３０Ｇにおいて白色光を緑色の光ＥＧに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層１６３２の厚さを設定し、有機発光素子３０Ｂにおいて白色光を青色の光ＥＢに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層１６３１の厚さを設定する。

なお、密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２および上部電極構成層１６３１〜１６３３の形成条件は、例えば、以下の通りである。すなわち、スパッタリングガスとしては、密着層１６１および上部電極構成層１６３１，１６３２を形成するためにアルゴン（Ａｒ）に酸素（Ｏ₂ ）が０．３％混合された混合ガスを使用し、下部電極構成層１６２１，１６２２を形成するためにアルゴンガスを使用し、上部電極構成層１６３３を形成するためにアルゴンに酸素が１．０％混合された混合ガスを使用する。また、スパッタリング条件としては、いずれの場合においても圧力＝０．５Ｐａ、ＤＣ出力＝５００Ｗとする。

続いて、上部電極構成層１６３３上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト膜（図示せず）を形成したのち、フォトリソグラフィ処理を使用してフォトレジスト膜をパターニングすることにより、図４に示したように、上部電極構成層１６３３のうち、有機発光素子３０Ｒが形成されることとなる第１の領域としての領域ＳＲ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第１のマスクとしてのエッチングマスク７１をパターン形成する。

続いて、エッチングマスク７１と共にウェットエッチングを使用し、上部電極構成層１６３３をエッチングしてパターニングすることにより、図５に示したように、上部電極構成層１６３３のうち、エッチングマスク７１により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去し、領域ＳＲに上部電極構成層１６３３を残存させると共に、その領域ＳＲの周辺領域に上部電極構成層１６３２を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、エッチャントとして、例えば、ＩＺＯよりなる上部電極構成層１６３３に対して高いエッチング性を示し、かつ結晶化ＩＴＯよりなる上部電極構成層１６３２に対して低いエッチング性を示すものを使用し、具体的にはリン酸（Ｈ₃ ＰＯ₄ ）と硝酸（ＨＮＯ₃ ）と酢酸（ＣＨ₃ ＣＯＯＨ）との混酸、あるいはシュウ酸（Ｃ₂ Ｈ₂ Ｏ₄ ）を使用する。このウェットエッチング処理時には、上記したように、エッチャントに対して耐性を有する上部電極構成層１６３２がストップ層として機能し、上部電極構成層１６３３のエッチングが完了した時点でエッチング処理の進行が停止するため、そのエッチング処理が上部電極構成層１６３２まで及ぶことが防止される。

続いて、図６に示したように、上部電極構成層１６３２の露出面のうち、有機発光素子３０Ｇが形成されることとなる第２の領域としての領域ＳＧ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第２のマスクとしてのエッチングマスク７２をパターン形成する。なお、エッチングマスク７２を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク７２を形成する前に使用済みのエッチングマスク７１を一旦除去したのち、そのエッチングマスク７２を形成すると同時にエッチングマスク７１を改めて形成し直すようにする。

続いて、エッチングマスク７１，７２と共にドライエッチングを使用し、下部電極構成層１６２２および上部電極構成層１６３２を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図７に示したように、上部電極構成層１６３２を最後までエッチングすると共に、下部電極構成層１６２２を途中までエッチングする。こののち、引き続きエッチングマスク７１，７２と共にウェットエッチングを使用して下部電極構成層１６２２をエッチングしてパターニングすることにより、図８に示したように、下部電極構成層１６２２を最後までエッチングし、領域ＳＲ，ＳＧに下部電極構成層１６２２および上部電極構成層１６３２を残存させると共に、それらの領域ＳＲ，ＳＧの周辺領域に上部電極構成層１６３１を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、エッチャントとして、例えば、銀サマリウム銅合金よりなる下部電極構成層１６２２に対して高いエッチング性を示し、かつ結晶化ＩＴＯよりなる上部電極構成層１６３１に対して低いエッチング性を示すものを使用し、具体的にはリン酸と硝酸と酢酸との混酸を使用する。このウェットエッチング処理時には、エッチャントに対して耐性を有する上部電極構成層１６３１がストップ層として機能し、下部電極構成層１６２２のエッチングが完了した時点でエッチング処理の進行が停止するため、そのエッチング処理が上部電極構成層１６３１まで及ぶことが防止される。

続いて、図９に示したように、上部電極構成層１６３１の露出面のうち、有機発光素子３０Ｂが形成されることとなる第３の領域としての領域ＳＢ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第３のマスクとしてのエッチングマスク７３をパターン形成する。なお、エッチングマスク７３を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク７３を形成する前に使用済みのエッチングマスク７１，７２を一旦除去したのち、そのエッチングマスク７３を形成すると同時にエッチングマスク７１，７２を改めて形成し直すようにする。

続いて、エッチングマスク７１〜７３と共にドライエッチングを使用し、密着層１６１、下部電極構成層１６２１および上部電極構成層１６３１を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図１０に示したように、密着層１６１、下部電極構成層１６２１および上部電極構成層１６３１のうち、エッチングマスク７１〜７３により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去し、領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢに密着層１６１、下部電極構成層１６２１および上部電極構成層１６３１を残存させる。このエッチング処理により、密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２および上部電極構成層１６３１〜１６３３が各領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢごとに分離され、具体的には、領域ＳＲにおいて密着層１６１、下部電極構成層１６２１、上部電極構成層１６３１、下部電極構成層１６２２および上部電極構成層１６３２，１６３３の６層構造が残存し、領域ＳＧにおいて密着層１６１、下部電極構成層１６２１、上部電極構成層１６３１、下部電極構成層１６２２および上部電極構成層１６３２の５層構造が残存し、領域ＳＢにおいて密着層１６１、下部電極構成層１６２１および上部電極構成層１６３１の３層構造が残存する。なお、エッチング処理時には、エッチングマスク７１〜７３自体もエッチングされるため、それらのエッチングマスク７１〜７３の厚さが目減りする。

最後に、エッチングマスク７１〜７３を除去することにより、図１１に示したように、上記した密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２および上部電極構成層１６３１〜１６３３の残存構造により、図２に示した下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが完成する。具体的には、赤色の光ＥＲを放出する有機発光素子３０Ｒが形成されることとなる領域ＳＲでは、密着層１６１Ｒ、下部電極構成層１６２Ｒ１、上部電極構成層１６３Ｒ１、反射層１６２Ｒとしての下部電極構成層１６２Ｒ２、ならびにバリア層１６３Ｒとしての上部電極構成層１６３Ｒ２（下部バリア層１６３ＲＸ，上部バリア層１６３ＲＹ）がこの順に積層された６層構造を有する下部電極層１６Ｒが形成される。また、緑色の光ＥＧを放出する有機発光素子３０Ｇが形成されることとなる領域ＳＧでは、密着層１６１Ｇ、下部電極構成層１６２Ｇ１、上部電極構成層１６３Ｇ１、反射層１６２Ｇとしての下部電極構成層１６２Ｇ２、ならびにバリア層１６３Ｇとしての上部電極構成層１６３Ｇ２がこの順に積層された５層構造を有する下部電極層１６Ｇが形成される。さらに、青色の光ＥＢを放出する有機発光素子３０Ｂが形成されることとなる領域ＳＢでは、密着層１６１Ｂ、反射層１６２Ｂとしての下部電極構成層１６２Ｂ１、ならびにバリア層１６３Ｂとしての上部電極構成層１６３Ｂ１がこの順に積層された３層構造を有する下部電極層１６Ｂが形成される。この際、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂのうちのバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂは、その厚さが領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢ間において互いに異なり、より具体的には領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの順に薄くなるように形成される。

なお、参考までに、例えば、図２に示した補助配線４０は、上記した下部電極層１６Ｒの形成工程を利用して、有機発光素子３０Ｒの形成手順と同様の手順を経て並列的に形成可能である。

本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイでは、図１および図２に示したように、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが、発光層を含む層１８から遠い側から順に反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂおよびバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂが積層された積層構造を含み、これらの反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂのうちの共振端面ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１の積層方向における位置が有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇと有機発光素子３０Ｂとの間において互いに異なっている上、バリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂ（下部バリア層１６３ＲＸ，上部バリア層１６３ＲＹ）の厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢが各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに異なるようにしたので（ＤＲ＞ＤＧ＞ＤＢ）、例えば、「有機ＥＬディスプレイの動作」として上記したように、厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢ間の差異に基づく有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の共振長の差異に起因した光の干渉現象を利用して、発光層を含む層１８においた発生した白色光を３色の光、すなわち赤色の光ＥＲ、緑色の光ＥＧおよび青色の光ＥＢに変換することが可能となる。したがって、本実施の形態では、これらの３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを利用して映像を表示することができる。

特に、本実施の形態では、上記した表示機構を構築可能な構造的特徴に基づき、上記「背景技術」の項において説明した従来の有機ＥＬディスプレイとは異なり、以下で説明するように、表示性能面および製造可能性面の双方において利点を有する。

すなわち、製造可能性面に関しては、３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の光を放出するために、各色の光を別々に発生可能な３種類の発光層を利用する構成的要因に起因して、これらの３種類の発光層を蒸着する際にメタルマスクを使用して塗り分けが必要であった従来の有機ＥＬディスプレイとは異なり、図２および図３に示したように、３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢを放出するために単色の光（白色光）を発生可能な１種類の発光層１８２を利用し、すなわち各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において発光層１８２が共通化しており、メタルマスクを使用して発光層１８２を塗り分ける必要がないため、ディスプレイサイズの大型化を図ることが可能である。

一方、表示性能面に関しては、白色光を発生させる発光層を利用した上で、色変換用の高濃度かつ厚めのカラーフィルタのみを利用して白色光を３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の光に変換していた従来の有機ＥＬディスプレイとは異なり、カラーフィルタのみを使用して色変換を行う代わりに、図１および図２に示したように、カラーフィルタ５２と共に、上記した厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢ間の差異に基づく有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の共振長の差異に起因した光の干渉現象を併用して白色光を３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに変換しているため、カラーフィルタ５２が低濃度かつ薄めで済む。この結果、色変換時にカラーフィルタ５２の光吸収に起因して光の利用損失が大きくなることを防止し、すなわち光の利用効率を確保することが可能である。

したがって、本実施の形態では、表示性能面および製造可能性面の双方において利点を有することが可能になるため、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することができる。この場合には、特に、製造面において、メタルマスクを使用した発光層１８２の塗り分けが不要となる点に基づき、その塗り分け作業時にパーティクルが混入して発光層１８２に欠陥が生じることを防止することができる。

また、本実施の形態では、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂがそれぞれ反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂを含み、これらの反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂと上部電極層１９との間で光を共振させる共振構造を有するようにしたので、「有機ＥＬディスプレイの動作」として上記したように、光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢの色純度が向上する。したがって、各光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢのいずれに関しても高ピーク強度および狭波長幅の良質なスペクトルを確保し、色再現性に優れた映像を表示することができる。この場合には、特に、高反射性の銀または銀を含む合金を使用して反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂを構成すれば、共振される光の利用効率が高まるため、表示性能をより向上させることができる。

また、本実施の形態では、バリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂが上記したように有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において共振長に差異を設ける機能を果たす上、反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２１を保護する機能も果たすため、それらの反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂが大気中の酸素や硫黄成分と反応して酸化または腐食したり、あるいは有機ＥＬディスプレイの製造工程中において使用された薬液などと反応して腐食することを防止することができる。

また、本実施の形態では、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが、平坦化層１５に対する反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂおよびバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂの密着性を高めるための密着層１６１Ｒ，１６１Ｇ，１６１Ｂを含んで構成されているため、これらの下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを平坦化層１５に強固に固定することができる。

また、本実施の形態では、反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂよりも仕事関数が大きい材料を使用してバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂを構成したので、発光層１８２への正孔の注入量を増加させることができる。

また、本実施の形態では、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂと共に補助配線４０を備えるようにしたので、この補助配線４０を利用して３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の抵抗差を緩和し、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの電気的状態をほぼ均一化することができる。

本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法では、反射層１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂのうちの共振端面ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１の積層方向における位置が有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇと有機発光素子３０Ｂとの間で互いに異なっている上、バリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂの厚さが３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに異なっているような特徴的な構成を有する下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを形成するために、既存の薄膜プロセスしか使用せず、新規かつ煩雑な製造プロセスを使用しない。しかも、その既存の薄膜プロセスのみを使用した上で、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを継続的に再現性よく形成することが可能である。したがって、本実施の形態では、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを備えた有機ＥＬディスプレイを容易かつ安定に製造することができる。

特に、本実施の形態では、エッチャントに対して互いに異なる耐性を有する材料を使用して上部電極構成層１６３１〜１６３３を形成し、具体的には、上部電極構成層１６３３をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用して上部電極構成層１６３２を形成すると共に、同様に上部電極構成層１６３２をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用して上部電極構成層１６３１を形成するようにしたので、上部電極構成層１６３３をエッチングする際に上部電極構成層１６３２がエッチング処理を停止させるためのストップ層として機能すると共に、同様に上部電極構成層１６３２をエッチングする際に上部電極構成層１６３１がストップ層として機能する。したがって、エッチング処理が不必要な箇所にまで及ぶことを防止することが可能になるため、下部電極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを高精度に形成することができる。

また、本実施の形態では、スパッタリングを使用して密着層１６１、下部電極構成層１６２１，１６２２、ならびに上部電極構成層１６３１〜１６３３を形成して積層させる際に、これらの一連の層を同一の真空環境中において連続的に形成するようにしたので、これらの一連の層を複数の真空環境中、すなわち真空環境と大気圧環境とを経由しながら形成する場合とは異なり、各層間に大気圧環境中の異物が混入することを防止し、その各層間の界面を清浄に保つことができる。

［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。

図１２は本実施の形態に係る表示装置としての有機ＥＬディスプレイの断面構成を表しており、図１３は図１２に示した有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂおよび補助配線４０の断面構成を拡大して模式的に表している。なお、図１２および図１３では、上記第１の実施の形態において説明した構成要素と同一の要素に同一の符号を付している。

本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイは、有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの並び順および下部電極層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂの構成が異なる点を除いて、上記第１の実施の形態において説明した有機ＥＬディスプレイ（図１〜図３）とほぼ同様の構成を有している。

有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの並び順は、例えば、右から左に向かって有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが順に配列されていた上記第１の実施の形態（図１参照）とは異なり、図１２に示したように、左から右に向かって有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂが順に配列されている。

有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの下部電極層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂは、例えば、図１２および図１３に示したように、上記第１の実施の形態と同様に互いに異なる総厚の積層構造を有し、より具体的には積層単位Ｕが１または２以上繰り返された積層構造を含んで構成されている。

第１の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｂは、例えば、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層２６Ｂと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｂは、例えば、上記した積層単位Ｕを３つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層２６１Ｂと、下部電極構成層２６２Ｂ１と、上部電極構成層２６３Ｂ１と、下部電極構成層２６２Ｂ２と、上部電極構成層２６３Ｂ２と、下部電極構成層２６２Ｂ３と、上部電極構成層２６３Ｂ３とが積層された構成を有しており、下部電極構成層２６２Ｂ１〜２６２Ｂ３のうちの最上層（下部電極構成層２６２Ｂ３）が「真の反射層２６２Ｂ」であり、上部電極構成層２６３Ｂ１〜２６３Ｂ３のうちの最上層（上部電極構成層２６３Ｂ３）が「真のバリア層２６３Ｂ」である。なお、密着層２６１Ｂ、下部電極構成層２６２Ｂ１〜２６２Ｂ３および上部電極構成層２６３Ｂ１〜２６３Ｂ３の構成材料は、上記第１の実施の形態において説明した密着層１６１Ｂ、下部電極構成層１６２Ｂ１および上部電極構成層１６３Ｂ１の構成材料とそれぞれ同様である。

第２の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｇは、例えば、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層２６Ｇと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｇは、例えば、上記した積層単位Ｕを２つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層２６１Ｇと、下部電極構成層２６２Ｇ１と、上部電極構成層２６３Ｇ１と、下部電極構成層２６２Ｇ２と、上部電極構成層２６３Ｇ２とが積層された構成を有しており、下部電極構成層２６２Ｇ１，２６２Ｇ２のうちの最上層（下部電極構成層２６２Ｇ２）が「真の反射層２６２Ｇ」であり、上部電極構成層２６３Ｇ１，２６３Ｇ２のうちの最上層（上部電極構成層２６３Ｇ２）が「真のバリア層２６３Ｇ」である。なお、密着層２６１Ｇ、下部電極構成層２６２Ｇ１，２６２Ｇ２および上部電極構成層２６３Ｇ１，２６３Ｇ２の構成材料は、上記第１の実施の形態において説明した密着層１６１Ｇ、下部電極構成層１６２Ｇ１，１６２Ｇ２および上部電極構成層１６３Ｇ１，１６３Ｇ２の構成材料とそれぞれ同様である。

第３の有機発光素子としての有機発光素子３０Ｒは、例えば、駆動用基板１１に近い側から順に、下部電極層２６Ｒと、発光層を含む層１８と、上部電極層１９とが積層された構成を有している。この下部電極層１６Ｒは、例えば、上記した積層単位Ｕを１つ含み、すなわち発光層を含む層１８から遠い側から順に、密着層２６１Ｒと、下部電極構成層２６２Ｒ１と、上部電極構成層２６３Ｒ１とが積層された構成を有しており、その下部電極構成層２６２Ｒ１が「真の反射層２６２Ｒ」であり、上部電極構成層２６３Ｒ１が「真のバリア層２６３Ｒ」である。なお、密着層２６１Ｒ、下部電極構成層２６２Ｒ１および上部電極構成層２６３Ｒ１の構成材料は、上記第１の実施の形態において説明した密着層１６１Ｒ、下部電極構成層１６２Ｒ１，１６２Ｒ２および上部電極構成層１６３Ｒ１，１６３Ｒ２の構成材料とそれぞれ同様である。

図１３に示したように、反射層２６２Ｂ，２６２Ｇ，２６２Ｒのうちの共振端面ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１の積層方向（図中の上下方向）における位置（高さ）は、３つの有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒのうちの少なくとも２つ間において互いに異なっている。具体的には、共振端面ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１の位置は、例えば、有機発光素子３０Ｂ，３０Ｒ，３０Ｇ間において互いに異なっており、すなわち共振端面ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１の順に高くなっている。また、バリア層２６３Ｂ，２６３Ｇ，２６３Ｒの厚さＤＢ，ＤＧ，ＤＲは、３つの有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒ間において互いに異なっており、具体的には３つの有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒから放出される３色の光ＥＢ，ＥＧ，ＥＲに対応して順に厚くなっている（ＤＢ＜ＤＧ＜ＤＲ）。

図１４〜図２２は有機ＥＬディスプレイのうちの下部電極層２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒの製造工程を説明するためのものであり、いずれも図１３に対応する断面構成を表している。なお、図１４〜図２２では、上記第１の実施の形態において説明した構成要素と同一の要素に同一の符号を付している。

下部電極層２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒを形成する際には、まず、図１４に示したように、例えばスパッタリングを使用して、図１２に示した駆動用基板１１、より具体的には駆動用基板１１に設けられた平坦化層１５を覆うように、密着層２６１（厚さ＝約２０ｎｍ）と、第１の下部電極構成層としての下部電極構成層２６２１（厚さ＝約１００ｎｍ）と、第１の上部電極構成層としての上部電極構成層２６３１（厚さ＝約５０ｎｍ〜２００ｎｍ）と、第２の下部電極構成層としての下部電極構成層２６２２（厚さ＝約１００ｎｍ）と、第２の上部電極構成層としての上部電極構成層２６３２（厚さ＝約２０ｎｍ〜６０ｎｍ）と、第３の下部電極構成層としての下部電極構成層２６２３（厚さ＝約１００ｎｍ）と、第３の上部電極構成層としての上部電極構成層２６３３（厚さ＝約１ｎｍ〜２０ｎｍ）とをこの順に形成して積層させる。これらの密着層２６１、下部電極構成層２６２１〜２６２３および上部電極構成層２６３１〜２６３３は、いずれも最終的にエッチング処理を使用してパターニングされることにより、下部電極層２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒの一部を構成することとなる準備層である。密着層２６１および上部電極構成層２６３１〜２６３３を形成する際には、形成材料として上記第１の実施の形態において説明した金属、金属酸化物、金属窒化物または金属化合物を使用し、例えばＩＴＯを使用する。下部電極構成層２６２１〜２６２３を形成する際には、形成材料として上記第１の実施の形態において説明した銀や銀を含む合金を使用し、例えば銀パラジウム銅合金を使用する。特に、ＩＴＯよりなる上部電極構成層２６３１，２６３２を形成する際には、例えば、後工程において銀サマリウム銅合金よりなる下部電極構成層２６２２，２６２３をウェットエッチングする際に、上部電極構成層２６３１，２６３２がエッチング処理の進行を停止させるストップ層として機能し得るように、それらのバリア層２６３１，２６３２を高温下で成膜するか、あるいは成膜後にアニールし、ＩＴＯを結晶化させる。なお、スパッタリングを使用して密着層２６１、下部電極構成層２６２１〜２６２３および上部電極構成層２６３１〜２６３３を形成して積層させる際には、例えば、これらの一連の層を同一の真空環境中において連続的に形成する。

上部電極構成層２６３１〜２６３３を形成する際には、特に、上記にて図１３を参照して説明したように、３つの有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒにおいて光の干渉現象を利用して白色光を互いに異なる３色の光ＥＢ，ＥＧ，ＥＲに変換するために必要な共振長を確保し得るように、各上部電極構成層２６３１〜２６３３の厚さを設定し、具体的には、例えば、有機発光素子３０Ｂにおいて白色光を青色の光ＥＢに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層２６３３の厚さを設定し、有機発光素子３０Ｇにおいて白色光を緑色の光ＥＧに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層２６３２の厚さを設定し、有機発光素子３０Ｒにおいて白色光を赤色の光ＥＲに変換するために必要な共振長を確保し得るように上部電極構成層２６３１の厚さを設定する。

なお、密着層２６１、下部電極構成層２６２１〜２６２３および上部電極構成層２６３１〜２６３３の形成条件は、例えば、以下の通りである。すなわち、スパッタリングガスとしては、密着層２６１および上部電極構成層２６３１〜２６３３を形成するためにアルゴンに酸素が０．３％混合された混合ガスを使用し、下部電極構成層２６２１〜２６２３を形成するためにアルゴンガスを使用する。また、スパッタリングの処理条件としては、いずれの場合においても圧力＝０．５Ｐａ、ＤＣ出力＝５００Ｗとする。

続いて、図１４に示したように、上部電極構成層２６３３のうち、有機発光素子３０Ｂが形成されることとなる第１の領域としての領域ＳＢ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第１のマスクとしてのエッチングマスク８１をパターン形成する。

続いて、エッチングマスク８１と共にドライエッチングを使用し、下部電極構成層２６２３および上部電極構成層２６３３を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図１５に示したように、上部電極構成層２６３３を最後までエッチングすると共に、下部電極構成層２６２３を途中までエッチングする。こののち、引き続きエッチングマスク８１と共にウェットエッチングを使用して下部電極構成層２６２３をエッチングしてパターニングすることにより、図１６に示したように、下部電極構成層２６２３を最後までエッチングし、領域ＳＢに下部電極構成層２６２３および上部電極構成層２６３３を残存させると共に、その領域ＳＢの周辺領域に上部電極構成層２６３２を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、エッチャントとして、例えば、銀サマリウム銅合金よりなる下部電極構成層２６２３に対して高いエッチング性を示し、かつ結晶化ＩＴＯよりなる上部電極構成層２６３２に対して低いエッチング性を示すものを使用し、具体的にはリン酸と硝酸と酢酸との混酸を使用する。このウェットエッチング処理時には、エッチャントに対して耐性を有する上部電極構成層２６３２がストップ層として機能し、下部電極構成層２６２３のエッチングが完了した時点でエッチング処理の進行が停止するため、そのエッチング処理が上部電極構成層２６３２まで及ぶことが防止される。

続いて、図１７に示したように、上部電極構成層２６３２の露出面のうち、有機発光素子３０Ｇが形成されることとなる第２の領域としての領域ＳＧ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第２のマスクとしてのエッチングマスク８２をパターン形成する。なお、エッチングマスク８２を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク８２を形成する前に使用済みのエッチングマスク８１を一旦除去したのち、そのエッチングマスク８２を形成すると同時にエッチングマスク８１を改めて形成し直すようにする。

続いて、エッチングマスク８１，８２と共にドライエッチングを使用し、下部電極構成層２６２２および上部電極構成層２６３２を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図１８に示したように、上部電極構成層２６３２を最後までエッチングすると共に、下部電極構成層２６２２を途中までエッチングする。こののち、引き続きエッチングマスク８１，８２と共にウェットエッチングを使用して下部電極構成層２６２２をエッチングしてパターニングすることにより、図１９に示したように、下部電極構成層２６２２を最後までエッチングし、領域ＳＢ，ＳＧに下部電極構成層２６２２および上部電極構成層２６３２を残存させると共に、それらの領域ＳＢ，ＳＧの周辺領域に上部電極構成層２６３１を露出させる。このウェットエッチング処理を行う際には、例えば、先の工程において下部電極構成層２６２３をエッチングした場合と同様のエッチャントを使用する。このウェットエッチング処理時には、上部電極構成層２６３１がストップ層として機能するため、エッチング処理が上部電極構成層２６３１まで及ぶことが防止される。

続いて、図２０に示したように、上部電極構成層２６３１の露出面のうち、有機発光素子３０Ｒが形成されることとなる第３の領域としての領域ＳＲ上に、例えばフォトレジスト膜よりなる第３のマスクとしてのエッチングマスク８３をパターン形成する。なお、エッチングマスク８３を形成する際には、例えば、必要に応じて、エッチングマスク８３を形成する前に使用済みのエッチングマスク８１，８２を一旦除去したのち、そのエッチングマスク８３を形成すると同時にエッチングマスク８１，８２を改めて形成し直すようにする。

続いて、エッチングマスク８１〜８３と共にドライエッチングを使用し、密着層２６１、下部電極構成層２６２１および上部電極構成層２６３１を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、図２１に示したように、密着層２６１、下部電極構成層２６２１および上部電極構成層２６３１のうち、エッチングマスク８１〜８３により被覆されていた部分以外の部分を選択的に除去し、領域ＳＲ，ＳＧ，ＳＢに密着層２６１、下部電極構成層２６２１および上部電極構成層２６３１を残存させる。なお、エッチング処理時には、エッチングマスク８１〜８３自体もエッチングされるため、それらのエッチングマスク８１〜８３の厚さが目減りする。

最後に、エッチングマスク８１〜８３を除去することにより、図２２に示したように、上記した密着層２６１、下部電極構成層２６２１，２６２２および上部電極構成層２６３１〜２６３３の残存構造により、図１３に示した下部電極層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂが完成する。具体的には、青色の光ＥＢを放出する有機発光素子３０Ｂが形成されることとなる領域ＳＢでは、密着層２６１Ｂ、下部電極構成層２６２Ｂ１、上部電極構成層２６３Ｂ１、下部電極構成層２６２Ｂ２、上部電極構成層２６３Ｂ２、反射層２６２Ｂとしての下部電極構成層２６２Ｂ３、ならびにバリア層２６３Ｂとしての上部電極構成層２６３Ｂ３がこの順に積層された７層構造を有する下部電極層２６Ｂが形成される。また、緑色の光ＥＧを放出する有機発光素子３０Ｇが形成されることとなる領域ＳＧでは、密着層２６１Ｇ、下部電極構成層２６２Ｇ１、上部電極構成層２６３Ｇ１、反射層２６２Ｇとしての下部電極構成層２６２Ｇ２、ならびにバリア層２６３Ｇとしての上部電極構成層２６３Ｇ２がこの順に積層された５層構造を有する下部電極層２６Ｇが形成される。さらに、赤色の光ＥＲを放出する有機発光素子３０Ｒが形成されることとなる領域ＳＲでは、密着層２６１Ｒ、反射層２６２Ｒとしての下部電極構成層２６２Ｒ１、ならびにバリア層２６３Ｒとしての上部電極構成層２６３Ｒ１がこの順に積層された３層構造を有する下部電極層２６Ｒが形成される。この際、下部電極層２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒのうちのバリア層２６３Ｂ，２６３Ｇ，２６３Ｒは、その厚さが領域ＳＢ，ＳＧ，ＳＲ間において互いに異なり、より具体的には領域ＳＢ，ＳＧ，ＳＲの順に厚くなるように形成される。

なお、参考までに、例えば、図１３に示した補助配線４０は、上記した下部電極層２６Ｂの形成工程を利用して、有機発光素子３０Ｂの形成手順と同様の手順を経て、並列的に形成可能である。

本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイでは、図１２および図１３に示したように、反射層２６２Ｂ，２６２Ｇ，２６２Ｒのうちの共振端面ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１の積層方向における位置が３つの有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒ間において互いに異なる上、バリア層２６３Ｂ，２６３Ｇ，２６３Ｒの厚さＤＢ，ＤＧ，ＤＲが各有機発光素子３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒ間において互いに異なるようにしたので（ＤＢ＜ＤＧ＜ＤＲ）、上記した第１の実施の形態と同様の作用により、発光層を含む層１８においた発生した白色光を３色の光ＥＢ，ＥＧ，ＥＲに変換して映像を表示することが可能となり、表示性能の確保と製造可能性の確保とを両立することができる。

また、本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法では、反射層２６２Ｂ，２６２Ｇ，２６２Ｒのうちの共振端面ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１の積層方向における位置が３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに異なっている上、バリア層２６３Ｂ，２６３Ｇ，２６３Ｒの厚さが３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間において互いに異なっているような特徴的な構成を有する下部電極層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂを形成するために、既存の薄膜プロセスしか使用せず、しかもその既存の薄膜プロセスのみを使用して下部電極層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂを継続的に再現性よく形成することが可能なため、有機ＥＬディスプレイを容易かつ安定に製造することができる。

なお、本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイに関する上記以外の構成、機能、動作、作用および効果、ならびに有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する上記以外の工程は、上記第１の実施の形態と同様である。

以上、いくつかの実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、それらの実施の形態と同様の効果を得ることが可能な限りにおいて自由に変形可能である。

具体的には、例えば、上記各実施の形態では、図３に示したように、発光層１８２において白色光を発生させるために、その発光層１８２を赤色発光層１８２Ｒ、緑色発光層１８２Ｇおよび青色発光層１８２Ｂが積層された３層構造として構成したが、必ずしもこれに限られるものではなく、白色光を発生させることが可能な限りにおいて、発光層１８２の構成は自由に変更可能である。この発光層１８２に関する上記した３層構造以外の構造としては、例えば、（１）白色光を発生可能な白色発光材料を使用した単層構造や、（２）赤色発光材料、緑色発光材料および青色発光材料が混合された混合材料を使用した単層構造や、（３）赤色発光材料および緑色発光材料が混合された混合材料よりなる混合発光層と、緑色発光材料および青色発光材料が混合された混合材料よりなる他の混合発光層とが積層された２層構造などが挙げられる。これらのいずれの場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。

また、上記各実施の形態では、発光層１８２において白色光を発生させるようにしたが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の共振長の差異を利用して発光層１８２において発生した光を３色の光ＥＲ，ＥＧ，ＥＢに変換することが可能な限り、発光層１８２において発生させる光の色は自由に変更可能である。この場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。

また、上記各実施の形態では、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂのうちの最も総厚が大きな素子、具体的には第１の実施の形態では有機発光素子３０Ｒ、あるいは第２の実施の形態では有機発光素子３０Ｂとほぼ同様の構造を有するように補助配線４０を構成したが、必ずしもこれに限られるものではなく、補助配線４０を利用して３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の抵抗差を緩和することが可能な限り、その補助配線４０の構成は自由に変更可能である。一例を挙げれば、第１の実施の形態（図２参照）において、例えば、バリア層１６３Ｒのうちの上部バリア層１６３ＲＹが絶縁性材料により構成されているために、その絶縁性の上部バリア層１６３ＲＹの存在に起因して有機発光素子３０Ｒと同様の構造を有する補助配線４０の抵抗、より具体的には上部電極層１９との間の接合抵抗が大きくなってしまう場合には、その有機発光素子３０Ｒに代えて有機発光素子３０Ｇまたは３０Ｂとほぼ同様の構造を有するように補助配線４０を構成してもよい。この場合においても、有機発光素子３０Ｒよりも有機発光素子３０Ｇ，３０Ｂの抵抗が低ければ、それらの有機発光素子３０Ｇまたは３０Ｂと同様の構造を有する補助配線４０を利用して、３つの有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ間の抵抗差を緩和することができる。

また、上記各実施の形態では、各有機発光素子３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂを構成するバリア層１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂ（または２６３Ｒ，２６３Ｇ，２６３Ｂ）の厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢの間にＤＲ＞ＤＧ＞ＤＢの関係が成立している場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、上記各実施の形態と同様の効果を得ることが可能な限り、厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢの間の関係は自由に変更可能である。この点に関してより詳細に説明すれば、上記各実施の形態において説明したＤＲ＞ＤＧ＞ＤＢの関係は、一連の数式（数２〜数４）中のｍＲ，ｍＧ，ｍＢの間にｍＲ＝ｍＧ＝ｍＢの関係（例えばｍＲ＝ｍＧ＝ｍＢ＝０）が成立している場合に成立するものであり、これらのｍＲ，ｍＧ，ｍＢの値の設定によっては厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢ間の関係が変更し得る。一例を挙げれば、ｍＲ，ｍＧ，ｍＢの間にｍＲ（＝ｍＧ）≠ｍＢの関係（例えばｍＲ＝ｍＧ＝０，ｍＢ＝１）の関係が成立している場合には、厚さＤＲ，ＤＧ，ＤＢの間にＤＢ＞ＤＲ＞ＤＧの関係が成立することとなる。

また、上記各実施の形態では、本発明の有機発光装置を表示装置としての有機ＥＬディスプレイに適用する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、例えば、本発明の有機発光装置を有機ＥＬディスプレイ以外の他の表示装置に適用するようにしてもよい。もちろん、本発明の有機発光装置は、例えば、表示装置以外の他の装置にも適用することが可能である。この「表示装置以外の他の装置」としては、例えば、照明装置などが挙げられる。これらの場合においても、上記各実施の形態と同様の効果を得ることができる。

本発明に係る有機発光装置およびその製造方法、ならびに有機発光装置を備えた表示装置は、例えば、有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法に適用することが可能である。

本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ（トップエミッション型）の断面構成を表す断面図である。 図１に示した有機発光素子および補助配線の断面構成を拡大して模式的に表す断面図である。 図２に示した発光層を含む層の断面構成を拡大して模式的に表す断面図である。 本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図である。 図４に続く工程を説明するための断面図である。 図５に続く工程を説明するための断面図である。 図６に続く工程を説明するための断面図である。 図７に続く工程を説明するための断面図である。 図８に続く工程を説明するための断面図である。 図９に続く工程を説明するための断面図である。 図１０に続く工程を説明するための断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ（トップエミッション型）の断面構成を表す断面図である。 図１２に示した有機発光素子および補助配線の断面構成を拡大して模式的に表す断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための断面図である。 図１４に続く工程を説明するための断面図である。 図１５に続く工程を説明するための断面図である。 図１６に続く工程を説明するための断面図である。 図１７に続く工程を説明するための断面図である。 図１８に続く工程を説明するための断面図である。 図１９に続く工程を説明するための断面図である。 図２０に続く工程を説明するための断面図である。 図２１に続く工程を説明するための断面図である。

符号の説明

１０…駆動パネル、１１…駆動用基板、１２（１２１〜１２３）…ＴＦＴ、１３…層間絶縁層、１４…配線、１５…平坦化層、１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ，２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ…下部電極層、１７…層内絶縁層、１８…発光層を含む層、１９…上部電極層、２０…保護層、３０（３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒ）…有機発光素子、４０…補助配線、５０…封止パネル、５１…封止用基板、５２…カラーフィルタ、５２Ｒ…赤色領域、５２Ｇ…緑色領域、５２Ｂ…青色領域、６０…接着層、７１〜７３，８１〜８３…エッチングマスク、１６１，１６１Ｒ，１６１Ｇ，１６１Ｂ，２６１，２６１Ｒ，２６１Ｇ，２６１Ｂ…密着層、１６２Ｒ，１６２Ｇ，１６２Ｂ，２６２Ｒ，２６２Ｇ，２６２Ｂ…反射層、１６３Ｒ，１６３Ｇ，１６３Ｂ，２６３Ｒ，２６３Ｇ，２６３Ｂ…バリア層、１６２Ｒ１，１６２Ｒ２，１６２Ｇ１，１６２Ｇ２，１６２Ｂ１，２６２Ｒ１，２６２Ｇ１，２６２Ｇ２，２６２Ｂ１，２６２Ｂ２，２６２Ｂ３…下部電極構成層、１６３Ｒ１，１６３Ｒ２，１６３Ｇ１，１６３Ｇ２，１６３Ｂ１，２６３Ｒ１，２６３Ｇ１，２６３Ｇ２，２６３Ｂ１，２６３Ｂ２，２６３Ｂ３…上部電極構成層、１６３ＲＸ…下部バリア層、１６３ＲＹ…上部バリア層、１８１…正孔輸送層、１８２…発光層、１８２Ｒ…赤色発光層、１８２Ｇ…緑色発光層、１８２Ｂ…青色発光層、１８３…電子輸送層、ＤＲ，ＤＧ，ＤＢ，ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ…厚さ、Ｅ…光（映像表示用の光）、ＥＲ…赤色の光、ＥＧ…緑色の光、ＥＢ…青色の光、ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ…光学的距離、ＰＲ１，ＰＲ２，ＰＧ１，ＰＧ２，ＰＢ１，ＰＢ２…端面（ＰＲ１，ＰＧ１，ＰＢ１…共振端面）、ＳＢ，ＳＧ，ＳＲ…領域、Ｕ…積層単位。

Claims (31)

1. 下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備え、
   前記下部電極層は、前記発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含み、
   前記発光層は、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、
   前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子は、前記発光層において発生した光を前記反射層のうちの最上層の共振端面と前記上部電極層との間において共振させたのち、その上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、
   前記反射層および前記バリア層の積層方向における前記共振端面の位置、ならびに前記下部電極層における前記積層単位の数は、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、
   前記バリア層のうちの最上層の厚さは、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに異なっている
   有機発光装置。
2. 前記下部電極層は、前記赤色有機発光素子および前記緑色有機発光素子において第１反射層、第１バリア層、第２反射層および第２バリア層を含むと共に、前記青色有発光素子において第１反射層および第２バリア層を含み、
   前記赤色有機発光素子および前記緑色有機発光素子は、前記第２反射層と前記上部電極層との間において光を共振させると共に、前記青色有機発光素子は、前記第１反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、
   前記共振端面の位置は、前記赤色有機発光素子と前記緑色有機発光素子との間において互いに一致していると共に、前記赤色有機発光素子および前記緑色有機発光素子と前記青色有機発光素子との間において互いに異なっており、
   前記赤色有機発光素子における前記第２バリア層の厚さ、前記緑色有機発光素子における前記第２バリア層の厚さ、および前記青色有機発光素子における前記第１バリア層の厚さは、この順に薄くなっている、請求項１記載の有機発光装置。
3. 前記下部電極層は、前記赤色有機発光素子において第１反射層、第１バリア層、第２反射層、第２バリア層、第３反射層および第３バリア層を含み、前記緑色有機発光素子において第１反射層、第１バリア層、第２反射層および第２バリア層を含み、前記青色有機発光素子において第１反射層および第１バリア層を含み、
   前記赤色有機発光素子は、前記第３反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、前記緑色有機発光素子は、前記第２反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、前記青色有機発光素子は、前記第１反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、
   前記共振端面の位置は、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに異なっており、
   前記赤色有機発光素子における前記第３バリア層の厚さ、前記緑色有機発光素子における前記第２バリア層の厚さ、前記青色有機発光素子における前記第１バリア層の厚さは、この順に厚くなっている、請求項１記載の有機発光装置。
4. 前記発光層を含む層の厚さは、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに等しくなっている、請求項１記載の有機発光装置。
5. 前記発光層を含む層は、有機層である、請求項１記載の有機発光装置。
6. 前記発光層は、前記下部電極層に近い側から順に、赤色の光を発生させる赤色発光層と、緑色の光を発生させる緑色発光層と、青色の光を発生させる青色発光層とが積層された構成を有している、請求項１記載の有機発光装置。
7. さらに、前記下部電極層と電気的に接続され、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間の抵抗差を緩和するための補助配線を備え、この補助配線は、前記赤色有機発光素子における前記下部電極層と同一の積層構造を含んでいる、請求項１記載の有機発光装置。
8. 前記バリア層の厚さは、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内である、請求項１記載の有機発光装置。
9. 前記バリア層は、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物を含む光透過性材料により構成されている、請求項１記載の有機発光装置。
10. 前記バリア層は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ；Indium Zinc Oxide ）、酸化インジウム（Ｉｎ₂ Ｏ₃ ）、酸化錫（ＳｎＯ₂ ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）および酸化クロム（ＣｒＯ₂ ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属酸化物を含む光透過性材料により構成されている、請求項１記載の有機発光装置。
11. 前記バリア層は、前記反射層よりも仕事関数が大きい材料により構成されている、請求項１記載の有機発光装置。
12. 前記反射層は、銀（Ａｇ）または銀を含む合金により構成されている、請求項１記載の有機発光装置。
13. 前記反射層は、銀（Ａｇ）と共に、パラジウム（Ｐｄ）、ネオジウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、イットリウム（Ｙ）、セリウム（Ｃｅ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、スカンジウム（Ｓｃ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属を含んでいる、請求項１記載の有機発光装置。
14. さらに、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子を支持するための基体を備え、前記下部電極層は、さらに、前記基体に対する前記反射層および前記バリア層の密着性を高めるための密着層を含んでいる、請求項１記載の有機発光装置。
15. 前記密着層は、クロム（Ｃｒ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）およびモリブデン（Ｍｏ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物により構成されている、請求項１４記載の有機発光装置。
16. 前記基体に、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子が配設される下地領域を平坦化するための平坦化層が設けられており、前記密着層は、前記平坦化に対する密着性を高めるためのものである、請求項１４記載の有機発光装置。
17. 前記反射層のうちの最上層と前記上部電極層との間の光学的距離Ｌは、下記の数１の関係を満たしている、請求項１記載の有機発光装置。
    （数１）
    （２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍ
    （式中、Ｌ，λ，Φ，ｍは、Ｌが反射層（最上層のうちのバリア層に隣接する第１の端面）と上部電極層（上部電極層のうちの発光層を含む層に隣接する第２の端面）との間の光学的距離、λが放出したい光のスペクトルのピーク波長、Φは反射層（第１の端面）および上部電極層（第２の端面）で生じる反射光の位相シフト、ｍが０または整数をそれぞれ表している。）
18. 前記反射層の厚さは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲内、前記上部電極層の厚さは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内である、請求項１記載の有機発光装置。
19. 下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備えた有機発光装置の製造工程が、
    前記発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含むように、前記下部電極層を形成する工程を含み、
    前記発光層が、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、
    前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子が、前記発光層において発生した光を前記反射層のうちの最上層の共振端面と前記上部電極層との間において共振させたのち、その上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、
    前記反射層および前記バリア層の積層方向における前記共振端面の位置、ならびに前記下部電極層における前記積層単位の数が、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なり、
    前記バリア層のうちの最上層の厚さが、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに異なるようにする
    有機発光装置の製造方法。
20. 前記下部電極層を形成する工程は、
    第１反射層、第１バリア層、第２反射層、第２バリア層および第３バリア層をこの順に形成して積層させる工程と、
    この第３バリア層のうち、前記赤色有機発光素子が形成されることとなる赤色領域上に、第１のマスクをパターン形成する工程と、
    この第１のマスクを使用し、前記第３バリア層をエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域に前記第３バリア層を残存させると共に、その赤色領域の周辺領域に前記第２バリア層を露出させる工程と、
    この第２バリア層の露出面のうち、前記緑色有機発光素子が形成されることとなる緑色領域上に、第２のマスクをパターン形成する工程と、
    前記第１および第２のマスクを使用し、前記第２反射層および前記第２バリア層を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域および前記緑色領域にそれぞれ前記第２反射層および前記第２バリア層を残存させると共に、それらの赤色領域および緑色領域の周辺領域に前記第１バリア層を露出させる工程と、
    この第１バリア層の露出面のうち、前記青色有機発光素子が形成されることとなる青色領域上に、第３のマスクをパターン形成する工程と、
    前記第１、第２および第３のマスクを使用し、前記第１反射層および前記第１バリア層を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域、前記緑色領域および前記青色領域にそれぞれ前記第１反射層および前記第１バリア層を残存させる工程と、を含み、
    前記赤色有機発光素子および前記緑色有機発光素子が、前記第２反射層と前記上部電極層との間において光を共振させると共に、前記青色有機発光素子が、前記第１反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、
    前記赤色有機発光素子における前記第２バリア層および前記第３バリア層の厚さ、前記緑色有機発光素子における前記第２バリア層の厚さ、ならびに前記青色有機発光素子における前記第１バリア層の厚さが、この順に薄くなるようにする
    請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
21. 前記第２反射層をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用して前記第１バリア層を形成し、
    前記第２反射層および前記第２バリア層をエッチングする工程において、ドライエッチングを使用して前記第２バリア層を最後までエッチングすると共に前記第２反射層を途中までエッチングしたのち、ウェットエッチングを使用して前記第２反射層を最後までエッチングする
    請求項２０記載の有機発光装置の製造方法。
22. 前記下部電極層を形成する工程は、
    第１反射層、第１バリア層、第２反射層、第２バリア層、第３反射層および第３バリア層をこの順に形成して積層させる工程と、
    この第３バリア層のうち、前記赤色有機発光素子が形成されることとなる赤色領域上に、第１のマスクをパターン形成する工程と、
    この第１のマスクを使用し、前記第３反射層および前記第３バリア層を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域に前記第３反射層および前記第３バリア層を残存させると共に、その赤色領域の周辺領域に前記第２バリア層を露出させる工程と、
    この第２バリア層の露出面のうち、前記緑色有機発光素子が形成されることとなる緑色領域上に、第２のマスクをパターン形成する工程と、
    前記第１および第２のマスクを使用し、前記第２反射層および前記第２バリア層を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域および前記緑色領域にそれぞれ前記第２反射層および前記第２バリア層を残存させると共に、それらの赤色領域および緑色領域の周辺領域に前記第１バリア層を露出させる工程と、
    この第１バリア層のうち、前記青色有機発光素子が形成されることとなる青色領域上に、第３のマスクをパターン形成する工程と、
    前記第１、第２および第３のマスクを使用し、前記第１反射層および前記第１バリア層を連続的にエッチングしてパターニングすることにより、前記赤色領域、前記緑色領域および前記青色領域にそれぞれ前記第１反射層および前記第１バリア層を残存させる工程と、を含み、
    前記赤色有機発光素子が、前記第３反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、前記緑色有機発光素子が、前記第２反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、前記青色有機発光素子が、前記第１反射層と前記上部電極層との間において光を共振させ、
    前記赤色有機発光素子における前記第３バリア層の厚さ、前記緑色有機発光素子における前記第２バリア層の厚さ、ならびに前記青色有機発光素子における前記第１バリア層の厚さが、この順に厚くなるようにする
    請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
23. 前記第２反射層をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用して前記第１バリア層を形成すると共に、前記第３反射層をウェットエッチングするためのエッチャントに対して耐性を有する材料を使用して前記第２バリア層を形成し、
    前記第２反射層および前記第２バリア層、ならびに前記第３反射層および前記第３バリア層をそれぞれエッチングする工程において、ドライエッチングを使用して前記第２バリア層または前記第３バリア層を最後までエッチングすると共に前記第２反射層または前記第３反射層を途中までエッチングしたのち、ウェットエッチングを使用して前記第２反射層または前記第３反射層を最後までエッチングする
    請求項２２記載の有機発光装置の製造方法。
24. インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物を含む光透過性材料を使用して、前記バリア層を形成する、請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
25. 酸化インジウム錫（ＩＴＯ；Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ；Indium Zinc Oxide ）、酸化インジウム（Ｉｎ₂ Ｏ₃ ）、酸化錫（ＳｎＯ₂ ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化カドミウム（ＣｄＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）および酸化クロム（ＣｒＯ₂ ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属酸化物を含む光透過性材料を使用して、前記バリア層を形成する、請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
26. 銀（Ａｇ）または銀を含む合金を使用して、前記反射層を形成する、請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
27. 銀（Ａｇ）と共に、パラジウム（Ｐｄ）、ネオジウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、イットリウム（Ｙ）、セリウム（Ｃｅ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム（Ｅｒ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、スカンジウム（Ｓｃ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銅（Ｃｕ）および金（Ａｕ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属を含むように、前記反射層を形成する、請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
28. 前記下部電極層を形成する工程において、さらに、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子を支持するための基体に、その基体に対する前記反射層および前記バリア層の密着性を高めるための密着層を形成する、請求項１９記載の有機発光装置の製造方法。
29. クロム（Ｃｒ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）およびモリブデン（Ｍｏ）を含む群のうちの少なくとも１種の金属、その金属の合金、その金属酸化物、またはその金属窒化物を含むように、前記密着層を形成する、請求項２８記載の有機発光装置の製造方法。
30. さらに、前記基体に、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子が形成されることとなる下地領域を平坦するための平坦化層を形成する工程を含み、この下地層に、前記密着層を形成する、請求項２８記載の有機発光装置の製造方法。
31. 下部電極層と上部電極層との間に発光層を含む層が挟まれた構成を有する赤色有機発光素子、緑色有機発光素子および青色有機発光素子を備え、
    前記下部電極層は、前記発光層を含む層から遠い側から順に反射層およびバリア層が積層された積層単位を有すると共に、その積層単位が１または２以上繰り返された積層構造を含み、
    前記発光層は、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに等しい色の光を発生し、
    前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子は、前記発光層において発生した光を前記反射層のうちの最上層の共振端面と前記上部電極層との間において共振させたのち、その上部電極層を経由してそれぞれ赤色の光、緑色の光および青色の光を放出し、
    前記反射層および前記バリア層の積層方向における前記共振端面の位置、ならびに前記下部電極層における前記積層単位の数は、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子のうちの少なくとも２つの間において互いに異なっており、
    前記バリア層のうちの最上層の厚さは、前記赤色有機発光素子、前記緑色有機発光素子および前記青色有機発光素子の間において互いに異なっている
    ことを特徴とする表示装置。

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