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JP4461643B2 - Charged particle detector - Google Patents
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電界効果を利用して帯電粒子(例えば、液中のマイナスイオン、プラスイオン、ウィルス、細菌等)の濃度等を求める帯電粒子検出装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の帯電粒子検出装置を図4に示す。この図に示すように、帯電粒子検出装置は、円柱形状の棒状電極J1と、この棒状電極J1と同心円を成すように棒状電極J1から絶縁して設置された円筒電極J2とを備えて構成される。
【0003】
このような装置では電圧や電流に基づいて帯電粒子の濃度等が求められる。例えば、電圧に基づいて求める場合には、まず一方の電極を接地し、スイッチJ3をONすることで両電極間に予め電荷を蓄える。そして、スイッチJ3をOFFしたあと一定時間円筒内に帯電粒子を流通させることで、時間に対する電圧の変化、つまり帯電粒子による電荷の中和量分の電位降下を測り、帯電粒子の濃度を求めるようになっている。逆に、電流に基づいて求める場合には、電圧が一定になるように補充電流を加えれば補充電流と帯電粒子とが1:1の関係となることから、加えた補充電流を測ることで帯電粒子の濃度を求めるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の帯電粒子検出装置は体格が大きく、重いことから各種機器への組み込みが容易ではなく、また、コストも高いという問題があった。
【0005】
本発明は上記点に鑑みて、小型、軽量で各種機器に組み込みが容易な帯電粒子検出装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1乃至3に記載の発明では、半導体基板(2)と、半導体基板の表層部において互いに離間するように形成されたソース領域(3)およびドレイン領域(4)と、ソース領域とドレイン領域との間をチャネルとすると、該チャネルの上に外気に触れる露出部分が備えられて形成された浮遊ゲート(6)と、浮遊ゲートの電位を制御するコントロールゲート(8)と、浮遊ゲートとコントロールゲートとの間に配置されたトンネル膜(7)とを備えていることを特徴としている。
【0007】
このような構成によれば、小型、軽量で各種機器に組み込みが容易な構造で帯電粒子検出装置を実現することができる。例えば、請求項3に示すように、ソース領域とドレイン領域との間の電流(IDS)が一定となるようにコントロールゲートの電位を調整することで、コントロールゲートの電位に基づいて帯電粒子の濃度を求めることが可能である。
【0008】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
図1に、本発明の一実施形態を適用した電界効果トランジスタ型の帯電粒子検出装置1の断面構成を示す。以下、図1に基づいて帯電粒子検出装置1の構成についての説明を行なう。
【0010】
図1に示すように、帯電粒子検出装置1は、シリコン基板2を用いて形成されている。シリコン基板2の表層部には、互いに離間するようにソース領域3、ドレイン領域4が形成されており、これらソース領域3、ドレイン領域4の表面には、それぞれソース電極3a、ドレイン電極4aが形成されている。
【0011】
また、ソース領域3およびドレイン領域4の間をチャネル領域とすると、このチャネル領域上には絶縁膜5がパターニングされている。この絶縁膜5の表面上には金等で構成される浮遊ゲート6、トンネル膜7、金やアルミニウム等で構成されるコントロールゲート8および側壁酸化膜9が備えられ、絶縁膜5の中央部に外部に露出するように浮遊ゲート6が配置されると共に、その浮遊ゲート6の両側壁にトンネル膜7、コントロールゲート8、側壁酸化膜9が順に配置された構成となっている。
【0012】
このように構成された帯電粒子検出装置1により、以下のように帯電粒子の濃度等の検出を行なうことができる。
【0013】
まず、コントロールゲート−ソース間電圧VCGSが正となるように電圧を印加すると、浮遊ゲート6の電子が引き抜かれて浮遊ゲート6が正に帯電される。この時の浮遊ゲート−ソース間電圧をVFGS、浮遊ゲート6の帯電量をqとし、コントロールゲート−ソース間の電気容量がcであるとすると、数1に示す関係が成り立つ。
【0014】
【数1】
FGS=q/c
この状態においては、ドレイン−ソース間にチャネルが形成され、一定の電流IDSが流れる。そして、コントロールゲート−ソース間の電位VCGSを0にしても浮遊ゲート6に電荷が蓄えられており、浮遊ゲート6は正に帯電し続ける。
【0015】
このような状態において、外気中に負の電荷を持つ粒子が存在すると、その粒子が浮遊ゲート6に吸着され、浮遊ゲート6における電荷が中和される。これにより浮遊ゲート−ソース間電圧VFGSが低下する。このときの電圧VGSの低下量δVFGSは、吸着した電荷量をq’とすると数2のように表される。
【0016】
【数2】
δVFGS=(q−q’)/c
そして、浮遊ゲート6に吸着される帯電粒子量は、大気中に存在する荷電粒子の量に関係するので、浮遊ゲート−ソース間電圧VFGSの減少とそれに起因する電流IDSの減少が荷電粒子の量を示すことになる。
【0017】
一方、電圧VGSの低下量δVFGSが0となるようにコントロールゲート8に対して電圧を印加し続ければ、このときのコントロールゲート−ソース間電圧VCGSは、単位時間当りに吸着した帯電粒子の電荷量に比例することになるため、電圧VCGSに基づいて帯電粒子の電荷量を求めることもできる。
【0018】
このような場合には、浮遊ゲート6ではなくコントロールゲート8そのものを吸着電極とすることもできるが、上述のように浮遊ゲート6を吸着電極とすれば、トンネル現象により浮遊ゲート6からコントロールゲート8への電荷の移動が起こり、その移動電荷量が指数関数的に変化するため、低濃度の吸着荷電粒子に対する感度を大きくすることができるという効果が得られる。
【0019】
すなわち、トンネル電流は、大きな電圧を加えなければ流れないが電圧に応じた大きさで流れ、加える電圧を増加させると指数関数的に大きくなるという特性を有していることから、大きな電圧によって小さなトンネル電流を制御でき、上述したように感度が大きくなる。
【0020】
続いて、図2に、図1に示す帯電粒子検出装置1を用いた帯電粒子検出回路の一例を示す。この検出回路は、帯電粒子検出装置1のコントロールゲート−ソース間電圧VCGSに基づいて帯電粒子の電荷量を検出するものであり、ソース−ドレイン間電流IDSを一定にしつつ電圧VCGSを出力する低電流回路10に対して、抵抗11を介してローパスフィルタ12を接続し、ノイズ対策等を施したものである。
【0021】
低電流回路10には定電圧源13が備えられており、コントロールゲート8およびドレイン電極4aに対して所望の電圧が印加されるようになっている。また、コントロールゲート8への電圧印加を制御するスイッチ用のトランジスタ14、荷電粒子検出装置1のソース−ドレイン間電流IDSに基づいてトランジスタ14のON/OFFを制御する抵抗15が備えられており、抵抗15での電圧降下分に基づいてトランジスタ14を制御するようになっている。
【0022】
ローパスフィルタ12は、オペアンプ16、コンデンサ17および抵抗18、19によって構成されている。オペアンプ16の非反転入力端子は抵抗19を介して仮想GNDに接続され、オペアンプ16が仮に片電源であったとしても0V以下が出力できるような構成になっている。
【0023】
このような構成の帯電粒子検出回路は以下のように作動する。まず、電流IDSが大きくなってソース電極3aに接続された抵抗15での電圧降下がほぼ0.7Vになると、トランジスタ14がONし、電圧VCGSが減少して電流IDSも減少する。そして、電流IDSが減少して抵抗15での電圧降下が0.7Vを下回ると、トランジスタ14がOFFとなり、電圧VCGSが増加して電流IDSも増加する。このようにして電流IDSが一定に保たれ、電圧VGSの低下量δVGSが0となるように制御されるため、このときの電圧VCGSを測ることで帯電粒子の単位時間あたりの吸着量、すなわち帯電粒子量を検出することができる。
【0024】
例えば、帯電粒子検出回路の出力に基づいて想定される電圧VCGSと帯電粒子量との関係をグラフに表すと図3のようになり、電圧VCGSと帯電粒子量との相関関係に基づき、電圧VCGSに基づいて帯電粒子量を検出することが可能となる。
【0025】
以上説明したように、本実施形態に示す帯電粒子検出装置1は、小型で軽量な電界効果トランジスタ型のセンサ構造により、帯電粒子量の検出を可能としている。このため、小型、軽量で各種機器に組み込みが容易なものとすることができる。
【0026】
なお、本実施形態のように構成される帯電粒子検出装置1は、シリコン基板1に対して所定パターンのマスクを用いたイオン注入によってソース領域3およびドレイン領域4の形成を行なったあと、絶縁膜5をパターニングし、この絶縁膜5の上に浮遊ゲート6を搭載したのちトンネル膜7の成膜、コントロールゲート8の搭載および側壁酸化膜9の形成等を行なうことで形成される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態における帯電粒子検出装置の全体構成を示す図である。
【図2】図1に示す帯電粒子検出装置を適用した帯電粒子検出回路の一例を示した図である。
【図3】電圧VCGSと荷電粒子量との関係を示した図である。
【図4】従来の帯電粒子検出装置の全体構成を示した図である。
【符号の説明】
1…帯電粒子検出装置、2…シリコン基板、3…ソース領域、
4…ドレイン領域、5…絶縁膜、6…浮遊ゲート、7…トンネル膜、
8…コントロールゲート、9…側壁絶縁膜、10…低電流回路、
12…ローパスフィルタ。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a charged particle detection apparatus that obtains the concentration of charged particles (for example, negative ions, positive ions, viruses, bacteria, etc. in a liquid) using an electric field effect.
[0002]
[Prior art]
A conventional charged particle detector is shown in FIG. As shown in this figure, the charged particle detection device includes a cylindrical rod-shaped electrode J1, and a cylindrical electrode J2 that is insulated from the rod-shaped electrode J1 so as to be concentric with the rod-shaped electrode J1. The
[0003]
In such an apparatus, the concentration of charged particles and the like are determined based on voltage and current. For example, when calculating | requiring based on a voltage, an electric charge is beforehand stored between both electrodes by grounding one electrode and turning ON switch J3 first. Then, the charged particles are circulated in the cylinder for a certain period of time after the switch J3 is turned off, thereby measuring the change in voltage with respect to time, that is, the potential drop corresponding to the neutralization amount of the charge by the charged particles, and obtaining the concentration of the charged particles. It has become. On the other hand, in the case of obtaining based on the current, if the replenishment current is applied so that the voltage is constant, the replenishment current and the charged particles have a 1: 1 relationship. The concentration of particles is calculated.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional charged particle detection device has a problem that it is large in size and heavy, so that it is not easy to incorporate into various devices and the cost is high.
[0005]
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a charged particle detection device that is small and lightweight and can be easily incorporated into various devices.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, according to the first to third aspects of the present invention, the semiconductor substrate (2) and the source region (3) and the drain region (4) formed so as to be separated from each other in the surface layer portion of the semiconductor substrate. When a channel is formed between the source region and the drain region, a floating gate (6) formed with an exposed portion that comes into contact with the outside air on the channel, and a control gate (8) for controlling the potential of the floating gate And a tunnel film (7) disposed between the floating gate and the control gate.
[0007]
According to such a configuration, the charged particle detection device can be realized with a structure that is small and lightweight and can be easily incorporated into various devices. For example, as shown in claim 3, by adjusting the potential of the control gate so that the current (I DS ) between the source region and the drain region is constant, the charged particles are controlled based on the potential of the control gate. It is possible to determine the concentration.
[0008]
In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment)
FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a field effect transistor type charged particle detector 1 to which an embodiment of the present invention is applied. Hereinafter, the configuration of the charged particle detector 1 will be described with reference to FIG.
[0010]
As shown in FIG. 1, the charged particle detector 1 is formed using a silicon substrate 2. A source region 3 and a drain region 4 are formed on the surface layer portion of the silicon substrate 2 so as to be separated from each other. A source electrode 3a and a drain electrode 4a are formed on the surfaces of the source region 3 and the drain region 4, respectively. Has been.
[0011]
When the channel region is defined between the source region 3 and the drain region 4, an insulating film 5 is patterned on the channel region. On the surface of the insulating film 5, there are provided a floating gate 6 made of gold or the like, a tunnel film 7, a control gate 8 made of gold or aluminum or the like, and a sidewall oxide film 9. The floating gate 6 is disposed so as to be exposed to the outside, and the tunnel film 7, the control gate 8, and the sidewall oxide film 9 are sequentially disposed on both side walls of the floating gate 6.
[0012]
The charged particle detection apparatus 1 configured as described above can detect the concentration of charged particles and the like as follows.
[0013]
First, when a voltage is applied so that the control gate-source voltage V CGS becomes positive, the electrons of the floating gate 6 are extracted and the floating gate 6 is positively charged. Assuming that the voltage between the floating gate and the source at this time is V FGS , the charge amount of the floating gate 6 is q, and the electric capacity between the control gate and the source is c, the relationship shown in Equation 1 is established.
[0014]
[Expression 1]
V FGS = q / c
In this state, a channel is formed between the drain and the source, and a constant current I DS flows. Even if the potential V CGS between the control gate and the source is set to 0, charges are stored in the floating gate 6, and the floating gate 6 continues to be positively charged.
[0015]
In such a state, when particles having a negative charge are present in the outside air, the particles are adsorbed to the floating gate 6 and the charge in the floating gate 6 is neutralized. As a result, the floating gate-source voltage V FGS decreases. The amount of decrease δV FGS of the voltage V GS at this time is expressed as shown in Equation 2, where q ′ is the amount of absorbed charge.
[0016]
[Expression 2]
δV FGS = (q−q ′) / c
Then, the charged amount of particles is attracted to the floating gate 6, as it relates to the amount of charged particles present in the atmosphere, the floating gate - decrease in current I DS caused thereby and decrease in the source voltage V FGS charged particle Will show the amount.
[0017]
On the other hand, if the voltage is continuously applied to the control gate 8 so that the decrease amount δV FGS of the voltage V GS becomes zero, the control gate-source voltage V CGS at this time is the charged particles adsorbed per unit time. Therefore, the charge amount of the charged particles can be obtained based on the voltage V CGS .
[0018]
In such a case, the control gate 8 itself can be used as the adsorption electrode instead of the floating gate 6. However, if the floating gate 6 is used as the adsorption electrode as described above, the floating gate 6 to the control gate 8 due to the tunnel phenomenon. Since the movement of the charge to the surface occurs and the amount of the movement charge changes exponentially, the effect of increasing the sensitivity to the low concentration of the adsorbed charged particles can be obtained.
[0019]
In other words, the tunnel current has a characteristic that it does not flow unless a large voltage is applied, but it flows in a magnitude according to the voltage, and increases exponentially when the applied voltage is increased. The tunnel current can be controlled, and the sensitivity is increased as described above.
[0020]
Next, FIG. 2 shows an example of a charged particle detection circuit using the charged particle detection device 1 shown in FIG. This detection circuit detects the charge amount of the charged particles based on the control gate-source voltage V CGS of the charged particle detector 1, and outputs the voltage V CGS while keeping the source-drain current IDS constant. A low-pass filter 12 is connected to the low current circuit 10 via a resistor 11 to take measures against noise.
[0021]
The low current circuit 10 includes a constant voltage source 13 so that a desired voltage is applied to the control gate 8 and the drain electrode 4a. The transistor 14 of the switch for controlling the voltage applied to the control gate 8, a source of a charged particle detector 1 - and resistor 15 for controlling the ON / OFF of the transistor 14 is provided on the basis of the drain current I DS The transistor 14 is controlled based on the voltage drop across the resistor 15.
[0022]
The low pass filter 12 includes an operational amplifier 16, a capacitor 17, and resistors 18 and 19. The non-inverting input terminal of the operational amplifier 16 is connected to the virtual GND through the resistor 19 so that 0 V or less can be output even if the operational amplifier 16 is a single power supply.
[0023]
The charged particle detection circuit having such a configuration operates as follows. First, when the current I DS increases and the voltage drop at the resistor 15 connected to the source electrode 3a becomes approximately 0.7 V, the transistor 14 is turned on, the voltage V CGS decreases, and the current I DS also decreases. When the current I DS decreases and the voltage drop across the resistor 15 falls below 0.7V, the transistor 14 is turned off, the voltage V CGS increases, and the current I DS also increases. Thus the current I DS is kept constant, because it is controlled so that the decrease amount .DELTA.V GS of the voltage V GS becomes 0, the adsorption per unit time of charged particles by measuring the voltage V CGS of this time The amount, that is, the amount of charged particles can be detected.
[0024]
For example, to represent the relationship between the voltage V CGS and the charge amount of particles is assumed on the basis of the output of the charged particle detection circuit in the graph is shown in Figure 3, based on the correlation between the voltage V CGS charged particle amount, It is possible to detect the amount of charged particles based on the voltage V CGS .
[0025]
As described above, the charged particle detection apparatus 1 shown in the present embodiment can detect the amount of charged particles by a small and lightweight field effect transistor type sensor structure. For this reason, it can be made small and light and can be easily incorporated into various devices.
[0026]
The charged particle detection apparatus 1 configured as in the present embodiment forms the insulating region after the source region 3 and the drain region 4 are formed on the silicon substrate 1 by ion implantation using a mask having a predetermined pattern. 5 is patterned, the floating gate 6 is mounted on the insulating film 5, and then the tunnel film 7 is formed, the control gate 8 is mounted, and the sidewall oxide film 9 is formed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a charged particle detection apparatus according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an example of a charged particle detection circuit to which the charged particle detection device shown in FIG. 1 is applied.
FIG. 3 is a graph showing the relationship between voltage V CGS and charged particle amount.
FIG. 4 is a diagram showing an overall configuration of a conventional charged particle detection apparatus.
[Explanation of symbols]
1 ... charged particle detector, 2 ... silicon substrate, 3 ... source region,
4 ... Drain region, 5 ... Insulating film, 6 ... Floating gate, 7 ... Tunnel film,
8 ... Control gate, 9 ... Side wall insulating film, 10 ... Low current circuit,
12: Low-pass filter.

Claims (3)

半導体基板(2)と、
半導体基板の表層部において互いに離間するように形成されたソース領域(3)およびドレイン領域(4)と、
前記ソース領域と前記ドレイン領域との間をチャネルとすると、該チャネルの上に外気に触れる露出部分が備えられて形成された浮遊ゲート(6)と、
前記浮遊ゲートの電位を制御するコントロールゲート(8)と、
前記浮遊ゲートと前記コントロールゲートとの間に配置されたトンネル膜(7)とを備えていることを特徴とする帯電粒子検出装置。
A semiconductor substrate (2);
A source region (3) and a drain region (4) formed so as to be separated from each other in a surface layer portion of the semiconductor substrate;
When a channel is formed between the source region and the drain region, a floating gate (6) formed with an exposed portion that is exposed to the outside air on the channel;
A control gate (8) for controlling the potential of the floating gate;
A charged particle detection apparatus comprising a tunnel film (7) disposed between the floating gate and the control gate.
前記浮遊ゲート、前記コントロールゲートおよび前記トンネル膜は絶縁膜(5)を介して前記チャネル上に形成されており、前記浮遊ゲートを中央に配置して、前記トンネル膜と前記コントロールゲートとが順に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の帯電粒子検出装置。The floating gate, the control gate, and the tunnel film are formed on the channel via an insulating film (5), and the tunnel gate and the control gate are sequentially arranged with the floating gate being arranged in the center. The charged particle detection apparatus according to claim 1, wherein 前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の電流(IDS)が一定となるように前記コントロールゲートの電位を調整すると共に、該コントロールゲートの電位に基づいて帯電粒子の濃度を求めるように構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の帯電粒子検出装置。The potential of the control gate is adjusted so that the current (I DS ) between the source region and the drain region is constant, and the concentration of charged particles is obtained based on the potential of the control gate. The charged particle detection apparatus according to claim 1 or 2, wherein
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