JP4463541B2 - シール剤および該シール剤を用いた反応容器の接合方法、反応容器 - Google Patents
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Description
を提供する。
ン中に溶け出すことがないので、生成したシリコンを汚染することもない。
シリコン融液と接触する反応容器の接合部の接合に、前記シール剤を使用することを特徴とするものである。
シリコン融液と接触する反応容器の接合部の接合に、前記シール剤を使用することを特徴とするものである。
本発明に係るシール剤は、シリコン融液に対し、撥液性(ぬれにくい)特性を有するセラミックス材料の粉末を含む。
複合して使用する場合、混合物・複合物の接触角が上記範囲にあることが望ましい。
リビニルアルコール、セルロース、などのシリコン製造時の熱で容易に分解・蒸散するものが好適である。
本発明に係る反応容器の接合方法は、シリコン融液と接触する反応容器の接合部の接合に、前記シール剤を使用する。
本発明に係る反応容器としては、複数のパーツから構成され、前記シール剤で接合されているものであれば、その形状は特に制限されるものではない。
反応容器を構成するパーツ1の材質としては、その内部で高純度のシリコンを析出する反応を行うためのものであれば特に制限されないが、通常は炭素材料からなるものが使用される。
器が挙げられる。長方形の板状パーツは6枚接合されれば六角柱状の反応容器が形成され
る。また、板状パーツの枚数を増やせば、円筒状に近づけることができる。
形で形成すれば、長手方向に延びた反応容器を作成することができる。
[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
円筒形で長さ方向に分割され、これをネジ形状で接合しうるカーボン製管状反応容器のネジ状接合部に、下記材質からなるシール剤を充填した。シール剤の充填は、(粉体噴霧)で行った。シール剤の充填後、反応容器を接合した。(なお、比較例3はシール剤を使用せずにそのまま反応容器を嵌合させた。
ら反応容器を取り出し、接合部におけるシリコンの漏れの有無を確認した。
シール剤として、表2に示す混合粉末を使用した以外は上記実施例1〜6と同様にして、反応容器の接合を行い、シリコンの漏れの有無を確認した。
2 間隙
3 接合部(シール剤)
Claims (6)
- 加熱した反応容器内でクロロシラン類と水素とを含むシリコン原料ガスからシリコンを融液として得るためのカーボン製反応容器の接合部を接合する方法であって、
シリコン融液と接触する反応容器の接合部の接合に、シリコン融液との接触角が45°以上であるセラミックス材料の粉末を含むシール剤を使用する反応容器の接合方法。 - 前記セラミックス材料が窒化ホウ素、窒化珪素、窒化アルミニウムおよびシリカから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の接合方法。
- 反応容器の接合部が、ネジ形状であることを特徴とする請求項1または2に記載の接合方法。
- 複数のパーツから構成される接合部の間隙に、シリコン融液との接触角が45°以上であるセラミックス材料の粉末を含むシール剤を充填することにより、各パーツ同士が接合されてなることを特徴とするカーボン製反応容器。
- 前記セラミックス材料が窒化ホウ素、窒化珪素、窒化アルミニウムおよびシリカから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項4に記載のカーボン製反応容器。
- 各パーツが円筒形であり、その接合部がネジ形状を成すことを特徴とする請求項4または5に記載のカーボン製反応容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4740568B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2011-08-03 | コスモ石油株式会社 | シリコンの製造装置及び方法 |
| JP4741221B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2011-08-03 | 京セラ株式会社 | 多結晶シリコンの鋳造方法とこれを用いた多結晶シリコンインゴット、多結晶シリコン基板並びに太陽電池素子 |
| JP4845753B2 (ja) * | 2007-01-29 | 2011-12-28 | 京セラ株式会社 | 筒状部材およびこれを用いたシリコン析出用装置 |
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