JP4499446B2 - Ball mounting apparatus and ball mounting method - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 87
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
本発明は、転写ピンをクリーニングするクリーニングユニットを配設したボール搭載装置と、転写ピンに付着したフラックスを除去するクリーニング工程を含むボール搭載方法に関する。 The present invention relates to a ball mounting apparatus provided with a cleaning unit for cleaning a transfer pin, and a ball mounting method including a cleaning step of removing flux adhered to the transfer pin.
従来、ボール搭載装置を構成する転写ピンのクリーニング装置は、転写ピンに付着したフラックスをフラックス吸着材(例えば、不織布、紙)に吸着させる装置が慣用されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, as a transfer pin cleaning device that constitutes a ball mounting device, a device that adsorbs a flux adhering to a transfer pin to a flux adsorbing material (for example, non-woven fabric, paper) is commonly used.
しかし、従来のクリーニング装置は、転写ピンの状態(正常か異常か)を目視することができない問題がある。更に、転写ピンの変形やフラックスの残留が生じ易い問題があった。
解決しようとする問題点は、ボール搭載装置に配設されているフラックスクのクリーニング装置において、転写ピンが正常にセットされているかどうかを検査できない点である。
他の課題は、転写ピンが変形し易く且つ転写ピンにフラックスが残留し易い点である。
The problem to be solved is that it is impossible to inspect whether or not the transfer pin is normally set in the fluxk cleaning device provided in the ball mounting device.
Another problem is that the transfer pin is easily deformed and flux is likely to remain on the transfer pin.
本発明のボール搭載装置は、クリーニング装置を有するピン転写型のボール搭載装置であって、クリーニングユニットが、転写ピンに付着しているフラックスを除去するために、転写ピンに付着したフラックスを移載するクリーニング面と、このクリーニング面を加熱する加熱装置からなることを特徴とする。 The ball mounting device of the present invention is a pin transfer type ball mounting device having a cleaning device, and the cleaning unit transfers the flux attached to the transfer pin in order to remove the flux attached to the transfer pin. And a heating device for heating the cleaning surface.
又、本発明のボール搭載装置は、加熱装置によりクリーニング面を30〜40℃に加熱することを特徴とする。 The ball mounting apparatus of the present invention is characterized in that the cleaning surface is heated to 30 to 40 ° C. by a heating device.
又、本発明のボール搭載方法は、フラックスを加熱する工程を有することを特徴とする。 The ball mounting method of the present invention is characterized by having a step of heating the flux.
本発明のボール搭載装置とボール搭載方法は、フラックスのクリーニングユニットにより転写ピンが正常にセットされているかどうかを目視又は画像処理技術で検査できる利点がある。 The ball mounting apparatus and the ball mounting method of the present invention have an advantage that it is possible to inspect whether the transfer pin is normally set by the flux cleaning unit by visual inspection or image processing technology.
本発明のボール搭載装置とボール搭載方法は、転写ピンの変形がなく且つ転写ピンにフラックスが残留しない利点がある。 The ball mounting apparatus and the ball mounting method of the present invention have an advantage that the transfer pin is not deformed and flux does not remain on the transfer pin.
本発明のボール搭載装置とボール搭載方法は、上記ボール搭載装置の効果を有する他に、フラックスの粘性と表面張力を調整できる利点がある。 The ball mounting device and the ball mounting method of the present invention have the advantage of being able to adjust the viscosity and surface tension of the flux, in addition to the effects of the ball mounting device.
転写されたフラックスを目視して転写ピンが正常な状態にあるかどうかを判断ができ、転写ピンの変形がなく且つ転写ピンにフラックスが残留しないクリーニングユニットを装備したボール搭載装置とボール搭載方法を実現した。 A ball mounting apparatus and a ball mounting method equipped with a cleaning unit that can visually determine whether or not the transfer pin is in a normal state by visually observing the transferred flux and that does not deform the transfer pin and does not leave the flux on the transfer pin. It was realized.
図1は、本発明のボール搭載装置の平面配置図で構成要素をブロックで示している。 FIG. 1 is a plan view of a ball mounting apparatus according to the present invention, in which components are shown as blocks.
ローダ1には基板15をセットするマガジンが配設されている。基板15は、必要に応じて、マガジンから基板ガイド11に沿ってフラックス転写位置、ボール搭載位置、ボール搭載検査位置そしてアンローダ9へと送られ、更にリフロー炉へ送られる。フラックス転写位置とボール搭載位置に送られた基板15を符号15aと15bで示してある。 The loader 1 is provided with a magazine for setting the substrate 15. The substrate 15 is sent from the magazine along the substrate guide 11 to the flux transfer position, the ball mounting position, the ball mounting inspection position, and the unloader 9 as necessary, and further to the reflow furnace. The substrate 15 sent to the flux transfer position and the ball mounting position is indicated by reference numerals 15a and 15b.
転写装置は、転写ヘッド2と、転写ユニット3と、クリーニングユニット4からなる。転写ヘッド2は、Y軸スライダでY軸方向に自由に移動でき、更に、θ方向駆動装置とZ軸駆動装置と連結して、回転と上下移動ができるようになっている。転写ヘッド2は、待機位置にあり、この位置から、転写ユニット3、基板15a、及びクリーニングユニット4上を任意に移動できる。なお、CCDカメラ16は、クリーニング面に移載されたフラックスの観察と基板15aと転写ヘッド2との位置合せに使用される。フラックスの観察と位置合せは異なる操作であり、異なるカメラを用いても良く、フラックスの転写状態を目視のみで監視する場合は、フラックスを監視するカメラは設けなくても良い。 The transfer device includes a transfer head 2, a transfer unit 3, and a cleaning unit 4. The transfer head 2 can be freely moved in the Y-axis direction by a Y-axis slider, and can be rotated and moved up and down by being connected to a θ-direction drive device and a Z-axis drive device. The transfer head 2 is in a standby position, and can be arbitrarily moved on the transfer unit 3, the substrate 15a, and the cleaning unit 4 from this position. The CCD camera 16 is used for observing the flux transferred to the cleaning surface and aligning the substrate 15a and the transfer head 2. The observation and alignment of the flux are different operations, and a different camera may be used. When the transfer state of the flux is monitored only by visual observation, the camera for monitoring the flux may not be provided.
搭載装置は、ボール吸着ヘッド5と、ボール供給ユニット6と、ボール吸着検査用の照明装置7からなる。ボール吸着ヘッド5は、X軸スライダー13とY軸スライダ12により平面内を自由に移動できるようになっていて、更に、θ方向駆動装置とZ軸駆動装置と連結して、回転と上下移動ができるようになっている。ボール供給ユニット6は、振動装置と、パーツフィーダ19と、ボール振動容器20と、ボール量検出センサ21とからなる。搭載装置の細部は、特開2002−299808号と実質的に同じ構造になっている。 The mounting device includes a ball suction head 5, a ball supply unit 6, and a lighting device 7 for ball suction inspection. The ball suction head 5 can be freely moved in the plane by the X-axis slider 13 and the Y-axis slider 12, and is further connected to the θ-direction drive device and the Z-axis drive device to rotate and move up and down. It can be done. The ball supply unit 6 includes a vibration device, a parts feeder 19, a ball vibration container 20, and a ball amount detection sensor 21. Details of the mounting device have substantially the same structure as that of JP-A-2002-299808.
ボール搭載検査装置8は、基板にボールが搭載されている状態をCCDカメラで取り込み画像処理して、ボールが基板に正常に搭載されているかどうかを検査する装置である。このボール搭載検査装置8は、リペア処理時に邪魔になるのでスライダ18で待機位置に移動できるようになっている。 The ball mounting inspection device 8 is a device that inspects whether or not the ball is normally mounted on the substrate by capturing the image of the state where the ball is mounted on the substrate with a CCD camera and processing the image. The ball mounting inspection device 8 can be moved to the standby position by the slider 18 because it becomes an obstacle during the repair process.
リペアユニット10は、ボールの搭載不良を修復する装置である。ボール搭載検査装置8で基板15bのランドにボールが搭載されていないと判断された場合、リペアユニット10のヘッドがボールを吸着してボールが搭載されていないランド上に移動してボールを搭載する。なお、ボールが余分に搭載されていると判断された場合、リペアユニット10に設けられているヘッドでボールを取り除く機構を付加できるようになっている。 The repair unit 10 is a device that repairs a mounting failure of a ball. When the ball mounting inspection device 8 determines that no ball is mounted on the land of the substrate 15b, the head of the repair unit 10 adsorbs the ball and moves onto the land where the ball is not mounted to mount the ball. . When it is determined that an extra ball is mounted, a mechanism for removing the ball with a head provided in the repair unit 10 can be added.
図2は、転写ヘッド2の正面断面図で、図3は、図2のAA断面図である。転写ヘッド2は、ピンユニット22と、ピン案内板23と、固定部材24とからなる。ピンユニット22は、転写ピン25と、ピン保持板26と、ピンユニット固定板27とバネ28からなる。ピンユニット22は、左端の1組以外の6組を転写ピン25のみで図示してある。 FIG. 2 is a front sectional view of the transfer head 2, and FIG. 3 is a sectional view taken along AA in FIG. The transfer head 2 includes a pin unit 22, a pin guide plate 23, and a fixing member 24. The pin unit 22 includes a transfer pin 25, a pin holding plate 26, a pin unit fixing plate 27 and a spring 28. In the pin unit 22, six sets other than the leftmost set are illustrated by only the transfer pin 25.
転写ピン25は、ステンレス鋼(SUS303)製で金メッキが施されている。転写ピン25は、根元部が中間部と先端部より太く、先端部が円弧となっている。ピン案内板23に設けられたガイド孔は、転写ピンの根元部より小さい。転写ピン25は、ガイド孔に案内され上下に移動できるが、ピン案内板23により落下しないようになっている。又、ピン保持板26は、転写ピン25がガイド孔に案内され上下に移動したとき、ピン案内板23からはずれないように働く。 The transfer pin 25 is made of stainless steel (SUS303) and plated with gold. The transfer pin 25 has a root portion that is thicker than the middle portion and the tip portion, and a tip portion that is an arc. The guide hole provided in the pin guide plate 23 is smaller than the base portion of the transfer pin. The transfer pin 25 is guided by the guide hole and can move up and down, but is not dropped by the pin guide plate 23. The pin holding plate 26 functions so as not to be detached from the pin guide plate 23 when the transfer pin 25 is guided by the guide hole and moves up and down.
バネ28は、ピン保持板26とピンユニット固定板27との間に配設され、転写ピン25が取付けられたピン保持板26を下方に付勢している。このバネ28の付勢力により、下方に押圧されている転写ピン25が比較的小さい力で上方に移動するので、フラックスの塗布と転写時に、転写ピン25に大きな応力が作用することはなく、転写ピン25の変形が防止されている。転写ピン25の先端位置は、全てが等しいことが好ましいが、部品寸法誤差や取付け誤差等でバラツキが生じるので、これらのバラツキによって生じる欠陥の一部をバネ28で補正している。 The spring 28 is disposed between the pin holding plate 26 and the pin unit fixing plate 27 and urges the pin holding plate 26 to which the transfer pin 25 is attached downward. Due to the biasing force of the spring 28, the transfer pin 25 pressed downward moves upward with a relatively small force, so that a large stress does not act on the transfer pin 25 during the application and transfer of the flux. The deformation of the pin 25 is prevented. Although it is preferable that the tip positions of the transfer pins 25 are all equal, variations occur due to component dimensional errors, mounting errors, etc., and some of the defects caused by these variations are corrected by the spring 28.
固定部材24とピンユニット固定板27に空気孔(29,30)が設けられている。この空気孔を通って圧空が送り込まれる。この圧空は、転写ピン25の1本1本に作用して、転写ピン25を常時下方に押圧する。これにより、転写ピン25の先端を揃えることができる。なお、転写ヘッド2の側面にはドレイン用の孔が設けられていて、圧空を常時抜く構造となっている。転写ヘッド2は、転写ピン25の先端をバネ28と圧空の2重の方法で揃えている。 Air holes (29, 30) are provided in the fixing member 24 and the pin unit fixing plate 27. The compressed air is sent through this air hole. This compressed air acts on each of the transfer pins 25 and always presses the transfer pins 25 downward. Thereby, the tips of the transfer pins 25 can be aligned. Note that a drain hole is provided on the side surface of the transfer head 2 so that the compressed air is constantly removed. In the transfer head 2, the tips of the transfer pins 25 are aligned by a double method of a spring 28 and compressed air.
図4は、転写ユニット3の平面図で、図5は、図4のAA断面図である。転写ユニット3は、スキージ17と、フラックステーブル32と、スキージ案内31と、スライダ14からなる。 4 is a plan view of the transfer unit 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The transfer unit 3 includes a squeegee 17, a flux table 32, a squeegee guide 31, and a slider 14.
スキージ17は、その先端にフラックスを均すブレードが付いた2個のスキージからなり、それぞれ独立して上下にも移動でききる構造となっている。スキージ案内31には、スキージ(17a、17b)を上下させる駆動装置35が配設されている。フラックス33は、スキージ(17a、17b)の間に供給され、フラックス33を左方向に移動させる時は、スキージ17aを用い、フラックスを右方向に移動させる時は、スキージ17bを用いる。スキージ案内31は、ボールネジ36と連結部材34を介してモータに連結し、モータの回転により左右に移動できる。 The squeegee 17 is composed of two squeegees with blades for leveling the flux at the tip thereof, and has a structure that can move up and down independently. The squeegee guide 31 is provided with a drive device 35 that moves the squeegee (17a, 17b) up and down. The flux 33 is supplied between the squeegees (17a, 17b). When the flux 33 is moved in the left direction, the squeegee 17a is used, and when the flux is moved in the right direction, the squeegee 17b is used. The squeegee guide 31 is connected to a motor via a ball screw 36 and a connecting member 34, and can move left and right by the rotation of the motor.
フラックステーブル32は、両側端部に障壁37が設けられており、フラックス33がフラックステーブル32の外に逃げないようになっている。フラックス33は、スキージ17により均され一定の厚みに成形される。 The flux table 32 is provided with barriers 37 at both ends, so that the flux 33 does not escape from the flux table 32. The flux 33 is leveled by the squeegee 17 and formed to have a constant thickness.
図6は、クリーニングユニット4の平面図で、図7は、図6のAA断面図である。クリーニングユニット4は、クリーニングテーブル38とヒータ39と断熱材41からなる。 6 is a plan view of the cleaning unit 4, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. The cleaning unit 4 includes a cleaning table 38, a heater 39, and a heat insulating material 41.
クリーニングテーブル38は、ステンレス鋼(SUS303)からなる。その上面は、クリーニング面40で平面研削された研削面である。ヒータ39は、クリーニングテーブル38に加工された穴にセットされている。ヒータ39は、6本で、それぞれの近傍に温度センサを備えており、それぞれのヒータを独立に温度制御している。なお、高精度の温度コントロールが必要ない場合は、温度センサは1個でも良いし、ヒータ39の本数を2〜4本に減らしても良い。 The cleaning table 38 is made of stainless steel (SUS303). The upper surface is a ground surface that has been surface-ground by the cleaning surface 40. The heater 39 is set in a hole processed in the cleaning table 38. Six heaters 39 are provided with temperature sensors in the vicinity thereof, and the temperature of each heater is controlled independently. If high-precision temperature control is not required, the number of temperature sensors may be one, or the number of heaters 39 may be reduced to 2-4.
ヒータ39からの熱が下方に伝達しないように、多孔質のセラミックからなる断熱材41がヒータ39の下方に配設されている。 A heat insulating material 41 made of porous ceramic is disposed below the heater 39 so that heat from the heater 39 is not transmitted downward.
図8は、基板15の平面図である。基板15は、ビアホールを有する多層配線基板で、4×7個のチップ基板42からなる。それぞれのチップ基板42の裏面には半導体チップが実装されている。ランド44を省略して図示してある。 FIG. 8 is a plan view of the substrate 15. The substrate 15 is a multilayer wiring substrate having via holes, and is composed of 4 × 7 chip substrates 42. A semiconductor chip is mounted on the back surface of each chip substrate 42. The land 44 is omitted from the illustration.
図9は、切断ライン43に沿ってダイシングソーで切断されたチップ基板42を示している。フラックスを転写しその後ボールを搭載するランドは、符号44で示してある。 FIG. 9 shows the chip substrate 42 cut by a dicing saw along the cutting line 43. The land on which the flux is transferred and then the ball is mounted is indicated by reference numeral 44.
図10は、リペア操作の1工程を模式的に示した図で、ボール1個が搭載不足の基板15にボール1個を供給する状態を示す。基板15には、ランド44が設けられ、ランド44上にはフラックス33が転写され、1つのランドを除きボール45がランド44上にフラックス33で仮固定されている。一方、リペア用ヘッド46の中央に吸着孔47が明けられており、吸着孔47には、ボール45が吸着されている。このボール45をボールが不足しているランド上に搭載する。 FIG. 10 is a diagram schematically showing one process of the repair operation, and shows a state in which one ball is supplied to the substrate 15 in which one ball is insufficiently mounted. A land 44 is provided on the substrate 15, and a flux 33 is transferred onto the land 44. Balls 45 are temporarily fixed onto the land 44 with the flux 33 except for one land. On the other hand, a suction hole 47 is opened in the center of the repair head 46, and the ball 45 is sucked into the suction hole 47. The ball 45 is mounted on the land where the ball is insufficient.
フラックスの転写状態や、ボールの搭載状態を理想的状態で図10に示したが、実際は、フラックスは、ランドからこぼれ、ランドを覆うことが多い。また、半田ボール45が載置された基板15をリフローすると、半田が溶けランドを覆う。 Although the transfer state of the flux and the mounting state of the ball are shown in FIG. 10 in an ideal state, in reality, the flux often spills from the land and covers the land. When the substrate 15 on which the solder balls 45 are placed is reflowed, the solder melts and covers the lands.
本発明のボール搭載装置を用いて、転写ピン25に付着したフラックスを加熱してクリーニングする工程を含むボール搭載方法について説明する。 A ball mounting method including the step of heating and cleaning the flux adhered to the transfer pin 25 using the ball mounting apparatus of the present invention will be described.
図11は、ボール搭載方法のフローチャートである。ステップ1(S1)は、基板15をフラックス転写位置に移動してクランパで固定する。スキージ17でフラックス33を均すステップがステップ2(S2)である。 FIG. 11 is a flowchart of the ball mounting method. In step 1 (S1), the substrate 15 is moved to the flux transfer position and fixed by a clamper. The step of leveling the flux 33 with the squeegee 17 is step 2 (S2).
ステップ2は、スキージ17aを左方向に移動させて、フラックス33を均し、フラックス33の表面を平らにする。スキージ17bが、フラックステーブル32の左端で待機している場合は、スキージ17bを右方向に移動させて、フラックス33を均す。ステップ1とステップ2は、独立した操作なので、いずれが先でも良い。 In step 2, the squeegee 17a is moved to the left to level out the flux 33 and flatten the surface of the flux 33. When the squeegee 17b is waiting at the left end of the flux table 32, the squeegee 17b is moved rightward to level the flux 33. Since step 1 and step 2 are independent operations, any of them may be performed first.
ステップ3(S3)は、転写ピン25にフラックスを付着させる工程である。転写ヘッド2をフラックステーブル32上に移動させ、転写ピン25をフラックス33中に降下させて、転写ピン25の先端部にフラックス33を付着させる。フラックス33の付着量を一定にするために、転写ピン25の先端がフラックステーブル32の底面に着くまで降下させる。転写ピン25は、弱いバネ28により下方に付勢されているので、転写ピン25の先端がフラックステーブル32の底面に接触するとピン保持板26が転写ピン25と一緒に押し上げられる。 Step 3 (S3) is a step of attaching the flux to the transfer pin 25. The transfer head 2 is moved onto the flux table 32, the transfer pin 25 is lowered into the flux 33, and the flux 33 is attached to the tip of the transfer pin 25. In order to make the adhesion amount of the flux 33 constant, the transfer pin 25 is lowered until the tip of the transfer pin 25 reaches the bottom surface of the flux table 32. Since the transfer pin 25 is biased downward by a weak spring 28, the pin holding plate 26 is pushed up together with the transfer pin 25 when the tip of the transfer pin 25 comes into contact with the bottom surface of the flux table 32.
ステップ4(S4)は、転写ピン25に付着させたフラックス33を基板15のランド44上に転写する工程である。転写ピン25をフラックス33の中から引き上げて、基板ガイド11上に固定されている基板15a上に移動する。次に、基板15a上の位置マークと転写ヘッド2の位置マークを用いて位置合せを行う。その後、転写ピン25が基板15aに付くまで転写ヘッド2を降下させ、所定時間保持して、上昇させる。 Step 4 (S4) is a step of transferring the flux 33 adhered to the transfer pin 25 onto the land 44 of the substrate 15. The transfer pin 25 is pulled up from the flux 33 and moved onto the substrate 15 a fixed on the substrate guide 11. Next, alignment is performed using the position mark on the substrate 15 a and the position mark of the transfer head 2. Thereafter, the transfer head 2 is lowered until the transfer pin 25 is attached to the substrate 15a, held for a predetermined time, and then raised.
ステップ5(S5)は、転写ピン25に残留して付着しているフラックス33をクリーニングする工程である。先ず、クリーニング面40は、クリーニングユニット4のヒータ39により35℃に加熱されている。転写ヘッド2をクリーニング面40上に移動し、転写ピン25をクリーニング面40に着くまで降下させ、0.2秒保持した後、上昇させる。好ましい温度は、フラックスの種類により異なる。本実施例では、30〜40℃の範囲が好ましい。なお、残留するフラックスが少ない場合は、このステップを数回おきに行う。好ましい保持時間は、0.05〜1秒で、より好ましい保持時間は、0.1〜0.5秒である。 Step 5 (S5) is a step of cleaning the flux 33 remaining on the transfer pin 25 and adhering thereto. First, the cleaning surface 40 is heated to 35 ° C. by the heater 39 of the cleaning unit 4. The transfer head 2 is moved onto the cleaning surface 40, the transfer pin 25 is lowered until it reaches the cleaning surface 40, held for 0.2 seconds, and then raised. The preferred temperature varies depending on the type of flux. In the present embodiment, a range of 30 to 40 ° C. is preferable. If the remaining flux is small, this step is performed every several times. A preferable holding time is 0.05 to 1 second, and a more preferable holding time is 0.1 to 0.5 second.
ステップ6(S6)は、フラックス33が転写された基板15aをボール搭載位置に移動して、クランパで固定する工程である。 Step 6 (S6) is a step of moving the substrate 15a, onto which the flux 33 has been transferred, to the ball mounting position and fixing it with a clamper.
ステップ7(S7)は、ボール吸着ヘッド5にボールを吸着させるボール吸着工程である。ボール吸着ヘッド5をボール振動容器20上に移動する。ボール振動容器20を振動装置で振動させてボール振動容器20内のボールを1〜2cmジャンプさせ浮遊させる。ボール吸着ヘッド5の内部を減圧して、浮遊しているボールをボール吸着ヘッド5の下面に設けられた吸着孔に吸着する。 Step 7 (S7) is a ball suction step for causing the ball suction head 5 to suck the ball. The ball suction head 5 is moved onto the ball vibrating container 20. The ball vibrating container 20 is vibrated by a vibration device, and the ball in the ball vibrating container 20 jumps 1 to 2 cm and floats. The pressure inside the ball suction head 5 is reduced, and the floating ball is sucked into a suction hole provided on the lower surface of the ball suction head 5.
ステップ8(S8)は、ボールを基板15aのランド44上へ搭載する工程である。ボールを吸着したボール搭載ヘッド5をボール搭載位置に移動した後、ボール吸着ヘッド5と基盤15を位置合せする。その後、吸着孔に吸着されているボールの先端がランド上に転写されたフラックスの中に入るまでボール吸着ヘッド5を降下させる。降下後、ボール吸着ヘッド5の真空を破り、ボール吸着ヘッド5を少し上昇させ、ボール吸着ヘッド5に振動を加えて、フラックスの粘着力もかりて、ボールを吸着孔から離脱させる。そして、ボール吸着ヘッド5は、上昇して図1に示す待機位置に戻る。 Step 8 (S8) is a step of mounting the ball on the land 44 of the substrate 15a. After the ball mounting head 5 that has sucked the ball is moved to the ball mounting position, the ball suction head 5 and the base 15 are aligned. Thereafter, the ball suction head 5 is lowered until the tip of the ball sucked in the suction hole enters the flux transferred onto the land. After the descent, the vacuum of the ball suction head 5 is broken, the ball suction head 5 is raised a little, the ball suction head 5 is vibrated, the flux adhesive force is also measured, and the ball is detached from the suction hole. Then, the ball suction head 5 rises and returns to the standby position shown in FIG.
ステップ9(S9)は、ボールが搭載された基板15bを次の工程に送る工程である。 Step 9 (S9) is a step of sending the substrate 15b on which the ball is mounted to the next step.
転写ヘッド2は、7組のピンユニット22を1列に配設した構造としたので、基板15にフラックス33を転写する場合、転写操作を4回繰り返す。なお、ピンユニット22が4列×7組の場合、転写操作は1回である。 Since the transfer head 2 has a structure in which seven sets of pin units 22 are arranged in one row, when transferring the flux 33 to the substrate 15, the transfer operation is repeated four times. When the pin units 22 are 4 rows × 7 sets, the transfer operation is performed once.
図12は、転写ピンの中に凹んでいるものがあるかどうかや、曲がっているものがあるかどうか等を、本発明のボール搭載装置を用いて検査する工程を示すフローチャートである。 FIG. 12 is a flowchart showing a process of inspecting whether there is a concave in the transfer pin or whether there is a bent one using the ball mounting apparatus of the present invention.
ステップ11(S11)は、クリーニングユニット4のクリーニング面40即ちフラックス転写面をヒータ39で35℃に加熱する工程である。クリーニング面40は、平面研削された面で、フラックスの転写状態を検査できるようになっている。 Step 11 (S 11) is a step of heating the cleaning surface 40 of the cleaning unit 4, that is, the flux transfer surface, to 35 ° C. by the heater 39. The cleaning surface 40 is a surface subjected to surface grinding so that the transfer state of the flux can be inspected.
ステップ12(S12)は、転写ユニット3において、スキージ17でフラックス33を均す工程である。 Step 12 (S12) is a step of leveling the flux 33 with the squeegee 17 in the transfer unit 3.
ステップ13(S13)は、転写ヘッド2をフラックステーブル32上に移動し、降下し、転写ピン25にフラックス33を付着した後、上昇させる工程である。 Step 13 (S13) is a step of moving the transfer head 2 onto the flux table 32, lowering it, attaching the flux 33 to the transfer pin 25, and then raising it.
ステップ14(S14)は、転写ヘッド2をクリーニング面40上に移動させ、転写ピン25をクリーニング面40に接触させる工程である。転写ピン25に付着しているフラックスは、クリーニング面40に転写される。 Step 14 (S14) is a step of moving the transfer head 2 onto the cleaning surface 40 and bringing the transfer pin 25 into contact with the cleaning surface 40. The flux adhering to the transfer pin 25 is transferred to the cleaning surface 40.
ステップ15(S15)は、クリーニング面40に転写されたフラックスの形状を目視又はCCDカメラで測定する。 In step 15 (S15), the shape of the flux transferred to the cleaning surface 40 is measured visually or with a CCD camera.
ステップ16(S16)は、クリーニング面40に転写されたフラックスの形状から、転写ピン25が正常か、異常かを判定する工程である。図2に示した転写ピン25の本数は、17×17×7で2、023本である。これらの中で、転写されたフラックスの形状が小さいものや、転写されたフラックスの位置がずれているものがある場合は、転写ピン25が不良であると判断する。 Step 16 (S16) is a step of determining whether the transfer pin 25 is normal or abnormal from the shape of the flux transferred to the cleaning surface 40. The number of transfer pins 25 shown in FIG. 2 is 17 × 17 × 7, which is 2,023. Among these, when the transferred flux has a small shape or the transferred flux is misaligned, it is determined that the transfer pin 25 is defective.
実施例4は、ボールの径が小さくなるとボール吸着工程(実施例2ステップ7)でボール振動容器の中心部にボールが集まり、クラスターを形成するので、ボールの集合やクラスターを解散させる方法を説明する。 In the fourth embodiment, when the ball diameter is reduced, the balls are collected at the center of the ball vibrating container in the ball adsorption step (step 7 of the second embodiment) to form a cluster. To do.
ボール直径が250μ以下となると、ボールの自重が軽いため、ボールの吸着中にボールがボール吸着ヘッドの中央部に集まり、更に時間が経過するとクラスターを形成する。又、ボールの直径が100μ前後となると、ボールが中央部に集まり、クラスターを形成する時間が非常に早くなる。クラスターは、ボールが集合した状態の1つで、いろいろな形状になる。ボールは、ボール振動容器の底面に1層で、その50%を覆う程度に供給されているので、ボールが中心に集まると、ボール吸着ヘッドの周辺部の吸着孔にボールが供給されなくなる。 When the ball diameter is 250 μm or less, the weight of the ball is light, so that the ball gathers at the center of the ball suction head during the suction of the ball and forms a cluster as time passes. Further, when the diameter of the ball is about 100 μm, the ball gathers at the central portion, and the time for forming a cluster becomes very fast. A cluster is a state in which balls are gathered, and has various shapes. Since the balls are supplied in such a manner that one layer is provided on the bottom surface of the ball vibrating container and covers 50% of the balls, when the balls are collected at the center, the balls are not supplied to the suction holes in the peripheral portion of the ball suction head.
ボールを吸着開始するとボール吸着ヘッド5が空気を吸い込むのでボールがボール振動容器20の中で空気の流れに乗ってボール吸着ヘッド5の中央部に集まってくる。吸着開始所定時間後に、ボールの吸着操作を一時中止するために、ボール吸着ヘッド5を上方に移動する。 When the suction of the ball is started, the ball suction head 5 sucks air, so that the ball rides on the air flow in the ball vibrating container 20 and gathers at the center of the ball suction head 5. After a predetermined time from the start of the suction, the ball suction head 5 is moved upward to temporarily stop the ball suction operation.
ボール吸着ヘッド5が上方に移動すると、中心に集まってきたボールは、ボール吸着ヘッド5からの空気の流れの影響を受けなくなるので、中心へ移動する力は働かなくなることとボール振動容器の振動により、中央部に集まったボールの集合又はクラスターは壊れ、ボールはボール振動容器の全面に1〜2秒で広がる。 When the ball suction head 5 moves upward, the balls gathered at the center are not affected by the air flow from the ball suction head 5, so that the force to move to the center does not work and the ball vibration container vibrates. The set or cluster of balls gathered at the center is broken, and the balls spread over the entire surface of the ball vibrating container in 1 to 2 seconds.
その後、再度、ボール吸着をおこなう。このようなボール吸着操作を一時中止することを複数回繰り返すことも本発明に属する。 Thereafter, the ball adsorption is performed again. It is also included in the present invention that such a ball suction operation is temporarily stopped a plurality of times.
クラスターの発生は、装置の改良により防止することもできる。
ボール吸着ヘッド5は、全ての吸着孔でボールを真空吸着できるように内部は、中空となっている。ボール吸着ヘッドの中央部の吸着孔を通る空気量を周辺部の吸着孔を通る空気より小さくするように、中空となっているボール搭載ヘッド5の内部に空気抵抗を生じさせる板や網(以下、空気抵抗部材という)を設けて、吸着中にボールがボール吸着ヘッド5の中央部に集まらないようにする。
Generation of clusters can also be prevented by improving the apparatus.
The ball suction head 5 is hollow so that the balls can be vacuum-sucked by all the suction holes. A plate or net (hereinafter referred to as air resistance) that causes air resistance in the hollow ball mounting head 5 so that the amount of air passing through the suction hole in the center of the ball suction head is smaller than the air passing through the suction hole in the peripheral part. , An air resistance member) is provided so that the balls do not collect at the center of the ball suction head 5 during the suction.
空気抵抗部材の形状は、ボール搭載ヘッドの形状により、円形、楕円形又方形である。空気抵抗部材の取付位置は、ボール吸着ヘッド内の中空部で、吸着孔が設けられている面の周辺部を除いた中央領域である。ボール吸着ヘッド5の中空部の断面に関して、ヘッドの中央領域をヘッドの周辺部より小さくして、中央領域の空気抵抗を大きくすることにより、ボールのクラスター形成を防止できる。空気抵抗部材は、ボール吸着検査用照明7からの入射光を遮断しないように透明のプラスチックかガラスとなっている。 The shape of the air resistance member is circular, elliptical or square depending on the shape of the ball mounting head. The mounting position of the air resistance member is a central region excluding the peripheral portion of the surface where the suction holes are provided in the hollow portion in the ball suction head. With respect to the cross section of the hollow portion of the ball suction head 5, ball center formation can be prevented by making the central region of the head smaller than the peripheral portion of the head and increasing the air resistance of the central region. The air resistance member is made of transparent plastic or glass so as not to block incident light from the ball adsorption inspection illumination 7.
本発明において、ボールは、半田ボール、金属ボール、セラミックボール、プラスチックボール及びそれらの複合ボールを含む。又、フラックスは、ロジンを含むペースト、微小な半田を含む半田ペースト、導電性接着剤などを含む。又、駆動装置は、サーボモータ、ステップモータやリニアモータである。また、基板15として、回路基板を例示したが、半導体ウエハも含む。半導体ウエハの場合、ランド44は、半導体素子の外部電極端子となる。本発明のランド44は、回路配線の接続端子を指す。 In the present invention, the balls include solder balls, metal balls, ceramic balls, plastic balls, and composite balls thereof. The flux includes a paste containing rosin, a solder paste containing a minute solder, a conductive adhesive, and the like. The drive device is a servo motor, a step motor or a linear motor. Moreover, although the circuit board was illustrated as the board | substrate 15, a semiconductor wafer is also included. In the case of a semiconductor wafer, the land 44 becomes an external electrode terminal of the semiconductor element. The land 44 of the present invention refers to a connection terminal for circuit wiring.
また、本発明において、フラックスが転写ピン25の上方に表面張力で這い上がるのを防止するために、中間部をフラックスと接触角が大きくなるようにすると良い。具体的には、中間部をフッ素樹脂で被覆するかステンレス鋼の表面を露出させる。 Further, in the present invention, in order to prevent the flux from scooping up due to the surface tension above the transfer pin 25, it is preferable that the intermediate portion has a larger contact angle with the flux. Specifically, the intermediate part is covered with a fluororesin or the surface of stainless steel is exposed.
本発明において、クリーニング面40の加熱を例示したが、転写ピン25を加熱することやフラックステーブル32上のフラックスを加熱してフラックスの粘性を調節することも本発明に属する。 In the present invention, heating of the cleaning surface 40 is exemplified, but heating of the transfer pin 25 or heating of the flux on the flux table 32 also adjusts the viscosity of the flux belongs to the present invention.
本発明のボール搭載方法は、複数のステップから構成されるが、その順序は、実施例に限定されない。例えば、フラックスの転写工程がボール吸着工程より後となるケースも本発明の趣旨を逸脱しないことは明らかである。 The ball mounting method of the present invention includes a plurality of steps, but the order is not limited to the embodiment. For example, it is clear that the case where the flux transfer process is after the ball adsorption process does not depart from the spirit of the present invention.
本発明になるフラックスのクリーニング装置とクリーニング方法は、ボール搭載装置とボール搭載方法以外に、半田付けのためのフラックスの転写操作や接着剤の塗布操作におけるクリーニングに利用が可能である。 The flux cleaning device and the cleaning method according to the present invention can be used for cleaning in a flux transfer operation for soldering and an adhesive application operation, in addition to the ball mounting device and the ball mounting method.
更に、フラックスや接着剤の温度を調節して、転写量を精密に調節することが必要な方法に利用が可能である。 Furthermore, it can be used for a method that requires precise adjustment of the transfer amount by adjusting the temperature of the flux or adhesive.
1・・・ローダ、2・・・転写ヘッド、3・・・転写ユニット、4・・・クリーニングユニット、5・・・ボール吸着ヘッド、6・・・ボール供給ユニット、7・・・照明装置、8・・・ボール搭載検査装置、9・・・アンローダ、10・・・リペアユニット、11・・・基板ガイド、12・・・Y軸スライダ、13・・・X軸スライダ、14・・・スライダ、15、15a、15b・・・基板、16・・・CCDカメラ、17、17a,17b・・・スキージ、18・・・スライダ、19・・・パーツフィーダ、20・・・ボール振動容器、21・・・ボール量検出センサ、22・・・ピンユニット、23・・・ピン案内板、24・・・固定部材、25・・・転写ピン、26・・・ピン保持板、27・・・ピンユニット固定板、28・・・バネ、29,30・・・空気抜き孔、31・・・スキージ案内、32・・・フラックステーブル、33・・・フラックス、34・・・連結部材、35・・・駆動装置、36・・・ボールネジ、37・・・障壁、38・・・クリーニングテーブル、39・・・ヒータ、40・・・クリーニング面、41・・・断熱材、42・・・チップ基板、43・・・切断ライン、44・・・ランド、45・・・ボール、46・・・リペア用ヘッド、47・・・吸着孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Loader, 2 ... Transfer head, 3 ... Transfer unit, 4 ... Cleaning unit, 5 ... Ball adsorption head, 6 ... Ball supply unit, 7 ... Illuminating device, DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 ... Ball mounting inspection apparatus, 9 ... Unloader, 10 ... Repair unit, 11 ... Board guide, 12 ... Y-axis slider, 13 ... X-axis slider, 14 ... Slider , 15, 15a, 15b ... substrate, 16 ... CCD camera, 17, 17a, 17b ... squeegee, 18 ... slider, 19 ... parts feeder, 20 ... ball vibrating container, 21 ... Ball amount detection sensor, 22 ... Pin unit, 23 ... Pin guide plate, 24 ... Fixing member, 25 ... Transfer pin, 26 ... Pin holding plate, 27 ... Pin Unit fixing plate, 28... 29, 30 ... Air vent hole, 31 ... Squeegee guide, 32 ... Flux table, 33 ... Flux, 34 ... Connecting member, 35 ... Drive device, 36 ... Ball screw 37 ... Barriers, 38 ... Cleaning table, 39 ... Heater, 40 ... Cleaning surface, 41 ... Insulating material, 42 ... Chip substrate, 43 ... Cutting line, 44. ..Land, 45 ... ball, 46 ... repair head, 47 ... suction hole
Claims (2)
上記クリーニングユニットは、クリーニングテーブルとヒータと断熱材とからなり、
上記クリーニングテーブルは、その上面に上記転写ピンに付着している上記フラックスを移載するクリーニング面を有し、
このクリーニング面を加熱する上記ヒータは、上記クリーニングテーブルに加工された孔にセットされ、
上記断熱材は、上記ヒータからの熱が下方に伝達しないように、上記ヒータの下方に配設されていることを特徴とするボール搭載装置。 Becomes the transfer device and the ball to be transferred to the substrate flux in the transfer pin and a mounting device to be mounted on the substrate, the above transfer device consists of a transfer unit and a cleaning unit and the transfer head, the mounting device ball suction head and the ball In the ball mounting device consisting of the supply unit,
The cleaning unit includes a cleaning table, a heater, and a heat insulating material.
The cleaning table has a cleaning surface for transferring the flux adhering to the transfer pin on the upper surface thereof,
The heater for heating the cleaning surface is set in a hole processed in the cleaning table,
The ball mounting apparatus, wherein the heat insulating material is disposed below the heater so that heat from the heater is not transmitted downward .
上記クリーニング工程は、クリーニングテーブルに加工された孔にセットされているヒータにより加熱されているクリーニング面上に上記転写ヘッドを移動し、上記転写ピンを上記クリーニング面に接触させ、上記転写ピンに付着している上記フラックスを上記クリーニング面に移載した後、上記転写ヘッドを上昇させることを特徴とするボール搭載方法。 A ball mounting method for mounting a ball on a land of a substrate onto which a flux is transferred with a transfer pin, the step of attaching the flux to the transfer pin disposed on the lower surface of a transfer head; and the flux on the land Applying from the transfer pin, cleaning step for cleaning the flux adhering to the transfer pin, adsorbing the ball on a ball adsorbing head, and mounting the ball on the land In the ball mounting method consisting of
In the cleaning step, the transfer head is moved onto a cleaning surface heated by a heater set in a hole processed in a cleaning table, the transfer pin is brought into contact with the cleaning surface, and attached to the transfer pin. A method of mounting a ball, wherein the transfer head is raised after the flux being transferred is transferred to the cleaning surface .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004048876A JP4499446B2 (en) | 2004-02-25 | 2004-02-25 | Ball mounting apparatus and ball mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004048876A JP4499446B2 (en) | 2004-02-25 | 2004-02-25 | Ball mounting apparatus and ball mounting method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005243749A JP2005243749A (en) | 2005-09-08 |
| JP4499446B2 true JP4499446B2 (en) | 2010-07-07 |
Family
ID=35025189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004048876A Expired - Fee Related JP4499446B2 (en) | 2004-02-25 | 2004-02-25 | Ball mounting apparatus and ball mounting method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4499446B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008063138A2 (en) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Rokko Ventures Pte Ltd | An improved ball mounting apparatus and method |
| JP5570044B2 (en) * | 2008-08-29 | 2014-08-13 | 富士機械製造株式会社 | Transcription / inspection equipment |
-
2004
- 2004-02-25 JP JP2004048876A patent/JP4499446B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005243749A (en) | 2005-09-08 |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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| A521 | Written amendment |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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