JP4507204B2 - 液晶表示装置内の液晶量調節方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置内の液晶量調節方法に関する。さらに詳細に、本発明は、液晶表示装置内に過剰注入された液晶量を精密に調節するための液晶表示装置内の液晶量調節方法に関する。

近年、膨大なデータを短時間内に処理できる情報処理装置（ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ａｐｐａｒａｔｕｓ）や、情報処理装置で処理されたデータを映像として表示する表示装置の技術開発が急速に進められている。

代表的な表示装置の例としては、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ ｄｅｖｉｃｅ）を例に挙げることができる。液晶表示装置は、液晶を利用して映像を表示するものである。液晶は、電界に応答して配列が変更される電気的特性及び配列に基づいて、光透過率（ｌｉｇｈｔ ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ ｉｎｄｅｘ）を変更させる光学的特性を有する。

液晶を利用して映像を表示する液晶表示装置は、液晶を駆動して映像を表示するための液晶制御部（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ ｐａｒｔ）と、液晶制御部に映像を表示するために必要な光を提供する光供給部（ｌｉｇｈｔ ｐｒｏｖｉｄｉｎｇ ｐａｒｔ）とを備える。

これらの中で、液晶制御部は、液晶を駆動するための電界を発生するために、互いに対向して設置された１対の基板及び当該基板の間に配置された液晶層を備える。一般に、基板の間に介在された液晶層は、数マイクロメートルの厚さを有する。

数マイクロメーターの厚さを有する液晶層を基板の間に形成するための方法の例としては、真空注入法（ｖａｃｕｕｍ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｍａｎｎｅｒ）または滴下法（ｄｒｏｐ ｆｉｌｌｉｎｇ ｍａｎｎｅｒ）などを例に挙げることができる。

真空注入法は、基板の間に形成された真空圧により、液晶を基板の間に形成された空間に注入する。滴下法は、いずれかの基板に液晶を滴下した後、２枚の基板を貼り合わせてそれらの基板の間に液晶層を形成する。

しかしながら、これらのいずれの方法においても、２枚の基板の間への液晶の注入が不足だった場合には、基板の間に空いた空間が形成されてしまう。この結果、空いた空間では映像が表示されないため、表示不良が発生するという問題点があった。

これに対し、基板の間への液晶の注入が過度だった場合には、液晶表示装置を地面に対して垂直の方向に配置した場合に、液晶が重力方向へ移動して、液晶表示装置の下段部分では映像が正確に表示されなくなってしまうという問題点があった。

本発明は、かかる問題点を解決するためになされたものであり、液晶表示装置内に過剰注入された液晶を效率的に調節することができる液晶表示装置内の液晶量調節方法を提供することを目的としている。

上記の目的を達成すべく、本発明に係る液晶表示装置内の液晶量調節方法は、液晶収納空間を形成するための密封部材を有する液晶表示パネル内に液晶を注入するステップと、前記密封部材の一部の幅を前記密封部材の残りの部分に比べて減少させて、リペア部を形成するステップと、前記リペア部に対応する前記密封部材の幅が減少している部分を一部を開口し、前記収納空間に収納された液晶の一部を吐出することにより、液晶量を調節するステップと、前記密封部材の開口された部分を再密封するステップとを含み、前記リペア部を形成するステップは、前記密封部材の下部に前記密封部材と部分的にオーバーラップされた金属パターンを加熱するステップと、加熱された前記金属パターンが酸化することで、前記金属パターンと前記密封部材とがオーバーラップされる領域の前記密封部材が除去されるステップとを含む。

また、上記の目的を達成すべく、本発明に係る液晶表示装置の液晶量調節方法は、第１基板と前記第１基板に対向する第２基板との間に介在された密封部材により形成された収納空間に液晶を収納するステップと、前記密封部材の一部に重なって配置された金属パターンに対応する開口を有するマスクを、前記第１基板上に配置するステップと、前記マスクの前記開口を介して、光を前記金属パターンに走査して、前記金属部材を加熱しながら前記密封部材の一部の幅を前記密封部材の残りの部分に比べて減少させることにより、リペア部を形成するステップと、前記リペア部に対応する前記密封部材の幅が減少している部分を一部開口し、前記収納空間に収納された液晶の一部を吐出することにより、液晶量を調節するステップと、前記密封部材の開口された部分を再密封するステップとを含む。

本発明によれば、液晶表示装置の内部に液晶が一次的に密封された状態で液晶表示装置の内部に液晶が過剰注入された場合、まず、液晶を密封する密封部材の幅を十分に減少させた後、液晶に圧力を加えて幅が十分に減少された部分を破って、過剰注入された液晶を一定量分だけ液晶表示装置から取り出した後、密封部材のうち、破られた部分に光硬化剤のような密封物質で２次的に密封することにより、液晶表示パネルの内部に過剰注入された液晶を容易に液晶表示パネルから除去し得るという効果を有する。

また、液晶表示装置の内部に液晶が１次的に密封された状態で液晶表示装置の内部に液晶が過剰注入された場合、まず、液晶を密封する密封部材に密封部材の幅を精密に減少させるための開口を有するマスクを配置する。

次に、マスクの開口を介してレーザービームを密封部材に提供して密封部材の幅を十分に減少させた後、液晶に圧力を加えて幅が十分に減少した部分を破って、過剰注入された一定量の液晶を液晶表示装置から取り出した後、密封部材のうち、破られた部分に光硬化剤のような密封物質で２次的に密封して、液晶表示パネルの内部に過剰注入された液晶を容易に液晶表示パネルから除去し得るという効果を有する。

以下、添付した図面を参照して、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置内の液晶量調節方法について詳細に説明する。しかしながら、本発明は下記の実施の形態に制限されるものではなく、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。添付された図面において、第１基板、第２基板、密封部材、液晶、リペア部、マスク及びその他構造物の寸法は、本発明の明確性を期するために、実際より拡大して示したものである。本発明において、第１基板、第２基板、密封部材、液晶、リペア部、マスク及びその他構造物が、「上に」、「上部に」または「下部」に形成されると言及される場合には、第１基板、第２基板、密封部材、液晶、リペア部、マスク及びその他構造物が、第１基板、第２基板、密封部材、液晶、リペア部、マスク及びその他構造物上に直接形成されるか、または下に位置することを意味し、または、他の第１基板、第２基板、密封部材、液晶、リペア部、マスク及びその他構造物が基板上にさらに形成されることを意味する。また、第１基板、第２基板及びその他構造物が、例えば、「第１」、「第２」などと言及される場合、これは、このような部材を限定するためのものではなく、単に、第１基板及び第２基板、及び、その他構造物を区別するためものである。したがって、例えば、「第１」、「第２」のような記載は、第１基板及び第２基板、及びその他構造物に対してそれぞれ選択的にまたは交換的に用いられることができる。

第１の実施の形態
図１は、本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置内の液晶量を調節するための方法を示すフローチャートである。図２は、図１の方法により液晶量が調節される液晶表示装置を示す断面図である。

図１及び図２に示すように、ステップＳ１０において、液晶表示装置１００の２枚の基板間には、液晶層１０が配置される。本実施の形態において、液晶層１０は、上述した真空法または滴下法などの方法により液晶表示装置１００内に形成することができる。

以下、図２を参照して、液晶表示装置１００をさらに具体的に説明する。

液晶表示装置１００は、第１基板２０、第１基板２０に対向して配置された第２基板３０、第１基板２０および第２基板３０との間に配置された液晶層１０、液晶層１０が収納される空間を密封する密封部材４０及び第１基板２０と密封部材４０との間に配置された金属パターン５０を備える。

第１基板２０は、ガラス基板等の第１透明基板２１と、第１透明基板２１上に設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２２及び画素電極ＰＥとを備える。

薄膜トランジスタ２２は、第１透明基板２１上に配置される。本実施の形態において、薄膜トランジスタ２２は、液晶表示装置１００の解像度に対応して第１透明基板２１上に複数配置されることができる。例えば、液晶表示装置１００の解像度が１０２４×７６８画素の場合、薄膜トランジスタ２２は、第１透明基板２１上に１０２４×７６８×３個（サブ画素Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）で各１個ずつ）がマトリックス状に形成される。

各薄膜トランジスタ２２は、ゲートライン（図示せず）に接続したゲート電極Ｇ、ゲート電極Ｇを絶縁するゲート絶縁膜ＧＩ、ゲート電極Ｇに対応するゲート絶縁膜ＧＩ上の位置に形成されたチャネルパターンＣ、及び、チャネルパターンＣに配置されたソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを備える。チャネルパターンＣは、アモルファスシリコンパターン（図示せず）及び不純物を高濃度イオンでドーピングして、導電体特性を有するｎ^＋アモルファスシリコンパターン（図示せず）を含むことができる。

また、ソース電極Ｓは、ゲートライン（図示せず）と直交するデータライン（図示せず）と接続され、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、チャネルパターンＣ上に、互いに離間して配置される。

画素電極ＰＥは、薄膜トランジスタ２２のドレイン電極Ｄに電気的に接続される。本実施の形態において、画素電極ＰＥは、透明な導電性物質を含む。画素電極ＰＥとして用いられることのできる物質の例としては、酸化インジウム・スズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）、アモルファス酸化インジウム・スズ（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ａ−ＩＴＯ）などを例に挙げることができる。

第２基板３０は、ガラス基板等の第２透明基板３１と、第２透明基板３１上に設けられたブラックマトリクス３２及びカラーフィルタ３４とを備えることができる。

本実施の形態において、第２透明基板３１上には、ブラックマトリクス３２が配置される。本実施の形態において、ブラックマトリクス３２として用いられることのできる物質の例としては、光吸水率の高いクロムまたは酸化クロムなどを例に挙げることができる。液晶表示装置１００を上から見た場合、ブラックマトリクス３２は、第１基板２０に設けられた各画素電極ＰＥ間に位置するように配置されている。

なお、第１基板２０の画素電極ＰＥがマトリクス状に配置されているため、ブラックマトリクス３２は、格子状に配置される。ブラックマトリクス３２は、第１基板２０に配置された薄膜トランジスタ２２を隠すだけでなく、外部光を吸収して映像の鮮明度を向上させる機能を果たす。

カラーフィルタ３４は、ブラックマトリクス３２により形成された開口に配置される。本実施の形態において、ブラックマトリクス３２により形成された開口に配置されたカラーフィルタ３４は、白色光からレッド波長を有するレッド光を通過させるレッドカラーフィルタ（Ｒ）、白色光からグリーン波長を有するグリーン光を通過させるグリーンカラーフィルタ（Ｇ）、及び白色光からブルー波長を有するブルー光を通過させるブルーカラーフィルタ（Ｂ）を含む。

密封部材４０は、互いに対向するように配置された第１基板２０及び第２基板３０の間に配置される。例えば、密封部材４０は、第１基板２０及び第２基板３０のエッジ（四辺）に沿って配置されて、第１基板２０及び第２基板３０の間に液晶を収納するための空間を提供する。本実施の形態において、密封部材４０は、光、例えば、紫外線により硬化される光硬化性物質を含むことができる。

液晶層１０は、密封部材４０により形成された空間に配置される。本実施の形態において、液晶層１０に含まれた液晶は、ねじれネマチック液晶、垂直配向液晶など、いかなる種類の液晶を含んでも良い。

図３は、図２に示す金属パターン及び密封部材の配置を示す断面図である。

図３に示すように、金属パターン５０は、例えば、第１基板２０上に配置される。具体的に、金属パターン５０は、密封部材４０及び第１基板２０の間に介在される。さらに詳細には、金属パターン５０は、ピース状を有し、金属パターン５０の一部は、密封部材４０とオーバーラップされる。

金属パターン５０は、密封部材４０のうち、液晶層１０と接触している内側壁４４に対向している外側壁４２の方に配置され、密封部材４０の全体厚がＴである場合、金属パターン５０の約８５％〜９５％が密封部材４０と重なる。

したがって、密封部材４０のうち、金属パターン５０と重ならない厚さｔは、密封部材４０の全体厚Ｔの約５％〜１５％である。以下、金属パターン５０のうち、密封部材４０と重なった部分を重畳部５６と定義し、密封部材４０と重ならない部分を露出部５５と定義する。

本実施の形態において、金属パターン５０として用いられることのできる物質の例としては、薄膜トランジスタのゲート電極、薄膜トランジスタのソース／ドレイン電極、画素電極をなす物質を例に挙げることができる。すなわち、金属パターン５０として用いられることのできる物質の例としては、アルミニウム、アルミニウム合金、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ａ−ＩＴＯなどを例に挙げることができる。

図１及び図２を再度参照すれば、液晶表示装置１００に液晶層１０が配置された後、液晶層１０が液晶表示装置１００に過剰注入されたと判断されると、液晶表示装置１００の内部から過剰注入された量分だけ液晶層１０を取り出す工程が行われる。

図４は、図３に示す密封部材及び金属パターンのうち、重なった部分をレーザービームで除去することを示す断面図である。図５は、残留密封部の平面図である。

図１、図４及び図５に示すように、ステップＳ２０において、液晶表示装置１００に過剰注入された液晶層１０の液晶の一部を排出するために、密封部材４０には、リペア部４５が形成される。

図４に示すように、リペア部４５を形成するために、レーザービーム発生装置６０からレーザービーム６５を発生させる。発生したレーザービーム６５は、図３に示す金属パターン５０の重畳部５６部分に走査される。

本実施の形態において、レーザービーム６５は、例えば、第２基板３０及び密封部材４０を貫通して、金属パターン５０の重畳部５６部分に走査される。本実施の形態において、レーザービーム６５は、第２基板３０及び密封部材４０には吸収されず、主に金属パターン５０に吸収される。これにより、金属パターン５０は急速加熱される。

これを具現するために、レーザービーム６５は、約８００ｎｍ〜約１，２００ｎｍの波長長を有する。本実施の形態において、レーザービーム６５の波長の長さが１，２００ｎｍ以上である場合、第２基板３０及び密封部材４０がレーザービーム６５により損傷される恐れがあり、レーザービーム６５の波長の長さが８００ｎｍ以下である場合、レーザービーム６５のエネルギーレベルが低過ぎるため、金属パターン５０を除去し難い。

したがって、本実施の形態において用いられるレーザービームの波長範囲は、約８００ｎｍ〜約１，２００ｎｍであることが好ましい。

上述されたレーザービーム６５を金属パターン５０に走査させた場合、それにより、金属パターン５０は加熱され、急激に酸化される。金属パターン５０の酸化により、重畳部５６部分に対応する密封部材４０も金属パターン５０と共に除去され、図４及び図５に示すように、リペア部４５が形成される。本実施の形態において、リペア部４５は、密封部材４０に少なくとも２個以上を形成するようにしてもよい。このようにして、レーザービーム６５により、密封部材４０のうち、金属パターン５０の重畳部５６に対応する部分を除去することによって、密封部材４０には、図５に示すように、残留密封部４５ａが形成される。

本実施の形態において、リペア部４５は、金属パターン５０の重畳部５６部分に対応する。本実施の形態において、重畳部５６は、密封部材４０に約８５％〜約９５％が重なるため、リペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａの幅は、密封部材４０の幅の約５％〜１５％である。

図１を再度参照すれば、ステップＳ３０において、密封部材４０にリペア部４５が形成された後、リペア部４５を介して液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶層１０の液晶量は調節される。

具体的に、液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶層１０の液晶量を調節するために、液晶表示装置１００に圧力を加える。液晶表示装置１００に加えられた圧力は、液晶層１０に加えられる。液晶層１０に加えられた圧力は、さらに、密封部材４０に加えられる。液晶層１０に加えられた圧力がリペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａを破るのに充分な場合、リペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａは、液晶層１０に加えられた圧力により破られ、一部開口される。

次に、リペア部４５に対応する密封部材４０の破られた残留密封部４５ａの開口部分を介して、液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶層１０の液晶の一部は、密封部材４０の外部に吐出される。これにより、液晶層１０の液晶量は調節される。

図６は、図５に示す破られた残留密封部４５ａを再密封することを示す断面図である。

図６に示すように、外部空気が破られた密封部材４０の破られた残留密封部４５ａを介して液晶層１０の内部に流入することを防止するために、図１のステップＳ４０では、リペア部４５に光硬化剤７０を配置し、光硬化剤７０に光を走査して、破られた密封部材４０を再密封する。本実施の形態において、光硬化剤７０は、紫外線により硬化される紫外線硬化剤を使用することが好ましい。

以上のように、本実施の形態においては、液晶表示装置の内部に液晶が一次的に密封された状態で液晶表示装置の内部に液晶が過剰注入された場合、まず、液晶を密封する密封部材の幅を十分に減少させて残留密封部４５ａのみを残すようにした後、液晶１０に圧力を加えて幅が十分に減少された残留密封部４５ａ部分を破って、過剰注入された液晶を一定量分だけ液晶表示装置１００から取り出した後、密封部材４０のうちの破られた部分に光硬化剤のような密封物質を塗布して、再密封することにより、液晶表示パネルの内部に過剰注入された液晶を容易に液晶表示パネルから除去し得るという効果を有する。これにより、液晶表示装置を地面に対して垂直の方向に配置した場合にも、液晶が重力方向へ移動するようなことはなく、従って、液晶表示装置の下段部分でも映像が正確に表示されるという効果を有する。

第２の実施の形態
図７は、本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置における密封部材及びマスクの関係を示す平面図である。図８は、図７に示すマスクを示す斜視図である。図９は、マスクを利用してリペア部を形成する工程を示す断面図である。図１０は、密封部材に形成されたリペア部を示す断面図である。図１１は、リペア部を再密封することを示す断面図である。

本発明の第２の実施の形態による液晶表示装置内の液晶量調節方法において、液晶表示パネル、密封部材及び金属パターンは、図１〜図３を参照して説明した第１の実施の形態と実質的に同様なので、それらを参照することとし、ここではその説明は省略する。本発明の第２の実施の形態において、上述した第１の実施の形態と同じ構成要素に対しては、同じ参照符号及び名称を付す。

図７及び図８を参照すれば、マスク８０は、第１面８２及び第２面８４を備え、マスク８０をなす物質は、レーザービーム６５により損傷されない材質を使用することが好ましい。

本実施の形態において、第１面８２は、平板状で、例えば、液晶表示装置１００の第２基板３０の上面に沿って配置されるプレート形状を有し、第２面８４は、第１面８２の端部から、第２基板３０の上面に隣接した側面に沿って延びて、配置されるプレート形状を有する。本実施の形態において、第１面８２と第２面８４とは、図８に示されるように、第１面８２から垂直に折り曲げられて第２面８４が形成されているので、全体として「Ｌ」字型形状になっている。第２面８４は、後述する開口８１と密封部材４０の下部の金属パターン５０の重畳部５６がさらに容易にアライメントされるようにするためのものである。

第１面８２には、第２基板３０の平面上から見ると、開口８１が形成されている。本実施の形態において、開口８１は、長方形の形状を有している。特に、開口８１は、金属パターン５０の重畳部５６と重なるのに適した大きさを有する。本実施の形態において、開口８１により、密封部材４０のうちの液晶層１０と接触する密封部材４０の内側壁４４に対向している外側壁４２は露出される。参照符号４５はリペア部である。

図９に示すように、リペア部４５を形成するために、レーザービーム発生装置６０から発生したレーザービーム６５は、マスク８０の第１面８２に形成された開口８１に向かって走査される。

次に、レーザービーム６５は、マスク８０の第１面８２に形成された開口８１、第２基板３０及び密封部材４０を順次貫通して、金属パターン５０の重畳部５６部分に走査される。

開口８１を有するマスク８０は、レーザービーム発生装置６０から発生したレーザービーム６５が、レーザービーム発生装置６０及び／または液晶表示装置１００に印加された振動及び／または衝撃により指定された経路を外れるとしても、レーザービーム６５が密封部材４０のうち、目的としない部分に走査されるのを防止する。

本実施の形態において、第２基板３０及び密封部材４０は、マスク８０の開口８１を通過したレーザービーム６５のエネルギーをほとんど吸収しないことに対し、金属パターン５０は、レーザービーム６５のエネルギーのほとんどを吸収し、これによって金属パターン５０は急速に加熱される。

密封部材４０にリペア部４５を効率的に形成するために、レーザービーム６５は、約８００ｎｍ〜約１，２００ｎｍの波長の長さを有することが好ましい。本実施の形態において、レーザービーム６５の波長の長さが１，２００ｎｍ以上である場合、密封部材４０だけでなく、第２基板３０及び第１基板２０も、レーザービーム６５により酷く損傷される恐れがあり、レーザービーム６５の波長の長さが８００ｎｍ以下である場合、レーザービーム６５のエネルギーレベルが低過ぎるため、金属パターン５０を焼いて除去するのは難しくなる。

したがって、波長範囲が約８００ｎｍ〜約１，２００ｎｍであるレーザービームを、マスク８０の開口８１を介して金属パターン５０の重畳部５６部分に走査する場合、金属パターン５０は、レーザービーム６５のエネルギーを吸収して容易に酸化される。

このとき、本実施の形態では、金属パターン５０の酸化とともに、金属パターン５０の重畳部５６に対応する密封部材４０も共に除去されることにより、図１０に示すように、密封部材４０には、リペア部４５が形成される。本実施の形態において、リペア部４５は、密封部材４０に少なくとも２個以上形成してもよい。

本実施の形態において、リペア部４５は、金属パターン５０の重畳部５６に対応する部分と定義され、金属パターン５０の重畳部５６は、密封部材４０と約８５％〜約９５％が重なっているため、リペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａには、密封部材４０の幅の約５％〜１５％が残るようになる。

上述したように、レーザービーム６５により、密封部材４０のうちの金属パターン５０の重畳部５６部分に対応する部分を除去することによって、密封部材４０には残留密封部４５ａだけが残る。残留密封部４５ａは、マスク８０の開口８１によって保護され、トラブル発生等により、たとえレーザービーム６５の位置が予想外にずれてしまったような場合においても、なめらかに形成される。

本実施の形態においても、実施の形態１と同様に、密封部材４０にリペア部４５が形成された後に、リペア部４５を利用して液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶層１０の液晶量を調節する。

液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶量を調節するために、液晶表示装置１００の外部から圧力が加えられる。液晶表示装置１００に加えられた圧力は、液晶層１０に伝達される。液晶層１０に伝達された圧力は、さらに、密封部材４０に伝達される。

このとき、液晶層１０に伝達された圧力が、リペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａを破るのに充分な場合、リペア部４５に対応する密封部材４０の残留密封部４５ａは、液晶層１０に伝達された圧力により破られ、一部開口する。

次に、リペア部４５に対応する密封部材４０の破られた残留密封部４５ａの開口部分を介して、液晶表示装置１００内に過剰注入された液晶１０の一部は吐出され、これにより、液晶表示装置１００内の液晶量は調節される。

図１１に示すように、残留密封部４５ａが破られたままにしておくと、リペア部４５に対応する密封部材４０を介して、外部の空気が液晶層１０の内部に流入してしまう可能性がある。

これを防止するために、リペア部４５に対応する密封部材４０の開口部分には、光硬化剤７０が塗布配置され、光硬化剤７０に光を走査して、リペア部４５に対応する密封部材４０を再密封する。本実施の形態において、光硬化剤７０は、紫外線により硬化される紫外線硬化剤を使用することが好ましい。

以上のように、本実施の形態においては、実施の形態１と同様に、液晶表示パネルの内部に過剰注入された液晶を容易に液晶表示パネルから除去できるので、液晶表示装置を地面に対して垂直の方向に配置した場合にも、液晶が重力方向へ移動するようなことはなく、液晶表示装置の下段部分でも映像が正確に表示されるという効果を有する。さらに、本実施の形態においては、密封部材４０に対応する位置に開口８１を有するマスク８０を配置して、マスク８０の開口８１を介して、レーザービーム６５を密封部材４０に照射して、リペア部４５を形成するようにしたので、リペア部４５以外の部分の密封部材４０はマスク８０により保護され、レーザビーム６５がたとえ予想外に位置ずれしたとしても、正確な位置にのみリペア部４５を容易にかつ確実に形成することができる。

上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。

本発明の第１の実施の形態による液晶表示装置内の液晶量を調節するための方法を示すフローチャートである。 図１の方法により液晶量が調節される液晶表示装置を示す断面図である。 図２に示す金属パターン及び密封部材の配置を示す断面図である。 図３に示す密封部材及び金属パターンのうち、重なった部分をレーザービームで除去することを示す断面図である。 リペア部の平面図である。 図５に示す破られた密封部材部分を再密封することを示す断面図である。 本発明の第２の実施の形態によって、図３に示す密封部材に配置されたマスクを示す斜視図である。 図７の密封部材及びマスクの関係を示す平面図である。 図７のマスク部分を切断した断面図である。 レーザービームによりリペア部を示す断面図である。 損傷された密封部材を再密封することを示す断面図である。

符号の説明

１００ 液晶表示装置、１０ 液晶層、２０ 第１基板、３０ 第２基板、４０ 密封部材、５０ 金属パターン、６５ レーザービーム。

Claims (13)

1. 液晶収納空間を形成するための密封部材を有する液晶表示パネル内に液晶を注入するステップと、
   前記密封部材の一部の幅を前記密封部材の残りの部分に比べて減少させて、リペア部を形成するステップと、
   前記リペア部に対応する前記密封部材の幅が減少している部分を一部を開口し、前記収納空間に収納された液晶の一部を吐出することにより、液晶量を調節するステップと、
   前記密封部材の開口された部分を再密封するステップと
   を含み、
   前記リペア部を形成するステップは、
   前記密封部材の下部に前記密封部材と部分的にオーバーラップされた金属パターンを加熱するステップと、
   加熱された前記金属パターンが酸化することで、前記金属パターンと前記密封部材とがオーバーラップされる領域の前記密封部材が除去されるステップと
   を含むことを特徴とする液晶表示装置内の液晶量調節方法。
2. 前記金属パターンが、レーザービームにより加熱されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
3. 前記レーザービームが、８００ｎｍ〜１，２００ｎｍの波長を有することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
4. 前記金属パターンが、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム・スズ及び酸化インジウム亜鉛からなる群から選択される少なくとも１つであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
5. 前記リペア部が、少なくとも２つ以上が前記密封部材に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
6. 前記リペア部と対応する前記密封部材の残留密封部の幅が、前記密封部材の全体幅の５％〜１５％であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
7. 前記リペア部と対応する前記密封部材の開放された部分を再密封するステップが、
   開放された前記密封部材に、光により硬化される光硬化剤を配置するステップと、
   前記光硬化剤に前記光を走査するステップと
   を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置内の液晶量調節方法。
8. 第１基板と前記第１基板に対向する第２基板との間に介在された密封部材により形成された収納空間に液晶を収納するステップと、
   前記密封部材の一部に重なって配置された金属パターンに対応する開口を有するマスクを、前記第１基板上に配置するステップと、
   前記マスクの前記開口を介して、光を前記金属パターンに走査して、前記金属部材を加熱しながら前記密封部材の一部の幅を前記密封部材の残りの部分に比べて減少させることにより、リペア部を形成するステップと、
   前記リペア部に対応する前記密封部材の幅が減少している部分を一部開口し、前記収納空間に収納された液晶の一部を吐出することにより、液晶量を調節するステップと、
   前記密封部材の開口された部分を再密封するステップと
   を含む液晶表示装置の液晶量調節方法。
9. 前記マスクが、
   前記第１基板と接触し、前記開口が形成された第１面と、
   前記第１面から前記第１基板の上面と隣接している側面に沿って延びて折り曲げられた第２面と
   を有することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の液晶量調節方法。
10. 前記開口により、前記密封部材の全幅のうち、約８５％〜９５％が前記光により露出されることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の液晶量調節方法。
11. 前記開口により、前記密封部材のうち、前記液晶と接触する内側壁に対向する外側壁が、前記光に露出されることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の液晶量調節方法。
12. 前記光が、レーザービームであることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の液晶量調節方法。
13. 前記レーザービームが、８００ｎｍ〜１，２００ｎｍの波長を有することを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の液晶量調節方法。

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