JP4517566B2 - Method for manufacturing non-shrinkable ceramic multilayer substrate - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、無収縮セラミック多層基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図3と図4に従来の無収縮セラミック多層基板の焼成前の積層体断面図と焼成後の収縮拘束層を取り除いた基板完成の断面図を示す。
【0003】
図3と図4において、1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nは導体パターンや層間を電気接続するビアを形成した未焼成のグリーンシートを用いて積層した無収縮セラミック多層基板の各層を示す。2は、基板全体を焼成する際の基板平面方向に収縮を防止する収縮拘束層、3は、セラミック基板の積層方向の端面を示す。図4の4は、完成時に貫通穴やキャビティ構造となる基板内部の壁面を示す。
【0004】
図3において、図には表記してないが各層の導体パターンや層間を電気接続するビアを予め形成した未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nを順次積み重ねる。最も外側には、焼成時に基板平面方向に収縮を防止するための収縮拘束層2を積層する。こうして積層したものを一体化するために加熱加圧後焼成し、その後収縮拘束層2を取り除くと、基板平面方向に収縮ばらつきのない基板が出来上がる。
【0005】
また図4において、未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nに、基板完成時にザグリになるような所謂キャビティ構造になるように一部の層の穴や、貫通穴のための全層穴を、各層別に、パンチングマシーン等により予め形成しておいたうえで、順次積層し、また最も外側には、焼成時に基板平面方向に収縮を防止するための収縮拘束層2を積層する。こうして積層したものを一体化するために加熱加圧後焼成し、その後収縮拘束層2を取り除くと、基板平面方向に収縮ばらつきのない基板が出来上がる。
【0006】
特に図4のようなキャビティのような複雑な構造を精度良く得るために、さまざまな工夫が見られる。例えば、収縮拘束層の形状を基板穴形状に合わせ、積層し、なおかつ、積層加圧は静水圧プレスやザグリの穴形状に合わせた金型を用いたプレスを用いることにより、変形や割れを防止し、寸法精度の良い無収縮セラミック多層基板を形成しようとしている(例えば特許文献1参照。)。
【0007】
【特許文献1】
特開2001−230548号公報(第4−5頁、第1図)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、基板厚さ方向においては、収縮拘束層2から離れるほど、基板焼成時に基板平面方向に収縮しようとする力が収縮拘束層2による収縮を阻害しようとする力にまさり、特に基板端面部に収縮が顕著に現れる。また、収縮が発生することにより、厳密には、その分の基板厚みが増すことになる。このことは、無収縮セラミック多層基板の基板平面方向の収縮がないという特徴や基板の平面度を著しく阻害するものである。
【0009】
さらに、図4に示すような基板内部に基板厚さ方向に壁面を持つ構造的な穴についても、同様に、収縮拘束層2から離れた層の穴の壁面は収縮が発生し、穴の寸法が本来の設計値に対して大きくなると同時に、基板の平面度は悪くなる。
【0010】
すなわち、焼成しようとする未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nを、収縮を阻害する収縮拘束層2ではさむことによりできる無収縮セラミック多層基板は、基板端部や内部の穴の壁面において、収縮が発生し、基板厚み方向に変形するという欠点があった。
【0011】
図3,4で示した例では、収縮拘束層を基板平面方向にのみつけた場合を示したが、仮に基板端面や貫通穴、ザグリ穴の壁面に収縮拘束層をつけて焼成しても、収縮しようとする力のアンバランスや焼成前後の収縮率差による寸法の差、特に厚さ方向の収縮差の発生により、変形するという問題点があった。
【0012】
【課題を解決するための手段】
一枚以上のグリーンシートを材料とした既焼成基板と未焼成のグリーンシートをそれぞれ任意の隣接層として積層し、最外層に未焼成の収縮拘束用グリーンシートを同時に積層して、加熱加圧後に基板焼成することを特徴とする無収縮セラミック多層基板の製造方法である。
【0013】
本発明によれば、焼成しようとするグリーンシートと隣接するように、同材料を用いた既焼成基板を積層することにより、焼成時に既焼成基板が収縮拘束層として働き、グリーンシート焼成時の基板端面部の収縮を抑えることができる。未焼成のグリーンシートを連続して積層する層数を選択することにより、隣接する既焼成基板により収縮拘束されて基板端部の収縮変形する範囲や量を抑制できる。
【0014】
また、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を一部の前記未焼成のグリーンシートに形成したり、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を一部の前記既焼成基板に予め形成したり、さらに前記2項目を同時に行うことを特徴とする無収縮セラミック多層基板の製造方法である。
【0015】
本発明によれば、基板内部の一部の層や全層に電気接続用のビア穴以外の穴を形成する場合も、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を一部の前記未焼成のグリーンシートに形成し、隣接層に既焼成基板を積層することにより、収縮拘束されて収縮変形する範囲や量を抑制できる。また、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を予め形成した既焼成基板を用いることによっても、穴形状は収縮変形する範囲や量を抑制できる。当然、未焼成のグリーンシートと既焼成基板の両者に予め電気接続用ビア以外の穴をあけておくことによっても、同様に収縮変形する範囲や量を抑制できる。
【0016】
さらに、前述の方法でできた基板を、既焼成基板として用いることを特徴とした、無収縮セラミック多層基板の製造方法である。
【0017】
すなわち、キャビティ構造や、貫通穴を持った無収縮セラミック多層基板を前述の方法で作製し、さらに、その基板を既焼成基板として同材料のグリーンシートで挟み、外側に収縮拘束層を積層し、加熱加圧後、基板焼成する方法である。この方法で作ることにより、寸法ばらつきの少ない、基板内に閉じられた空間や曲がった貫通穴、オーバーハングしたキャビティ構造を作ることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項1に記載の発明は、未焼成のグリーンシート積層体が収縮抑制層と接する最外層となるように、前記未焼成のグリーンシート積層体と予め焼成した少なくとも1枚以上のグリーンシートから成る複数枚の既焼成基板とを交互に積層した複合積層体を形成し、前記複合積層体の両面に未焼成の難焼結成分を含有する収縮抑制層を積層して、加熱加圧後に前記複合積層体を一体化するように基板焼成することを特徴とする無収縮セラミック多層基板の製造方法であり、焼成時に既焼成基板が収縮拘束層として働き、グリーンシート焼成時の基板端面部の収縮を抑えることができる。また、グリーンシートを連続して積層する層数を選択することにより、隣接する既焼成基板により収縮拘束されて基板端部の収縮変形する範囲や量を抑制できる。
【0019】
本発明の請求項2に記載の発明は、少なくとも1枚以上の前記未焼成グリーンシートに導電材料を充填しない孔を形成した後、前記複合積層体を形成することを特徴とする請求項1に記載の無収縮セラミック多層基板の製造方法であり、積層前に層間の電気接続用ビア孔以外の孔を未焼成グリーンシートに予め形成することにより、前記孔の収縮変形する範囲や量を抑制できるため、正確な形状の孔が容易に作成できる。
【0020】
本発明の請求項3に記載の発明は、少なくとも1枚以上の前記既焼成基板に導電材料を充填しない孔を形成した後、前記複合積層体を形成することを特徴とする請求項1に記載の無収縮セラミック多層基板の製造方法であり、積層前に層間の電気接続用ビア孔以外の孔を既焼成基板に予め形成することにより、前記孔の収縮変形する範囲や量を抑制できるため、正確な形状の孔が容易に作成できる。
【0021】
本発明の請求項4に記載の発明は、請求項1、2および3で作成された無収縮セラミック多層基板を、既焼成基板として用いることを特徴とした請求項1に記載の無収縮セラミック多層基板の製造方法であり、請求項1から3の製造方法で作成した基板を既焼成基板に用いることによって、より多くの層形状を持つ多層基板を容易に作成できる。
【0022】
(実施の形態1)
図1と図2、3に本発明の無収縮セラミック多層基板の積層体断面図と焼成後の収縮拘束層を取り除いた基板完成の断面図を示す。
【0023】
図1において、1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nは図には表記してないが各層の導体パターンや層間を電気接続するビアを予め形成した未焼成のグリーンシートを用いて積層した無収縮セラミック多層基板の各層を示す。2は、基板全体を焼成する際の基板平面方向に収縮を防止する収縮拘束層、3は、セラミック基板の積層方向の端面を示す。5は、導体パターンや層間を電気接続するビアを予め形成した既焼成基板を示す。
【0024】
図1の未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nと既焼成基板5を順次積層し、最も外側に収縮拘束層2を積層し、収縮拘束層2の両面から積層した基板をはさむように加熱加圧を行なう。焼成の後、収縮拘束層2を取り除くと、厚さ方向に収縮し基板平面方向に収縮してない未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nと、焼成前と同じ寸法形状である既焼成基板5が一体化した基板ができる。この基板は、収縮拘束層2と既焼成基板5ではさむことにより未焼成グリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nの焼成時の収縮を防止でき、既焼成基板5の拘束力により、特に基板端面3における収縮を防止することができ、収縮変形のない、平面度の高い基板ができる。
【0025】
(実施の形態2)
図2において、4は基板内部の貫通穴やキャビティ構造の基板壁面を示すものである。この図は特に、未焼成グリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nの一部に、貫通穴やキャビティ構造の穴を形成したもので、既焼成基板5も貫通穴やキャビティ構造の穴を予め形成したものである。
【0026】
図2の未焼成のグリーンシート1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nと既焼成基板5を順次積層し、最も外側に収縮拘束層2を積層し、収縮拘束層2の両面から積層した基板をはさむように加熱加圧を行なう。焼成の後、収縮拘束層2を取り除くと、厚さ方向に収縮し基板平面方向に収縮してない1−1、1−2、・・・・、1−n-1、1−nと、焼成前と同じ寸法形状である既焼成基板5が一体化した基板ができる。既焼成基板5の焼成時の収拘抑制効果により、特に貫通穴やキャビティ構造の壁面4も収縮を抑制でき、きれいな穴形状を得ることができる。
【0028】
【発明の効果】
以上の様に、一枚以上のグリーンシートを材料とした既焼成基板と未焼成のグリーンシートをそれぞれ任意の隣接層として積層し、最外層に未焼成の収縮拘束用グリーンシートを同時に積層して、加熱加圧後に基板焼成することにより、基板端面における収縮を抑制でき、寸法精度の良いばらつきの小さい無収縮セラミック多層基板を実現できる。
【0029】
また、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を一部もしくはすべての前記未焼成グリーンシートに形成したり、積層前に層間の電気接続用ビア穴以外の穴を一部のもしくはすべての前記既焼成基板に予め形成しすることにより、電気接続用ビア穴以外の穴や、貫通穴の壁面における収縮を抑制でき、寸法精度の良いばらつきの小さい無収縮セラミック多層基板を実現できる。
【0030】
さらに、前記方法で作製した無収縮セラミック多層基板を既焼成基板として用いることにより、内部空間が、基板平面方向に収縮を抑制されることにより寸法ばらつきの小さい壁面4を有する無収縮セラミック多層基板を実現できるだけでなく、既焼成基板の組み合わせで作ることができ、きれいな平面で、折れ曲がった貫通穴や内部に閉じ込められた空間を容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1における無収縮セラミック基板の焼成前の積層体断面図と焼成後の拘束層を取り除いた基板断面図
【図2】 本発明の実施の形態2における無収縮セラミック基板の焼成前の積層体断面図と焼成後の拘束層を取り除いた基板断面図
【図3】 従来の穴のない無収縮セラミック基板の焼成前の積層体断面図と焼成後の拘束層を取り除いた基板断面図
【図4】 従来の穴を有する無収縮セラミック基板の焼成前の積層体断面図と焼成後の拘束層を取り除いた基板断面図
【符号の説明】
1−1 未焼成のグリーンシート
1−2 未焼成のグリーンシート
1−n-1 未焼成のグリーンシート
1−n 未焼成のグリーンシート
2 収縮拘束層
3 基板端部
4 基板内穴の壁面
5 既焼成基板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a non-shrinkable ceramic multilayer substrate.
[0002]
[Prior art]
FIG. 3 and FIG. 4 show a sectional view of a laminate of a conventional non-shrinkable ceramic multilayer substrate before firing and a sectional view of a completed substrate from which a shrinkage constraining layer has been removed after firing.
[0003]
3 and 4 , 1-1, 1-2,..., 1-n-1, 1-n are formed by using unfired green sheets on which conductive patterns and vias for electrically connecting layers are formed. Each layer of the non-shrinkable ceramic multilayer substrate is shown.
[0004]
In FIG. 3 , although not shown in the drawing, green sheets 1-1, 1-2,..., 1-n-1 in which conductor patterns of each layer and vias that electrically connect the layers are formed in advance are formed. , 1-n are sequentially stacked. On the outermost side, a
[0005]
In FIG. 4 , the unfired green sheets 1-1, 1-2,... All layer holes for through-holes and through-holes are formed in advance for each layer using a punching machine, etc., and then stacked one after another. The outermost layer shrinks in the direction of the substrate plane during firing. A
[0006]
Particularly a complicated structure such as a cavity as shown in FIG. 4 in order to accurately obtain, various devices are seen. For example, the shape of the shrinkage constraining layer is matched to the shape of the substrate hole and stacked, and the pressurization prevents deformation and cracking by using a hydrostatic press or a press that uses a die that matches the shape of the counterbore hole. However, an attempt is made to form a non-shrinkable ceramic multilayer substrate with good dimensional accuracy (see, for example, Patent Document 1).
[0007]
[Patent Document 1]
JP 2001-230548 A (page 4-5, FIG. 1)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the substrate thickness direction, the further away from the
[0009]
Further, for a structural hole having a wall surface in the substrate thickness direction inside the substrate as shown in FIG. 4 , similarly, the wall surface of the hole in the layer away from the
[0010]
That is, non-shrinkage that can be achieved by sandwiching unfired green sheets 1-1, 1-2,..., 1-n-1, 1-n to be fired with a
[0011]
In the examples shown in FIGS. 3 and 4 , the case where the shrinkage constraining layer is applied only in the substrate plane direction is shown. However, even if the shrinkage constraining layer is attached to the wall surface of the substrate end face, the through hole, or the counterbore hole, There is a problem of deformation due to the unbalance of the force to be shrunk and the difference in dimensions due to the shrinkage rate difference before and after firing, particularly the shrinkage difference in the thickness direction.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
After laminating a fired substrate and unfired green sheet made of one or more green sheets as optional adjacent layers, and laminating an unfired green sheet for shrinkage restraint simultaneously on the outermost layer, after heating and pressing A method for producing a non-shrinkable ceramic multilayer substrate, characterized by firing the substrate.
[0013]
According to the present invention, by laminating a pre-fired substrate using the same material so as to be adjacent to the green sheet to be fired, the pre-fired substrate acts as a shrinkage constraining layer during firing, and the substrate during green sheet firing Shrinkage of the end face can be suppressed. By selecting the number of layers in which the unfired green sheets are continuously laminated, the range and amount of shrinkage deformation of the substrate end portion due to shrinkage restraint by the adjacent fired substrate can be suppressed.
[0014]
Also, before the lamination, the holes other than the electrical connection via holes between the layers are formed in some of the unfired green sheets, or the holes other than the electrical connection via holes between the layers are laminated before the lamination. A method for producing a non-shrinkable ceramic multi-layer substrate, wherein the non-shrinkable ceramic multilayer substrate is formed on a substrate in advance or the above two items are simultaneously performed.
[0015]
According to the present invention, even when holes other than via holes for electrical connection are formed in some layers or all layers inside the substrate, the holes other than via holes for electrical connection between layers are partially laminated before lamination. By forming the green substrate on an unfired green sheet and laminating a pre-fired substrate on the adjacent layer, it is possible to suppress the range and amount of shrinkage restraint due to shrinkage restraint. Also, the range and amount of shrinkage deformation of the hole shape can be suppressed by using a pre-fired substrate in which holes other than via holes for electrical connection between layers are formed in advance before lamination. Naturally, the range and amount of shrinkage deformation can be similarly suppressed by previously making holes other than vias for electrical connection in both the unfired green sheet and the fired substrate.
[0016]
Furthermore, the present invention provides a method for producing a non-shrinkable ceramic multilayer substrate, wherein the substrate made by the above-described method is used as a pre-fired substrate.
[0017]
That is, a non-shrinkable ceramic multilayer substrate having a cavity structure and a through hole is produced by the above-described method, and the substrate is sandwiched between green sheets of the same material as a fired substrate, and a shrinkage constraining layer is laminated on the outside, In this method, the substrate is baked after heating and pressing. By making this method, it is possible to create a closed space, a bent through hole, and an overhanging cavity structure with little dimensional variation.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The invention according to
[0019]
The invention according to
[0020]
The invention according to
[0021]
A fourth aspect of the present invention is the non-shrinkable ceramic multilayer substrate according to the first aspect, wherein the non-shrinkable ceramic multilayer substrate prepared in the first, second and third embodiments is used as a fired substrate. By using a substrate produced by the production method according to
[0022]
(Embodiment 1)
1, 2, and 3 show a cross-sectional view of a laminate of the non-shrinkable ceramic multilayer substrate of the present invention and a cross-sectional view of the completed substrate from which the shrinkage constraining layer after firing has been removed.
[0023]
In FIG. 1, 1-1, 1-2,..., 1-n-1, 1-n are not shown in the figure, but conductor patterns of each layer and vias for electrically connecting the layers are formed in advance. Each layer of the non-shrinkage ceramic multilayer substrate laminated | stacked using the unbaked green sheet is shown.
[0024]
1. The green green sheets 1-1, 1-2,..., 1-n-1, 1-n and the fired
[0025]
(Embodiment 2)
In FIG. 2,
[0026]
2. The unfired green sheets 1-1, 1-2,..., 1-n-1, 1-n and the fired
[0028]
【The invention's effect】
As described above, a fired substrate made of one or more green sheets and an unfired green sheet are laminated as arbitrary adjacent layers, and an unfired shrinkage-restraining green sheet is laminated simultaneously on the outermost layer. By firing the substrate after heating and pressing, shrinkage at the end face of the substrate can be suppressed, and a non-shrinkable ceramic multilayer substrate with good dimensional accuracy and small variation can be realized.
[0029]
In addition, some or all of the non-fired green sheets may have holes other than via holes for electrical connection between layers before lamination, or some or all holes other than via holes for electrical connections between layers may be formed before lamination. By forming in advance on the fired substrate, it is possible to suppress shrinkage in holes other than via holes for electrical connection and wall surfaces of through holes, and to realize a non-shrinkable ceramic multilayer substrate with good dimensional accuracy and small variation.
[0030]
Furthermore, by using the non-shrinkable ceramic multilayer substrate produced by the above-described method as a fired substrate, a non-shrinkable ceramic multilayer substrate having an inner space having a
[Brief description of the drawings]
1 is a cross-sectional view of a laminate before firing of a non-shrinkable ceramic substrate according to
1-1 Unsintered green sheet 1-2 Unsintered green sheet 1-n-1 Unsintered green sheet 1-n Unsintered
Claims (4)
前記複合積層体の両面に未焼成の難焼結成分を含有する収縮抑制層を積層して、加熱加圧後に前記複合積層体を一体化するように基板焼成することを特徴とする無収縮セラミック多層基板の製造方法。The unfired green sheet laminate and a plurality of previously fired substrates made of at least one green sheet fired alternately so that the unfired green sheet laminate becomes the outermost layer in contact with the shrinkage suppression layer To form a composite laminate,
Non-shrinkable ceramic, wherein a shrinkage suppression layer containing an unfired hard-sintering component is laminated on both sides of the composite laminate, and the substrate is fired so as to integrate the composite laminate after heating and pressing. A method for producing a multilayer substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002265089A JP4517566B2 (en) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Method for manufacturing non-shrinkable ceramic multilayer substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002265089A JP4517566B2 (en) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Method for manufacturing non-shrinkable ceramic multilayer substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004099387A JP2004099387A (en) | 2004-04-02 |
| JP4517566B2 true JP4517566B2 (en) | 2010-08-04 |
Family
ID=32264319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002265089A Expired - Fee Related JP4517566B2 (en) | 2002-09-11 | 2002-09-11 | Method for manufacturing non-shrinkable ceramic multilayer substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4517566B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4683269B2 (en) * | 2005-03-23 | 2011-05-18 | Tdk株式会社 | Manufacturing method of multilayer ceramic substrate |
| KR100949545B1 (en) | 2008-02-04 | 2010-03-25 | 동의대학교 산학협력단 | Non-shrinkage manufacturing method of low temperature co-fired ceramic with protective layer |
| JP2012044133A (en) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Thermoelectric module and method of manufacturing the same |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62176962A (en) * | 1986-01-27 | 1987-08-03 | 松下電工株式会社 | Method of sintering ceramic substrate |
| US5254191A (en) * | 1990-10-04 | 1993-10-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for reducing shrinkage during firing of ceramic bodies |
| JPH04325465A (en) * | 1991-04-23 | 1992-11-13 | Tokin Corp | Method for burning piezoelectric ceramics |
| JP3797008B2 (en) * | 1999-03-30 | 2006-07-12 | 株式会社村田製作所 | Method for producing glass ceramic multilayer substrate |
| JP3826685B2 (en) * | 2000-06-26 | 2006-09-27 | 株式会社村田製作所 | Manufacturing method of glass ceramic circuit board |
| JP2002134913A (en) * | 2000-10-19 | 2002-05-10 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | Method for manufacturing ceramic multilayer substrate |
| JP4557417B2 (en) * | 2000-12-26 | 2010-10-06 | 京セラ株式会社 | Manufacturing method of low-temperature fired ceramic wiring board |
| JP3716783B2 (en) * | 2001-11-22 | 2005-11-16 | 株式会社村田製作所 | Method for manufacturing ceramic multilayer substrate and semiconductor device |
-
2002
- 2002-09-11 JP JP2002265089A patent/JP4517566B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004099387A (en) | 2004-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050708 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050816 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080513 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080703 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090728 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090918 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091119 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091222 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100427 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100510 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |