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JP4534457B2 - Optically active epoxy compounds and method for producing the same - Google Patents
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JP4534457B2 - Optically active epoxy compounds and method for producing the same - Google Patents

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JP4534457B2 JP2003331899A JP2003331899A JP4534457B2 JP 4534457 B2 JP4534457 B2 JP 4534457B2 JP 2003331899 A JP2003331899 A JP 2003331899A JP 2003331899 A JP2003331899 A JP 2003331899A JP 4534457 B2 JP4534457 B2 JP 4534457B2
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Description

本発明は光学活性エポキシ化合物類、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to optically active epoxy compounds and a method for producing the same.

本発明の光学活性エポキシ化合物類、及び3位に置換基を有する光学活性(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸誘導体は医農薬の製造中間体として有用な化合物である。   The optically active epoxy compounds of the present invention and the optically active (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acid derivative having a substituent at the 3-position are useful compounds as intermediates for the production of medicines and agrochemicals.

また、本発明はβ−ハロゲノケトン誘導体、その製造方法及びそれを用いたエノン誘導体の製造方法に関する。   The present invention also relates to a β-halogenoketone derivative, a method for producing the same, and a method for producing an enone derivative using the same.

本発明の1,3位に置換基を有する3−ハロゲノプロパン誘導体及び1,3位に置換基を有する2−プロペン−1−オンは医農薬の製造中間体として有用な化合物である。   The 3-halogenopropane derivative having a substituent at the 1,3-position and 2-propen-1-one having a substituent at the 1,3-position of the present invention are useful compounds as intermediates for the production of medicines and agricultural chemicals.

さらに、本発明は3位に置換基を有する光学活性2,3−エポキシ−3−プロピオン酸類及びそのエステル類の製造方法に関する。   Furthermore, the present invention relates to a method for producing optically active 2,3-epoxy-3-propionic acids and esters thereof having a substituent at the 3-position.

本発明の3位に置換基を有する光学活性2,3−エポキシプロピオン酸類及びそのエステル類は、上記したとおり医農薬の合成中間体として有用な化合物である。   The optically active 2,3-epoxypropionic acids and esters thereof having a substituent at the 3-position of the present invention are compounds useful as synthetic intermediates for medical and agricultural chemicals as described above.

不斉酸化反応としては、チタンテトライソプロポキシドと光学活性酒石酸ジエチルを用い、さらにtert−ブチルヒドロパーオキシドを用いたtrans−アリルアルコールの不斉酸化反応が知られている(例えば、非特許文献1参照)。   As an asymmetric oxidation reaction, an asymmetric oxidation reaction of trans-allyl alcohol using titanium tetraisopropoxide and optically active diethyl tartrate and further using tert-butyl hydroperoxide is known (for example, non-patent literature). 1).

また、2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸の製造方法としては、cis−2,3−エポキシ−4−フェニル−ブタン−1−オールのRuOを用いて酸化し、光学活性cis−2,3−エポキシ−4−フェニル−ブタン酸を製造する方法が知られている(例えば、非特許文献2、非特許文献3参照)。 In addition, as a method for producing 2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionic acid, optically active cis-2 is obtained by oxidation using RuO 4 of cis-2,3-epoxy-4-phenyl-butan-1-ol. , 3-epoxy-4-phenyl-butanoic acid is known (for example, see Non-Patent Document 2 and Non-Patent Document 3).

さらに、2,3−エポキシ−4−メチルペンタン酸及び2,3−エポキシヘプタン酸の製法としては相当するアリルアルコール類をチタンテトライソプロポキシドと光学活性酒石酸ジエチルを用い、さらにtert−ブチルヒドロパーオキシドを用い不斉エポキシ化した後、RuOを用いてカルボン酸に酸化する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Further, 2,3-epoxy-4-methylpentanoic acid and 2,3-epoxyheptanoic acid are produced by using the corresponding allyl alcohol, titanium tetraisopropoxide and optically active diethyl tartrate, and further tert-butyl hydroperoxide. A method is known in which an asymmetric epoxidation is performed using an oxide and then oxidized to a carboxylic acid using RuO 4 (see, for example, Patent Document 1).

1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オンは各種公知文献に記載されている(例えば、特許文献2参照)。   1-Phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one is described in various known documents (for example, see Patent Document 2).

また、シクロヘキサンカルボキシアルデヒドとアセトフェノンの反応により1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンが得られることが知られている(例えば、特許文献3参照)。   It is also known that 1-phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexylpropan-1-one can be obtained by the reaction of cyclohexanecarboxaldehyde and acetophenone (see, for example, Patent Document 3).

さらに、一般的なアルデヒドとケトンの反応で生成する3−ヒドロキシ−1−カルボニル化合物類(アルドール体)は、酸又は塩基により容易に脱水反応を起こし、α,β不飽和ケトン類又はα,β−不飽和エステル類が生成することが知られている(非特許文献4等参照)。   Furthermore, 3-hydroxy-1-carbonyl compounds (aldol forms) produced by the reaction of a general aldehyde and a ketone easily undergo a dehydration reaction with an acid or a base, and α, β unsaturated ketones or α, β -It is known that unsaturated esters are formed (see Non-Patent Document 4 and the like).

特開2002−80441号公報JP 2002-80441 A

特開平11−80036号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-80036 国際公開第02/041984号パンフレットInternational Publication No. 02/041984 Pamphlet K.B.Sharpless,et.al.,J.Am.Chem.Soc.109,5765(1987)K. B. Sharpless, et. al. , J .; Am. Chem. Soc. 109, 5765 (1987) K.B.Sharpless,et.al.,J.Org.Chem.,50、1560(1985)K. B. Sharpless, et. al. , J .; Org. Chem. , 50, 1560 (1985) K.B.Sharpless,et.al.,J.Org.Chem.,46,3936(1981)K. B. Sharpless, et. al. , J .; Org. Chem. 46, 3936 (1981) Herbert O.House,“Modern Sythetic Reactions Second Edition” (1972) W.A.Benjamin,Inc. p.632−637Herbert O. House, “Modern Synthetic Reactions Second Edition” (1972). A. Benjamin, Inc. p. 632-637

従来の不斉酸化反応は、工業的な製造方法としては満足できるものではなかった。例えば、従来のtrans−アリルアルコールの不斉酸化反応においては、反応時に大量の酸化剤が反応系内に存在するため、少量の製造時には問題とならないが、大量の製造においては爆発等の危険を伴う方法であり、工業的な製造方法とは言えなかった。   The conventional asymmetric oxidation reaction has not been satisfactory as an industrial production method. For example, in the conventional asymmetric oxidation reaction of trans-allyl alcohol, since a large amount of oxidant is present in the reaction system during the reaction, there is no problem in the production of a small amount. This is an accompanying method and could not be said to be an industrial production method.

また、従来の方法においては、得られる1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン中に、条件によっては副反応物が生成し、高純度の目的物を得るためには、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等による精密精製が必要で、工業的な製造方法とは言えなかった。   Further, in the conventional method, in the obtained 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one, a side reaction product is generated depending on conditions, and in order to obtain a high-purity target product, silica gel Precise purification by column chromatography or the like is necessary, and it was not an industrial production method.

本発明者らは、工業的に安全な光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法について鋭意検討した結果、本発明のエノン誘導体を原料とし、新規中間体を経由し誘導する方法を見出した。   As a result of intensive studies on an industrially safe method for producing an optically active epoxy enone derivative, the present inventors have found a method of using the enone derivative of the present invention as a raw material and deriving via a novel intermediate.

また、本発明者らは、工業的な3位に置換基を有する1−フェニル−2−プロペン−1−オンの製造方法について鋭意検討した結果、アルデヒド類とアセトフェノンのリチウムエノレートの反応又はアルデヒド類とアセトフェノンのトリメチルシリルエノレートの反応により得られる3位に置換基を有する1−フェニル−3−ヒドロキシプロパン−1−オン誘導体を、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させ、3位に置換基を有する1−フェニル−3−ハロゲノプロパン−1−オン誘導体とし、引き続き塩基で処理することにより、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精密精製することなく高純度の3位に置換基を有する1−フェニルプロペン−1−オンを得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   In addition, as a result of intensive studies on an industrial method for producing 1-phenyl-2-propen-1-one having a substituent at the 3-position, the present inventors have found that a reaction of aldehydes with lithium enolate of acetophenone or an aldehyde 1-phenyl-3-hydroxypropan-1-one derivative having a substituent at the 3-position obtained by the reaction of acetylphenone with trimethylsilyl enolate of acetophenone is reacted with hydrogen halide or hydrohalic acid and substituted at the 3-position 1-phenyl-3-halogenopropan-1-one derivative having a group, and subsequently treated with a base, 1-phenylpropene having a substituent at the 3-position with high purity without precise purification by silica gel column chromatography The inventors have found that -1-one can be obtained and have completed the present invention.

すなわち本発明は、
1.下記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体、
That is, the present invention
1. An optically active epoxy enone derivative represented by the following general formula (1):

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
2.下記一般式(2)
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
2. The following general formula (2)

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
で示されるエノン誘導体を不斉酸化することを特徴とする上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法、
3.下記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体、
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
A process for producing the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1), wherein the enone derivative represented by formula (1) is asymmetrically oxidized:
3. An optically active epoxy ester derivative represented by the following general formula (3):

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
4.上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体を酸化剤により酸化することを特徴とする上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造方法、
5.上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体を加水分解することを特徴とする下記一般式(4)
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
4). A method for producing an optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3), wherein the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) is oxidized with an oxidizing agent;
5). The following general formula (4), wherein the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) is hydrolyzed

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表す。)
で示される3位に置換基を持つ光学活性(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸誘導体の製造方法。
Figure 0004534457
(In the formula, R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, linear or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms.)
The manufacturing method of the optically active (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acid derivative which has a substituent in 3-position shown by these.

6.下記一般式(5)で示される1,3位に置換基を持つ3−ハロゲノプロパン−1−オン誘導体、   6). A 3-halogenopropan-1-one derivative having a substituent at the 1,3-position represented by the following general formula (5);

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。)
7.下記一般式(6)
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group; X represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.)
7). The following general formula (6)

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
で示されるβ−ヒドロキシケトン誘導体をハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させることを特徴とする上記一般式(5)で示される1,3位に置換基を持つ3−ハロゲノプロパン−1−オン誘導体の製造方法、並びに
8.上記一般式(5)で示される1,3位に置換基を持つ3−ハロゲノプロパン−1−オン誘導体を、塩基で処理することを特徴とする下記一般式(2)
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
A 3-halogenopropane-1-substituted one having a substituent at the 1,3-position represented by the general formula (5), wherein the β-hydroxyketone derivative represented by the formula (3) is reacted with hydrogen halide or hydrohalic acid. 7. Method for producing on-derivative, and A 3-halogenopropan-1-one derivative having a substituent at the 1,3-position represented by the general formula (5) is treated with a base, and the following general formula (2)

Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
で示されるα,β−不飽和ケトン誘導体の製造方法、
である。
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
A process for producing an α, β-unsaturated ketone derivative represented by:
It is.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

まず、本発明の光学活性エポキシ化合物類、及びその製造方法について説明する。   First, the optically active epoxy compounds of the present invention and the production method thereof will be described.

本発明の上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。また、置換基Rは、フェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、具体的には、フェニル基、4−メトキシフェニル基、tert−ブチル基等が例示される。 In the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. Specific examples include a cyclohexyl group, an isopropyl group, and an n-butyl group. The substituent R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group, or a tert-butyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and a tert-butyl group.

本発明の上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体としては、具体的には、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルブタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルへキサン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルヘプタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルオクタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルノナン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルウンデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルドデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルブタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチル−4−メチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルへキサン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルヘプタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルオクタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルノナン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルウンデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチルドデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−tert−ブチル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)−4−メチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)へキサン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ヘプタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)オクタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ノナン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)デカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ウンデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)ドデカン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−(4−メトキシフェニル)−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン等が挙げられる。   Specific examples of the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) of the present invention include (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenylbutan-1-one, (2S, 3R). ) -2,3-epoxy-1-phenylpentan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl-4-methylpentan-1-one, (2S, 3R) -2, 3-epoxy-1-phenylhexan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenylheptan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl Octane-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenylnonan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyldecan-1-one, (2S , 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl Decan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyldodecan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl-4,4-dimethylpentane- 1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl-3-cyclohexylpropan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylbutan-1-one (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylpentan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butyl-4-methylpentan-1-one (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylhexan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylheptan-1-one, (2S , 3R) -2,3-epoxy -1-tert-butyloctane-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylnonan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert- Butyldecan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butylundecan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butyldodecane-1- ON, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butyl-4,4-dimethylpentan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-tert-butyl-3 -Cyclohexylpropan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) butan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4 -Methoxyphenyl) pe Ntan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) -4-methylpentan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) hexan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) heptan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy -1- (4-methoxyphenyl) octane-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) nonan-1-one, (2S, 3R) -2,3 -Epoxy-1- (4-methoxyphenyl) decan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) undecan-1-one, (2S, 3R) -2 , 3-Epoxy-1- (4-methoxyphenyl) do Can-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy-1- (4-methoxyphenyl) -4,4-dimethylpentan-1-one, (2S, 3R) -2,3-epoxy- 1- (4-methoxyphenyl) -3-cyclohexylpropan-1-one and the like can be mentioned.

本発明の上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体は、例えば、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体を不斉酸化することにより製造することができる。   The optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) of the present invention can be produced, for example, by asymmetric oxidation of the enone derivative represented by the general formula (2).

本発明の上記一般式(2)で示されるエノン誘導体において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。また、置換基Rは、フェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、具体的には、フェニル基、4−メトキシフェニル基、tert−ブチル基等が例示される。 In the enone derivative represented by the general formula (2) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms. Examples include cyclohexyl group, isopropyl group, n-butyl group and the like. The substituent R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group, or a tert-butyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and a tert-butyl group.

本発明の上記一般式(2)で示されるエノン誘導体の調製方法としては特に限定するものではないが、例えば、アルデヒド類とアセトフェノンの交差アルドール反応により調製することができる。具体的には、アセトフェノンやメチル tert−ブチルケトンのシリルエノールエーテルやリチウムエノレートと、アルデヒド類とを反応させ、次いで生成したアルドール誘導体を酸等により脱水することにより調製しても良いし、高純度のものをうるためには後述する1,3位が置換されたβ−ハロケトン類を経由する方法により調製しても良い。   Although it does not specifically limit as a preparation method of the enone derivative shown by the said General formula (2) of this invention, For example, it can prepare by cross-aldol reaction of aldehydes and acetophenone. Specifically, it may be prepared by reacting acetophenone or silyl enol ether of methyl tert-butyl ketone or lithium enolate with an aldehyde, and then dehydrating the generated aldol derivative with an acid or the like. In order to obtain a product, it may be prepared by a method via β-haloketones substituted at the 1,3-position described later.

本発明の上記一般式(1)で示されるエポキシエノン誘導体の調製に当っては、ランタノイドトリイソプロポキシド、(R)−1,1−ビ−2−ナフトール、トリフェニルフォスフィンオキシド及びクメンヒドロパーオキシドからなる触媒を用い、クメンヒドロパーオキシドにより不斉酸化反応を行うことが好ましい。   In preparing the epoxy enone derivative represented by the above general formula (1) of the present invention, lanthanoid triisopropoxide, (R) -1,1-bi-2-naphthol, triphenylphosphine oxide and cumene hydro It is preferable to perform an asymmetric oxidation reaction with cumene hydroperoxide using a peroxide catalyst.

本発明において、不斉酸化反応に適用可能なランタノイドトリイソプロポキシドとしては、希土類金属アルコキシドであれば特に限定するものではないが、好ましくはランタントリイソプロポキシド、イッテリビウムトリイソプロポキシドであり、特に好ましくはランタントリイソプロポキシドである。   In the present invention, the lanthanoid triisopropoxide applicable to the asymmetric oxidation reaction is not particularly limited as long as it is a rare earth metal alkoxide, but preferably lanthanum triisopropoxide, ytterbium triisopropoxide. And lanthanum triisopropoxide is particularly preferred.

本発明において、不斉酸化反応に使用するランタノイドトリイソプロポシドとしては、あらゆる製造方法により調製したものが使用可能であり、特に限定されない。ランタノイドトリイソプロポシドの使用量としては、反応に用いる上記一般式(2)で示されるエノン誘導体に対して、通常0.1モル%〜30モル%使用する。   In the present invention, as the lanthanoid triisoproposide used for the asymmetric oxidation reaction, those prepared by any production method can be used and are not particularly limited. The amount of lanthanoid triisoproposide used is usually 0.1 mol% to 30 mol% with respect to the enone derivative represented by the general formula (2) used in the reaction.

本発明において、不斉酸化反応に使用する(R)−1,1’−ビ−2−ナフトールの量は、反応に使用するランタンイソプロポキシドに対して通常1〜2倍モル量であるが、好ましくは1〜1.5倍モル量である。   In the present invention, the amount of (R) -1,1′-bi-2-naphthol used in the asymmetric oxidation reaction is usually 1 to 2 times the molar amount of lanthanum isopropoxide used in the reaction. The molar amount is preferably 1 to 1.5 times.

本発明において、不斉酸化反応に使用するトリフェニルフォスフィンオキシドの量は、反応に使用するランタントリイソプロポキシドに対して、1〜5倍モル量、好ましくは1.1〜3倍モル量使用する。   In the present invention, the amount of triphenylphosphine oxide used in the asymmetric oxidation reaction is 1 to 5 times, preferably 1.1 to 3 times the amount of lanthanum triisopropoxide used in the reaction. use.

本発明において、不斉酸化反応に使用するクメンヒドロパーオキシド又はtert−ブチルヒドロパーオキシドの量は、触媒形成時にランタンイソプロポキシドに対して通常1〜4モル量使用し、さらに反応時には反応に用いる一般式(1)で示されるエノン誘導体に対して通常1〜2倍モル量使用する。   In the present invention, the amount of cumene hydroperoxide or tert-butyl hydroperoxide used in the asymmetric oxidation reaction is usually 1 to 4 moles with respect to lanthanum isopropoxide at the time of catalyst formation, and further during the reaction. It is usually used in an amount of 1 to 2 times the molar amount of the enone derivative represented by the general formula (1) to be used.

本発明において、不斉酸化反応に際しては、ランタノイドトリイソプロポキシド、(R)−1,1−ビ−2−ナフトール、トリフェニルフォスフィンオキシド並びにクメンヒドロパーオキシドからなる触媒溶液を予め調製し、基質とクメンヒドロパーオキシド又はtert−ブチルヒドロパーオキシドとを混合して触媒溶液に供給し反応を行っても良いし、基質とクメンヒドロパーオキシド又はtert−ブチルヒドロパーオキシドを各々別々に触媒溶液に供給し反応を行っても良い。   In the present invention, for the asymmetric oxidation reaction, a catalyst solution comprising lanthanoid triisopropoxide, (R) -1,1-bi-2-naphthol, triphenylphosphine oxide and cumene hydroperoxide is prepared in advance. The substrate and cumene hydroperoxide or tert-butyl hydroperoxide may be mixed and supplied to the catalyst solution to carry out the reaction, or the substrate and cumene hydroperoxide or tert-butyl hydroperoxide may be separately reacted in the catalyst solution. The reaction may be carried out by supplying to

本発明において、不斉酸化反応に際しては、系内を無水に保つために、必要に応じて、粉末又は成型体のモレキュラシーブス−4A、モレキュラシーブス−3A等のゼオライトを適量使用しても良い。   In the present invention, during the asymmetric oxidation reaction, an appropriate amount of zeolite such as molecular sieves-4A, molecular sieves-3A or the like in powder or molded form may be used as necessary to keep the system anhydrous.

本発明において、不斉酸化反応に適用可能な溶剤としては、具体的には、テトラヒドロフラン(以下THFと略す)、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類等があげられるが、好ましくはエーテル類であり、特に好ましくはTHFである。   In the present invention, specific examples of the solvent applicable to the asymmetric oxidation reaction include ethers such as tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF), diethyl ether, diisopropyl ether, and aromatics such as benzene, toluene, ethylbenzene, and xylene. Examples include hydrocarbons, and ethers are preferable, and THF is particularly preferable.

本発明において、不斉酸化反応の反応温度としては、−30℃〜30℃の反応で実施可能であるが、上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体を高光学純度で得るためには、−10〜20℃での実施が好ましい。   In the present invention, the reaction temperature of the asymmetric oxidation reaction can be carried out by a reaction of −30 ° C. to 30 ° C. In order to obtain the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) with high optical purity. For this, it is preferable to carry out at -10 to 20 ° C.

本発明の不斉酸化反応の反応時間としては、基質濃度、触媒量、触媒濃度、反応温度により異なるが通常基質を添加終了後、0.5〜24時間以内に反応が完結する。   The reaction time of the asymmetric oxidation reaction of the present invention varies depending on the substrate concentration, catalyst amount, catalyst concentration, and reaction temperature, but the reaction is usually completed within 0.5 to 24 hours after the addition of the substrate.

本発明の不斉酸化反応の後処理としては、特に限定するものではないが、通常、飽和の塩化アンモニウム水溶液を添加して触媒を分解した後、余剰に存在するクメンヒドロパーオキシドを亜硫酸ナトリウム水溶液等で分解し、引き続きシリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精製することにより、目的とする上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノンを得ることができる。   The post-treatment of the asymmetric oxidation reaction of the present invention is not particularly limited. Usually, after adding a saturated aqueous ammonium chloride solution to decompose the catalyst, excess cumene hydroperoxide is converted into an aqueous sodium sulfite solution. The target optically active epoxy enone represented by the above general formula (1) can be obtained by subsequent decomposition with a silica gel column chromatography and the like.

本発明の上記一般式(3)において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。また、置換基Rは、フェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、具体的には、フェニル基、4−メトキシフェニル基、tert−ブチル基等が例示される。 In the above general formula (3) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, specifically, a cyclohexyl group. , Isopropyl group, n-butyl group and the like. The substituent R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group, or a tert-butyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and a tert-butyl group.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体としては、具体的には、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシブチレート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシペンタノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシヘキサノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシヘプタノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシオクタノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシノナノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシデカンノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシウンデカノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシドデカノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4,4−ジメチルペンタノエート、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオネート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシブタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシブチルペンタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシへキサノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシヘプタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシオクタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシノナノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシデカノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシ−ウンデカノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシドデカノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシ−ブチル−4,4−ジメチルペンタノエート、tert−ブチル (2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオネート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−1−ブタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシペンタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシへキサノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシヘプタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシオクタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシノナノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシデカノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシウンデカノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシドデカノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4,4−ジメチルペンタノエート、4−メトキシフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオネート等が挙げられる。   Specific examples of the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) of the present invention include phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxybutyrate, phenyl (2S, 3R) -2,3. -Epoxypentanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4-methylpentanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyhexanoate, phenyl (2S, 3R) -2 , 3-epoxyheptanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyoctanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxynonanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3- Epoxy decanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyundecanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxydodecanoate Phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4,4-dimethylpentanoate, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxybutanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxybutylpentanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4-methylpentanoate Tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxyhexanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxyheptanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxy Octanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxynonanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3- Poxydecanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-undecanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxydodecanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2 , 3-epoxy-butyl-4,4-dimethylpentanoate, tert-butyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2, 3-epoxy-1-butanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxypentanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4-methylpentanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyhexanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2 3-epoxyheptanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyoctanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxynonanoate, 4-methoxyphenyl (2S , 3R) -2,3-epoxydecanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyundecanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxide decanoate 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4,4-dimethylpentanoate, 4-methoxyphenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionate, etc. Can be mentioned.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造方法としては、特に限定するものではないが、例えば、上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体を酸化剤により酸化させる反応により得ることができる。   The method for producing the optically active epoxy ester derivative represented by the above general formula (3) of the present invention is not particularly limited. For example, the optically active epoxy enone derivative represented by the above general formula (1) is converted into an oxidizing agent. Can be obtained by oxidation reaction.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造において、適用可能な酸化剤としては、特に限定するものではないが、具体的には、過硫酸カリウム、過酸化水素、過酢酸、過ぎ酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、クメンヒドロパーオキシド等が挙げられ、安全性及び操作性より、好ましくはm−クロロ過安息香酸である。   In the production of the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) of the present invention, the applicable oxidizing agent is not particularly limited. Specifically, potassium persulfate, hydrogen peroxide, Examples include peracetic acid, excess acid, trifluoroperacetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, cumene hydroperoxide and the like, and m-chloroperbenzoic acid is preferred from the viewpoint of safety and operability.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造に際して使用する酸化剤は、反応に用いる上記一般式(1)で示される光学活性エポキシエノン誘導体に対して、通常1〜10倍モル量使用する。   The oxidizing agent used in the production of the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) of the present invention is usually 1 to 1 with respect to the optically active epoxy enone derivative represented by the general formula (1) used in the reaction. A 10-fold molar amount is used.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造に使用する溶剤としては、反応に不活性な溶剤であれば特に限定するものではないが、通常、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン等を使用し、反応に用いる上記一般式(1)で示されるエポキシエノンに対して5〜100重量倍量使用する。また必要に応じて、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸等のpH調節剤をさらに添加しても良い。   The solvent used for the production of the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) of the present invention is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the reaction. -Dichloroethane, chloroform, benzene, toluene, ethylbenzene, etc. are used and used in an amount of 5 to 100 times by weight with respect to the epoxy enone represented by the general formula (1) used in the reaction. Moreover, you may further add pH adjusters, such as sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, phosphoric acid, as needed.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造における反応温度及び時間としては、反応に用いる上記一般式(1)で示されるエポキシエノン誘導体の種類により異なり、特に幻影するものではないが、通常0〜60℃の温度範囲で1〜48時間で反応は完結する。また、原料が残存する場合は所定時間反応させた後、さらに酸化剤を添加しても良いし、酸化剤の分解物を除去後さらに反応を行っても良い。   The reaction temperature and time in the production of the optically active epoxy ester derivative represented by the general formula (3) of the present invention vary depending on the type of the epoxy enone derivative represented by the general formula (1) used in the reaction, and are particularly illusion. Although not intended, the reaction is usually completed in a temperature range of 0 to 60 ° C. in 1 to 48 hours. Further, when the raw material remains, after reacting for a predetermined time, an oxidizing agent may be further added, or a reaction may be further performed after removing a decomposition product of the oxidizing agent.

本発明の上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体の製造後の後処理としては、特に限定するものではないが、通常、飽和の重曹水等のアルカリ水溶液で洗浄し、次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製等により目的物を得る。   The post-treatment after the production of the optically active epoxy ester derivative represented by the above general formula (3) of the present invention is not particularly limited, but it is usually washed with an alkaline aqueous solution such as saturated sodium bicarbonate water, and then silica gel. The desired product is obtained by purification by column chromatography or the like.

本発明においては、上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体を加水分解することにより、上記一般式(4)で示される(2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸を得る。具体的には、トルエン、メタノール、水−メタノール混合溶剤又は水−メタノール−トルエン混合溶媒中で、所定量のアルカリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物を反応させる。   In the present invention, (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexyl represented by the above general formula (4) is obtained by hydrolyzing the optically active epoxy ester derivative represented by the above general formula (3). Propionic acid is obtained. Specifically, a predetermined amount of alkali metal hydroxide or alkaline earth metal hydroxide is reacted in toluene, methanol, water-methanol mixed solvent or water-methanol-toluene mixed solvent.

本発明の上記一般式(4)において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。 In the above general formula (4) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, specifically, a cyclohexyl group. , Isopropyl group, n-butyl group and the like.

本発明の上記一般式(4)で示される3位が置換された(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸類の製造に使用するアルカリ金属水酸化物としては、具体的には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム等が挙げられ、その使用量としては、反応に用いる上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体に対して、通常1〜20倍モル量使用する。   Specifically, the alkali metal hydroxide used in the production of the (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acid substituted at the 3-position represented by the general formula (4) of the present invention is water. Examples thereof include lithium oxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, magnesium hydroxide, strontium hydroxide and the like, and the amount used is an optical represented by the above general formula (3) used in the reaction. The molar amount is usually 1 to 20 times that of the active epoxy ester derivative.

本発明の上記一般式(4)で示される3位が置換された(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸類の製造に使用する溶剤の量は、反応に用いる上記一般式(3)で示される光学活性エポキシエステル誘導体に対して、通常1〜40重量倍量使用する。また混合溶剤を使用する際に混合溶剤の比率は、特に限定するものではないが、反応に用いる光学活性エポキシエステル誘導体が溶解する比率であればよい。   The amount of the solvent used in the production of the (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acid substituted at the 3-position represented by the general formula (4) of the present invention is the above general formula (3) used in the reaction. Is usually used in an amount of 1 to 40 times by weight based on the optically active epoxy ester derivative represented by In addition, when using the mixed solvent, the ratio of the mixed solvent is not particularly limited as long as the optically active epoxy ester derivative used in the reaction is dissolved.

本発明の上記一般式(4)で示される3位が置換された(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸類の製造に際しての反応温度及び時間は、特に限定するものではないが、通常−5℃〜30℃、1〜12時間で反応は完結する。   The reaction temperature and time for producing the (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acids substituted at the 3-position represented by the general formula (4) of the present invention are not particularly limited. The reaction is completed at -5 ° C to 30 ° C for 1 to 12 hours.

本発明の上記一般式(4)で示される3位が置換された(2S,3R)−2,3−エポキシプロピオン酸類の製造後の後処理としては、特に限定するものではないが、例えば、溶剤を留去後、油溶解性の不純物をエーテル類又はハロゲン化炭化水素系溶剤等で抽出除去し、次いで塩酸等の酸を添加することによりpHを4以下とし、酢酸エチル又はジエチルエーテル等のエーテル類で抽出、乾燥、濃縮することにより目的物の光学活性(2S,3R)−2,3−エポキシ−3−プロピオン酸を得ることができる。   The post-treatment after the production of the (2S, 3R) -2,3-epoxypropionic acid substituted at the 3-position represented by the general formula (4) of the present invention is not particularly limited. After distilling off the solvent, oil-soluble impurities are extracted and removed with ethers or halogenated hydrocarbon solvents, etc., and then the pH is adjusted to 4 or less by adding an acid such as hydrochloric acid, such as ethyl acetate or diethyl ether. Extraction with ethers, drying, and concentration can yield the desired optically active (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-propionic acid.

次に、本発明のβ−ハロゲノケトン誘導体、その製造方法及びそれを用いたエノン誘導体の製造方法について説明する。   Next, the β-halogenoketone derivative of the present invention, a method for producing the same, and a method for producing an enone derivative using the same will be described.

本発明の上記一般式(5)において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。また、置換基Rは、フェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、具体的には、フェニル基、4−メトキシフェニル基、tert−ブチル基等が例示される。また、置換基Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、これらのうち、塩素原子が好適に使用される。 In the above general formula (5) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, specifically, a cyclohexyl group. , Isopropyl group, n-butyl group and the like. The substituent R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group, or a tert-butyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and a tert-butyl group. Moreover, the substituent X represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and among these, a chlorine atom is preferably used.

本発明の上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類としては、具体的には、3−フルオロ−1−フェニルブタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルブタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルブタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルブタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルへキサン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルへキサン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルへキサン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルへキサン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルヘプタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルヘプタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルヘプタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルヘプタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルオクタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルオクタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルオクタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルオクタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルノナン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルノナン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルノナン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルノナン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルデカン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルデカン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルデカン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルデカン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルウンデカン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルウンデカン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルウンデカン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルウンデカン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニルドデカン−1−オン、3−クロロ−1−フェニルドデカン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニルドデカン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニルドデカン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−フェニル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−フェニル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−クロロ−1−フェニル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ブロモ−1−フェニル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ヨウド−1−フェニル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルブタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルブタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルブタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルブタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチル−4−メチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチル−4−メチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチル−4−メチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチル−4−メチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルへキサン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルへキサン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルへキサン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルへキサン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルヘプタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルヘプタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルヘプタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルヘプタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルオクタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルオクタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルオクタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルオクタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルノナン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルノナン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルノナン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルノナン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルデカン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルデカン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルデカン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルデカン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルウンデカン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルウンデカン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルウンデカン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルウンデカン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチルドデカン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチルドデカン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチルドデカン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチルドデカン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチル−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−tert−ブチル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−クロロ−1−tert−ブチル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ブロモ−1−tert−ブチル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ヨウド−1−tert−ブチル−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ブタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ペンタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)−4−メチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)−4−メチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)−4−メチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)−4−メチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)へキサン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)へキサン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)へキサン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)へキサン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ヘプタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ヘプタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ヘプタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ヘプタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)オクタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)オクタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)オクタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)オクタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ノナン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ノナン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ノナン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ノナン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)デカン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)デカン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)デカン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)デカン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ウンデカン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ウンデカン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ウンデカン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ウンデカン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)ドデカン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)ドデカン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)ドデカン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)ドデカン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)−4,4−ジメチルペンタン−1−オン、3−フルオロ−1−(4−メトキシフェニル)−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−クロロ−1−(4−メトキシフェニル)−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン、3−ヨウド−1−(4−メトキシフェニル)−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン等が挙げられる。   Specific examples of 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-positions represented by the general formula (5) of the present invention include 3-fluoro-1-phenylbutan-1-one, 3-chloro-1-phenylbutan-1-one, 3-bromo-1-phenylbutan-1-one, 3-iodo-1-phenylbutan-1-one, 3-fluoro-1-phenylpentane-1- ON, 3-chloro-1-phenylpentan-1-one, 3-bromo-1-phenylpentan-1-one, 3-iodo-1-phenylpentan-1-one, 3-fluoro-1-phenyl-4 -Methylpentan-1-one, 3-chloro-1-phenyl-4-methylpentan-1-one, 3-bromo-1-phenyl-4-methylpentan-1-one, 3-iodo-1-phenyl- 4-methylpen 1-one, 3-fluoro-1-phenylhexan-1-one, 3-chloro-1-phenylhexan-1-one, 3-bromo-1-phenylhexan-1-one, 3- Iodo-1-phenylhexan-1-one, 3-fluoro-1-phenylheptan-1-one, 3-chloro-1-phenylheptan-1-one, 3-bromo-1-phenylheptan-1-one 3-iodo-1-phenylheptan-1-one, 3-fluoro-1-phenyloctane-1-one, 3-chloro-1-phenyloctane-1-one, 3-bromo-1-phenyloctane-1 -One, 3-iodo-1-phenyloctane-1-one, 3-fluoro-1-phenylnonan-1-one, 3-chloro-1-phenylnonan-1-one, 3-bromo-1-phenylnonane 1-one, 3-iodo-1-phenylnonan-1-one, 3-fluoro-1-phenyldecan-1-one, 3-chloro-1-phenyldecan-1-one, 3-bromo-1-phenyl Decan-1-one, 3-iodo-1-phenyldecan-1-one, 3-fluoro-1-phenylundecan-1-one, 3-chloro-1-phenylundecan-1-one, 3-bromo-1 -Phenylundecan-1-one, 3-iodo-1-phenylundecan-1-one, 3-fluoro-1-phenyldodecan-1-one, 3-chloro-1-phenyldodecan-1-one, 3-bromo -1-phenyldodecan-1-one, 3-iodo-1-phenyldodecan-1-one, 3-fluoro-1-phenyl-4,4-dimethylpentan-1-one, 3-chloro-1- Phenyl-4,4-dimethylpentan-1-one, 3-bromo-1-phenyl-4,4-dimethylpentan-1-one, 3-iodo-1-phenyl-4,4-dimethylpentan-1-one 3-fluoro-1-phenyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-chloro-1-phenyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-bromo-1-phenyl-3-cyclohexylpropane-1- ON, 3-iodo-1-phenyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butylbutan-1-one, 3-chloro-1-tert-butylbutan-1-one, 3-bromo -1-tert-butylbutan-1-one, 3-iodo-1-tert-butylbutan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butylpe Tan-1-one, 3-chloro-1-tert-butylpentan-1-one, 3-bromo-1-tert-butylpentan-1-one, 3-iodo-1-tert-butylpentan-1-one 3-fluoro-1-tert-butyl-4-methylpentan-1-one, 3-chloro-1-tert-butyl-4-methylpentan-1-one, 3-bromo-1-tert-butyl-4 -Methylpentan-1-one, 3-iodo-1-tert-butyl-4-methylpentan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butylhexan-1-one, 3-chloro-1-tert -Butylhexan-1-one, 3-Bromo-1-tert-butylhexan-1-one, 3-iodo-1-tert-butylhexan-1-one, 3-fluoro-1-ter -Butylheptan-1-one, 3-chloro-1-tert-butylheptan-1-one, 3-bromo-1-tert-butylheptan-1-one, 3-iodo-1-tert-butylheptane-1 -One, 3-fluoro-1-tert-butyloctane-1-one, 3-chloro-1-tert-butyloctane-1-one, 3-bromo-1-tert-butyloctane-1-one, 3- Iodo-1-tert-butyloctane-1-one, 3-fluoro-1-tert-butylnonan-1-one, 3-chloro-1-tert-butylnonan-1-one, 3-bromo-1-tert-butylnonane -1-one, 3-iodo-1-tert-butylnonan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butyldecan-1-one, 3-chloro-1-t tert-Butyldecan-1-one, 3-bromo-1-tert-butyldecan-1-one, 3-iodo-1-tert-butyldecan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butylundecan-1-one 3-chloro-1-tert-butylundecan-1-one, 3-bromo-1-tert-butylundecan-1-one, 3-iodo-1-tert-butylundecan-1-one, 3-fluoro- 1-tert-butyldodecan-1-one, 3-chloro-1-tert-butyldodecan-1-one, 3-bromo-1-tert-butyldodecan-1-one, 3-iodo-1-tert-butyl Dodecan-1-one, 3-fluoro-1-tert-butyl-4,4-dimethylpentan-1-one, 3-chloro-1-tert-butyl- , 4-Dimethylpentan-1-one, 3-bromo-1-tert-butyl-4,4-dimethylpentan-1-one, 3-iodo-1-tert-butyl-4,4-dimethylpentane-1- ON, 3-fluoro-1-tert-butyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-chloro-1-tert-butyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-bromo-1-tert-butyl- 3-cyclohexylpropan-1-one, 3-iodo-1-tert-butyl-3-cyclohexylpropan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) butan-1-one, 3-chloro- 1- (4-methoxyphenyl) butan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) butan-1-one, 3-iodo-1- (4-me Xylphenyl) butan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) pentan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) pentan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) pentan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) pentan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) -4-methylpentane-1- ON, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) -4-methylpentan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) -4-methylpentan-1-one, 3-iodo- 1- (4-methoxyphenyl) -4-methylpentan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) hexan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) Hexan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) hexan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) hexan-1-one, 3-fluoro-1 -(4-methoxyphenyl) heptan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) heptan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) heptan-1-one, 3 -Iodo-1- (4-methoxyphenyl) heptan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) octane-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) octane-1 -One, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) octane-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) octane-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) ) Nan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) nonan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) nonan-1-one, 3-iodo-1- (4 -Methoxyphenyl) nonan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) decan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) decan-1-one, 3-bromo- 1- (4-methoxyphenyl) decan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) decan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) undecan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) undecan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) undecan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) undecane- -One, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) dodecan-1-one, 3-chloro-1- (4-methoxyphenyl) dodecan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) ) Dodecan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) dodecan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) -4,4-dimethylpentan-1-one, 3 -Chloro-1- (4-methoxyphenyl) -4,4-dimethylpentan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) -4,4-dimethylpentan-1-one, 3-iodo -1- (4-methoxyphenyl) -4,4-dimethylpentan-1-one, 3-fluoro-1- (4-methoxyphenyl) -3-cyclohexylpropan-1-one, 3-chloro-1- ( 4 -Methoxyphenyl) -3-cyclohexylpropan-1-one, 3-bromo-1- (4-methoxyphenyl) -3-cyclohexylpropan-1-one, 3-iodo-1- (4-methoxyphenyl) -3 -Cyclohexylpropan-1-one and the like.

本発明の上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類は、例えば、上記一般式(6)で示される1,3位が置換された3−ヒドロキシプロパン−1−オン類を、反応に不活性な溶媒中、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸と反応させることにより得ることができる。   The 1,3-position substituted 3-halogenopropan-1-ones represented by the general formula (5) of the present invention are substituted, for example, at the 1,3-position represented by the general formula (6). 3-Hydroxypropan-1-ones can be obtained by reacting with hydrogen halide or hydrohalic acid in a solvent inert to the reaction.

本発明の上記一般式(6)において、置換基Rは、メチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基を表し、具体的には、シクロヘキシル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が例示される。また、置換基Rは、フェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表し、具体的には、フェニル基、4−メトキシフェニル基、tert−ブチル基等が例示される。 In the above general formula (6) of the present invention, the substituent R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, specifically, a cyclohexyl group. , Isopropyl group, n-butyl group and the like. The substituent R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group, or a tert-butyl group, and specific examples thereof include a phenyl group, a 4-methoxyphenyl group, and a tert-butyl group.

本発明の方法において、上記一般式(6)で示される1,3位が置換された3−ヒドロキシプロパン−1−オン類は、従来公知の方法で調製することができる。例えば、アルデヒド類と、予めアセトフェノンとリチウムジイソプロピルアミドより調製したアセトフェノンのリチウムエノレートをテトラヒドロフラン(以下、THFと略す。)中、−60℃以下で反応させる方法や、アルデヒド類とアセトフェノンのシリルエノールエーテルを塩化チタン(IV)存在下、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒中、−20℃〜室温で反応させる方法等により容易に調製することができる。得られた1,3位が置換された3−ヒドロキシプロパン−1−オン類は、精製し、本発明の方法に使用しても良いし、また精製することなく本発明の方法に使用することも可能である。   In the method of the present invention, 3-hydroxypropan-1-ones substituted at the 1,3-position represented by the general formula (6) can be prepared by a conventionally known method. For example, a method of reacting aldehydes with lithium enolate of acetophenone prepared beforehand from acetophenone and lithium diisopropylamide in tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF) at −60 ° C. or lower, silyl enol ether of aldehydes and acetophenone Can be easily prepared by a reaction of -20 ° C. to room temperature in a halogenated hydrocarbon solvent such as dichloromethane in the presence of titanium (IV) chloride. The obtained 1,3-substituted 3-hydroxypropan-1-ones may be purified and used in the method of the present invention, or used in the method of the present invention without purification. Is also possible.

本発明の方法において、上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類の製造の際に使用するハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸としては、例えば、無水のハロゲン化水素、5〜36重量%のハロゲン化水素酸水溶液、ハロゲン化水素及びハロゲン化水素酸の混合物、ハロゲン化水素を有機溶剤に溶解させた溶液等が挙げられる。例えば、1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類を製造する場合には、無水の塩化水素、5〜36重量%の塩酸水溶液、塩化水素及び塩酸の混合物、塩化水素を有機溶剤に溶解させた溶液等を使用すればよい。また、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸は、反応に用いる1,3位が置換された3−ヒドロキシプロパン−1−オン類に対して、通常1〜100倍モル量使用する。   In the method of the present invention, the hydrogen halide or hydrohalic acid used in the production of 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-position represented by the general formula (5) is as follows: For example, anhydrous hydrogen halide, 5-36 wt% aqueous hydrohalic acid solution, a mixture of hydrogen halide and hydrohalic acid, a solution in which hydrogen halide is dissolved in an organic solvent, and the like can be mentioned. For example, in the case of producing 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-position, anhydrous hydrogen chloride, a 5-36 wt% hydrochloric acid aqueous solution, a mixture of hydrogen chloride and hydrochloric acid, hydrogen chloride A solution or the like dissolved in an organic solvent may be used. The hydrogen halide or hydrohalic acid is usually used in an amount of 1 to 100 times the molar amount of 3-hydroxypropan-1-one substituted at the 1,3-position used for the reaction.

本発明の方法において、上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類の製造の際に適用可能なハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸としては、具体的には、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等が挙げられる。   In the method of the present invention, as a hydrogen halide or hydrohalic acid applicable in the production of 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-positions represented by the general formula (5), Specific examples include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, and the like.

本発明の上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類の製造に使用可能な溶剤としては、反応に不活性なものであればあらゆるものが適用可能であるが、具体的には、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、THF等のエーテル類、クロロベンゼン、o−クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、ジクロロメタン、トルエン、THFであり、使用量としては、反応に用いる1,3位が置換された3−ヒドロキシプロパン−1−オン類に対して、通常3〜100重量倍量使用する。   Any solvent that is inert to the reaction can be used for the production of 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-position represented by the general formula (5) of the present invention. Specifically, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, and xylene, aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, diethyl ether, diisopropyl ether, Examples thereof include ethers such as THF, and halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and o-chlorobenzene. Of these, dichloromethane, toluene, and THF are preferable, and the amount used is usually 3 to 100 times by weight with respect to 3-hydroxypropan-1-one substituted at the 1,3-position used for the reaction. Use amount.

本発明の方法において、上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類を製造する際の反応温度及び時間としては、通常−40℃〜30℃の温度範囲で1〜12時間反応させる。   In the method of the present invention, the reaction temperature and time for producing 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-positions represented by the general formula (5) are usually from −40 ° C. to 30 ° C. The reaction is carried out in the temperature range of 1 to 12 hours.

本発明の方法において、1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類の製造後の後処理としては、大量の水を添加した後、分液し、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液により洗浄し、濃縮することにより粗製の1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類を得ることができる。得られた粗製1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することなく次反応に使用可能であるが、必要に応じて精製しても何等問題はない。   In the method of the present invention, as a post-treatment after the production of 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-positions, a large amount of water is added, followed by liquid separation, and then with an aqueous sodium bicarbonate solution. By washing and concentration, crude 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-position can be obtained. The obtained crude 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-position can be used in the next reaction without purification by silica gel column chromatography, but they can be purified if necessary. No problem.

本発明において、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体の製造方法としては、粗製又は精製後の上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類を、反応に不活性な溶剤中、塩基で処理する方法をとることができる。   In the present invention, the method for producing the enone derivative represented by the general formula (2) is a 3-halogenopropane-1-substituted at the 1,3-position represented by the general formula (5) after crude or purified. A method can be used in which ONs are treated with a base in a solvent inert to the reaction.

本発明の方法において、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体の製造の際に適用可能な塩基としては、特に限定するものではないが、具体的には、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン等のアミン類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等アルカリ金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が挙げられ、反応に用いる上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類に対して、通常1〜10倍モル量を使用する。また、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩を使用する場合は、固体をそのまま用いてもよく、水溶液として用いても良い。さらにアルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩を用いる場合は必要に応じてクラウンエーテル類、アンモニウム塩類等の相間移動触媒を用いても良い。   In the method of the present invention, the base applicable in the production of the enone derivative represented by the general formula (2) is not particularly limited, but specifically, triethylamine, pyridine, 4-dimethylamino Amines such as pyridine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like Examples include alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, and potassium carbonate, and 3-halogenopropane substituted at the 1,3-position represented by the general formula (5) used in the reaction. The molar amount is usually 1 to 10 times that of 1-ones. Moreover, when using alkali metal hydroxide or alkali metal carbonate, solid may be used as it is or may be used as an aqueous solution. Further, when an alkali metal hydroxide or an alkali metal carbonate is used, a phase transfer catalyst such as a crown ether or an ammonium salt may be used as necessary.

本発明の方法において、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体の製造に適用可能な溶剤としては、反応に不活性なものであれば、特に限定するものではないが、具体的には、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、THF等のエーテル類、クロロベンゼン、o−クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、ジクロロメタン、トルエン、THFであり、使用量としては反応に用いる上記一般式(5)で示される1,3位が置換された3−ハロゲノプロパン−1−オン類に対して通常3〜100重量倍量使用する。   In the method of the present invention, the solvent applicable to the production of the enone derivative represented by the general formula (2) is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. Specifically, Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, THF, chlorobenzene, o-chlorobenzene, etc. And halogenated aromatic hydrocarbons. Of these, dichloromethane, toluene, and THF are preferable, and the amount used is relative to 3-halogenopropan-1-ones substituted at the 1,3-positions represented by the above general formula (5) used in the reaction. Usually 3 to 100 times by weight is used.

本発明の方法において、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体を製造する際の反応温度及び時間としては、反応に使用する溶剤の種類及び塩基の種類により異なり、特に限定するものではないが、通常10〜70℃の温度範囲で1〜24時間の反応で反応は完結する。   In the method of the present invention, the reaction temperature and time for producing the enone derivative represented by the above general formula (2) vary depending on the type of solvent used in the reaction and the type of base, and are not particularly limited. Usually, the reaction is completed in a reaction for 1 to 24 hours in a temperature range of 10 to 70 ° C.

本発明の方法において、上記一般式(2)で示されるエノン誘導体の製造後の後処理としては、余剰の塩基類を酸で除去後、水洗、乾燥、濃縮し、次いで少量のシリカゲルで着色成分を除去することにより、目的物である上記一般式(2)で示されるエノン誘導体を高純度で得ることができる。   In the method of the present invention, the post-treatment after the production of the enone derivative represented by the general formula (2) is carried out by removing excess bases with an acid, washing with water, drying and concentrating, and then using a small amount of silica gel for coloring components. By removing, the enone derivative represented by the general formula (2), which is the target product, can be obtained with high purity.

本発明により、光学活性(2S,3R)−2,3−エポキシ−3−プロピオン酸及びその新規中間体、並びにそれらの工業的により安全な製造方法が提供される。   According to the present invention, optically active (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-propionic acid and a novel intermediate thereof, and an industrially safer production method thereof are provided.

また本発明においては、不斉酸化反応において触媒成分として使用される(R)−1,1’−ビ−2−ナフトールを、(S)−1,1’−ビ−2−ナフトールに置き換えることにより、本発明の化合物とは光学的に対照な(2R,3S)体の調製も可能となる。   In the present invention, (R) -1,1′-bi-2-naphthol used as a catalyst component in the asymmetric oxidation reaction is replaced with (S) -1,1′-bi-2-naphthol. This makes it possible to prepare (2R, 3S) isomers which are optically contrasted with the compounds of the present invention.

さらに本発明の方法によれば、新規な中間体を経由し、高純度の1,3位が置換されたエノン誘導体を得る方法が提供され、本発明は工業的に極めて有意義である。   Furthermore, according to the method of the present invention, a method for obtaining a highly pure enone derivative substituted at the 1,3-position via a novel intermediate is provided, and the present invention is very significant industrially.

以下、実施例により本発明の光学活性エポキシ化合物類、及びその製造方法について具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお化合物の分析については下記機器を使用し実施した。   EXAMPLES Hereinafter, the optically active epoxy compounds of the present invention and the production method thereof will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited only to these examples. In addition, about the analysis of the compound, it implemented using the following apparatus.

H−NMR及び13C−NMR測定)
Varian製Gemini−200を使用。
(1 H-NMR and 13 C-NMR measurement)
Uses Varian Gemini-200.

(赤外吸光測定)
Perkin Elmer製2000FT−IRを使用。
(Infrared absorption measurement)
Use Perkin Elmer 2000FT-IR.

(質量分析)
日立製M−80Bを使用。
(Mass spectrometry)
Use Hitachi M-80B.

(比旋光度)
堀場製作所製SEPA−300を使用。
(Specific rotation)
SEPA-300 manufactured by HORIBA, Ltd. is used.

参考例1
滴下ロート及び攪拌機を備えた、2000mlの3つ口フラスコを窒素置換した後、これにジイソプロピルアミン(98.3g,971mmol)及びTHF(540ml)を仕込み−70℃に冷却した。次いでこれにn−ブチルリチウム(15%ヘキサン溶液,394g,922mmol)を10分かけて滴下し、さらに同温度で1時間攪拌を行った。引き続き、同反応液に同温度で、アセトフェノン(116.7g,971mmol)を滴下し、同温度で3時間攪拌した後、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド(99.0g,883mmol)を添加、さらに2時間反応を行った。
Reference example 1
A 2000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer was purged with nitrogen, and diisopropylamine (98.3 g, 971 mmol) and THF (540 ml) were charged into the flask and cooled to -70 ° C. Next, n-butyllithium (15% hexane solution, 394 g, 922 mmol) was added dropwise thereto over 10 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. Subsequently, acetophenone (116.7 g, 971 mmol) was added dropwise to the same reaction solution at the same temperature. After stirring at the same temperature for 3 hours, cyclohexanecarboxaldehyde (99.0 g, 883 mmol) was added, and the reaction was further performed for 2 hours. It was.

反応終了後、0℃に冷却した飽和の塩化アンモニウム水溶液(287g)に反応液を添加、酢酸エチル(890ml×2回)で抽出、濃縮の後粗製のアルドール誘導体を得た。   After completion of the reaction, the reaction solution was added to a saturated aqueous ammonium chloride solution (287 g) cooled to 0 ° C., extracted with ethyl acetate (890 ml × 2), and concentrated to obtain a crude aldol derivative.

滴下ロート及び攪拌子を備えた、200mlの3つ口フラスコに得られたアルドール誘導体及びジクロロメタン(2000ml)を仕込み、0℃に冷却の後、これに濃硫酸(100g,1.01mol)を添加し、室温で1時間反応を行った。   The obtained aldol derivative and dichloromethane (2000 ml) were charged into a 200 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirring bar, cooled to 0 ° C., and concentrated sulfuric acid (100 g, 1.01 mol) was added thereto. The reaction was performed at room temperature for 1 hour.

反応終了後、水洗(500ml×2回)、飽和の重曹水洗浄(200ml×4回)、分液、乾燥、濃縮、次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=100/0〜90/10,vol/vol)で精製することにより目的物の1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン(156.5g,730mmol)を得た(収率83%)。   After completion of the reaction, washing with water (500 ml × 2 times), washing with saturated aqueous sodium bicarbonate (200 ml × 4 times), liquid separation, drying, concentration, followed by silica gel column chromatography (hexane / ethyl acetate = 100/0 to 90/10, The product 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one (156.5 g, 730 mmol) was obtained (yield 83%).

<分析結果>
融点:50−51℃
MS(m/z)=214[M+]
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.08−1.48(m,5H),1.60−1.98(m,5H),2.12−2.38(m,1H),6.82(d,J=7.8Hz,1H),7.02(dd,J=7.8,3.3Hz,1H),7.38−7.61(m,3H),7.86−7.98(m,2H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ25.8,26.0,31.9,41.0,123.3,128.3,128.4,132.4,138.1,154.7,191.1
IR(KBr):2921,2943,1663,1614,1443,1365,1273,1234,1019,985,692cm−1
<Analysis results>
Melting point: 50-51 ° C
MS (m / z) = 214 [M +]
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.08-1.48 (m, 5H), 1.60-1.98 (m, 5H), 2.12-2.38 (m, 1H), 6 .82 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.02 (dd, J = 7.8, 3.3 Hz, 1H), 7.38-7.61 (m, 3H), 7.86- 7.98 (m, 2H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 25.8, 26.0, 31.9, 41.0, 123.3, 128.3, 128.4, 132.4, 138.1, 154.7, 191.1
IR (KBr): 2921, 2943, 1663, 1614, 1443, 1365, 1273, 1234, 1019, 985, 692 cm −1 .

実施例1
滴下ロート及び攪拌機を備えた2000mlの3つ口フラスコを窒素置換した後、これに乾燥モレキュラーシーブス4A(200g)、(R)−1,1’−ビ−2−ナフトール(5.98g,20.9mmol)、トリフェニルフォスフィンオキシド(15.84g,56.9mmol)及びTHF(950ml)を仕込み溶解させた。次いでこれにランタントリイソプロポキシド(6.0g,19.0mmol)のTHF(40ml)溶液を添加し、室温で1時間攪拌の後、さらにクメンヒドロパーオキシド(80%濃度,6.1g,32.1mmol)を添加、引き続き室温で2時間攪拌を行った。
Example 1
A 2000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer was purged with nitrogen, and then dried molecular sieves 4A (200 g), (R) -1,1′-bi-2-naphthol (5.98 g, 20. 9 mmol), triphenylphosphine oxide (15.84 g, 56.9 mmol) and THF (950 ml) were charged and dissolved. Subsequently, a solution of lanthanum triisopropoxide (6.0 g, 19.0 mmol) in THF (40 ml) was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then cumene hydroperoxide (80% concentration, 6.1 g, 32). 0.1 mmol) was added, followed by stirring at room temperature for 2 hours.

反応液が緑色を呈したことを確認の後、0℃に冷却、別容器で調製した1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン(203.3g,949mmol)のTHF(457ml)溶液を滴下ロートに仕込み、1時間かけて滴下した後、さらに同温度で4時間反応を行った。   After confirming that the reaction solution was green, it was cooled to 0 ° C. and 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one (203.3 g, 949 mmol) in THF (457 ml) prepared in a separate container. The solution was placed in a dropping funnel and dropped over 1 hour, and then further reacted at the same temperature for 4 hours.

反応終了後、飽和の塩化アンモニウム水溶液(400ml)を添加、5%亜硫酸ナトリウム水溶液(225ml)を添加、ろ過、分液、水層をジクロロメタン(200ml×2回)で抽出、濃縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=100/0〜95/5,vol/vol)で精製することにより目的物の(2S,3R)−1−フェニル−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(174.8g,759mmol)を得た(収率80%)。   After completion of the reaction, saturated aqueous ammonium chloride solution (400 ml) was added, 5% aqueous sodium sulfite solution (225 ml) was added, filtration, liquid separation, and the aqueous layer were extracted with dichloromethane (200 ml × 2 times), concentrated, and silica gel column chromatography. (2S, 3R) -1-phenyl-2,3-epoxy-3-cyclohexylpropan-1-one of the target product by purification with (hexane / ethyl acetate = 100/0 to 95/5, vol / vol) (174.8 g, 759 mmol) was obtained (yield 80%).

<分析結果>
MS(m/z)=230[M+]
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.06−1.58(m,6H),1.61−2.00(m,5H),2.96(dd,J=3.3,1.0Hz,1H),4.09(d,J=1.0Hz,1H),7.44−7.67(m,3H),7.97−8.07(m,2H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ25.4,25.6,26.1,29.0,29.5,40.1,56.4,64.2,128.1,128.7,133.6,135.5,194.6
IR(KBr):2927,2853,1690,1598,1580,1450,1230,902,703,666cm−1
比旋光度[α] 20=−4.6°(C=1.11,CHCl
HPLC:Daicel製Chiralcel OB−H(4.6mmID×250mmL),ヘキサン/イソプロパノール=9/1(vol比),1.0ml/min,UV=254nm,6.9min(2S,3R),7.7min(2R,3S),98.0%ee。
<Analysis results>
MS (m / z) = 230 [M +]
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.06-1.58 (m, 6H), 1.61-2.00 (m, 5H), 2.96 (dd, J = 3.3, 1.. 0 Hz, 1H), 4.09 (d, J = 1.0 Hz, 1H), 7.44-7.67 (m, 3H), 7.97-8.07 (m, 2H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 25.4, 25.6, 26.1, 29.0, 29.5, 40.1, 56.4, 64.2, 128.1, 128.7, 133.6, 135.5, 194.6
IR (KBr): 2927, 2853, 1690, 1598, 1580, 1450, 1230, 902, 703, 666 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = −4.6 ° (C = 1.11, CHCl 3 )
HPLC: Daicel-made Chiralcel OB-H (4.6 mm ID × 250 mm L), hexane / isopropanol = 9/1 (vol ratio), 1.0 ml / min, UV = 254 nm, 6.9 min (2S, 3R), 7.7 min (2R, 3S), 98.0% ee.

実施例2
リービッヒコンデンサーを備えた2000mlのナス型フラスコに実施例1で得られた(2S,3R)−1−フェニル−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(40.5g,176mmol)、m−クロロ過安息香酸(70%純度,130g,527mmol)、トルエン(850ml)を仕込み、55℃で12時間反応を行った。
Example 2
(2S, 3R) -1-phenyl-2,3-epoxy-3-cyclohexylpropan-1-one (40.5 g, 176 mmol) obtained in Example 1 in a 2000 ml eggplant-shaped flask equipped with a Liebig condenser, m-Chloroperbenzoic acid (70% purity, 130 g, 527 mmol) and toluene (850 ml) were charged and reacted at 55 ° C. for 12 hours.

反応終了後、室温に冷却、析出物をろ過の後、さらにm−クロロ過安息香酸(70%純度,87g,353mmol)を反応液に添加し、55℃で12時間反応を行った。   After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, the precipitate was filtered, and m-chloroperbenzoic acid (70% purity, 87 g, 353 mmol) was further added to the reaction solution, followed by reaction at 55 ° C. for 12 hours.

反応終了後、室温まで冷却、5%の亜硫酸ナトリウム水溶液(500g)で余剰のm−クロロ過安息香酸を分解、析出物をろ過、飽和重曹水(200ml×6回)で洗浄、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=100/0〜95/5,vol/vol)で精製することにより目的物のフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオネート(34.7g,141mmol)を得た(収率80%)。   After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, the excess m-chloroperbenzoic acid was decomposed with a 5% aqueous sodium sulfite solution (500 g), the precipitate was filtered, washed with saturated aqueous sodium bicarbonate (200 ml × 6 times), and silica gel column chromatography. (Hexane / ethyl acetate = 100/0 to 95/5, vol / vol) to purify the target phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionate (34.7 g, 141 mmol) (yield 80%).

<分析結果>
融点:59−60℃
MS(m/z)=246[M+]
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.05−1.52(m,6H),1.61−1.97(m,5H),3.15(dd,J=3.2,1.0Hz,1H),3.50(d,J=1.0Hz,1H),7.08−7.45(m,5H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ25.4,25.6,26.1,28.8,29.3,39.5,51.9,63.0,121.1,126.1,129.4,150.1,168.0
IR(KBr):2931,2848,1769,1483,1449,1242,1184,1172,1156,972,881,777,722,690cm−1
比旋光度[α] 20=+13.5°(C=1.08,CHCl
HPLC:Daicel製Chiralcel OD−H(4.6mmID×250mmL),ヘキサン/イソプロパノール=9/1(vol比),1.0ml/min,UV=254nm,5.6min(2R,3S),7.3min(2S,3R),>99.0%ee。
<Analysis results>
Melting point: 59-60 ° C
MS (m / z) = 246 [M +]
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.05-1.52 (m, 6H), 1.61-1.97 (m, 5H), 3.15 (dd, J = 3.2, 1.. 0 Hz, 1 H), 3.50 (d, J = 1.0 Hz, 1 H), 7.08-7.45 (m, 5 H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 25.4, 25.6, 26.1, 28.8, 29.3, 39.5, 51.9, 63.0, 121.1, 126.1, 129.4, 150.1, 168.0
IR (KBr): 2931, 2848, 1769, 1483, 1449, 1242, 1184, 1172, 1156, 972, 881, 777, 722, 690 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 13.5 ° (C = 1.08, CHCl 3 )
HPLC: Daicel Chiralcel OD-H (4.6 mm ID × 250 mm L), hexane / isopropanol = 9/1 (vol ratio), 1.0 ml / min, UV = 254 nm, 5.6 min (2R, 3S), 7.3 min (2S, 3R),> 99.0% ee.

実施例3
滴下ロート及び攪拌機を備えた2000mlの3つ口フラスコに、実施例2で得られたフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオネート(54.0g,219mmol)及びメタノール(437ml)を仕込み、0℃に冷却した。次いでこれに4%の水酸化ナトリウム水溶液(250g,250mmol)を1時間かけて添加し、さらに同温度で2時間反応を行った。
Example 3
To a 2000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer, phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionate (54.0 g, 219 mmol) and methanol obtained in Example 2 were added. (437 ml) was charged and cooled to 0 ° C. Next, 4% aqueous sodium hydroxide solution (250 g, 250 mmol) was added to this over 1 hour, and the reaction was further carried out at the same temperature for 2 hours.

反応終了後、リン酸二水素ナトリウム・2水和物(3.42g)を添加した後、溶剤を留去、水(250ml)を添加、ジクロロメタン(50ml×4回)で抽出、次いでリン酸二水素ナトリウム・2水和物(116g)を添加した後、酢酸エチル(50ml×4回)抽出、次いで10%塩酸水溶液(200ml)を添加し、PHを3とした後、酢酸エチル(50ml×3回)抽出、乾燥、濃縮することにより粗製の(2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸(20.5g)を得た。得られた粗製物をn−へプタン/トルエン=2/1(vol/vol)で再結晶することにより目的物の(2S,3R)−2,3−エポキシ−3−シクロヘキシルプロピオン酸(18.0g,106mmol)を得た(収率48%)。   After completion of the reaction, sodium dihydrogen phosphate dihydrate (3.42 g) was added, the solvent was distilled off, water (250 ml) was added, extracted with dichloromethane (50 ml × 4 times), and then dibasic phosphate. Sodium hydrogen dihydrate (116 g) was added, followed by extraction with ethyl acetate (50 ml × 4 times), followed by addition of 10% aqueous hydrochloric acid (200 ml) to adjust the pH to 3, followed by ethyl acetate (50 ml × 3 (Times) Extraction, drying and concentration gave crude (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionic acid (20.5 g). The obtained crude product was recrystallized with n-heptane / toluene = 2/1 (vol / vol) to give (2S, 3R) -2,3-epoxy-3-cyclohexylpropionic acid (18. 0 g, 106 mmol) was obtained (yield 48%).

<分析結果>
融点:64−65℃
MS(m/z)=170[M+]
H−NMR(200MHz,CDCl)δ0.98−1.48(m,6H),1.56−1.94(m,5H),3.03(dd,J=3.1,1.0Hz,1H),3.32(d,J=1.0Hz,1H),10.85−11.23(br,1H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ25.4,25.5,26.0,28.7,29.2,39.4,51.4,63.1,175.2
IR(KBr):3009,2929,2851,1715,1638,1448,1252,902,882,678cm−1
比旋光度[α] 20=+20.8°(C=1.04,CHCl
HPLC:Daicel製Chiralcel OD−H(4.6mmID×250mmL),ヘキサン/イソプロパノール/トリフルオロ酢酸=95/5/0.5(vol比),1.0ml/min,UV=210nm,6.5min(2R,3S),7.2min(2S,3R),>99.0%ee。
<Analysis results>
Melting point: 64-65 ° C
MS (m / z) = 170 [M +]
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 0.98-1.48 (m, 6H), 1.56-1.94 (m, 5H), 3.03 (dd, J = 3.1, 1.. 0 Hz, 1H), 3.32 (d, J = 1.0 Hz, 1H), 10.85-11.23 (br, 1H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 25.4, 25.5, 26.0, 28.7, 29.2, 39.4, 51.4, 63.1, 175.2
IR (KBr): 3009, 2929, 2851, 1715, 1638, 1448, 1252, 902, 882, 678 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 20.8 ° (C = 1.04, CHCl 3 )
HPLC: Daicel Chiralcel OD-H (4.6 mm ID × 250 mm L), hexane / isopropanol / trifluoroacetic acid = 95/5 / 0.5 (vol ratio), 1.0 ml / min, UV = 210 nm, 6.5 min ( 2R, 3S), 7.2 min (2S, 3R),> 99.0% ee.

実施例4
1−フェニル−3−シクロへキシル−2−プロペン−1−オンに替え、1−フェニル−4−メチル−2−ペンテン−1−オンに替えた以外は実施例1と同じ操作を行い、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オンを収率92%、光学純度96%で得た。
Example 4
The same operation as in Example 1 was carried out except that 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one was replaced with 1-phenyl-4-methyl-2-penten-1-one, ( 2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl-4-methylpentan-1-one was obtained with a yield of 92% and an optical purity of 96%.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.07(d,J=7.0Hz,3H),1.14(d,J=7.0Hz,3H)、1.62−1.84(m,1H)、2.97(dd,J=6.6,1.8Hz,1H)、4.07(d,J=1.8Hz,1H)、7.48−7.66(m,3H)、8.02−8.08(m,2H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ18.4,19.0,30.7,56.6,65.1,128.2,128.8,133.7,194.6
MASS(m/z)=190[M+]
IR(KBr)3062,2965,2872,1692,1598,1470,1450,1367,1285,1230,1180,1075,943,891,831,697,665cm−1
比旋光度[α] 20=−24.0°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値C1214:C,75.76;H,7.42
測定値 :C,75.68;H,7.39。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.07 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.14 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.62-1.84 (m, 1H), 2.97 (dd, J = 6.6, 1.8 Hz, 1H), 4.07 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.48-7.66 (m, 3H), 8.02-8.08 (m, 2H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 18.4, 19.0, 30.7, 56.6, 65.1, 128.2, 128.8, 133.7, 194.6
MASS (m / z) = 190 [M +]
IR (KBr) 3062, 2965, 2872, 1692, 1598, 1470, 1450, 1367, 1285, 1230, 1180, 1075, 943, 891, 831, 697, 665 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = −24.0 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 12 H 14 O 2: C , 75.76; H, 7.42
Measurement: C, 75.68; H, 7.39.

実施例5
実施例4で得られた(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニル−4−メチルペンタン−1−オンを用いた以外実施例2と同じ操作で、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタノエートを収率68%で得た。
Example 5
In the same manner as in Example 2 except that (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenyl-4-methylpentan-1-one obtained in Example 4 was used, phenyl (2S, 3R)- 2,3-epoxy-4-methylpentanoate was obtained with a yield of 68%.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.06(d,J=6.6Hz,3H),1.08(d,J=6.6Hz,3H)、1.62−1.84(m,1H)、3.14(dd,J=6.2,1.8Hz,1H)、4.48(d,J=1.8Hz,1H)、7.10−7.34(m,5H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ18.3,18.8,30.1,52.0,63.9,121.2,125.3,126.2,128.2,129.0,129.5,167.9
MASS(m/z)=206[M+]
IR(KBr)2967,2874,1774,1754,1593,1493,1451,1353,1266,1194,1169,969,895,713,688cm−1
比旋光度[α] 20=−6.2°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値C1214:C,69.88;H,6.84
測定値 :C,70.01;H,6.66。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.06 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.08 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.62-1.84 (m, 1H), 3.14 (dd, J = 6.2, 1.8 Hz, 1H), 4.48 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 7.10-7.34 (m, 5H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 18.3, 18.8, 30.1, 52.0, 63.9, 121.2, 125.3, 126.2, 128.2, 129.0, 129.5, 167.9
MASS (m / z) = 206 [M +]
IR (KBr) 2967, 2874, 1774, 1754, 1593, 1493, 1451, 1353, 1266, 1194, 1169, 969, 895, 713, 688 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = −6.2 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 12 H 14 O 3: C , 69.88; H, 6.84
Measurement: C, 70.01; H, 6.66.

実施例6
実施例5で得られたフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタノエートを実施例3と同じ操作で反応を行い(2S,3R)−2,3−エポキシ−4−メチルペンタン酸を収率85%で得た。
Example 6
The phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxy-4-methylpentanoate obtained in Example 5 was reacted in the same manner as in Example 3 (2S, 3R) -2,3-epoxy-4. -Obtained methylpentanoic acid in 85% yield.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.00(d,J=7.0Hz,3H),1.05(d,J=7.0Hz,3H)、1.59−1.78(m,1H)、3.03(dd,J=5.6,1.8Hz,1H)、3.31(d,J=1.8Hz,1H)、11.1(bs,1H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ18.1,18.7,30.1,51.6,64.0,175.2
MASS(m/z)=152[M+]
IR(KBr)3050,2968,1725,1452,1369,1284,1220,895,821,666cm−1
比旋光度[α] 20=+2.7°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値C10:C,55.37;H,7.74
測定値 :C,55.22;H,7.58。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.00 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.05 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.59-1.78 (m, 1H), 3.03 (dd, J = 5.6, 1.8 Hz, 1H), 3.31 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 11.1 (bs, 1H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 18.1, 18.7, 30.1, 51.6, 64.0, 175.2
MASS (m / z) = 152 [M +]
IR (KBr) 3050, 2968, 1725, 1452, 1369, 1284, 1220, 895, 821, 666 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 2.7 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 6 H 10 O 3: C , 55.37; H, 7.74
Measurement: C, 55.22; H, 7.58.

実施例7
1−フェニル−3−シクロへキシル−2−プロペン−1−オンに替え、1−フェニル−−2−ヘプテン−1−オンに替えた以外は実施例1と同じ操作を行い、(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルヘプタン−1−オンを収率89%、光学純度92%で得た。
Example 7
The same operation as in Example 1 was carried out except that 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one was replaced with 1-phenyl-2-hepten-1-one, and (2S, 3R ) -2,3-epoxy-1-phenylheptan-1-one was obtained in 89% yield and 92% optical purity.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ0.94(r,J=7.0Hz,3H),1.40−1.84(m,6H)、3.14(dt,J=5.8,1.8Hz,1H)、4.02(d,J=1.8Hz,1H)、7.48−7.66(m,3H)、8.02−8.08(m,2H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ14.0,22.5,28.0,31.7,57.5,60.1,128.2,128.5,128.8,133.7,194.6
MASS(m/z)=204[M+]
IR(KBr)2959,2993,2872,1690,1598,1450,1426,1231,1002,937,906,765,735,699cm−1
比旋光度[α] 20=+7.3°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値C1316:C,76.44;H,7.90
測定値 :C,76.68;H,7.99。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 0.94 (r, J = 7.0 Hz, 3H), 1.40-1.84 (m, 6H), 3.14 (dt, J = 5.8, 1.8Hz, 1H), 4.02 (d, J = 1.8Hz, 1H), 7.48-7.66 (m, 3H), 8.02-8.08 (m, 2H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 14.0, 22.5, 28.0, 31.7, 57.5, 60.1, 128.2, 128.5, 128.8, 133.7, 194.6
MASS (m / z) = 204 [M +]
IR (KBr) 2959, 2993, 2872, 1690, 1598, 1450, 1426, 1231, 1002, 937, 906, 765, 735, 699 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 7.3 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 13 H 16 O 2: C , 76.44; H, 7.90
Measurement: C, 76.68; H, 7.9.

実施例8
実施例7で得られた(2S,3R)−2,3−エポキシ−1−フェニルヘプタン−1−オンを用いた以外実施例2と同じ操作で、フェニル (2S,3R)−2,3−エポキシヘプタノエートを収率65%で得た。
Example 8
In the same manner as in Example 2, except that (2S, 3R) -2,3-epoxy-1-phenylheptan-1-one obtained in Example 7 was used, phenyl (2S, 3R) -2,3- Epoxyheptanoate was obtained with a yield of 65%.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ0.94(t,J=7.2Hz,3H)、1.33−1.82(m,1H)、3.33(dt,J=6.2,1.8Hz,1H)、3.44(d,J=1.8Hz,1H)、7.06−7.48(m,5H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ14.0,22.5,27.9,31.2,53.0,59.0,121.2,125.3,126.2,128.2,128.4,129.0,129.5,129.8,167.8
MASS(m/z)=220[M+]
IR(KBr)2958,2933,2873,1773,1753,1593,1493,1455,1344,1266,1194,1169,1108,1070,1026,956,688cm−1
比旋光度[α] 20=+15.4°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値C1316:C,70.89;H,7.32
測定値 :C,70.76;H,7.56。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 0.94 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.33-1.82 (m, 1H), 3.33 (dt, J = 6.2) 1.8Hz, 1H), 3.44 (d, J = 1.8Hz, 1H), 7.06-7.48 (m, 5H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 14.0, 22.5, 27.9, 31.2, 53.0, 59.0, 121.2, 125.3, 126.2, 128.2 128.4, 129.0, 129.5, 129.8, 167.8
MASS (m / z) = 220 [M +]
IR (KBr) 2958, 2933, 2873, 1773, 1753, 1593, 1493, 1455, 1344, 1266, 1194, 1169, 1108, 1070, 1026, 956, 688 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 15.4 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 13 H 16 O 3: C , 70.89; H, 7.32
Measurement: C, 70.76; H, 7.56.

実施例9
実施例8で得られたフェニル (2S,3R)−2,3−エポキシヘプタンノエートを実施例3と同じ操作で反応を行い(2S,3R)−2,3−エポキシヘプタン酸を収率72%で得た。
Example 9
The phenyl (2S, 3R) -2,3-epoxyheptanonoate obtained in Example 8 was reacted in the same manner as in Example 3 to obtain (2S, 3R) -2,3-epoxyheptanoic acid in a yield of 72. %.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ0.92(t,J=7.0Hz,3H)、1.26−1.72(m,6H)、3.19(m,1H)、3.25(bs,1H)、9.66(bs,1H)
13C−NMR(50MHz,CDCl)δ13.9,22.4,27.8,31.2,52.8,59.0,174.6
MASS(m/z)=144[M+]
IR(KBr)3070,2959,2935,2874,1736,1460,1378,1243,1046,901,667cm−1
比旋光度[α] 20=+20.4°(C=1.00,CHCl
元素分析 計算値 C12:C,58.32;H,8.39
測定値 :C,58.12;H,8.21。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 0.92 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 1.26-1.72 (m, 6H), 3.19 (m, 1H), 3.25 (Bs, 1H), 9.66 (bs, 1H)
13 C-NMR (50 MHz, CDCl 3 ) δ 13.9, 22.4, 27.8, 31.2, 52.8, 59.0, 174.6
MASS (m / z) = 144 [M +]
IR (KBr) 3070, 2959, 2935, 2874, 1736, 1460, 1378, 1243, 1046, 901, 667 cm −1
Specific rotation [α] D 20 = + 20.4 ° (C = 1.00, CHCl 3 )
Analysis Calculated C 7 H 12 O 3: C , 58.32; H, 8.39
Measurement: C, 58.12; H, 8.21.

以下、実施例により本発明のβ−ハロゲノケトン誘導体、その製造方法及びそれを用いたエノン誘導体の製造方法について具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお化合物の分析については以下に示す機器を使用して実施した。   Hereinafter, although the example demonstrates the β-halogenoketone derivative of the present invention, the production method thereof, and the production method of the enone derivative using the same, the present invention is not limited to these examples. In addition, about the analysis of the compound, it implemented using the apparatus shown below.

H−NMR及び13C−NMR測定)
Varian製Gemini−200を使用。
(1 H-NMR and 13 C-NMR measurement)
Uses Varian Gemini-200.

(HPLCによる純度測定)
東ソー製CCPM,東ソー製TSKgel80TQA(4.6mmID×150mmL)、東ソー製UV−8020検出器(UV=254nm)、溶離液:アセトニトリル/水=9/1(vol/vol)、1ml/minで測定。
(Purity measurement by HPLC)
Tosoh CCPM, Tosoh TSKgel80TQA (4.6 mm ID × 150 mmL), Tosoh UV-8020 detector (UV = 254 nm), eluent: acetonitrile / water = 9/1 (vol / vol), measured at 1 ml / min.

調製例1
滴下ロート及び攪拌機を備えた、2000mlの3つ口フラスコを窒素置換した後、これにジイソプロピルアミン(98.3g,971mmol)及びTHF(540ml)を仕込み−70℃に冷却した。次いでこれにn−ブチルリチウム(15%ヘキサン溶液,394g,922mmol)を10分かけて滴下し、さらに同温度で1時間攪拌を行った。引き続き、同反応液に同温度で、アセトフェノン(116.7g,971mmol)を滴下し、同温度で3時間攪拌した後、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド(99.0g,883mmol)を添加、さらに2時間反応を行った。
Preparation Example 1
A 2000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer was purged with nitrogen, and diisopropylamine (98.3 g, 971 mmol) and THF (540 ml) were charged into the flask and cooled to -70 ° C. Next, n-butyllithium (15% hexane solution, 394 g, 922 mmol) was added dropwise thereto over 10 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. Subsequently, acetophenone (116.7 g, 971 mmol) was added dropwise to the same reaction solution at the same temperature. After stirring at the same temperature for 3 hours, cyclohexanecarboxaldehyde (99.0 g, 883 mmol) was added, and the reaction was further performed for 2 hours. It was.

反応終了後、0℃に冷却した飽和の塩化アンモニウム水溶液(287g)に反応液を添加、酢酸エチル(890ml×2回)で抽出、濃縮の後粗製の1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンを得た(194.8g,855mmol)。   After completion of the reaction, the reaction solution was added to a saturated aqueous ammonium chloride solution (287 g) cooled to 0 ° C., extracted with ethyl acetate (890 ml × 2), concentrated, and then crude 1-phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexyl. Propan-1-one was obtained (194.8 g, 855 mmol).

実施例10
滴下ロート及び攪拌子を備えた、2000mlの3つ口フラスコに調製例1で得られた1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(93.5g,402mmol)及びジクロロメタン(850g)を仕込み、−10℃に冷却した後、これに36%塩酸(180g,1.78mol)を30分かけて滴下し、さらに同温度で2時間反応を行った。
Example 10
1-Phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexylpropan-1-one (93.5 g, 402 mmol) obtained in Preparation Example 1 and dichloromethane (850 g) in a 2000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirring bar ) And cooled to −10 ° C., 36% hydrochloric acid (180 g, 1.78 mol) was added dropwise thereto over 30 minutes, and the reaction was further carried out at the same temperature for 2 hours.

反応終了後、水(700ml)を添加、攪拌後、分液、飽和の重曹水(250ml×3回)で洗浄の後、濃縮することにより1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(95.9g,382mmol)を収率95%で得た。   After completion of the reaction, water (700 ml) was added, stirred, separated, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (250 ml × 3 times), and concentrated to give 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropane-1. -On (95.9 g, 382 mmol) was obtained in 95% yield.

<分析結果>
H−NMR(200MHz,CDCl)δ1.08−1.51(5H,m),1.58−1.95(6H,m),3.23(1H,dd,J=4.4Hz,16.8Hz),3.56(1H,dd,J=8.8Hz,16.8Hz),4.52(1H,ddd,J=4.4Hz,4.4Hz,8.8Hz),7.42−7.65(3H,m),7.96(2H,d,J=7.0Hz)。
<Analysis results>
1 H-NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ 1.08-1.51 (5H, m), 1.58-1.95 (6H, m), 3.23 (1H, dd, J = 4.4 Hz, 16.8 Hz), 3.56 (1 H, dd, J = 8.8 Hz, 16.8 Hz), 4.52 (1 H, ddd, J = 4.4 Hz, 4.4 Hz, 8.8 Hz), 7.42 −7.65 (3H, m), 7.96 (2H, d, J = 7.0 Hz).

実施例11
調製例1と同じ製造方法で得られた1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンを原料とし、36%塩酸(180g)を15%塩酸(250ml)に替えた以外、実施例10と同じ反応及び後処理操作を行い、目的物の1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(92.0g,366mmol)を収率91%で得た。
Example 11
The procedure was carried out except that 1-phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexylpropan-1-one obtained by the same production method as in Preparation Example 1 was used as a raw material, and 36% hydrochloric acid (180 g) was replaced with 15% hydrochloric acid (250 ml). The same reaction and post-treatment operation as in Example 10 were carried out to obtain the desired product 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropan-1-one (92.0 g, 366 mmol) in a yield of 91%.

実施例12
調製例1と同じ製造方法で得られた1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンを原料とし、塩酸(180g)を塩化水素ガス(20℃,12300ml,511mmol)に替え、−20℃で反応を行った以外、実施例10と同じ反応及び後処理操作を行い、目的物の1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(97.1g,407mmol)を収率96%で得た。
Example 12
Using 1-phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexylpropan-1-one obtained by the same production method as in Preparation Example 1 as a raw material, hydrochloric acid (180 g) was replaced with hydrogen chloride gas (20 ° C., 12300 ml, 511 mmol), Except that the reaction was carried out at −20 ° C., the same reaction and post-treatment operations as in Example 10 were carried out to obtain the target 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropan-1-one (97.1 g, 407 mmol). The yield was 96%.

実施例13
滴下ロート及び攪拌機を備えた1000mlの3つ口フラスコに、実施例10で得られた1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(50g,199mmol)及びジクロロメタン(300g)を仕込み0℃に冷却した。次いでこれに、トリエチルアミン(30g,296mmol)を1時間かけて滴下後、45℃に加熱し、同温度で4時間反応を行った。
Example 13
A 1000 ml three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer was charged with 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropan-1-one (50 g, 199 mmol) obtained in Example 10 and dichloromethane (300 g). Cooled to 0 ° C. Next, triethylamine (30 g, 296 mmol) was added dropwise thereto over 1 hour, followed by heating to 45 ° C. and reaction at the same temperature for 4 hours.

反応終了後、室温に冷却、水洗(150ml)、1N−塩酸洗浄(150ml×2回)、飽和重曹水洗浄(240ml×2回)行い、乾燥、濃縮することにより粗製の1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オンを得た。さらにシリカゲル(50g)を充填したショートカラムで精製することにより目的物の1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン(40.6g,189mmol)を得た(収率95%)。またHPLCによる純度測定結果は97%であった。   After completion of the reaction, cooling to room temperature, washing with water (150 ml), washing with 1N hydrochloric acid (150 ml × 2 times), washing with saturated aqueous sodium bicarbonate (240 ml × 2 times), drying and concentrating to give crude 1-phenyl-3- Cyclohexyl-2-propen-1-one was obtained. Further, purification was carried out with a short column packed with silica gel (50 g) to obtain the target 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one (40.6 g, 189 mmol) (yield 95%). The purity measurement result by HPLC was 97%.

実施例14
実施例10と同じ製造方法で得られた1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンを用い、トリエチルアミン(30g,296mmol)を4−ジメチルアミノピリジン(26.9g,220mmol)、反応温度を20℃とした以外、実施例13と同じ反応操作及び後処理を行った。
Example 14
Using 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropan-1-one obtained by the same production method as in Example 10, triethylamine (30 g, 296 mmol) was replaced with 4-dimethylaminopyridine (26.9 g, 220 mmol), The same reaction operation and post-treatment were performed as in Example 13, except that the reaction temperature was 20 ° C.

得られた1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン(41.5g,193mmol)は収率97%で、HPLC純度は98%であった。   The obtained 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one (41.5 g, 193 mmol) was in a yield of 97% and HPLC purity was 98%.

実施例15
実施例11と同じ製造方法で得られた1−フェニル−3−クロロ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オンを用い、トリエチルアミン(30g,296mmol)を炭酸ナトリウム(53.0g,500mmol)、18−クラウン−6−エーテル(2g)、反応温度を50℃とした以外、実施例13と同じ反応操作及び後処理を行った。
Example 15
Using 1-phenyl-3-chloro-3-cyclohexylpropan-1-one obtained by the same production method as in Example 11, triethylamine (30 g, 296 mmol) was added to sodium carbonate (53.0 g, 500 mmol), 18-crown. The same reaction operation and post-treatment were performed as in Example 13, except that -6-ether (2 g) and the reaction temperature were 50 ° C.

得られた1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロペン−1−オン(39.7g,185mmol)は収率93%で、HPLC純度は94%であった。   The obtained 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propen-1-one (39.7 g, 185 mmol) had a yield of 93% and an HPLC purity of 94%.

実施例16
調製例1に従い2−メチルプロパナールとアセトフェノンにより調製した1−フェニル−4−メチル−3−ヒドロキシペンタン−1−オンを、実施例10と同じ操作で反応を行い1−フェニル−4−メチル−3−クロロペンタン−1−オンを収率92%で得た。
Example 16
1-phenyl-4-methyl-3-hydroxypentan-1-one prepared with 2-methylpropanal and acetophenone according to Preparation Example 1 was reacted in the same manner as in Example 10 to give 1-phenyl-4-methyl- 3-Chloropentan-1-one was obtained in 92% yield.

<分析結果>
H−NMR(CDCl,200MHz)δ1.05(d,J=6.8Hz,3H),1.12(d,J=6.8Hz,3H)、2.09(m,1H)、3.21(dd,J=16.0,4.2Hz,1H)、3.59(dd,J=16.0,8.0Hz,1H)、4.58(m,1H)、7.46−7.66(m,3H)、7.92−8.04(m,2H)
MASS(m/z)=210[M+]
元素分析 計算値C1215ClO:C,68.40;H,7.18
測定値 :C,68.43;H,7.17。
<Analysis results>
1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ 1.05 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.12 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 2.09 (m, 1H), 3 .21 (dd, J = 16.0, 4.2 Hz, 1H), 3.59 (dd, J = 16.0, 8.0 Hz, 1H), 4.58 (m, 1H), 7.46− 7.66 (m, 3H), 7.92-8.04 (m, 2H)
MASS (m / z) = 210 [M +]
Analysis Calculated C 12 H 15 ClO: C, 68.40; H, 7.18
Measurement: C, 68.43; H, 7.17.

実施例17
実施例16で得られた1−フェニル−4−メチル−3−ヒドロキシペンタン−1−オンを実施例13と同じ操作で反応を行い1−フェニル−4−メチル−2−ペンテン−1−オンを収率89%、純度96%で得た。
Example 17
The 1-phenyl-4-methyl-3-hydroxypentan-1-one obtained in Example 16 was reacted in the same manner as in Example 13 to give 1-phenyl-4-methyl-2-penten-1-one. The yield was 89% and the purity was 96%.

<分析結果>
H−NMR(CDCl,200MHz)δ1.13(d,J=6.8Hz,6H)、2.48−2.66(m,1H)、6.82(d,J=7.9Hz,1H)、7.04(dd,J=15.8,6.6Hz,1H)、7.42−7.59(m,3H)、7.90−7.99(m,2H)
13C−NMR(CDCl)δ21.5,31.6,123.1,128.2,128.4,128.5,132.5,138.1,155.9,191.2
MASS(m/z)=174[M+]
IR(KBr)3060,2963,2870,1670,1621,1465,1447,1354,1304,1270,1217,1018,983,960,772,697,660cm−1
元素分析;計算値C1214O:C,82.72;H,8.10
測定値 :C,82.78;H,8.20。
<Analysis results>
1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ 1.13 (d, J = 6.8 Hz, 6H), 2.48-2.66 (m, 1H), 6.82 (d, J = 7.9 Hz, 1H), 7.04 (dd, J = 15.8, 6.6 Hz, 1H), 7.42-7.59 (m, 3H), 7.90-7.99 (m, 2H)
13 C-NMR (CDCl 3 ) δ 21.5, 31.6, 123.1, 128.2, 128.4, 128.5, 132.5, 138.1, 155.9, 191.2
MASS (m / z) = 174 [M +]
IR (KBr) 3060, 2963, 2870, 1670, 1621, 1465, 1447, 1354, 1304, 1270, 1217, 1018, 983, 960, 772, 697, 660 cm −1
Elemental analysis; Calculated C 12 H 14 O: C, 82.72; H, 8.10
Measurement: C, 82.78; H, 8.20.

実施例18
調製例1に従いn−ペンタナールとアセトフェノンにより調製した1−フェニル−3−ヒドロキシヘプタン−1−オンを、実施例10と同じ操作で反応を行い1−フェニル−3−クロロへプタン−1−オンを収率92%で得た。
Example 18
1-phenyl-3-hydroxyheptan-1-one prepared with n-pentanal and acetophenone according to Preparation Example 1 was reacted in the same manner as in Example 10 to give 1-phenyl-3-chloroheptan-1-one. The yield was 92%.

<分析結果>
H−NMR(CDCl,200MHz)δ0.93(t,J=6.8Hz,3H),1.30−1.95(m,6H)、3.27(dd,J=18.0,3.2Hz,1H)、3.59(dd,J=18.0,3.2Hz,1H)、4.58(m,1H)、7.44−7.64(m,3H)、7.95−8.06(m,2H)
MASS(m/z)=224[M+]
元素分析 計算値C1317ClO:C,69.48;H,7.62
測定値 :C,69.45;H,7.60。
<Analysis results>
1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ 0.93 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.30-1.95 (m, 6H), 3.27 (dd, J = 18.0, 3.2 Hz, 1 H), 3.59 (dd, J = 18.0, 3.2 Hz, 1 H), 4.58 (m, 1 H), 7.44-7.64 (m, 3 H), 7. 95-8.06 (m, 2H)
MASS (m / z) = 224 [M +]
Analysis Calculated C 13 H 17 ClO: C, 69.48; H, 7.62
Measurement: C, 69.45; H, 7.60.

実施例19
実施例18で得られた1−フェニル−4−メチル−3−クロロへプタン−1−オンを実施例13と同じ操作で反応を行い1−フェニル−2−ヘプテン−1−オンを収率85%、純度98%で得た。
Example 19
The 1-phenyl-4-methyl-3-chloroheptan-1-one obtained in Example 18 was reacted in the same manner as in Example 13 to obtain 1-phenyl-2-hepten-1-one in a yield of 85. %, Purity 98%.

<分析結果>
H−NMR(CDCl,200MHz)δ0.93(t,J=6.8Hz,3H)、1.32−1.57(m,4H)、2.26(m,2H)、6.70(d,J=14.0Hz,1H)、7.04(dt,J=14.0,6.6Hz,1H)、7.42−7.59(m,3H)、7.88−7.99(m,2H)
13C−NMR(CDCl)δ13.9,22.4,30.4,32.6,125.8,128.2,128.4,128.5,132.5,138.0,150.0,190.8
MASS(m/z)=188[M+]
IR(KBr)3060,2958,2930,2872,1671,1621,1448,1358,1282,1265,1223,1004,983,924,760,693cm−1
元素分析; 計算値C1316O:C,82.94;H,8.57
測定値 :C,82.78;H,8.40。
<Analysis results>
1 H-NMR (CDCl 3 , 200 MHz) δ 0.93 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.32-1.57 (m, 4H), 2.26 (m, 2H), 6.70 (D, J = 14.0 Hz, 1H), 7.04 (dt, J = 14.0, 6.6 Hz, 1H), 7.42-7.59 (m, 3H), 7.88-7. 99 (m, 2H)
13 C-NMR (CDCl 3 ) δ 13.9, 22.4, 30.4, 32.6, 125.8, 128.2, 128.4, 128.5, 132.5, 138.0, 150. 0, 190.8
MASS (m / z) = 188 [M +]
IR (KBr) 3060, 2958, 2930, 2872, 1671, 1621, 1448, 1358, 1282, 1265, 1223, 1004, 983, 924, 760, 693 cm −1
Elemental analysis; Calculated C 13 H 16 O: C, 82.94; H, 8.57
Measurement: C, 82.78; H, 8.40.

比較例1
実施例10で得られた1−フェニル−3−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルプロパン−1−オン(50g,215mmol)を用い、36%塩酸を濃硫酸(100g,1.01mol)に替え、0℃で2時間反応を行った。
Comparative Example 1
Using 1-phenyl-3-hydroxy-3-cyclohexylpropan-1-one (50 g, 215 mmol) obtained in Example 10, 36% hydrochloric acid was replaced with concentrated sulfuric acid (100 g, 1.01 mol) at 0 ° C. The reaction was performed for 2 hours.

反応終了後、水洗(500ml×2回)、飽和の重曹水洗浄(200ml×4回)、分液、乾燥、濃縮することにより、粗製の1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロパン−1−オンを得た。   After completion of the reaction, washing with water (500 ml × 2 times), washing with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (200 ml × 4 times), liquid separation, drying, and concentration gave crude 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propane-1- Got on.

得られた粗製の1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロパン−1−オンをシリカゲル(50g)によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーでの精製を行い目的物1−フェニル−3−シクロヘキシル−2−プロパン−1−オン(36.3g,169mmol)を得たが、HPLC測定において純度83%と低純度であった。
The obtained crude 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propan-1-one was purified by silica gel column chromatography using silica gel (50 g) to obtain the desired product 1-phenyl-3-cyclohexyl-2-propane-1. -On (36.3 g, 169 mmol) was obtained, which had a low purity of 83% in HPLC measurement.

Claims (4)

下記一般式(2)
Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
で示されるエノン誘導体を、ランタノイドトリイソプロポキシド、(R)−1,1’−ビ−2−ナフトール及びトリフェニルフォスフィンオキシドからなる触媒の存在下、クメンヒドロパーオキシド又はtert−ブチルヒドロパーオキシドにより不斉酸化することを特徴とする下記一般式(1)
Figure 0004534457
(式中、Rはメチル基、エチル基、又は炭素数3〜10の分岐、直鎖若しくは環式のアルキル基を表し、Rはフェニル基、置換フェニル基又はtert−ブチル基を表す。)
に記載の光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法。
The following general formula (2)
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
In the presence of a catalyst comprising lanthanoid triisopropoxide, (R) -1,1′-bi-2-naphthol and triphenylphosphine oxide. The following general formula (1) characterized by asymmetric oxidation with an oxide
Figure 0004534457
(Wherein R 1 represents a methyl group, an ethyl group, or a branched, straight-chain or cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a phenyl group, a substituted phenyl group or a tert-butyl group. )
A process for producing the optically active epoxy enone derivative described in 1.
一般式(1)及び一般式(2)において、置換基Rが、シクロヘキシル基、イソプロピル基又はn−ブチル基であることを特徴とする請求項1に記載の光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法The method for producing an optically active epoxy enone derivative according to claim 1, wherein the substituent R 1 in the general formulas (1) and (2) is a cyclohexyl group, an isopropyl group or an n-butyl group. . 一般式(1)及び一般式(2)において、置換基Rが、フェニル基、4−メトキシフェニル基又はtert−ブチル基であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法In general formulas (1) and (2), the substituents R 2, a phenyl group, optics according to claim 1 or claim 2 characterized in that it is a 4-methoxyphenyl group or a tert- butyl group A method for producing an active epoxy enone derivative. ランタノイドトリイソプロポキシドが、ランタントリイソプロポキシドであることを特徴とする請求項1乃至請求項3にいずれかに記載の光学活性エポキシエノン誘導体の製造方法。 The method for producing an optically active epoxy enone derivative according to any one of claims 1 to 3, wherein the lanthanoid triisopropoxide is lanthanum triisopropoxide.
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