JP4535134B2 - 半導体集積回路およびその電源制御方法 - Google Patents
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Description
一般的に、電源電圧低下や素子微細化に付随して、信号遅延が発生しないように、論理回路等のトランジスタの閾値電圧を設計値として下げる必要がある。論理回路等のトランジスタの閾値電圧が小さいとリーク電流が大きい。MTCMOS技術は、停止状態の回路に対し、論理回路等のトランジスタに比べ、より大きな閾値電圧となるように設計されたトランジスタ(電源スイッチ)によって、論理回路等のリーク電流経路を遮断して、その消費電力の浪費を防ぐものである。
スイッチトランジスタを設ける箇所は、起動と停止が繰り返される機能回路と実VDD線との間、機能回路と実VSS線との間、その両方の3通りがあり、スイッチとしては通常、実VDD側ではPMOSトランジスタ、実VSS線側ではNMOSトランジスタを用いる。
これと同様な現象は実VDD線でも生じる可能性がある。ただし、突発的な電流が実VDD線から流れ出すため、実VDD線の電位が急激に下がる負のノイズ電圧が生じる点で上記の場合と異なる。
Philippe Royannez etc, "90nm Low Leakage SoC Design Techniques for Wireless Application", 2005 IEEE International Solid-State Circuits Conference, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, P138.
その際、スイッチ導通制御部が、「各スイッチトランジスタは、当該スイッチトランジスタより導通時抵抗が高いスイッチトランジスタが全て導通した後に導通させる」という規則を守りながら、前記複数のスイッチトランジスタを複数回に分けて、非導通状態から導通状態へと導通制御する。このときの導通制御の際に、導通制御する時間間隔を次第に短く制御する。
例えば1つずつスイッチトランジスタを導通制御する場合に、2以上の同じ導通時抵抗のスイッチトランジスタを有する場合は、高い導通時抵抗のスイッチトランジスタのグループ内で、任意の順番でスイッチトランジスタが順次オンされ、つぎに他のグループに属する、より低い導通時抵抗のスイッチトランジスタをオンするときに上記規則に従って、より高い導通時抵抗のスイッチトランジスタが全てオンしたことを条件に当該低い導通時抵抗のスイッチトランジスタがオンされる。
各導通制御でスイッチトランジスタに電流が流れると、第1電圧線と第2電圧線間の電圧差が小さくなり、次の導通制御では同じ導通時抵抗の(または、より小さい導通時抵抗の)スイッチトランジスタを最低1つオンさせれば、流れる電流量が前よりも少なくなる。ただし、全体としては抵抗値の低下幅が次第に大きくなるため、当該低下幅が一定の場合に比べると速やかに電流が流れ、結果として、第1電圧線の電圧と第2電圧線の電圧のうち、ハイレベルの電圧がローレベルの電圧に速やかに近づく。
例えば、第1電圧線と第2電圧線間の電圧差が大きい制御初期ほど、スイッチトランジスタをオンさせる導通制御から次の導通制御までの時間を相対的に長くする。つまり、時間間隔が全体として次第に短くなる複数回に分けて、複数のスイッチトランジスタを非導通状態から導通状態へと導通制御する。
本発明の他の形態では、上記規則に代えて、時間間隔が前回より短くなる回を少なくとも1回含み、前記前回より短くなる回以外の回については前回と同じ時間間隔とする複数回の制御によって、前記複数のスイッチトランジスタを非導通状態から導通状態へと導通制御する。
図1に、本発明の実施形態に関わる半導体集積回路の全体構成例1を示す。
図1において、半導体集積回路が形成される矩形半導体チップの4つの辺に沿って、それぞれ複数の入出力用セル40が列をなして配列されている。これらの入出力用セル40に囲まれたチップエリアに、「第1電圧線」として、実VDD線2Dと実VSS線2Sが対をなして配置されている。より詳細には、当該回路ブロック配置領域のロウ(行)方向とカラム(列)方向にそれぞれ実電源線対(2D,2S)が平行配置され、これにより格子状電源線配置となっている。また、実電源線対(2D,2S)は、その格子状部分の周囲を外枠状部分により囲み、外枠状部分から多くの給電点を格子状部分に与えている。
これら実電源線対(2D,2S)は、そのロウ方向の各ラインとカラム方向の各ラインが、多層配線構造における異なる階層のメタル層から形成され、そのため実VDD線2Dと実VSS線2Sは、電気的に絶縁分離して交差可能である。
なお、図ではMTCMOS回路ブロック1等は全て実電源線対(2D,2S)に接続されている。一方、非適用回路ブロック30に対しては実電源線対(2D,2S)が非接続のように見えるが、実際には非適用回路ブロック30に対し実電源線対(2D,2S)が接続されている。
図2(A)の例では、能動素子としてはスイッチトランジスタSWTのみで回路セル4Aが構成され、図2(B)の例では、スイッチトランジスタSWTが論理回路部5とともに同じ回路セル4Bに含まれる。
なお、図2では、基準電圧VSSを遮断制御するスイッチトランジスタSWTとしてNMOSトランジスタを示す。この場合、基準電圧VSSが印加される分岐線20S、電源電圧VDDが印加される分岐線20D、および、「第2電圧線」としての仮想VSS線30Sのセル内要素が図示のように回路セルに含まれる。
分岐線20Sは「第1電圧線」の一部として実VSS線2S(図1参照)からMTCMOS回路ブロック1内で分岐した配線である。また、分岐線20Dは実VDD線2D(図1参照)からMTCMOS回路ブロック1内で分岐した配線である。
一方、仮想VSS線30Sは、MTCMOS回路ブロック1内固有の、即ちMTCMOS回路ブロック1の内部にのみ配置されている内部配線であり、「第2電圧線」として、本例では基準電圧VSSを論理回路部5、その他の回路セルに供給する役割がある。
以下の説明では、簡略化のため、基準電圧VSS側にスイッチトランジスタSWTを設ける場合を前提とする。
なお、セル内要素をセル配置によりつなぐだけでこれらの配線を形成する必要は必ずしもなく、上層配線でセル間接続をしてよい。
制御線CLは、例えば、MTCMOS回路ブロック1内におけるスイッチトランジスタSWTの数だけ設けられる、あるいは、所定数のスイッチトランジスタSWTごとに設けられる。
制御線CLは、図1に示す非適用回路ブロック30内に設けられている、「スイッチ導通制御部」としてのスイッチ制御部31に接続されている。スイッチ制御部31は、制御線CLを介してスイッチトランジスタSWTのオン(導通)とオフ(非導通)を制御する。スイッチ制御部31は非適用回路ブロック30内に設けられるため、当該半導体集積回路の起動後は常に、電源電圧VDDと基準電圧VSSの電圧供給を受けて動作する。
図3に示す配置例では、図2(A)に示す回路セル4Aを、カラム(列)方向に複数個、ここでは7個並べて配置している。回路セル4Aの配置領域を、図3では「スイッチ配置領域1A」により示す。
図3では、論理回路部5、分岐線20S、分岐線20Dおよび仮想VSS線30Sを有する回路セル4C、即ち図2(B)の回路セル4BからスイッチトランジスタSWTと制御線CLを省略した回路セルが、ロウ(行)方向に並べられて各セルラインが構成されている。図3では、7本のセルラインが例示されている。
ロウ(行)方向と直交するカラム(列)方向で隣接する2本のセルラインが、分岐線20Sと分岐線20Dをそれぞれ共有している。
一方、スイッチ配置領域1Aにおいて、回路セル4Aの多層配線構造の上層には、最大7本の制御線CL1〜CLnと、図1の実VDD線2Dおよび実VSS線2Sが、多層配線構造を上手に利用して配置される。
図4に、本発明の実施形態に関わる半導体集積回路の全体構成例2を示す。
図4において、半導体集積回路が形成される矩形半導体チップの4つの辺に沿って、それぞれ複数の入出力用セル40が列をなして配列されている。図4では図示を省略しているが、これらの入出力用セル40に囲まれたチップエリアに、「第1電圧線」としての実VDD線2Dと実VSS線2Sが対をなして配置されている。より詳細には、当該回路ブロック配置領域のロウ(行)方向とカラム(列)方向にそれぞれ実電源線対(2D,2S)が平行配置され、これにより格子状電源線配置となっている。
この回路ブロックは、回路ブロック32と同様に、当該半導体集積回路が起動後は常時、電源電圧VDDと基準電圧VSSの供給を受けて動作する「通電マクロ」と称されるMTCMOS技術が非適用の非適用回路ブロック33と、「電源遮断マクロ」と称されるMTCMOS回路ブロック1と、に大別できる。
図5に示すMTCMOS回路ブロック1において、符号1Bは機能回路セルの配置領域(以下、セル配置領域)を示す。セル配置領域1Bには、例えば、図2(B)の回路セル4BからスイッチトランジスタSWTと制御線CLを省略したような回路セルが、ロウ(行)方向とカラム(列)方向に多数並べられている。
これらの回路セルの電圧供給は、例えば図3と同様な分岐構造の配線により行われる。
図5では、分岐構造の幹配線のみ示す。具体的には、実電源線対(2D,2S)と仮想VSS線20の幹配線を、図5ではセル配置領域1B内を格子状に配置された斜線の配線(以下、幹配線群2Tと表記する)により示す。
各幹配線群2Tの、セル配置領域1Bの外側2箇所には、スイッチブロック2が設けられている。この対でスイッチブロック2が設けられることは、ロウ方向の幹配線群2T、カラム方向の幹配線群2Tで同様である。
スイッチブロック2は、仮想VSS線20Tと実VSS線2S間に並列接続されたn個のスイッチトランジスタSWT1〜SWTnを有する。
ここでスイッチトランジスタSWT1〜SWTnの各ゲートが、それぞれ対応する制御線CL1〜CLnの1本に接続されている。なお、後述する制御法によっては、複数のスイッチトランジスタのゲートが1本の制御線に接続されることもある。
図6(A)および図6(B)は、スイッチ制御の基本概念1の説明図である。
図6(A)に示すように、本概念に関わる複数のスイッチトランジスタ(図2に示すスイッチトランジスタSWT、図5に示すスイッチトランジスタSWT1〜SWTn等に対応)は、異なる導通時抵抗を持つ複数のトランジスタを含む。ここで図6(A)には3種類のトランジスタ、即ち、最も導通時抵抗が高い高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)、次に導通時抵抗が高い中抵抗スイッチトランジスタSWT(MR)、および、最も導通時抵抗が低い低抵抗スイッチトランジスタSWT(LR)が例示されている。ただし、本発明においてスイッチトランジスタの種類は最低2種類でよく、4種類以上でもよい。また、全体のトランジスタ数も2以上であれば、幾つでもよい。スイッチトランジスタの種類(導通時抵抗の種類)とトランジスタ数は一致してもよいが、導通時抵抗の種類は、トランジスタ数より少なく、幾つかの連続するトランジスタが同じ導通時抵抗を有してもよい。
図6(B)に示すように、導通時抵抗が高いほど仮想VSS線電位V(30S,20T)が小さく、電源ノイズの抑制効果があるが、電荷排出は、導通時抵抗が高いほど時間がかかる。
具体的には、スイッチ制御部31は、「各スイッチトランジスタは、当該スイッチトランジスタより導通時抵抗が高いスイッチトランジスタが全て導通した後に導通させる」という規則を守りながら、複数のスイッチトランジスタを複数回に分けて、非導通状態から導通状態へと導通制御する、という特徴を有する。
例えば1つずつスイッチトランジスタを導通制御する場合に、2以上の同じ導通時抵抗のスイッチトランジスタを有する場合は、高い導通時抵抗のスイッチトランジスタのグループ内で、任意の順番でスイッチトランジスタが順次オンされ、つぎに他のグループに属する、より低い導通時抵抗のスイッチトランジスタをオンするときに上記規則に従って、より高い導通時抵抗のスイッチトランジスタが全てオンしたことを条件に当該低い導通時抵抗のスイッチトランジスタがオンされる。このような制御の具体例は後述する。
各導通制御でスイッチトランジスタに電流が流れると、第1電圧線と第2電圧線間の電圧差が小さくなり、次の導通制御では同じ導通時抵抗の(または、より小さい導通時抵抗の)スイッチトランジスタを最低1つオンさせれば、流れる電流量が前よりも少なくなる。ただし、全体としては抵抗値の低下幅が次第に大きくなるため、当該低下幅が一定の場合に比べると速やかに電流が流れ、結果として、第1電圧線の電圧と第2電圧線の電圧のうち、ハイレベルの電圧がローレベルの電圧に速やかに近づく。このことは、図6(B)に示すように、より低抵抗なスイッチトランジスタを用いると放電が速やかであることから明らかである。
単位トランジスタの導通時抵抗を同じとする場合、各スイッチトランジスタについて「高抵抗」「中抵抗」「低抵抗」等を決めるのは、単位トランジスタ数であり、より低抵抗にしたいほど、同時に制御する系統内の単位トランジスタ数を多くするとよい。ただし、この場合も前述した規則に従うため、連続した異なる系統間で単位トランジスタ数が同じとなることは許される。
このような複数の単位トランジスタから図6(A)に示す各トランジスタを構成する例の詳細は後述する。
図7(A)および図7(B)は、スイッチ制御の基本概念2の説明図である。
図7(A)に示すように、本概念に関わる複数のスイッチトランジスタ(図2に示すスイッチトランジスタSWT、図5に示すスイッチトランジスタSWT1〜SWTn等に対応)は、同じ導通時抵抗を持つが、順次オンする時間間隔が全体として短くなるように導通制御される。ここで「全体として短くなる」とは、続けて同じ時間間隔をおいてオンするトランジスタが複数あってもよいが、少なくとも、最初と次にオンするトランジスタのオン時間間隔よりも、最後とその1つ前にオンするトランジスタのオン時間間隔が短いことを意味する。別の言い方をすると、基本概念2におけるスイッチ制御は、時間間隔が前回より短くなる回を少なくとも1回含む複数回の制御によって、複数のスイッチトランジスタが導通制御されるという特徴を有する。
なお、図7(A)は3つのスイッチトランジスタSWT1〜SWT3しか示さないが、スイッチトランジスタ数は2以上なら、これに限定されない。
スイッチトランジスタ数が3の場合、スイッチトランジスタSW1をオンしてからスイッチトランジスタSWT2をオンするまでの時間間隔T12に比べ、スイッチトランジスタSWT2をオンしてからスイッチトランジスタSWT3をオンするまでの時間間隔T23が短くなっている。
スイッチトランジスタ数が4の場合、3の場合と同様、順次、時間間隔を短くしてもよいが、図示のように、時間間隔T12とT23を同じとし、次の時間間隔、即ちスイッチトランジスタSWT3をオンしてからスイッチトランジスタSWT4をオンするまでの時間間隔T34を、時間間隔T12(=T23)より短くしてもよい。
本概念では、この点に着目して、時間間隔が前回より短くなる回を少なくとも1回含む複数回の制御によって複数のスイッチトランジスタをオンする導通制御を行い、これによって、電位安定を確保しながら、全体の制御時間を短くすることができる。
ただし、本実施形態では、時間間隔が前回より短くなる回を少なくとも1回含む複数回のスイッチ導通制御であればよく、各回のスイッチオン時に電位安定を待つことは要件ではない。電位安定を待つことを前提とすると、スイッチオン時の電位が見積もりやすく、複数回のスイッチ導通制御の設計が行いやすいため望ましいが、これに限定されるという訳ではない。
つぎに、基本概念1と2を重複適用した場合を例として、より具体的な制御例を、図面を用いて説明する。
図8に、スイッチ制御例の説明図を示す。
図解したスイッチ制御例では、同時に導通制御がされる単数または複数のスイッチトランジスタ群を「系統」と表記する。ここで高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)を、図6(A)と同様に、トランジスタの回路記号のチャネル部分を「黒塗り」で示すことにより表示する。中抵抗スイッチトランジスタSWT(MR)を、トランジスタの回路記号のチャネル部分を「網掛け」で示すことにより表示する。低抵抗スイッチトランジスタSWT(LR)を、トランジスタの回路記号のチャネル部分に「黒塗りや網掛けがない」ことで表示する。
導通時抵抗が小さいほどゲート幅が大きくなる。セル設計方式では、基本単位となる短ゲート幅の単位トランジスタを並列接続させる数で、実効的なセルゲート幅を変える方式が望ましい。
この方式が採用される場合、例えば高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)といっても1種類の導通時抵抗とは限らず、単位トランジスタ数に応じて、さらに細かく導通時抵抗の制御が可能である。もちろん、高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)、中抵抗スイッチトランジスタSWT(MR)、低抵抗スイッチトランジスタSWT(LR)の各々に1種類の導通時抵抗を割り当てることは可能である。
以上の構成により、各系統のトランジスタのソースとドレイン間に同じ電圧が同じ時間だけ印加された時の電圧降下量は、全体としては、系統番号が大きいほど大きくなる。
具体的には、CPU等から復帰指令を受けると、まず、高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)をオンしたほうが電源ノイズを効率的に抑制することが出来るため、第1系統に接続されている制御線CLを活性化して第1系統のスイッチトランジスタ群を一斉にオンさせる。
この状態で、最初の導通制御(「第1系統」と表記した矢印のタイミングで開始)を行うと、仮想VSS線電位V(30S,20T)が低下する。このときの低下幅は、スイッチトランジスタのソースとドレイン間電圧が大きいため最も大きいが、このとき導通時抵抗が比較的高いため、その急速な低下は抑圧されている。よって電源ノイズも有効に抑圧される。仮想VSS線電位V(30S,20T)は、高い導通時抵抗で決まる、ある一定値に時間経過とともに収束する。
以下、同様にして高抵抗スイッチトランジスタSWT(HR)から形成されている第3〜第m系統を導通制御する。
続いて、第m+2系統では、低抵抗スイッチトランジスタSWT(LR)に接続された制御線CLを活性化する。第m+2系統の活性化(導通制御開始)タイミングは、図9(A)の「第m+2系統」と表記した矢印により示す。
その後、最後の第n系統の導通制御まで、同様に制御線CLの活性化を順次繰り返す。
具体的には、系統間の導通制御開始の時間間隔をT1≧T2≧…≧Tm≧Tm+1≧Tm+2≧…≧Tn−1と、途中の幾つかの時間間隔では同じとなることを供しながら全体としては、時間が進むにつれて短くしてゆく。ただし、上記不等式で不等号「≧」の全てで「=」が成り立つことはない。
これにより、時間間隔を一定とする場合と比較すると、さらに一例の導通制御全体の所要時間を短くして、その分、電源の復帰を早めることができる。
図9(C)は、制御線CLの活性化タイミングを波形図により示す。
系統数が多いと、制御線CLの数が増えて、その配置スペースが面積増大の主な原因となる場合がある。導通時抵抗の種類を減らすことなく、系統数は減らしたいときは、図示のように、各系統を単位トランジスタで構成し、その数を系統番号が進むにつれて増やす手法が好適に採用できる。
これにより系統ごとのトランジスタ数がばらつき、無駄なスペースが生じるような場合、図5、図6(A)および図7(A)に示すようにスイッチトランジスタSWTを一列に配置しないでマトリックス状に配置するとよい。そして、分岐構造の採用により配線で図10のような系統別のトランジスタ接続関係を実現するとよい。
Claims (3)
- 電源電圧および基準電圧の一方が印加される第1電圧線と、
第2電圧線と、
電源電圧および基準電圧の他方と前記第2電圧線の電圧との電圧差で電源供給を受ける複数の回路セルと、
前記第1電圧線と前記第2電圧線との間に並列接続され、導通時抵抗が異なるスイッチトランジスタを含む複数のスイッチトランジスタと、
「各スイッチトランジスタは、当該スイッチトランジスタより導通時抵抗が高いスイッチトランジスタが全て導通した後に導通させる」という規則を守りながら、前記複数のスイッチトランジスタを複数回に分けて非導通状態から導通状態へと導通制御し、該導通制御の際に、導通制御する時間間隔を次第に短く制御するスイッチ導通制御部と、
を有する半導体集積回路。 - 電源電圧および基準電圧の一方が印加される第1電圧線と、第2電圧線と、
電源電圧および基準電圧の他方と前記第2電圧線の電圧との電圧差で電源供給を受ける複数の回路セルと、
前記第1電圧線と前記第2電圧線との間に並列接続されている複数のスイッチトランジスタと、
時間間隔が前回より短くなる回を少なくとも1回含み、前記前回より短くなる回以外の回については前回と同じ時間間隔とする複数回の制御によって、前記複数のスイッチトランジスタを非導通状態から導通状態へと導通制御するスイッチ導通制御部と、
を有する半導体集積回路。 - 電源電圧および基準電圧の一方が印加される第1電圧線と第2電圧線との間に並列接続され、導通時抵抗が異なるスイッチトランジスタを含む複数のスイッチトランジスタと、電源電圧および基準電圧の他方と前記第2電圧線の電圧との電圧差で電源供給を受ける複数の回路セルとを備え、前記複数のスイッチトランジスタをオンまたはオフすることによって前記複数の回路セルに対する電源供給を制御する半導体集積回路の電源制御方法であって、
「各スイッチトランジスタは、当該スイッチトランジスタより導通時抵抗が高いスイッチトランジスタが全て導通した後に導通させる」という規則を守りながら、前記複数のスイッチトランジスタを複数回に分けて非導通状態から導通状態へと導通制御し、該導通制御の際に、導通制御する時間間隔を次第に短く制御する
半導体集積回路の電源制御方法。
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