JP4538176B2 - Light emitting diode - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 34
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- -1 gallium nitride compound Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000669618 Nothes Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Led Devices (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光チップの光を有効に透過させると共に、表面電極の電気抵抗を小さくでき、さらに、偏光した光を効率よく出すことができる発光ダイオードに関する。
【0002】
【従来の技術】
発光ダイオードの電極構造を図1と図2に示す。図1の発光ダイオードは、発光チップ20の両面に一対の電極21を設けている。一対の電極21を電源に接続すると発光チップ20は発光する。この発光チップ20は、電極21に電圧が供給されると、電極間に電流が流れて発光する。図において、上面の電極は透明電極21Aで、発光チップ20の発光を透過させる。図2の発光チップ20は、下面のn層にボンディング電極21Bを設けて、上面の電極を透明電極21Aとしている。この発光チップ20は、n層と透明電極21Aに電圧を印加して発光させる。発光チップ20の発光は、透明電極20Aを透過して外部に照射される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
透明電極は、光を透過させる必要があるので、ITO等の透光性と導電性のある電極が使用される。ITO等の透明電極は、比抵抗が高いために内部抵抗が大きく、発光ダイオードの供給電圧を高くする。透明電極は、発光チップを低い電圧で発光させるためには、電気抵抗を小さくする必要がある。しかしながら、電気抵抗の小さい透明電極は、光の透過率が悪くなって発光出力を低下させる。理想的な透明電極は、電気抵抗が小さくて、光の透過率が高いものである。しかしながら、透明電極の電気抵抗と光の透過率は互いに相反する特性であって、両方を満足することが難しい。このことは、透明電極のコストを高くして、発光ダイオードの製造コストを高くする原因ともなっている。現実の発光ダイオードは、透明電極の光の透過率が低下すると発光出力が低下してしまうので、透明電極の光透過率を高くするために、電気抵抗を大きくせざるを得ない。このことが、発光ダイオードの供給電圧を低くするのを難しくしている。
【0004】
本発明は、従来のこのような欠点を解決することを目的に開発されたもので、従来の構造とは全く異なる構造によって、発光チップの発光を効率よく外部に取り出しながら、発光ダイオードの供給電圧を低くできる発光ダイオードを提供することを目的とする。
さらに、本発明の第2の目的は、偏光した光を効率よく出すことができる発光ダイオードを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1の発光ダイオードは、第1の面側に表面電極3を有する発光チップ1と、この発光チップ1の第1の面側と対向する反対側の面にある第2の面側に設けられてなる光反射層6とを有する。表面電極3は、内面で光を反射させる金属電極層で、この表面電極3に光を透過できる複数の貫通孔14を設けており、この貫通孔14をスリットとしている。
【0006】
【0007】
光反射層6は、光反射面6Aを凹凸面とすることができる。発光ダイオードは、発光チップ1の光を光反射層6で反射させながらスリットの貫通孔14から偏光して表面電極3の表面側に透過させることができる。
【0008】
スリットの貫通孔14は、そのスリット幅(H)を、発光チップ1の発光波長のピーク波長λのλ/10以上、好ましくはλ/5以上、より好ましくはλ/2以上とする。さらに、スリットの貫通孔14は、スリットの長さ(W)をスリット幅(H)よりも大きくすると共に、スリットの長さ(W)を発光チップの発光波長のピーク波長λのλ/2よりも大きく、より好ましくは、ピーク波長λよりも大きくする。スリットの貫通孔14は、好ましくは、スリットの長さ(W)をスリット幅(H)の2倍よりも大きくする。
【0009】
発光ダイオードは、発光チップ1をホルダーに固定して、このホルダーに光反射層6を設けることができる。さらに、発光ダイオードは、発光チップの第2の面側に光反射層6を積層して固定することができる。光反射層6の光反射面6Aは、凹凸面とすることができる。表面電極3は、開口率を20〜80%、好ましくは30〜70%、より好ましくは40〜60%とすることができる。
【0010】
さらに、本発明の発光ダイオードは、スリット状の貫通孔14に誘電体アンテナ2を設けている。この発光ダイオードは、誘電体アンテナ2で貫通孔14付近の光を集めて貫通孔14を透過させるので、光をより効率よく表面電極3の表面側に透過できる。誘電体アンテナ2は、発光チップ1の表面半導体層4の表面から内部に向かって設けている。誘電体アンテナ2は、発光チップ1の表面半導体層4の表面から突出して設けている。
【0011】
【0012】
発光ダイオードは、発光チップ1と光反射層6との間に蛍光体層9を設けることができる。この蛍光体層9は、好ましくは、青色の発光を赤色または黄色に波長変換する。さらに、発光ダイオードは、発光チップ1と光反射層6との間に非線形光学材料層11を設けることができる。さらに、発光ダイオードは、発光チップ1を、窒化ガリウム系化合物半導体層を積層してなる発光チップとすることができる。
【0013】
誘電体アンテナ2は、高さ(T)を発光チップ1の最大ピーク波長λmaxの0.5〜5倍とし、最小幅(D)を高さの0.5〜2倍とし、隣接する誘電体アンテナ2の間隔(L)を最大ピーク波長λmaxの0.5〜10倍とする。誘電体アンテナ2の高さ(T)は、好ましくは、0.5〜5μmとする。誘電体アンテナ2は、平面形状を細長い長方形とする角柱状、あるいは平面形状において両端を円弧状とする細長い形状の柱状とすることができる。
【0014】
誘電体アンテナ2は、多層の誘電体膜10で形成することができる。誘電体アンテナ2を形成している誘電体の誘電率は、1.1〜10とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するための発光ダイオードを例示するものであって、本発明は発光ダイオードを下記のものに特定しない。
【0016】
さらに、この明細書は、特許請求の範囲を理解し易いように、実施例に示される部材に対応する番号を、「特許請求の範囲の欄」、および「課題を解決するための手段の欄」に示される部材に付記している。ただ、特許請求の範囲に示される部材を、実施例の部材に特定するものでは決してない。
【0017】
図3と図4に示す発光ダイオードは、発光チップ1の表面側である第1の面側に表面電極3を配設して、裏面側に光反射層6を設けている。ただし、図3は本発明の実施例を示すものでなく参考例として記載している。表面電極3は内面で光を反射させる金属電極層で、複数の貫通孔14を開口して、この貫通孔14に光を透過させる。したがって、本発明の発光ダイオードは、表面電極3に透光性が要求されない。透光性のない表面電極3は金属電極層である。金属電極層は、電気抵抗を極めて小さくできるので、大電流を均一に流すことができる。また、ジュール熱による発熱を少なくできる。この表面電極3は、たとえば、金、アルミニウム、銅、銀等の金属薄膜とすることができる。ただ、表面電極3として、光をわずかに透過させる金属電極層も使用できるのは言うまでもない。
【0018】
表面電極3の貫通孔14は、図5ないし図7に示すように、円形、楕円形、多角形等の形状とする。ただし、図5と図6は本発明の実施例にかかるものでなく参考例として記載している。これらの図は、貫通孔14をわかりやすくするために、表面電極3をクロスハッチングで表している。貫通孔14の最小幅は、たとえば発光チップの発光波長のピーク波長λのλ/10よりも大きく、好ましくはλ/5よりも大きく、さらに好ましくはλ/2より大きく、最適にはλよりも大きくする。それは、貫通孔14に発光ダイオードの発光を効率よく透過させるためである。ただ、貫通孔14が大きすぎると、表面電極3に多数の貫通孔14を設けることができなくなって、表面電極3でもって均一に電流を流すことができなくなる。したがって、貫通孔14は、表面電極3に10個以上、好ましくは50個以上、最適には100個以上設けることができる大きさとする。
【0019】
表面電極3は、内面で光を反射して、貫通孔14から光を外部に放射させる。したがって、表面電極3は、貫通孔14の開口率を大きくして、光の透過率を高くできる。ただ、貫通孔14の開口率を大きくすると、表面電極3の実質的な電気抵抗が増加する。したがって、貫通孔14の開口率は、たとえば20〜80%、好ましくは30〜70%、さらに好ましくは40〜60%とする。
【0020】
図8に示す表面電極3は、貫通孔14をスリットとしている。スリットは、特定の方向に振動する光を効率よく透過させる。したがって、表面電極3にスリットの貫通孔14を設けている発光ダイオードは、偏光した光を発光できる。この図も、貫通孔14をわかりやすくするために、表面電極3をクロスハッチングで表している。
【0021】
スリット状の貫通孔14は、スリット幅(H)を発光チップの発光波長のピーク波長λのλ/10以上、好ましくはλ/5以上、さらに好ましくはλ/2とする。スリット幅がλ/10より狭いと、発光チップの発光を透過できなくなる。貫通孔14は、スリットの長さ(W)をスリット幅(H)よりも大きくして、偏光した光を効率よく透過させる。スリットの長さ(W)は、発光チップの発光を効率よく透過させるために、発光チップの波長のピーク波長λのλ/2よりも大きく、好ましくはλよりも大きくする。
【0022】
表面電極3に貫通孔14を設けている発光ダイオードは、図4に示すように、貫通孔14に誘電体アンテナを設け、あるいは図3に示すようにアンテナを設けることなく、貫通孔14に光を透過させる。ただし、図4に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例を示すものではない。誘電体アンテナ2を設けた発光ダイオードと誘電体アンテナのない発光ダイオードは、表面電極3の内面と光反射層6とで光を反射させながら、貫通孔14から外部に放出する。
【0023】
さらに、図3と図4に示す発光ダイオードの発光チップ1は、表面電極3と対向する位置に光反射層6を設けている。光反射層6は、金属製の電極、あるいは電極でない金属層を発光チップ1の裏面半導体層5に設けて形成できる。図3に示す発光チップ1は、裏面半導体層5の下面に裏面電極8を設けて光反射層6としている。この光反射層6は、裏面電極8の表面を光反射面6Aとしている。さらに、図4に示す発光チップ1は、発光チップ1の裏面半導体層5に金属薄膜を配設して光反射層6を設けている。光反射層6である金属薄膜は、裏面半導体層5と基板13との間に積層している。この光反射層6も、裏面半導体層5との境界面である表面を光反射面6Aとしている。さらに、発光ダイオードは、発光チップをホルダーに固定し、このホルダーに光反射層を設けることもできる。
【0024】
光反射層6は、光反射面6Aを凹凸面としている。とくに、貫通孔14をスリットとする発光ダイオードは、光反射面6Aを凹凸面とする。光を反射して偏光方向を種々の方向とするためである。貫通孔14を円形ないし多角形として、光を偏光させないで透過させる発光ダイオードは、光反射層6の光反射面6Aを平滑面とすることもできる。
【0025】
光反射層6は、図3と図4に示すように、発光チップ1から下方に照射される光を、図の矢印で示すように、光反射面6Aで反射する。反射光は貫通孔14を透過して発光チップ1の外部に放射される。貫通孔14を通過しない光は、表面電極3と光反射層6Aでの反射を繰り返して、貫通孔14から外部に照射される。貫通孔14に誘電体アンテナ2を設けている発光ダイオードは、貫通孔14付近の光を集めて貫通孔14に透過させる。このため、実質的には貫通孔14を大きくしたのと同じ作用で、光をより効率よく表面電極3に透過できる。
【0026】
光反射層は、必ずしも金属薄箔とする必要はなく、誘電率の異なる材料を交互に積層した多層膜光反射層とすることもできる。この多層膜光反射層は、たとえば、AlGaNとGaNを交互に積層して形成される。多層膜光反射層である光反射層は、高い反射率で光を反射できるので、基板側へ光の漏れを低減できる。
【0027】
さらに、図9に示す発光ダイオードの発光チップ1は、光反射層6と裏面半導体層5との間に蛍光体層9を備える。この図に示す発光チップ1は、裏面半導体層5の下面に基板13を積層しており、この基板13の下面に蛍光体9を介して光反射層6を積層している。この蛍光体層9は、発光チップ1の発光を波長変換する蛍光体を含有している。この発光ダイオードは、発光チップ1の発光を蛍光体層9で波長変換しながら誘電体アンテナ2から外部に透過させる。とくに、この発光ダイオードは、表面電極3の下面と光反射層6の反射面6Aとで反射される反射光が蛍光体層9を繰り返し通過するので、効率よく波長変換しながら外部に照射できる特長がある。蛍光体層9は、たとえば、青色の発光を赤色または黄色に波長変換させる蛍光体を含有することができる。
【0028】
表面電極3の貫通孔14は、誘電体アンテナ2を設けることにより、開口率を低くして光の透過率を高くできる。誘電体アンテナ2は、貫通孔14に連結して設けられる。誘電体アンテナ2は、発光チップ1の最大ピーク波長λmaxの0.5〜5倍の高さ(T)で、最小幅(D)を高さ(T)の0.5〜2倍とし、さらに、隣接する誘電体アンテナ2間の間隔(L)を最大ピーク波長λmaxの0.5〜10倍とする。さらに、好ましくは、隣接する誘電体アンテナ2の間隔(L)は、誘電体アンテナの高さ(T)の0.5〜10倍とする。
【0029】
誘電体アンテナ2の高さ(T)を最大ピーク波長λmaxの0.5〜5倍とするのは、最大ピーク波長λmaxに比較して短すぎても、反対に長すぎても、電磁波である光を受信する感度が低下するからである。また、誘電体アンテナ2の最小幅(D)も、狭すぎても広すぎても電磁波である光の受信感度が低下し、さらに、隣接する誘電体アンテナ2の間隔(L)も、狭すぎても広すぎても受信感度が低下する。最大ピーク波長λmaxを約0.5μmとする発光チップ1に設ける誘電体アンテナ2は、高さ(T)を最大ピーク波長λmaxの0.5〜5倍とする場合、誘電体アンテナ2の高さ(T)は、0.25〜2.5μmとなる。
【0030】
誘電体アンテナ2は、図10に示すように多角柱とし、あるいは図11に示すように、円柱状とし、あるいはまた、図示しないが楕円柱状とすることもできる。ただし、図10と図11は本発明の実施例に係るものではなく、参考例として記載している。さらに、図12と図13に示すように、誘電体アンテナ2は、平面形状を細長い長方形とする角柱状とすることもできる。また、図14に示すように、平面形状において両端を円弧状とする細長い形状の柱状とすることもできる。ただし、これらの図は、誘電体アンテナ2の形状をわかりやすくするために、誘電体アンテナ2の間に配設される表面電極3を取り除いた状態を示している。実際には、誘電体アンテナ2は、表面電極3が設けられる。さらに、以上の図の誘電体アンテナ2は先端を平面状としているが、図示しないが、誘電体アンテナは先端を湾曲面とすることもできる。
【0031】
誘電体アンテナ2は、無機や有機の誘電体で製作される。誘電体は、誘電率を1.1〜10とする材質が適している。さらに、誘電体アンテナ2を形成する誘電体の誘電率(ε1)と表面半導体層4の誘電率(ε2)の比(ε1/ε2)は、1.1〜10とすることができる。無機の誘電体としてガラス、SiO2、Al2O3等が使用できる。有機の誘電体として、ポリプロピレン、ポリエチレン、フッ素樹脂等が使用できる。
【0032】
誘電体アンテナ2は、発光チップ1の表面をエッチングして、エッチングした部分に誘電体を充填して形成できる。図15は、発光チップ1に誘電体アンテナ2を設ける工程を示す。ただし、図15に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例を示すものではない。図15の(1)に示す発光チップ1は、表面半導体層4にオーミック接触して表面電極3を設けている。発光チップ1は、両面に電圧を加えると発光する発光ダイオードのチップで、pn接合の半導体である。発光チップ1のpn接合は、必ずしも1層のp層と、1層のn層とを積層した層構造ではない。p層とn層は、複数の層構成とすることもある。発光チップ1は、発光ダイオードの発光色によってpn接合の半導体と層構造が特定される。たとえば、青色発光、緑色発光、白色発光の発光ダイオードには、窒化ガリウム系化合物半導体層の発光チップが使用される。
【0033】
発光チップ1は、図15の(2)に示すように、表面電極3と表面半導体層4をエッチングして、誘電体アンテナ2を設ける凹部7を設ける。図に示す発光チップ1は、エッチングによって、表面電極3を貫通する貫通孔14を開口すると共に、この貫通孔14に対向する表面電極層4の表面部分を切欠して凹部7を設けている。その後、図15の(3)に示すようにエッチングしてできた貫通孔14と凹部7に誘電体を充填して誘電体アンテナ2を設ける。
【0034】
図15の発光チップ1は、誘電体アンテナ2の先端面と表面電極3の表面とをほぼ同一平面として発光チップ1の表面を平滑面としている。ただ、誘電体アンテナの先端面と表面電極の表面は、必ずしも同一平面とする必要はなく、多少は凹凸のある凹凸面とすることもできる。誘電体アンテナは、その先端面を、表面電極の表面よりも多少は低くすることも、逆に高くして表面電極の表面から突出させることもできる。誘電体アンテナの先端面が表面電極の表面よりも低く成形される発光チップは、図16に示すように、表面電極3の貫通孔14に充填される誘電体の量を少なく調整して製造される。ただし、この図に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例を示すものではない。
【0035】
誘電体アンテナの先端面が表面電極の表面から突出して成形される発光チップは、図17に示す工程で製造される。図17の(1)に示す発光チップ1は、表面半導体層4にオーミック接触して表面電極3を設けている。この発光チップ1は、図17の(2)に示すように、表面電極3と表面半導体層4をエッチングして、誘電体アンテナ2を設ける貫通孔14と凹部7を設ける。次に、図17の(3)に示すように、表面電極3および表面電極層4の表面に誘電体膜12を積層して設ける。その後、図17の(4)に示すように、表面電極3の上面に設けられた誘電体膜12をエッチングして取り除き、表面電極3から突出する誘電体アンテナ2を形成する。誘電体アンテナ2の表面電極3からの突出量は、誘電体膜12の厚さで調整できる。
【0036】
誘電体アンテナの先端面が表面電極の表面から突出して成形される発光チップは、図18に示すように、表面電極3のみをエッチングして誘電体アンテナ2を設けることもできる。ただし、この図は本発明の実施例を示すものではない。この発光チップ1は、表面半導体層4にオーミック接触して表面電極3を設けた後、表面電極3をエッチングして貫通孔14を設ける。次に、表面電極3および表面電極層4の表面に誘電体膜12を積層して設ける。その後、表面電極3の上面に設けられた誘電体膜12をエッチングして取り除き、表面電極3から突出する誘電体アンテナ2を形成する。ただ、表面電極を形成する工程においては、リフトオフ法によって表面電極に貫通孔14を形成することもできる。
【0037】
以上の発光チップは、表面電極3の貫通孔14を貫通して、あるいは、貫通孔14の内部に誘電体アンテナ2を設けている。ただ、発光チップ1は、図9に示すように、表面電極3に開口された貫通孔14に対向する位置であって、発光チップ1の表面半導体層4の表面から内部に向かって誘電体アンテナ2を設けることもできる。ただし、図9に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例にかかるものでなく、参考例として記載している。この発光ダイオードは、発光チップ1内の発光を誘電体アンテナ2で集光すると共に、表面電極3の貫通孔14を通過させて表面電極3の表面側に透過させる。
【0038】
図9に示す発光チップ1は、図19に示す工程で誘電体アンテナ2を設けることができる。この発光チップ1は、図19の(2)に示すように、表面半導体層4をエッチングして、誘電体アンテナ2を設ける領域を除去して凹部7を設ける。その後、図19の(3)に示すように、エッチングしてできた表面電極層4の凹部7に誘電体を充填して誘電体アンテナ2を形成する。次に、図19の(4)に示すように、リフトオフ法によって、誘電体アンテナ2間に表面電極3を形成する。このとき、表面電極3は、誘電体アンテナ2に位置して貫通孔14が開口された状態に形成される。
【0039】
さらに、図9に示す発光チップ1は、図20に示す工程で、表面電極3の貫通孔14に対向する位置に誘電体アンテナ2を設けることもできる。この発光チップ1は、図20の(2)に示すように、表面電極3をエッチングして、表面電極3を貫通する貫通孔14を開口する。このとき、表面電極層4の表面部分はエッチングされない。ただ、表面電極の貫通孔14は、リフトオフ法によって形成することもできる。さらに、表面電極3の貫通孔14にイオン注入を行って、図20の(3)に示すように、表面半導体層4の誘電率を部分的に高くさせて誘電体アンテナ2を成形する。貫通孔14に注入されるイオンには、ヒ素、ガリウム、アルミニウム等のイオンが使用できる。貫通孔14から注入されるイオンは、表面半導体層4である半導体を変質させて誘電率を高くさせる。
【0040】
さらに、発光チップは、図19または図20に示す工程で、表面半導体層4の表面から内部に向かって誘電体アンテナ2を設けた後、さらに、表面電極3に開口された貫通孔14から突出する誘電体アンテナ2を形成することもできる。この発光チップは、図21に示すように、表面半導体層4の表面に形成された誘電体アンテナ2と、表面電極3の表面に誘電体膜12を積層して設けた後、表面電極3の上面に設けられた誘電体膜12をエッチングして取り除き、表面電極3から突出する誘電体アンテナ2を形成する。この誘電体アンテナは、好ましくは、先の工程で表面半導体層4に形成された誘電体アンテナ2の誘電率よりも、貫通孔14から突出して形成される誘電体アンテナ2の誘電率を高くする。
【0041】
以上の工程で、発光チップ1は、誘電体アンテナ2の間に表面電極3が配設される。誘電体アンテナ2は、表面電極3の貫通孔14に対向する位置に設けられる。この構造で発光チップ1に設けられた誘電体アンテナ2は、その周囲に入射する光を集光して表面電極3の表面側に透過させる。誘電体アンテナ2が周囲の光を集光するので、誘電体アンテナ2の間に、光を透過させない表面電極3を設けても、表面電極3によって光の透過率は低下しない。
【0042】
さらに、本発明の発光ダイオードは、図22に示すように、誘電体アンテナ2を多層の誘電体膜10で成形することもできる。ただし、この図に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例を示すものではない。この構造の誘電体アンテナ2は、誘電体膜10の材質と厚さと積層数を特定することによって、所定の波長の光の透過を抑制することができる。この誘電体アンテナ2は、たとえば、青色の透過光の強度を抑制させるように誘電体膜10の材質と厚さと積層数を調整して、青色の反射率を高めることができる。さらに、この図に示す発光ダイオードは、図9に示す発光ダイオードと同様に、光反射層6と裏面半導体層5との間に蛍光体層9を設けているので、誘電体膜10で反射される青色の発光を、蛍光体層9でより効率よく赤色または黄色に波長変換できる特長がある。
【0043】
さらにまた、図23に示す発光ダイオードは、光反射層6と裏面半導体層5との間に非線形光学材料層11を備える。ただし、この図に示す誘導体アンテナの構造は、本発明の実施例を示すものではない。この図に示す発光チップ1は、裏面半導体層5の下面にガラス基板13を積層しており、このガラス基板13の下面に非線形光学材料層11を介して光反射層6を積層している。非線形光学材料層11は、非線形光学効果によって、光の波長や周波数を変換させる。非線形光学材料層11は、ここを通過する光の周波数を高周波に変換させて、より短波長の光を取り出すことができる。とくに、この発光ダイオードは、表面電極3の下面と光反射層6の光反射面6Aとで反射される反射光が繰り返し非線形光学材料層11を通過するので、効率よく周波数変換できる特長がある。非線形光学材料層11には、たとえば、ADP、KDP、BBO等が使用できる。
【0044】
【発明の効果】
本発明の発光ダイオードは、発光チップの発光を効率よく外部に取り出しながら、発光ダイオードの供給電圧を低くできる優れた特長がある。それは、本発明の発光ダイオードが、発光チップの第1の面側に金属電極層である表面電極を、反対側の第2の面側に光反射層を設けており、この表面電極に複数の貫通孔を設けて、発光チップの光を光反射層で反射させながら貫通孔から表面電極の表面側に透過させているからである。この発光ダイオードは、表面電極の内面と光反射層で反射される光を貫通孔から外部に放出するので、表面電極を透光性のない金属電極層としても、発光チップの光を表面側に透過できる。このため、比抵抗が高くて内部抵抗が大きく、しかも高価な透明電極を使用することなく、発光チップの発光を効率よく外部に取り出しできる。したがって、本発明の発光ダイオードは、表面電極の電気抵抗を小さくして、低い供給電圧で発光チップを発光できると共に、発光ダイオードの製造コストを低減して、安価に多量生産できる。
【0045】
さらに、本発明の発光ダイオードは、偏光した光を効率よく出すことができる特長がある。それは、この発光ダイオードが、表面電極に設けた複数の貫通孔をスリットとすると共に、光反射層の光反射面を凹凸面としており、発光チップの光を光反射層で反射させながら、スリットの貫通孔から偏光して表面電極の表面側に透過させているからである。とくに、本発明の発光ダイオードは、スリットの貫通孔に誘電体アンテナを設けているので、偏光した光をさらに効率よく出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の発光ダイオードの電極構造を示す概略断面図
【図2】 従来の他の発光ダイオードの電極構造を示す概略断面図
【図3】 本発明の参考例の発光ダイオードの電極構造を示す一部拡大断面図
【図4】 本発明の他の参考例の発光ダイオードの電極構造を示す一部拡大断面図
【図5】 表面電極の貫通孔の一例を示す平面図
【図6】 表面電極の貫通孔の他の一例を示す平面図
【図7】 表面電極の貫通孔の他の一例を示す平面図
【図8】 表面電極の貫通孔の他の一例を示す平面図
【図9】 本発明の他の参考例の発光ダイオードの電極構造を示す拡大断面図
【図10】 誘電体アンテナの一例を示す拡大断面斜視図
【図11】 誘電体アンテナの他の一例を示す拡大断面斜視図
【図12】 誘電体アンテナの他の一例を示す拡大断面斜視図
【図13】 誘電体アンテナの他の一例を示す拡大断面斜視図
【図14】 誘電体アンテナの他の一例を示す拡大断面斜視図
【図15】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程を示す断面図
【図16】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図17】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図18】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図19】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図20】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図21】 表面電極の貫通孔に誘電体アンテナを設ける工程の他の一例を示す断面図
【図22】 本発明の他の参考例の発光ダイオードの電極構造を示す一部拡大断面図
【図23】 本発明の他の参考例の発光ダイオードの電極構造を示す拡大断面図
【符号の説明】
1…発光チップ
2…誘電体アンテナ
3…表面電極
4…表面電極層
5…裏面半導体層
6…光反射層 6A…光反射面
7…凹部
8…裏面電極
9…蛍光体層
10…誘電体膜
11…非線形光学材料層
12…誘電体膜
13…基板
14…貫通孔
20…発光チップ
21…電極 21A…透明電極
21B…ボンディング[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a light emitting diode that can effectively transmit light from a light emitting chip, reduce the electrical resistance of a surface electrode, and efficiently emit polarized light.
[0002]
[Prior art]
The electrode structure of the light emitting diode is shown in FIGS. The light emitting diode of FIG. 1 is provided with a pair of
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
Since the transparent electrode needs to transmit light, an electrode having translucency and conductivity such as ITO is used. A transparent electrode such as ITO has a high specific resistance and thus has a large internal resistance, which increases the supply voltage of the light emitting diode. The transparent electrode needs to have a small electric resistance in order for the light emitting chip to emit light at a low voltage. However, a transparent electrode having a small electric resistance has a low light transmittance and reduces the light emission output. An ideal transparent electrode has low electrical resistance and high light transmittance. However, the electrical resistance and light transmittance of the transparent electrode are mutually contradictory properties, and it is difficult to satisfy both. This also increases the cost of the transparent electrode and increases the manufacturing cost of the light emitting diode. In an actual light emitting diode, if the light transmittance of the transparent electrode is lowered, the light emission output is lowered. Therefore, in order to increase the light transmittance of the transparent electrode, the electric resistance must be increased. This makes it difficult to reduce the supply voltage of the light emitting diode.
[0004]
The present invention has been developed with the object of solving the above-described drawbacks of the related art, and the supply voltage of the light emitting diode can be efficiently taken out while the light emitted from the light emitting chip is efficiently extracted by a structure completely different from the conventional structure. An object of the present invention is to provide a light emitting diode capable of lowering the voltage.
Furthermore, the second object of the present invention is to provide a light emitting diode capable of efficiently emitting polarized light.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The light-emitting diode according to
[0006]
[0007]
lightThe
[0008]
The through
[0009]
In the light emitting diode, the
[0010]
Further, in the light emitting diode of the present invention, the
[0011]
[0012]
In the light emitting diode, a phosphor layer 9 can be provided between the
[0013]
The
[0014]
The
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the following examples illustrate light-emitting diodes for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention does not specify the light-emitting diodes as follows.
[0016]
Further, in this specification, in order to facilitate understanding of the claims, the numbers corresponding to the members shown in the embodiments are referred to as “claims column” and “means for solving the problems”. It is added to the member shown by. However, the members shown in the claims are not limited to the members in the embodiments.
[0017]
In the light emitting diode shown in FIGS. 3 and 4, the
[0018]
As shown in FIGS. 5 to 7, the through
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
The slit-shaped through
[0022]
As shown in FIG. 4, a light emitting diode having a through
[0023]
Further, the
[0024]
The
[0025]
As shown in FIGS. 3 and 4, the
[0026]
The light reflecting layer is not necessarily made of a metal thin foil, and may be a multilayer light reflecting layer in which materials having different dielectric constants are alternately laminated. This multilayer light reflecting layer is formed, for example, by alternately laminating AlGaN and GaN. Since the light reflecting layer which is a multilayer light reflecting layer can reflect light with high reflectivity, light leakage to the substrate side can be reduced.
[0027]
Furthermore, the
[0028]
By providing the
[0029]
It is an electromagnetic wave that makes the height (T) of the
[0030]
The
[0031]
The
[0032]
The
[0033]
In the
[0034]
In the light-emitting
[0035]
A light emitting chip in which the front end surface of the dielectric antenna projects from the surface of the surface electrode is manufactured by the process shown in FIG. The
[0036]
As shown in FIG. 18, the light emitting chip formed by projecting the front end surface of the dielectric antenna from the surface of the surface electrode can be provided with the
[0037]
In the above light emitting chip, the
[0038]
The
[0039]
Further, in the
[0040]
Further, in the step shown in FIG. 19 or FIG. 20, the light emitting chip protrudes from the through
[0041]
Through the above steps, the
[0042]
Furthermore, in the light emitting diode of the present invention, the
[0043]
Furthermore, the light emitting diode shown in FIG. 23 includes a nonlinear
[0044]
【The invention's effect】
The light emitting diode of the present invention has an excellent feature that the supply voltage of the light emitting diode can be lowered while efficiently taking out the light emitted from the light emitting chip. The light emitting diode according to the present invention has a surface electrode which is a metal electrode layer on the first surface side of the light emitting chip, and a light reflecting layer on the second surface side opposite to the light emitting chip. This is because the through hole is provided so that the light from the light emitting chip is transmitted from the through hole to the surface side of the surface electrode while being reflected by the light reflecting layer. This light emitting diode emits light reflected by the inner surface of the surface electrode and the light reflecting layer to the outside from the through hole. Therefore, even if the surface electrode is a non-transparent metal electrode layer, the light from the light emitting chip is directed to the surface side. It can be transmitted. For this reason, the light emission of the light emitting chip can be efficiently extracted outside without using an expensive transparent electrode having a high specific resistance and a large internal resistance. Therefore, the light emitting diode of the present invention can reduce the electrical resistance of the surface electrode and emit light from the light emitting chip with a low supply voltage, and can reduce the manufacturing cost of the light emitting diode and can be mass-produced at low cost.
[0045]
Furthermore, the light-emitting diode of the present invention has an advantage that polarized light can be efficiently emitted. The light-emitting diode has a plurality of through-holes provided in the surface electrode as slits, and the light reflecting surface of the light reflecting layer has an uneven surface, while reflecting light from the light emitting chip by the light reflecting layer. This is because the light is polarized from the through hole and transmitted to the surface side of the surface electrode. In particular, since the light emitting diode of the present invention is provided with a dielectric antenna in the through hole of the slit, polarized light can be emitted more efficiently.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an electrode structure of a conventional light emitting diode
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an electrode structure of another conventional light emitting diode.
FIG. 3 of the present inventionReference examplePartially enlarged sectional view showing the electrode structure of a light emitting diode
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention.Reference examplePartially enlarged sectional view showing the electrode structure of a light emitting diode
FIG. 5 is a plan view showing an example of a through hole of a surface electrode
FIG. 6 is a plan view showing another example of the through hole of the surface electrode
FIG. 7 is a plan view showing another example of the through hole of the surface electrode
FIG. 8 is a plan view showing another example of the through hole of the surface electrode
FIG. 9 shows another embodiment of the present invention.Reference exampleSectional view showing the electrode structure of a light emitting diode
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional perspective view showing an example of a dielectric antenna.
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional perspective view showing another example of a dielectric antenna.
FIG. 12 is an enlarged cross-sectional perspective view showing another example of a dielectric antenna.
FIG. 13 is an enlarged cross-sectional perspective view showing another example of a dielectric antenna.
FIG. 14 is an enlarged cross-sectional perspective view showing another example of a dielectric antenna.
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a process of providing a dielectric antenna in a through hole of a surface electrode
FIG. 16 is a cross-sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode
FIG. 17 is a cross-sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode
FIG. 18 is a cross-sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode
FIG. 19 is a cross-sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode
FIG. 20 is a cross-sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode
FIG. 21 is a sectional view showing another example of the step of providing a dielectric antenna in the through hole of the surface electrode.
FIG. 22 shows another embodiment of the present invention.Reference examplePartially enlarged sectional view showing the electrode structure of a light emitting diode
FIG. 23 shows another embodiment of the present invention.Reference exampleSectional view showing the electrode structure of a light emitting diode
[Explanation of symbols]
1 ... Light emitting chip
2. Dielectric antenna
3 ... Surface electrode
4 ... Surface electrode layer
5 ... Backside semiconductor layer
6 ...
7 ... recess
8 ... Back electrode
9 ... phosphor layer
10. Dielectric film
11 ... Nonlinear optical material layer
12 ... Dielectric film
13 ... Board
14 ... through hole
20 ... Light emitting chip
21 ...
21B: Bonding
Claims (15)
表面電極(3)が内面で光を反射させる金属電極層で、この表面電極(3)に光を透過できる複数の貫通孔(14)を設けて
この貫通孔をスリットとして、
このスリットの長さ(W)をスリット幅(H)よりも大きく、かつ発光チップ(1)の発光波長のピーク波長λのλ/2よりも大きくしており、
さらにまた貫通孔(14)には誘電体アンテナ(2)を設けて、
この誘電体アンテナ(2)を発光チップ(1)の表面半導体層(4)の表面に設けている表面電極(3)から突出するように設けており、さらに、この誘電体アンテナ(2)は、発光チップ(1)の表面半導体層(4)の表面から内部に向かって突出して設けられ、
前記誘電体アンテナ(2)は柱状であって、誘電体アンテナ(2)を形成している誘電体の誘電率を1.1〜10としており、
また、誘電体アンテナ(2)の高さ(T)が発光チップ(1)の最大ピーク波長λmaxの0.5〜5倍で、最小幅(D)が高さの0.5〜2倍で、隣接する誘電体アンテナ(2)の間隔(L)が最大ピーク波長λmaxの0.5〜10倍としてなる発光ダイオード。A light emitting chip (1) having a surface electrode (3) on the first surface side, and a second surface side on the opposite surface opposite to the first surface side of the light emitting chip (1). A light-emitting diode having a light reflecting layer (6),
The surface electrode (3) is a metal electrode layer that reflects light on the inner surface, and the surface electrode (3) is provided with a plurality of through holes (14) that can transmit light, and the through holes serve as slits.
The length (W) of the slit is larger than the slit width (H) and larger than λ / 2 of the peak wavelength λ of the light emitting wavelength of the light emitting chip (1),
Furthermore, the through hole (14) is provided with a dielectric antenna (2),
The dielectric antenna (2) is provided so as to protrude from the surface electrode (3) provided on the surface of the surface semiconductor layer (4) of the light-emitting chip (1), and the dielectric antenna (2) , Provided to protrude from the surface of the surface semiconductor layer (4) of the light emitting chip (1) toward the inside,
The dielectric antenna (2) is columnar, and the dielectric constant of the dielectric forming the dielectric antenna (2) is 1.1 to 10,
The height (T) of the dielectric antenna (2) is 0.5 to 5 times the maximum peak wavelength λmax of the light emitting chip (1), and the minimum width (D) is 0.5 to 2 times the height. A light emitting diode in which the distance (L) between adjacent dielectric antennas (2) is 0.5 to 10 times the maximum peak wavelength λmax.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374936A JP4538176B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Light emitting diode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374936A JP4538176B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Light emitting diode |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003174195A JP2003174195A (en) | 2003-06-20 |
| JP4538176B2 true JP4538176B2 (en) | 2010-09-08 |
Family
ID=19183405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001374936A Expired - Fee Related JP4538176B2 (en) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | Light emitting diode |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4538176B2 (en) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10234977A1 (en) | 2002-07-31 | 2004-02-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Radiation-emitting thin layer semiconductor component comprises a multiple layer structure based on gallium nitride containing an active radiation-producing layer and having a first main surface and a second main surface |
| US8604497B2 (en) | 2003-09-26 | 2013-12-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Radiation-emitting thin-film semiconductor chip |
| KR100675202B1 (en) | 2006-02-02 | 2007-01-29 | 삼성전기주식회사 | Vertical structure gallium nitride-based light emitting diode device and method of manufacturing the same |
| EP1887634A3 (en) | 2006-08-11 | 2011-09-07 | OSRAM Opto Semiconductors GmbH | Semiconductor light emitting device |
| CN101836304B (en) * | 2007-10-25 | 2015-04-29 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | Polarized light emitting device |
| JP5204177B2 (en) * | 2010-09-06 | 2013-06-05 | 株式会社東芝 | Semiconductor light emitting device and manufacturing method thereof |
| WO2013146623A1 (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 第一実業株式会社 | Light emitting diode fabrication process |
| WO2015060687A1 (en) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 주식회사 세미콘라이트 | Semiconductor light emitting diode |
| CN109980059A (en) * | 2019-04-17 | 2019-07-05 | 厦门乾照半导体科技有限公司 | A kind of electrode has the LED chip structure of opening |
-
2001
- 2001-12-07 JP JP2001374936A patent/JP4538176B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003174195A (en) | 2003-06-20 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040726 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070316 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070717 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080512 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080826 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081025 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20081031 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20081226 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100422 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100621 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| S202 | Request for registration of non-exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R315201 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |