JP4540060B2 - Method for producing tamsulosin - Google Patents
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Description
この発明は、タムスロシン化合物の新規な製造方法に関する。 The present invention relates to a novel process for the preparation of tamsulosin compound.
アメリカ合衆国特許第5,447,958号にはタムスロシン化合物が高血圧、心臓衰弱、心臓の痛み、前立腺肥大に対して極めて好ましい医療効果を有すると記載されている。また、該特許に開示するタムスロシン化合物は、以下の式2Aのスルフォ化合物の塩基塩、及び以下の式3の臭化物を反応させて得る。
以下に掲げる式2Bのスルフォ塩(式2Aのスルフォ化合物の塩基塩)は、以下の工程1の製法で合成する。該工程1は式4のベンゼン基アミノ化合物から生成し、式5Aのスルフォ化合物を得てから式6Aのスルフォンアミド化合物の中間生成物を得て、最終的に式2Bのスルフォ塩を得る。
式4Aのフェニル基アミノ化合物の合成は、アメリカ合衆国特許第4,000,197号、及びJ.Med.Chem.1972,16,480−483に開示される。即ち、4−メトキシベンゼンアセトンと、(R)−α−メチルベンジルアミノとによって縮合し、次いでN=Nの二重連結を水素化し、還元性の脱ベンジル反応を行う。式4Aのフェニル基アミン化合物の総産出率は25%であって、かつ対掌体の純度は99%を超える。 Synthesis of phenyl group amino compounds of formula 4A is described in U.S. Pat. No. 4,000,197; Med. Chem. 1972, 16, 480-483. That is, condensation is performed with 4-methoxybenzeneacetone and (R) -α-methylbenzylamino, and then the N = N double linkage is hydrogenated to perform a reductive debenzylation reaction. The total yield of the phenyl group amine compound of formula 4A is 25% and the enantiomer purity is over 99%.
Synth,Commun.1998,28,1935−1945においてYamadaなどの人士が述べるところによれば、式4のフェニル基アミン化合物を合成する方法は、光学上純質のL―チロシン酸を初期材料とする。この反応の特徴は形成される産物が旋光純度を具える点にある。中間物である式4Bのフェニルアミド塩(式4のフェニルアミド化合物の塩基塩)の製造は8つのステップによってなり、中間物である式5Aのアミド化合物に延伸させるとステップは9つになる。上述のYamada氏の述べる製造方法を工程2に開示する。 Synth, Commun. 1998, 28, 1935-1945, as described by Yamada et al., The method for synthesizing the phenyl group amine compound of formula 4 uses optically pure L-tyrosine acid as the initial material. The characteristic of this reaction is that the product formed has optical rotation purity. Preparation of the intermediate phenylamide salt of formula 4B (base salt of the phenylamide compound of formula 4) consists of 8 steps, and stretching to the intermediate amide compound of formula 5A results in 9 steps. The manufacturing method described by Mr. Yamada is disclosed in Step 2.
工程2においては、式7のチロシン酸化合物から生成を開始し、式8のアミノエステル化合物、式9のフェノールアミターゼ化合物、式10のエーテルアミターゼエステル化合物、式11のアルコールエーテルアミターゼ化合物、式12のベンゼンスルフォンアミターゼ化合物、式13のヨウ素化合物、式14のエーテルアミターゼ化合物の順に生成して、最終的に式4Bのフェニル基アミノ塩を得る。
この発明は、総収率が高く、反応のステップが少なく、効率のよい製造が得られるタムスロシンの製造を提供することを課題とする。 The present invention, the total yield is high, the step of the reaction is small, and an object thereof is to provide a preparation of Tamusuroshi emissions that efficient production can be obtained.
そこで本発明者は、従来の技術に鑑み鋭意研究を重ねた結果、スルフォンアミド化合物の塩酸塩とエーテル化合物とを反応させてタムスロシンを得る方法によって課題を解決できる点に着眼し、係る知見に基づき本発明を完成させた。
以下、この発明について具体的に説明する。
Therefore, as a result of intensive research in view of conventional techniques, the present inventor has focused on the point that the problem can be solved by a method of obtaining tamsulosin by reacting a hydrochloride of a sulfonamide compound and an ether compound, and based on such knowledge The present invention has been completed.
The present invention will be specifically described below.
請求項1に記載するタムスロシンの製造方法は、次に掲げる式1の分子式を含むタムスロシンの製造方法であって、
式1のタムスロシンを得るために、式2のスルフォンアミド化合物の塩酸塩を、式21のエーテル化合物と反応させること;
Reacting the hydrochloride salt of a sulfonamide compound of formula 2 with an ether compound of formula 21 to obtain tamsulosin of formula 1;
請求項2に記載するタムスロシンの製造方法は、請求項1において、下記の中間物が、式5のアセトアミド化合物を準備するために使用される、
(5)
次の式を有する、式15のフェノールアミド酸化物、ここに、Rはアルキル基またはアリル基を表す、
次の式を有する、式16のフェノールアミドエステル、ここに、RおよびR′はアルキル基またはアリル基を表す、
次の式を有する、式17のエーテルアミドエステル、ここに、R、R′およびR″はアルキル基またはアリル基を表す、および
次の式を有する、式18の水酸化エーテルアミド酸化物、ここに、RおよびR′はアルキル基またはアリル基を表す、
(5)
A phenolamide oxide of formula 15 having the formula: wherein R represents an alkyl group or an allyl group,
A phenolamide ester of formula 16 having the formula: wherein R and R 'represent an alkyl group or an allyl group;
An ether amide ester of formula 17 having the formula: wherein R, R 'and R "represent an alkyl or allyl group, and
A hydroxylated etheramide oxide of formula 18 having the formula: wherein R and R ′ represent an alkyl group or an allyl group;
請求項3に記載するタムスロシンの製造方法は、請求項1において、式21(R″はMeC 6 H 4 SO 2 またはMeSo 2 )のエーテルベンゼントシレイト化合物が、式19の2−エトキシフェノールを式20のエーテルベンゼンアルコールに、そして、式21のエーテルベンゼントシレイトに転換することによって準備され、
請求項4に記載するタムスロシンの製造方法は、請求項1において、次に掲げる式1の分子式を含むタムスロシンの製造方法であって、
式1のタムスロシンを得るために、式2のスルフォンアミド化合物の塩酸塩を式21のエーテル化合物と反応させること;
(a)クロロスルフォン酸、続く(b)テトラヒドロフラン(THF)中のアンモニアと反応させ、続いて、塩酸水溶液のもとで、式2Bのスルフォンアミド化合物の塩酸塩を得ることにより行われる;
(5)
式15のフェノールアミド酸は、次の式を有する:
(6)
式16のフェノールアミドエステルは次式を有する。
(7)
式17のエーテルアミドエステルは、次の式を有する、
該アルキル化剤は、R 2 SO 4 ,RI、RBrおよびそれらの結合物から成るグループから選択されり、該基は、アミン、炭酸エステル、炭酸水素塩、アミド、アルコキシドおよびそれらの結合物から成るグループから選択され、該溶剤は、H 2 O、ケトン、アルカン、エーテル、DMF、DMSO、尿素およびそれらの結合物から成るグループから選択される:
(8)
式18のヒドロキシエーテルアミドは、次の式を有する。
式18のヒドロキシエーテルアミドは、酸ハロゲン化物、溶剤、有機酸、MXnおよびMを使用して式5のアセトアミドを準備するために使用される、該酸ハロゲン化物は、TsCl、MsCl、SOCl 2 、SO 2 Cl 2 、PCl 3 、POCl 5 、塩化酸化物およびそれらの結合物から成るグループから選択され、該溶剤は、THF、ケトン、アルカン、エーテル、DMF、DMSO、CH 2 Cl 2 、CHCl 3 、CCl 4 、尿素およびそれらの結合物から成るグループから選択され、該有機酸は、シュウ酸(COOH) 2 、RCOOHおよびそれらの結合物から成るグループから選択され、ここに、RはH、アルキル基あるいはアリル基であり、該Mは、Li、Na、K、Mg、Ca、Zn、Pt、Pd、Cu、Co、Mn、Fe、NiおよびCdであり、該Xは、Cl、Br、IおよびOAcから成るグループから選択され、ここに、n値は、金属の原子価に基づく1−3である、ことを特徴とする。
The method for producing tamsulosin according to claim 4 is the method for producing tamsulosin according to claim 1, comprising the molecular formula of the following formula 1,
Reacting the hydrochloride salt of a sulfonamide compound of formula 2 with an ether compound of formula 21 to obtain tamsulosin of formula 1;
Carried out by reacting with (a) chlorosulfonic acid, followed by (b) ammonia in tetrahydrofuran (THF), followed by the hydrochloride of the sulfonamide compound of formula 2B under aqueous hydrochloric acid;
(5)
The phenolamic acid of formula 15 has the following formula:
(6)
The phenolamide ester of formula 16 has the following formula:
(7)
The ether amide ester of formula 17 has the following formula:
The alkylating agent is selected from the group consisting of R 2 SO 4 , RI, RBr and conjugates thereof, wherein the group consists of amines, carbonates, bicarbonates, amides, alkoxides and conjugates thereof. Selected from the group, the solvent is selected from the group consisting of H 2 O, ketones, alkanes, ethers, DMF, DMSO, urea, and combinations thereof:
(8)
The hydroxy ether amide of formula 18 has the following formula:
The hydroxy ether amide of formula 18 is used to prepare the acetamide of formula 5 using acid halide, solvent, organic acid, MXn and M. The acid halide is TsCl, MsCl, SOCl 2 , Selected from the group consisting of SO 2 Cl 2 , PCl 3 , POCl 5 , chloride oxide and combinations thereof, the solvent being THF, ketone, alkane, ether, DMF, DMSO, CH 2 Cl 2 , CHCl 3 , CCl 4 is selected from the group consisting of urea, and their conjugates, organic acid is selected from the group consisting of oxalic acid (COOH) 2, RCOOH and their conjugates, where, R represents H, an alkyl group Alternatively, it is an allyl group, and M is Li, Na, K, Mg, Ca, Zn, Pt, Pd, Cu, Co, M Fe, Ni and Cd, wherein X is selected from the group consisting of Cl, Br, I and OAc, wherein the n value is 1-3 based on the valence of the metal, To do.
本発明のタムスロシン、及び関連するアリル基派生物の製造は、総収率が高く、かつ反応のステップが少なく、効率のよい製造が得られるとともに、得られる薬物に含まれる不純物の含有率を規範内に押さえることができるという利点がある。さらに、光学的純度を具える初期原料を用いることによって、特定の規格の原料産物の化合物が得られ、医薬の要求に適合させることができるという利点がある。 The production of tamsulosin of the present invention and related allyl group derivatives has high overall yield, few reaction steps, efficient production, and the content of impurities contained in the resulting drug There is an advantage that it can be held in. Furthermore, by using an initial raw material having optical purity, there is an advantage that a compound of a raw material product of a specific standard can be obtained and can be adapted to the pharmaceutical requirements.
この発明は、アミノスルフォンアシルを合成して代替とするフェネチルアミノ派生物、及びタムスロシンの製造方法に関し、特に、次に掲げる式1の分子式を含むタムスロシン化合物(式1におけるR1及びR2がC1−C4アルキル基を表す)及びその塩酸塩、各種医薬上使用可能な塩類の製造方法を提供するものである。
該方法は、次に掲げる式2のスルフォンアミド化合物の塩酸塩と次に掲げる式21のエーテル化合物とを反応させて式1のタムスロシンを得るものであって、
The method comprises reacting a hydrochloride salt of a sulfonamide compound of the following formula 2 with an ether compound of the following formula 21 to obtain a tamsulosin of the formula 1,
上述するように、式1のタムスロシン化合物(式1におけるR1及びR2がC1−C4アルキル基を表す)の合成は、キー中間物である次の式5Aのアミド化合物に関連する。そこで、ホン発明においては、次に掲げる工程3に開示するように、中間物である式5Aのアミド化合物を生成する新規な方法を開示する。該方法には次の式15Aのフェニルアミド酸化合物、式16Aのフェニルアミドエステル化合物、式18のアルコールエーテルアミド化合物などの中間物を含み、かつこれら化合物は、いずれも新規に生成した新型の中間物である。
本発明のタムスロシン化合物は、従来の方法に比して総収率が高く、かつ反応のステップが少なく、効率のよい製造が得られるとともに、得られる薬物に含まれる不純物の含有率を規範の上限内に押さえることができる。さらに、光学的純度を具える初期原料を用いることによって、特定の規格の原料産物の化合物が得られ、医薬の要求に適合させることができる。 The tamsulosin compound of the present invention has an overall yield higher than that of the conventional method, and there are few reaction steps, and an efficient production can be obtained. Can be held in. Furthermore, by using an initial raw material with optical purity, a compound of a raw material product of a specific standard can be obtained and adapted to the requirements of medicine.
また、この発明では新規な、キー中間物である次の式21のエーテルベンゼンスルフォン化合物を開示する。該エーテルベンゼンスルフォンを式3の臭化物の代替としてタムスロシン化合物を生成する。エトキシベンゼン(19A)を初期原料とし、クロルアセチルアルコールと式19Aのエーテルフェニル化合物とを反応させ。式20Aのエーテルフェニルアルコール化合物を得て、さらにトルエンスルフォンに作用させて、キー中間物である式21Aのエーテルベンゼンスルフォン化合物を得る。 The present invention also discloses a novel ether benzene sulphone compound of the following formula 21, which is a key intermediate. The ether benzene sulphone replaces the bromide of formula 3 to produce a tamsulosin compound. Using ethoxybenzene (19A) as an initial raw material, chloroacetyl alcohol is reacted with an ether phenyl compound of formula 19A. An ether phenyl alcohol compound of formula 20A is obtained and further reacted with toluene sulfone to obtain an ether benzene sulfone compound of formula 21A which is a key intermediate.
式21Aのエーテルベンゼンスルフォン化合物を式3の臭化物に変えて使用する利点は、反応の操作のステップが簡略化できるとともに、危険なハロゲン化廃棄物が招く汚染を防ぐことができるという点にある。式21Aのエーテルベンゼンスルフォン化合物の生成方法は下記の工程4に開示するように、式19Aのエーテルフェニル化合物を式20Aのエーテルフェニルアルコール化合物に転換した後、式21Aのエーテルベンゼンスルフォン化合物を生成する。
この発明の方法では、中間物の式5Aのアミド化合物を式6Aのスルフォンアミド化合物に転換し、酸性の条件の下において式2Bのスルフォンアミド塩を得る。式2Bのスルフォンアミド塩と式21Aのエーテルベンゼンスルフォン化合物とを反応させてタムスロシン(tamsulosin、式1、R1=乙基、R2=甲基)を生成する。式1のタムスロシン化合物を部分的に合成するステップは工程5に開示する通りである。
この発明はアミノスルフォンアシルで代替とするフェネチルアミノ派生物、及びその酸化した後に生成するアミノ塩を製造する新規な方法に関し、初期原料である式7のチロシン酸(L−Tyrosine)から式15のフェニルアミド酸化合物を生成する方法を次に掲げる工程6に開示する。
前記生成方法は、アシル剤及び溶剤を使用する。アシル化剤はRCOX、(RCOX)2O、もしくはその組み合わせであって、該Rはアルキル基か、もしくはアリル基であり、Xはハロゲン素か、もしくはダ脱離基であって、溶剤はアルカンか、エーテルか、ジメチルホルムアミドか、ジメチルスルフォキシドか、ケトン類か、尿素か、もしくはその任意の組み合わせである。 The production method uses an acyl agent and a solvent. The acylating agent is RCOX, (RCOX) 2 O, or a combination thereof, wherein R is an alkyl group or an allyl group, X is a halogen or a da leaving group, and the solvent is an alkane. Or ether, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, ketones, urea, or any combination thereof.
式15のフェニルアミド酸化合物から式16のフェニルアミドエステル化合物を生成する方法は、次に掲げる工程7のとおりである。
この方法には酸塩化物及びR’OHを使用する。酸塩化物は三塩化燐か、五塩化燐か、POCL5か、塩化チオニルか、エチルチオニルか、もしくはその組み合わせであって、該R、R’はアルキル基かアリル基を代表する。 This method uses acid chloride and R′OH. The acid chloride is phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, POCL 5 , thionyl chloride, ethyl thionyl, or a combination thereof, and R and R ′ represent an alkyl group or an allyl group.
さらに、式16のフェニルアミドエステルから式17のエチルアミドエステル化合物を生成する方法は、次に掲げる工程8のとおりである。
前記方法にはアルキル化剤、アルカリと溶剤を使用する。該アルキル化剤は硫酸ジエチルか、ヨウ化メチルか、臭化アルカンか、もしくはその組み合わせであって、アルカリはアミド化物か、炭酸塩か、炭酸水素塩か、アミドか、アルコキシドか、もしくはその組み合わせであって、溶剤は水か、ケトン類か、アルカンか、エーテル類か、ジメチルホルムアミドか、ジメチルスルフォキシドか、尿素か、もしくはその組み合わせである。 The method uses an alkylating agent, an alkali and a solvent. The alkylating agent is diethyl sulfate, methyl iodide, alkane bromide, or a combination thereof, and the alkali is an amidated compound, carbonate, bicarbonate, amide, alkoxide, or a combination thereof The solvent is water, ketones, alkanes, ethers, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, urea, or a combination thereof.
式17のエチルアミドエステル化合物から式18のアルコールエーテルアミド化合物を生成する方法は、次に掲げる工程9のとおりである。
前記方法は還元剤と溶剤を使用する。該還元剤は水酸化アルミリチウム(LiAlH4)か、水素化イソブチルアルミニウム(DIBAL)か、K−セレクトレイド(K−selectride)か、L−セレクトレイド(L−selectride)か、水酸化ホウ素(BH3)か、四水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)か、もしくはこれら組み合わせであって、溶剤はエーテル類か、アルコール類か、水か、アルカンか、ジメチルホルムアミドか、ジメチルスルフォキシドか、尿素か、もしくはこれらの組み合わせである。 The method uses a reducing agent and a solvent. The reducing agent is lithium aluminum hydroxide (LiAlH 4 ), isobutylaluminum hydride (DIBAL), K-selectride (K-selectride), L-selectride (L-selectride), boron hydroxide (BH). 3 ), sodium tetraborohydride (NaBH 4 ), or a combination thereof, and the solvent is ethers, alcohols, water, alkanes, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, urea Or a combination of these.
次に掲げる工程10に開示する方法は、式18のアルコールエーテルアミド化合物をアシル化する方法、即ち、式5のアミド化合物を生成する方法である。
前記方法は酸化ハロゲン、溶剤、有機酸化合物、MXnとMを使用する。該酸化ハロゲンは塩化トルエンスルフォニル(TsCl)か、塩化メチルスルフォニル(MsCl)か、塩化スルフリル(SOCl2)か、塩化チオニル(SO2Cl2)か、三塩化燐(PCl3)か、五塩化燐(PCl5)か、POCl5か、エチルチオニルか、もしくはこれらの組み合わせであって、溶剤はテトラヒドロフランか、ケトン類か、アルカンか、エーテル類か、ジメチルホルムアミドか、ジメチルスルフォキシドか、塩化メチレンか、クロロホルムか、四クロロメタンか、尿素か、もしくはこれらの組み合わせであり、該有機酸化合物はシュウ酸((COOH)2)か、RCOOHか、もしくはこれらの組み合わせであって、該Rは水素、アルキル基、もしくはアリル基であり、該Mはリチウムか、ナトリウムか、カリウムか、マグネシウムか、カルシウムか、亜鉛か、プラチナか、パラジウムか、銅か、コバルトか、マンガンか、鉄か、ニッケルか、もしくはカドミウムであって、該xは、塩素か、臭素か、ヨウ素か、もしくは酢酸根であって、かつnの数値が金属の価数に基づき1〜3である。 The method uses halogen oxide, solvent, organic acid compound, MXn and M. The halogen oxide may be toluenesulfonyl chloride (TsCl), methylsulfonyl chloride (MsCl), sulfuryl chloride (SOCl 2 ), thionyl chloride (SO 2 Cl 2 ), phosphorus trichloride (PCl 3 ), phosphorus pentachloride (PCl 5 ), POCl 5 , ethyl thionyl, or a combination thereof, and the solvent is tetrahydrofuran, ketones, alkanes, ethers, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methylene chloride , Chloroform, tetrachloromethane, urea, or a combination thereof, and the organic acid compound is oxalic acid ((COOH) 2 ), RCOOH, or a combination thereof, where R is hydrogen , An alkyl group, or an allyl group, and M is lithium, sodium, Potassium, magnesium, calcium, zinc, platinum, palladium, copper, cobalt, manganese, iron, nickel, or cadmium, where x is chlorine, bromine, iodine Or an acetic acid radical, and the value of n is 1 to 3 based on the valence of the metal.
上述の内容を受けて、式1のタムスロシン化合物の生成は、キーポイントの中間物である式5のホルムアミド化合物と相関関係がある。上述の生成方法によって得られた式5のホルムアミド化合物によって、式1のタムソロシン化合物が合成される。 In view of the above, the formation of the tamsulosin compound of formula 1 correlates with the formamide compound of formula 5 which is a key point intermediate. The tamsolocin compound of formula 1 is synthesized from the formamide compound of formula 5 obtained by the above-described production method.
この発明は、以下に記載する実例によって詳しく理解することができるが、但し、この発明は実例の範囲だけに限られるものではない。
式7のチロシン酸化合物(20.01g、110.4mmol)の水溶液(120ml)を無水酢酸(13.51g、132.4mmol)に加えた。4〜5時間加熱して回流後、蒸留法により該溶液を濃縮すると、淡い黄色の粘着性を具えた残留物が得られた。残留物はアセトン(80ml)で溶解して、未反応の式7のチロシン化合物をろ過により取り除いた。減圧により、ろ過による抽出物を濃縮し、残留物を再び酢酸エチル(100ml)で溶解し、水(50ml)で洗浄した。硫酸マグネシウムを乾燥し、減圧により濃縮して71%の収率のコロイド状の半固形の式15Aのフェニルアミドエステル化合物(17.62g、78.93mmol)を得た。 An aqueous solution (120 ml) of the tyrosine acid compound of formula 7 (20.01 g, 110.4 mmol) was added to acetic anhydride (13.51 g, 132.4 mmol). After heating for 4-5 hours and circulating, the solution was concentrated by distillation to obtain a light yellow sticky residue. The residue was dissolved with acetone (80 ml), and the unreacted tyrosine compound of formula 7 was removed by filtration. The extract by filtration was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved again with ethyl acetate (100 ml) and washed with water (50 ml). Magnesium sulfate was dried and concentrated under reduced pressure to give a 71% yield of colloidal semi-solid phenylamide ester compound of formula 15A (17.62 g, 78.93 mmol).
mp(メチルアルコールから再結晶)152−153℃;施光率
=+50.9720°;1HNMR(D2O,400MHz)δ2.07(s.3H,COCH3),
1.82-2.86(m,1H,ArCHH),2.96-3.01(m,1H,ArCHH),3.67-3.70(m,1H,CHCOO),6.70(d,j=8.0Hz,2H,ArH),7.01(d,j=8.0Hz,2H,ArH);IR(neat)3207(s),2961(m),1609(s),1591(s),1513(s),1455(s),1417(s),1363(s),1331(s),1267(m),1245(s),1214(m),1154(m),1112(m),1099(m),1042(m),984(w),939(w),897(w),877(m),841(s),794(m),740(m),713(w),640(m),575(s),529(s),493(m),433(m)cm-1.
mp (recrystallized from methyl alcohol) 152-153 ° C;
= + 50.9720 °; 1 HNMR (D 2 O, 400 MHz) δ 2.07 (s.3H, COCH3),
1.82-2.86 (m, 1H, ArCHH), 2.96-3.01 (m, 1H, ArCHH), 3.67-3.70 (m, 1H, CHCOO), 6.70 (d, j = 8.0Hz, 2H, ArH), 7.01 (d , j = 8.0Hz, 2H, ArH); IR (neat) 3207 (s), 2961 (m), 1609 (s), 1591 (s), 1513 (s), 1455 (s), 1417 (s), 1363 (s), 1331 (s), 1267 (m), 1245 (s), 1214 (m), 1154 (m), 1112 (m), 1099 (m), 1042 (m), 984 (w), 939 (w), 897 (w), 877 (m), 841 (s), 794 (m), 740 (m), 713 (w), 640 (m), 575 (s), 529 (s), 493 (m), 433 (m) cm −1 .
16A(8.225g、32.73mmol):mp(50%の酢酸エチルをヘキサンで再結晶した)126.0−128.0℃;施光率
=−1.7632°;1HNMR(CDCl3,400MHz)δ1.24(t,J=6.8Hz,3H,CH2CH3),
1.97(s,3H,CHCH3)2.95-3.08(m,2H,ArCH2),4.16(q,J+8.0Hz,2H,ArH);IR(neat)3384(br).3020(m)2729(m),2851(m),1733(s)1652(s),1615(s),1542(m),1516(s),1446(m),1376(m),1219(s),1125(w),1026(w),828(w),769(s),668(m),518(m)cm-1.
16A (8.225 g, 32.73 mmol): mp (50% ethyl acetate recrystallized with hexane) 126.0-128.0 ° C .;
= −1.7632 °; 1 HNMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 1.24 (t, J = 6.8 Hz, 3H, CH 2 CH 3 ),
1.97 (s, 3H, CHCH 3 ) 2.95-3.08 (m, 2H, ArCH 2 ), 4.16 (q, J + 8.0Hz, 2H, ArH); IR (neat) 3384 (br) .3020 (m) 2729 ( m), 2851 (m), 1733 (s) 1652 (s), 1615 (s), 1542 (m), 1516 (s), 1446 (m), 1376 (m), 1219 (s), 1125 (w ), 1026 (w), 828 (w), 769 (s), 668 (m), 518 (m) cm −1 .
有機層は、10%の水酸化ナトリウム水溶液(25ml)と塩水(25ml)で洗浄し、さらに硫酸マグネシウム内で乾燥させる。ろ過した後、減圧下において濃縮し、薄い褐色の半固態で粗収率84%の式17Aに記載するエーテルアミドエステル化合物(7.113g、26.81mmol)を得た。 The organic layer is washed with 10% aqueous sodium hydroxide (25 ml) and brine (25 ml) and further dried in magnesium sulfate. After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain an ether amide ester compound described in Formula 17A (7.113 g, 26.81 mmol) in a light brown semisolid state with a crude yield of 84%.
mp(エチルアセテートの再結晶から)140−142℃、旋光率
=−1.6950°;1HNMR(CDCl3,400MHz)δ1.21(t,J=6.8Hz,3H,CH2CH3),1.92(s,3H,COCH3),3.02-3.09(m,2H,ArCH2),
3.95(s,3H,OCH3),4.14(q,J=6.8Hz,2H,COCH2),4.76-4.81(m,1H,CHCOO),6.76(d,J=8.0Hz,2H,ArH),7.02(d,J=8.0Hz,2H,ArH);IR(neat),3282(m),3075(w),2968(m),2933(m),2837(w),1716(w),1651(s),1614(s),1557(s),1514(s),1456(s),1374(s),1300(m),1248(s),1178(m),1146(w),1114(w),1035(m),975(w),815(w),775(w),608(w),562(w),523(w),419(w)cm-1
mp (from recrystallization of ethyl acetate) 140-142 ° C, optical rotation
= −1.6950 °; 1 HNMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 1.21 (t, J = 6.8 Hz, 3H, CH 2 CH 3 ), 1.92 (s, 3H, COCH 3 ), 3.02-3.09 (m, 2H, ArCH 2 ),
3.95 (s, 3H, OCH 3 ), 4.14 (q, J = 6.8Hz, 2H, COCH 2 ), 4.76-4.81 (m, 1H, CHCOO), 6.76 (d, J = 8.0Hz, 2H, ArH), 7.02 (d, J = 8.0Hz, 2H, ArH); IR (neat), 3282 (m), 3075 (w), 2968 (m), 2933 (m), 2837 (w), 1716 (w), 1651 (s), 1614 (s), 1557 (s), 1514 (s), 1456 (s), 1374 (s), 1300 (m), 1248 (s), 1178 (m), 1146 (w), 1114 (w), 1035 (m), 975 (w), 815 (w), 775 (w), 608 (w), 562 (w), 523 (w), 419 (w) cm -1
mp(エチルアセテート及びヘキサンの再結晶から)140−142℃、旋光率
=−10.9440°; 1HNMR(CDCl3,400MHz)
δ1.95(s,3H, NCOCH3),2.40(br,1H,OH,),2.75-2.85(m,2H,ArCH2),
3.57-3.67(m,2H,CH2O),3.74(s,3H,OCH3),4.08-4.14(m,1H,CHN),6.84(d,J=8.4Hz,2H,ArH),7.12(d,J=8.4Hz,2H,ArH);IR(neat),3512(br),3002(w),2984(m),2834(m),1892(w),1645(s),1577(m),1551(m),1441(m),1377(m),1300(s),1245(s),1177(s),1083(m),1041(s),821(m),614(m)cm-1.
mp (from recrystallization of ethyl acetate and hexane) 140-142 ° C, optical rotation
= -10.9440 °; 1 HNMR (CDCl 3 , 400 MHz)
δ1.95 (s, 3H, NCOCH 3 ), 2.40 (br, 1H, OH,), 2.75-2.85 (m, 2H, ArCH 2 ),
3.57-3.67 (m, 2H, CH 2 O), 3.74 (s, 3H, OCH 3 ), 4.08-4.14 (m, 1H, CHN), 6.84 (d, J = 8.4Hz, 2H, ArH), 7.12 ( d, J = 8.4Hz, 2H, ArH); IR (neat), 3512 (br), 3002 (w), 2984 (m), 2834 (m), 1892 (w), 1645 (s), 1577 (m ), 1551 (m), 1441 (m), 1377 (m), 1300 (s), 1245 (s), 1177 (s), 1083 (m), 1041 (s), 821 (m), 614 (m ) cm -1 .
mp(酢酸エチルから再結晶)90−91℃;施光率
=+9.9083°;1HNMR(CDCl3,300MHz)
δ1.08(d,J,5.4Hz,3H,CCH3),1.92(s,3H,COCH3,),2.60-2.77(m,2H,ArCH2),3.76(s,3H,OCH3),4.10-4.25(m,1H,CHMe),6.81(d,J=7.8Hz,2H,ArH),7.06(d,J=7.8Hz,2H,ArH),IR(neat),3276(br),3077(m),2969(m),2933(m),2836(m),1716(m),1647(s),1615(s),1542(s),1513(s),1456(m),1374(m),1300(m),1247(s),1178(m),1035(m),814(m),755(w),518(w),420(w)
cm-1.
mp (recrystallized from ethyl acetate) 90-91 ° C;
= + 9.9083 °; 1 HNMR (CDCl 3 , 300 MHz)
δ1.08 (d, J, 5.4Hz, 3H, CCH 3 ), 1.92 (s, 3H, COCH 3 ), 2.60-2.77 (m, 2H, ArCH 2 ), 3.76 (s, 3H, OCH 3 ), 4.10-4.25 (m, 1H, CHMe), 6.81 (d, J = 7.8Hz, 2H, ArH), 7.06 (d, J = 7.8Hz, 2H, ArH), IR (neat), 3276 (br), 3077 (m), 2969 (m), 2933 (m), 2836 (m), 1716 (m), 1647 (s), 1615 (s), 1542 (s), 1513 (s), 1456 (m), 1374 (m), 1300 (m), 1247 (s), 1178 (m), 1035 (m), 814 (m), 755 (w), 518 (w), 420 (w)
cm -1 .
mp(メチルアルコールから再結晶)198−199℃;施光率
=+13.2634°;1HNMR(D2O,400MHz)
δ0.99(d,J,6.8Hz,3H,CCH3),1.68(s,3H,COCH3,),2.43-2.49(m,1H,ArCHH),2.69-2.74(m,1H,
ArCHH),3.72(s,3H,OCH3),3.80-3.86(m,1H,CHMe),7.01(d,J=8.8Hz,1H,ArH),7.33(d,J=8.8Hz,1H,ArH),7.48(s,1H,ArH);IR(neat),3132(br),1654(s),1609(m),1536(m),1496(m),1401(s),1320(m),1283(m),1253(m),1176(w),1148(s),1070(m),1024(m),977(w),927(w),860(w),838(w),828(w),761(m),701(w),669(w),614(m),599(m),572(m),535(m),505(m),450(m)cm-1;ESI-MSm/Z287.27(M+H+).
mp (recrystallized from methyl alcohol) 198-199 ° C;
= + 13.2634 °; 1 HNMR (D 2 O, 400 MHz)
δ0.99 (d, J, 6.8Hz, 3H, CCH 3), 1.68 (s, 3H, COCH 3,), 2.43-2.49 (m, 1H, ArCHH), 2.69-2.74 (m, 1H,
ArCHH), 3.72 (s, 3H, OCH 3 ), 3.80-3.86 (m, 1H, CHMe), 7.01 (d, J = 8.8Hz, 1H, ArH), 7.33 (d, J = 8.8Hz, 1H, ArH ), 7.48 (s, 1H, ArH); IR (neat), 3132 (br), 1654 (s), 1609 (m), 1536 (m), 1496 (m), 1401 (s), 1320 (m) , 1283 (m), 1253 (m), 1176 (w), 1148 (s), 1070 (m), 1024 (m), 977 (w), 927 (w), 860 (w), 838 (w) , 828 (w), 761 (m), 701 (w), 669 (w), 614 (m), 599 (m), 572 (m), 535 (m), 505 (m), 450 (m) cm -1 ; ESI-MSm / Z287.27 (M + H + ).
mp(メチルアルコールから再結晶)272−273℃(分解);施光率 mp (recrystallized from methyl alcohol) 272-273 ° C. (decomposition);
1HNMR(CDCl3,400MHz)δ1.44(t,J,7.2Hz,3H,O
CH2CH3),3.85(t,J=7.2Hz,2H,CH2,OH),4.05-4.12(m,4H,OCH2CH3+OCH2CH2OH),6.88-6.97(m,4H,ArH);IR(neat),3547(br),3066(m),2977(s),2931(s),2877(s),1739(m),1649(m),1593(s),1503(s),1455(s),1393(m),1324(m),1253(s),1219(s),1123(s),1041(s),922(s)cm-1.
1 HNMR (CDCl 3 , 400MHz) δ1.44 (t, J, 7.2Hz, 3H, O
CH 2 CH 3), 3.85 ( t, J = 7.2Hz, 2H, CH 2, OH), 4.05-4.12 (m, 4H, OCH 2 CH 3 + OCH 2 CH 2 OH), 6.88-6.97 (m, 4H , ArH); IR (neat), 3547 (br), 3066 (m), 2977 (s), 2931 (s), 2877 (s), 1739 (m), 1649 (m), 1593 (s), 1503 (s), 1455 (s), 1393 (m), 1324 (m), 1253 (s), 1219 (s), 1123 (s), 1041 (s), 922 (s) cm- 1 .
mp(ジクロメチレンと四クロロメタンから再結晶)82−83℃;1HNMR(CDCl3,300MHz)δ1.43(t,J=10.2Hz,3H,O
CH2CH3),2.51(s,3H,ArCH3,),4.04(q,J=10.2Hz,2H,OCH2CH3),4.36(t,J=6.9Hz,2H,OCH2CH2),4.59(t,J=6.9Hz,2H,OCH2CH2),6.86-6.97(m,4H,ArH),7.10-7.22(m,4H,ArH):IR(neat)3446(br),2982(m),2934(m),2884(m),1591(s),1558(w),1509(s),1478(s),1454(s),1407(s),1394(s),1371(s),1354(s),1279(m),1259(s),1247(s),1217(s),1178(s),1127(s),1066(s),1043(s),1031(s),977(s),929(s),905(s),809(s),776(s),749(s),776(m)cm-1.
mp (recrystallized from dichloromethylene and tetrachloromethane) 82-83 ° C .; 1 HNMR (CDCl 3 , 300 MHz) δ1.43 (t, J = 10.2 Hz, 3H, O
CH 2 CH 3), 2.51 ( s, 3H, ArCH 3,), 4.04 (q, J = 10.2Hz, 2H, OCH 2 CH 3), 4.36 (t, J = 6.9Hz, 2H, OCH 2 CH 2) , 4.59 (t, J = 6.9Hz, 2H, OCH 2 CH 2 ), 6.86-6.97 (m, 4H, ArH), 7.10-7.22 (m, 4H, ArH): IR (neat) 3446 (br), 2982 (m), 2934 (m), 2884 (m), 1591 (s), 1558 (w), 1509 (s), 1478 (s), 1454 (s), 1407 (s), 1394 (s), 1371 (s), 1354 (s), 1279 (m), 1259 (s), 1247 (s), 1217 (s), 1178 (s), 1127 (s), 1066 (s), 1043 (s), 1031 (s), 977 (s), 929 (s), 905 (s), 809 (s), 776 (s), 749 (s), 776 (m) cm −1 .
mp(塩化メチレンと酢酸エチルで再結晶)129−131℃;施光率
=−14.7240°;1HNMR(CD3OD,400MHzδ0.99(d,J,6.4Hz,3H,NCHCH3),1.28(t,J=7.2Hz,3H,OCH2CH3),2.49-2.54(m,1H,ArCHH,),2.2.77-2.82(m,1H,ArCHH),2.89-2.98(m,3H,NCH2+NCH),3.88(s,3H,OCH3),3.93-4.57(m,4H,CH2CH2O+CH3CH2O),6.81-6.89(m,4H,ArH),7.03(d,J,8.4Hz,1H,ArH),7.36(d,J=804Hz,1H.ArH),7.63(s,1H,ArH);IR(neat)3284(m),2973(m),2939(m),1592(m),1504(s),1442(m),1324(s),1282(m),1249(s),1214(m),1154(s),1125(m),1073(m),1046(m),971(w),925(m),753(m)cm-1; ESI-MSm/Z409.40(M+H+).
mp (recrystallized with methylene chloride and ethyl acetate) 129-131 ° C;
= -14.7240 °; 1 HNMR (CD 3 OD, 400 MHz δ 0.99 (d, J, 6.4 Hz, 3 H, NCHCH 3 ), 1.28 (t, J = 7.2 Hz, 3 H, OCH 2 CH 3 ), 2.49-2.54 ( m, 1H, ArCHH,), 2.2.77-2.82 (m, 1H, ArCHH), 2.89-2.98 (m, 3H, NCH 2 + NCH), 3.88 (s, 3H, OCH 3 ), 3.93-4.57 (m , 4H, CH 2 CH 2 O + CH 3 CH 2 O), 6.81-6.89 (m, 4H, ArH), 7.03 (d, J, 8.4Hz, 1H, ArH), 7.36 (d, J = 804Hz, 1H ArH), 7.63 (s, 1H, ArH); IR (neat) 3284 (m), 2973 (m), 2939 (m), 1592 (m), 1504 (s), 1442 (m), 1324 (s ), 1282 (m), 1249 (s), 1214 (m), 1154 (s), 1125 (m), 1073 (m), 1046 (m), 971 (w), 925 (m), 753 (m ) cm -1 ; ESI-MSm / Z409.40 (M + H + ).
mp(50%のメチルアルコールをエチルアルコールで再結晶)230−231℃;施光率
=-5.3843°;1HNMR(CD3OD,400MHz)δ1.44-1.17
(m,6H,NCHCH3+OCH2CH2),2.71-2.76(m,1H,ArCHH),3.36-3.43(m,2H,NCH2),3.53-3.55(m,1H,NCH),3.75(s,3H,OCH3),3.94-3.97(m,2H,MeCH2O),4.04-4.19(m,2H,OCH2CH),6.84-6.96(m,5H,ArH),7.35(d,J=8.8Hz,1H,ArH),7.54(s,1H,ArH):IR(neat)3304(m),3168(m),2981(m),1610(m),1589(m),1500(s)1458(m),1392(m),1339(s),1251(s),1215(s),1160(s),1128(s),1072(m),1046(m),1018(m),820(m),749(s),718(m)
cm-1.
mp (50% methyl alcohol recrystallized with ethyl alcohol) 230-231 ° C;
= -5.3843 °; 1 HNMR (CD 3 OD, 400 MHz) δ 1.44-1.17
(m, 6H, NCHCH 3 + OCH 2 CH 2 ), 2.71-2.76 (m, 1H, ArCHH), 3.36-3.43 (m, 2H, NCH 2 ), 3.53-3.55 (m, 1H, NCH), 3.75 ( s, 3H, OCH 3 ), 3.94-3.97 (m, 2H, MeCH 2 O), 4.04-4.19 (m, 2H, OCH 2 CH), 6.84-6.96 (m, 5H, ArH), 7.35 (d, J = 8.8Hz, 1H, ArH), 7.54 (s, 1H, ArH): IR (neat) 3304 (m), 3168 (m), 2981 (m), 1610 (m), 1589 (m), 1500 (s 1458 (m), 1392 (m), 1339 (s), 1251 (s), 1215 (s), 1160 (s), 1128 (s), 1072 (m), 1046 (m), 1018 (m) , 820 (m), 749 (s), 718 (m)
cm -1 .
この発明では、タムスロシン(tamusulosin)と関連するアラキルアミン派生物の生成方法を開示した。タムスロシン化合物は、原料のL−チロシン酸を合成するステップは従来の方法に比べて簡単で短く、比較的高い収率が得られる。また、生成式1のタムスロシンを生成するために必要なキー中間物式1Aから18Aは、この発明における代表的な中間物である。 In the present invention, a method for producing aralkylamine derivatives related to tammusulosin has been disclosed. The step of synthesizing the raw material L-tyrosine acid of the tamsulosin compound is simpler and shorter than the conventional method, and a relatively high yield can be obtained. Key intermediate formulas 1A to 18A necessary for producing tamsulosin of production formula 1 are representative intermediates in the present invention.
以上はこの発明の好ましい実施例であって、この発明の実施の範囲を限定するものではない。よって、当業者のなし得る修正、もしくは変更であって、この発明の精神の下においてなされ、この発明に対して均等の効果を有するものは、いずれも本発明の特許請求の範囲に属するものとする。 The above are preferred embodiments of the present invention, and do not limit the scope of the present invention. Therefore, any modifications or changes that can be made by those skilled in the art, which are made within the spirit of the present invention and have an equivalent effect on the present invention, shall belong to the scope of the claims of the present invention. To do.
Claims (4)
(1)
次の式を有する、式15のフェノールアミド酸化物。(式中、Rはアルキル基またはアリル基を表す。)
次の式を有する、式16のフェノールアミドエステル。(式中、RおよびR′はアルキル基またはアリル基を表す。)
次の式を有する、式17のエーテルアミドエステル。(式中、R、R′およびR″はアルキル基またはアリル基を表す。)および
次の式を有する、式18の水酸化エーテルアミド酸化物。(式中、RおよびR′はアルキル基またはアリル基を表す。)
The following compound (1), (2), (3) or (4) is used to prepare the acetamide compound:
(1)
Having the following formulas, phenolic amide oxide of formula 15. (In the formula, R represents an alkyl group or an allyl group .)
Having the following formulas, phenol amide ester of formula 16. (In the formula, R and R ′ represent an alkyl group or an allyl group .)
Having the following formulas, polyetheramide ester of formula 17. ( Wherein R, R ′ and R ″ represent an alkyl group or an allyl group ) and
Having the following formulas, hydroxide amide oxide of formula 18. (In the formula , R and R ′ represent an alkyl group or an allyl group .)
ことを特徴とする請求項1に記載のタムスロシンの製造方法。 Ether compound of formula 21A is Ru are prepared by converting a 2-ethoxy phenol of formula 19 in ether benzene alcohol of formula 20.
The method for producing tamsulosin according to claim 1.
式15のフェノールアミド酸は、次の式を有する。
(2)
式16のフェノールアミドエステルは、次式を有する。
(3)
式17のエーテルアミドエステルは、次の式を有する。
該アルキル化剤は、R 2 SO 4 ,RI、RBrおよびそれらの結合物から成るグループから選択されり、該基は、アミン、炭酸エステル、炭酸水素塩、アミド、アルコキシドおよびそれらの結合物から成るグループから選択され、該溶剤は、H 2 O、ケトン、アルカン、エーテル、DMF、DMSO、尿素およびそれらの結合物から成るグループから選択される。
(4)
式18のヒドロキシエーテルアミドは、次の式を有する。
式18のヒドロキシエーテルアミドは、酸ハロゲン化物、溶剤、有機酸、MXnおよびMを使用して式5のアセトアミドを準備するために使用される、該酸ハロゲン化物は、TsCl、MsCl、SOCl 2 、SO 2 Cl 2 、PCl 3 、POCl 5 、塩化酸化物およびそれらの結合物から成るグループから選択され、該溶剤は、THF、ケトン、アルカン、エーテル、DMF、DMSO、CH 2 Cl 2 、CHCl 3 、CCl 4 、尿素およびそれらの結合物から成るグループから選択され、該有機酸は、シュウ酸(COOH) 2 、RCOOHおよびそれらの結合物から成るグループから選択される。ここに、RはH、アルキル基あるいはアリル基であり、該Mは、Li、Na、K、Mg、Ca、Zn、Pt、Pd、Cu、Co、Mn、Fe、NiおよびCdであり、該Xは、Cl、Br、IおよびOAcから成るグループから選択され、ここに、n値は、金属の原子価に基づく1−3である。
上記(1)、(2)、(3)または(4)の中間物質を使用して、下記式5Aのアセトアミドを準備し、
The phenolamic acid of formula 15 has the following formula:
(2)
The phenolamide ester of formula 16 has the following formula:
(3)
The ether amide ester of formula 17 has the following formula:
The alkylating agent is selected from the group consisting of R 2 SO 4 , RI, RBr and conjugates thereof, wherein the group consists of amines, carbonates, bicarbonates, amides, alkoxides and conjugates thereof. Selected from the group, the solvent is selected from the group consisting of H 2 O, ketones, alkanes, ethers, DMF, DMSO, urea and combinations thereof.
(4)
The hydroxy ether amide of formula 18 has the following formula:
The hydroxy ether amide of formula 18 is used to prepare the acetamide of formula 5 using acid halide, solvent, organic acid, MXn and M. The acid halide is TsCl, MsCl, SOCl 2 , Selected from the group consisting of SO 2 Cl 2 , PCl 3 , POCl 5 , chloride oxide and combinations thereof, the solvent being THF, ketone, alkane, ether, DMF, DMSO, CH 2 Cl 2 , CHCl 3 , The organic acid is selected from the group consisting of CCl 4 , urea and combinations thereof, and the organic acid is selected from the group consisting of oxalic acid (COOH) 2 , RCOOH and combinations thereof. Here, R is H, an alkyl group, or an allyl group, and M is Li, Na, K, Mg, Ca, Zn, Pt, Pd, Cu, Co, Mn, Fe, Ni, and Cd, X is selected from the group consisting of Cl, Br, I and OAc, where the n value is 1-3 based on the valence of the metal.
Using the intermediate of (1), (2), (3) or (4) above, preparing an acetamide of the following formula 5A,
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