JP4560765B2 - Manufacturing method of multilayer electronic component - Google Patents
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Description
本発明は積層型電子部品の製造方法に関し、より詳しくはセラミック素体内部に内部導体を備えた積層型インダクタ等の積層型電子部品を製造する積層型電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer electronic component, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer electronic component for manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer inductor having an internal conductor inside a ceramic body.
積層型のセラミック電子部品は、通常、薄層のセラミックシートの表面に内部導体用導電性ペーストをスクリーン印刷して導電パターンを形成し、斯かる導電パターンの形成されたセラミックシートを所定枚数積層して積層体を形成した後、該積層体に焼成処理を施し、その後外部導体を形成することにより製造している。 In a multilayer ceramic electronic component, a conductive pattern is usually formed by screen-printing a conductive paste for internal conductors on the surface of a thin ceramic sheet, and a predetermined number of ceramic sheets on which such a conductive pattern is formed are laminated. After the laminated body is formed, the laminated body is subjected to a firing treatment, and then an external conductor is formed.
そして、積層型のセラミック電子部品では、内部導体を構成する導電性材料とセラミック材料の熱膨張係数が異なり、収縮挙動が異なることから焼成時の冷却過程でセラミック素体と内部導体との間で引張応力が発生し、デラミネーション等の構造欠陥が生じ得る。しかも、セラミック材料としてフェライトを使用した場合はインピーダンスやインダクタンスが低下し、電気特性を損なうおそれがある。 In a multilayer ceramic electronic component, the coefficient of thermal expansion of the conductive material and the ceramic material that make up the inner conductor are different, and the shrinkage behavior is different. Tensile stress is generated and structural defects such as delamination can occur. In addition, when ferrite is used as the ceramic material, the impedance and inductance are reduced, and the electrical characteristics may be impaired.
したがって、内部導体とセラミック素体との間に引張応力を発生させないようにするためには、内部導体とセラミック素体との接触率を低減することが有効と考えられる。 Therefore, in order not to generate a tensile stress between the inner conductor and the ceramic body, it is considered effective to reduce the contact rate between the inner conductor and the ceramic body.
そこで、従来より、隣接する磁性体層間の間隙内に、導電体層が空隙を介して磁性体層と対向している積層型インダクタが提案されている(特許文献1)。 In view of this, a multilayer inductor has been proposed in which a conductor layer is opposed to a magnetic layer through a gap in a gap between adjacent magnetic layers (Patent Document 1).
特許文献1では、磁性体層と導電体層との間に意図的に空隙を形成することにより、導電体層の膨張や収縮によって磁性体層が受ける影響を極力低減させ、電気特性の低下するのを回避している。
In
しかしながら、上記特許文献1では、磁性体層と導電体層との間に空隙を形成しているものの、これら磁性体層と導電体層とは部分的に圧接しているため、微小な応力が残留しており、このため、小型の積層型インダクタ(例えば、縦0.1mm、横0.5mm、厚み0.5mm以下)にあっては、インダクタンスやインピーダンス等の電気特性が低下し、信頼性に劣るという問題点があった。
However, in
本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであって、より一層の応力緩和を行ない、小型製品であっても良好な電気特性を有し、信頼性の優れた積層型インダクタ等の積層型電子部品を製造することができる積層型電子部品の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and further reduces stress, has good electrical characteristics even in a small product, and has a laminated structure such as a multilayer inductor having excellent reliability. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a multilayer electronic component capable of manufacturing a mold electronic component.
上記目的を達成するために本発明者が鋭意研究を行なったところ、焼成処理を820〜870℃の低温であって酸素含有量が0.1〜10体積%(以下、「vol%」と記す。)の低酸素雰囲気で行なうことにより、セラミック素体と内部導体との界面に空隙を形成した場合は、微小な応力をも除去することができ、これにより良好な電気特性を有し信頼性の優れた小型の積層型電子部品を製造することができるという知見を得た。 As a result of intensive research conducted by the inventor in order to achieve the above object, the baking treatment is performed at a low temperature of 820 to 870 ° C. and the oxygen content is 0.1 to 10% by volume (hereinafter referred to as “vol%”). )) In a low-oxygen atmosphere, when voids are formed at the interface between the ceramic body and the internal conductor, even minute stresses can be removed, thereby providing good electrical characteristics and reliability. And obtained a knowledge that it is possible to manufacture a small-sized multilayer electronic component.
そして、導電性ペーストを上記セラミック材料よりも熱収縮させるためには、導電性粒子の焼結を阻害しない熱分解性の良好な樹脂粒子を導電性粒子及び有機ビヒクルに含有させる必要がある。 In order to cause the conductive paste to thermally shrink more than the ceramic material, it is necessary to include resin particles having good thermal decomposability that do not inhibit sintering of the conductive particles in the conductive particles and the organic vehicle.
本発明はこのような知見に基づきなされたものであって、本発明に係る積層型電子部品の製造方法は、内部導体となるべき導電層とセラミック層とを交互に積層して積層体を形成した後、該積層体に焼成処理を施してセラミック素体を作製し、前記セラミック素体内部に内部導体を具備した積層型電子部品を製造する積層型電子部品の製造方法において、前記焼成処理後には前記セラミック層を構成するセラミック材料よりも熱収縮する導電性ペーストを使用して前記導電層を形成すると共に、前記焼成処理を820〜870℃の低温であって酸素含有量が体積%で0.1〜10%の低酸素雰囲気で行い、前記セラミック素体と前記内部導体との界面に空隙を形成し、前記導電性ペーストが、少なくとも導電性粒子と、有機ビヒクルと、300〜500℃で熱分解する熱分解性を有する樹脂粒子とを含有することを特徴としている。 The present invention has been made on the basis of such knowledge, and the multilayer electronic component manufacturing method according to the present invention forms a laminate by alternately laminating conductive layers and ceramic layers to be internal conductors. Then, the multilayer body is subjected to a firing process to produce a ceramic body, and in the multilayer electronic component manufacturing method of manufacturing a multilayer electronic component having an internal conductor inside the ceramic body, after the firing process The conductive layer is formed using a conductive paste that shrinks more heat than the ceramic material constituting the ceramic layer, and the baking treatment is performed at a low temperature of 820 to 870 ° C. and the oxygen content is 0% by volume. performed in .1~10% low oxygen atmosphere, the formation of a space at the interface between the ceramic body and the inner conductor, the conductive paste includes at least conductive particles and an organic vehicle, 30 It contains the resin particle which has the thermal decomposition property which thermally decomposes at 0-500 degreeC .
また、内部導体の連続性を損なうことなく成形密度を下げるためには、積算ふるい上分布で、前記樹脂粒子の50%径D50が、前記導電性粒子の50%径D50に対し0.25〜1.50であり、前記樹脂粒子の含有量が前記導電性粒子の含有量に対し体積比率で0.5〜1.0であるのが好ましい。 Further, in order to lower the molding density without impairing the continuity of the inner conductor in the distribution on the sieve cumulative 50% diameter D 50 of the resin particles with respect to the 50% size D 50 of the conductive particles 0. The content of the resin particles is preferably 0.5 to 1.0 by volume ratio with respect to the content of the conductive particles.
さらに、所望の導電性ペーストを得るためには、前記樹脂粒子及び前記導電性粒子の含有量総計が30〜60vol%であるのが好ましい。 Furthermore, in order to obtain a desired conductive paste, the total content of the resin particles and the conductive particles is preferably 30 to 60 vol%.
また、導電性粒子及び前記樹脂粒子が薄片状或いは歪な形状になると圧着したときに成形密度が増加して高収縮を得ることができず、所望の空隙を形成することができなくなる。 In addition, when the conductive particles and the resin particles are in the shape of a flake or a distorted shape, the molding density increases when crimped and high shrinkage cannot be obtained, and a desired void cannot be formed.
すなわち、導電性粒子及び前記樹脂粒子の粒子形状は略球形状が好ましく、その場合長軸に対する短軸の比率が共に0.7〜1.0が好ましい。 That is, the particle shape of the conductive particles and the resin particles is preferably substantially spherical, and in this case, the ratio of the minor axis to the major axis is preferably 0.7 to 1.0.
また、導電性粒子の粒径が過度に小さくなると導電性粒子同士が凝集して分散性に欠け、また導電性粒子は焼成時に拡散し易くなる。一方、導電性粒子の粒径が過度に大きすぎると導電性粒子が部分的に偏在し易くなり、分布にバラツキが生じて所望の高収縮を得ることができず、しかも導電性粒子が島状に焼結し易くなって内部導体の連続性低下を招来する。さらに粒度分布が狭い範囲で揃っている方が成形密度の低下を促進して収縮量を大きくすることができる。 In addition, when the particle size of the conductive particles is excessively small, the conductive particles are aggregated and lack dispersibility, and the conductive particles easily diffuse during firing. On the other hand, when the particle size of the conductive particles is excessively large, the conductive particles are likely to be partially unevenly distributed, resulting in variation in distribution and a desired high shrinkage cannot be obtained, and the conductive particles are island-shaped. It becomes easy to sinter, and the continuity of the inner conductor is reduced. Furthermore, when the particle size distribution is even within a narrow range, the reduction of the molding density can be promoted and the shrinkage can be increased.
そこで、本発明の積層型電子部品の製造方法は、前記導電性粒子の50%径D50が1.0〜4.0μmであり、前記樹脂粒子の50%径D50が0.25〜6.0μmであり、かつ、積算ふるい上分布で前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の10%径D10が、前記50%径D50に対し共に0.5以上であり、前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の90%径D90が、前記50%径D50に対し共に2.0以下であることを特徴としている。 Therefore, the method of manufacturing multilayer electronic component of the present invention, the 50% size D 50 of the conductive particles is 1.0-4.0, 50% diameter D 50 of the resin particles is 0.25 to 6 The 10% diameter D 10 of the conductive particles and the resin particles is 0.5 μm or more with respect to the 50% diameter D 50 in a cumulative sieve distribution, and the conductive particles and the resin particles The 90% diameter D 90 of the resin particles is characterized by being 2.0 or less with respect to the 50% diameter D 50 .
上記積層型電子部品の製造方法によれば、焼成処理を酸素含有量が0.1〜10vol%の低酸素雰囲気で行っているので、従来の大気雰囲気で焼成処理を行なった場合に比べ、820〜870℃の低温で焼成処理を行なうことができる。これは、低酸素雰囲気で焼成することでセラミック中に酸素欠陥が生じ、これによって原子拡散が促進するためである。そして、このような低温で焼成処理を行なうことによって、セラミック素体と内部導体の界面における反応性が低下する。また、低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、上述と同様の理由から高温に晒される時間も短縮化することが可能となるため、内部導体の膨張率も低減される。そして、このような反応性の低下と内部導体の膨張率の低下により、内部導体のセラミック素体への圧接力(結合力)が弱くなり、引張応力を緩和することができる。また。低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、セラミック素体と内部導体との結合に関与する酸素量が低減され、これによっても引張応力をより一層低減することができる。 According to the method for manufacturing a multilayer electronic component, since the firing process is performed in a low oxygen atmosphere having an oxygen content of 0.1 to 10% by volume, compared with the case where the firing process is performed in a conventional air atmosphere, 820. The baking treatment can be performed at a low temperature of ˜870 ° C. This is because firing in a low oxygen atmosphere causes oxygen defects in the ceramic, which promotes atomic diffusion. And by performing a baking process at such low temperature, the reactivity in the interface of a ceramic element | base_body and an internal conductor falls. Further, by performing the baking treatment in a low oxygen atmosphere, it is possible to shorten the time of exposure to high temperature for the same reason as described above, and therefore the expansion coefficient of the internal conductor is also reduced. And by such a fall of reactivity and a fall of the expansion coefficient of an internal conductor, the press-contact force (bonding force) to the ceramic element | base_body of an internal conductor becomes weak, and it can relieve a tensile stress. Also. By performing the firing treatment in a low oxygen atmosphere, the amount of oxygen involved in the bonding between the ceramic body and the internal conductor is reduced, and this can further reduce the tensile stress.
また、前記導電性ペーストが、少なくとも導電性粒子と、有機ビヒクルと、300〜500℃で熱分解する熱分解性を有する樹脂粒子とを含有するので、導電性粒子が焼結する以前に樹脂粒子の焼失を開始させ、或いは完全に焼失させることができる。すなわち、導電性ペーストの焼結がセラミック素体の焼結よりも早く完了させることができ、これにより前記界面に所望の空隙を形成することができる。 In addition, since the conductive paste contains at least conductive particles , an organic vehicle, and resin particles having thermal decomposability that are thermally decomposed at 300 to 500 ° C., the resin particles are formed before the conductive particles are sintered. Can be burned out or completely burned out. That is, the sintering of the conductive paste can be completed earlier than the sintering of the ceramic body, thereby forming a desired void at the interface.
このように本発明では、300〜500℃で熱分解する熱分解性を有する樹脂粒子を含有した導電性ペーストを使用し、かつ820〜870℃の低温であって低酸素雰囲気で焼成処理を行ない、これによりセラミック素体と内部導体との界面に空隙を形成するので、前記界面における微小な応力をも除去することができ、良好な電気特性を有し信頼性の優れた小型の積層型電子部品を製造することができる。
また、前記樹脂粒子の50%径D50は前記導電性粒子の50%径D50に対し0.25〜1.50であり、前記樹脂粒子の含有量は前記導電性粒子の含有量に対し体積比率で0.5〜1.0であるので、熱分解性を有する樹脂粒子の混入により圧着時の成形密度を下げることができ、気化膨張が抑制されて引張応力が緩和され、これにより内部導体とセラミック素体との界面が圧接状態となるのを極力回避することが可能となり、良好な電気特性を有する信頼性に優れた積層型電子部品を製造することができる。
Thus, in the present invention, the conductive paste containing the thermally decomposable resin particles that are thermally decomposed at 300 to 500 ° C. is used, and the baking treatment is performed at a low temperature of 820 to 870 ° C. in a low oxygen atmosphere. Do have, since thereby forming voids in the interface between the ceramic body and the inner conductor, can also be removed small stress at the interface, it has good electrical characteristics reliability superior compact laminate Type electronic parts can be manufactured.
Further, the 50% diameter D 50 of the resin particles is 0.25 to 1.50 to 50% diameter D 50 of the conductive particles, the content of the resin particles with respect to the content of the conductive particles Since the volume ratio is 0.5 to 1.0, the molding density at the time of pressure bonding can be lowered by mixing the thermally decomposable resin particles, the vaporization expansion is suppressed, and the tensile stress is relieved. It is possible to avoid the interface between the conductor and the ceramic body from being in a pressure contact state as much as possible, and it is possible to manufacture a highly reliable multilayer electronic component having good electrical characteristics.
また、前記樹脂粒子及び前記導電性粒子の含有量総計は、30vol%〜60vol%であるので、樹脂粒子及び前記導電性粒子が導電性ペースト中に所望量含まれることとなり、焼成により所望の高収縮を得ることができ、また所望膜厚の電極パターンを形成することが可能となる。 In addition, since the total content of the resin particles and the conductive particles is 30 vol % to 60 vol %, the resin particles and the conductive particles are included in a desired amount in the conductive paste, and desired by firing. High shrinkage can be obtained, and an electrode pattern with a desired film thickness can be formed.
また、前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の粒子形状は略球形状であって、長軸に対する短軸の比率が共に0.7〜1.0であるので、歪な形状の粒子が導電性粒子や樹脂粒子の間に入り込むことはなく、成形密度が増加することもなく高収縮を確保することができる。 In addition, since the particle shape of the conductive particles and the resin particles is substantially spherical and the ratio of the short axis to the long axis is 0.7 to 1.0, the distorted particles are conductive particles. In other words, high shrinkage can be ensured without entering between the resin particles and without increasing the molding density.
また、前記導電性粒子の50%径D50が1.0〜4.0μmであり、前記樹脂粒子の50%径D50が0.25〜6.0μmであり、且つ、積算ふるい上分布で前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の10%径D10が、前記50%径D50に対し共に0.5以上であり、前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の90%径D90が、前記50%径D50に対し共に2.0以下であるので、粒子の分散性も良好であり、粒度分布が狭い範囲で揃っており、成形密度の低下を促進して高収縮を得ることができる。 Further, the 50% size D 50 of the conductive particles is 1.0-4.0, the a 50% diameter D 50 of the resin particles 0.25~6.0Myuemu, and, in the distribution on the sieve integrated 10% diameter D 10 of the conductive particles and the resin particles, the is at both 0.5 or more to 50% diameter D 50, 90% diameter D 90 of the conductive particles and the resin particles, the 50 since% diameter D are both 2.0 or less to 50, a better dispersibility of the particles, are aligned particle size distribution in a narrow range, it is possible to obtain the promotion to high shrinkage lowering of the molding density.
次に、本発明の実施の形態を図面を参照しながら詳説する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は本発明に係る積層型電子部品としての積層型インダクタの一実施の形態を示す斜視図であり、図2は積層型インダクタの断面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a multilayer inductor as a multilayer electronic component according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the multilayer inductor.
図1及び図2において、本積層型インダクタは、Ni−Zn−Cuフェライト系材料からなるセラミック素体1と、該セラミック素体1の両端部に形成された外部導体2a、2bと、セラミック素体1の内部にコイル状に形成された内部導体5(5a〜5g)とから構成されている。
1 and 2, the present multilayer inductor includes a
すなわち、上記積層型インダクタは、セラミック素体1の内部に間隙3a〜3gが列設され、内部導体5a〜5gはセラミック素体1との間に空隙4a〜4g、4a′〜4g′を有するように間隙3a〜3g内に介在されている。
That is, in the multilayer inductor,
内部導体5aは、具体的には図3に示すように、セラミック素体1に対し圧接状態とならない程度に部分的に接触しており、また、内部導体5aの表面には空孔6…が形成されている。尚、本実施の形態では内部導体5aの一部拡大図で説明したが、他の内部導体5b〜5gについても同様である。
Specifically, as shown in FIG. 3, the
本積層型インダクタは、図2に示すように、内部導体5aの引き出し部7が一方の外部導体2bと電気的に接続されると共に、内部導体5gの引き出し部8は他方の外部導体2aと電気的に接続されている。さらに、各内部導体5a〜5gは、セラミック素体1の図中、上下方向に形成されたビアホール(不図示)を介して電気的に直列に接続され、反時計回り方向に巻回されたコイルパターンを形成している。
In this multilayer inductor, as shown in FIG. 2, the
次に、上記積層型インダクタの製造方法を説明する。 Next, a method for manufacturing the multilayer inductor will be described.
まず、導電性粒子及び熱分解性を有する樹脂粒子を使用し、セラミック素体1を構成するセラミック材料よりも熱収縮する導電性ペーストを作製する。
First, using conductive particles and thermally decomposable resin particles, a conductive paste is produced that shrinks more thermally than the ceramic material that constitutes the
ここで、導電性粒子としては、導電性を有していれば特に限定されるものではなく、Ag、Pd、Pt、Au、Ni、Cuや、これらの2種又は2種以上の合金を使用することができる。 Here, the conductive particles are not particularly limited as long as they have conductivity, and Ag, Pd, Pt, Au, Ni, Cu, or an alloy of two or more of these is used. can do.
次に、熱分解性を有する樹脂粒子を使用した理由を詳述する。 Next, the reason for using the thermally decomposable resin particles will be described in detail.
内部導体5は、導電性ペーストに含有されている有機成分の脱バインダと導電性粒子の焼結によって収縮するが、脱バインダ過程で有機成分が残留炭素として残った場合、その後に行われる高温下での焼成処理で内部導体5中の残留炭素が気化膨張して空孔6を形成し、前記内部導体5は空孔6を伴ってセラミック素体1を押圧する勢いで膨張する。そしてその結果、セラミック素体1と内部導体5の界面が圧接状態となり、酸素の拡散が阻害されるため該酸素が界面に残留し、内部導体5とセラミック素体1とは酸素を介して強固に化学結合し、引張応力が発生する。
The
換言すると、界面が圧接状態にならないようにすることにより、前記酸素は界面に留まることなく外方へと拡散し、化学結合力が弱くなり、引張応力も緩和され、クラックやデラミネーション等の構造欠陥の発生を回避し得る。そして、界面が圧接状態になるのを極力回避するためには、セラミック材料よりも熱収縮する導電性ペーストを使用してセラミック素体1と内部導体5との間に空隙4、4′を形成する必要がある。
In other words, by preventing the interface from being in a pressure contact state, the oxygen diffuses outward without staying at the interface, the chemical bonding force is weakened, the tensile stress is relaxed, and a structure such as a crack or delamination is formed. The occurrence of defects can be avoided. In order to avoid the interface from being pressed as much as possible, the gaps 4 and 4 'are formed between the
そして、このような空隙4、4′を形成するためには、導電性粒子が焼結する以前に樹脂粒子の焼失を開始させ、或いは完全に焼失させ、導電性ペーストの焼結がセラミック素体1の焼結よりも早く完了させる必要がある。すなわち、例えば、導電性粒子としてAg粒子を使用した場合は、Agの焼結温度は300〜500℃であるので、樹脂粒子はAgの焼結温度である300〜500℃の低温で少なくとも焼失を開始させる必要がある。したがって、樹脂粒子としては、斯かる導電性粒子の焼結を阻害しない熱分解性の良好なものを使用する必要がある。 In order to form such voids 4, 4 ′, the burning of the resin particles is started or completely burned out before the conductive particles are sintered, and the sintering of the conductive paste is performed in the ceramic body. It must be completed earlier than the sintering of 1. That is, for example, when Ag particles are used as the conductive particles, since the sintering temperature of Ag is 300 to 500 ° C., the resin particles are at least burned down at a low temperature of 300 to 500 ° C. which is the sintering temperature of Ag. Need to get started. Accordingly, it is necessary to use resin particles having good thermal decomposability that do not inhibit the sintering of such conductive particles.
そこで、本実施の形態では、熱分解性を有する樹脂粒子を使用することにしている。 Therefore, in the present embodiment, resin particles having thermal decomposability are used.
そして、このような熱分解性を有する樹脂として、例えばアクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリイソブチレン樹脂、ポリエチレングリコール樹脂等を使用することができる。 As such a thermally decomposable resin, for example, acrylic resin, methacrylic resin, polypropylene resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin resin, polyisobutylene resin, polyethylene glycol resin, and the like can be used.
尚、圧縮強さが70MPa以上の樹脂を用いた場合は、セラミックグリーンシート(以下、「セラミックシート」という)を圧着する工程で樹脂粒子の潰れを抑制することができ、より高い電気特性を得ることができるため、特に好ましい。圧縮強さが70MPa以上の樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)樹脂や、ポリスチレン樹脂等を使用することができる。これら樹脂のASTM試験法D695による圧縮強さは、例えばPMMA樹脂が73〜125MPa、ポリスチレン樹脂が82〜89MPaである。 When a resin having a compressive strength of 70 MPa or more is used, the resin particles can be prevented from being crushed in a step of pressure bonding a ceramic green sheet (hereinafter referred to as “ceramic sheet”), and higher electrical characteristics can be obtained. This is particularly preferable. As the resin having a compressive strength of 70 MPa or more, for example, polymethyl methacrylate (PMMA) resin, polystyrene resin, or the like can be used. The compressive strength of these resins according to ASTM test method D695 is, for example, 73 to 125 MPa for PMMA resin and 82 to 89 MPa for polystyrene resin.
また、導電性粒子及び樹脂粒子は、下記(1)〜(6)を満足している。 Further, the conductive particles and the resin particles satisfy the following (1) to (6).
(1)積算ふるい上分布で樹脂粒子の50%径D50が、導電性粒子の50%径D50に対し0.25〜1.50
(2)樹脂粒子の含有量が、導電性粒子の含有量に対し体積比率で0.5〜1.0
(3)樹脂粒子及び導電性粒子の含有量総計が、体積%で30〜60vol%
(4)導電性粒子及び樹脂粒子の粒子形状が略球形状であって、長軸に対する短軸の比率が共に0.7〜1.0
(5)導電性粒子の50%径D50が1.0〜4.0μm、樹脂粒子の50%径D50が0.25〜6.0μm
(6)導電性粒子及び樹脂粒子の粒度分布が、共にD10≧D50/2、D90≦2D50
次に、上記(1)〜(6)について詳述する。
(1) 50% diameter D 50 of the cumulative sieve on distribution of resin particles relative to the 50% size D 50 of the conductive particles 0.25 to 1.50
(2) The content of the resin particles is 0.5 to 1.0 by volume ratio with respect to the content of the conductive particles.
(3) The total content of resin particles and conductive particles is 30 to 60 vol% by volume.
(4) The particle shape of the conductive particles and the resin particles is substantially spherical, and the ratio of the short axis to the long axis is 0.7 to 1.0.
(5) 50% diameter D 50 of the conductive particles is 1.0-4.0, 50% diameter D 50 of the resin particles 0.25~6.0μm
(6) particle size distribution of the conductive particles and resin particles, both D 10 ≧ D 50/2, D 90 ≦ 2D 50
Next, the above (1) to (6) will be described in detail.
(1)樹脂粒子の50%径D50
比重の軽い樹脂粒子を導電性粒子と混合させることにより成形密度が下がるため、内部導体の収縮量を大きくすることができ、これにより内部導体とセラミック素体との間に空隙を形成することができるが、樹脂粒子の50%径D50が導電性粒子の50%径D50に対し0.25未満になると、樹脂粒子の粒径が導電性粒子の粒径に対して相対的に小さくなりすぎ、このため樹脂粒子が導電性粒子の隙間に入り込んで成形密度を下げることができず、所望の高収縮を得ることができない。
(1) 50% diameter D 50 of resin particles
By mixing resin particles with low specific gravity with conductive particles, the molding density is lowered, so that the shrinkage of the inner conductor can be increased, thereby forming a gap between the inner conductor and the ceramic body. possible, the 50% diameter D 50 of the resin particles is less than 0.25 to 50% diameter D 50 of the conductive particles becomes relatively small particle size of the resin particles relative to the diameter of the conductive particles For this reason, the resin particles enter the gaps between the conductive particles and the molding density cannot be lowered, and the desired high shrinkage cannot be obtained.
一方、樹脂粒子の50%径D50が導電性粒子の50%径D50に対し1.50を超えると、樹脂粒子が相対的に大きくなりすぎ、このため導電性粒子同士が接触できなくなって該導電性粒子が島状に焼結してしまい、内部導体の連続性が低下する。 On the other hand, when the 50% diameter D 50 of the resin particles exceeds 1.50 to 50% diameter D 50 of the conductive particles, too resin particles is relatively large, it can no longer be contacted Accordingly conductive particles to each other The conductive particles are sintered in an island shape, and the continuity of the internal conductor is lowered.
そこで、本実施の形態では、樹脂粒子の50%径D50を、導電性粒子の50%径D50に対し0.25〜1.50となるようにしている。 Therefore, in this embodiment, the 50% diameter D 50 of the resin particles with respect to the 50% size D 50 of conductive particles are made to be 0.25 to 1.50.
(2)樹脂粒子の含有量
樹脂粒子の含有量が、導電性粒子に対し体積比率で0.5未満になると、導電性ペースト中に含有される樹脂粒子も過度に少なくなり、上記(1)と同様、成形密度を下げることができず、所望の高収縮を得ることができない。
(2) Resin Particle Content When the resin particle content is less than 0.5 by volume with respect to the conductive particles, the resin particles contained in the conductive paste are excessively reduced, and the above (1) Similarly to the above, the molding density cannot be lowered and the desired high shrinkage cannot be obtained.
一方、樹脂粒子の含有量が、導電性粒子に対し体積比率で1.0を超えると樹脂粒子が多くなり過ぎ、このため導電性粒子同士が接触できなくなって導電性粒子が島状に焼結してしまい、内部導体の連続性が低下する。 On the other hand, if the content of the resin particles exceeds 1.0 in terms of volume ratio with respect to the conductive particles, the resin particles increase too much, and the conductive particles cannot be brought into contact with each other, and the conductive particles are sintered in an island shape. As a result, the continuity of the inner conductor is reduced.
そこで、本実施の形態では、樹脂粒子の含有量を導電性粒子の含有量に対し体積比率で0.5〜1.0となるようにしている。 Therefore, in the present embodiment, the content of the resin particles is set to 0.5 to 1.0 by volume ratio with respect to the content of the conductive particles.
(3)樹脂粒子及び導電性粒子の含有量総計
導電性ペーストは、導電性粒子と樹脂粒子と有機ビヒクルとから構成されるが、固形分である樹脂粒子及び導電性粒子の含有量総計が60vol%を超えると有機ビヒクルの含有量が少なくなりすぎてペースト状とすることができない。
(3) Total content of resin particles and conductive particles The conductive paste is composed of conductive particles, resin particles, and an organic vehicle, but the total content of resin particles and conductive particles as solids is 60 vol. If it exceeds 50%, the content of the organic vehicle becomes too small to form a paste.
一方、樹脂粒子及び導電性粒子の含有量総計が30vol%未満になると有機ビヒクルの含有量が多くなりすぎ、ペーストを作製することができても、塗布したときに電極パターンを所定膜厚とすることができない。 On the other hand, when the total content of the resin particles and the conductive particles is less than 30 vol%, the organic vehicle content becomes too large, and even if a paste can be produced, the electrode pattern is set to a predetermined film thickness when applied. I can't.
そこで、本実施の形態では樹脂粒子及び導電性粒子の含有量総計を30〜60vol%となるようにしている。 Therefore, in this embodiment, the total content of the resin particles and the conductive particles is set to 30 to 60 vol%.
(4)導電性粒子及び樹脂粒子の粒子形状
成形密度を下げて収縮量を大きくする観点からは、導電性粒子と樹脂粒子の粒子形状は共に球形状であって、長軸に対する短軸の比率(以下、この比率を「真球度」という)は1.0であるのが望ましいが、導電性粒子と樹脂粒子の真球度を全て1.0とするのは現状では生産技術的に困難である。
(4) Particle shape of conductive particles and resin particles From the viewpoint of reducing the molding density and increasing the amount of shrinkage, the particle shape of the conductive particles and the resin particles are both spherical, and the ratio of the short axis to the long axis. (This ratio is hereinafter referred to as “sphericity”) is preferably 1.0, but it is difficult in terms of production technology to make all the sphericity of conductive particles and resin particles 1.0. It is.
しかしながら、導電性粒子及び樹脂粒子の真球度が0.7未満の歪な形状になると真球度の低い導電性粒子及び樹脂粒子が略球形状の各粒子間の隙間を埋める形で入り込み、その結果成形密度が増加し、所望の高収縮を得ることができなくなる。しかも、内部導体は、通常、導電性ペーストをスクリーン印刷して形成されるが、斯かる印刷処理で真球度の低い導電性粒子及び樹脂粒子がスクリーンに引っ掛かり、生産性の低下を招来する。 However, when the sphericity of the conductive particles and the resin particles becomes a distorted shape of less than 0.7, the conductive particles and the resin particles having a low sphericity enter in a form of filling the gaps between the substantially spherical particles, As a result, the molding density increases and the desired high shrinkage cannot be obtained. In addition, the internal conductor is usually formed by screen-printing a conductive paste, but conductive particles and resin particles having low sphericity are caught on the screen by such a printing process, resulting in a decrease in productivity.
そこで、本実施の形態では、導電性粒子及び樹脂粒子の粒子形状は略球形状であって、真球度が0.7〜1.0となるようにしている。 Therefore, in the present embodiment, the particle shape of the conductive particles and the resin particles is substantially spherical, and the sphericity is 0.7 to 1.0.
(5)導電性粒子及び樹脂粒子の粒径
内部導体5の連続性を考慮すると、導電性粒子は内部導体5中に均一に分散させるのが好ましいが、導電性粒子の50%径D50が1.0μm未満になると導電性粒子が微細になりすぎて凝集し、均一に分散し難くなり、また焼成処理で導電性粒子が拡散し易くなる。一方、導電性粒子の50%径D50が4.0μmを超えると内部導体5の厚み方向に導電性粒子のみ又は樹脂粒子のみが配されたり、或いは導電性粒子或いは樹脂粒子の一方が極端に少ない部分が生じ、均一な分散が損なわれ、このため所望の高収縮が得られなかったり、内部導体5の連続性が低下する。
(5) Conductive Particle Size and Resin Particle Size Considering the continuity of the
そこで、導電性粒子の50%径D50を1.0〜4.0μmとし、上記(1)との関係から樹脂粒子の50%径D50を0.25〜6.0μmとしている。 Therefore, the 50% diameter D 50 of the conductive particles and 1.0-4.0, and 50% diameter D 50 of the resin particles from the relation between the (1) and 0.25~6.0Myuemu.
(6)導電性粒子及び樹脂粒子の粒度分布
粒度分布が広い場合は、大きな粒子間に小さな粒子が容易に入り込み、成形密度が増加して高収縮を得ることができなくなる。すなわち、導電性粒子及び樹脂粒子の粒度分布は狭い範囲で揃っているのが好ましく、斯かる観点から本実施の形態では、導電性粒子及び樹脂粒子の粒度分布が、D10≧D50/2、D90≦2D50となるようにしている。
(6) Particle Size Distribution of Conductive Particles and Resin Particles When the particle size distribution is wide, small particles easily enter between large particles, and the molding density increases and high shrinkage cannot be obtained. That is, it is preferable that uniform in particle size distribution narrow range of the conductive particles and the resin particles, in the present embodiment from such point of view, the particle size distribution of the conductive particles and resin particles, D 10 ≧ D 50/2 , D 90 ≦ 2D 50 .
そして、上記(1)〜(6)を満足する熱分解性を有する樹脂粒子及び導電性粒子を有機ビヒクルと共に3本ロールミルで混練し、導電性ペーストを作製する。 And the resin particle and electroconductive particle which have the thermal decomposability which satisfy | fill said (1)-(6) are knead | mixed with an organic vehicle with a 3 roll mill, and an electroconductive paste is produced.
尚、有機ビヒクルは有機バインダと溶剤とからなり、有機バインダとしては、例えばエチルセルロース樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂を使用することができ、溶剤としては、例えばα−テルピネオール、テトラリン、ブチルカルビトールを使用することができる。また、有機バインダと溶剤は、配合比率が、例えば1:9となるように調製される。 The organic vehicle is composed of an organic binder and a solvent. As the organic binder, for example, ethyl cellulose resin, acrylic resin, butyral resin can be used, and as the solvent, for example, α-terpineol, tetralin, butyl carbitol is used. can do. Moreover, an organic binder and a solvent are prepared so that a compounding ratio may be set to 1: 9, for example.
そして、このように導電性ペーストを作製する一方で、Fe2O3が45〜50mol(50molを含まず)、NiOが10〜45mol、CuOが6〜14mol、ZnOが1〜35molとなるようにこれらフェライト素原料を秤量する。尚、必要に応じて、Bi、Co、Sn、Zr、Mn、Nbなどの酸化物を添加剤として加えるのも好ましい。 Then, while making such conductive paste, Fe 2 O 3 is (without 50mol) 45~50mol, NiO is 10~45Mol, CuO is 6~14Mol, so ZnO is 1~35mol These ferrite raw materials are weighed. In addition, it is also preferable to add oxides, such as Bi, Co, Sn, Zr, Mn, Nb, as an additive as needed.
次いで、これら秤量物をボールミルに投入して湿式で混合粉砕し、その後乾燥・仮焼を行い、仮焼物を得る。 Subsequently, these weighed products are put into a ball mill, mixed and pulverized in a wet manner, and then dried and calcined to obtain a calcined product.
次に、この仮焼物を再度ボールミルで十分に湿式粉砕し、乾燥して仮焼粉末を作製し、この後、該仮焼粉末をバインダ、可塑剤、及び分散剤と混合させ、溶剤中に分散させてセラミックスラリーを調製し、該セラミックスラリーをドクターブレード法等によりシート状に成形してセラミックシートを作製する。 Next, the calcined product is sufficiently wet pulverized again with a ball mill and dried to prepare a calcined powder. After that, the calcined powder is mixed with a binder, a plasticizer, and a dispersant, and dispersed in a solvent. A ceramic slurry is prepared, and the ceramic slurry is formed into a sheet shape by a doctor blade method or the like to produce a ceramic sheet.
次に、セラミックシート上の所定位置にビアホールを貫設し、該セラミックシートの表面に上記導電性ペーストをスクリーン印刷し、所定の電極パターンを形成する。 Next, a via hole is formed at a predetermined position on the ceramic sheet, and the conductive paste is screen-printed on the surface of the ceramic sheet to form a predetermined electrode pattern.
そしてこの後、電極パターンの形成されたセラミックシートをビアホールを介して電気的に直列接続可能となるように複数枚積層して積層体を形成すると共に、電極パターンの形成されていないセラミックシートで前記積層体を挟持して圧着し、圧着ブロックを作製する。 After this, a plurality of ceramic sheets with electrode patterns formed thereon are stacked so that they can be electrically connected in series through via holes to form a laminate, and the ceramic sheets with no electrode patterns formed thereon The laminate is sandwiched and crimped to produce a crimping block.
次いで、圧着ブロックを所定サイズに切断した後、所定温度(例えば、500℃以下)で脱バインダ処理を行い、その後、酸素含有量が0.1〜10vol%の低酸素雰囲気で焼成処理を行ない、セラミック焼結体を作製する。 Next, after cutting the pressure-bonding block into a predetermined size, a binder removal process is performed at a predetermined temperature (for example, 500 ° C. or less), and then a baking process is performed in a low oxygen atmosphere with an oxygen content of 0.1 to 10 vol%. A ceramic sintered body is produced.
このように低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、従来の大気雰囲気で焼成処理を行なった場合に比べ、820〜870℃の低温で焼成処理を行なうことができ、これにより、より一層の引張応力の緩和を図ることができる。 By performing the firing process in a low oxygen atmosphere in this manner, the firing process can be performed at a low temperature of 820 to 870 ° C. compared to the case of performing the firing process in a conventional air atmosphere. Stress can be relaxed.
すなわち、低温焼成を行なうことにより、セラミック素体1と内部導体5との界面における反応性が低くなり、また、被焼成物が長時間高温に晒されるのを回避することが可能となって内部導体5の膨張率が低減され、その結果、内部導体5のセラミック素体1への圧接力(結合力)が弱くなり、引張応力を緩和することができる。
That is, by performing low-temperature firing, the reactivity at the interface between the
また、低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、セラミック素体1と内部導体5との結合に関与する酸素量が低減され、これによっても引張応力をより一層低減することができる。しかも、低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、セラミック素体1に含有されているCu成分が界面に解離析出するのを極力回避することができ、これにより界面での反応性を低減することができ、より一層の応力緩和を図ることができる。
In addition, by performing the firing process in a low oxygen atmosphere, the amount of oxygen involved in the bonding between the
このように低酸素雰囲気で焼成処理を行なうことにより、より一層引張応力を緩和することができ、小型の積層型インダクタであっても、透磁率の低下を招くことなくインピーダンスやインダクタンス等の電気特性を良好なものとすることができる。 By performing firing in a low-oxygen atmosphere in this way, the tensile stress can be further reduced, and even with a small multilayer inductor, electrical characteristics such as impedance and inductance can be achieved without causing a decrease in permeability. Can be made good.
ただし、酸素含有量は上述したように0.1〜10vol%とする必要がある。 However, the oxygen content needs to be 0.1 to 10 vol% as described above.
すなわち、酸素含有量が0.1vol%未満になると、酸素含有量が低くなりすぎて還元作用が強まり、このため圧着ブロックに焼成処理を施してもフェライトから酸素が抜けすぎるため焼成が促進されず、所望の透磁率を有する積層型インダクタを得ることが困難となる。 That is, when the oxygen content is less than 0.1 vol%, the oxygen content becomes too low and the reduction action is strengthened. For this reason, firing is not promoted even if the crimping block is subjected to firing treatment because oxygen is released from the ferrite too much. Therefore, it is difficult to obtain a multilayer inductor having a desired magnetic permeability.
一方、酸素含有量が10vol%を超えると、焼成雰囲気が大気雰囲気に近づくため、引張応力の十分な緩和を行なうことができず、インダクタンスやインピーダンス等の電気特性の低下を招く。 On the other hand, if the oxygen content exceeds 10 vol%, the firing atmosphere approaches the air atmosphere, so that sufficient relaxation of the tensile stress cannot be performed, leading to a decrease in electrical characteristics such as inductance and impedance.
そこで、本実施の形態では、酸素含有量を0.1〜10vol%としている。 Therefore, in the present embodiment, the oxygen content is set to 0.1 to 10 vol%.
尚、脱バインダ処理では、導電性粒子の焼結温度(例えば300℃)よりも低温(例えば、150℃)で樹脂粒子の焼失が始まるため、樹脂粒子が抜けたところが空孔となり、有機成分の脱バインダ処理が促進され、500℃以上の焼成温度で炭素成分は残存することなく蒸発揮散する。 In the binder removal treatment, the resin particles start to be burned out at a lower temperature (for example, 150 ° C.) than the sintering temperature of the conductive particles (for example, 300 ° C.). The binder removal treatment is promoted, and the carbon component is evaporated without remaining at a firing temperature of 500 ° C. or higher.
次いで、セラミック焼結体にバレル研磨を施してセラミック素体1とした後、該セラミック素体1の両端部に導電性ペーストを塗布、焼き付けて外部導電部を形成する。
Next, the ceramic sintered body is barrel-polished to form the
そしてこの後、電解めっきを施し、外部導電部の表面にニッケル皮膜及びスズ皮膜を順次作製して外部導体2a、2bを形成し、これにより積層型インダクタが製造される。
Thereafter, electrolytic plating is performed, and a nickel film and a tin film are sequentially formed on the surface of the external conductive portion to form the
このように上記製造方法によれば、焼成処理を酸素含有量が0.1〜10vol%の低酸素雰囲気で行なっているので、セラミック素体1と内部導体5との界面における反応性を低減することができると共に、セラミック素体1と内部導体5との結合に関与する酸素量も低減することができ、これにより圧接力(結合力)を弱めることができて引張応力のより一層の緩和を図ることができ、透磁率を損なうことなく、インピーダンスやインダクタンス等の電気特性が良好な小型の積層型インダクタを高効率で容易に製造することができる。
Thus, according to the said manufacturing method, since the baking process is performed in the low oxygen atmosphere whose oxygen content is 0.1-10 vol%, the reactivity in the interface of the ceramic element | base_body 1 and the
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。上記実施の形態ではセラミック材料としてフェライト系材料を使用したが、ガラス粉末材料やその他のセラミック材料に適用できるのはいうまでもなく、したがって積層型インダクタ以外の電子部品、例えば積層型セラミックコンデンサ等にも適用できるのはいうまでもない。 The present invention is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, a ferrite-based material is used as the ceramic material, but it goes without saying that it can be applied to glass powder materials and other ceramic materials, and therefore, it is applicable to electronic components other than multilayer inductors, such as multilayer ceramic capacitors. It goes without saying that can also be applied.
また、上記実施の形態では、セラミックシートを複数枚積層するシート工法を使用したが、例えば印刷工法等、その他の工法を使用できるのはいうまでもない。 Moreover, in the said embodiment, although the sheet | seat construction method which laminates | stacks several ceramic sheets was used, it cannot be overemphasized that other construction methods, such as a printing construction method, can be used, for example.
次に、本発明の実施例を具体的に説明する。 Next, examples of the present invention will be specifically described.
(実施例1)
本発明者らは、Fe2O3が49.0mol、ZnOが29.0mol、NiOが14.0mol、CuOが8.0molとなるようにFe2O3、ZnO、NiO、及びCuOを秤量し、さらにBi2O3が0.25wt%、Mn3O4が0.15wt%となるようにBi2O3、Mn3O4を秤量した。
Example 1
The present inventors have, Fe 2 O 3 is 49.0Mol, is ZnO 29.0mol, NiO were weighed 14.0mol, Fe 2 O 3, ZnO as CuO is 8.0 mol, NiO, and CuO Further, Bi 2 O 3 and Mn 3 O 4 were weighed so that Bi 2 O 3 was 0.25 wt% and Mn 3 O 4 was 0.15 wt%.
次いで、粉砕媒体として直径1mmのPSZ(部分安定化ジルコニア)を内有したボールミルにフェライト素原料である前記秤量物を投入し、湿式で混合粉砕してスラリー状粉末とし、該スラリー状粉末をPSZと分離した後、スプレードライヤで乾燥し、温度650℃で2時間仮焼し、仮焼物を作製した。 Next, the above-mentioned weighed material, which is a raw material for ferrite, is put into a ball mill having PSZ (partially stabilized zirconia) having a diameter of 1 mm as a grinding medium, and is mixed and pulverized in a wet manner to form a slurry powder. And separated by a spray dryer and calcined at a temperature of 650 ° C. for 2 hours to prepare a calcined product.
次に、該仮焼物を前記ボールミルに再投入して十分に湿式で粉砕し、スプレードライヤで乾燥してフェライト原料(仮焼粉末)を作製した。 Next, the calcined product was re-introduced into the ball mill, sufficiently pulverized by a wet process, and dried by a spray dryer to prepare a ferrite raw material (calcined powder).
次に、この仮焼粉末にバインダとしてポリビニルブチラール、可塑剤としてジブチルフタレート、分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム塩、溶剤としてトルエン及びエチルアルコールを加えて混合し、セラミックスラリーを調製し、次いで、該セラミックスラリーをドクターブレード法によりシート状に成形し、厚さ50μmの磁性体シート(セラミックシート)を作製した。そして、レーザ加工機を使用して磁性体シートの所定箇所にビアホールを貫設した。 Next, to this calcined powder, polyvinyl butyral as a binder, dibutyl phthalate as a plasticizer, polycarboxylic acid ammonium salt as a dispersant, toluene and ethyl alcohol as solvents are added and mixed to prepare a ceramic slurry, and then the ceramic The rally was formed into a sheet shape by the doctor blade method to produce a magnetic sheet (ceramic sheet) having a thickness of 50 μm. And the via hole was penetrated in the predetermined location of the magnetic material sheet using the laser processing machine.
一方、以下のようにして導電性ペーストを作製した。 On the other hand, a conductive paste was produced as follows.
すなわち、まず、溶剤としてα−テルピネオールを使用し、有機バインダとしてエチルセルロース樹脂を使用し、エチルセルロース樹脂とα−テルピネオールとの比が10vol%:90vol%となるようにエチルセルロース樹脂をα−テルピネオールに溶解させて有機ビヒクルを作製した。 That is, first, α-terpineol is used as a solvent, ethyl cellulose resin is used as an organic binder, and ethyl cellulose resin is dissolved in α-terpineol so that the ratio of ethyl cellulose resin to α-terpineol is 10 vol%: 90 vol%. An organic vehicle was prepared.
次いで、10%径D10が1.03μm、50%径D50が1.52μm、90%径D90が2.30μm(D10=1.03≧0.76=D50/2、D90=2.30≦3.04=2D50)、真球度が0.9のAg粒子と、D10径が0.73μm、D50径が1.04μm、D90径が1.55μm(D10=0.73≧0.52=D50/2、D90=1.55≦2.08=2D50)、真球度が0.9のPMMA樹脂を用意した(Ag粒子の50%径D50に対するPMMA樹脂の50%径D50:0.68)。 Then, 10% diameter D 10 of 1.03 .mu.m, 1.52 .mu.m 50% diameter D 50, 90% diameter D 90 of 2.30μm (D 10 = 1.03 ≧ 0.76 = D 50/2, D 90 = 2.30 ≦ 3.04 = 2D 50 ), Ag particles with a sphericity of 0.9, D 10 diameter of 0.73 μm, D 50 diameter of 1.04 μm, D 90 diameter of 1.55 μm (D 10 = 0.73 ≧ 0.52 = D 50 /2, D 90 = 1.55 ≦ 2.08 = 2D 50), 50% diameter of the sphericity was prepared 0.9 PMMA resin (Ag particles PMMA resin 50% diameter D 50 with respect to D 50 : 0.68).
尚、Ag粒子及びPMMA樹脂の粒度は、レーザ回折散乱型粒度分布測定装置であるマイクロトラックHRA粒度分布計(リーズ&ノーステップ社製9320−X100)で測定し、また、真球度はSEM(Secondary Electron Microscope、JEOL社製JSM−5310)で測定した。 The particle size of Ag particles and PMMA resin was measured with a Microtrac HRA particle size distribution analyzer (9320-X100 manufactured by Leeds & No Step), which is a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device. Secondary Electron Microscope, JEOL JSM-5310) was used for the measurement.
次に、Ag粒子及びPMMA樹脂を有機ビヒクル(エチルセルロース樹脂:α−テルピネオール=6vol%:54vol%)と共に3本ロールミルで十分に混練し、配合比率が、Ag粒子:27.4vol%、PMMA樹脂:22.7vol%、有機ビヒクル:49.9vol%となるように導電性ペーストを作製した(Ag粒子及びPMMA樹脂の体積比率は0.828、含有量総計は50.1vol%)。 Next, Ag particles and PMMA resin are sufficiently kneaded with an organic vehicle (ethyl cellulose resin: α-terpineol = 6 vol%: 54 vol%) by a three roll mill, and the mixing ratio is Ag particles: 27.4 vol%, PMMA resin: A conductive paste was prepared so as to be 22.7 vol% and organic vehicle: 49.9 vol% (the volume ratio of Ag particles and PMMA resin was 0.828, and the total content was 50.1 vol%).
次に、前記導電性ペーストを使用してセラミックシートにスクリーン印刷を施し、膜厚40μm、線幅120μmの電極パターンを形成した。尚、膜厚はレーザ変位計で測定した。 Next, screen printing was performed on the ceramic sheet using the conductive paste to form an electrode pattern having a film thickness of 40 μm and a line width of 120 μm. The film thickness was measured with a laser displacement meter.
そしてこの後、電極パターンがコイル状に直列接続可能となるように電極パターンの形成された磁性体シートを複数枚積層して積層体を形成すると共に、電極パターンの形成されていない磁性体シートで前記積層体を挟持し、9.8×107Pa(1,000kgf/cm2)で圧着し、圧着ブロックを作製した。 After that, a plurality of magnetic sheets on which electrode patterns are formed are stacked so that the electrode patterns can be connected in series in a coil shape to form a laminate, and a magnetic sheet on which no electrode patterns are formed. The laminate was sandwiched and pressure-bonded at 9.8 × 10 7 Pa (1,000 kgf / cm 2 ) to prepare a pressure-bonding block.
次いで、前記圧着ブロックを所定サイズに切断した後、温度500℃以下で脱バインダ処理を行い、酸素含有量1.3vol%の低酸素雰囲気で、温度840℃に90分間保持して焼成処理を行い、内部導体が内部に介在されたセラミック焼結体を作製した。 Next, after cutting the pressure-bonded block into a predetermined size, a binder removal process is performed at a temperature of 500 ° C. or less, and a firing process is performed by holding at a temperature of 840 ° C. for 90 minutes in a low oxygen atmosphere with an oxygen content of 1.3 vol%. Then, a ceramic sintered body having an internal conductor interposed therein was produced.
次に、Ag粉末にガラスフリット及び有機ビヒクルを加えて分散させた外部導体用Agペーストを別途作製すると共に、前記セラミック焼結体にバレル研磨を施してバリ取りを行ない、セラミック素体とした後、該セラミック素体の両端部に外部導体用Agペーストを塗布、700℃で焼き付け、外部導電部とした。 Next, after separately preparing an Ag paste for outer conductor in which glass frit and an organic vehicle are added and dispersed in Ag powder, the ceramic sintered body is deburred by barrel polishing to obtain a ceramic body. The external conductor Ag paste was applied to both ends of the ceramic body and baked at 700 ° C. to obtain external conductive portions.
そしてこの後、周知の電解めっきを施して導電部の表面にニッケル皮膜及びスズ皮膜を順次作製して外部導体を形成し、これにより大きさが縦0.6mm、横 0.3mm、厚み0.3mmの積層型インダクタを製造した。 Thereafter, a known electrolytic plating is performed to sequentially produce a nickel film and a tin film on the surface of the conductive portion to form an outer conductor, whereby the size is 0.6 mm in length, 0.3 mm in width, 0.3 mm in thickness. A 3 mm multilayer inductor was manufactured.
(実施例2)
酸素含有量を5vol%、焼成温度を850℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例2の積層型インダクタを作製した。
(Example 2)
A multilayer inductor of Example 2 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 5 vol% and the firing temperature was 850 ° C.
(実施例3)
酸素含有量を10.0vol%、焼成温度を860℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例3の積層型インダクタを作製した。
(Example 3)
A multilayer inductor of Example 3 was produced by the same method and procedure as Example 1 except that the oxygen content was 10.0 vol% and the firing temperature was 860 ° C.
(実施例4)
酸素含有量を0.1vol%、焼成温度を830℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例4の積層型インダクタを作製した。
Example 4
A multilayer inductor of Example 4 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 0.1 vol% and the firing temperature was 830 ° C.
(実施例5)
酸素含有量を0.01vol%、焼成温度を820℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例5の積層型インダクタを作製した。
(Example 5)
A multilayer inductor of Example 5 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 0.01 vol% and the firing temperature was 820 ° C.
(実施例6)
焼成温度を870℃、保持時間を30分とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例6の積層型インダクタを作製した。
(Example 6)
A multilayer inductor of Example 6 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the firing temperature was 870 ° C. and the holding time was 30 minutes.
(実施例7)
焼成温度を870℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で実施例7の積層型インダクタを作製した。
(Example 7)
A multilayer inductor of Example 7 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the firing temperature was 870 ° C.
(比較例1)
酸素含有量を20.7vol%(大気雰囲気)、焼成温度を870℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例1の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 1)
A multilayer inductor of Comparative Example 1 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 20.7 vol% (atmosphere) and the firing temperature was 870 ° C.
(比較例2)
酸素含有量を20.7vol%(大気雰囲気)とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例2の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 2)
A multilayer inductor of Comparative Example 2 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 20.7 vol% (atmospheric atmosphere).
(比較例3)
酸素含有量を0.001vol%、焼成温度を820℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例3の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 3)
A multilayer inductor of Comparative Example 3 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 0.001 vol% and the firing temperature was 820 ° C.
(比較例4)
酸素含有量を15.0vol%、焼成温度を870℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例4の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 4)
A multilayer inductor of Comparative Example 4 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the oxygen content was 15.0 vol% and the firing temperature was 870 ° C.
(比較例5)
Ag粒子の含有量が33.7vol%、有機ビヒクルの含有量が66.3vol%となるように、Ag粒子及び有機ビヒクルを秤量した後、Ag粒子を有機ビヒクルに混ぜて3本ロールミルで十分に混練し、PMMA樹脂(樹脂粒子)を含有しない導電性ペーストを作製した。
(Comparative Example 5)
After the Ag particles and the organic vehicle are weighed so that the Ag particle content is 33.7 vol% and the organic vehicle content is 66.3 vol%, the Ag particles are mixed with the organic vehicle. A conductive paste containing no PMMA resin (resin particles) was prepared by kneading.
次いで、該導電性ペーストを使用して実施例1と同様の方法・手順で磁性体シートを作製した。 Next, a magnetic material sheet was produced by the same method and procedure as in Example 1 using the conductive paste.
そしてこの後、酸素含有量を20.7vol%(大気雰囲気)、温度870℃で90分間保持して焼成処理を行ない、比較例5の積層型インダクタを作製した。 Thereafter, firing was carried out while maintaining the oxygen content at 20.7 vol% (atmosphere) and at a temperature of 870 ° C. for 90 minutes, to produce a multilayer inductor of Comparative Example 5.
(比較例6)
比較例5の導電性ペーストを使用して実施例1と同様の方法・手順で磁性体シートを作製し、酸素含有量を20.7vol%(大気雰囲気)、温度840℃で90分間保持して焼成処理を行ない、比較例6の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 6)
Using the conductive paste of Comparative Example 5, a magnetic sheet was prepared by the same method and procedure as in Example 1, and the oxygen content was 20.7 vol% (atmosphere) and held at a temperature of 840 ° C. for 90 minutes. A firing process was performed to produce a multilayer inductor of Comparative Example 6.
(比較例7)
比較例5の導電性ペーストを使用して実施例1と同様の方法・手順で磁性体シートを作製した以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例7の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 7)
A multilayer inductor of Comparative Example 7 was produced by the same method and procedure as in Example 1 except that the magnetic material sheet was produced by the same method and procedure as in Example 1 using the conductive paste of Comparative Example 5. .
(比較例8)
比較例5の導電性ペーストを使用して実施例1と同様の方法・手順で磁性体シートを作製し、焼成温度を870℃とした以外は、実施例1と同様の方法・手順で比較例8の積層型インダクタを作製した。
(Comparative Example 8)
A magnetic sheet was produced by the same method and procedure as in Example 1 using the conductive paste of Comparative Example 5, and the comparative example was the same as in Example 1 except that the firing temperature was 870 ° C. 8 multilayer inductors were produced.
次に、1MHzのインダクタンス及び100MHzのインピーダンスをRFインピーダンスアナライザ(ヒューレット・パッカード社製HP4291A)で測定した。 Next, an inductance of 1 MHz and an impedance of 100 MHz were measured with an RF impedance analyzer (HP4291A manufactured by Hewlett-Packard Company).
また、上記フェライト原料を使用し、各実施例及び比較例の焼成条件で別途、外径15.5mm、内径7.5mm、厚み1mmのトロイダルコアを作製し、これら各実施例及び比較例に対応する1MHzでの透磁率を前記RFインピーダンスアナライザで測定した。尚、このように別途トロイダルコアを作製して透磁率を測定したのは、積層型インダクタの透磁率を直接測定した場合、磁束に漏れが生じるおそれがあり、正確な透磁率を測定することが困難となるからである。 In addition, using the above ferrite raw materials, toroidal cores having an outer diameter of 15.5 mm, an inner diameter of 7.5 mm, and a thickness of 1 mm were separately prepared under the firing conditions of each of the examples and comparative examples, and corresponded to these examples and comparative examples. The permeability at 1 MHz was measured with the RF impedance analyzer. Incidentally, the magnetic permeability was measured by separately manufacturing the toroidal core as described above, and when the magnetic permeability of the multilayer inductor was directly measured, there was a risk of leakage in the magnetic flux, so that accurate magnetic permeability could be measured. It will be difficult.
さらに、このトロイダルコアを使用し、各実施例及び比較例に対応する焼結密度をアルキメデス法で測定した。 Furthermore, using this toroidal core, the sintered density corresponding to each Example and Comparative Example was measured by Archimedes method.
表2は各実施例及び比較例における焼成条件(酸素含有量、焼成温度、保持時間)、インダクタンス、インピーダンス、透磁率、及び焼結密度をそれぞれ示している。
比較例2も、大気雰囲気で焼成処理を行なっており、しかも焼成温度が840℃と低いため、焼結密度が4.89×103kg/m3と低く、十分に焼結せず、電気特性や透磁率も極端に悪化している。 Also in Comparative Example 2, the firing process was performed in an air atmosphere, and the firing temperature was as low as 840 ° C., so the sintered density was as low as 4.89 × 10 3 kg / m 3, and it was not sufficiently sintered. The characteristics and permeability are also extremely deteriorated.
比較例3は、酸素含有量が0.001vol%と過度に少ないため、焼結しても所望の磁性体を得ることができず、このため電気特性や透磁率が悪化している。 In Comparative Example 3, since the oxygen content is excessively low at 0.001 vol%, a desired magnetic material cannot be obtained even when sintered, and thus the electrical characteristics and magnetic permeability are deteriorated.
比較例4は、酸素含有量が15.0vol%と多いため、大気雰囲気で焼成処理した場合(比較例2)と特性的に殆ど変わらず、電気特性や透磁率が悪化している。 Since Comparative Example 4 has a high oxygen content of 15.0 vol%, the characteristics are hardly different from those in the case of firing in an air atmosphere (Comparative Example 2), and electrical characteristics and magnetic permeability are deteriorated.
比較例5〜8は、樹脂粒子を含まない導電性ペーストを使用して内部導体を形成しているため、セラミック素体と内部導体との間に空隙が形成されず、セラミック素体と内部導体の界面が圧接状態であるため、引張応力も大きく、このためインダクタンスやインピーダンスの低下を招いている。 In Comparative Examples 5 to 8, since the internal conductor is formed using the conductive paste containing no resin particles, no gap is formed between the ceramic body and the internal conductor. Since the interface is pressed, the tensile stress is large, which leads to a decrease in inductance and impedance.
これに対して実施例1〜7は、酸素含有量が0.1〜10.0vol%の低酸素雰囲気で焼成処理を行なっているので、低温焼成が可能であり、インダクタンスやインピーダンス等の電気特性が良好な積層型インダクタを製造できることが分かった。 On the other hand, Examples 1 to 7 are fired in a low oxygen atmosphere having an oxygen content of 0.1 to 10.0 vol%, and thus can be fired at a low temperature and have electrical characteristics such as inductance and impedance. It was found that a good multilayer inductor could be manufactured.
また、実施例6から明らかなように、低酸素雰囲気で保持時間を30分として焼成処理を行なっても、大気雰囲気で焼成した場合(比較例1)と同等の透磁率を得ることができ、したがって大気雰囲気で焼成した場合に比べ短持間の焼成で、透磁率を損なうことなくインピーダンスやインダクタンス等の電気特性の良好な小型の積層型インダクタを製造することができる。 Further, as is clear from Example 6, even when the firing process was performed in a low oxygen atmosphere with a holding time of 30 minutes, the same permeability as that obtained when fired in an air atmosphere (Comparative Example 1) can be obtained, Therefore, it is possible to manufacture a small-sized multilayer inductor having good electrical characteristics such as impedance and inductance without losing the permeability by firing for a short period of time as compared with the case of firing in an air atmosphere.
尚、実施例1と比較例1、5、7の透磁率が同等(319〜320)であるにも拘わらず、比較例1、5、7のインピーダンスが実施例1のインピーダンスに比べて小さくなっているのは、フェライト自体の性質は略同様であるが、積層型インダクタを実際に作製した場合は、内部導体の応力によってインピーダンスが低下するためと考えられる。 In addition, although the magnetic permeability of Example 1 and Comparative Examples 1, 5, and 7 is equivalent (319 to 320), the impedance of Comparative Examples 1, 5, and 7 is smaller than the impedance of Example 1. The reason is that the properties of the ferrite itself are substantially the same, but when a multilayer inductor is actually manufactured, the impedance is reduced by the stress of the internal conductor.
1 セラミック素体
4 空隙
4′ 空隙
5 内部導体(内部導体)
1 Ceramic element body 4 Air gap 4 '
Claims (5)
前記焼成処理後には前記セラミック層を構成するセラミック材料よりも熱収縮する導電性ペーストを使用して前記導電層を形成すると共に、
前記焼成処理を820〜870℃の低温であって酸素含有量が体積%で0.1〜10%の低酸素雰囲気で行い、前記セラミック素体と前記内部導体との界面に空隙を形成し、
前記導電性ペーストが、少なくとも導電性粒子と、有機ビヒクルと、300〜500℃で熱分解する熱分解性を有する樹脂粒子とを含有することを特徴とする積層型電子部品の製造方法。 After forming a laminated body by alternately laminating a conductive layer and a ceramic layer to be an internal conductor, the laminated body is fired to produce a ceramic body, and the internal conductor is provided inside the ceramic body. In the manufacturing method of the multilayer electronic component for manufacturing the multilayer electronic component,
After forming the conductive layer using a conductive paste that shrinks more heat than the ceramic material constituting the ceramic layer after the firing treatment ,
A low temperature pre-Symbol baked eight hundred twenty to eight hundred seventy ° C. performed oxygen content in a low oxygen atmosphere from 0.1 to 10% by volume% to form a void at the interface between the ceramic body and the inner conductor ,
The method for producing a multilayer electronic component, wherein the conductive paste contains at least conductive particles , an organic vehicle, and resin particles having thermal decomposability that are thermally decomposed at 300 to 500 ° C.
かつ、積算ふるい上分布で前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の10%径D 10 が、共に前記50%径D 50 に対し0.5以上であり、前記導電性粒子及び前記樹脂粒子の90%径D 90 が、共に前記50%径D 50 に対し2.0以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。 The conductive particles have a 50% diameter D 50 of 1.0 to 4.0 μm, and the resin particles have a 50% diameter D 50 of 0.25 to 6.0 μm ,
And 10% diameter D 10 of the conductive particles in the distribution on the sieve integrated and the resin particles are in both the 50% diameter D 50 to 0.5 or more, 90% of the conductive particles and the resin particles 5. The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1 , wherein both the diameters D 90 are 2.0 or less with respect to the 50% diameter D 50 .
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