JP4576148B2 - Scanning laser microscope equipment - Google Patents
Scanning laser microscope equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP4576148B2 JP4576148B2 JP2004124183A JP2004124183A JP4576148B2 JP 4576148 B2 JP4576148 B2 JP 4576148B2 JP 2004124183 A JP2004124183 A JP 2004124183A JP 2004124183 A JP2004124183 A JP 2004124183A JP 4576148 B2 JP4576148 B2 JP 4576148B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- light intensity
- detection
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
本発明は、複数のレーザ光源から出射された複数波長のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して標本に照射しつつ走査し、照射によって標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置に関するものである。 The present invention combines laser beams of a plurality of wavelengths emitted from a plurality of laser light sources, scans the sample while irradiating the sample through an optical system that guides the combined laser light to the sample, and emits light emitted from the sample by irradiation. The present invention relates to a scanning laser microscope apparatus to be observed.
近年、互いに異なる波長の複数のレーザ光を標本に照射しつつ走査し、標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置が多用されている。標本から発する光の光強度は、標本に照射されるレーザ光の光強度に比例するため、標本から発する光の光強度を適正にするためには、標本に照射するレーザ光の光強度を適正にする必要がある。そこで、標本に照射されるレーザ光を、音響光学素子、波長選択フィルタ等を用いて波長分離を行って波長ごとに光強度をモニタし、モニタした光強度をもとに複数のレーザ光に取付けられた音響光学素子を制御する制御方法が提示されている(特許文献1)。 In recent years, a scanning laser microscope apparatus that performs scanning while irradiating a specimen with a plurality of laser beams having different wavelengths and observing light emitted from the specimen has been widely used. Since the light intensity of the light emitted from the specimen is proportional to the light intensity of the laser light emitted to the specimen, in order to make the light intensity of the light emitted from the specimen appropriate, the light intensity of the laser light emitted to the specimen is appropriate. It is necessary to. Therefore, the laser light applied to the specimen is wavelength-separated using an acousto-optic device, wavelength selection filter, etc., and the light intensity is monitored for each wavelength, and the laser light is attached to a plurality of laser lights based on the monitored light intensity. A control method for controlling the acoustooptic device is proposed (Patent Document 1).
しかしながら、複数のレーザ光を波長分離して複数のレーザ光の光強度をモニタし、音響光学素子によってレーザ光の光強度を制御する場合、レーザ光が標本を走査する速度に対して制御速度が追随できず、標本に適正な光強度のレーザ光を照射した画像が得られないという問題点があった。 However, when the light intensity of a plurality of laser beams is monitored by separating the wavelengths of the plurality of laser beams and the light intensity of the laser beams is controlled by an acousto-optic element, the control speed is higher than the speed at which the laser beams scan the specimen. There is a problem in that it is impossible to follow and an image obtained by irradiating a sample with laser light having an appropriate light intensity cannot be obtained.
また、フィードバック制御を行い所望の光強度のレーザ光が出射されない場合、従来の装置では、装置の異常箇所が簡易に特定できないという問題点があった。 Further, when feedback control is performed and laser light having a desired light intensity is not emitted, the conventional apparatus has a problem that an abnormal part of the apparatus cannot be easily identified.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、複数波長のレーザ光の光強度を簡易に正確に制御でき、あるいは簡易に装置の異常箇所が特定できる走査型レ−ザ顕微鏡装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and provides a scanning laser microscope apparatus that can easily and accurately control the light intensities of laser beams having a plurality of wavelengths, or that can easily identify an abnormal portion of the apparatus. The purpose is to do.
上記目的を達成するために、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段がモニタした光強度をフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a scanning laser microscope apparatus according to the present invention synthesizes a plurality of laser beams emitted from a plurality of laser light sources, and transmits the synthesized laser beams through an optical system that guides the sample to a specimen. In a scanning laser microscope apparatus that scans while irradiating a specimen and observes light emitted from the specimen by the irradiation, light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the synthesized laser light, and each laser light And a control means for controlling the light intensity of each laser beam by feeding back the light intensity monitored by the light intensity monitoring means and performing the time-sharing control of the emission.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記検出光強度モニタ手段がモニタした光強度をフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。 The scanning laser microscope apparatus according to the present invention is the above-described invention, wherein the specimen is synthesized through an optical system that synthesizes a plurality of laser beams emitted from a plurality of laser light sources and guides the synthesized laser beams to the specimen. In a scanning laser microscope apparatus that scans while irradiating the laser beam and observes the light emitted from the specimen by the irradiation, each laser that outputs a light intensity corresponding to the light intensity of the laser light output from the emission port of each laser light source Detection light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the detection light from the detection port of the light source, and time division control of emission of each laser light, and feeding back the light intensity monitored by the detection light intensity monitoring means to each laser light And a control means for controlling the light intensity.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、複数のレーザ光源から出射された複数のレーザ光を合成し、この合成したレーザ光を標本に導く光学系を介して前記標本に照射しつつ走査し、該照射によって前記標本から発する光を観察する走査型レーザ顕微鏡装置において、合成された前記レ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段あるいは前記検出光強度モニタ手段がモニタした前記レーザ光あるいは前記検出光の光強度をフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、前記レーザ光の基準光強度と前記反射光の基準光強度と前記制御手段が前記光源を制御する制御信号の応答比である基準応答比とを予め記憶する記憶手段と、を備え、前記制御手段は、前記レーザ光の光強度と前記検出光の光強度と制御信号の応答比と、前記記憶手段に記憶された前記レーザ光の基準光強度と前記検出光の基準光強度と前記基準応答比と、をもとに当該走査型レーザ顕微鏡装置の異常箇所の特定を含めた異常の有無を判定することを特徴とする。 The scanning laser microscope apparatus according to the present invention is the above-described invention, wherein the specimen is synthesized through an optical system that synthesizes a plurality of laser beams emitted from a plurality of laser light sources and guides the synthesized laser beams to the specimen. In a scanning laser microscope apparatus that scans while irradiating and observing the light emitted from the specimen by the irradiation, light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the synthesized laser light, and emission of each laser light source Detection light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the detection light from the detection opening of each laser light source that outputs a light intensity corresponding to the light intensity of the laser light output from the opening, and time division control of emission of each laser light At the same time, the light intensity of the laser light or the detection light monitored by the light intensity monitoring means or the detection light intensity monitoring means is fed back to obtain the light intensity of each laser light. Control means for controlling, storage means for preliminarily storing a reference light intensity of the laser light, a reference light intensity of the reflected light, and a reference response ratio which is a response ratio of a control signal for the control means to control the light source; And the control means includes: the light intensity of the laser light, the light intensity of the detection light, and the response ratio of the control signal; the reference light intensity of the laser light stored in the storage means; and the reference light of the detection light. Based on the intensity and the reference response ratio, the presence / absence of an abnormality including the identification of an abnormal portion of the scanning laser microscope apparatus is determined.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、前記制御手段は、合成された前記レーザ光が照射される前記標本上の各照射位置毎に、少なくとも各レーザ光の全てに対する時分割出力を完了させる切替制御を行うことを特徴とする。 In the scanning laser microscope apparatus according to the present invention as set forth in the invention described above, the control means applies at least all of the laser beams for each irradiation position on the specimen irradiated with the synthesized laser beam. Switching control for completing time-division output is performed.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、前記制御手段は、前記検出光の光強度と前記検出光の基準光強度とを比較し、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さい場合、前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする。 In the scanning laser microscope apparatus according to the present invention , in the above invention, the control unit compares the light intensity of the detection light with a reference light intensity of the detection light, and the light intensity of the detection light is If the intensity of the detection light is smaller than the reference light intensity, the laser light source is specified as abnormal.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、前記制御手段は、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さくない場合、前記レーザ光の光強度と前記レーザ光の基準光強度とを比較し、前記レーザ光の光強度が前記レーザ光の基準光強度に比して小さい場合、前記レーザ光を前記標本に導く前記光学系あるいは前記光強度検出手段が異常であると特定することを特徴とする。 Further, in the scanning laser microscope apparatus according to the present invention , in the above invention, when the light intensity of the detection light is not smaller than a reference light intensity of the detection light, the control means If the intensity of the laser light is compared with the reference light intensity of the laser light, and the light intensity of the laser light is smaller than the reference light intensity of the laser light, the optical system or the light intensity for guiding the laser light to the specimen It is characterized by specifying that a detection means is abnormal.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、前記制御手段は、前記レーザ光の光強度が前記レーザ光の基準光強度に比して小さくない場合、前記応答比と前記基準応答比とを比較し、前記応答比が前記基準応答比に比して小さい場合、劣化によって前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする。 Further, in the scanning laser microscope apparatus according to the present invention , in the above invention, the control means is configured such that when the light intensity of the laser light is not smaller than the reference light intensity of the laser light, the response ratio and the A reference response ratio is compared, and when the response ratio is smaller than the reference response ratio, the laser light source is specified to be abnormal due to deterioration.
また、本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、上記の発明において、前記複数のレーザ光源は、それぞれ高速スイッチングが可能な半導体レーザであることを特徴とする。 The scanning laser microscope apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above invention, each of the plurality of laser light sources is a semiconductor laser capable of high-speed switching.
本発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置は、複数のレーザ光源から出射される複数のレーザ光を時分割して制御することによって、複数波長のレーザ光の光強度を簡易に正確に制御し、あるいは簡易に装置の異常箇所が特定できるという効果を奏する。 The scanning laser microscope apparatus according to the present invention easily and accurately controls the light intensities of laser beams having a plurality of wavelengths by controlling a plurality of laser beams emitted from a plurality of laser light sources in a time-sharing manner, or There is an effect that an abnormal portion of the apparatus can be easily identified.
以下に添付図面を参照して、この発明にかかる走査型レーザ顕微鏡装置の好適な実施の形態を詳細し説明する。 Exemplary embodiments of a scanning laser microscope apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
(実施の形態1)
図1は、この発明の実施の形態1である走査型レーザ顕微鏡装置100の概要構成を示す機能ブロック図である。この走査型レーザ顕微鏡装置100は、蛍光顕微鏡装置であり、波長の異なる励起光源である半導体レーザ(LD)3,4を格納するLDユニット1,2と、LD3から出射されたレーザ光Aを反射するミラー5と、LD3から出射されたレーザ光AとLD4から出射されたレーザ光Bを単一光束のレーザ光ABに合成する合成ダイクロイックミラー6と、レーザ光ABを導入する光ファイバ7と、光ファイバ7から出射されたレーザ光ABを入射するスキャナユニット8と、スキャナユニット8によって分離されたレーザ光AB2を用いてレーザ光A,Bの光強度を制御する制御部17と、スキャナユニット8によって分離されたレーザ光AB1を標本15上の焦点に集光させる顕微鏡14と、標本15から発した蛍光を、スキャナユニット8を介して画像表示する表示部18とを有している。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a functional block diagram showing a schematic configuration of a scanning laser microscope apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention. This scanning laser microscope apparatus 100 is a fluorescence microscope apparatus, and reflects LD units 1 and 2 that store semiconductor lasers (LD) 3 and 4 that are excitation light sources having different wavelengths, and laser light A emitted from the LD 3. A mirror 5 that combines the laser beam A emitted from the LD 3 and the laser beam B emitted from the LD 4 into a single beam laser beam AB, an optical fiber 7 that introduces the laser beam AB, A scanner unit 8 that receives the laser beam AB emitted from the optical fiber 7, a control unit 17 that controls the light intensity of the laser beams A and B using the laser beam AB 2 separated by the scanner unit 8, and the scanner unit 8 The microscope 14 for condensing the laser beam AB1 separated by the focus on the specimen 15 and the fluorescence emitted from the specimen 15 And a display unit 18 for displaying images through 8.
さらに、スキャナユニット8は、光ファイバ7から入射したレーザ光ABをレーザ光AB1,AB2に分離するビームスプリッタ9と、ビームスプリッタ9で分離されたレーザ光AB2を光強度に対応した電気信号S2に変換する光電検出器16と、ビームスプリッタ9を透過したレーザ光を反射する励起ダイクロイックミラー11と、励起ダイクロイックミラー11で反射されたレーザ光を標本15上に走査させるガルバノ10と、標本15上の励起光の焦点のみから発した蛍光を通過させる共焦点ピンホール12と、共焦点ピンホール12を通過した蛍光を光強度に対応した電気信号に変換する光検出器13とを有している。 Further, the scanner unit 8 splits the laser beam AB incident from the optical fiber 7 into laser beams AB1 and AB2, and converts the laser beam AB2 separated by the beam splitter 9 into an electric signal S2 corresponding to the light intensity. The photoelectric detector 16 for conversion, the excitation dichroic mirror 11 that reflects the laser light that has passed through the beam splitter 9, the galvano 10 that scans the sample 15 with the laser light reflected by the excitation dichroic mirror 11, and the sample 15 A confocal pinhole 12 that allows the fluorescence emitted only from the focal point of the excitation light to pass through, and a photodetector 13 that converts the fluorescence that has passed through the confocal pinhole 12 into an electrical signal corresponding to the light intensity.
図1において、LD3,4は、時分割された制御信号CA,CBに同期してそれぞれ励起波長の異なったレーザ光A,Bを時分割して出射する。レーザ光Aとレーザ光Bとは同期して時分割されているため、合成ダイクロイックミラー6で合成されても互いに干渉することなく単一光束のレーザ光ABとなる。レーザ光ABは、光ファイバ7を介してスキャナユニット8に入射する。スキャナユニット8に入射したレーザ光ABは、ビームスプリッタ9によって励起ダイクロイックミラー11へ向かうレーザ光AB1と光電検出器16へ向かうレーザ光AB2とに分離される。 In FIG. 1, LDs 3 and 4 emit laser beams A and B having different excitation wavelengths in a time-sharing manner in synchronization with time-divided control signals CA and CB, respectively. Since the laser beam A and the laser beam B are time-divided synchronously, even if they are combined by the combining dichroic mirror 6, they become a single beam laser beam AB without interfering with each other. The laser beam AB enters the scanner unit 8 through the optical fiber 7. The laser beam AB incident on the scanner unit 8 is separated by the beam splitter 9 into a laser beam AB1 directed to the excitation dichroic mirror 11 and a laser beam AB2 directed to the photoelectric detector 16.
レーザ光AB1は、標本15を照射し、標本15を励起させ、蛍光を発光させる。蛍光は、顕微鏡14、ガルバノ10を順次介して励起ダイクロイックミラー11に入射する。励起ダイクロイックミラー11は、励起波長の光を反射し、蛍光波長の光を透過する特性を有するため、励起ダイクロイックミラー11に入射した蛍光は、励起ダイクロイックミラー11を透過し、共焦点ピンホール12を介して光電検出器13に入射する。光電検出器13は、入射した蛍光の光強度に対応した電気信号に変換し、表示部18に出力する。表示部18は入力した電気信号を表示信号し変換し、表示画面に表示する。 The laser beam AB1 irradiates the specimen 15, excites the specimen 15, and emits fluorescence. The fluorescence enters the excitation dichroic mirror 11 through the microscope 14 and the galvano 10 in order. Since the excitation dichroic mirror 11 has a characteristic of reflecting light having an excitation wavelength and transmitting light having a fluorescence wavelength, the fluorescence incident on the excitation dichroic mirror 11 is transmitted through the excitation dichroic mirror 11 and passes through the confocal pinhole 12. Through the photoelectric detector 13. The photoelectric detector 13 converts it into an electrical signal corresponding to the intensity of the incident fluorescence and outputs it to the display unit 18. The display unit 18 converts the input electrical signal into a display signal, converts it, and displays it on the display screen.
一方、レーザ光AB2は、光電検出器16でレーザ光AB2の光強度に対応した電気信号S2に変換される。電気信号S2は、制御部17に出力され、制御部17は、入力した電気信号S2を制御信号CA,CBに同期させて時分割して電気信号SA,SBに変換し、この電気信号SA,SBをもとに制御信号CA,CBを出力する。 On the other hand, the laser beam AB2 is converted by the photoelectric detector 16 into an electric signal S2 corresponding to the light intensity of the laser beam AB2. The electric signal S2 is output to the control unit 17. The control unit 17 converts the input electric signal S2 into electric signals SA and SB in a time-sharing manner in synchronization with the control signals CA and CB. Control signals CA and CB are output based on SB.
図2は、時分割されたレーザ光Aとレーザ光Bとレーザ光AB2と信号S2との対応関係を示すタイムチャートである。図2に示すように、LD3から光強度VAのレーザ光Aがパルス状に出射され、LD4から光強度VBのレーザ光Bがパルス状に出射される。レーザ光A,Bは互いに干渉しないように出射されるため、合成ダイクロイックミラー6で合成されたレーザ光ABは、単純にレーザ光A,Bを合成したものとなる。したがって、制御部17に入力される電気信号S2は、レーザ光A,Bの光強度に対応した電気信号SA,SBを単純に合成したものと対応する。 FIG. 2 is a time chart showing the correspondence relationship between the time-divided laser beam A, laser beam B, laser beam AB2, and signal S2. As shown in FIG. 2, a laser beam A having a light intensity VA is emitted from the LD 3 in a pulse shape, and a laser beam B having a light intensity VB is emitted from the LD 4 in a pulse shape. Since the laser beams A and B are emitted so as not to interfere with each other, the laser beam AB synthesized by the synthesis dichroic mirror 6 is simply a combination of the laser beams A and B. Therefore, the electric signal S2 input to the control unit 17 corresponds to a simple combination of the electric signals SA and SB corresponding to the light intensities of the laser beams A and B.
つまり、制御信号CA,CBとレーザ光A,Bとは、同期して時分割されているため、レーザ光A,Bが合成されて単一光束のレーザ光ABとなり、電気信号S2に変換されても、電気信号S2を制御信号CA,CBに同期して時分割し、電気信号SA,SBに変換すると、この電気信号SA,SBは、レーザ光A,Bに対応することになる。したがって、制御部17は、独立にレーザ光A,Bの光強度をフィードバック制御することができる。 That is, since the control signals CA and CB and the laser beams A and B are time-divided synchronously, the laser beams A and B are combined into a single beam laser beam AB and converted into the electric signal S2. However, when the electric signal S2 is time-divided in synchronization with the control signals CA and CB and converted into the electric signals SA and SB, the electric signals SA and SB correspond to the laser beams A and B, respectively. Therefore, the control unit 17 can feedback control the light intensities of the laser beams A and B independently.
この実施の形態1では、制御部17は、レーザ光A,Bを時分割して出射することによって、独立にレーザ光A,Bをフィードバック制御するようにした。また、半導体レーザをレーザ光源に用いるとレーザ光源に対する高速のスイッチングが可能となり、上述の時分割が高速に行える。この結果、制御部17は、LD3,4に対してナノ秒単位でレーザ光A,Bの出射制御が可能となり、表示部18の表示画面の1画素に対応するレーザ光の走査時間が約2マイクロ秒であることから1画素単位でレーザ光の光強度の制御が可能となる。つまり、1画素単位で所望の光強度のレーザ光によって標本15を照射することが可能になるため、表示部17に表示される表示画面は、所望の光強度のレーザ光によって走査されたものである。したがって、表示画面の輝度を測定することによって、蛍光の光強度の定量測定が可能となる。 In the first embodiment, the control unit 17 performs feedback control of the laser beams A and B independently by emitting the laser beams A and B in a time-sharing manner. Further, when a semiconductor laser is used as a laser light source, high-speed switching with respect to the laser light source is possible, and the above-described time division can be performed at high speed. As a result, the control unit 17 can control the emission of the laser beams A and B to the LDs 3 and 4 in nanosecond units, and the scanning time of the laser beam corresponding to one pixel of the display screen of the display unit 18 is about 2 Since it is microseconds, the light intensity of the laser light can be controlled in units of one pixel. That is, since it is possible to irradiate the sample 15 with laser light having a desired light intensity in units of one pixel, the display screen displayed on the display unit 17 is scanned with laser light having a desired light intensity. is there. Therefore, by measuring the brightness of the display screen, it is possible to quantitatively measure the fluorescence light intensity.
また、ビームスプリッタ9を励起ダイクロイックミラー11の直前に配置することによって、光学系を経由した後のレーザ光AB2をモニタすることができるため、制御部17は、光学系による光学的損失を加味した正確なフィードバック制御を行うことができる。 Since the laser beam AB2 after passing through the optical system can be monitored by arranging the beam splitter 9 immediately before the excitation dichroic mirror 11, the control unit 17 takes into account the optical loss due to the optical system. Accurate feedback control can be performed.
なお、この実施の形態1では、レーザ光源を2個としたが、観察状況に対応させて3個以上の複数のレーザ光源としてもよいし、逆にレーザ光源を1個とするようにしてもよい。 In the first embodiment, two laser light sources are used. However, three or more laser light sources may be used in accordance with the observation situation. Conversely, one laser light source may be used. Good.
(実施の形態2)
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。実施の形態1では、ビームスプリッタ9によってレーザ光ABをレーザ光AB1,AB2に分離し、レーザ光A,Bが合成されたレーザ光AB2をモニタするようにしていたが、この実施の形態2では、LD3,4にフォトダイオード(PD)21,22を配置し、PD21,22によってレーザ光A,Bに対応した光強度をモニタするようにしている。
(Embodiment 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the first embodiment, the laser beam AB is separated into the laser beams AB1 and AB2 by the beam splitter 9, and the laser beam AB2 obtained by combining the laser beams A and B is monitored. , LDs 3 and 4 are provided with photodiodes (PD) 21 and 22, and the light intensity corresponding to the laser beams A and B is monitored by the PDs 21 and 22.
図3は、この発明の実施の形態2である走査型レーザ顕微鏡装置200の概要構成を示す機能ブロック図である。この走査型レーザ顕微鏡装置200は、蛍光顕微鏡装置であり、図1に示したスキャナユニット8内のビームスプリッタ9と光電検出器16を削除して、LD3,4の検出口にそれぞれPD21,22に配置し、制御部17を制御部23に代えている。PD21,22は、モニタしたレーザ光の光強度に対応した電気信号SA1,SB1を制御部23に出力している。制御部23は、入力した信号SA1,SB1をもとに制御信号CA,CBを出力してLD3,4を制御している。なお、図1と同一の構成部分には同一の符号を付している。 FIG. 3 is a functional block diagram showing a schematic configuration of a scanning laser microscope apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention. This scanning laser microscope apparatus 200 is a fluorescence microscope apparatus, and the beam splitter 9 and the photoelectric detector 16 in the scanner unit 8 shown in FIG. 1 are deleted, and the detection ports of the LDs 3 and 4 are respectively connected to the PDs 21 and 22. The control unit 17 is replaced with the control unit 23. The PDs 21 and 22 output electric signals SA1 and SB1 corresponding to the light intensity of the monitored laser light to the control unit 23. The controller 23 controls the LDs 3 and 4 by outputting control signals CA and CB based on the input signals SA1 and SB1. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as FIG.
LD3,4は、出射口からレーザ光を出射すると、検出口から所定の比でレーザ光が検出される。この所定の比は、個々のLD3,4において一定であるため、LD3,4の検出口にそれぞれPD21,22を取付け、検出されたレーザ光の光強度をモニタすると、LD3,4の出射口から出射されたレーザ光A,Bの光強度を間接的にモニタすることになる。 When the laser beams are emitted from the emission port, the laser beams are detected from the detection port at a predetermined ratio. Since this predetermined ratio is constant in each of the LDs 3 and 4, when the PDs 21 and 22 are attached to the detection ports of the LDs 3 and 4, respectively, and the light intensity of the detected laser light is monitored, The light intensity of the emitted laser beams A and B is indirectly monitored.
したがって、PD21,22がモニタした電気信号SA1,SB1を制御部23が入力し、電気信号SA1,SB1をもとに制御信号CA,CBを出力すると、制御部23は、LD3,4をフィードバック制御することができる。 Therefore, when the control unit 23 inputs the electrical signals SA1 and SB1 monitored by the PDs 21 and 22 and outputs the control signals CA and CB based on the electrical signals SA1 and SB1, the control unit 23 performs feedback control of the LDs 3 and 4. can do.
この実施の形態2では、制御部23は、LD3,4の検出口から検出されたレーザ光をモニタすることによって、標本15に照射されるレーザ光ABの光強度を減衰させずにフィードバック制御を行うようにしている。 In the second embodiment, the control unit 23 monitors the laser light detected from the detection ports of the LDs 3 and 4, thereby performing feedback control without attenuating the light intensity of the laser light AB irradiated on the specimen 15. Like to do.
なお、この実施の形態2では、LD3,4に対してPD21,22を個別に配置するようにしていたが、たとえばLDチップとモニタ用PDとが一体化されたモジュールを用いるようにしてもよい。 In the second embodiment, the PDs 21 and 22 are individually arranged with respect to the LDs 3 and 4. However, for example, a module in which an LD chip and a monitor PD are integrated may be used. .
(実施の形態3)
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。実施の形態1,2では、レーザ光源に半導体レーザを用いて2つのレーザ光を時分割して出射させ、一つの光電検出器16によってフィードバック制御をするようにしていたが、この実施の形態3では、制御部は、光電検出器から入力した信号をもとにLDを制御しつつ、予め決められた複数の閾値と制御部が入出力する信号の値とを比較し、装置の異常箇所を特定するようにしている。
(Embodiment 3)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the first and second embodiments, a semiconductor laser is used as a laser light source and two laser beams are emitted in a time-sharing manner, and feedback control is performed by one photoelectric detector 16, but this third embodiment Then, the control unit controls the LD based on the signal input from the photoelectric detector, compares a plurality of predetermined threshold values with the value of the signal input / output by the control unit, and determines an abnormal portion of the apparatus. I try to identify.
図4は、この発明の実施の形態3である走査型レーザ顕微鏡装置300の構成を示すブロック図である。この走査型レーザ顕微鏡装置300は、蛍光顕微鏡装置であり、図1に示したLD3,4にそれぞれPD21,22を配置し、制御部17を制御部19に代え、さらにレーザ顕微鏡装置300の異常箇所の特定のために予め決められた複数の閾値を記憶する記憶部20を有している。なお、図1と同一の構成部分には同一の符号を付している。 FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a scanning laser microscope apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention. This scanning laser microscope apparatus 300 is a fluorescence microscope apparatus, and PDs 21 and 22 are arranged in the LDs 3 and 4 shown in FIG. 1, respectively, the control unit 17 is replaced with the control unit 19, and an abnormal portion of the laser microscope apparatus 300 is further provided. And a storage unit 20 for storing a plurality of threshold values determined in advance for identification. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as FIG.
制御部19は、光電検出器16から電気信号S2を入力し、電気信号S2を時分割して電気信号SA,SBに変換し、電気信号SA,SBをもとにそれぞれ制御信号CA,CBを出力してLD3,4を制御している。さらに制御部19は、入力した電気信号SA,SB,SA1,SB1と、出力した制御信号CA,CBと、記憶部20に予め記憶された閾値とを比較し、装置の異常箇所の特定を行う。 The control unit 19 inputs the electric signal S2 from the photoelectric detector 16, converts the electric signal S2 to time signals and converts them into electric signals SA and SB. The control signals CA and CB are respectively converted based on the electric signals SA and SB. It outputs and controls LD3 and 4. Further, the control unit 19 compares the input electrical signals SA, SB, SA1, and SB1, the output control signals CA and CB, and a threshold value stored in advance in the storage unit 20, and identifies an abnormal portion of the apparatus. .
ここでは、制御部19がLD3あるいはLD3から出射したレーザ光が経由する光学系等の異常箇所の特定をどのように行うかについて説明する。例えば、LD3が不良である場合、制御部19は、所定の制御信号CAに対してPD21から所定の電気信号SA1が入力されない。記憶部20は、LD3が正常時の電気信号SA1に対応する所定の閾値SA1THを記憶し、制御部19は、PD21から電気信号SA1を入力すると、記憶部20から閾値SA1THを抽出し、電気信号SA1と閾値SA1THとを比較し、LD3が不良であるか否かを判断する。 Here, it will be described how the control unit 19 specifies an abnormal portion such as an optical system through which the laser beam emitted from the LD 3 or LD 3 passes. For example, when the LD 3 is defective, the control unit 19 does not receive the predetermined electric signal SA1 from the PD 21 with respect to the predetermined control signal CA. The storage unit 20 stores a predetermined threshold value SA1 TH corresponding to the electrical signal SA1 when the LD 3 is normal. When the electrical signal SA1 is input from the PD 21, the control unit 19 extracts the threshold value SA1 TH from the storage unit 20, comparing the electrical signal SA1 and the threshold SA1 TH, it is determined whether LD3 is defective.
また、LD3が正常であり、LD3から出射されたレ−ザ光が経由する光学系(ミラー5、合成ダイクロイックミラー6、光ファイバ7、ビームスプリッタ9)あるいは、光電検出器16のいずれかが不良である場合、制御部19は、所定の制御信号CAに対して光電検出器16から所定の電気信号SAが入力されない。記憶部20は、光学系と光電検出器16とが正常時の電気信号SAに対応する所定の閾値SATHを記憶し、制御部19は、光電検出器16から電気信号SAを入力すると、記憶部20から閾値SATHを抽出し、電気信号SAと閾値SATHとを比較し、光学系、あるいは光電検出器16が不良であるか否かを判断する。 Also, the LD 3 is normal, and either the optical system (mirror 5, composite dichroic mirror 6, optical fiber 7, beam splitter 9) through which the laser light emitted from the LD 3 passes or the photoelectric detector 16 is defective. In this case, the control unit 19 does not receive the predetermined electrical signal SA from the photoelectric detector 16 with respect to the predetermined control signal CA. Storage unit 20 stores a predetermined threshold SA TH of an optical system and a photoelectric detector 16 corresponds to an electrical signal SA in the normal, control unit 19 inputs the electrical signal SA from the photoelectric detector 16, stores The threshold value SA TH is extracted from the unit 20, and the electric signal SA is compared with the threshold value SA TH to determine whether the optical system or the photoelectric detector 16 is defective.
また、光学系と光電検出器16とが正常であり、LD3が劣化している場合、制御部19は、所定の制御信号CAに対して所定の電気信号SAが入力されない。記憶部20は、LD3が正常時の制御信号CAと電気信号SAとの比である所定の閾値(SA/CA)THを記憶し、制御部19は、制御信号CAを出力し、電気信号SAを入力すると、比(SA/CA)を演算し、記憶部20から閾値(SA/CA)THを抽出し、比(SA/CA)と閾値(SA/CA)THとを比較し、LD3が劣化しているか否かを判断する。 Further, when the optical system and the photoelectric detector 16 are normal and the LD 3 is deteriorated, the control unit 19 does not receive the predetermined electric signal SA with respect to the predetermined control signal CA. The storage unit 20 stores a predetermined threshold (SA / CA) TH that is a ratio of the control signal CA and the electrical signal SA when the LD 3 is normal, and the control unit 19 outputs the control signal CA and the electrical signal SA. , The ratio (SA / CA) is calculated, the threshold value (SA / CA) TH is extracted from the storage unit 20, the ratio (SA / CA) is compared with the threshold value (SA / CA) TH, and the LD 3 Judge whether it has deteriorated or not.
図5は、制御部19が装置の異常箇所を特定する手順を示すフローチャートである。図5に示すように、制御部19は、電気信号SA1を入力すると、記憶部20から閾値SA1THを抽出し、電気信号SAと比較する(ステップS101)。電気信号SA1が閾値SA1THに比して小さい場合(ステップS101,Yes)、LD3が不良であると判断する(ステップS102)。電気信号SA1が閾値SA1TH以上である場合(ステップS101,No)、記憶部20から閾値SATHを抽出し、電気信号SAと比較する(ステップS103)。電気信号SAが閾値SATHに比して小さい場合(ステップS103,Yes)、光学系、あるいは光電検出器16が不良であると判断する(ステップS104)。電気信号SAが閾値SA1TH以上である場合(ステップS103,No)、制御部19は、記憶部20から閾値(SA/CA)THを抽出し、比(SA/CA)と比較する(ステップS105)。比(SA/CA)が閾値(SA/CA)THに比して小さい場合(ステップS105,Yes)、LD3が劣化していると判断し(ステップS106)、比(SA/CA)が閾値(SA/CA)TH以上であれば(ステップS105,No)、装置は正常であると判断する(ステップS107)。 FIG. 5 is a flowchart showing a procedure for the control unit 19 to identify an abnormal part of the apparatus. As shown in FIG. 5, when the electric signal SA1 is input, the control unit 19 extracts the threshold value SA1 TH from the storage unit 20 and compares it with the electric signal SA (step S101). If the electrical signal SA1 is smaller than the threshold SA1 TH (step S101, Yes), it is determined that the LD3 is defective (step S102). If the electrical signal SA1 is the threshold value SA1 TH or more (step S101, No), it extracts the threshold SA TH from the storage unit 20, compares the electric signal SA (step S103). When the electrical signal SA is smaller than the threshold value SA TH (step S103, Yes), it is determined that the optical system or the photoelectric detector 16 is defective (step S104). When the electrical signal SA is equal to or greater than the threshold value SA1 TH (step S103, No), the control unit 19 extracts the threshold value (SA / CA) TH from the storage unit 20 and compares it with the ratio (SA / CA) (step S105). ). When the ratio (SA / CA) is smaller than the threshold (SA / CA) TH (step S105, Yes), it is determined that the LD3 has deteriorated (step S106), and the ratio (SA / CA) is the threshold ( If SA / CA) TH or more (step S105, No ), it is determined that the apparatus is normal (step S107).
この実施の形態3では、走査型レ−ザ顕微鏡装置300は、複数の閾値を記憶した記憶部20を有し、制御部19は、レーザ光の光強度に変動が発生した場合、フィードバック制御を行いレーザ光の光強度を所望の光強度に制御するとともに、この変動の値によって装置の異常箇所の特定を行うようにしている。 In the third embodiment, the scanning laser microscope apparatus 300 includes a storage unit 20 that stores a plurality of threshold values, and the control unit 19 performs feedback control when fluctuations in the light intensity of the laser light occur. The laser light intensity is controlled to a desired light intensity, and an abnormal portion of the apparatus is specified based on the value of the fluctuation.
なお、実施の形態3では、LD3および、LD3から出射されたレーザ光Aが経由する光学系等の異常判断の特定について説明したが、LD4および、LD4から出射されたレーザ光Bが経由する光学系等についても同様の特定が行える。また、この実施の形態3では、制御部19は、電気信号SAをもとに制御信号CAを出力し、LD3を制御するようにしていたが、電気信号SA1をもとにしてLD3を制御するようにしてもよいし、この2つの電気信号SA,SA1をもとにLD3を制御するようにしてもよい。 In the third embodiment, the determination of abnormality determination of the optical system and the like through which the laser beam A emitted from the LD 3 and the LD 3 passes has been described. However, the optical through which the laser beam B emitted from the LD 4 and the LD 4 passes. The same identification can be made for systems and the like. In the third embodiment, the control unit 19 outputs the control signal CA based on the electrical signal SA and controls the LD 3. However, the control unit 19 controls the LD 3 based on the electrical signal SA 1. Alternatively, the LD 3 may be controlled based on the two electric signals SA and SA1.
1,2 LDユニット
3,4 LD
5 ミラー
6 合成ダイクロイックミラー
7 光ファイバ
8 スキャナユニット
9 ビームスプリッタ
10 ガルバノ
11 励起ダイクロイックミラー
12 共焦点ピンホール
13,16 光電検出器
14 顕微鏡
15 標本
17,19,23 制御部
18 表示部
20 記憶部
21,22 PD
100,200,300 レーザ顕微鏡装置
1, 2 LD unit 3, 4 LD
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 Mirror 6 Synthesis | combination dichroic mirror 7 Optical fiber 8 Scanner unit 9 Beam splitter 10 Galvano 11 Excitation dichroic mirror 12 Confocal pinhole 13, 16 Photoelectric detector 14 Microscope 15 Sample 17, 19, 23 Control part 18 Display part 20 Storage part 21 , 22 PD
100, 200, 300 Laser microscope apparatus
Claims (5)
前記光学系に含まれ、前記合成したレーザ光を導く光ファイバと、
前記光ファイバから出射する前記合成したレ−ザ光の光強度をモニタする光強度モニタ手段と、
各レーザ光源の出射口から出力されたレーザ光の光強度に対応する光強度を出力する各レーザ光源の検出口から検出光の光強度をモニタする検出光強度モニタ手段と、
前記複数のレーザ光源における各レーザ光の出射を時分割制御するとともに、前記光強度モニタ手段あるいは前記検出光強度モニタ手段がモニタした前記レーザ光あるいは前記検出光の光強度を前記複数のレーザ光源にフィードバックして各レーザ光の光強度を制御する制御手段と、
前記標本上の励起光の焦点から発した光を通過させる共焦点ピンホールと、
前記共焦点ピンホールを通過した光を電気信号に変換して検出する光電検出器と、
を備え、
前記制御手段は、前記光強度モニタ手段により検出される前記レーザ光の光強度と前記検出光強度モニタ手段により検出される前記検出光の光強度と前記レーザ光の光強度を制御する制御信号と、をもとに当該走査型レーザ顕微鏡装置の異常の有無を判定し、異常がある場合の異常箇所を前記複数のレーザ光源および前記光学系を含む複数箇所の中から特定することを特徴とする走査型レーザ顕微鏡装置。 Different wavelengths emit laser beams of a plurality of combining a plurality of laser beams having different emitted wavelengths from the laser light source is scanned while irradiating the sample through an optical system that guides the synthesized laser beam on the sample from each other, In a scanning laser microscope apparatus for observing light emitted from the specimen by the irradiation,
An optical fiber included in the optical system for guiding the combined laser beam;
Light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the combined laser light emitted from the optical fiber ;
Detection light intensity monitoring means for monitoring the light intensity of the detection light from the detection opening of each laser light source that outputs the light intensity corresponding to the light intensity of the laser light output from the emission opening of each laser light source;
The laser light emission from the plurality of laser light sources is controlled in a time-sharing manner, and the light intensity of the laser light or the detection light monitored by the light intensity monitoring means or the detection light intensity monitoring means is applied to the plurality of laser light sources. Control means for controlling the light intensity of each laser beam by feedback;
A confocal pinhole that allows light emitted from the focal point of the excitation light on the specimen to pass;
A photoelectric detector that detects the light passing through the confocal pinhole by converting it into an electrical signal;
With
The control means, the control signal for controlling the light intensity of the light intensity monitoring means and the light intensity of the detection light detected by the light intensity of the laser light detected the detection light intensity monitoring means by the laser beam and the judges whether there is an abnormality of the laser scanning microscope apparatus on the basis, and identifies among the plurality of positions, including a laser light source and the optical system anomaly of the plurality of cases where there is abnormal Scanning laser microscope device.
前記制御手段は、前記検出光の光強度と前記検出光の基準光強度とを比較し、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さい場合、前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする請求項1に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 Storage means for storing in advance the reference light intensity of the laser light detected by the light intensity monitor means and the reference light intensity of the detection light detected by the detection light intensity monitor means;
The control means compares the light intensity of the detection light with the reference light intensity of the detection light. If the light intensity of the detection light is smaller than the reference light intensity of the detection light, the laser light source is abnormal. The scanning laser microscope apparatus according to claim 1 , wherein the scanning laser microscope apparatus is specified.
前記制御手段は、前記検出光の光強度が前記検出光の基準光強度に比して小さくなく、かつ前記レーザ光の光強度が前記レーザ光の基準光強度に比して小さくない場合、前記応答比と前記基準応答比とを比較し、前記応答比が前記基準応答比に比して小さい場合、劣化によって前記レーザ光源が異常であると特定することを特徴とする請求項3に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 The storage means stores in advance a reference response ratio that is a reference value of a response ratio of the light intensity of the laser light or the light intensity of the detection light with respect to a control signal for the control means to control the light source;
The control means, when the light intensity of the detection light is not small compared to the reference light intensity of the detection light, and the light intensity of the laser light is not small compared to the reference light intensity of the laser light, compared to the response ratio and the reference ratio response, if the response ratio is smaller than the reference response ratio degradation by the claim 3, wherein the laser light source is specified as being abnormal Scanning laser microscope device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004124183A JP4576148B2 (en) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | Scanning laser microscope equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004124183A JP4576148B2 (en) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | Scanning laser microscope equipment |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005308974A JP2005308974A (en) | 2005-11-04 |
| JP2005308974A5 JP2005308974A5 (en) | 2007-05-31 |
| JP4576148B2 true JP4576148B2 (en) | 2010-11-04 |
Family
ID=35437854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004124183A Expired - Fee Related JP4576148B2 (en) | 2004-04-20 | 2004-04-20 | Scanning laser microscope equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4576148B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015109674A1 (en) | 2015-06-17 | 2016-12-22 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Method for determining and compensating geometric aberrations |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01282515A (en) * | 1988-05-10 | 1989-11-14 | Tokyo Electron Ltd | Beam scanning type optical microscope |
| JP3512286B2 (en) * | 1995-11-30 | 2004-03-29 | 株式会社リコー | Image forming device |
| JPH09159952A (en) * | 1995-12-13 | 1997-06-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Semiconductor laser scanning device |
| JP3545865B2 (en) * | 1996-01-26 | 2004-07-21 | 株式会社リコー | Image forming device |
| JPH11109725A (en) * | 1997-10-08 | 1999-04-23 | Canon Inc | Image forming device |
| JPH11174332A (en) * | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Nikon Corp | Laser microscope |
| JP4854879B2 (en) * | 2001-07-06 | 2012-01-18 | オリンパス株式会社 | Scanning laser microscope and image acquisition method thereof |
| JP2004012760A (en) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Canon Inc | Multiple beam scanner |
| JP2004021008A (en) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Nikon Corp | Light source device for microscope and confocal microscope |
| JP2004029205A (en) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Olympus Corp | Laser scanning microscope |
-
2004
- 2004-04-20 JP JP2004124183A patent/JP4576148B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2005308974A (en) | 2005-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20240361244A1 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
| US11487093B2 (en) | Method for scanning microscopy and scanning microscope | |
| US8451533B2 (en) | Fluorescence microscope | |
| US20090250628A1 (en) | Fluorescence detecting apparatus and fluorescence observation system | |
| CN101946201B (en) | Laser scanning microscope | |
| JP2017130455A (en) | LIGHTING DEVICE AND METHOD FOR MONITORING THE LIGHTING DEVICE | |
| US20110036993A1 (en) | Laser scanning microscope | |
| US7936503B2 (en) | Laser scanning microscope | |
| JP2004110017A (en) | Scanning laser microscope | |
| JPH11174332A (en) | Laser microscope | |
| JP2005140981A (en) | Microscope equipment | |
| US7187493B2 (en) | Laser microscope | |
| JP4576148B2 (en) | Scanning laser microscope equipment | |
| JP6257156B2 (en) | Microscope equipment | |
| JP2008503782A (en) | microscope | |
| JP2005031678A (en) | Arrangement and method for capturing an illumination beam in a laser scanning microscope | |
| US7596454B2 (en) | Method for separating detection channels of a microscope system | |
| JP5007092B2 (en) | Scanning microscope and scanning method using scanning microscope | |
| JPH09243921A (en) | Laser scanning fluorescence microscope | |
| JP4896301B2 (en) | Scanning optical microscope | |
| JP5394893B2 (en) | Laser scanning microscope | |
| JP2005148497A (en) | Scanning type laser microscope system | |
| JP2005181581A (en) | Laser scanning confocal microscope | |
| JP2007140196A (en) | Light source device and laser microscope having the same. | |
| JP4677206B2 (en) | Scanning laser microscope |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070411 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070411 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100512 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100720 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100810 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100823 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4576148 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |