JP4576217B2 - 製膜装置及び製膜装置のメンテナンス方法 - Google Patents

Description

本発明は、製膜装置に関し、特に新たな構造を有する製膜装置に関する。

光に反応して発電する太陽電池が知られている。その一つとして、アモルファスシリコンや微結晶シリコン等の発電層を大型の基板に製膜した薄膜シリコン系太陽電池が知られている。このような太陽電池を製造する製膜装置として、例えば、以下のような技術が知られている。

特開２００１−１２７１３３号公報には、クラスタ型真空処理システムが開示されている。このクラスタ型真空処理システムは、複数の処理室に基板を次々に搬送して処理する。共通搬送室と、複数の真空処理室と、ロード室と、アンロード室と、少なくとも３つの搬送台車とを具備する。共通搬送室は、中央に位置する。複数の真空処理室は、この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けられ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する。ロード室は、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬入される。アンロード室は、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬出される。少なくとも３つの搬送台車は、前記真空処理室、前記共通搬送室、前記ロード室、前記アンロード室の相互間で基板を搬送する。

特開２００１−１２０９８５号公報には、縦型基板処理装置が開示されている。この縦型基板処理装置は、基板を立てかけた状態で真空処理する。製膜室に夫々配置された製膜ユニット及び基板加熱用ヒータを有する。前記製膜ユニットは、製膜ユニット温度制御ヒータと、ガス吹出し型ラダー電極と、排気ガスカバーと、ヒータカバーと、排気手段とを有する。製膜ユニット温度制御ヒータは、中央部に立てかけて配置されていう。ガス吹出し型ラダー電極は、この製膜ユニット温度制御ヒータの両側に製膜ユニットカバーを介して配置されている。排気ガスカバーは、前記温度制御ヒータ、製膜ユニットカバー及びラダー電極を該ラダー電極のガス吹き出し部を除いて囲む。ヒータカバーは、前記ラダー電極の背面側に配置され、前記基板を支持する。排気手段は、前記排気ガスカバー内を排気する。

これらの装置は、大型基板に対応するために、製膜室内の各製膜ユニットが大型である。そのため、製膜装置が大型となり、多くのスペースが必要である。製膜ユニットは大型なので重量があり、メンテナンス作業に時間と労力がかかる。また、製膜室内でメンテナンス作業を行う必要があるため、製膜とは直接関係の無い作業スペースを設ける必要がある。そのため、製膜には不必要な領域のために、製膜室が更に大型化し、結果として製膜装置も大型化してしまう。メンテナンス作業を容易にすることのできる技術が望まれる。製膜装置の小型化が可能な技術が求められる。

特開２００１−１２７１３３号 特開２００１−１２０９８５号

従って、本発明の目的は、大型の製膜室のメンテナンス作業を効率的に行うことが可能な製膜装置を提供することにある。

また、本発明の他の目的は、製膜室を小型化し、装置全体を小型化可能な製膜装置を提供することにある。

以下に、発明を実施するための最良の形態で使用される番号・符号を用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号・符号は、特許請求の範囲の記載と発明を実施するための最良の形態との対応関係を明らかにするために括弧付きで付加されたものである。ただし、それらの番号・符号を、特許請求の範囲に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。

従って、上記課題を解決するために、本発明の製膜装置は、基板（８）に膜を製膜する、製膜室（６）と移動機構（２０）とを具備する。製膜室（６）は、製膜のときの放電用の一方の電極（２）を備える製膜室本体（６ｂ）と放電用の他方の電極（３）を備える製膜室用蓋（６ａ）とを備える。製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）は、鉛直方向に対して所定の角度傾いている。製膜室用蓋（６ａ）は、製膜室本体（６ｂ）の開口部をふさぐ。移動機構（２０）は、製膜室用蓋（６ａ）を製膜室本体（６ｂ）から離れる第１方向（Ｘ）へ移動させる第１方向移動機構（２１）及び第１方向（Ｘ）と直交する第２方向（Ｙ）へ製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）が相互に重ならない位置まで移動させる第２方向移動機構（２２）を備えている。製膜室用蓋（６ａ）を所定の方向（Ｘ、Ｙ）へ移動させて、製膜室用蓋（６ａ）を開ける又は閉める。移動機構（２０）が製膜室用蓋（６ａ）を開けるとき、製膜室用蓋（６ａ）と製膜室本体（６ｂ）とは分離する。
製膜室用蓋（６ａ）と製膜室本体（６ｂ）とが分離されるので、作業者は製膜室（６）の外の領域で、製膜室用蓋（６ａ）及び製膜室本体（６ｂ）のメンテナンス作業を実行することができる。それにより、製膜室（６）内にメンテナンス作業用の領域を設ける必要がなくなる。
加えて、個々に分離された製膜室用蓋（６ａ）と製膜室本体（６ｂ）とが第２方向（Ｙ）に相互に重ならない位置まで移動できるので、製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）の開口部の正面に広い空間が確保できる。これにより、製膜室用蓋（６ａ）と製膜室本体（６ｂ）に対して別々にメンテナンス作業が出来、作業を効率化することができる。
放電用の各電極に対して別々にメンテナンス作業が出来、作業をより効率化することができる。
製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）とは、鉛直方向に対して所定の角度傾いているので、大型基板（８）に伴う製膜室（６）の大型化を抑えると共に、基板（８）の保持をより容易にすることができる。

上記の製膜装置において、第１方向（Ｘ）は、その開口面に対して法線方向であることが好ましい。
このようにすることにより、他の方向に比較して少ない移動量でメンテナンス作業を行う領域を確保できる。

上記の製膜装置において、第１方向移動機構（２１）は、第１方向（Ｘ）へ延びる第１軌道（２６）と、製膜室用蓋（６ａ）を第１軌道（２６）上で移動可能に支持する第１支持部（２５＋２４）とを含むことが好ましい。
第１軌道（２６）上で移動させるので、製膜室用蓋（６ａ）を安定的かつ容易に移動させることができる。

上記の製膜装置において、第２方向（Ｙ）は、その開口部の開口面と平行な方向であることが好ましい。
開口面と平行な方向にすることで、他の方向に比較して製膜室用蓋（６ａ）の移動に必要な領域を狭くすることができる。

上記の製膜装置において、第２移動機構（２２）は、第２方向（Ｙ）へ延びる第２軌道（２８）と、第１方向移動機構（２１）を第２軌道（２８）上で移動可能に支持する第２支持部（２７）とを含むことが好ましい。
第２軌道（２８）上で移動させるので、製膜室用蓋（６ａ）を安定的かつ容易に移動させることができる。

上記の製膜装置において、製膜室本体（６ｂ）は、製膜室本体（６ｂ）における製膜室用蓋（６ａ）と反対側の側面にもうけられた複数の扉（１９）を有することが好ましい。
製膜室本体（６ｂ）の開口部とは反対側の面からメンテナンス作業を行うことができ、メンテナンス作業を効率化できる。

上記課題を解決するために、本発明のパラレル型製膜装置は、中央搬送装置（９）と複数の製膜装置（１）とを具備する。中央搬送装置（９）は、基板（８）を搬送する搬送装置（図示されず）が移動する。複数の製膜装置（１）は、ゲート弁（図示されず）を介して中央搬送装置（９）に接続されている。その搬送装置により基板（８）の授受を行う。複数の製膜装置（１）は、上記各段落のいずれか一つに記載されている。複数の製膜装置（１）の各々は、互いに隣接する様に中央搬送装置（９）に接続されている。
少ない占有面積で複数の製膜装置（１）を設置でき、ｉｎ−ｓｉｔｕで多層膜を製膜することが出来る。大型の製膜室のメンテナンス作業を効率化でき、製膜室を小型化できる。

上記課題を解決するために、本発明の製膜装置のメンテナンス方法は、（ａ）製膜のときの放電用の一方の電極（２）を備える製膜室本体（６ｂ）と、製膜室本体（６ｂ）の開口部をふさぐとともに放電用の他方の電極（３）を備える製膜室用蓋（６ａ）とを備え、製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）のそれぞれが鉛直方向に対して所定の角度傾いて設けられた、基板（８）に膜を製膜する製膜室（６）において、製膜室用蓋（６ａ）を移動可能に保持する移動機構（２０）の第１方向移動機構（２１）を用いて製膜室用蓋（６ａ）を第１方向（Ｘ）へ移動して、製膜室本体（６ｂ）から製膜室用蓋（６ａ）を分離するステップと、（ｂ）第１方向（Ｘ）へ移動された製膜室用蓋（６ａ）を、移動機構（２０）の第２方向移動機構（２２）を用いてにより第１方向（Ｘ）と直交する第２方向（Ｙ）へ製膜室本体（６ｂ）及び製膜室用蓋（６ａ）が相互に重ならない位置まで移動するステップとを具備する。
広いメンテナンス作業領域を確保でき、大型の製膜室のメンテナンス効率を向上することができる。

本発明により、製膜装置において、大型の製膜室のメンテナンス作業を効率的に行うことができる。また、製膜室を小型化し、装置全体を小型化することが可能となり、メンテナンス作業を効率的に行うことができる。

以下、本発明の製膜装置の実施の形態に関して、添付図面を参照して説明する。
まず、本発明の製膜装置の実施の形態の構成について説明する。図１は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す概念図である。製膜装置１は、製膜室６と移動機構２０と台１５とを具備する。なお、図中に矢印１００でＸＹＺ方向を示す。ガス供給に関する構成は省略している（以下同じ）。

製膜室６は、所望の真空度において、その内部で基板に膜を製膜する。製膜室６は、基本的に直方体構造であり、台１５上に保持されている。製膜室６は、製膜室本体６ｂと製膜室用蓋６ａとを備える。製膜室本体６ｂは、図中ＡＡで示される線の右側の部分である。製膜室用蓋６ａは、左側の部分である。製膜室本体６ｂと製膜室用蓋６ａとは、放電を用いて基板８に製膜を行うとき（以下、「製膜時」ともいう）には、一体となり真空容器を形成する（図１）。ＡＡで示される面は、例えばＯリングでシールされる。

製膜室６のメンテナンス作業を行うとき（以下、「メンテナンス作業時」ともいう）には、移動機構２０により製膜室用蓋６ａがＸ方向へ分離し、互いに離れる（後述）。したがって、作業者は、製膜室６の外側の領域を用いて、製膜室本体６ｂと製膜室用蓋６ａとに対して別々にメンテナンス作業を行うことができる。すなわち、製膜室６が大きい場合であっても、容易にメンテナンス作業を行うことができる。また、製膜室６内にメンテナンス作業用の領域を設ける必要がなくなり、製膜室６を小さくすることができる。

製膜室本体６ａは、基板テーブル２、均熱板５、均熱板移動機構１１、保持部１４、高真空排気用ポンプ３１、弁３２、弁３４、低真空排気用ポンプ３５を備える。

基板テーブル２は、基板８を保持可能な保持手段（図示されず）を有する金属製の板である。製膜時、一方の電極（例示：接地側）となる。基板テーブル８は、均熱板５に保持され、一方の面を均熱板５の表面に密接している。そして、製膜時に他方の面を基板８の表面と密接する。均熱板５及び基板８と密接することで、熱的にも密接し、均熱板５と基板８との間の熱交換を容易に行うことができるようにする。それにより、均熱板５により基板８の温度を所望の温度にし、基板８全体を均一な温度にすることができる。

均熱板５は、全体が概ね均一な温度を有し、接触している基板テーブル２の温度を均一化する機能を有する。全体が概ね均一な温度になるように、熱伝導性の良い材料で製造されている。加えて、基板テーブル２を所望の温度に加熱、冷却、保温する温度調整機能を有する。所望の温度となるように、高温又は低温に制御された熱媒体が流れる構造又はヒータを含む。それにより、板状の部材（例示：基板テーブル２、基板８）の表面が均熱板５の表面に接触したとき、均熱板５が熱の経路となり、その部材の温度分布を緩和し、その部材を概ね均一な所望の温度に保つことができる。

均熱板移動機構１１は、駆動部１１ａと支持部１１ｂとを含む。駆動部１１ａは、製膜室本体６ｂの側面（図１の右側）の外側に設けられている。支持部１１ｂは、駆動部１１ａと結合し、シール手段（図示されず）を介して製膜室６の内部へ延びる。均熱板５（及び基板テーブル２）を製膜室６の側面（図１の右側）に対して略平行となるように保持する。

駆動部１１ａの駆動により、支持部１１ｂが製膜室本体６ｂの側面（図１の右側）に垂直な方向に、製膜室６内に出入りする。製膜時、支持部１１ｂが製膜室６へ入り、均熱板５（及び基板テーブル２）を、他方の電極（高周波電力投入側）としてのラダー電極３へ近づける。基板８の製膜室６搬入又は搬出のとき（以下「基板搬送時」ともいう）やメンテナンス作業時、均熱板５（及び基板テーブル２）を、ラダー電極３から遠ざける。

保持部１４は、製膜室本体６ｂを鉛直方向（Ｚ方向）に対してθ＝７°〜１２°傾けて台１５上部に保持する。より好ましくは約１０°傾ける。それにより、基板テーブル２の基板８に接する表面が、鉛直方向（Ｚ方向）に対して７°〜１２°（より好ましくは約１０°）上に向くようする。基板８を立たせて搬送や製膜などを行う方が、寝かせて行う場合に比較して、狭い作業領域で作業することができるので好ましい。そして、基板８を保持する場合、上述のように基板８を垂直から僅かに傾けることは、基板８の自重を利用して少ない手間で基板を保持することが出来て好ましい。これにより、基板テーブル２での基板８の保持及び密接が容易となる。

高真空排気用ポンプ３１は、製膜室６内の気体を排気する。高真空排気用の真空ポンプである。高真空排気用ポンプ３１は、ターボ分子ポンプに例示される。弁３２は、高真空排気用ポンプ３１と製膜室６との経路を開閉する。低真空排気用ポンプ３５は、製膜室６内の気体を排気する。粗引き排気用の真空ポンプである。低真空排気用ポンプ３５は、ドライポンプに例示される。弁３４は、低真空排気用ポンプ３５と製膜室６との経路を開閉する。なお、高真空排気用ポンプ３１と低真空排気用ポンプ３５の位置は、上下逆でも良い。

上述のように、製膜室６を小さくできるので、各真空ポンプの容量を小さくすることができる。それにより、製膜室６の上部にもポンプを設けることができる。すなわち、高真空用と粗引き用とを上下に分けて取り付けることができる。それにより、上方のスペースを有効に利用でき、製膜装置の設置面積を小さくすることができる。

製膜室用蓋６ａは、ラダー電極３、防着板４、支持部７、高周波ケーブル１２、マッチングボックス１３を備える。

ラダー電極３は、梯子状に形成された金属棒である。製膜時、一方の電極である基板テーブル２（例示：接地側）に対する他方の電極（例示：高周波電力投入側）となる。ラダー電極３と基板テーブル２との間の放電で発生するプラズマにより基板８に膜が製膜される。

高周波ケーブル１２は、一方をラダー電極３に、他方をマッチングボックス１３に、それぞれ電気的に接続されている。マッチングボックス１３から供給されるＲＦ電力をラダー電極３へ供給する。マッチングボックス１３は、図示されないＲＦ電源からＲＦ電力を供給される。そして、高周波ケーブル１２とラダー電極３とのインピーダンス整合をとって、高周波ケーブル１２経由でＲＦ電力をラダー電極１３へ供給する。

支持部７は、製膜室用蓋６ａの側面（図１の左側）から内側へ垂直に延びている。防着板４に結合し、ラダー電極３における基板テーブル２と反対側の空間を覆うように防着板４を保持する。それと共に、ラダー電極３と絶縁的に結合し、製膜室６の側面（図１の左側）に対して略平行となるようにラダー電極３を保持する。

防着板４は、接地されプラズマの広がる範囲を抑えることにより、膜が製膜される範囲を制限する。図１の場合、製膜室６の内側における防着板４の後ろ側（基板８と反対の側）の壁に膜が製膜されないようにしている。

台１５は、上面に設けられた移動機構２０を介して製膜室用蓋６ａを保持している。同様に、上面に設けられた保持部１４を介して製膜室本体６ｂを保持している。内部に低真空排気用ポンプ３５を含む領域を有する。なお、台１５は無くてもよく、その場合、移動機構２０は、例えば部屋の底面上に設ける。低真空排気用ポンプ３５は、例えば製膜室用蓋６ａの移動の妨げにならない製膜室本体６ｂの側方に設ける。

移動機構２０は、製膜室用蓋６ａをＸ方向及びＹ方向へ移動する。Ｘ方向移動機構２１とＹ方向移動機構２２とを備える。

Ｘ方向移動機構２１は、製膜室用蓋６ａをＸ方向へ移動する。Ｘ方向移動機構２１は、保持部２４とスライダ２５とレール２６とを含む。保持部２４は、製膜室用蓋６ａを鉛直方向（Ｚ方向）に対して製膜室本体６ｂと同じ角度θに傾けて保持する。スライダ２５は、保持部２４を介して製膜室用蓋６ａを移動可能に支持している。スライダ２５は、レール２６に案内されて、レール２６上の所定の範囲をＸ方向へ移動する。レール２６は、Ｙ方向移動機構２２のスライダ２７上部表面に、Ｘ方向に延伸するように設置されている。

Ｙ方向移動機構２２は、製膜室用蓋６ａをＹ方向へ移動する。Ｙ方向移動機構２２は、スライダ２７とレール２８とを含む。スライダ２７は、Ｘ方向移動機構２１を介して製膜室用蓋６ａを移動可能に支持している。スライダ２７は、レール２８に案内されて、レール２８上の所定の範囲をＹ方向へ移動する。スライダ２７がＹ方向へ移動することにより、製膜室用蓋６ａがＹ方向へ移動する。レール２８は、台１５上部表面に、Ｙ方向に延伸するように設置されている。

図２は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す概念図である。各符号の示す各構成は、図１で説明したとおりである。なお、図中に矢印１００でＸＹＺ方向を示す。この図は、図１の製膜装置１の製膜室６における製膜室用蓋６ａが、移動機構２０によりＸ方向の正の側（図中左側）へ移動した状態を示す。この図のように、製膜室用蓋６ａは、メンテナンス作業時に製膜室本体６ｂから分離することができる。

移動機構２０について更に説明する。図３は、本発明の移動機構２０の実施の形態の構成を示す斜視図である。

二本のレール２８は、台１５上部表面に、互いに平行かつＹ方向に略平行な方向へ延伸するように設けられている。二本のレール２８上に、二つのスライダ２７が、製膜室用蓋６ａのＹ方向の幅よりも小さい間隔で移動可能に設置されている。スライダ２７は、二本のレール２８に案内されてＹ方向（Ｄ２方向）へ移動する。スライダ２７は電動であり、例えば製膜室用蓋６ａの側面に取り付けられたスイッチ（図示されず）で動作する。

レール２６が、二つのスライダ２７の各々の上部表面に、Ｘ方向に略平行な方向へ延伸するように設けられている。各レール２６上に、スライダ２５が移動可能に設けられている。スライダ２５は、レール２６に案内されてＸ方向（Ｄ１方向）へ移動する。製膜室用蓋６ａの下方部分は、二つのスライダ２５の各々の上部表面に保持されている。スライダ２５は電動であり、例えば製膜室用蓋６ａの側面に取り付けられたスイッチ（図示されず）で動作する。

このようなスライダ２５とレール２６、及び、スライダ２７とレール２８は、例えば、ＬＭガイド（登録商標）として市販されているものを使用することができる。

図４は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す斜視図である。なお、図中に矢印１００でＸＹＺ方向を示す。

製膜室本体６ｂにおける製膜室用蓋６ａとは反対側の側面には、複数の扉１９が設けられている。扉１９は、図示されない蝶番とロック機構とを有する。そして、通常はロック機構でロックされ閉じられている。シール部分は例えばＯリングシールを用いている。メンテナンス作業時に開かれる。これにより、基板テーブル２を取り外すことなく、基板テーブル２の下側（扉１９のある側）の領域のメンテナンス作業を行うことができる。同様の扉（図示されず）は、製膜室用蓋６ａにおける製膜室本体６ｂとは反対側の側面にも設けられていても良い。防着板４を取り外すことなく、防着板４の下側（扉のある側）の領域のメンテナンス作業を行うことができる。
他の各符号の示す各構成は、図１で説明したとおりである。

製膜室用蓋６ａは、通常、図中に示される位置Ｂ１にあり、製膜室本体６ｂと一体で製膜室６を構成している。メンテナンス作業時には、製膜室用蓋６ａが、Ｘ方向移動機構２１により矢印Ｄ１で示すようにＸ方向へ移動し、位置Ｂ２へ達する。位置Ｂ２が位置Ｂ１に対して充分に離れている（Ｘ方向移動機構２１のレール２６が充分に長い）場合、その状態で、製膜室用蓋６ａ又は製膜室本体６ｂのメンテナンス作業を行うことも可能である。この場合、台１５のＹ方向の領域を狭くすることができる。

製膜室用蓋６ａは、更に、Ｙ方向移動機構２２により矢印Ｄ２で示すようにＹ方向へ移動し、位置Ｂ３へ達する。その状態でメンテナンス作業が行われる。この場合、位置Ｂ２と位置Ｂ１とはＹ方向の移動の妨げにならない程度に僅かに離れていれば良い。すなわち、台１５のＸ方向の領域を狭くすることができる。また、製膜室本体６ｂの開口部の正面（位置Ｂ３の製膜室用蓋６ａの横）には広い空間が確保できるので、製膜室本体６ｂのメンテナンス作業を容易に行うことができる。一方製膜室用蓋６ａの開口部の正面（製膜室本体６ｂの横）にも広い空間が確保できるので、製膜室用蓋６ａのメンテナンス作業を容易に行なうことが出来る。

メンテナンス作業を製膜室６の外側でできるので、製膜室６内にメンテナンス作業に必要な領域を確保せずに済む。それにより、製膜室６（真空容器）の小型化、製膜装置全体の小型化、真空排気速度の向上、製膜室内部の不純物の低減等の効果を得ることが出来る。また、製膜室本体６ｂと製膜室用蓋６ａとが完全に分離するので、それぞれを独立にメンテナンスすることが出来、作業を容易に行える他、作業時間を短縮することができる。

次に、本発明の製膜装置の実施の形態における動作について説明する。
メンテナンス作業時、まず、製膜装置１の製膜室６は、図示されないリーク弁により圧力が大気圧にされる。次に、Ｘ方向移動機構２１のスイッチが作業者によりＯＮされて、二つのスライダ２５がレール２６上をＸ方向へ所定の距離だけ移動する。これにより、製膜室用蓋６ａは、位置Ｂ１からＤ１方向へ製膜室本体６ｂから離れるように移動して、位置Ｂ２へ達する。すなわち、製膜室用蓋６ａは、製膜室本体６ｂから分離する。その後、Ｙ方向移動機構２２のスイッチが作業者によりＯＮされて、二つのスライダ２７がレール２８上をＹ方向へ所定の距離だけ移動する。これにより、製膜室用蓋６ａは、位置Ｂ２からＤ２方向へ製膜室本体６ｂから更に離れるように移動して、位置Ｂ３へ達する。すなわち、製膜室本体６ｂの開口部の正面（位置Ｂ３の製膜室用蓋６ａの横）には広い空間が確保できる。同時に、製膜室用蓋６ａの開口部の正面（製膜室本体６ｂの横）にも広い空間が確保できる。

以上の動作により、製膜室本体６ｂ及び製膜室用蓋６ａは、メンテナンス作業のしやすい位置へ移動される。

なお、上記動作は、作業者によるＸ方向移動機構２１及びＹ方向移動機構２２のスイッチのＯＮ動作により行われているが、コンピュータを用いて各スイッチの動作を制御することも可能である。例えば、スライダ２５及びスライダ２７の位置を検出可能なセンサを各移動機構に設けておき、それらセンサからの位置情報に基づいて、上記動作を実行するようなプログラムを実行すればよい。

次に、本発明の製膜装置の実施の形態における応用例について説明する。図５は、本発明の製膜装置の実施の形態の応用例を示す斜視図である。このパラレル型の製膜装置１０は、複数の製膜装置１、コンベア４１、受渡台４２、基板受渡装置４３、ロード室４４、中央搬送室９、アンロード室４５、基板受渡装置４６、受渡台４７、コンベア４８を具備する。

複数の製膜装置１は、中央搬送室９の両側に互いに隣接するように取り付けられている。個々の製膜装置１は、図１〜図４に示す構成を有している。製膜装置１と中央搬送室９とは、ゲート弁（図示されず）で接続され、真空状態で基板８の授受を行うことができる。製膜装置１は、中央搬送室９内を移動する基板８を搬送する基板搬送装置（図示されず）から基板８を供給され、所定の膜を基板８上に製膜する。製膜後の基板８は、基板搬送装置により基板を回収される。製膜装置１０は、基板８を基板搬送装置で複数の製膜装置１に搬送することで、大気暴露無しにｉｎ−ｓｉｔｕで複数の膜を製膜することが出来る。

コンベア４１により搬送された基板８は、受渡台４２上に載せられる。受渡台４２上の基板８は、基板受渡装置４３の基板移動装置５１により、受渡台４２から大気開放されたロード室４４へ移送される。真空排気されたロード室４４内の基板８は、中央搬送室９内の基板搬送装置により取り出され、所定の製膜装置１へ搬送される。その後、複数の膜を製膜された基板８は、基板搬送装置により真空排気されたアンロード室４５へ搬送される。大気開放されたアンロード室４５内の基板８は、受渡装置４６の基板移動装置５２により、アンロード室４５から受渡台４７の上へ移送される。受渡台４７上の基板８は、コンベア４８により次の装置へ搬送される。基板の搬送及び受渡しは、例えば従来の従来のクラスタ型真空処理システム（特開２００１−１２７１３３号）に例示される技術を用いて実施する。

ここでは、製膜装置１が３行２列出並んでいるが、更にｎ行２列（ｎは４以上の自然数）とすることも可能である。この場合、更に多くの種類の膜を大気暴露無しにｉｎ−ｓｉｔｕで製膜することが可能となる。加えて、製膜装置１を用いているので、メンテナンス効率を向上することができる。このような製膜装置１０は、複数の製膜装置１を増設する際、従来のクラスタ型真空処理システム（特開２００１−１２７１３３号）に比較して、製膜装置１０全体の占める面積が少なくて済み好ましい。このように本発明の製膜装置１を適用した本発明の製膜装置１０は、製膜装置１０の本体部分の設置面積を小さくすることとメンテナンス効率を向上することとを両立させることができる。

本発明の製膜装置の参考例について説明する。図６は、本発明の製膜装置の参考例を示す斜視図である。このシリアル製膜装置１０ａは、ゲート弁５１を介して側方で接続された複数の製膜装置１を具備する。両側の製膜装置１は、ロード室及びアンロード室としても良い。製膜する膜が多くなる場合には、更に、製膜装置１をゲート弁５１を介して継ぎ足すことが出来る。

メンテナンス作業時は、製膜室６の製膜室用蓋６ａをレール２６上でＸ方向にのみ移動させる。製膜室用蓋６ａと製膜室本体６ｂとの距離を充分離すことで、両者を同時にメンテナンスすることが可能となる。

図５では、基板１を各製膜装置１へ移動する場合、中央搬送室９を介している。図６の場合には、製膜する積層膜の種類と順番が決まっている場合、中央搬送室を介さずに連続的に膜を成膜する場合に用いることができる。その場合、中央搬送室の領域を節約できる。

図１は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す概念図である。 図２は、本発明の移動機構の実施の形態の構成を示す斜視図である。 図３は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す概念図である。 図４は、本発明の製膜装置の実施の形態の構成を示す斜視図である。 図５は、本発明の製膜装置の実施の形態の応用例を示す斜視図である。 図６は、本発明の製膜装置の参考例を示す斜視図である。

１ 製膜装置
２ 基板テーブル
３ ラダー電極
４ 防着板
５ 均熱板
６ 製膜室
６ａ 製膜室用蓋
６ｂ 製膜室本体
７ 支持部
９ 中央搬送室
１０、１０ａ 製膜装置
１１ 均熱板移動機構
１１ａ 駆動部
１１ｂ 支持部
１２ 高周波ケーブル
１３ マッチングボックス
１４ 保持部
１５ 台
１９ 扉
２０ 移動機構
２１ Ｘ方向移動機構
２２ Ｙ方向移動機構
２４ 保持部
２５ スライダ
２６ レール
２７ スライダ
２８ レール
３１ 高真空排気用ポンプ
３２、３４ 弁
３５ 低真空排気用ポンプ
４１、４８ コンベア
４２、４７ 受渡台
４３、４６ 基板受渡装置
４４ ロード室

Claims (8)

1. 製膜のときの放電用の一方の電極を備える製膜室本体と放電用の他方の電極を備え、前記製膜室本体の開口部をふさぐ製膜室用蓋とを備え、基板に膜を製膜する製膜室と、
   前記製膜室用蓋を所定の方向へ移動させて、前記製膜室用蓋を開ける又は閉める移動機構と、
   を具備し、
   前記製膜室本体及び前記製膜室用蓋は、鉛直方向に対して所定の角度傾いており、
   前記移動機構は、前記製膜室用蓋を前記製膜室本体から離れる第１方向へ移動させる第１方向移動機構及び前記第１方向と直交する第２方向へ前記製膜室本体及び前記製膜室用蓋が相互に重ならない位置まで移動させる第２方向移動機構を備えている製膜装置。
2. 請求項１に記載の製膜装置において、
   前記第１方向は、前記開口面に対して法線方向である製膜装置。
3. 請求項１又は２に記載の製膜装置において、
   前記第１方向移動機構は、
   前記第１方向へ延びる第１軌道と、
   前記製膜室用蓋を前記第１軌道上で移動可能に支持する第１支持部とを含む製膜装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の製膜装置において、
   前記第２方向は、前記開口部の開口面と平行な方向である製膜装置。
5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製膜装置において、
   前記第２移動機構は、
   前記第２方向へ延びる第２軌道と、
   前記第１方向移動機構を前記第２軌道上で移動可能に支持する第２支持部とを含む製膜装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の製膜装置において、
   前記製膜室本体は、
   前記製膜室本体における前記製膜室用蓋と反対側の側面にもうけられた複数の扉を有する製膜装置。
7. 基板を搬送する搬送装置が移動する中央搬送装置と、
   ゲート弁を介して前記中央搬送装置に接続され、前記搬送装置により前記基板の授受を行う請求項１乃至６のいずれか一項に記載の複数の製膜装置と
   を具備し、
   前記複数の製膜装置の各々は、互いに隣接する様に前記中央搬送装置に接続されているパラレル型製膜装置。
8. （ａ）製膜のときの放電用の一方の電極を備える製膜室本体と、該製膜室本体の開口部をふさぐとともに放電用の他方の電極を備える製膜室用蓋とを備え、前記製膜室本体及び前記製膜室用蓋のそれぞれが鉛直方向に対して所定の角度傾いて設けられた、基板に膜を製膜する製膜室において、前記製膜室用蓋を移動可能に保持する移動機構の第１方向移動機構を用いて前記製膜室本体から離れる第１方向へ移動して、前記製膜室本体から前記製膜室用蓋を分離するステップと、
   （ｂ）前記第１方向へ移動された前記製膜室用蓋を、前記移動機構の第２方向移動機構を用いて前記第１方向と直交する第２方向へ前記製膜室本体及び前記製膜室用蓋が相互に重ならない位置まで移動するステップとを具備する製膜装置のメンテナンス方法。

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