JP4577889B2 - Substrate processing apparatus, display method for substrate processing apparatus, and data analysis method for substrate processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、水晶、液晶、半導体等の基板処理装置に関するものであり、特に、キーログによりトラブルの原因を特定するようにした基板処理装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate processing apparatus such as crystal, liquid crystal, and semiconductor, and more particularly to a substrate processing apparatus in which the cause of a trouble is specified by a key log.
一般に、基板処理装置には装置コントローラが接続されており、機械類、熱処理類、原料ガス供給系、真空排気系のアクチュエータをコントローラの制御によって制御する。基板処理装置の装置コントローラのプログラムのパラメータを変更する場合、たとえば、ユーザやメンテナンスエンジニアが、装置コントローラにキー入力装置とモニタとを接続し、モニタにプログラムの設定部分や変更部分を表示させながらプログラムのパラメータを編集する。このとき、ユーザやメンテナンスエンジニアによるプログラムの設定や変更は、装置コントローラの操作部のメモリやハードディスク等の記憶部にキーログとして保存される。なお、装置コントローラは、半導体製造システムにおいて、上位の管理コンピュータから基板処理に関するレシピ等のプログラムを供給されるコンピュータのことである。 In general, an apparatus controller is connected to the substrate processing apparatus, and the actuators of machinery, heat treatments, source gas supply system, and vacuum exhaust system are controlled by the controller. When changing the parameters of the program of the device controller of the substrate processing device, for example, a user or a maintenance engineer connects the key input device and the monitor to the device controller, and displays the program setting or changing portion on the monitor. Edit the parameters. At this time, the setting or change of the program by the user or maintenance engineer is saved as a key log in a storage unit such as a memory of the operation unit of the apparatus controller or a hard disk. The device controller is a computer to which a program such as a recipe related to substrate processing is supplied from an upper management computer in a semiconductor manufacturing system.
図19は装置コントローラ300の操作部の機能ブロック図である。ユーザやメンテナンスエンジニアがキー入力装置を用いてプログラムを呼び出し、プログラムのシーケンスやシーケンスの編集部分に、コマンドや数字などのパラメータを入力すると、呼び出しから確定までに操作したキーのキーログがキーログ収集入力モジュール301によって収集される。収集したキーログは、キーログデータSRAM書き込みモジュール302によって収集順にSRAM(図示せず)に書き込まれる。この場合、キーログは、装置コントローラ300の理解できるプログラム言語でSRAMに書き込まれる。装置コントローラ300をシャットダウンし、再度、立ち上げると、シャットダウン後の再立ち上げ処理モジュール303が、SRAMからキーログを読み込んでハードディスク(HD)に追加データとして保存する。
なお、モジュールとは、装置コントローラ300のハードウエア資源を利用するプログラムモジュールのことである。以下、モジュールとは、このような意味で使用する。
FIG. 19 is a functional block diagram of the operation unit of the apparatus controller 300. When a user or maintenance engineer calls a program using a key input device and enters a parameter such as a command or a number in the program sequence or sequence edit part, the key log of the key operated from the call to the confirmation is entered into the key log collection input module 301. The collected key logs are written to the SRAM (not shown) in the order of collection by the key log data SRAM writing module 302. In this case, the key log is written in the SRAM in a program language that the device controller 300 can understand. When the device controller 300 is shut down and restarted, the restart processing module 303 after the shutdown reads the key log from the SRAM and stores it as additional data in the hard disk (HD).
The module is a program module that uses hardware resources of the device controller 300. Hereinafter, the module is used in this sense.
このように、プログラムの設定や変更に使用されたキーログは、メモリやハードディスクなどの記憶手段に保存されるので、キーログの解析によりトラブルの原因の特定が可能になるが、ハードディスクに最新のキーログが追加されるのは、装置コントローラがシャットダウンされ、再度、立ち上げたときであるので、キーログの解析の際に、装置コントローラのシャットダウンと再立ち上げを実行せずに、ハードディスクのキーログをトラブル解析用のデータに用いる場合には、トラブルの原因を特定することができないという問題がある。
また、前記キーログは、前記装置コントローラが理解できる特別なプログラム言語でハードディスクに書き込まれているので人間が理解できる文字や数字に変換するにはコンピュータ上で特別な編集ツールによってテキストデータに変換することになるがこれに多くの手間と時間が掛ってしまうという問題がある。
さらに、前記編集ツールによって前記キーログのテキストデータに変換しても変換したデータは単なる文字、数字、記号の羅列となってしまうので、解析の完了までには多くの時間が掛ってしまうという問題がある。
In this way, the key log used to set or change the program is saved in storage means such as memory or hard disk, so it is possible to identify the cause of the trouble by analyzing the key log, but the latest key log is stored on the hard disk. Since the device controller is shut down and started up again, the key log on the hard disk is used for trouble analysis without shutting down and restarting the device controller when analyzing the key log. When using this data, there is a problem that the cause of the trouble cannot be specified.
The key log is written on the hard disk in a special programming language that can be understood by the device controller, so that it can be converted to text data by a special editing tool on the computer in order to convert it into characters and numbers that can be understood by humans. However, there is a problem that this takes a lot of time and effort.
Furthermore, even if the editing tool converts the text data of the key log, the converted data is simply a sequence of letters, numbers, and symbols, so that it takes a long time to complete the analysis. is there.
そこで、編集画面上で、前記キーによって編集される部分(以後、編集部分と称す)を、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解できるようにするために解決すべき技術的課題が生じるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。 Therefore, on the editing screen, a technique to be solved in order to make it possible to understand the contents of editing at a glance without converting a part edited by the key (hereinafter referred to as an editing part) with a tool on a computer. The present invention aims to solve this problem.
第1の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、前記記憶手段から前記編集後の編集画面を保存順に呼び出す次画面キーと逆順に呼び出す前画面キーと、編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する表示形式変更手段と、を備えた基板処理装置を提供するものである。ここで、記憶手段とは、メモリやハードディスク等であり、基板処理に関するプログラムとは、基板の受け入れから払い出しまでの基板処理に関するプログラムのことである。また、編集画面とは、何の画面か何を編集するものであるか等の情報を視覚的に表示する情報を持った画面で且つプログラムの設定又は変更のために文字や数字等を入力するセルやダイアログ形式の編集部分(入力部分)が設けられた画面のことであるが、視覚的な理解を促進するために内容に係る文字や図形を表示した画面としてもよい。
請求項1記載の発明において、表示手段に編集画面を呼び出し、キーにより、プログラムのシーケンスの設定部分やパラメータを前記編集画面の編集部分に入力する。
この編集画面を閉じると、編集部分の設定や変更が前記プログラムに反映される。
キーログ保存手段は、編集後の編集画面をキーのキーログに関連付けて前記記憶手段に保存し、表示形式変更手段は、編集後、編集画面の編集部分と他の表示部分とを相互に関連付けて記憶手段に保存する。そして、表示形式変更手段は、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーによって編集された部分の画面表示形式を、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。
編集画面の編集後に、設定や変更によるトラブルが発生し、その原因を特定する際や設定の変更を確認する際は、前記次画面キーと前記前画面キーにより、前記記憶手段から保存後の編集画面を表示手段に表示させる。このとき、編集画面はこの画面が何の編集画面かを表示するための情報を持っており、編集部分は、ユーザやメンテナンスエンジニアが直接理解できる文字や数字として表示手段にビジュアルに表示され、且つ、編集部分のうち、前記キーによって編集された部分の画面表示形式は、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更されているので、編集顔面の編集部分を、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解することができる。
The first invention is a display means for displaying an edit screen for a program relating to substrate processing, and a key log saving means for saving the edited edit screen displayed on the display means and edited by a key in the storage means in association with the key log. , The previous screen key for calling the edited screen after editing from the storage means in reverse order and the previous screen key for calling in reverse order, and the screen display format of the portion edited by the key in the edited portion of the edited screen after editing, The present invention provides a substrate processing apparatus comprising display format changing means for changing the display to be distinguishable from other display portions of the editing screen. Here, the storage means is a memory, a hard disk, or the like, and the program related to the substrate processing is a program related to the substrate processing from substrate reception to dispensing. The edit screen is a screen having information for visually displaying information such as what screen is to be edited, etc., and characters and numbers are input for setting or changing the program. Although it is a screen provided with an edit part (input part) in a cell or dialog format, it may be a screen displaying characters and figures relating to the contents in order to promote visual understanding.
According to the first aspect of the present invention, an editing screen is called up on the display means, and a program sequence setting part and parameters are input to the editing part of the editing screen by means of keys.
When this editing screen is closed, the setting or change of the editing portion is reflected in the program.
The key log storage means stores the edited edit screen in the storage means in association with the key log of the key, and the display format change means stores the edited portion of the edit screen and other display portions in association with each other after editing. Save to means. Then, the display format changing means changes the screen display format of the part edited by the key in the edited part of the edited edit screen stored in the storage means so that it can be distinguished from other display parts of the same edit screen. To do.
After editing the edit screen, troubles due to settings or changes occur. When identifying the cause or confirming the change of settings, use the next screen key and the previous screen key to edit after saving from the storage means. The screen is displayed on the display means. At this time, the edit screen has information for displaying what the edit screen is, and the edit portion is visually displayed on the display means as characters and numbers that can be directly understood by the user and the maintenance engineer. Since the screen display format of the part edited by the key in the editing part has been changed to be distinguishable from other display parts of the same editing screen, the editing part of the editing face is converted with a tool on the computer. You can understand the contents of the editing at a glance without doing it.
第2の発明は、前記表示形式変更手段は、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分のうち、前記キーによって編集された部分を表示する基板処理装置を提供するものである。いずれの表示形式も編集画面の他の表示部分から編集部分を明確に区別して作業者の視覚を刺激する。 According to a second aspect of the present invention, the display format changing means displays a portion edited by the key among the editing portions by one display selected from blink display, color-coded display, and reverse display. Is to provide. In any display format, the edit portion is clearly distinguished from the other display portions of the edit screen to stimulate the operator's vision.
さらに、第3の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示させる工程と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存する工程と、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する工程と、前記編集後の編集画面を保存順又は逆順に呼び出す工程と、を含む基板処理装置のプログラム検定方法を提供するものである。 Further, the third invention includes a step of displaying an edit screen of a program related to substrate processing, a step of saving an edited edit screen displayed on the display means and edited by a key in a storage means in association with a key log, A step of changing a screen display format of a portion edited by the key among edit portions of the edited edit screen stored in the storage means so as to be distinguishable from other display portions of the edit screen; and And a step of calling an edit screen in the order of storage or reverse order.
また、第4の発明は、第3の発明において、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分を変更する工程を含む基板処理のプログラム検定方法を提供するものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, there is provided a substrate processing program verification method including a step of changing the editing portion by one display selected from blink display, color-coded display, and reverse display. Is.
以上、要するにこの発明によれば次の如き優れた効果を発揮する。
(1)請求項1記載の発明によれば、基板処理に関するプログラムの編集後において、設定や変更の内容及び履歴を一目で理解できる。
In summary, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited.
(1) According to the first aspect of the present invention, after editing a program related to substrate processing, the contents and history of settings and changes can be understood at a glance.
(2)また、編集後の編集画面の編集部分のうちキーにより編集された部分に注意力が集中するので設定や変更の内容及び履歴を把握する際の作業効率が大幅に向上する。 (2) Also, since attention is concentrated on the edited portion of the editing screen after editing by the key, work efficiency when grasping the contents and history of settings and changes is greatly improved.
以下、図1乃至図18を参照して本発明の実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
まず、図1及び図2を参照して本発明に係る基板処理装置の構成と作用を説明する。この実施形態において基板処理装置は、水晶、ガラス、半導体基板などの基板に拡散処理やCVD処理等を行う縦型の基板処理装置(以下、処理装置という)であり、図1は処理装置を透視法により示した解説図、図2は図1の処理装置を側方より見た側断面図である。なお、本実施形態においては、数量、材質は基本的に例示に過ぎず、これによって本発明が限定されるものではない。また、以下に説明するコントローラはコンピュータで構成してもよい。 First, the configuration and operation of the substrate processing apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, the substrate processing apparatus is a vertical substrate processing apparatus (hereinafter referred to as a processing apparatus) that performs diffusion processing, CVD processing, or the like on a substrate such as crystal, glass, or semiconductor substrate. FIG. 1 is a perspective view of the processing apparatus. FIG. 2 is a side sectional view of the processing apparatus of FIG. 1 as viewed from the side. In the present embodiment, the quantities and materials are basically merely examples, and the present invention is not limited thereby. The controller described below may be configured by a computer.
図1に示すように、処理装置90の筐体101の前面には、シリコン等からなるウエハ(基板)200を収容したポッド(基板収容容器)100を、外部から筐体101内に挿入するため、及びその逆に筐体101内から外部へ払い出すためI/Oステージ(保持具授受部材)105が付設される。 As shown in FIG. 1, a pod (substrate container) 100 containing a wafer (substrate) 200 made of silicon or the like is inserted into the case 101 from the outside on the front surface of the case 101 of the processing apparatus 90. On the other hand, an I / O stage (holding member transfer member) 105 is attached to pay out from the inside of the casing 101 to the outside.
筐体101内には、前記I/Oステージ(保持具授受部材)105から筐体101内に挿入されたポッド100を保管するためのカセット棚(載置手段)109が敷設される。また、筐体101内には、ウエハ200の搬送エリアであり、後述のボート(基板保持手段)217のローディング、アンローディング空間となるN2パージ室(気密室)102が設けられる。 A cassette shelf (mounting means) 109 for storing the pod 100 inserted into the housing 101 from the I / O stage (holder holding member) 105 is laid in the housing 101. In addition, an N 2 purge chamber (airtight chamber) 102 serving as a loading / unloading space for a boat (substrate holding means) 217, which will be described later, is provided in the casing 101.
ウエハ200の処理を行う際は、N2パージ室102の内部は密閉容器となり、ウエハ200の自然酸化膜を防止するためにN2ガスなどの不活性ガスが充満される。 When processing the wafer 200, the inside of the N 2 purge chamber 102 becomes a sealed container and is filled with an inert gas such as N 2 gas in order to prevent a natural oxide film on the wafer 200.
前記ポッド100としては、現在FOUPというタイプが主流で使用されており、ポッド100の一側面に設けられた開口部を蓋体(図示せず)で塞ぐことで大気からウエハ200を隔離した状態で搬送することができ、蓋体を取り去ることでポッド100内へウエハ200を入出させることができる。 As the pod 100, the FOUP type is currently used in the mainstream, and the wafer 200 is isolated from the atmosphere by closing the opening provided on one side of the pod 100 with a lid (not shown). The wafer 200 can be transferred into and out of the pod 100 by removing the lid.
前記ポッド100の蓋体を取り外し、ポッド100内とN2パージ室102内とを連通するため前記N2パージ室102の前面側にはポッドオープナ(開閉手段)108が設けられる。
ポッドオープナ108、カセット棚109、およびI/Oステージ105間のポッド100の搬送は、カセット移載機114によって行われる。このカセット移載機114によるポッド100の搬送空間には、筐体101に設けられたクリーンユニット(図示せず)によって清浄化した空気をフローさせるようにしている。
A pod opener (opening / closing means) 108 is provided on the front side of the N2 purge chamber 102 so that the lid of the pod 100 is removed and the pod 100 and the N2 purge chamber 102 communicate with each other.
The pod 100 is transported between the pod opener 108, the cassette shelf 109, and the I / O stage 105 by a cassette transfer machine 114. Air that has been cleaned by a clean unit (not shown) provided in the casing 101 is caused to flow in the transport space of the pod 100 by the cassette transfer device 114.
N2パージ室102の内部には、複数のウエハ200を多段に積載するボート217と、ウエハ200のノッチ(又はオリエンテーションフラット)の位置を任意の位置に合わせる基板位置合わせ装置106と、ポッドオープナ108上のポッド100と基板位置合わせ装置106とボート217との間でウエハ200の搬送を行うウエハ移載機(搬送手段)112とが設けられる。
また、N2パージ室102の上部には、ウエハ200を処理するための処理炉202が設けられており、ボート217は、ボートエレベータ(昇降手段)115によって処理炉202へローディング、又は処理炉202からアンローディングされる。
Inside the N2 purge chamber 102, a boat 217 for loading a plurality of wafers 200 in multiple stages, a substrate alignment device 106 for adjusting the position of the notch (or orientation flat) of the wafers 200 to an arbitrary position, and a pod opener 108 A wafer transfer device (conveying means) 112 that conveys the wafer 200 between the pod 100, the substrate alignment device 106, and the boat 217 is provided.
Further, a processing furnace 202 for processing the wafer 200 is provided at the upper part of the N 2 purge chamber 102, and the boat 217 is loaded into the processing furnace 202 by the boat elevator (lifting means) 115, or from the processing furnace 202. Unloaded.
次に、図1及び図2を参照して本発明の処理装置90の動作について説明する。
まず、AGVやOHTなどのウエハ移載機(図示せず)により筐体101の外部から搬送されてきたポッド100は、I/Oステージ105に載置される。I/Oステージ105に載置されたポッド100は、カセット移載機114によって、直接、ポッドオープナ108上に搬送されるか、又は、一旦、カセット棚109にストックされた後にポッドオープナ108上に搬送される。
ポッドオープナ108上に搬送されたポッド100は、ポッドオープナ108によってポッド100の蓋体が取外される。このとき、ポッド100内とN2パージ室102とが連通されポッド100内がN2雰囲気に置換される。
Next, the operation of the processing apparatus 90 of the present invention will be described with reference to FIGS.
First, the pod 100 conveyed from the outside of the housing 101 by a wafer transfer machine (not shown) such as AGV or OHT is placed on the I / O stage 105. The pod 100 placed on the I / O stage 105 is directly transferred onto the pod opener 108 by the cassette transfer machine 114 or once stocked on the cassette shelf 109 and then onto the pod opener 108. Be transported.
The lid of the pod 100 is removed by the pod opener 108 from the pod 100 transferred onto the pod opener 108. At this time, the inside of the pod 100 and the N 2 purge chamber 102 communicate with each other, and the inside of the pod 100 is replaced with the N 2 atmosphere.
次に、ウエハ移載機112によって、ポッド100内からウエハ200を取り出す。取り出されたウエハ200は、まず、基板位置合わせ装置106によってノッチ(又はオリエンテーションフラット)を基準に位置合わせをされ、その後、ウエハ移載機(搬送手段)112によってボート217へと搬送される。 Next, the wafer 200 is taken out from the pod 100 by the wafer transfer device 112. The taken-out wafer 200 is first aligned by the substrate alignment device 106 with reference to the notch (or orientation flat), and then transferred to the boat 217 by the wafer transfer device (transfer means) 112.
ボート217へのウエハ200の搬送が完了すると、処理炉202の炉口シャッタ116が開かれ、ウエハ200を搭載したボート217がボートエレベータ115により処理炉202にローディングされる。
ローディング後は、処理炉202でウエハ200にCVD処理や拡散処理等の任意の処理が実施される。ウエハ200の処理後は、前記した手順の逆の手順で、ウエハ200及びポッド100が、筐体101の外部へと払い出される。
When the transfer of the wafer 200 to the boat 217 is completed, the furnace port shutter 116 of the processing furnace 202 is opened, and the boat 217 loaded with the wafer 200 is loaded into the processing furnace 202 by the boat elevator 115.
After loading, an arbitrary process such as a CVD process or a diffusion process is performed on the wafer 200 in the processing furnace 202. After the processing of the wafer 200, the wafer 200 and the pod 100 are paid out to the outside of the housing 101 in the reverse order of the above-described procedure.
図3は前記処理装置119を自動化するための装置コントローラのブロック図である。装置コントローラ220は、操作部221と制御部222とで構成されており、プログラムの設定や変更ための操作コントローラ223は、データ送受信モジュール224を介して制御部222に通信可能に接続される。
前記制御部222は、図3には詳細に示されていないが、熱電対等の加熱装置の加熱温度に基づいて前記ヒータの温度をフィードバック制御する温度コントローラ(図示せず)と、圧力センサの検出温度に基づいて処理炉の圧力をフィードバック制御する圧力コントローラ(図示せず)と、マスフローモニタに基づいて原料ガスの流量をフィードバック制御するマスフローコントローラ(図示せず)と、位置や回転角センサに基づいて各種メカニズムを制御するメカニズムコントローラ(図示せず)とから構成され、これらを管理するためのメインコントローラ(図示せず)と操作部221の操作コントローラ223とに通信可能に接続される。なお、前記メカニズムコントローラは、前記ポッドオープナ(開閉手段)108、前記カセット移載機114、前記基板位置合わせ装置106、前記基板位置合わせ装置106、前記ウエハ移載機(搬送手段)112、前記ボートエレベータ(昇降手段)115等のアクチュエータ(駆動部)を制御するコントローラであり、制御のためのシーケンス(プログラムシーケンス)やパラメータは、たとえば、操作コントローラ223のメモリ225やハードディスク226等の記憶手段から読み込まれる。また、操作コントローラ223には、前記処理装置90の基板処理に関するプログラムのシーケンスやパラメータの設定や変更のためのユーザインターフェイスとしてモニタ(表示手段)227とキー入力装置228とが備えられる。
FIG. 3 is a block diagram of an apparatus controller for automating the processing apparatus 119. The device controller 220 includes an operation unit 221 and a control unit 222, and an operation controller 223 for setting or changing a program is connected to the control unit 222 via a data transmission / reception module 224 so as to be communicable.
Although not shown in detail in FIG. 3, the control unit 222 includes a temperature controller (not shown) that feedback-controls the temperature of the heater based on the heating temperature of a heating device such as a thermocouple, and a pressure sensor detection. Based on a pressure controller (not shown) that feedback-controls the pressure of the processing furnace based on the temperature, a massflow controller (not shown) that feedback-controls the flow rate of the source gas based on the massflow monitor, and a position and rotation angle sensor And a mechanism controller (not shown) that controls various mechanisms, and is communicably connected to a main controller (not shown) for managing these mechanisms and an operation controller 223 of the operation unit 221. The mechanism controller includes the pod opener (opening / closing means) 108, the cassette transfer device 114, the substrate alignment device 106, the substrate alignment device 106, the wafer transfer device (transport means) 112, the boat. A controller for controlling an actuator (driving unit) such as an elevator (elevating means) 115, and a control sequence (program sequence) and parameters are read from, for example, a storage means such as a memory 225 of the operation controller 223 or a hard disk 226. It is. Further, the operation controller 223 includes a monitor (display means) 227 and a key input device 228 as a user interface for setting and changing a program sequence and parameters related to substrate processing of the processing apparatus 90.
前記キー入力装置228は、モニタ(表示手段)225に表示する複数のプログラムボタンで構成されている。ここで、「プログラムボタン」とは、モニタ(表示手段)227の画面に表示され、指やペンによってタッチされることによってプログラムの起動、終了を切り替えるソフトウエア上のキーのことである。なお、以下に説明するボタンやキーは、全てソフトウエアで構成されたキーを意味するものとする。 The key input device 228 includes a plurality of program buttons displayed on a monitor (display means) 225. Here, the “program button” is a key on the software that is displayed on the screen of the monitor (display means) 227 and switches between starting and ending the program when touched with a finger or a pen. It should be noted that the buttons and keys described below mean keys configured by software.
図4は基板処理に関するプログラムのモニタ画面であり、PMメインモニタ画面と呼ばれる画面である。なお、図4はPMボタン1をタッチしたときの画面である。図示されるように、PMメインモニタ画面30aの画面下部の操作パネル8には、呼び出しキーとしてPMボタン1、システムボタン2、戻るボタン3、進むボタン4、編集ボタン5、データログボタン6、セットアップボタン7等の操作ボタンが配置される。操作パネル8の上方側には、ガスパネル9、温度パネル10、圧力パネル11、AUXパネル12、レシピパネル13の合計五枚のパネルが表示される。各パネル9〜13には、後述する編集キー14によって編集する編集部分としてそれぞれセル(後述する)が表示される。なお、図4は編集前の段階なので各セル(後述する)には、ゼロが表示されている。
前記ガスパネル9、前記温度パネル10、前記圧力パネル11、前記AUXパネル12、前記レシピパネル13には、それぞれパネルの内容を視覚的に補完する情報として文字やアイコンが表示される。これらのパネル9〜13又はパネル上のアイコンは、指やペンによりタッチされると、画面を関連画面に切り替えるプログラムキーとなっている。
原料ガス流量のモニタ画面であるガスパネル9には、セル15を挟んで一方側と他方側にマスフローコントローラの略語(mfc)、配置先を示す番号を表示するボタン16、流量の単位を示す文字(slm)が表示される。
炉内温度のモニタ画面である温度パネル10には、前記ガスパネル9と同様に、前記処理炉202の構造を示す図形表示17を挟んで一方側に前記処理炉202における炉内温度の温度ゾーンu、cu、c、cl、lが縦一列に配置され、他方側にu、cu、c、cl、lの各温度ゾーンの炉内温度を表示するためのセル18が縦一列に配置される。また、この温度パネル10には、温度の制御モードを表示するためのセル19が設けられる。
FIG. 4 shows a monitor screen of a program related to substrate processing, which is a screen called a PM main monitor screen. FIG. 4 shows a screen when the PM button 1 is touched. As shown in the figure, the operation panel 8 at the bottom of the PM main monitor screen 30a has a PM button 1, a system button 2, a return button 3, a forward button 4, an edit button 5, a data log button 6, a setup key as call keys. Operation buttons such as button 7 are arranged. A total of five panels including a gas panel 9, a temperature panel 10, a pressure panel 11, an AUX panel 12, and a recipe panel 13 are displayed above the operation panel 8. In each of the panels 9 to 13, cells (described later) are displayed as editing portions to be edited by an editing key 14 described later. Since FIG. 4 is a stage before editing, zero is displayed in each cell (described later).
On the gas panel 9, the temperature panel 10, the pressure panel 11, the AUX panel 12, and the recipe panel 13, characters and icons are displayed as information that visually complements the contents of the panels. These panels 9 to 13 or the icons on the panels are program keys for switching the screen to a related screen when touched with a finger or a pen.
On the gas panel 9 which is a monitor screen of the raw material gas flow rate, a mass flow controller abbreviation (mfc) on one side and the other side across the cell 15, a button 16 for displaying the number indicating the arrangement destination, and a character indicating the unit of flow rate (Slm) is displayed.
As with the gas panel 9, the temperature panel 10, which is a monitor screen of the furnace temperature, has a temperature zone of the furnace temperature in the process furnace 202 on one side with a graphic display 17 indicating the structure of the process furnace 202 interposed therebetween. u, cu, c, cl, l are arranged in a vertical row, and cells 18 for displaying the furnace temperature in each temperature zone of u, cu, c, cl, l are arranged in a vertical row on the other side. . The temperature panel 10 is provided with a cell 19 for displaying a temperature control mode.
炉内圧力のモニタ画面である圧力パネル11には、前記処理炉202の炉内圧力を表示するためのセル20と、制御方式やコマンドを表示するためのセル21,22が表示される。 On the pressure panel 11 which is a monitor screen of the furnace pressure, cells 20 for displaying the furnace pressure of the processing furnace 202 and cells 21 and 22 for displaying control methods and commands are displayed.
圧力パネルの制御方式をモニタするセル21には、「APCバルブ制御」が、コマンドのセル22には「圧力設定」が表示される。なお、APCバルブ制御とは、炉内圧力を検知し、炉内圧力が設定圧力に自動的に保持される圧力制御バルブ(ピラニ計)の開度をフィードバック制御する制御方式のことである。 “APC valve control” is displayed in the cell 21 for monitoring the control method of the pressure panel, and “pressure setting” is displayed in the command cell 22. The APC valve control is a control system that detects the pressure in the furnace and feedback-controls the opening degree of a pressure control valve (Pirani meter) in which the furnace pressure is automatically held at a set pressure.
前記レシピパネル13には、現在使用しているカレントレシピを表示するセル23と、残時間を示すセル24と、ホールド時間を示すセル25と、開示時刻を示すセル26と、終了時刻を示すセル27等が設けられる。
AUXパネル12は基板処理の補完用のパネルであり、たとえば、外部燃焼による水蒸気の流量等をモニタするためのパネルである。このAUXパネル12にも複数の設定点をモニタするため複数のセル80が設けられている。
The recipe panel 13 includes a cell 23 that displays the current recipe that is currently used, a cell 24 that indicates the remaining time, a cell 25 that indicates the hold time, a cell 26 that indicates the disclosure time, and a cell that indicates the end time. 27 etc. are provided.
The AUX panel 12 is a panel for complementing the substrate processing, for example, a panel for monitoring the flow rate of water vapor due to external combustion. The AUX panel 12 is also provided with a plurality of cells 80 for monitoring a plurality of set points.
図5はガス一覧モニタ画面28、図6は温度メインモニタ画面29、図7は圧力モニタ画面30、図8はAUX一覧モニタ画面31、図9はレシピ進捗モニタ画面32であり、ガスパネル9、温度パネル10、圧力パネル11、AUXパネル12、レシピパネル13又はこれらパネルのアイコンのタッチによって前記モニタ227に出現する画面である。なお、レシピパネル13、ガスパネル9、温度パネル10、圧力パネル11、AUXパネル12、ガス一覧モニタ画面28、温度メインモニタ画面29、圧力モニタ画面30、AUX一覧モニタ画面31、レシピ進捗モニタ画面32は、たとえば、前記操作部221のメモリ225又はハードディスク226に保存されている。 5 shows a gas list monitor screen 28, FIG. 6 shows a temperature main monitor screen 29, FIG. 7 shows a pressure monitor screen 30, FIG. 8 shows an AUX list monitor screen 31, FIG. 9 shows a recipe progress monitor screen 32, This is a screen that appears on the monitor 227 when the temperature panel 10, the pressure panel 11, the AUX panel 12, the recipe panel 13, or the icons of these panels are touched. The recipe panel 13, the gas panel 9, the temperature panel 10, the pressure panel 11, the AUX panel 12, the gas list monitor screen 28, the temperature main monitor screen 29, the pressure monitor screen 30, the AUX list monitor screen 31, and the recipe progress monitor screen 32. Is stored in, for example, the memory 225 of the operation unit 221 or the hard disk 226.
図5のガス一覧モニタ画面28、図6の温度メインモニタ画面29、図7の圧力モニタ画面30、図8のAUX一覧モニタ画面31、図9のレシピ進捗モニタ画面32には、前記PMメインモニタ画面33と同様に、画面下部に前記操作パネル8が表示される。
操作パネル8の編集ボタン5は、タッチすると前記編集キー14による編集部分の編集を可能にするボタンである。
編集キー14は、たとえば、画面上部に設けられた文字/数字テーブルからなり、最初にセルを指定し、続いて、文字/数字テーブルに表示されている複数の文字や数字にタッチすることによって文字や数字を前記した各セルに入力するものである。
文字/数字テーブルから選択した文字や数字は、先に指定したセルの設定又は変更データとなり、それぞれシーケンスの設定、又は変更、又はパラメータとして基板処理に関するプログラムに反映される。
従って、これらのガス一覧モニタ画面28、温度メインモニタ画面29、圧力モニタ画面30、AUX一覧モニタ画面31、レシピ進捗モニタ画面32は、前記編集キー14がタッチされた段階でこれらの画面は、基板処理に関するプログラムの編集画面となり、各画面のセルはユーザやプログラムエンジニアの実施する設定又は変更の対象となる編集部分となる。もちろん、編集部分にはセルに限らずダイアログやポップアップウインドウも含まれる。
The gas list monitor screen 28 in FIG. 5, the temperature main monitor screen 29 in FIG. 6, the pressure monitor screen 30 in FIG. 7, the AUX list monitor screen 31 in FIG. 8, and the recipe progress monitor screen 32 in FIG. Similar to the screen 33, the operation panel 8 is displayed at the bottom of the screen.
The editing button 5 on the operation panel 8 is a button that enables editing of the editing portion by the editing key 14 when touched.
The edit key 14 is composed of, for example, a character / number table provided at the top of the screen. First, a cell is specified, and then characters are touched by touching a plurality of characters or numbers displayed in the character / number table. Or a number is input to each cell described above.
The characters and numbers selected from the character / number table become the previously set cell setting or change data, and are reflected in the program relating to the substrate processing as setting, changing or parameters of the sequence, respectively.
Accordingly, the gas list monitor screen 28, the temperature main monitor screen 29, the pressure monitor screen 30, the AUX list monitor screen 31, and the recipe progress monitor screen 32 are displayed when the editing key 14 is touched. This is a program editing screen for processing, and the cells on each screen are editing portions to be set or changed by the user or program engineer. Of course, the editing part includes not only cells but also dialogs and pop-up windows.
図5のガス一覧モニタ画面においては、マスフローコントローラ(mfc07〜mfc13)の流量(slm)を設定するための設定値のセル37が編集部分に該当し、図6の温度メインモニタ画面29においては、u、cu、c、cl、lの各ゾーンの炉内温度を設定するためのセル38及びランプレートを設定するためのセル39が編集部分に該当する。
また、図7の圧力モニタ画面30においては、制御方式のセル40、制御モードモニタのセル41、設定42、圧力コマンドのセル43が編集部分に該当し、図8のAUX一覧モニタ画面31においては、たとえば、AUX07〜AUX12までの水素と酸素の流量(slm)を設定するためのセル44が編集部分に該当する。ここで水素と酸素とは、アニールのための水蒸気生成用として用いられるものである。
In the gas list monitor screen of FIG. 5, the set value cell 37 for setting the flow rate (slm) of the mass flow controllers (mfc07 to mfc13) corresponds to the editing portion. In the temperature main monitor screen 29 of FIG. The cell 38 for setting the furnace temperature of each zone of u, cu, c, cl, and l and the cell 39 for setting the ramp rate correspond to the editing portion.
Further, in the pressure monitor screen 30 of FIG. 7, the control method cell 40, the control mode monitor cell 41, the setting 42, and the pressure command cell 43 correspond to the editing portion, and in the AUX list monitor screen 31 of FIG. For example, the cell 44 for setting the flow rates (slm) of hydrogen and oxygen from AUX07 to AUX12 corresponds to the editing portion. Here, hydrogen and oxygen are used for generating water vapor for annealing.
また、図9のレシピ進捗モニタ画面においては、例えば、ステップ名称、ステップ残時間を設定するためのセルやレシピの開始時刻、スキップ時間、ホールド時間を設定するためのセルが編集部分となる。 In the recipe progress monitor screen of FIG. 9, for example, a cell for setting a step name and a remaining step time and a cell for setting a recipe start time, skip time, and hold time are editing portions.
次に、図3、図10を参照して前記操作コントローラ223の構成について説明する。
図3に示すように、操作コントローラ223には、キーログを収集するキーログ収集入力モジュール50と、キーログデータメモリ内書き込みモジュール51と、メモリ→HD(ハードディスク)書き込みモジュール52と、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール54と、キーログデータ検索モジュール55とが備えられる。
ここで、図10に示すように、キーログ収集入力モジュール50は、前記編集画面の呼び出しキーのキーログを順次収集するモジュールであり、キーログデータメモリ内書き込みモジュール51は、前記キーログ収集入力モジュール50が収集したキーログを順次メモリに書き込んで保存するメモリ内キーログ収集処理を実行するモジュールである。また、メモリ→HD(ハードディスク)書き込みモジュール53は、前記メモリ225に書き込まれたキーログをこのメモリ225から読み込んでこれをハードディスク226に順次書き込んで保存する処理を実行するモジュールであり、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール54は、キーログのデータに前記処理装置の編集後の編集画面を結合するため相互に関連付けて保存するモジュールである。また、キーログデータ検索モジュール55は、後述する検索キーによってキーログのデータを検索し、このデータに関連付けられた編集画面のデータを呼び出すモジュールである。
例えば、前記キーログには、前記操作パネル8に配置される各ボタンや、前記ガスパネル9、温度パネル10、圧力パネル11、AUXパネル12、レシピパネル13又はアイコン等を呼び出しキーとして操作したキーログが該当し、編集画面には、例えば、前記ガス一覧モニタ画面28、前記温度メインモニタ画面29、前記圧力モニタ画面30、前記AUX一覧モニタ画面31、及び前記レシピ進捗モニタ画面32等が該当する。
このため、キーログデータメモリ内書き込みモジュール52と、メモリ→HD(ハードディスク)書き込みモジュール53からなるキーログ保存手段は、ガスパネル9、温度パネル10、圧力パネル11、AUXパネル12、レシピパネル13又はアイコン等(図4参照)を呼び出しキーとするキーログに、それぞれ編集後のガス一覧モニタ画面28(図5)、温度メインモニタ画面29(図6)、圧力モニタ画面30(図7)、AUX一覧モニタ画面31(図8)、レシピ進捗モニタ画面32(図9)を関連付けて前記操作コントローラ223の記憶手段(メモリ225、ハードディスク226)に保存し、表示形式変更手段としてのキーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール54は、前記メモリ225やハードディスク226に編集後の編集画面を保存した後に、編集後の編集画面の編集部分(セル)の画面表示形式を、各編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。この場合、表示形式の変更の態様には、ブリンク表示、色分け表示、又は反転表示が好ましいが、編集部分の周囲を枠状に囲んで太く強調表示したり、パラメータやコマンドをボールド表示として周囲の部分と区別して表示するようにしてもよい。
このように表示形式が変更されると、ユーザやメンテナンスエンジニアの視覚的な注意力が編集部分に自然に集中するのでトラブルの原因を短時間で特定することができる。
また、本実施形態に係る操作コントローラ223は、常に、編集後の編集画面を、前記パネル9〜13又は各パネル9〜13のアイコンを呼び出しキーとしたキーログに関連付けてハードディスク226に保存するので、従来のように解析の対象から最新のキーログが外れてしまうこともない。
さらに、ユーザやメンテナンスエンジニアの注意力が編集部分に集まるので、後述する検索キーを使用せずに、プレビューキー(前画面キー)やネクストキー(次画面キー)を使用して編集後の編集画面を呼び出す場合でもトラブルの原因を短時間で特定することができる。
Next, the configuration of the operation controller 223 will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 3, the operation controller 223 includes a key log collection input module 50 that collects key logs, a key log data in-memory write module 51, a memory → HD (hard disk) write module 52, key log data, and a screen. A file link display module 54 and a key log data search module 55 are provided.
Here, as shown in FIG. 10, the key log collection input module 50 is a module that sequentially collects the key logs of the call keys of the edit screen, and the key log data memory write module 51 is the key log collection input module 50. This is a module for executing in-memory key log collection processing for sequentially writing and storing collected key logs in a memory. The memory → HD (hard disk) writing module 53 is a module for executing processing for reading the key log written in the memory 225 from the memory 225, sequentially writing it in the hard disk 226, and storing it. The screen file link display module 54 is a module that stores the screen log in association with each other in order to combine the edited screen of the processing device with the key log data. The key log data search module 55 is a module that searches for key log data using a search key, which will be described later, and calls the edit screen data associated with the data.
For example, the key log includes a key log operated using each button arranged on the operation panel 8, the gas panel 9, the temperature panel 10, the pressure panel 11, the AUX panel 12, the recipe panel 13 or an icon as a call key. Applicable examples of the edit screen include the gas list monitor screen 28, the temperature main monitor screen 29, the pressure monitor screen 30, the AUX list monitor screen 31, and the recipe progress monitor screen 32.
For this reason, the key log storage means comprising the key log data in-memory writing module 52 and the memory → HD (hard disk) writing module 53 includes the gas panel 9, temperature panel 10, pressure panel 11, AUX panel 12, recipe panel 13 or icon. Etc. (see FIG. 4) as key keys, the edited gas list monitor screen 28 (FIG. 5), temperature main monitor screen 29 (FIG. 6), pressure monitor screen 30 (FIG. 7), AUX list monitor, respectively. The screen 31 (FIG. 8) and the recipe progress monitor screen 32 (FIG. 9) are associated and stored in the storage means (memory 225, hard disk 226) of the operation controller 223, and key log data and screen file links as display format change means The display module 54 includes the memory 225 and the hard disk 226. After saving the editing screen edited, the screen display format of the edit portion of the editing screen after editing (cell) is distinguishable change the other display portion of each editing screen. In this case, the display format change mode is preferably blink display, color-coded display, or reverse display. However, the editing area is surrounded by a frame and highlighted, or parameters and commands are displayed in bold. You may make it display distinguishing from a part.
When the display format is changed in this way, the visual attention of the user or maintenance engineer is naturally concentrated on the editing portion, so that the cause of the trouble can be identified in a short time.
Further, the operation controller 223 according to the present embodiment always saves the edited edit screen in the hard disk 226 in association with the key log using the icons of the panels 9 to 13 or the panels 9 to 13 as call keys. The latest key log is not removed from the analysis target as in the past.
Furthermore, since the attention of the user and maintenance engineer is gathered in the editing part, the editing screen after editing using the preview key (previous screen key) and next key (next screen key) without using the search key described later Even when calling, the cause of the trouble can be identified in a short time.
また、検索キーにより検索可能なデータベースを記憶手段としてのハードディスク226に構築するので、たとえば、日付検索、人名(ユーザ又はメンテナンスエンジニア)を検索キーとする検索によって得られた結果を、さらに、ガスや温度等で検索して絞り込むとトラブル等の原因をさらに短時間で特定することができる。
図11は前記検索キーを利用して前記装置コントローラ220の記憶手段を検索し、編集後の編集画面の呼び出しに用いるデータログメニュー画面の一例である。
なお、このデータログメニュー画面60は、図4で説明したPMモニタメイン画面30aのデータログボタン6をタッチしたときに前記装置コントローラ220と一体又は別体のモニタ227に表示される画面である。
データログメニュー画面60でOUロギング情報ボタン61をタッチすると、モニタ227の画面が図12に示すOUロギングメニュー画面62に切り替わる。そして、OUロギングメニュー画面62でキーログボタン63をタッチするとモニタ227の画面が図13に示すキーログ解析一覧画面64に切り替わる。
なお、この画面において、Mon¥MonPMMainPressは画面を前記圧力モニタ画面に、
Mon¥MonPMMainAUXSmallPanelは画面を前記AUX一覧モニタ画面に、
また、Mon¥MonPMMainRcpProgressは画面を前記レシピ進捗モニタ画面に、
Mon¥MonPMMainMFCLは画面を前記ガス一覧モニタ画面に、
Mon¥MonPMMainTempTCMon5Zは画面を温度メインモニタ画面に切り替えるデータベースファイルである。
たとえば、MonPMMainPressにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン65をタッチするとモニタ227の画面が図1で説明したPMモニタメイン画面30aの圧力パネル11に対応する圧力編集画面に切り替わる。
図14はこの圧力編集画面68である。圧力編集画面68の下部には、Prevキー(前画面キー)69、Closeキー(終了ボタン)70及びNextキー(次画面キー)71が設けられており、Prevキー(前画面キー)69をタッチするごとに前記操作コントローラ223のハードディスク226に保存されていた過去の圧力編集画面68が保存順と逆順に表示され、Nextキー(次画面キー)71をタッチするごとにハードディスク226に保存されていた過去の圧力編集画面68が保存順に表示される。このように、圧力、温度といったカテゴリ別に検索可能なデータベースを構築すると、トラブルの原因を推定できる場合において、使い勝手がよくなるので、原因の特定を短時間で終了することができる。
図15は図13に示す検索キー73に対応する検索画面72である。このように、操作コントローラ223に検索画面72を格納し、操作コントローラ223に発生日時(年月日、時間)や作業者名を検索キーとするデータベースを構築してカテゴリ別に編集画面を検索するように構成した場合には、トラブルの原因の特定等に対する作業の短縮化を図ることができる。
次に、本実施形態に係る処理装置90による操作例を説明する。
例えば、プロセス実行後に、顧客(ユーザ)の成膜条件が合わない場合に、レシピ(基板処理に用いるプロセスプログラム)の温度設定、圧力設定、原料ガスの流量等の設定をキーログによってどのように変更したので条件に合わなくなったかを調べる一つの手段に使用する。つまり、レシピの何処のどの部分をどのように変更したことがわかれば、条件に合わなくなったことの原因を特定することができる。
より具体的に説明すると、図4のPMモニタメイン画面4から編集ボタン5をタッチして図16の編集メニュー画面に移る。そしてプロセスレシピボタン81をタッチして図17のプロセスレシピ編集画面に移る。この画面上で、レシピの温度設定(炉内温度設定)や原料ガスの温度設定等を行う。そして、図4のPMモニタメイン画面30に戻ってPMボタン1をタッチすると、図18に示すPMコマンド画面83が現れる。この画面で、IDEL→STANBY→RUN→ENDの順でモード遷移を実施し、各モードでコマンド等を入力する。前記したように、これらの画面で編集した編集画面は、キーログに関連させて画面と同じイメージでハードディスク226に保存される。
レシピの編集後に、例えば、炉内圧力をチェックするときには、図4で説明したPMモニタメイン画面30aのデータログボタン6をタッチして図11のデータログメニュー画面60を表示させ、この画面でOUロギング情報ボタン61をタッチして図12に示すOUロギングメニュー画面62に切り替える。そして、OUロギングメニュー画面62でキーログボタン63をタッチして図13に示すキーログ解析一覧画面64に切り替える。
次に、MonPMMainPressにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン65をタッチして図14の圧力編集画面に切り替える。この画面で、Prevキー(前画面キー)69又はNextキー(次画面キー)71を用い先のキー操作により前記ハードディスク226に保存された圧力編集画面68を表示させ、設定又は変更した炉内圧力が適正かどうかをチェックする。この場合、図15の検索画面を表示させ、例えば、発生日時(年月日、時間)や作業者名を検索キーとして検索した場合には、トラブルの原因の特定に対する作業時間の短縮化が図られ、トラブルの原因を効率的に特定することができる。従って、作業効率が改善されユーサーやメンテナンスエンジニアの負担を大幅に改善することが可能となる。
このように本実施形態によれば、エラーとして検出されないエンジニアの設定ミスを容易に発見し確認することができる。また、設定ミスによる事故を未然に防止できると共に、生産性の向上に寄与できる。
In addition, since a database searchable by the search key is constructed in the hard disk 226 as the storage means, for example, the results obtained by the date search, the search using the person name (user or maintenance engineer) as the search key, If the search is narrowed down by temperature or the like, the cause of the trouble can be identified in a shorter time.
FIG. 11 shows an example of a data log menu screen used for searching the storage means of the device controller 220 using the search key and for calling up the edited edit screen.
The data log menu screen 60 is a screen displayed on the monitor 227 that is integral with or separate from the device controller 220 when the data log button 6 on the PM monitor main screen 30a described in FIG. 4 is touched.
When the OU logging information button 61 is touched on the data log menu screen 60, the screen of the monitor 227 is switched to the OU logging menu screen 62 shown in FIG. When the key log button 63 is touched on the OU logging menu screen 62, the screen of the monitor 227 is switched to the key log analysis list screen 64 shown in FIG.
In this screen, Mon \ MonPMMainPress will change the screen to the pressure monitor screen.
Mon \ MonPMMainAUXSmallPanel displays the AUX list monitor screen.
Mon \ MonPMMainRcpProgress changes the screen to the recipe progress monitor screen,
Mon \ MonPMMainMFCL displays the above-mentioned gas list monitor screen.
Mon \ MonPMMainTempTCMon5Z is a database file that switches the screen to the temperature main monitor screen.
For example, when the cursor bar is moved to MonPMMainPress and the log analysis button 65 on the same screen is touched, the screen of the monitor 227 is switched to the pressure editing screen corresponding to the pressure panel 11 of the PM monitor main screen 30a described in FIG.
FIG. 14 shows the pressure editing screen 68. At the bottom of the pressure editing screen 68, a Prev key (previous screen key) 69, a Close key (end button) 70, and a Next key (next screen key) 71 are provided, and the Prev key (previous screen key) 69 is touched. Each time, the past pressure editing screen 68 stored in the hard disk 226 of the operation controller 223 is displayed in the reverse order of the storage order, and every time the Next key (next screen key) 71 is touched, it is stored in the hard disk 226. The past pressure editing screen 68 is displayed in the order of saving. As described above, if a database that can be searched by category such as pressure and temperature is constructed, the cause of trouble can be estimated, and the usability is improved. Therefore, the cause identification can be completed in a short time.
FIG. 15 shows a search screen 72 corresponding to the search key 73 shown in FIG. In this way, the search screen 72 is stored in the operation controller 223, and a database with the occurrence date (year / month / day, time) and the worker name as a search key is constructed in the operation controller 223 to search the edit screen by category. When configured in this manner, the work for identifying the cause of the trouble can be shortened.
Next, an operation example by the processing apparatus 90 according to the present embodiment will be described.
For example, if the film formation conditions of the customer (user) do not match after the process execution, how to change the settings of recipe (process program used for substrate processing) temperature setting, pressure setting, flow rate of source gas, etc. by key log Therefore, it is used as a means to check whether the conditions are not met. That is, if it is known how and what part of the recipe has been changed, the cause of the failure to meet the conditions can be specified.
More specifically, the edit button 5 is touched from the PM monitor main screen 4 in FIG. 4 to move to the edit menu screen in FIG. Then, the process recipe button 81 is touched to move to the process recipe editing screen of FIG. On this screen, the temperature setting of the recipe (temperature setting in the furnace) and the temperature setting of the source gas are performed. When the PM button 1 is touched after returning to the PM monitor main screen 30 of FIG. 4, a PM command screen 83 shown in FIG. 18 appears. On this screen, mode transition is performed in the order of IDEL → STANDBY → RUN → END, and a command or the like is input in each mode. As described above, the editing screens edited on these screens are stored in the hard disk 226 in the same image as the screen in association with the key log.
For example, when checking the pressure in the furnace after editing the recipe, the data log button 6 on the PM monitor main screen 30a described in FIG. 4 is touched to display the data log menu screen 60 in FIG. The logging information button 61 is touched to switch to the OU logging menu screen 62 shown in FIG. Then, the key log button 63 is touched on the OU logging menu screen 62 to switch to the key log analysis list screen 64 shown in FIG.
Next, the cursor bar is moved to MonPMMainPress and the log analysis button 65 on the same screen is touched to switch to the pressure editing screen of FIG. On this screen, the pressure editing screen 68 stored in the hard disk 226 is displayed by the previous key operation using the Prev key (previous screen key) 69 or the Next key (next screen key) 71, and the furnace pressure set or changed is displayed. Check if is correct. In this case, when the search screen of FIG. 15 is displayed and, for example, the occurrence date and time (year / month / day, time) and the name of the worker are searched as search keys, the work time for identifying the cause of the trouble is reduced. The cause of the trouble can be identified efficiently. Therefore, the work efficiency is improved, and the burden on the user and maintenance engineer can be greatly improved.
Thus, according to the present embodiment, it is possible to easily find and check an engineer's setting error that is not detected as an error. In addition, accidents due to setting mistakes can be prevented and the productivity can be improved.
なお、本実施の形態では、操作コントローラ223のハードディスク226に保存するデータ数を極力少なくするため、圧力パネル11等の呼び出しキーのキーログに関連付けて圧力モニタ画面30等の編集画面を保存する説明をしたが、大容量のハードディスク226を用いる場合は、呼び出しキーだけでなく、編集キー14のキーログに関連付けて圧力モニタ画面30等の編集画面をハードディスク226に保存するようにしてもよい。更に、全てのキーログに関連付けて、編集画面をハードディスク226に保存して、図14上のPrevキー69(もしくはNextキー71)を用い、図13に示すキーログ解析一覧画面64で表示されているキーログ情報を逐次画面表示させるようにしてもよい。
また、本実施形態の説明において、本発明を縦型の処理装置に適用する説明をしたが、横型の処理装置にも適用が可能であり、枚葉装置に適用することも可能である。さらに、本発明に係る諸装置は、CVD、酸化、アニール等の基板の処理に適用できるし、処理対象とする基板も水晶、液晶、半導体等の種々の基板を対象とする。
このように本発明は種々の改変が可能であり、本発明がこの改変された発明に及ぶことは当然である。
In the present embodiment, in order to reduce the number of data to be saved in the hard disk 226 of the operation controller 223 as much as possible, an explanation is given for saving the editing screen such as the pressure monitor screen 30 in association with the key log of the calling key such as the pressure panel 11. However, when a large-capacity hard disk 226 is used, an edit screen such as the pressure monitor screen 30 may be stored in the hard disk 226 in association with the key log of the edit key 14 as well as the call key. Further, the editing screen is stored in the hard disk 226 in association with all the key logs, and the key log displayed on the key log analysis list screen 64 shown in FIG. 13 using the Prev key 69 (or Next key 71) in FIG. Information may be sequentially displayed on the screen.
In the description of the present embodiment, the present invention is applied to a vertical processing apparatus. However, the present invention can also be applied to a horizontal processing apparatus, and can also be applied to a single wafer apparatus. Furthermore, the various apparatuses according to the present invention can be applied to the processing of substrates such as CVD, oxidation, annealing, etc., and the substrates to be processed target various substrates such as crystal, liquid crystal, and semiconductor.
As described above, the present invention can be modified in various ways, and the present invention naturally extends to the modified invention.
10 温度パネル(呼び出しキー)
11 圧力パネル(呼び出しキー)
12 AUXパネル(呼び出しキー)
13 レシピパネル(呼び出しキー)
14 編集キー
28 ガス一覧モニタ画面(編集画面)
29 温度メインモニタ画面(編集画面)
30 圧力モニタ画面(編集画面)
31 AUX一覧モニタ画面(編集画面)
32 レシピ進捗モニタ画面(編集画面)
52 キーログデータメモリ内書き込みモジュール(キーログ保存手段)
53 メモリ→HD(ハードディスク)書き込みモジュール(キーログ保存手段)
54 キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール(表示形式変更手段)
226 ハードディスク(記憶手段)
227 メモリ(記憶手段)
69 Prevキー(前画面キー)
71 Nextキー(次画面キー)
10 Temperature panel (call key)
11 Pressure panel (call key)
12 AUX panel (call key)
13 Recipe panel (call key)
14 Edit Key 28 Gas List Monitor Screen (Edit Screen)
29 Temperature main monitor screen (edit screen)
30 Pressure monitor screen (edit screen)
31 AUX list monitor screen (edit screen)
32 Recipe progress monitor screen (edit screen)
52 Key log data memory writing module (key log storage means)
53 Memory → HD (hard disk) writing module (key log storage means)
54 Key log data and screen file link display module (display format change means)
226 Hard disk (storage means)
227 Memory (storage means)
69 Prev key (Previous screen key)
71 Next key (Next screen key)
Claims (4)
前記編集画面に表示される各種キーの操作をキーログとして収集するキーログ収集入力手段と、
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、
前記記憶手段に保存された前記編集画面及び前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、区別可能に変更する表示形式変更手段と、
前記キーログを検索して前記キーログに関連付けられた前記編集画面を表示するキーログデータ検索手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 Display means for displaying an edit screen of a program relating to substrate processing;
Key log collection input means for collecting various key operations displayed on the editing screen as key logs;
Key log storage means for storing the editing screen edited by the key in the storage means in association with the key log;
Display format changing means for changing the screen display format of the edited screen and the portion edited by the key stored in the storage means to be distinguishable;
Key log data search means for searching the key log and displaying the editing screen associated with the key log;
A substrate processing apparatus comprising:
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連付けて保存する工程と、
前記編集画面と前記キーにより編集された部分の画面表示形式を区別可能に変更する工程と、
前記キーログを検索して、前記キーログに関連付けられた前記編集画面を表示する工程と、
を有する基板処理装置の表示方法。 A process of collecting various key operations displayed on the editing screen of a program related to substrate processing as a key log,
Storing the editing screen edited by the key in association with the key log;
Changing the screen display format of the part edited by the editing screen and the key to be distinguishable;
Searching the key log and displaying the editing screen associated with the key log;
A display method for a substrate processing apparatus comprising:
前記キーログに関連付けられた前記編集画面を表示する工程では、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって、前記キーにより編集された前記部分が表示される基板処理装置の表示方法。 A display method for a substrate processing apparatus according to claim 2,
In the step of displaying the editing screen associated with the key log, the portion edited by the key is displayed by one display selected from blink display, color-coded display, and reverse display. Display method.
発生日時やファイル名などのキーログ情報を表示するキーログ解析一覧画面を表示し、前記キーログ解析一覧画面に表示された所定のファイル及びログ解析ボタンが選択されると、前記ファイルに関連付けられた所定の編集画面を表示する基板処理装置のデータ解析
方法。
A data analysis method for a substrate processing apparatus implemented by the substrate processing apparatus according to claim 1,
When a key log analysis list screen that displays key log information such as occurrence date and time and file name is displayed, and a predetermined file and a log analysis button displayed on the key log analysis list screen are selected, a predetermined log associated with the file is selected . A data analysis method for a substrate processing apparatus that displays an edit screen.
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