JP4580592B2 - Optical disc master exposure system - Google Patents
Optical disc master exposure system Download PDFInfo
- Publication number
- JP4580592B2 JP4580592B2 JP2001222795A JP2001222795A JP4580592B2 JP 4580592 B2 JP4580592 B2 JP 4580592B2 JP 2001222795 A JP2001222795 A JP 2001222795A JP 2001222795 A JP2001222795 A JP 2001222795A JP 4580592 B2 JP4580592 B2 JP 4580592B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- circuit
- clv
- turntable
- delay
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Rotational Drive Of Disk (AREA)
- Moving Of The Head For Recording And Reproducing By Optical Means (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ディスク原盤露光装置に関し、詳細には光ビームあるいは電子ビームを用いて等線速等ピッチスパイラル情報トラックを有する光ディスク原盤製作を行なう光ディスク原盤露光装置に関連し、送り系の制御誤差及びターンテーブル振れの影響を補正し、高密度情報トラック形成を可能にする方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、大容量光ディスクメディアとして、DVDの約30倍の記録密度(100Gbit/in2)の光ディスクシステムを実現するための、超高密度マスタリング装置の開発が検討されている。一方、2001年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集‘O61「超高密度マスタリング装置における高分解能NRRO検出」(パイオニア(株)北原弘昭、小島良明、和田泰光)’によれば、このような記録密度においては、最短ピット長、ピット幅とも70nm以下となることが予想され、この時、マスタリング装置に必要とされる記録位置精度はサブナノメートルオーダと見積もられている。この文献では、機械的位置決めで、目標精度σ0.5nmを達成することは困難であるため、回転ステージと直動ステージの位置決め誤差をそれぞれ高分解能で検出し、それらを電子ビーム偏向により補正することで相対位置精度を改善する方法をとるとし、回転ステージの位置決め誤差として問題となる角度誤差(回転むら)の回転非同期成分と、非繰り返し軸振れ(NRRO)のうち、NRROの高分解能検出についての検討結果について述べられている。以上のような検討を通して、超高密度マスタリング装置においては、上記回転むらの非同期成分及び非同期軸振れ成分の補正が重要な課題となるとされている。なお同期成分については、トラックピッチ精度に影響してこない。
【0003】
この課題に対し、特開2000−20964号公報(以下従来例と称す)では、送り方向のビーム照射位置の補正に関連し、ターンテーブルの回転角に応じた送り方向の振れ情報に基づいて、あるいは所定周期分のターンテーブルの回転角に応じた送り方向の振れ情報を基準として、現ターンテーブルの回転角に応じた送り方向の振れ情報に基づいてビーム照射位置の補正を行なおうとしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例では、光ディスク原盤上に等線速・等トラックピッチスパイラル情報トラックを形成するためには従来例の方法に加え、送り系駆動制御の送り位置誤差に対する対応やCLV駆動指令パルスの精度に対する対応が必要になる課題を有している。また、記録する光ディスク原盤の記録フォーマットがCLV(Constant Linear Velocity;線速一定モード)である場合には、光ディスク原盤上での照射スポットの半径位置に応じてスピンドルモータの回転数を変更すべくレーザ測長機から発せられる検出信号は、基準信号発生器13に対しても供給されることから、CLV駆動指令パルスの生成は制御状態にある送り系の、送り制御誤差あるいは駆動指令パルスの精度誤差を含んだ半径位置情報に基づいて生成されている。従って、上記従来例の方法に従ってビーム照射位置の補正を行なったとしても等トラックピッチスパイラル情報トラックが形成される保証は得られない。
【0005】
本発明はこれらの課題を解決するためのものであり、厳密に正確なCLV駆動指令パルス列を基準に、送り制御誤差及び、ターンテーブルの同期振れ・非同期振れの影響を同時に補償し、光ディスク原盤上に、高精度な等線速・等トラックピッチスパイラル状の高密度情報トラックを形成するための方法及び装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
前記問題点を解決するために、光ディスク原盤を搭載するターンテーブルと、該ターンテーブルを回転駆動させる回転駆動手段と、情報トラックとして搭載する情報記録信号に基づいて記録用光ビーム又は電子ビームを収束照射させる収束照射手段と、該収束照射手段又は光ディスク原盤を搭載したターンテーブルを、光ディスク原盤と平行な平面内で相対的に横移動させる横送り駆動手段とを有し、回転駆動手段及び横送り駆動手段の制御により光ディスク原盤上に線密度一定となるように情報トラックを形成するCLV駆動で露光する光ディスク原盤露光装置であって、回転駆動手段及び横送り駆動手段に対する駆動指令パルス列を、CLV駆動動作開始時から1パルス毎にその周期長を一定の時間づつ変化させながら生成出力し、基準クロック発生回路と、基準クロックを分周する分周回路と、分周データをラッチする分周データラッチ回路と、分周回路からの分周パルスを入力とし複数の遅延パルスを出力する遅延回路と、遅延回路の出力の複数の遅延パルスから目的とする遅延パルスを選択出力するパルス選択回路と、パルス選択回路に入力しパルス選択を行なわせる遅延パルス選択データをラッチする遅延パルス選択データラッチ回路と、出力するCLV駆動指令パルスに応じて設定される分周データ及び遅延パルス選択データを出力する周期データ演算回路とを有し、周期データはCLV駆動指令パルス毎に出力され、分周データラッチ回路及び遅延パルス選択データラッチ回路にセットされる光ディスク原盤露光装置において、CLV駆動の開始半径位置をR、線路長を測定しようとしているスパイラル半径位置をr、スパイラルトラックピッチをP、トラック数をn(nは正の整数)、線速をVL、ターンテーブル1回転あるいは、1ピッチ長の横送りのためのCLV駆動指令パルス数をNc個とすると、(CLV駆動指令パルス周期)=2πR 0 /(Nc・VL)+(2n−1)πP/(Nc 2 ・VL)を満たす周期のパルス列を生成することを特徴とする光ディスク原盤露光装置である。よって、ターンテーブル移動型あるいは光学系移動型の光ビーム又は電子ビームを用いた光ディスク原盤露光装置においてCLV駆動する際に、露光ビーム位置を補正するための基準となり得るターンテーブル及び送りの正確なCLV駆動指令パルス列生成方法を提供でき、更にこのCLV駆動指令パルス列を基準としてビーム照射位置誤差を求めることが可能となる。
【0018】
【発明の実施の形態】
Ro
本発明の光ディスク原盤露光装置は、CLV駆動の開始半径位置をR、線路長を測定しようとしているスパイラル半径位置をr、スパイラルトラックピッチをP、トラック数をn(nは正の整数)、線速をVL、ターンテーブル1回転あるいは、1ピッチ長の横送りのためのCLV駆動指令パルス数をNc個とすると、(CLV駆動指令パルス周期)=2πR 0 /(Nc・VL)+(2n−1)πP/(Nc 2 ・VL)を満たす周期のパルス列を生成する。
【0019】
【実施例】
はじめに、本発明の原理について説明する。
CLV駆動によって形成される等ピッチのスパイラルトラックにおいて、その全トラック線路長(L)は式(1)で表される。
L=π(r2−R0 2)/P (1)
r=R0+nP (2)
但し、R0はCLV駆動の開始半径位置を、rは線路長を測定しようとしているスパイラル半径位置を、Pはスパイラルトラックピッチを、nはトラック数を各々表わす。また、nは1,2,3,…とする。
式(1)、式(2)から
L=2πR0n+n2πP (3)
また、式(3)から各トラックの線路長(Ln)は次の(4)式のように表される。
Ln=2πR0+(2n−1)πP (4)
【0020】
式(4)から、隣接トラック間の線路長差は、以下のように一定であることがわかる。
(隣接トラック間の線路長差)=2πP=一定 (5)
【0021】
式(2)は、求めようとするスパイラル軌跡を、トラックを単位として、すなわち、スパイラルの中心から線路に沿って軌跡の回転角が2πを周回する毎の半径位置を表現している。その結果、トラック毎に、2πPづつトラックの線路長が増加していくということになる。これは、CLV駆動において、線速をVLとすると1トラック毎に2πP/VLづつ1トラック周回するに要する時間が増えることを意味している。図9及び図10は、この時のCLV駆動指令パルス列の周波数の変化の様子を示している。図9はトラック毎に周波数を更新した場合、図10は、トラック内を複数に分割して周波数を更新した場合である。どちらの場合も長時間内で見た時の理想的なCLV駆動指令パルス列に対して、誤差を持たないパルス列を生成できる。しかし、トラック内あるいはトラックを複数に分割した時間内でみると、時々刻々に生成される駆動指令パルスの速度指令には誤差を持っていた。
【0022】
そこで、本発明のCLV駆動指令パルス列生成方法では、CLV駆動指令パルス毎に周期を更新し、時々刻々に生成される駆動指令パルスにおいて、理想的なCLV駆動指令パルス列との誤差を無くしている。図1に、本発明によるCLV駆動指令パルス列生成方法によって生成されるパルス列の周期の変化の様子を示す。今、ターンテーブル1回転あるいは、1ピッチ長の横送りのためのCLV駆動指令パルス数をNc個とすると、n個のCLV駆動指令パルスに相当する線路長(Lp)は
Lp=2πR0n/Nc+(n/Nc)2πP (6)
また、式(6)から各CLV駆動指令パルス相当の線路長(Lpn)は次の(7)式のように表される。
Lpn=2πR0/Nc+(2n−1)πP/Nc2 (7)
【0023】
式(7)から、隣接CLV駆動指令パルス相当の線路長差は、以下の様に一定であることがわかる。
(隣接CLV駆動指令パルス相当の線路長差)
=2πP/Nc2=一定 (8)
【0024】
ここで、線速VLは一定であるから
(隣接CLV駆動指令パルスの周期長差)
=2πP/(Nc2・VL)=一定 (9)
となる。
従って、
(CLV駆動指令パルス周期)
=2πR0/(Nc・VL)+(2n−1)πP/(Nc2・VL)(10)
を満たす周期のパルス列を生成することにより、理想的なCLV駆動指令パルスの生成が実現できる。
【0025】
このような方法で得られる、1パルス毎の発生時刻は、駆動速度、すなわちCLV駆動指令パルスの周期を時々刻々と変化させながら光ディスク原盤上に等線速・等ピッチスパイラル情報トラックを形成するCLV駆動状態を保証するための基準となり得る。
【0026】
図2は別の発明の一実施例に係るCLV駆動指令パルス列生成装置の構成を示すブロック図である。本発明の特徴は、上記説明したCLV駆動指令パルス列生成方法に順じ、1パルス毎に分周データ及びパルス選択データを更新し、厳密に正確なCLV駆動指令パルス列出力を得ることである。図2において、本実施例のCLV駆動指令パルス列生成装置では、基本クロック周期(Ta)内に複数の等遅延時間間隔遅延パルス群を生成する遅延回路21を有し、この最少分割遅延時間を単位とし、式(10)で与えられる周期から、次のCLV駆動指令パルスの基本クロックの分周数と遅延数を演算し、現出力パルスのパルス選択データを加味して、分周データ及びパルス選択データを求め、それぞれラッチ回路22、23にセットさせる。演算は十分な有効桁をもってなされ、演算誤差による影響が出力パルス精度に現れないよう行なわれる。また、遅延時間で決まる周期設定の最小分解能によっても、正確な周期設定が行なえない場合は、最も近いパルスを出力パルスとする。ただし、演算上は、あくまでも正確に行ない、厳密に正しいCLV駆動指令パルス発生時間周辺で絶えずパルス出力が行なわれるようにする。
【0027】
上記発明により得られる厳密に正確な送り駆動指令パルス列を基準とすることにより、送り駆動制御系の制御誤差に伴うビーム照射位置誤差と、次に説明するように、送り方向のターンテーブル振れに伴うビーム照射位置誤差を同時に検出する。
【0028】
図3は別の発明の第1の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。同図において、偏差カウンタ31は、基準となるCLV駆動指令パルス(Pg)と、送り位置検出装置から出力される送り位置検出パルス(戻りパルス)(Ls)を入力とし、送り系の送り制御誤差を演算して出力する。データ変換回路32は、ターンテーブル振れ検出信号の大きさ応じて、すなわちターンテーブル振れ検出信号(Vd1)のA/D変換回路33の出力に応じて、振れに伴う位置誤差データを出力する。加減算回路34は、偏差カウンタ31からの送り系の送り位置誤差データと、データ変換回路32からのターンテーブルの振れに伴う位置誤差データとに基づいて演算し、Pgを基準に、現時点でのビーム照射位置誤差を求め、D/A変換回路35によってD/A変換後のビーム照射位置補正信号(Bc)を出力し、図示していないビーム照射位置補正手段へ出力する。なお、ビーム位置補正回路用の送り位置情報は、送りモータの駆動制御のために用意されている第1の送り位置検出器の出力を用いてもよいし、専用に第2の送り位置検出器を用意してもよい。また、一般に、送り駆動制御系内で生成される、指令パルス列と第1の送り位置検出器から出力される戻りパルスの偏差データを直接ビーム位置補正回路に取り入れてもよい。
【0029】
次に、上記発明により得られる厳密に正確な送り駆動指令パルス列を基準とすることにより、送り駆動制御系の制御誤差に伴うビーム照射位置誤差と、送り方向のターンテーブル振れに伴うビーム照射位置誤差及び、次に説明するように、ターンテーブル振れ検出面の真円度誤差情報を加えたビーム照射位置誤差を検出する。
【0030】
図4は別の発明の第2の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。同図において、図3と同じ参照符号は同じ構成要素を示す。異なる構成要素として、加減算回路34においては、ターンテーブル振れ検出面の真円度誤差情報を合わせて演算する。すなわち、真円度誤差出力回路41には、予めターンテーブル単体で評価された、回転角に応じた真円度誤差情報が格納されてあり、回転位置出力回路42のターンテーブルの回転に応じて出力されるターンテーブル回転パルス(Tp)と回転原点を示す原点パルス入力から得られる回転位置データ(Tz)に基づいて真円度誤差情報を出力する。
【0031】
図5は別の発明の第3の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。同図において、図4と同じ参照符号は同じ構成要素を示す。先ず、本実施例の動作について説明すると、ターンテーブル振れ量検出器より得られる、振れ情報をV(θ)とすると、
V(θ)=R(θ)+dR(θ)+NR(θ) (11)
【0032】
ここで、R(θ)はターンテーブル回転と同期した回転軸振れ量を、dR(θ)は振れ検出面の真円度誤差に伴う振れ量を、NR(θ)は、ターンテーブル回転と非同期な回転軸振れ量を各々表す。また、θはターンテーブル回転軸に取り付けられた回転角検出手段(回転角に応じてパルスを出力する)から得られる回転角である。
【0033】
本実施例では、非同期成分NR(θ)は従来例のように、複数回の測定による平均化あるいは、適切なローパスフィルター回路によって除去され、同期軸振れR(θ)は、サイン波形、A×sin(θ)(=R(θ))を仮定する(同期軸振れの軌跡は、真の回転中心を中心に円を描くとする。)。このようにすることによって、真円度誤差dR(θ)は
【0034】
dR(θ)=V(θ)−A×sin(θ−φ) (12)
【0035】
として求められる。ここで、Aおよびφは、dR(θ)の一周期にわたる積分量が最小となるように設定される。このようにして得られるdR(θ)を真円度誤差情報とする。この真円度誤差情報dR(θ)は、振れ量とターンテーブル回転角情報を入力として持つ図示していないシステムコントローラ内部等においてソフトウェアによって処理され求められる。求められた真円度誤差情報は、図5に示すように、システムコントローラにより、真円度誤差データ格納回路51に位置情報に対応してデータセットされる。よって、予め、ターンテーブル振れ測定面の真円度誤差情報が得る必要が無くなり、必要に応じ繰り返し測定が可能となる。また、データの処理はソフトウェアによって処理され測定から真円度誤差データ格納回路51への真円度誤差情報のセットまで自動化され、汎用性の高いビーム照射位置補正システムが構成できる。
【0036】
図6は送り方向と直角方向に第2のターンテーブル振れ検出器を配置した様子を示す概略平面図である。同図からわかるように、ターンテーブル振れ自体が微小であるため、送り方向及び、それと直角方向の振れを検出し、それぞれ独立な方向の振れとして取り扱っても問題はない。光ディスク原盤露光装置には、この第2の振れ検出方向に対応した第2のビーム偏向手段を搭載し、それぞれ独立にビーム照射位置補正を行なう。
【0037】
図7は別の発明の第1の実施例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略図である。同図において、電子ビーム鏡筒71では、電子ビーム源から発する電子ビームが、ブランキング電極72を介して、情報トラック信号発生回路73からの信号によってブランキングされる。また、電子ビームは、図3に示す構成を有するビーム照射位置補正回路74からのビーム照射位置補正信号(Bc)によって、第1の偏向手段75(電子線露光機の場合は偏向電極、光ビーム露光機の場合はAO偏向器が用いられる)を用い、光ディスク原盤76上の電子ビーム照射位置の補正を行なう。真空容器77内には、光ディスク原盤76とこれを搭載するターンテーブル78、ターンテーブル78を回転駆動するターンテーブル回転モータ79及びこれと同軸に構成され、回転角に応じて回転パルスと原点パルスを出力するターンテーブル回転パルス生成装置80、ターンテーブル78の送り方向の振れを検出する第1の振れ検出器81、これらを横移動させるための送りネジ82、この送り位置を検出するための第2の送り位置検出器83が内包される。送りネジ82を回転する送りモータ84は真空容器77の外に設置されている。
【0038】
このような構成を有する光ディスク原盤露光装置によれば、図2に示す構成を有するCLV駆動指令パルス列生成装置85から、送り系及び回転系駆動装置に対して、CLV駆動指令パルス列(Ps、Pt)が出力される。送りモータ駆動制御系86及びターンテーブル回転駆動制御系87は、第1の送り位置検出器88からの第1の送り位置検出情報及びターンテーブル回転パルス生成装置80からの戻りパルス(Tp,Tz)を用いて、CLV駆動指令パルスに追従した送り駆動、回転駆動を行なう。そして、電子ビーム照射位置の補正動作としては、送り系CLV駆動指令パルス(Ps)と第2の送り位置検出器83から得られるターンテーブルの位置情報と、送り方向の第1の振れ検出器81から得られるターンテーブル振れ情報から、図3に示した構成を有するビーム照射位置補正回路74によって出力されるビーム照射位置補正信号(Bc)に基づいて第1の偏向手段75の偏向電極によって、電子ビーム照射位置補正を行なう。なお、図4及び図5に示す構成を有するビーム照射位置補正回路を搭載する場合は、ターンテーブル回転パルス生成装置80から得られる、ターンテーブル回転パルス(Tp)及び回転原点パルス(Tz)が、ビーム照射位置補正回路74へ入力されることとなる。
【0039】
図8は別の発明の第2の実施例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略図である。図7に示した第1の実施例の光ディスク原盤露光装置との違いは、ターンテーブルの送り方向と直角方向の振れを検出するために、第2の振れ検出器89と電子ビームをターンテーブルの送り方向と直角方向に偏向可能な第2の偏向手段90が追加された点である。第1の実施例と同様な動作を行なうと同時に、第2の振れ検出器89によって検出された第2の振れ検出情報に応じて、第2の偏向手段90を用いて電子ビーム照射位置補正を行なっている。図中、第2の振れ検出器89により検出された第2の振れ検出情報に応じて、ビーム照射位置補正信号(Bc)に変換する処理回路が必要であるが、省略してある。なお、駆動系の動作、送り方向の電子ビーム照射位置補正動作については第1の実施例と同じであるので詳細は省略することとする。
【0040】
次に、図7及び図8に示す光ディスク原盤露光装置を用い、高密度な等線速・等ピッチスパイラル情報トラックが搭載した、光ディスク原盤の製作が可能で、等線速・等トラックピッチスパイラル高密度情報トラックを搭載した高密度光ディスクスタンパ及び光ディスクメディアができる。
【0041】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲内の記載であれば多種の変形や置換可能であることは言うまでもない。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、光ディスク原盤を搭載するターンテーブルと、該ターンテーブルを回転駆動させる回転駆動手段と、情報トラックとして搭載する情報記録信号に基づいて記録用光ビーム又は電子ビームを収束照射させる収束照射手段と、該収束照射手段又は光ディスク原盤を搭載したターンテーブルを、光ディスク原盤と平行な平面内で相対的に横移動させる横送り駆動手段とを有し、回転駆動手段及び横送り駆動手段の制御により光ディスク原盤上に線密度一定となるように情報トラックを形成するCLV駆動で露光する光ディスク原盤露光装置であって、回転駆動手段及び横送り駆動手段に対する駆動指令パルス列を、CLV駆動動作開始時から1パルス毎にその周期長を一定の時間づつ変化させながら生成出力し、基準クロック発生回路と、基準クロックを分周する分周回路と、分周データをラッチする分周データラッチ回路と、分周回路からの分周パルスを入力とし複数の遅延パルスを出力する遅延回路と、遅延回路の出力の複数の遅延パルスから目的とする遅延パルスを選択出力するパルス選択回路と、パルス選択回路に入力しパルス選択を行なわせる遅延パルス選択データをラッチする遅延パルス選択データラッチ回路と、出力するCLV駆動指令パルスに応じて設定される分周データ及び遅延パルス選択データを出力する周期データ演算回路とを有し、周期データはCLV駆動指令パルス毎に出力され、分周データラッチ回路及び遅延パルス選択データラッチ回路にセットされる光ディスク原盤露光装置において、CLV駆動の開始半径位置をR、線路長を測定しようとしているスパイラル半径位置をr、スパイラルトラックピッチをP、トラック数をn(nは正の整数)、線速をVL、ターンテーブル1回転あるいは、1ピッチ長の横送りのためのCLV駆動指令パルス数をNc個とすると、(CLV駆動指令パルス周期)=2πR 0 /(Nc・VL)+(2n−1)πP/(Nc 2 ・VL)を満たす周期のパルス列を生成することを特徴とする光ディスク原盤露光装置である。よって、ターンテーブル移動型あるいは光学系移動型の光ビーム又は電子ビームを用いた光ディスク原盤露光装置においてCLV駆動する際に、露光ビーム位置を補正するための基準となり得るターンテーブル及び送りの正確なCLV駆動指令パルス列生成方法を提供でき、更にこのCLV駆動指令パルス列を基準としてビーム照射位置誤差を求めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のCLV駆動指令パルスの周期の変化を示す図である。
【図2】別の発明の一実施例に係るCLV駆動指令パルス列生成回路の構成を示すブロック図である。
【図3】別の発明の第1の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。
【図4】別の発明の第2の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。
【図5】別の発明の第3の実施例に係るビーム照射位置補正回路の構成を示すブロック図である。
【図6】ターンテーブル振れ検出器の配置を示す概略図である。
【図7】別の発明の第1の実施例例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略図である。
【図8】別の発明の第2の実施例例に係る光ディスク原盤露光装置の構成を示す概略図である。
【図9】従来のCLV駆動指令パルス列方法におけるトラック毎に周波数を更新した場合CLV駆動指令パルス列の周波数の変化の様子を示す図である。
【図10】従来のCLV駆動指令パルス列方法におけるトラック内を複数に分割して周波数を更新した場合CLV駆動指令パルス列の周波数の変化の様子を示す図である。
【符号の説明】
21;遅延回路、22,23;ラッチ回路、31;偏差カウンタ、
32;データ変換回路、33;A/D変換回路、34;加減算回路、
35;D/A変換回路、41;真円度誤差出力回路、
42;回転位置出力回路、51;真円度誤差データ格納回路、
71;電子ビーム鏡筒、72;ブランキング電極、
73;情報トラック信号発生回路、74;ビーム照射位置補正回路、
75;第1の偏向手段、76;光ディスク原盤、
77;真空容器、78;ターンテーブル、
79;ターンテーブル回転モータ、
80;ターンテーブル回転パルス生成装置、
81;第1の振れ検出器、82;送りネジ、
83;第2の送り位置検出器、84;送りモータ、
85;CLV駆動指令パルス列生成装置、
86;送りモータ駆動制御系、87;ターンテーブル回転駆動制御系、
88;第1の送り位置検出器、89;第2の振れ検出器、
90;第2の偏向手段。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical disk master exposure equipment, related to the optical disk master exposure apparatus which performs the optical disc master manufacturing with a pitch spiral information track such linear velocity or the like using a light beam or electron beam in detail, the control the feed system The present invention relates to a method and apparatus for correcting the influence of errors and turntable deflection and enabling high-density information track formation.
[0002]
[Prior art]
In recent years, development of an ultra-high-density mastering device for realizing an optical disc system having a recording density (100 Gbit / in 2 ) about 30 times that of a DVD as a large-capacity optical disc medium has been studied. On the other hand, according to the paper “O61“ High-resolution NRRO detection in ultra-high density mastering equipment ”(Pioneer Hiroaki Kitahara, Yoshiaki Kojima, Yasumitsu Wada)” With a high recording density, both the shortest pit length and the pit width are expected to be 70 nm or less. At this time, the recording position accuracy required for the mastering apparatus is estimated to be on the order of sub-nanometers. In this document, it is difficult to achieve the target accuracy of σ0.5nm by mechanical positioning. Therefore, positioning errors between the rotary stage and the linear motion stage are detected with high resolution and corrected by electron beam deflection. The relative position accuracy is improved by using the rotational asynchronous component of the angular error (rotational unevenness) which is a problem as the positioning error of the rotary stage and the non-repetitive axial runout (NRRO). The study results are described. Through the above studies, in the ultra-high density mastering apparatus, it is considered that the correction of the non-synchronous component and the non-synchronous axial runout component of the rotation unevenness is an important issue. Note that the synchronization component does not affect the track pitch accuracy.
[0003]
In response to this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-20964 (hereinafter referred to as a conventional example) relates to correction of the beam irradiation position in the feed direction, and based on the shake information in the feed direction according to the rotation angle of the turntable, Alternatively, the beam irradiation position is corrected based on the shake information in the feed direction according to the rotation angle of the current turntable with reference to the shake information in the feed direction according to the rotation angle of the turntable for a predetermined period. .
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above conventional example, in order to form a constant linear velocity / equal track pitch spiral information track on the optical disc master, in addition to the conventional method, the response to the feed position error of the feed system drive control and the CLV drive command pulse There is a problem that needs to cope with accuracy. Further, when the recording format of the optical disc master to be recorded is CLV (Constant Linear Velocity), the laser is used to change the rotation speed of the spindle motor in accordance with the radial position of the irradiation spot on the optical disc master. Since the detection signal generated from the length measuring device is also supplied to the reference signal generator 13, the generation of the CLV drive command pulse is a feed control error or an accuracy error of the drive command pulse of the feed system in the control state. It is generated based on the radial position information including. Therefore, even if the beam irradiation position is corrected according to the above-described conventional method, there is no guarantee that an equal track pitch spiral information track will be formed.
[0005]
The present invention has been made to solve these problems, and compensates for the effects of feed control errors and turntable synchronous and asynchronous vibrations on the basis of strictly accurate CLV drive command pulse trains. It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for forming a high-density information track having a high-precision uniform linear velocity / equal track pitch spiral shape.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, a turntable on which an optical disc master is mounted, a rotation driving means for rotating the turntable, and a recording light beam or an electron beam are converged based on an information recording signal mounted as an information track. Converging irradiating means for irradiating, and transverse feed driving means for relatively moving a turntable mounted with the converging irradiating means or the optical disc master in a plane parallel to the optical disc master, the rotational driving means and the lateral feed An optical disc master exposure apparatus that exposes by CLV driving to form an information track so that the linear density is constant on the optical disc master by controlling the driving means, and drives a drive command pulse train for the rotational drive means and the lateral feed drive means to CLV drive Generate and output the period length of each pulse from the start of operation while changing it at regular intervals. A lock generating circuit; a frequency dividing circuit for dividing a reference clock; a frequency dividing data latch circuit for latching frequency-divided data; and a delay circuit for inputting a frequency-divided pulse from the frequency-dividing circuit and outputting a plurality of delay pulses. A pulse selection circuit that selectively outputs a target delay pulse from a plurality of delay pulses output from the delay circuit, and a delay pulse selection data latch circuit that latches delay pulse selection data that is input to the pulse selection circuit to perform pulse selection A period data calculation circuit that outputs frequency-divided data and delay pulse selection data that are set according to the CLV drive command pulse to be output, and the period data is output for each CLV drive command pulse. In the optical disk master exposure apparatus set in the delay pulse selection data latch circuit, the starting radius position of the CLV drive is R, line The spiral radius position whose length is to be measured is r, the spiral track pitch is P, the number of tracks is n (n is a positive integer), the linear velocity is VL, one turn of the turntable, or one pitch length for lateral feed When the number of CLV drive command pulses is Nc, a pulse train having a cycle satisfying (CLV drive command pulse cycle) = 2πR 0 / (Nc · VL) + (2n−1) πP / (Nc 2 · VL) is generated. An optical disc master exposure apparatus characterized by the above. Therefore, when performing CLV driving in an optical disc master exposure apparatus using a turntable moving type or optical system moving type light beam or electron beam, a turntable that can serve as a reference for correcting the exposure beam position and an accurate CLV for feeding. A drive command pulse train generation method can be provided, and further, a beam irradiation position error can be obtained with reference to the CLV drive command pulse train.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Ro
In the optical disk master exposure apparatus of the present invention, the starting radius position of CLV drive is R, the spiral radius position where the line length is to be measured is r, the spiral track pitch is P, the number of tracks is n (n is a positive integer), the line When the speed is VL and the number of CLV drive command pulses for one turn of the turntable or one pitch length is Nc, (CLV drive command pulse cycle) = 2πR 0 / (Nc · VL) + (2n− 1) A pulse train having a period satisfying πP / (Nc 2 · VL) is generated.
[0019]
【Example】
First, the principle of the present invention will be described.
In a spiral track of equal pitch formed by CLV drive, the total track line length (L) is expressed by the following equation (1).
L = π (r 2 −R 0 2 ) / P (1)
r = R 0 + nP (2)
Here, R 0 represents the starting radius position of CLV driving, r represents the spiral radius position where the line length is to be measured, P represents the spiral track pitch, and n represents the number of tracks. N is 1, 2, 3,.
From Formula (1) and Formula (2), L = 2πR 0 n + n 2 πP (3)
Further, the line length (Ln) of each track is expressed by the following equation (4) from the equation (3).
Ln = 2πR 0 + (2n−1) πP (4)
[0020]
From equation (4), it can be seen that the line length difference between adjacent tracks is constant as follows.
(Line length difference between adjacent tracks) = 2πP = constant (5)
[0021]
Expression (2) expresses a spiral locus to be obtained in units of tracks, that is, a radial position every time the rotation angle of the locus goes around 2π from the center of the spiral along the track. As a result, the track line length increases by 2πP for each track. This means that in the CLV drive, if the linear velocity is VL, the time required to go around one track by 2πP / VL for each track increases. 9 and 10 show how the frequency of the CLV drive command pulse train changes at this time. FIG. 9 shows a case where the frequency is updated for each track, and FIG. 10 shows a case where the frequency is updated by dividing the track into a plurality of parts. In either case, a pulse train having no error can be generated with respect to an ideal CLV drive command pulse train when viewed within a long time. However, looking at the time within the track or the time when the track was divided into a plurality of times, there was an error in the speed command of the drive command pulse generated every moment.
[0022]
Therefore, in the CLV drive command pulse train generation method of the present invention, the cycle is updated for each CLV drive command pulse, and an error from the ideal CLV drive command pulse train is eliminated in the drive command pulse generated every moment. FIG. 1 shows a change in the period of a pulse train generated by the CLV drive command pulse train generating method according to the present invention. Now, if the number of CLV drive command pulses for one turn of the turntable or one pitch length is Nc, the line length (Lp) corresponding to n CLV drive command pulses is Lp = 2πR 0 n / Nc + (n / Nc) 2 πP (6)
Further, from equation (6), the line length (Lpn) corresponding to each CLV drive command pulse is expressed as the following equation (7).
Lpn = 2πR 0 / Nc + (2n−1) πP / Nc 2 (7)
[0023]
From equation (7), it can be seen that the line length difference corresponding to the adjacent CLV drive command pulse is constant as follows.
(Line length difference equivalent to adjacent CLV drive command pulse)
= 2πP / Nc 2 = constant (8)
[0024]
Here, the linear velocity VL is constant (difference in cycle length between adjacent CLV drive command pulses).
= 2πP / (Nc 2 · VL) = constant (9)
It becomes.
Therefore,
(CLV drive command pulse cycle)
= 2πR 0 / (Nc · VL) + (2n−1) πP / (Nc 2 · VL) (10)
Generation of an ideal CLV drive command pulse can be realized by generating a pulse train having a cycle that satisfies the above.
[0025]
The generation time for each pulse obtained by such a method is the CLV for forming a constant linear velocity / equal pitch spiral information track on the optical disc master while changing the driving speed, that is, the cycle of the CLV driving command pulse every moment. It can be a standard for guaranteeing the driving state.
[0026]
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a CLV drive command pulse train generation device according to another embodiment of the present invention. A feature of the present invention is that, in accordance with the above-described CLV drive command pulse train generation method, frequency-divided data and pulse selection data are updated for each pulse to obtain a strictly accurate CLV drive command pulse train output. In FIG. 2, the CLV drive command pulse train generation apparatus of the present embodiment has a delay circuit 21 that generates a plurality of equal delay time interval delay pulse groups within a basic clock cycle (Ta), and this minimum division delay time is a unit. From the cycle given by equation (10), the frequency division number and delay number of the basic clock of the next CLV drive command pulse are calculated, and the frequency division data and pulse selection are taken into account by considering the pulse selection data of the current output pulse. Data is obtained and set in the
[0027]
By using a strictly accurate feed drive command pulse train obtained by the above invention as a reference, a beam irradiation position error accompanying a feed drive control system control error and a turntable runout in the feed direction as described below The beam irradiation position error is detected at the same time.
[0028]
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to the first embodiment of another invention. In the figure, a
[0029]
Next, by using the strictly accurate feed drive command pulse train obtained by the above invention as a reference, a beam irradiation position error associated with a feed drive control system control error and a beam irradiation position error associated with a turntable deflection in the feed direction. Then, as will be described next, a beam irradiation position error is detected by adding roundness error information on the turntable shake detection surface.
[0030]
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to the second embodiment of another invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 3 denote the same components. As a different component, the addition /
[0031]
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to a third embodiment of another invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 4 denote the same components. First, the operation of the present embodiment will be described. When shake information obtained from the turntable shake amount detector is V (θ),
V (θ) = R (θ) + dR (θ) + NR (θ) (11)
[0032]
Here, R (θ) is the rotational shaft runout amount synchronized with the turntable rotation, dR (θ) is the runout amount due to the roundness error of the shake detection surface, and NR (θ) is asynchronous with the turntable rotation. Each representing the amount of rotational shaft runout. Further, θ is a rotation angle obtained from a rotation angle detecting means (a pulse is output according to the rotation angle) attached to the turntable rotation shaft.
[0033]
In this embodiment, the asynchronous component NR (θ) is averaged by a plurality of measurements or removed by an appropriate low-pass filter circuit as in the conventional example, and the synchronous axis runout R (θ) is a sine waveform, A × It is assumed that sin (θ) (= R (θ)) (assuming that the locus of the synchronous axis runout draws a circle around the true center of rotation). By doing so, the roundness error dR (θ) is
dR (θ) = V (θ) −A × sin (θ−φ) (12)
[0035]
As required. Here, A and φ are set so that the integral amount over one period of dR (θ) is minimized. DR (θ) obtained in this way is used as roundness error information. The roundness error information dR (θ) is obtained by processing by software in a system controller (not shown) having the shake amount and turntable rotation angle information as inputs. As shown in FIG. 5, the obtained roundness error information is set in the roundness error
[0036]
FIG. 6 is a schematic plan view showing a state in which the second turntable shake detector is arranged in a direction perpendicular to the feed direction. As can be seen from the figure, since the turntable runout itself is minute, there is no problem even if the feed direction and the runout in the direction perpendicular thereto are detected and handled as runouts in independent directions. The optical disk master exposure apparatus is equipped with a second beam deflecting unit corresponding to the second shake detection direction, and independently performs beam irradiation position correction.
[0037]
FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of an optical disc master exposure apparatus according to the first embodiment of another invention. In the figure, in an
[0038]
According to the optical disc master exposure apparatus having such a configuration, the CLV drive command pulse train (Ps, Pt) is sent from the CLV drive command pulse
[0039]
FIG. 8 is a schematic diagram showing the configuration of an optical disc master exposure apparatus according to a second embodiment of another invention. The difference from the optical disk master exposure apparatus of the first embodiment shown in FIG. 7 is that a
[0040]
Next, using the optical disk master exposure apparatus shown in FIG. 7 and FIG. 8, it is possible to manufacture an optical disk master equipped with a high density linear velocity / equal pitch spiral information track, and to produce a uniform linear velocity / equal track pitch spiral height. A high density optical disc stamper and an optical disc medium having a density information track can be produced.
[0041]
In addition, this invention is not limited to the said Example, It cannot be overemphasized that various deformation | transformation and substitution are possible if it is description in a claim.
[0042]
【The invention's effect】
As described above, the turntable on which the optical disc master is mounted, the rotation driving means for rotating the turntable, and the convergence for convergently irradiating the recording light beam or electron beam based on the information recording signal mounted as the information track. An irradiation means; and a transverse feed driving means for moving the turntable mounted with the convergent irradiation means or the optical disc master relatively in a plane parallel to the optical disc master. An optical disc master exposure apparatus that exposes by CLV driving to form an information track so that the linear density is constant on the optical disc master by control, and a drive command pulse train for the rotation driving means and the transverse feed driving means is sent at the start of the CLV driving operation. Generates and outputs the reference clock while changing the period length for each pulse from a certain time. A raw circuit, a frequency dividing circuit that divides the reference clock, a frequency division data latch circuit that latches the frequency-divided data, a delay circuit that receives the frequency division pulse from the frequency division circuit and outputs a plurality of delay pulses, A pulse selection circuit that selectively outputs a target delay pulse from a plurality of delay pulses output from the delay circuit; a delay pulse selection data latch circuit that latches delay pulse selection data that is input to the pulse selection circuit and performs pulse selection; A period data calculation circuit for outputting frequency division data and delay pulse selection data set according to the CLV drive command pulse to be output, the period data being output for each CLV drive command pulse, In the optical disk master exposure apparatus set in the delay pulse selection data latch circuit, the starting radius position of CLV drive is R and the line length is measured. The spiral radius position to be set is r, the spiral track pitch is P, the number of tracks is n (n is a positive integer), the linear velocity is VL, the turntable is rotated once or a CLV drive command for one pitch length of lateral feed When the number of pulses is Nc, a pulse train having a cycle satisfying (CLV drive command pulse cycle) = 2πR 0 / (Nc · VL) + (2n−1) πP / (Nc 2 · VL) is generated. This is an optical disc master exposure apparatus. Therefore, when performing CLV driving in an optical disc master exposure apparatus using a turntable moving type or optical system moving type light beam or electron beam, a turntable that can serve as a reference for correcting the exposure beam position and an accurate CLV for feeding. A drive command pulse train generation method can be provided, and further, a beam irradiation position error can be obtained with reference to the CLV drive command pulse train.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a change in the cycle of a CLV drive command pulse of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a CLV drive command pulse train generation circuit according to another embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to a first embodiment of another invention.
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to a second embodiment of another invention.
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a beam irradiation position correction circuit according to a third embodiment of another invention.
FIG. 6 is a schematic view showing the arrangement of turntable shake detectors.
FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of an optical disc master exposure apparatus according to a first embodiment of another invention.
FIG. 8 is a schematic diagram showing the configuration of an optical disc master exposure apparatus according to a second embodiment of another invention.
FIG. 9 is a diagram showing how the frequency of the CLV drive command pulse train changes when the frequency is updated for each track in the conventional CLV drive command pulse train method.
FIG. 10 is a diagram showing a change in frequency of a CLV drive command pulse train when a frequency is updated by dividing a track into a plurality of portions in a conventional CLV drive command pulse train method.
[Explanation of symbols]
21; delay circuit; 22, 23; latch circuit; 31; deviation counter;
32; data conversion circuit, 33; A / D conversion circuit, 34; addition / subtraction circuit,
35; D / A conversion circuit; 41; roundness error output circuit;
42; rotational position output circuit; 51; roundness error data storage circuit;
71; electron beam column; 72; blanking electrode;
73; Information track signal generation circuit; 74; Beam irradiation position correction circuit;
75; first deflecting means; 76; master optical disc;
77; vacuum vessel, 78; turntable,
79; turntable rotation motor,
80; turntable rotation pulse generator,
81; first shake detector; 82; lead screw;
83; second feed position detector; 84; feed motor;
85; CLV drive command pulse train generator,
86; Feed motor drive control system, 87; Turntable rotation drive control system,
88; first feed position detector; 89; second shake detector;
90: Second deflection means.
Claims (1)
CLV駆動の開始半径位置をR、線路長を測定しようとしているスパイラル半径位置をr、スパイラルトラックピッチをP、トラック数をn(nは正の整数)、線速をVL、ターンテーブル1回転あるいは、1ピッチ長の横送りのためのCLV駆動指令パルス数をNc個とすると、
(CLV駆動指令パルス周期)=2πR 0 /(Nc・VL)+(2n−1)πP/(Nc 2 ・VL)
を満たす周期のパルス列を生成することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 A turntable on which an optical disc master is mounted, a rotation driving means for rotating the turntable, a convergence irradiation means for convergently irradiating a recording light beam or an electron beam based on an information recording signal mounted as an information track, and the convergence The turntable having the irradiation means or the optical disc master is provided with a lateral feed drive means for relatively laterally moving in a plane parallel to the optical disc master, and is controlled on the optical disc master by the control of the rotation drive means and the lateral feed drive means. An optical disk master exposure apparatus that exposes by CLV driving to form an information track so that the linear density is constant, and that sends a drive command pulse train to the rotation driving means and the lateral feed driving means for each pulse from the start of the CLV driving operation. the cycle length to produce output while varying increments a certain time, a reference clock generating circuit, a reference black A frequency dividing circuit that divides the clock, a frequency-dividing data latch circuit that latches the frequency-divided data, a delay circuit that receives a frequency-divided pulse from the frequency-dividing circuit and outputs a plurality of delay pulses, and an output of the delay circuit A pulse selection circuit that selectively outputs a target delay pulse from a plurality of delay pulses, a delay pulse selection data latch circuit that latches delay pulse selection data that is input to the pulse selection circuit and performs pulse selection, and an output CLV drive command A period data calculation circuit that outputs frequency division data and delay pulse selection data set according to the pulse, and the period data is output for each CLV drive command pulse, and the frequency division data latch circuit and delay pulse selection data latch In an optical disc master exposure apparatus set in a circuit,
The starting radius position of the CLV drive is R, the spiral radius position where the line length is to be measured is r, the spiral track pitch is P, the number of tracks is n (n is a positive integer), the linear velocity is VL, the turntable is rotated once or When the number of CLV drive command pulses for lateral feed of one pitch length is Nc,
(CLV drive command pulse cycle) = 2πR 0 / (Nc · VL) + (2n−1) πP / (Nc 2 · VL)
An optical disk master exposure apparatus that generates a pulse train having a period satisfying
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001222795A JP4580592B2 (en) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | Optical disc master exposure system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001222795A JP4580592B2 (en) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | Optical disc master exposure system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003036548A JP2003036548A (en) | 2003-02-07 |
| JP4580592B2 true JP4580592B2 (en) | 2010-11-17 |
Family
ID=19056219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001222795A Expired - Fee Related JP4580592B2 (en) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | Optical disc master exposure system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4580592B2 (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4559984B2 (en) * | 2006-03-10 | 2010-10-13 | 株式会社リコー | Optical disc master exposure system |
| WO2007111260A1 (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Pioneer Corporation | Beam recording device, and beam adjusting method |
| JP5166400B2 (en) * | 2007-03-20 | 2013-03-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | Beam drawing device |
| JP2009048119A (en) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Ricoh Co Ltd | Drawing apparatus, drawing method, and drawing program |
| CN102430959A (en) * | 2011-10-10 | 2012-05-02 | 西安交通大学 | A Quick Detection Method for the Motion Error of the Rotary Table of CNC Machine Tool |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0798877A (en) * | 1993-09-28 | 1995-04-11 | Sony Corp | Disk recording or playback device |
| JPH11149670A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-02 | Sony Corp | Exposure method, exposure apparatus using the same, master and optical disk |
| JP3693813B2 (en) * | 1998-05-12 | 2005-09-14 | 株式会社リコー | Method and apparatus for evaluating CLV drive accuracy of spindle motor or slider in optical disk master exposure apparatus, drive control method, and optical disk master exposure apparatus |
| JP2000011464A (en) * | 1998-06-29 | 2000-01-14 | Fujitsu Ltd | Electron beam irradiation method and apparatus |
-
2001
- 2001-07-24 JP JP2001222795A patent/JP4580592B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003036548A (en) | 2003-02-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3688381B2 (en) | Optical disc master exposure system | |
| JP2845230B2 (en) | Beam spot speed detector for optical disk drive | |
| JP4580592B2 (en) | Optical disc master exposure system | |
| JPWO2007111260A1 (en) | Beam recording apparatus and beam adjusting method | |
| JP4298093B2 (en) | Optical rotational position information detector | |
| JP2010072180A (en) | Correction system and electron beam drawing apparatus | |
| JP4200155B2 (en) | Rotary recording apparatus with double encoder structure with eccentricity compensation | |
| JP2010008833A (en) | Beam exposure apparatus and drawing control circuit of beam exposure apparatus | |
| JPH0814868A (en) | Disk-shaped recording medium surface inspection device | |
| JPWO2007111261A1 (en) | Electron beam recording apparatus and beam adjustment method | |
| JP5433011B2 (en) | Electron beam recorder | |
| JP4559984B2 (en) | Optical disc master exposure system | |
| JP2008140419A (en) | Electron beam mastering apparatus and rotation unevenness correction method | |
| JP4267338B2 (en) | Optical disk device | |
| JPWO2008056400A1 (en) | Disc master production method | |
| JPH11328746A (en) | CLV drive accuracy evaluation method, drive control method and apparatus for spindle motor or slider in optical disk master exposure apparatus | |
| JP2003317327A (en) | Formatter drive clock generation method, formatter drive command pulse train generation method, optical disk master exposure apparatus, and optical recording medium | |
| JP2930750B2 (en) | Optical recording device | |
| JP2007134045A (en) | Formatter drive clock generation method, formatter drive command pulse train generation method, optical disc master exposure apparatus, and optical recording medium | |
| JP4481982B2 (en) | Information recording method and information recording apparatus | |
| JP4123481B2 (en) | Formatter drive clock generation method, formatter drive clock generation device, drive clock generation device, optical disc master exposure method, optical disc master exposure device, and optical disc drive device | |
| JP2007095237A (en) | Encoder system and storage device | |
| JP2008203555A (en) | Exposure beam irradiation device | |
| JP2993481B2 (en) | Servo track writing device | |
| JP2012142059A (en) | Electron beam drawing device and electron beam drawing method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080702 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091207 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100115 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100402 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100528 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100726 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100820 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100830 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |