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JP4581963B2 - Stamper, uneven pattern forming method, and information recording medium manufacturing method - Google Patents
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JP4581963B2 - Stamper, uneven pattern forming method, and information recording medium manufacturing method - Google Patents

Stamper, uneven pattern forming method, and information recording medium manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、情報記録媒体等の製造時に用いるスタンパー、基材の表面に形成した樹脂層にスタンパーを押し付けてその凹凸形状を転写する凹凸パターン形成方法、および樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法に関するものである。   The present invention uses a stamper used at the time of manufacturing an information recording medium or the like, a method for forming an uneven pattern by pressing a stamper on a resin layer formed on the surface of a substrate, and transferring the uneven shape, and an uneven pattern transferred to the resin layer. The present invention relates to an information recording medium manufacturing method for manufacturing an information recording medium.

情報記録媒体等を製造する工程において基材の表面に形成したレジスト層(樹脂層)に微細な凹凸パターン(レジストパターン)を形成する凹凸パターン形成方法として、光リソグラフィ法が従来から知られている。この光リソグラフィ法では、基材上に形成したレジスト層に光を照射して露光パターンを形成した後にレジスト層を現像処理することによって基材の上に凹凸パターンを形成する。また、近年では、情報記録媒体の大容量化に対応するための技術として、光に代えて電子ビームを照射することでナノメートルサイズのパターンを描画して凹凸パターンを形成する電子ビームリソグラフィ法が開発されている。しかし、この電子ビームリソグラフィ法では、レジスト層に対するパターンの描画に長時間を要するため、大量生産が困難であるという問題点が存在する。   As a concavo-convex pattern forming method for forming a fine concavo-convex pattern (resist pattern) on a resist layer (resin layer) formed on the surface of a substrate in a process of manufacturing an information recording medium or the like, a photolithography method has been conventionally known. . In this photolithography method, the resist layer formed on the substrate is irradiated with light to form an exposure pattern, and then the resist layer is developed to form an uneven pattern on the substrate. Also, in recent years, as a technique for coping with the increase in capacity of information recording media, there is an electron beam lithography method that draws a nanometer size pattern by irradiating an electron beam instead of light to form a concavo-convex pattern. Has been developed. However, this electron beam lithography method has a problem that mass production is difficult because it takes a long time to draw a pattern on the resist layer.

この問題点を解決する凹凸パターン形成方法として、ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成したスタンパーを基材上の樹脂層に押し付けてスタンパーの凹凸形状を樹脂層に転写することによって基材の上にナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するナノインプリントリソグラフィ法(ナノメートルサイズの凹凸パターンを形成するインプリント方法:以下、「インプリント方法」ともいう)が米国特許5772905号明細書に開示されている。このインプリント方法では、まず、同明細書のFig.1Aに示すように、その転写面にナノメートルサイズ(一例として、最小幅が25nm程度)の凹凸パターンが形成されたスタンパー(mold)10x(以下、米国特許5772905号明細書に開示されている構成要素については、符号の末尾に「x」を付加して表記する)を製造する。具体的には、シリコン基板(silicon substrate )12xの表面に形成された酸化シリコン等の薄膜(molding layer )14xを覆うようにして形成された樹脂層に電子ビームリソグラフィ装置を用いて所望のパターンを描画した後に、反応性イオンエッチング装置によって樹脂層をマスクとして薄膜14xをエッチング処理することにより、複数の凸部(features)16axを有する凹凸パターン16x(図24参照)を薄膜14xの厚み内に形成する。これにより、スタンパー10xが製造される。   As a method for forming a concavo-convex pattern to solve this problem, a stamper with a nanometer-sized concavo-convex pattern is pressed against the resin layer on the base material, and the concavo-convex shape of the stamper is transferred to the resin layer to form a nano-pattern on the base material. US Pat. No. 5,772,905 discloses a nanoimprint lithography method for forming a metric uneven pattern (imprint method for forming a nanometer concavo-convex pattern: hereinafter also referred to as “imprint method”). In this imprint method, first, FIG. As shown in 1A, a stamper (mold) 10x (hereinafter, referred to as US Pat. No. 5,772,905) in which a concavo-convex pattern having a nanometer size (for example, a minimum width of about 25 nm) is formed on the transfer surface is shown. The element is described by adding “x” to the end of the code). Specifically, a desired pattern is formed on the resin layer formed so as to cover the thin film layer 14x such as silicon oxide formed on the surface of the silicon substrate 12x using an electron beam lithography apparatus. After drawing, the thin film 14x is etched by a reactive ion etching apparatus using the resin layer as a mask, thereby forming a concavo-convex pattern 16x (see FIG. 24) having a plurality of features 16ax within the thickness of the thin film 14x. To do. Thereby, the stamper 10x is manufactured.

次いで、例えば、シリコン製の基材(substrate )18xの表面にポリメチルメタクリレート(PMMA:樹脂材料)をスピンコートして厚み55nm程度の樹脂層(薄膜:thin film layer )20xを形成する。続いて、基材18xおよび樹脂層20xの積層体、並びにスタンパー10xの双方を200℃程度となるように加熱した後に、同明細書のFig.1Bに示すように、13.1MPa(133.6kgf/cm)の圧力で基材18x上の樹脂層20xにスタンパー10xの各凸部16axを押し付ける。この際には、図24に示すように、各凸部16axを押し込んだ部位の樹脂材料が凸部16axの周囲に形成されている凹部16bx内に向けて移動する。次いで、スタンパー10xを押し付けた状態の積層体を室温となるまで放置した後に(冷却処理した後に)、樹脂層20xからスタンパー10xを剥離する。これにより、同明細書のFig.1Cおよび図27に示すように、スタンパー10xの凹凸パターン16xが樹脂層20xに転写されて各凸部16axを押し込んだ部位に各凹部(regions )24bxが形成されると共に各凹部16bxの部位に各凸部24axが形成され、基材18xの上(樹脂層20x)にナノメートルサイズの凹凸パターン24xが形成される。
米国特許5772905号明細書
Next, for example, polymethyl methacrylate (PMMA: resin material) is spin-coated on the surface of a silicon substrate 18x to form a resin layer (thin film layer) 20x having a thickness of about 55 nm. Then, after heating both the laminated body of the base material 18x and the resin layer 20x, and the stamper 10x so that it may become about 200 degreeC, FIG. As shown to 1B, each convex part 16ax of the stamper 10x is pressed against the resin layer 20x on the base material 18x with a pressure of 13.1 MPa (133.6 kgf / cm 2 ). At this time, as shown in FIG. 24, the resin material at the portion into which each convex portion 16ax is pushed moves toward the concave portion 16bx formed around the convex portion 16ax. Next, the laminate in a state where the stamper 10x is pressed is allowed to stand until it reaches room temperature (after cooling), and then the stamper 10x is peeled from the resin layer 20x. As a result, FIG. As shown in FIG. 1C and FIG. 27, the concave / convex pattern 16x of the stamper 10x is transferred to the resin layer 20x, and each concave portion (regions) 24bx is formed at the portion where the convex portion 16ax is pushed. Protrusions 24ax are formed, and nanometer-sized uneven patterns 24x are formed on the base material 18x (resin layer 20x).
US Pat. No. 5,772,905

ところが、従来のインプリント方法には、以下の問題点がある。すなわち、このインプリント方法では、同明細書のFig.1A,1Bおよび図24に示すように、凹凸パターン16xにおける各凹部16bxの深さが全域において均一となるように形成したスタンパー10xを樹脂層20xに押し付けることで凹凸パターン24xを形成している。この場合、例えば、図28に示す情報記録媒体100xを製造するためのスタンパー10xには、データトラックパターンを形成するための凹凸パターン16xが形成されたデータトラックパターン形成領域Atsx(図24参照)や、サーボパターンを形成するための凹凸パターン16xが形成されたサーボパターン形成領域Assx(図24参照)などの各領域毎に、凸部16axに対する凹部16bxの面積比が相違するように凹凸パターン16xが形成されている。   However, the conventional imprint method has the following problems. That is, in this imprinting method, FIG. As shown in FIGS. 1A and 1B and FIG. 24, the concavo-convex pattern 24x is formed by pressing the stamper 10x formed so that the depth of each concave portion 16bx in the concavo-convex pattern 16x is uniform over the entire region against the resin layer 20x. In this case, for example, in the stamper 10x for manufacturing the information recording medium 100x shown in FIG. 28, the data track pattern formation region Atsx (see FIG. 24) in which the uneven pattern 16x for forming the data track pattern is formed. The concave / convex pattern 16x is formed so that the area ratio of the concave portion 16bx to the convex portion 16ax is different for each region such as the servo pattern forming region Assx (see FIG. 24) where the concave / convex pattern 16x for forming the servo pattern is formed. Is formed.

具体的には、例えば、サーボパターンにおけるバーストパターンの単位バースト領域(バーストパターンを構成する複数の略平行四辺形の領域、または、複数の略楕円形(円形を含む)の領域)に対応する領域が凸部16axで構成された凹凸パターン16xを有するスタンパー10xでは、バーストパターンを形成するためのバーストパターン形成領域Absx(図24参照)内における凸部16axに対する凹部16bxの面積比が、データトラックパターン形成領域Atsx内における凸部16axに対する凹部16bxの面積比よりも大きくなっている。したがって、図24に示すように、インプリント処理に際して、例えば、データトラックパターン形成領域Atsx内の各凸部16axとバーストパターン形成領域Absx内の各凸部16axとを互いに等しい長さだけ樹脂層20xに対して押し込んだときに、データトラックパターン形成領域Atsx内においては、凸部16axの押し込みによって移動した樹脂材料によって凹部16bx内が満たされた状態となる。これに対して、バーストパターン形成領域Absx内においては、凸部16axの押し込みによって移動する樹脂材料の量が少ないため(押し込みによって移動する樹脂材料の量に対して凹部16bxの容積が大きいため)、凹部16bx内が樹脂材料によって満たされずに、樹脂層20xの上面と凹部16bxの底面との間に隙間が生じた状態となる。   Specifically, for example, a unit burst region of a burst pattern in a servo pattern (a plurality of substantially parallelogram regions or a plurality of substantially elliptical (including circular) regions constituting the burst pattern). In the stamper 10x having the concavo-convex pattern 16x composed of the convex portions 16ax, the area ratio of the concave portion 16bx to the convex portion 16ax in the burst pattern forming region Absx (see FIG. 24) for forming the burst pattern is the data track pattern. It is larger than the area ratio of the concave portion 16bx to the convex portion 16ax in the formation region Atsx. Therefore, as shown in FIG. 24, in the imprint process, for example, each protrusion 16ax in the data track pattern formation region Atsx and each protrusion 16ax in the burst pattern formation region Absx are made to be equal in length to the resin layer 20x. In the data track pattern formation region Atsx, the concave portion 16bx is filled with the resin material moved by the pressing of the convex portion 16ax. On the other hand, in the burst pattern formation region Absx, the amount of the resin material that moves due to the pressing of the convex portion 16ax is small (because the volume of the concave portion 16bx is larger than the amount of the resin material that moves due to the pressing), The recess 16bx is not filled with the resin material, and a gap is generated between the top surface of the resin layer 20x and the bottom surface of the recess 16bx.

この場合、データトラックパターン形成用の凹凸パターン16xやサーボパターン形成用の凹凸パターン16xなどが形成されている凹凸パターン形成領域A1x(図26参照)内では、押し付け時にスタンパー10xや基材18xに生じた撓みに起因して、例えば、外周部Aoxの凸部16axが矢印Coで示すように内周側に向けて移動すると共に、内周部Aixの凸部16axが矢印Ciで示すように外周側に向けて移動することがある。一方、前述したように、例えばバーストパターン形成領域Absx内においては、凸部16axを樹脂層20xに押し込んだ状態において、図24に示すように凹部16bx内が樹脂材料によって満たされずに、樹脂層20xの上面と凹部16bxの底面との間に隙間が生じた状態となる。この状態において、スタンパー10xの例えば外周部Aoxが上記の撓みに起因して基材18xに対して矢印Coの向きで内周に向けて移動したときには、図25に示すように、バーストパターン形成領域Absxにおける外周部Aoxに形成された凹部16bx内の樹脂材料が凹部16bx内を移動して凸部16axの内周側の壁面に貼り付いた状態となる。   In this case, in the concavo-convex pattern forming region A1x (see FIG. 26) where the concavo-convex pattern 16x for forming the data track pattern, the concavo-convex pattern 16x for forming the servo pattern, and the like are formed, the stamper 10x and the substrate 18x are generated during pressing. For example, the convex portion 16ax of the outer peripheral portion Aox moves toward the inner peripheral side as indicated by the arrow Co, and the convex portion 16ax of the inner peripheral portion Aix is, for example, the outer peripheral side as indicated by the arrow Ci. May move towards. On the other hand, as described above, for example, in the burst pattern formation region Absx, in the state where the convex portion 16ax is pushed into the resin layer 20x, the concave portion 16bx is not filled with the resin material as shown in FIG. In this state, a gap is generated between the upper surface of the recess and the bottom surface of the recess 16bx. In this state, when, for example, the outer peripheral portion Aox of the stamper 10x moves toward the inner periphery in the direction of the arrow Co with respect to the base material 18x due to the above-described deflection, as shown in FIG. The resin material in the concave portion 16bx formed in the outer peripheral portion Aox of Absx moves in the concave portion 16bx and sticks to the wall surface on the inner peripheral side of the convex portion 16ax.

したがって、図27に示すように、樹脂層20xに転写された凹凸パターン24xでは、バーストパターン形成領域Absxにおける外周部Aoxに対応する部位(同図における左側の断面図)において、バーストパターン形成用の凸部16axにおける径方向の長さL11x(情報記録媒体における径方向に対応する長さ:図25参照)よりも、上記の矢印Coの向きでスタンパー10xの外周部Aoxが移動した距離だけ凹部24bxの径方向の長さL13xが長くなる。この結果、この凹凸パターン24xをマスクとして用いて基材18xをエッチング処理して情報記録媒体100xを製造したときには、図28に示すように、基材18xに形成された凹凸パターン105xにおけるバーストパターンの外周側(同図における左側)において、その凹部105bxの径方向の長さL15xが本来の長さL14x(スタンパー10xにおける凸部16axの径方向の長さL11xに対応する長さ)よりも長くなる事態が生じる。   Therefore, as shown in FIG. 27, in the concave / convex pattern 24x transferred to the resin layer 20x, in the portion corresponding to the outer peripheral portion Aox in the burst pattern formation region Absx (the cross-sectional view on the left side in the same drawing) The concave portion 24bx is a distance traveled by the outer peripheral portion Aox of the stamper 10x in the direction of the arrow Co, rather than the radial length L11x (the length corresponding to the radial direction of the information recording medium: see FIG. 25) of the convex portion 16ax. The length L13x in the radial direction becomes longer. As a result, when the information recording medium 100x is manufactured by etching the base material 18x using the concave / convex pattern 24x as a mask, the burst pattern of the concave / convex pattern 105x formed on the base material 18x is formed as shown in FIG. On the outer peripheral side (left side in the figure), the radial length L15x of the concave portion 105bx is longer than the original length L14x (the length corresponding to the radial length L11x of the convex portion 16ax in the stamper 10x). Things happen.

これに対して、図25に示すように、データトラックパターン形成領域Atsx内においては、インプリント処理時に凸部16axを樹脂層20xに押し込んだ際に樹脂材料によって凹部16bx内が満たされた状態となる。このため、スタンパー10xの例えば外周部Aoxが上記の撓みに起因して基材18xに対して矢印Coの向きで内周に向けて移動したとしても、凹部16bx内の樹脂材料が凹部16bxと相補的な形状を保った状態が維持される。したがって、図27に示すように、樹脂層20xに転写された凹凸パターン24xでは、データトラックパターン形成領域Atsxにおける外周部Aoxに対応する部位(同図における右側の断面図)において、凹部24bxの径方向の長さL12xがスタンパー10xにおけるデータトラックパターン形成用の凸部16axにおける径方向の長さL11x(図25参照)と同じ長さとなる。この結果、この凹凸パターン24xをマスクとして用いて基材18xをエッチング処理した情報記録媒体100xでは、図28に示すように、基材18xに形成された凹凸パターン105xにおけるデータトラックパターンの外周側(同図における右側)において、その凹部105bxの径方向の長さL14xが本来の長さ(スタンパー10xにおける凸部16axの径方向の長さL11xに対応する長さ)となる。   On the other hand, as shown in FIG. 25, in the data track pattern formation region Atsx, the concave portion 16bx is filled with the resin material when the convex portion 16ax is pushed into the resin layer 20x during the imprint process. Become. For this reason, even if, for example, the outer peripheral portion Aox of the stamper 10x moves toward the inner periphery in the direction of the arrow Co with respect to the base material 18x due to the bending, the resin material in the concave portion 16bx is complementary to the concave portion 16bx. The state in which a typical shape is maintained is maintained. Therefore, as shown in FIG. 27, in the concave / convex pattern 24x transferred to the resin layer 20x, the diameter of the concave portion 24bx in the portion corresponding to the outer peripheral portion Aox in the data track pattern formation region Atsx (the cross-sectional view on the right side in the same drawing). The length L12x in the direction is the same as the length L11x in the radial direction (see FIG. 25) of the convex portion 16ax for forming the data track pattern in the stamper 10x. As a result, in the information recording medium 100x obtained by etching the base material 18x using the concave / convex pattern 24x as a mask, as shown in FIG. 28, the outer peripheral side of the data track pattern in the concave / convex pattern 105x formed on the base material 18x ( On the right side in the figure, the radial length L14x of the concave portion 105bx is the original length (the length corresponding to the radial length L11x of the convex portion 16ax in the stamper 10x).

この場合、情報記録媒体100xに対するトラッキングサーボ制御に際しては、バーストパターンの単位バースト領域における径方向の端部の位置、すなわち、スタンパー10xにおけるバーストパターン形成領域Absx内の凹凸パターン16xの押し付け部位に形成された凹部105bxにおける径方向の端部の位置と、データトラックパターンのデータ記録トラックにおける径方向の中心の位置、すなわち、スタンパー10xにおけるデータトラックパターン形成領域Atsx内の凹凸パターン16xの押し付け部位に形成された凸部105ax(図28参照)における径方向の中心の位置との位置関係が非常に重要となる。しかし、従来のインプリント方法によって形成した凹凸パターン24xをマスクとして用いて製造した情報記録媒体100xでは、そのバーストパターンに対応する領域の内周部および外周部において各凹部105bの径方向の長さL15xが本来の長さL14xよりも長くなるのに対し、そのデータトラックパターンに対応する領域においては、その内周部から外周部までの全域において各凹部105bの径方向の長さL14xが本来の長さとなるように凹凸パターン105xが形成される。このため、単位バースト領域における径方向の端部の位置とデータ記録トラックにおける径方向の中心の位置との関係が情報記録媒体100xの内周部および外周部において本来の位置関係とは相違する状態となる。この結果、内周部および外周部において正確なトラッキング制御が困難となるおそれがある。   In this case, when tracking servo control is performed on the information recording medium 100x, it is formed at the position of the end portion in the radial direction in the unit burst area of the burst pattern, that is, at the pressing portion of the concavo-convex pattern 16x in the burst pattern formation area Absx in the stamper 10x. Further, the position of the radial end of the concave portion 105bx and the position of the center of the data track pattern in the radial direction of the data recording track, that is, the pressing portion of the concave / convex pattern 16x in the data track pattern formation region Atsx of the stamper 10x are formed. Further, the positional relationship with the center position in the radial direction in the convex portion 105ax (see FIG. 28) is very important. However, in the information recording medium 100x manufactured using the concavo-convex pattern 24x formed by the conventional imprint method as a mask, the radial length of each concave portion 105b in the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the region corresponding to the burst pattern. While L15x is longer than the original length L14x, in the region corresponding to the data track pattern, the radial length L14x of each concave portion 105b is the original length in the entire region from the inner periphery to the outer periphery. The uneven pattern 105x is formed to have a length. For this reason, the relationship between the radial end position in the unit burst region and the radial center position in the data recording track is different from the original positional relationship in the inner and outer peripheral portions of the information recording medium 100x. It becomes. As a result, accurate tracking control may be difficult at the inner and outer peripheral portions.

なお、樹脂層20xに対する押し付け時にスタンパー10xや基材18xに生じた撓みに起因して、径方向においてパターンのずれ(凹部の拡がり)が生じる例について説明したが、スタンパー10xや基材18xに生じる撓みの向きによっては、周方向においてパターンのずれ(凹部の拡がり)が生じることもある。このように、従来のインプリント方法には、基材18x上に凹凸パターン24xを形成する際に、各凹部24bxの径方向の長さ、または、周方向の長さ(開口長)を所望の長さに形成するのが困難であるという問題点が存在する。   In addition, although the example which a pattern shift | offset | difference (expansion of a recessed part) arises in radial direction due to the bending produced in the stamper 10x and the base material 18x at the time of pressing with respect to the resin layer 20x was demonstrated, it arises in the stamper 10x and the base material 18x Depending on the direction of bending, pattern deviation (expansion of recesses) may occur in the circumferential direction. As described above, in the conventional imprint method, when the concave / convex pattern 24x is formed on the base material 18x, the radial length or the circumferential length (opening length) of each concave portion 24bx is desired. There is a problem that it is difficult to form the length.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、所望の開口長の凹部を有する凹凸パターンを高精度で形成し得るスタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and provides a stamper, a concavo-convex pattern forming method, and an information recording medium manufacturing method capable of forming a concavo-convex pattern having a concave portion having a desired opening length with high accuracy. Main purpose.

上記目的を達成すべく本発明に係るスタンパーは、データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、前記サーボパターンにおけるバーストパターンの領域に対応するバーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、前記データトラックパターンの領域に対応するデータトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように形成され、かつ、前記バーストパターン形成領域内の前記凹部の深さよりも前記データトラックパターン形成領域内の前記凹部の深さが浅くなるように形成されると共に、前記データトラックパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR1とし、前記バーストパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR2とし、前記データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、前記バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、D1≧(1+R1)/(1+R2)×D2の条件を満たし、かつ、前記各凸部の突端部がほぼ面一になるように前記スタンパー側凹凸パターンが形成されている。なお、本明細書における「凸部に対する凹部の面積比」とは、凹部の面積を凸部の面積で除した値を意味する。また、本明細書における「凹部の深さ」とは、凹部の周囲に形成された凸部の突端と凹部の底面との間の距離を意味する。 In order to achieve the above object, the stamper according to the present invention has a stamper-side concavo-convex pattern formed so that an information recording medium having a data track pattern and a servo pattern formed in a concavo-convex pattern can be manufactured. Formed so that the area ratio of the concave portion to the convex portion in the data track pattern forming region corresponding to the data track pattern region is larger than the area ratio of the concave portion to the convex portion in the corresponding burst pattern forming region; and The depth of the concave portion in the data track pattern forming region is smaller than the depth of the concave portion in the burst pattern forming region, and the area of the convex portion in the data track pattern forming region R1 is a value obtained by dividing by the area of the recess, and the burst The value obtained by dividing the area of the convex portion in the turn forming region by the area of the concave portion is R2, the depth of the concave portion in the data track pattern forming region is D1, and the depth of the concave portion in the burst pattern forming region is The stamper-side concavo-convex pattern is formed so that the condition of D1 ≧ (1 + R1) / (1 + R2) × D2 is satisfied and the projecting ends of the convex portions are substantially flush with each other. . In the present specification, the “area ratio of the concave portion to the convex portion” means a value obtained by dividing the area of the concave portion by the area of the convex portion. In addition, the “depth of the concave portion” in the present specification means a distance between the protruding end of the convex portion formed around the concave portion and the bottom surface of the concave portion.

また、本発明に係るスタンパーは、データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、前記データトラックパターンの領域に対応するデータトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、前記サーボパターンにおけるバーストパターンの領域に対応するバーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように、かつ、前記データトラックパターン形成領域内の前記凹部の深さよりも前記バーストパターン形成領域内の前記凹部の深さが浅くなるように形成されると共に、前記データトラックパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR1とし、前記バーストパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR2とし、前記データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、前記バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、D2≦(1+R2)/(1+R1)×D1の条件を満たし、かつ、前記各凸部の突端部がほぼ面一になるように前記スタンパー側凹凸パターンが形成されている。 In addition, the stamper according to the present invention is formed with a stamper-side concavo-convex pattern so that an information recording medium in which the data track pattern and the servo pattern are formed as a concavo-convex pattern can be manufactured, and the data track pattern formation corresponding to the area of the data track pattern is formed The area ratio of the concave portion to the convex portion in the burst pattern formation region corresponding to the burst pattern region in the servo pattern is larger than the area ratio of the concave portion to the convex portion in the region, and the data track pattern formation The depth of the concave portion in the burst pattern formation region is shallower than the depth of the concave portion in the region, and the area of the convex portion in the data track pattern formation region is the area of the concave portion. The divided value is R1, and the value in the burst pattern formation area A value obtained by dividing the area of the convex portion by the area of the concave portion is R2, the depth of the concave portion in the data track pattern forming region is D1, and the depth of the concave portion in the burst pattern forming region is D2. , D2 ≦ (1 + R2) / (1 + R1) × D1 is satisfied, and the stamper-side concavo-convex pattern is formed so that the protruding end portions of the respective convex portions are substantially flush with each other.

また、本発明に係る凹凸パターン形成方法は、基材の表面に樹脂材料を塗布して形成した樹脂層に上記のいずれかのスタンパーにおける前記スタンパー側凹凸パターンを押し付けるスタンパー押付け処理と、前記樹脂層から前記スタンパーを剥離するスタンパー剥離処理とをこの順で実行して、前記スタンパー側凹凸パターンの凹凸形状を前記樹脂層に転写する。   Further, the uneven pattern forming method according to the present invention includes a stamper pressing process for pressing the stamper-side uneven pattern in any one of the above stampers onto a resin layer formed by applying a resin material to the surface of a substrate, and the resin layer A stamper peeling process for peeling the stamper from the stamper is executed in this order, and the uneven shape of the stamper side uneven pattern is transferred to the resin layer.

また、本発明に係る情報記録媒体製造方法は、上記の凹凸パターン形成方法によって前記樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する。   Moreover, the information recording medium manufacturing method according to the present invention manufactures an information recording medium using the concavo-convex pattern transferred to the resin layer by the concavo-convex pattern forming method.

発明に係るスタンパーによれば、バーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、データトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように、かつ、バーストパターン形成領域内の凹部の深さよりもデータトラックパターン形成領域内の凹部の深さが浅くなるようにスタンパー側凹凸パターンを形成したことにより、凸部の押し込みによって移動する樹脂材料の量がバーストパターン形成領域内よりも少ないデータトラックパターン形成領域について、バーストパターン形成領域と同様にして、樹脂層の上面と凹部の底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、ガードバンド部(またはデータ記録トラック)に対応する凹部における径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。 According to the stamper according to the present invention, than the area ratio of the recesses with respect to the convex portion of the burst pattern forming region, such that the area ratio of the recesses relative to the convex portion of the data track pattern forming region is increased, and a burst pattern formation Ri by the fact that to form a stamper-side convex pattern as the depth of the concave portion of the data track pattern forming region than the depth of the recess in the region becomes shallower, the amount of the resin material is moved by pushing the projections burst pattern For the data track pattern formation area that is smaller than the formation area, the gap formed between the top surface of the resin layer and the bottom surface of the recess is made sufficiently small as in the burst pattern formation area , or the inside of the recess is made of a resin material. It can be satisfied (a situation where a gap is generated is avoided). Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portion corresponding to the guard band portion (or data recording track) are excessively widened.

また、データトラックパターン形成領域内の凸部の面積を凹部の面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域内の凸部の面積を凹部の面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、D1≧(1+R1)/(1+R2)×D2の条件を満たすようにスタンパー側凹凸パターンを形成したことにより、データトラックパターン形成領域およびバーストパターン形成領域の双方について、スタンパー押付け処理に際して各凹部内を樹脂材料で満たすことができる。 Further, a value obtained by dividing the area of the projection in the area of the recess of the data track pattern forming region and R1, the value obtained by dividing the area of the projection in the area of the recess of the burst pattern forming region and R2, the data track pattern When the depth of the recess in the formation region is D1 and the depth of the recess in the burst pattern formation region is D2, the stamper side uneven pattern satisfies the condition of D1 ≧ (1 + R1) / (1 + R2) × D2. As a result of forming the recesses, the recesses can be filled with a resin material in both the data track pattern formation region and the burst pattern formation region during the stamper pressing process.

また、本発明に係るスタンパーによれば、データトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、バーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように、かつ、データトラックパターン形成領域内の凹部の深さよりもバーストパターン形成領域内の凹部の深さが浅くなるようにスタンパー側凹凸パターンを形成したことにより、単位バースト領域に対応する部位を凸部で構成したことで凸部の押し込みによって移動する樹脂材料の量がデータトラックパターン形成領域よりも少ないバーストパターン形成領域について、データトラックパターン形成領域と同様にして、樹脂層の上面と凹部の底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、単位バースト領域に対応する凹部における径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。 Further, according to the stamper according to the present invention, the area ratio of the concave portion to the convex portion in the burst pattern forming region is larger than the area ratio of the concave portion to the convex portion in the data track pattern forming region , and the data The part corresponding to the unit burst area is configured as a convex by forming the stamper side uneven pattern so that the depth of the recess in the burst pattern formation area is shallower than the depth of the recess in the track pattern formation area . In the burst pattern formation region where the amount of the resin material that moves due to the pressing of the convex portion is smaller than the data track pattern formation region , it occurs between the top surface of the resin layer and the bottom surface of the concave portion in the same manner as the data track pattern formation region. Make the gap sufficiently small, or fill the recess with resin material (avoids gaps) That) can be. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the recess corresponding to the unit burst region are excessively widened.

また、データトラックパターン形成領域内の凸部の面積を凹部の面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域内の凸部の面積を凹部の面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、D2≦(1+R2)/(1+R1)×D1の条件を満たすようにスタンパー側凹凸パターンを形成したことにより、データトラックパターン形成領域およびバーストパターン形成領域の双方について、スタンパー押付け処理に際して各凹部内を樹脂材料で満たすことができる。 Further, a value obtained by dividing the area of the projection in the area of the recess of the data track pattern forming region and R1, the value obtained by dividing the area of the projection in the area of the recess of the burst pattern forming region and R2, the data track pattern When the depth of the recess in the formation region is D1 and the depth of the recess in the burst pattern formation region is D2, the stamper side uneven pattern satisfies the condition of D2 ≦ (1 + R2) / (1 + R1) × D1 As a result of forming the recesses, the recesses can be filled with a resin material in both the data track pattern formation region and the burst pattern formation region during the stamper pressing process.

また、本発明に係る凹凸パターン形成方法によれば、上記のいずれかのスタンパーを用いたスタンパー押付け処理と、スタンパー剥離処理とをこの順で実行して、スタンパー側凹凸パターンの凹凸形状を樹脂層に転写することにより、スタンパー押付け処理に際して、スタンパーの全域において樹脂層の上面と凹部の底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、各凹部内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、樹脂層の全域において凹部の径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避して、高精度で凹凸パターンを形成することができる。   According to the uneven pattern forming method of the present invention, the stamper pressing process using any one of the above stampers and the stamper peeling process are performed in this order, and the uneven pattern of the stamper side uneven pattern is formed into the resin layer. In the stamper pressing process, the gap formed between the top surface of the resin layer and the bottom surface of the recess is made sufficiently small in the entire area of the stamper, or the inside of each recess is filled with a resin material. Can be avoided). Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portion are excessively expanded in the entire region of the resin layer, and to form the concave / convex pattern with high accuracy.

また、本発明に係る情報記録媒体製造方法によれば、上記の凹凸パターン形成方法によって樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造することにより、例えば、バーストパターンにおける単位バースト領域の径方向の端部とデータ記録トラックの中心との位置関係を情報記録媒体の全域において所望の位置関係とすることができる。したがって、この情報記録媒体では、正確なトラッキングサーボ制御が可能となる結果、記録再生エラーの発生を回避することができる。   Further, according to the information recording medium manufacturing method of the present invention, by manufacturing the information recording medium using the concave / convex pattern transferred to the resin layer by the above concave / convex pattern forming method, for example, the unit burst area of the burst pattern The positional relationship between the end portion in the radial direction and the center of the data recording track can be a desired positional relationship over the entire area of the information recording medium. Therefore, with this information recording medium, accurate tracking servo control can be performed, and as a result, occurrence of recording / reproducing errors can be avoided.

以下、添付図面を参照して、本発明に係るスタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法の最良の形態について説明する。   DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS With reference to the accompanying drawings, the best mode of a stamper, a concavo-convex pattern forming method, and an information recording medium manufacturing method according to the present invention will be described below.

最初に、本発明に係るスタンパーについて、図面を参照して説明する。   First, a stamper according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図1に示すスタンパー1は、本発明に係る情報記録媒体製造方法に従って図21に示す情報記録媒体40を製造可能に構成されたインプリント用の原盤であって、全体として円板状に形成されている。この場合、情報記録媒体40は、データトラックパターンおよびサーボパターンの双方が凹凸パターン41で形成されたディスクリートトラック型の磁気記録媒体であって、データトラックパターン領域およびサーボパターン領域が回転方向(周方向)において交互に並ぶように規定されている。   A stamper 1 shown in FIG. 1 is an imprinting master configured to be able to manufacture the information recording medium 40 shown in FIG. 21 in accordance with the information recording medium manufacturing method according to the present invention, and is formed in a disk shape as a whole. ing. In this case, the information recording medium 40 is a discrete track type magnetic recording medium in which both the data track pattern and the servo pattern are formed by the concavo-convex pattern 41, and the data track pattern area and the servo pattern area are in the rotation direction (circumferential direction). ) To be arranged alternately.

一方、図1,2に示すように、スタンパー1は、データトラックパターンを形成するための凸部5aおよび複数の凹部5b(図2参照)を有する凹凸パターン5t(本発明における「スタンパー側凹凸パターン」の一例)が形成されたデータトラックパターン形成領域Atsと、サーボパターンを形成するための複数の凸部5aおよび複数の凹部5b(図2参照)を有する凹凸パターン5s(本発明における「スタンパー側凹凸パターン」の他の一例)が形成されたサーボパターン形成領域Assとが情報記録媒体40における回転方向(周方向)に対応する向き(図1に示す矢印Rの向き)おいて交互に並ぶように規定されている。この場合、このスタンパー1の凹凸パターン5t,5s(以下、「凹凸パターン5」ともいう)は、情報記録媒体40における凹凸パターン41の各凹部41bに対応して各凸部5aが形成されると共に、凹凸パターン41の各凸部41aに対応して各凹部5bが形成されている。なお、図2では、本発明についての理解を容易とするために、各凸部5aおよび各凹部5bの長さや形状を実際とは異なる長さや形状で図示している。また、本明細書では、情報記録媒体の回転方向に対応する向きにおいて並ぶ2つのデータトラックパターン形成領域Atsによって挟まれた領域(1つのデータトラックパターン形成領域Atsにおける回転方向に対して下流側の端部から、他の1つのデータトラックパターン形成領域Atsにおける回転方向に対して上流側の端部までの間の領域)をサーボパターン形成領域Assとする。   On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 2, the stamper 1 has a concavo-convex pattern 5 t having a convex portion 5 a for forming a data track pattern and a plurality of concave portions 5 b (see FIG. 2) ), And a concave / convex pattern 5s having a plurality of convex portions 5a and a plurality of concave portions 5b (see FIG. 2) for forming a servo pattern (on the “stamper side” in the present invention). Servo pattern formation regions Ass on which other examples of the “concave / convex patterns” are formed are alternately arranged in a direction corresponding to the rotation direction (circumferential direction) in the information recording medium 40 (direction of arrow R shown in FIG. 1). It is stipulated in. In this case, the concave / convex patterns 5t and 5s (hereinafter also referred to as “concave / convex pattern 5”) of the stamper 1 are formed with the convex portions 5a corresponding to the concave portions 41b of the concave / convex pattern 41 in the information recording medium 40. The concave portions 5 b are formed corresponding to the convex portions 41 a of the concave / convex pattern 41. In FIG. 2, in order to facilitate understanding of the present invention, the lengths and shapes of the convex portions 5 a and the concave portions 5 b are illustrated with different lengths and shapes from actual ones. Further, in this specification, an area sandwiched between two data track pattern formation areas Ats arranged in a direction corresponding to the rotation direction of the information recording medium (on the downstream side with respect to the rotation direction in one data track pattern formation area Ats). A region from the end to the upstream end with respect to the rotation direction in the other one data track pattern formation region Ats) is defined as a servo pattern formation region Ass.

この場合、図3に示すように、データトラックパターン形成領域Atsに形成された凸部5aは、所定の配列ピッチで互いに分割された同心円状の数多くのガードバンド部を形成するための凸部であって、情報記録媒体40の周方向(回転方向:矢印Rの向き)に対応する向きに沿って連続的に形成されて周方向に長い帯状に形成されている。この凸部5aは、スタンパー1の内周部Aiから外周部Aoまで情報記録媒体40の径方向に沿った各凸部5aの長さ(以下、「径方向の長さ」ともいう)L1aが互いに等しくなるように形成されている。また、データトラックパターン形成領域Atsに形成された凹部5bは、所定の配列ピッチで互いに分割された同心円状の数多くのデータ記録用トラックを形成するための凹部であって、一例として、スタンパー1の内周部Aiから外周部Aoまで径方向の各凹部5bの長さL1bが互いに等しく、かつ凸部5aの長さL1aと等しくなるように形成されている。したがって、このスタンパー1におけるデータトラックパターン形成領域Ats内の凹凸パターン5tでは、内周部Aiにおける領域A1i、中周部Acにおける領域A1c、および外周部Aoにおける領域A1oの各領域(一例として、その周方向の長さがプリアンブルパターンにおける一組の凸部および凹部の周方向の長さで、その径方向の長さが1トラックピッチに対応する長さの平面視平行四辺形の領域)内において、凸部5aに対する凹部5bの面積比が互いに等しくなっている。   In this case, as shown in FIG. 3, the convex portions 5a formed in the data track pattern formation region Ats are convex portions for forming a large number of concentric guard band portions that are divided from each other at a predetermined arrangement pitch. Thus, the information recording medium 40 is continuously formed along a direction corresponding to the circumferential direction (rotation direction: the direction of the arrow R), and is formed in a belt shape long in the circumferential direction. This convex portion 5a has a length L1a of each convex portion 5a along the radial direction of the information recording medium 40 from the inner peripheral portion Ai to the outer peripheral portion Ao of the stamper 1 (hereinafter also referred to as “radial length”) L1a. They are formed to be equal to each other. Further, the recess 5b formed in the data track pattern formation region Ats is a recess for forming a large number of concentric data recording tracks that are divided from each other at a predetermined arrangement pitch. The lengths L1b of the concave portions 5b in the radial direction from the inner peripheral portion Ai to the outer peripheral portion Ao are equal to each other and are equal to the length L1a of the convex portion 5a. Therefore, in the uneven pattern 5t in the data track pattern formation region Ats in the stamper 1, each of the region A1i in the inner peripheral portion Ai, the region A1c in the middle peripheral portion Ac, and the region A1o in the outer peripheral portion Ao (as an example, In the parallelogram region in plan view, the circumferential length is the circumferential length of a pair of convex portions and concave portions in the preamble pattern, and the radial length is a length corresponding to one track pitch. The area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a is equal to each other.

また、図2に示すように、サーボパターン形成領域Assには、プリアンブルパターンを形成するための凹凸パターン5sが形成されたプリアンブルパターン形成領域Apsと、アドレスパターンを形成するための凹凸パターン5sが形成されたアドレスパターン形成領域と(図示せず)、バーストパターンを形成するための凹凸パターン5sが形成されたバーストパターン形成領域Absとが規定されている。さらに、バーストパターン形成領域Abs内には、情報記録媒体40のバーストパターンにおける各信号領域に対応する領域Ab1s〜Ab4sの4つの領域が規定されている。   Further, as shown in FIG. 2, in the servo pattern formation region Ass, a preamble pattern formation region Aps in which a concavo-convex pattern 5s for forming a preamble pattern is formed, and a concavo-convex pattern 5s for forming an address pattern are formed. The address pattern forming region (not shown) and the burst pattern forming region Abs on which the concave / convex pattern 5s for forming the burst pattern is defined. Further, in the burst pattern formation region Abs, four regions Ab1s to Ab4s corresponding to each signal region in the burst pattern of the information recording medium 40 are defined.

この場合、図4に示すように、プリアンブルパターン形成領域Apsに形成された凸部5aは、プリアンブルパターン(凹凸パターン41)における凹部41bを形成するための凸部であって、情報記録媒体40の径方向に対応する向きに沿って連続的に形成されて径方向に長い帯状に形成されている。この凸部5aは、情報記録媒体40における周方向に沿った長さ(以下、「周方向の長さ」ともいう)L2ai,L2ac,L2ao(以下、区別しないときには「長さL2a」ともいう)がスタンパー1の内周部Aiから外周部Aoに向けて徐々に長くなるように形成されている。また、プリアンブルパターン形成領域Apsに形成された凹部5bは、プリアンブルパターン(凹凸パターン41)における凸部41aを形成するための凹部であって、情報記録媒体40における周方向に沿った長さ(以下、「周方向の長さ」ともいう)L2bi,L2bc,L2bo(以下、区別しないときには「長さL2b」ともいう)がスタンパー1の内周部Aiから外周部Aoに向けて徐々に長くなるように形成されている。この場合、凸部5aの長さL2aと、凹部5bの長さL2bとは、一例として、同一半径位置において互いに等しくなるように規定されている。したがって、このスタンパー1におけるプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹凸パターン5sでは、内周部Aiにおける領域A2i、中周部Acにおける領域A2c、および外周部Aoにおける領域A2oの各領域(一例として、その周方向の長さがプリアンブルパターンにおける一組の凸部および凹部の周方向の長さで、その径方向の長さが2トラックピッチに対応する長さの平面視平行四辺形の領域)内において、凸部5aに対する凹部5bの面積比が互いに等しくなっている。   In this case, as shown in FIG. 4, the convex portion 5a formed in the preamble pattern formation region Aps is a convex portion for forming the concave portion 41b in the preamble pattern (uneven pattern 41), and It is continuously formed along the direction corresponding to the radial direction and is formed in a strip shape long in the radial direction. The convex portion 5a has a length along the circumferential direction in the information recording medium 40 (hereinafter also referred to as “circumferential length”) L2ai, L2ac, L2ao (hereinafter also referred to as “length L2a” when not distinguished). Is formed so as to gradually become longer from the inner peripheral portion Ai of the stamper 1 toward the outer peripheral portion Ao. Further, the recess 5b formed in the preamble pattern formation region Aps is a recess for forming the protrusion 41a in the preamble pattern (uneven pattern 41), and has a length along the circumferential direction in the information recording medium 40 (hereinafter referred to as the concave portion 5b). L2bi, L2bc, L2bo (hereinafter also referred to as “length L2b” when not distinguished from each other) are gradually increased from the inner peripheral portion Ai of the stamper 1 toward the outer peripheral portion Ao. Is formed. In this case, the length L2a of the convex portion 5a and the length L2b of the concave portion 5b are defined to be equal to each other at the same radial position as an example. Therefore, in the uneven pattern 5s in the preamble pattern formation region Aps in the stamper 1, each of the region A2i in the inner peripheral portion Ai, the region A2c in the middle peripheral portion Ac, and the region A2o in the outer peripheral portion Ao (as an example, the periphery thereof) In a parallelogram region in plan view, the length in the direction is the circumferential length of a pair of convex portions and concave portions in the preamble pattern, and the length in the radial direction corresponds to a two-track pitch) The area ratio of the recessed part 5b with respect to the convex part 5a is mutually equal.

また、図5に示すように、バーストパターン形成領域Absに形成された凸部5aは、バーストパターン(凹凸パターン41)における凹部41b(単位バースト領域)を形成するための凸部であって、情報記録媒体40における周方向に沿った長さ(以下、「周方向の長さ」ともいう)L3ai,L3ac,L3ao(以下、区別しないときには「長さL3a」ともいう)がスタンパー1の内周部Aiから外周部Aoに向けて徐々に長くなるように形成されている。また、バーストパターン形成領域Absに形成された凹部5bは、バーストパターン(凹凸パターン41)における凸部41aを形成するための凹部であって、周方向において隣り合う2つの凸部5aの間の周方向の長さL3bi,L3bc,L3bo(以下、区別しないときには「長さL3b」ともいう)がスタンパー1の内周部Aiから外周部Aoに向けて徐々に長くなるように形成されている。この場合、凸部5aの長さL3aと、凹部5bの長さL3bとは、一例として、同一半径位置において互いに等しくなるように規定されている。したがって、このスタンパー1におけるバーストパターン形成領域Abs内の凹凸パターン5sでは、内周部Aiにおける領域A3i、中周部Acにおける領域A3cおよび外周部Aoにおける領域A3oの各領域(一例として、その周方向の長さが単位バースト領域に対応する凸部の周方向の長さと、その凸部の周方向における間の凹部の周方向の長さとの合計長で、その径方向の長さが2トラックピッチに対応する長さの平面視平行四辺形の領域)内において、凸部5aに対する凹部5bの面積比が互いに等しくなっている。   Further, as shown in FIG. 5, the convex portion 5a formed in the burst pattern formation region Abs is a convex portion for forming the concave portion 41b (unit burst region) in the burst pattern (uneven pattern 41), L3ai, L3ac, and L3ao (hereinafter also referred to as “length L3a” when not distinguished from each other) along the circumferential direction in the recording medium 40 are referred to as inner circumferential portions of the stamper 1. It is formed so as to gradually become longer from Ai toward the outer peripheral portion Ao. The concave portion 5b formed in the burst pattern formation region Abs is a concave portion for forming the convex portion 41a in the burst pattern (concave / convex pattern 41), and is a circumference between two convex portions 5a adjacent in the circumferential direction. The direction lengths L3bi, L3bc, and L3bo (hereinafter, also referred to as “length L3b” when not distinguished from each other) are formed so as to gradually increase from the inner peripheral portion Ai of the stamper 1 toward the outer peripheral portion Ao. In this case, the length L3a of the convex portion 5a and the length L3b of the concave portion 5b are defined to be equal to each other at the same radial position as an example. Therefore, in the concave / convex pattern 5s in the burst pattern formation region Abs in the stamper 1, each of the region A3i in the inner peripheral portion Ai, the region A3c in the middle peripheral portion Ac, and the region A3o in the outer peripheral portion Ao (for example, the circumferential direction thereof) Is the total length of the circumferential length of the convex portion corresponding to the unit burst area and the circumferential length of the concave portion in the circumferential direction of the convex portion, and the radial length is 2 track pitches. The area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a is equal to each other in the parallelogram-like region having a length corresponding to.

この場合、図6に示すように、このスタンパー1では、凹凸パターン5を構成する各凸部5aの突端部がほぼ面一になるように形成されている。なお、同図および後に参照する図7〜16,18〜21では、本発明についての理解を容易とするために、各凸部や各凹部について、その長さ、高さ(深さ)および形状を実際とは相違する長さ、高さ(深さ)および形状で図示している。また、このスタンパー1では、凸部5aに対する凹部5bの面積比(以下、単に「面積比」ともいう)が大きい領域ほど凹部5bの深さが浅くなり、面積比が等しい領域同士では凹部5bの深さが互いに等しい深さとなるように形成されている。具体的には、データトラックパターン形成領域Ats内では、領域A1i,A1c,A1oのすべてにおいて面積比が1となっている。また、プリアンブルパターン形成領域Aps内では、領域A2i,A2c,A2oのすべてにおいて面積比が1となっている。したがって、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さD1と、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さ(図示せず)とは互いに等しい深さに規定されている。一方、バーストパターン形成領域Abs内では、領域A3i,A3c,A3oのすべてにおいて面積比が3となっている。したがって、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2は、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さD1やプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さよりも浅くなるように規定されている。   In this case, as shown in FIG. 6, the stamper 1 is formed so that the protruding end portions of the convex portions 5 a constituting the concave-convex pattern 5 are substantially flush. 7 to 16 and 18 to 21 to be referred to later, in order to facilitate understanding of the present invention, the length, height (depth) and shape of each convex portion and each concave portion. Is shown in a different length, height (depth) and shape. Further, in this stamper 1, the depth of the concave portion 5b becomes shallower as the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a (hereinafter also simply referred to as “area ratio”) becomes smaller. The depths are formed to be equal to each other. Specifically, in the data track pattern formation region Ats, the area ratio is 1 in all of the regions A1i, A1c, and A1o. In the preamble pattern formation region Aps, the area ratio is 1 in all of the regions A2i, A2c, and A2o. Therefore, the depth D1 of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the depth (not shown) of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps are defined to be equal to each other. On the other hand, in the burst pattern formation region Abs, the area ratio is 3 in all of the regions A3i, A3c, and A3o. Therefore, the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is defined to be shallower than the depth D1 of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the depth of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps. Has been.

次に、スタンパー1の製造方法について、図面を参照して説明する。なお、本発明についての理解を容易とするために、サーボパターン形成領域Assのうちのプリアンブルパターン形成領域Apsおよびバーストパターン形成領域Abs、並びにデータトラックパターン形成領域Atsについてのみ説明し、その他のパターン形成領域についての説明を省略する。   Next, a method for manufacturing the stamper 1 will be described with reference to the drawings. In order to facilitate understanding of the present invention, only the preamble pattern formation region Aps, the burst pattern formation region Abs, and the data track pattern formation region Ats in the servo pattern formation region Ass will be described, and other pattern formations will be described. A description of the area is omitted.

まず、図7に示すように、表面が平坦となるように研磨したシリコン製の基材11にレジスト(一例として、日本ゼオン株式会社製:ZEP520A)をスピンコートすることにより、基材11の表面のレジスト層12を形成する。なお、スタンパー1の製造に際して用いる基材はシリコン製の基材に限定されず、ガラス基材やセラミック基材等の各種基材を用いることができる。また、レジスト層12を形成するためのレジストについても上記のレジストに限定されず、任意のレジスト材を用いることができる。次いで、電子ビームリソグラフィ装置を用いてレジスト層12に電子線を照射して所望の露光パターン(この例では、バーストパターン形成領域Abs内の各凹部5bに対応するパターン)を描画する。続いて、この状態のレジスト層12を現像処理することによって潜像12aの部位を消失させる。これにより、図8に示すように、潜像12aの部位に凹部13bが形成され、基材11の上に凹凸パターン13が形成される。次いで、凹凸パターン13が形成されたレジスト層12をマスクとして用いて凹部13bの底面においてレジスト層12から露出している基材11をエッチング処理することにより、図9に示すように、基材11に複数の凹部14bを有する凹凸パターン14を形成する。この際には、凹部14bの深さD12(基材11の表面と凹部14bの底面との間の距離)が製造目標のスタンパー1におけるバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2と等しくなるようにエッチング処理を行う。   First, as shown in FIG. 7, the surface of the substrate 11 is spin-coated with a resist (for example, Zeon 520A, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) on the silicon substrate 11 polished to have a flat surface. The resist layer 12 is formed. The base material used for manufacturing the stamper 1 is not limited to a silicon base material, and various base materials such as a glass base material and a ceramic base material can be used. Further, the resist for forming the resist layer 12 is not limited to the above resist, and any resist material can be used. Next, the electron beam lithography apparatus is used to irradiate the resist layer 12 with an electron beam to draw a desired exposure pattern (in this example, a pattern corresponding to each concave portion 5b in the burst pattern formation region Abs). Subsequently, the resist layer 12 in this state is developed to eliminate the portion of the latent image 12a. Thereby, as shown in FIG. 8, the concave portion 13 b is formed in the portion of the latent image 12 a, and the concave-convex pattern 13 is formed on the base material 11. Next, the base material 11 exposed from the resist layer 12 on the bottom surface of the recess 13b is etched using the resist layer 12 on which the concavo-convex pattern 13 is formed as a mask, as shown in FIG. An uneven pattern 14 having a plurality of recesses 14b is formed. At this time, the depth D12 of the recess 14b (the distance between the surface of the substrate 11 and the bottom surface of the recess 14b) is equal to the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs in the manufacturing target stamper 1. Etching is performed so that

次いで、基材11上に残存しているレジスト層12を除去した後に、凹凸パターン14の形成が完了した基材11にレジストをスピンコートすることにより、図10に示すように、基材11の表面にレジスト層15を形成する。続いて、電子ビームリソグラフィ装置を用いてレジスト層15に電子線を照射して所望の露光パターン(この例では、データトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5b、およびプリアンブルパターン形成領域Aps内の各凹部5bに対応するパターン)を描画する。次いで、この状態のレジスト層15を現像処理することによって潜像15aの部位を消失させる。これにより、図11に示すように、潜像15aの部位に凹部16bが形成され、基材11の上に凹凸パターン16が形成される。続いて、凹凸パターン16が形成されたレジスト層15をマスクとして用いて凹部16bの底面においてレジスト層15から露出している基材11をエッチング処理することにより、図12に示すように、基材11に複数の凹部17bを有する凹凸パターン17を形成する。この際には、凹部17bの深さD11(基材11の表面と凹部17bの底面との間の距離)が製造目標のスタンパー1におけるデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さD1およびプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さと等しくなるようにエッチング処理を行う。この後、基材11上に残存しているレジスト層15を除去することにより、図13に示すように、スタンパー1を製造するための原盤18が完成する。   Next, after removing the resist layer 12 remaining on the base material 11, the resist 11 is spin-coated on the base material 11 on which the formation of the concavo-convex pattern 14 has been completed, as shown in FIG. A resist layer 15 is formed on the surface. Subsequently, the electron beam lithography apparatus is used to irradiate the resist layer 15 with an electron beam to form a desired exposure pattern (in this example, each recess 5b in the data track pattern formation area Ats and each in the preamble pattern formation area Aps). A pattern corresponding to the recess 5b is drawn. Next, by developing the resist layer 15 in this state, the portion of the latent image 15a disappears. As a result, as shown in FIG. 11, the concave portion 16 b is formed in the portion of the latent image 15 a, and the concave-convex pattern 16 is formed on the base material 11. Subsequently, the base material 11 exposed from the resist layer 15 on the bottom surface of the concave portion 16b is etched using the resist layer 15 on which the concave / convex pattern 16 is formed as a mask, thereby forming the base material as shown in FIG. 11 is formed with a concavo-convex pattern 17 having a plurality of concave portions 17b. At this time, the depth D11 of the concave portion 17b (the distance between the surface of the base material 11 and the bottom surface of the concave portion 17b) is the depth D1 of the concave portion 5b in the data track pattern formation region Ats in the manufacturing target stamper 1. Etching is performed so as to be equal to the depth of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps. Thereafter, the resist layer 15 remaining on the base material 11 is removed to complete the master 18 for manufacturing the stamper 1 as shown in FIG.

続いて、原盤18における凹凸パターン14,17の形成面にニッケルを蒸着処理することによって導電膜を形成した後に(図示せず)、この導電膜を電極として使用して電鋳処理を実行することにより、図14に示すように、基材11の凹凸パターン形成面(同図における上面)にニッケル層19を形成する。次いで、電極膜およびニッケル層19の積層体を基材11(原盤18)から剥離する。これにより、図15に示すように、原盤18の凹凸パターン14,17が電極膜およびニッケル層19に転写されて凹凸パターン21,22を有する原盤20が形成される。この場合、この原盤20における凹凸パターン21,22では、原盤18における各凸部14a,17a(図13参照)に対応して各凹部21b,22bが形成され、原盤18における各凹部14b,17b(図13参照)に対応して各凸部21a,22aが形成されている。したがって、凸部21aの高さH2は、原盤18における凹部14bの深さD12と等しく、凸部22aの高さH1は、原盤18における凹部17bの深さD11と等しくなっている。   Subsequently, after forming a conductive film by depositing nickel on the formation surface of the concave and convex patterns 14 and 17 on the master 18 (not shown), an electroforming process is performed using the conductive film as an electrode. Thus, as shown in FIG. 14, a nickel layer 19 is formed on the concave / convex pattern forming surface (the upper surface in the same drawing) of the substrate 11. Subsequently, the laminated body of the electrode film and the nickel layer 19 is peeled from the base material 11 (master 18). As a result, as shown in FIG. 15, the concave and convex patterns 14 and 17 of the master 18 are transferred to the electrode film and the nickel layer 19 to form the master 20 having the concave and convex patterns 21 and 22. In this case, in the concave / convex patterns 21 and 22 on the master 20, the concave portions 21b and 22b are formed corresponding to the convex portions 14a and 17a (see FIG. 13) on the master 18, and the concave portions 14b and 17b ( Each convex part 21a, 22a is formed corresponding to FIG. Therefore, the height H2 of the convex portion 21a is equal to the depth D12 of the concave portion 14b in the master 18, and the height H1 of the convex portion 22a is equal to the depth D11 of the concave 17b in the master 18.

次いで、原盤20における凹凸パターン21,22の形成面に対して電鋳処理を実行することにより、図16に示すように、原盤20の凹凸パターン形成面(同図における下面)にニッケル層25を形成する。続いて、ニッケル層25を原盤20から剥離する。この後、ニッケル層25における凹凸パターン形成面の裏面側を研磨処理することにより、図6に示すように、スタンパー1が完成する。この場合、スタンパー1における凹凸パターン5では、原盤20における各凸部21aに対応してバーストパターン形成領域Abs内に各凹部5bが形成されると共に、原盤20における各凸部22aに対応してデータトラックパターン形成領域Atsおよびプリアンブルパターン形成領域Aps内に各凹部5bが形成されている。また、この凹凸パターン5では、原盤20における各凹部21bに対応してバーストパターン形成領域Abs内に各凸部5aが形成されると共に、原盤20における各凹部21bに対応してデータトラックパターン形成領域Atsおよびプリアンブルパターン形成領域Aps内に各凸部5aが形成されている。したがって、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2は、原盤20における凸部21aの高さH2と等しく、データトラックパターン形成領域Atsおよびプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さD1は、原盤20における凸部22aの高さH1と等しくなっている。   Next, by performing an electroforming process on the formation surfaces of the concave and convex patterns 21 and 22 on the master 20, as shown in FIG. 16, the nickel layer 25 is formed on the concave and convex pattern formation surface (the lower surface in the figure) of the master 20. Form. Subsequently, the nickel layer 25 is peeled from the master 20. Thereafter, the stamper 1 is completed as shown in FIG. 6 by polishing the back surface side of the concave / convex pattern forming surface in the nickel layer 25. In this case, in the concavo-convex pattern 5 in the stamper 1, each concave portion 5 b is formed in the burst pattern forming region Abs corresponding to each convex portion 21 a in the master 20, and data corresponding to each convex portion 22 a in the master 20. Recesses 5b are formed in the track pattern formation region Ats and the preamble pattern formation region Aps. Further, in the concave / convex pattern 5, each convex portion 5 a is formed in the burst pattern forming region Abs corresponding to each concave portion 21 b in the master 20, and the data track pattern forming region corresponding to each concave portion 21 b in the master 20. Each protrusion 5a is formed in the Ats and preamble pattern formation region Aps. Therefore, the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is equal to the height H2 of the projection 21a in the master 20, and the depth D1 of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the preamble pattern formation region Aps. Is equal to the height H1 of the convex portion 22a in the master 20.

続いて、本発明に係る凹凸パターン形成方法に従い、上記したスタンパー1を用いて情報記録媒体40を製造するための中間体30の上に凹凸パターンを形成する工程について、図面を参照して説明する。   Subsequently, a step of forming a concavo-convex pattern on the intermediate 30 for manufacturing the information recording medium 40 using the stamper 1 according to the concavo-convex pattern forming method according to the present invention will be described with reference to the drawings. .

まず、図17に示すように、一例として、アルミナ、シリコン、ガラスまたはセラミック等で円板状に形成された基材31の上に磁性層32を形成した中間体30の上に樹脂材料を塗布することにより、中間体30の上に樹脂層33を形成する。この際には、後述するスタンパー押付け処理時に樹脂層33にスタンパー1の凹凸パターン5を押し付けた際に、凹凸パターン5の全域において各凹部5b内が樹脂材料で満たされ(スタンパー1の全域において樹脂材料で各凹部5b内が満たされる厚み)、かつ、データトラックパターン形成領域Atsやプリアンブルパターン形成領域Apsのように凸部5aに対する凹部5bの面積比が小さい領域において厚手の残渣が生じない程度の厚みとなるように樹脂材料の塗布量を調整する。この場合、樹脂層33を形成する樹脂材料については、後述するようにスタンパー1を剥離した際に形成される凹凸パターン34,35(図19参照)の凹凸形状が良好となることから、一例として、ポリスチレン系樹脂、メタクリル樹脂(PMMA)等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂およびノボラック系樹脂などを用いるのが好ましい。なお、樹脂層33を形成する中間体30には、実際には、基材31と磁性層32との間に軟磁性層や配向層等の各種機能層が存在するが、本発明についての理解を容易とするために、これらについての説明および図示を省略する。また、この例では、基材31および磁性層32によって本発明における基材が構成されている。   First, as shown in FIG. 17, as an example, a resin material is applied on an intermediate 30 in which a magnetic layer 32 is formed on a base 31 formed of alumina, silicon, glass, ceramic, or the like. By doing so, the resin layer 33 is formed on the intermediate 30. At this time, when the concave / convex pattern 5 of the stamper 1 is pressed against the resin layer 33 during a stamper pressing process, which will be described later, the concave portions 5b are filled with the resin material in the entire area of the concave / convex pattern 5 (resin in the entire area of the stamper 1). Thickness that fills each recess 5b with a material) and a thick residue is not generated in a region where the area ratio of the recess 5b to the protrusion 5a is small, such as the data track pattern formation region Ats and the preamble pattern formation region Aps. The application amount of the resin material is adjusted so as to have a thickness. In this case, as a resin material for forming the resin layer 33, the uneven shape of the uneven patterns 34 and 35 (see FIG. 19) formed when the stamper 1 is peeled off as described later is good as an example. It is preferable to use acrylic resin such as polystyrene resin and methacrylic resin (PMMA), polystyrene, phenol resin, epoxy resin, and novolac resin. The intermediate body 30 forming the resin layer 33 actually includes various functional layers such as a soft magnetic layer and an orientation layer between the base material 31 and the magnetic layer 32. In order to facilitate the description, description and illustration thereof will be omitted. In this example, the base material 31 and the magnetic layer 32 constitute a base material in the present invention.

次いで、樹脂層33が形成された中間体30およびスタンパー1をプレス機(図示せず)にセットする。具体的には、樹脂層33の形成面を上向きにして中間体30をプレス機に取り付けると共に、凹凸パターン5の形成面を下向きにしてスタンパー1をプレス機に取り付ける。この際に、後述するように、樹脂層33からの剥離に際してスタンパー1に対する樹脂材料の付着を防止するために、スタンパー1における凹凸パターン5の表面に例えばフッ素系材料のコーティング処理を施して密着力軽減膜を形成するのが好ましい。なお、密着力軽減膜を形成する材料については、フッ素系材料のコーティング材に限定されず、樹脂層33との密着力を軽減し得る各種材料を採用することができる。続いて、中間体30(樹脂層33)およびスタンパー1の双方を加熱する。この際には、樹脂層33およびスタンパー1の双方が、樹脂層33を形成しているノボラック系樹脂のガラス転移点(この例では、約70℃)よりも100℃程度高温の170℃程度となるように加熱処理する。これにより、樹脂層33が軟化して容易に変形可能な状態となる。この場合、樹脂材料のガラス転移点に対して70℃以上120℃以下の範囲内で高温となるように加熱するのが好ましく、100℃以上高温となるように加熱するのが一層好ましい。これにより、後述するように、樹脂層33に対するスタンパー1の押し付けを容易に行うことができる。   Next, the intermediate body 30 and the stamper 1 on which the resin layer 33 is formed are set in a press machine (not shown). Specifically, the intermediate 30 is attached to the press with the resin layer 33 forming surface facing upward, and the stamper 1 is attached to the press with the uneven pattern 5 forming surface facing downward. At this time, as will be described later, in order to prevent the resin material from adhering to the stamper 1 at the time of peeling from the resin layer 33, the surface of the concavo-convex pattern 5 on the stamper 1 is subjected to, for example, a coating treatment of a fluorine-based material to provide an adhesion force. Preferably, a mitigating film is formed. The material for forming the adhesion reducing film is not limited to the fluorine-based coating material, and various materials that can reduce the adhesion with the resin layer 33 can be employed. Subsequently, both the intermediate 30 (resin layer 33) and the stamper 1 are heated. At this time, both the resin layer 33 and the stamper 1 are about 170 ° C., which is about 100 ° C. higher than the glass transition point of the novolac resin forming the resin layer 33 (about 70 ° C. in this example). It heat-processes so that it may become. Thereby, the resin layer 33 becomes soft and can be easily deformed. In this case, it is preferable to heat so that it may become high temperature within the range of 70 degreeC or more and 120 degrees C or less with respect to the glass transition point of a resin material, and it is still more preferable to heat so that it may become 100 degreeC or more high temperature. Thereby, as will be described later, the stamper 1 can be easily pressed against the resin layer 33.

次いで、図18に示すように、プレス機を作動させて中間体30における樹脂層33にスタンパー1の凹凸パターン5を押し付ける(本発明におけるスタンパー押付け処理)。この際には、一例として、スタンパー1の全域に亘って34kNの荷重をかけた状態を5分間に亘って維持する。また、プレス機によってスタンパー1を中間体30(樹脂層33)に押し付けている間に、樹脂層33およびスタンパー1の温度が低下しないように加熱処理を継続して実行するのが好ましい。具体的には、スタンパー押付け処理の実行中において、170℃±1℃の範囲内の温度に(一例として、温度変化が±0.2℃の範囲内の温度に)維持するのが好ましい。続いて、加熱処理を継続しつつ(170℃±1℃の範囲内の温度を維持しつつ)、中間体30(樹脂層33)からスタンパー1を剥離する(本発明におけるスタンパー剥離処理)。これにより、図19に示すように、スタンパー1における凹凸パターン5の凹凸形状が中間体30上の樹脂層33に転写されることで樹脂層33に凹凸パターン34,35が形成される。この場合、凹凸パターン34,35における凸部34a,35aは、スタンパー1における凹凸パターン5の凹部5bに対応して形成され、凹部34b,35bは、凸部5aに対応して形成されている。以上により、インプリント処理が完了する。   Next, as shown in FIG. 18, the pressing machine is operated to press the concave / convex pattern 5 of the stamper 1 against the resin layer 33 in the intermediate body 30 (stamper pressing process in the present invention). In this case, as an example, a state in which a load of 34 kN is applied over the entire region of the stamper 1 is maintained for 5 minutes. Moreover, it is preferable to continue the heat treatment so that the temperature of the resin layer 33 and the stamper 1 does not decrease while the stamper 1 is pressed against the intermediate body 30 (resin layer 33) by a press. Specifically, it is preferable to maintain the temperature within the range of 170 ° C. ± 1 ° C. (for example, the temperature change is within the range of ± 0.2 ° C.) during the stamper pressing process. Subsequently, the stamper 1 is peeled from the intermediate 30 (resin layer 33) while continuing the heat treatment (maintaining a temperature within the range of 170 ° C. ± 1 ° C.) (stamper peeling treatment in the present invention). Thus, as shown in FIG. 19, the concave / convex patterns 34 and 35 are formed in the resin layer 33 by transferring the concave / convex shape of the concave / convex pattern 5 in the stamper 1 to the resin layer 33 on the intermediate body 30. In this case, the convex portions 34a and 35a in the concave and convex patterns 34 and 35 are formed corresponding to the concave portions 5b of the concave and convex pattern 5 in the stamper 1, and the concave portions 34b and 35b are formed corresponding to the convex portions 5a. Thus, the imprint process is completed.

この場合、このインプリント処理時に用いるスタンパー1は、前述したように、凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5が形成されている。具体的には、凹凸パターン5は、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように形成され、かつ、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さよりもバーストパターン形成領域Abs域内の凹部5bの深さが浅くなるように形成されている。また、凹凸パターン5は、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように形成され、かつ、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さよりもバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さが浅くなるように形成されている。   In this case, in the stamper 1 used in this imprint process, as described above, the concave / convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b becomes shallower in a region where the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a is larger. Specifically, in the concavo-convex pattern 5, the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the burst pattern forming region Abs is larger than the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the preamble pattern forming region Aps. The depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is smaller than the depth of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps. The concave / convex pattern 5 is formed such that the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the burst pattern forming region Abs is larger than the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the data track pattern forming region Ats. In addition, the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is smaller than the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats.

したがって、図18に示すように、樹脂層33に対する各凸部5aの押し込みによって移動する樹脂材料の量が少ない領域(例えば、バーストパターン形成領域Abs)内においても、各凸部5aの押し込みによって移動させられた樹脂材料によって各凹部5b内が満たされた状態となる。このため、スタンパー押付け処理時におけるスタンパー1や基材31の撓みに起因してスタンパー1の外周部Aoや内周部Aiが図1に示す矢印Co,Ciの向きに移動したとしても、凹部5b内の樹脂材料が凸部5aの側面に貼り付くようにして凹部5b内を移動する事態が回避される。この結果、図19に示すように、凹凸パターン34(バーストパターン形成領域Abs内の凹凸パターン5を転写した凹凸パターン)における各凹部34bが径方向に拡がる事態が回避され、各凹部34bの径方向の長さL12sがスタンパー1におけるバーストパターン形成領域Abs内の各凸部5aにおける径方向の長さL11s(図6参照)とほぼ等しい長さ(所望の長さ)となる。なお、凹凸パターン35(データトラックパターン形成領域Ats内の凹凸パターン5を転写した凹凸パターン)における各凹部35bについては、その径方向の長さL12tがスタンパー1におけるデータトラックパターン形成領域Ats内の各凸部5aにおける径方向の長さL11t(図6参照)とほぼ等しい長さ(所望の長さ)となる。   Accordingly, as shown in FIG. 18, even in a region where the amount of the resin material that moves due to the pressing of each convex portion 5 a into the resin layer 33 is small (for example, the burst pattern forming region Abs), it moves by pressing each convex portion 5 a. Each recessed part 5b will be in the state filled with the made resin material. For this reason, even if the outer peripheral portion Ao and the inner peripheral portion Ai of the stamper 1 move in the directions of the arrows Co and Ci shown in FIG. 1 due to the bending of the stamper 1 and the base material 31 during the stamper pressing process, the concave portion 5b A situation in which the resin material inside moves inside the concave portion 5b so as to stick to the side surface of the convex portion 5a is avoided. As a result, as shown in FIG. 19, a situation in which each concave portion 34b in the concave / convex pattern 34 (the concave / convex pattern obtained by transferring the concave / convex pattern 5 in the burst pattern formation region Abs) expands in the radial direction is avoided, and the radial direction of each concave portion 34b. Is a length (desired length) substantially equal to the radial length L11s (see FIG. 6) of each convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs in the stamper 1. In addition, with respect to each concave portion 35b in the concave / convex pattern 35 (the concave / convex pattern obtained by transferring the concave / convex pattern 5 in the data track pattern formation region Ats), the length L12t in the radial direction has a length L12t in the data track pattern formation region Ats in the stamper 1. The length (desired length) is substantially equal to the radial length L11t (see FIG. 6) of the convex portion 5a.

この場合、スタンパー押付け処理時においてスタンパー1の凹部5b内に入り込む樹脂材料の量(凹部5b内に形成される凸部34aや凸部35aの高さ)は、樹脂層33に対して凸部5aを押し込んだ深さと、凸部5aの押し込みによって凸部5aの押し込み部位から凹部5b内に移動した樹脂材料によって形成される凸部高さとの和となる。この場合、凸部5aの押し込みによって押し込み部位から凹部5b内に移動した樹脂材料によって形成される凸部の高さは、「凸部5aの押し込み深さ」×「凸部5aの面積」/「凹部5bの面積」となる。したがって、「凸部5aの押し込み深さ」+「凸部5aの押し込み深さ」×「凸部5aの面積」/「凹部5bの面積」と凹部5bの深さとを等しくすることにより、各凹部5b内を樹脂材料で満たすことが可能となる。   In this case, the amount of the resin material that enters the recess 5 b of the stamper 1 during the stamper pressing process (the height of the protrusion 34 a and the protrusion 35 a formed in the recess 5 b) is the protrusion 5 a with respect to the resin layer 33. Is the sum of the depth at which the convex portion 5a is pushed in and the height of the convex portion formed by the resin material that has moved from the indented portion of the convex portion 5a into the concave portion 5b. In this case, the height of the convex portion formed by the resin material that has moved from the indented portion into the concave portion 5b by the indentation of the convex portion 5a is expressed as “indentation depth of the convex portion 5a” × “area of the convex portion 5a” / “ The area of the recess 5b ". Accordingly, by making the “indentation depth of the convex portion 5 a” + “indentation depth of the convex portion 5 a” × “area of the convex portion 5 a” / “area of the concave portion 5 b” and the depth of the concave portion 5 b equal, The inside of 5b can be filled with a resin material.

具体的には、例えば、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さをD1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さをD2とし、各凸部5aの押し込み深さをAとしたときに、スタンパー押付け処理時にデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5b、およびバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bを樹脂材料で満たすためには、
D1=A+A×R1、D2=A+A×R2
の条件を満たせばよい。したがって、
D2=(1+R2)/(1+R1)×D1
の条件を満たすようにバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2を規定することにより、スタンパー押付け処理時においてデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bが樹脂材料で満たされれば、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bについてもデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bと同様にして樹脂材料で満たすことが可能となる。
Specifically, for example, R1 is a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the data track pattern formation region Ats by the area of the concave portion 5b, and the area of the convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs is the area of the concave portion 5b. The value divided by R is R2, the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats is D1, the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is D2, and the indentation depth of each protrusion 5a is In order to fill the recess 5b in the data track pattern formation area Ats and the recess 5b in the burst pattern formation area Abs with the resin material when the stamper pressing process is A,
D1 = A + A × R1, D2 = A + A × R2
It is sufficient to satisfy the conditions. Therefore,
D2 = (1 + R2) / (1 + R1) × D1
By defining the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs so as to satisfy the above condition, if the recess 5b in the data track pattern formation region Ats is filled with a resin material during the stamper pressing process, the burst pattern The recess 5b in the formation region Abs can be filled with the resin material in the same manner as the recess 5b in the data track pattern formation region Ats.

この場合、スタンパー1では、情報記録媒体40におけるデータトラックパターン領域およびサーボパターン領域に対応してデータトラックパターン形成領域Atsおよびサーボパターン形成領域Assが規定されているため、データトラックパターン形成領域Atsの面積がサーボパターン形成領域Assの面積に対して極めて広くなっている。したがって、データトラックパターン形成領域Atsについては、プレス機等によって加えられた力によって例えばスタンパー1に凹部5bの深さ方向の撓みが生じ、各凸部5aが樹脂層33に対して十分に奥深くまで押し込まれる。このため、各凹部5bの深さD1を上記の「A+A×R1」よりも深く規定したとしても、その凹部5b内を樹脂材料で満たすことが可能となっている。これに対して、サーボパターン形成領域Assの面積は、データトラックパターン形成領域Atsの面積に対して極めて狭くなっているため、プレス機等によって加えられた力による凹部5bの深さ方向の撓みが生じ難くなっている。このため、サーボパターン形成領域Ass(バーストパターン形成領域Abs)内の各凹部5bの深さD2を上記の「A+A×R2」よりも深く規定したときには、その凹部5b内を樹脂材料で満たすことが困難となっている。   In this case, in the stamper 1, since the data track pattern formation area Ats and the servo pattern formation area Ass are defined corresponding to the data track pattern area and the servo pattern area in the information recording medium 40, the data of the data track pattern formation area Ats is defined. The area is very large with respect to the area of the servo pattern formation region Ass. Accordingly, in the data track pattern formation region Ats, for example, the stamper 1 is bent in the depth direction of the concave portion 5b due to the force applied by the press or the like, and each convex portion 5a is sufficiently deep with respect to the resin layer 33. Pushed in. For this reason, even if the depth D1 of each recess 5b is defined deeper than “A + A × R1”, the recess 5b can be filled with a resin material. On the other hand, the area of the servo pattern formation region Ass is extremely narrow with respect to the area of the data track pattern formation region Ats, so that the bending of the recess 5b in the depth direction due to the force applied by a press machine or the like. It is hard to occur. Therefore, when the depth D2 of each recess 5b in the servo pattern formation region Ass (burst pattern formation region Abs) is defined deeper than the above-mentioned “A + A × R2”, the recess 5b can be filled with a resin material. It has become difficult.

また、サーボパターン形成領域Assの面積がデータトラックパターン形成領域Atsの面積に対して極めて狭いため、データトラックパターン形成領域Ats内の各凸部5aを樹脂層33に対して十分に押し込むことができない状態では、サーボパターン形成領域Ass内の凸部5aについても樹脂層33に対して十分に押し込むことが困難となる。このため、サーボパターン形成領域Ass内の各凸部5aの十分な押し込みが完了するのに先立ってデータトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5bが樹脂材料で満たされた時点でスタンパー押し付け処理が完了する事態、つまりサーボパターン形成領域Ass(バーストパターン形成領域Abs)内の各凹部5b内が樹脂材料で満たされることなくスタンパー押し付け処理が完了する事態を回避すべく、バーストパターン形成領域Abs内の各凹部5bの深さD2を上記の「A+A×R2」よりもある程度浅く規定するのが好ましい。したがって、
D2≦(1+R2)/(1+R1)×D1
の条件を満たすようにバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2を規定することにより、データトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5b、およびバーストパターン形成領域Abs内の各凹部5b内を樹脂材料で確実に満たすことが可能となる。
Further, since the area of the servo pattern formation region Ass is extremely narrow relative to the area of the data track pattern formation region Ats, the respective protrusions 5a in the data track pattern formation region Ats cannot be sufficiently pushed into the resin layer 33. In the state, it is difficult to sufficiently push the convex portion 5a in the servo pattern formation region Ass into the resin layer 33 as well. For this reason, the stamper pressing process is completed when the concave portions 5b in the data track pattern forming area Ats are filled with the resin material before the sufficient pressing of the convex parts 5a in the servo pattern forming area Ass is completed. In order to avoid the situation in which the stamper pressing process is completed without filling the concave portions 5b in the servo pattern formation region Ass (burst pattern formation region Abs) with the resin material, It is preferable to define the depth D2 of the recess 5b to be somewhat shallower than “A + A × R2”. Therefore,
D2 ≦ (1 + R2) / (1 + R1) × D1
By defining the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs so as to satisfy the above condition, each recess 5b in the data track pattern formation region Ats and each recess 5b in the burst pattern formation region Abs are defined. It can be reliably filled with a resin material.

また、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR3としプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さをD3とし、プリアンブルパターン形成領域Apsおよびバーストパターン形成領域Abs内の各凸部5aの押し込み深さをAとしたときには、
D3=A+A×R3、D2=A+A×R2
となる。したがって、
D2=(1+R2)/(1+R3)×D3
の条件を満たすようにバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さD2を規定することにより、スタンパー押付け処理時においてプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bが樹脂材料で満たされれば、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bについても樹脂材料で満たすことが可能となる。
A value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the preamble pattern forming region Aps by the area of the concave portion 5b is R3, and the depth of the concave portion 5b in the preamble pattern forming region Aps is D3, and the preamble pattern forming region Aps and the burst pattern When the indentation depth of each convex portion 5a in the formation region Abs is A,
D3 = A + A × R3, D2 = A + A × R2
It becomes. Therefore,
D2 = (1 + R2) / (1 + R3) × D3
By defining the depth D2 of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs so as to satisfy the above condition, if the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps is filled with a resin material during the stamper pressing process, burst pattern formation is performed. The recess 5b in the region Abs can be filled with the resin material.

次に、本発明に係る情報記録媒体製造方法に従って情報記録媒体40を製造する工程について、図面を参照して説明する。   Next, the process of manufacturing the information recording medium 40 according to the information recording medium manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings.

まず、樹脂層33における凹凸パターン34,35の凹部34b,35bの底面に残存する樹脂材料(残渣)を酸素プラズマ処理によって除去する。次いで、凹凸パターン34,35(凸部34a,35a)をマスクとして用いてエッチング処理を行う。この際には、図20に示すように、凹凸パターン34,35の各凹部34b,35bにおける底面部分の磁性層32が除去されて基材31の上に凹凸パターン41が形成される。続いて、凹凸パターン41における各凸部41aの上に残存している樹脂層33を除去する。これにより、図21に示すように、スタンパー1の凹凸形状を転写した凹凸パターン34,35における各凹部34b,35bに対応する溝(凹部41b)が磁性層32に形成されたデータトラックパターンおよびサーボパターンが形成される。   First, the resin material (residue) remaining on the bottom surfaces of the concave portions 34b and 35b of the concave and convex patterns 34 and 35 in the resin layer 33 is removed by oxygen plasma treatment. Next, an etching process is performed using the concave / convex patterns 34 and 35 (the convex portions 34a and 35a) as a mask. At this time, as shown in FIG. 20, the magnetic layer 32 at the bottom surface of the concave portions 34 b and 35 b of the concave and convex patterns 34 and 35 is removed, and the concave and convex pattern 41 is formed on the substrate 31. Subsequently, the resin layer 33 remaining on each convex portion 41a in the concave / convex pattern 41 is removed. Thus, as shown in FIG. 21, the data track pattern and servo in which grooves (concave portions 41b) corresponding to the concave portions 34b and 35b in the concave and convex patterns 34 and 35 to which the concave and convex shape of the stamper 1 is transferred are formed in the magnetic layer 32. A pattern is formed.

この場合、凹凸パターン41は、スタンパー1を押し付けて凹凸パターン34,35を形成した樹脂層33をマスクとして用いて形成されている。したがって、凹凸パターン41における各凹部41bの径方向の長さL13s,L13tは、凹凸パターン34,35における各凹部34b,35bの径方向の長さL12s,L12t(図19参照)とほぼ等しい長さ(所望の長さ)となる。次いで、表面仕上げ処理を行う。この表面仕上げ処理では、まず、例えば二酸化ケイ素を上記の溝に充填した後に(図示せず)、イオンビームエッチングによって表面を平坦化する。次に、平坦化した表面に例えばDLC(Diamond Like Carbon )で保護膜を形成し、最後に潤滑剤を塗布する。これにより、情報記録媒体40が完成する。この場合、この情報記録媒体40は、その開口幅(径方向の長さ)が所望の幅となるように形成された凹部34b,35b(図19参照)を有する凹凸パターン34,35を用いて製造されているため、この凹凸パターン34,35を用いて形成した凹凸パターン41(データ記録用トラックやサーボパターン等)の各凹部41bもその内周部から外周部までの全域において所望の幅となる。   In this case, the concave / convex pattern 41 is formed using the resin layer 33 formed by pressing the stamper 1 to form the concave / convex patterns 34 and 35 as a mask. Accordingly, the lengths L13s and L13t in the radial direction of the concave portions 41b in the concave / convex pattern 41 are substantially equal to the lengths L12s and L12t in the radial direction of the concave portions 34b and 35b in the concave / convex patterns 34 and 35 (see FIG. 19). (Desired length). Next, a surface finishing process is performed. In this surface finishing treatment, first, for example, after filling the groove with silicon dioxide (not shown), the surface is flattened by ion beam etching. Next, a protective film is formed on the flattened surface by, for example, DLC (Diamond Like Carbon), and finally a lubricant is applied. Thereby, the information recording medium 40 is completed. In this case, the information recording medium 40 uses the concave and convex patterns 34 and 35 having the concave portions 34b and 35b (see FIG. 19) formed so that the opening width (the length in the radial direction) becomes a desired width. Since it is manufactured, each concave portion 41b of the concave / convex pattern 41 (data recording track, servo pattern, etc.) formed using the concave / convex patterns 34, 35 also has a desired width in the entire area from the inner periphery to the outer periphery. Become.

このように、このスタンパー1、およびスタンパー1を用いた凹凸パターン形成方法によれば、凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成したことにより、凹凸パターンの形成処理時におけるスタンパー押付け処理に際して各凸部5aを樹脂層33に押し込んだときに、凸部5aの押し込みによって凹部5b内に移動する樹脂材料の量が凹部5bの面積に対して少ない領域であっても、樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、その凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、スタンパー1や基材31の撓みに起因して例えばスタンパー1の内周部Aiや外周部Aoが中周部Ac側に移動したとしても、凹部5b内における樹脂材料の移動量を十分に小さくする、または、凹部5b内における樹脂材料の移動を回避することができる。これにより、凹凸パターン5を転写して形成した凹凸パターン34,35において凹部34b,35bの径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避して所望の開口長の凹部34b,35bを有する凹凸パターン34,35を高精度で形成することができる。   As described above, according to the stamper 1 and the method for forming the concavo-convex pattern using the stamper 1, the concavo-convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b becomes shallower as the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a increases. As a result, when each convex portion 5a is pushed into the resin layer 33 during the stamper pressing process at the time of forming the concave and convex pattern, the amount of the resin material that moves into the concave portion 5b by the pressing of the convex portion 5a is the area of the concave portion 5b. Even in a small area, the gap generated between the top surface of the resin layer 33 and the bottom surface of the recess 5b is made sufficiently small, or the recess 5b is filled with a resin material (a situation where a gap is generated is avoided). can do. Therefore, even if the inner peripheral portion Ai or the outer peripheral portion Ao of the stamper 1 moves to the middle peripheral portion Ac side due to the bending of the stamper 1 or the base material 31, for example, the amount of movement of the resin material in the concave portion 5b is sufficient. The movement of the resin material in the recess 5b can be avoided. Thus, the concave and convex patterns 34 and 35 formed by transferring the concave and convex pattern 5 can avoid the situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portions 34b and 35b are excessively widened to avoid the concave portions 34b and b having a desired opening length. The uneven patterns 34 and 35 having 35b can be formed with high accuracy.

また、このスタンパー1、およびスタンパー1を用いた凹凸パターン形成方法によれば、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように、かつ、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さよりもバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成したことにより、単位バースト領域に対応する部位を凸部5aで構成したことで凸部5aの押し込みによって移動する樹脂材料の量が少ないバーストパターン形成領域Absについて、プリアンブルパターン形成領域Apsと同様にして、樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、単位バースト領域に対応する凹部34bにおける径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。   Further, according to the stamper 1 and the concavo-convex pattern forming method using the stamper 1, the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the preamble pattern forming region Aps is larger than the convex portion 5a in the burst pattern forming region Abs. The concave / convex pattern 5 is formed so that the area ratio of the concave portions 5b is increased and the depth of the concave portions 5b in the burst pattern forming region Abs is shallower than the depth of the concave portions 5b in the preamble pattern forming region Aps. Thus, the burst pattern forming region Abs in which the portion corresponding to the unit burst region is configured by the convex portion 5a and the amount of the resin material that moves due to the pressing of the convex portion 5a is small is the same as the preamble pattern forming region Aps. The gap generated between the upper surface of the layer 33 and the bottom surface of the recess 5b is sufficiently small. Kusuru, or can fill the recess 5b with a resin material (to avoid a situation where a gap occurs). Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the recess 34b corresponding to the unit burst region are excessively widened.

さらに、このスタンパー1、およびスタンパー1を用いた凹凸パターン形成方法によれば、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように、かつ、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さよりもバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成したことにより、単位バースト領域に対応する部位を凸部5aで構成したことで凸部5aの押し込みによって移動する樹脂材料の量が少ないバーストパターン形成領域Absについて、データトラックパターン形成領域Atsと同様にして、樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、単位バースト領域に対応する凹部34bにおける径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。   Furthermore, according to the stamper 1 and the concavo-convex pattern forming method using the stamper 1, the convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs is larger than the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the data track pattern formation region Ats. The concave / convex pattern 5 is formed so that the area ratio of the concave portion 5b to the concave portion 5b is larger and the depth of the concave portion 5b in the burst pattern formation region Abs is shallower than the depth of the concave portion 5b in the data track pattern formation region Ats. As a result, the portion corresponding to the unit burst region is configured by the convex portion 5a, and the burst pattern forming region Abs in which the amount of the resin material that moves due to the pressing of the convex portion 5a is small is the same as the data track pattern forming region Ats. A gap formed between the top surface of the resin layer 33 and the bottom surface of the recess 5b. Reduce the amount, or, (to avoid a situation where a gap is generated) that satisfies the recess 5b in the resin material can be. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the recess 34b corresponding to the unit burst region are excessively widened.

この場合、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さをD1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さをD2としたときに、D2≦(1+R2)/(1+R1)×D1の条件を満たすように凹凸パターン5を形成したことにより、データトラックパターン形成領域Atsおよびバーストパターン形成領域Absの双方について、スタンパー押付け処理に際して各凹部5b内を樹脂材料で満たすことができる。   In this case, a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the data track pattern formation region Ats by the area of the concave portion 5b is R1, and a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs by the area of the concave portion 5b. Is R2, D1 is the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats, and D2 is the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs, D2 ≦ (1 + R2) / (1 + R1) × By forming the concavo-convex pattern 5 so as to satisfy the condition of D1, the recesses 5b can be filled with the resin material in the stamper pressing process for both the data track pattern formation region Ats and the burst pattern formation region Abs.

また、スタンパー1を用いた凹凸パターン形成方法によれば、中間体30上に形成した樹脂層33に上記のスタンパー1を押し付けるスタンパー押付け処理と、樹脂層33からスタンパー1を剥離するスタンパー剥離処理とをこの順で実行して、凹凸パターン5の凹凸形状を樹脂層33に転写することにより、スタンパー押付け処理に際して、スタンパー1の全域において樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、各凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、樹脂層33の全域において凹部34b,35bの径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避して、高精度で凹凸パターン34,35を形成することができる。   Further, according to the uneven pattern forming method using the stamper 1, a stamper pressing process for pressing the stamper 1 against the resin layer 33 formed on the intermediate body 30, and a stamper peeling process for peeling the stamper 1 from the resin layer 33. Are performed in this order to transfer the concave / convex shape of the concave / convex pattern 5 to the resin layer 33, so that a gap generated between the upper surface of the resin layer 33 and the bottom surface of the concave portion 5 b in the entire area of the stamper 1 during the stamper pressing process. Can be made sufficiently small, or the inside of each recess 5b can be filled with a resin material (a situation in which a gap is generated is avoided). Therefore, the concave and convex patterns 34 and 35 can be formed with high accuracy by avoiding a situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portions 34 b and 35 b are excessively expanded in the entire region of the resin layer 33.

また、本発明に係る情報記録媒体の製造方法によれば、本発明に係る凹凸パターン形成方法によって樹脂層33に転写した凹凸パターン34,35を用いて情報記録媒体40を製造することにより、例えば、バーストパターンにおける単位バースト領域の径方向の端部とデータ記録トラックの中心との位置関係を情報記録媒体40の全域において所望の位置関係とすることができる。したがって、この情報記録媒体40では、正確なトラッキングサーボ制御が可能となる結果、記録再生エラーの発生を回避することができる。   Further, according to the method for manufacturing the information recording medium according to the present invention, by manufacturing the information recording medium 40 using the uneven patterns 34 and 35 transferred to the resin layer 33 by the uneven pattern forming method according to the present invention, for example, The positional relationship between the radial end of the unit burst area in the burst pattern and the center of the data recording track can be set to a desired positional relationship throughout the information recording medium 40. Therefore, in this information recording medium 40, accurate tracking servo control can be performed, and as a result, occurrence of recording / reproducing errors can be avoided.

なお、本発明は、上記の構成および方法に限定されない。例えば、バーストパターンにおける単位バースト領域に対応する部位を凸部5aで構成したスタンパー1について説明したが、図22,23に示すスタンパー1Aのように、バーストパターンにおける単位バースト領域に対応する部位を凹部5bで構成して凹凸パターン5sを形成することもできる。なお、両図において上記のスタンパー1と共通の構成要素については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。このスタンパー1Aでは、凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど凹部5bの深さが浅くなり、面積比が等しい領域同士では凹部5bの深さが互いに等しい深さとなるように形成されている。具体的には、データトラックパターン形成領域Ats内では、前述したスタンパー1と同様にして、領域A1i,A1c,A1oのすべてにおいて面積比が1となっている。また、プリアンブルパターン形成領域Aps内では、前述したスタンパー1と同様にして、領域A2i,A2c,A2oのすべてにおいて面積比が1となっている。したがって、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さD1と、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さ(図示せず)とは互いに等しい深さに規定されている。   In addition, this invention is not limited to said structure and method. For example, the stamper 1 in which the portion corresponding to the unit burst region in the burst pattern is configured by the convex portion 5a has been described. However, the portion corresponding to the unit burst region in the burst pattern is recessed as in the stamper 1A shown in FIGS. The concave / convex pattern 5s can be formed by 5b. In addition, in both figures, about the same component as said stamper 1, the same code | symbol is attached | subjected and the overlapping description is abbreviate | omitted. In this stamper 1A, a region having a larger area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a is formed so that the depth of the concave portion 5b is shallower, and in regions having the same area ratio, the depth of the concave portion 5b is equal to each other. Yes. Specifically, in the data track pattern formation region Ats, the area ratio is 1 in all of the regions A1i, A1c, and A1o in the same manner as the stamper 1 described above. In the preamble pattern formation region Aps, the area ratio is 1 in all of the regions A2i, A2c, and A2o in the same manner as the stamper 1 described above. Therefore, the depth D1 of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the depth (not shown) of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps are defined to be equal to each other.

一方、このスタンパー1Aにおけるバーストパターン形成領域Abs内では、図23に示すように、領域A3i,A3c,A3oのすべてにおいて面積比が1/3となっている。したがって、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さは、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さやプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さよりも深くなるように規定されている。言い換えれば、このスタンパー1Aでは、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さやプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さがバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さよりも浅くなっている。   On the other hand, in the burst pattern formation region Abs of the stamper 1A, as shown in FIG. 23, the area ratio is 1/3 in all of the regions A3i, A3c, and A3o. Therefore, the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is defined to be deeper than the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the depth of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps. . In other words, in this stamper 1A, the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats and the depth of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps are shallower than the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs. Yes.

この場合、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さをD1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さをD2とし、各凸部5aの押し込み深さをAとしたときには、
D1=A+A×R1、D2=A+A×R2
となる。したがって、
D1=(1+R1)/(1+R2)×D2
の条件を満たすようにデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さD1を規定することにより、スタンパー押付け処理時においてバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bが樹脂材料で満たされれば、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bについても樹脂材料で満たすことが可能となる。
In this case, a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the data track pattern formation region Ats by the area of the concave portion 5b is R1, and a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs by the area of the concave portion 5b. Is R2, the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats is D1, the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is D2, and the indentation depth of each protrusion 5a is A. ,
D1 = A + A × R1, D2 = A + A × R2
It becomes. Therefore,
D1 = (1 + R1) / (1 + R2) × D2
By defining the depth D1 of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats so as to satisfy the condition, the data track can be obtained if the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is filled with a resin material during the stamper pressing process. The recess 5b in the pattern formation region Ats can be filled with the resin material.

この場合、このスタンパー1Aでは、前述したスタンパー1と同様にして、サーボパターン形成領域Assの面積がデータトラックパターン形成領域Atsの面積に対して極めて狭いため、データトラックパターン形成領域Ats内の各凸部5aを樹脂層33に対して十分に押し込むことができない状態では、サーボパターン形成領域Ass内の凸部5aについても樹脂層33に対して十分に押し込むことが困難となる。このため、サーボパターン形成領域Ass内の各凸部5aの十分な押し込みが完了するのに先立ってデータトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5bが樹脂材料で満たされた時点でスタンパー押し付け処理が完了する事態、つまりサーボパターン形成領域Ass(バーストパターン形成領域Abs)内の各凹部5b内が樹脂材料で満たされることなくスタンパー押し付け処理が完了する事態を回避すべく、データトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5bの深さD1を上記の「A+A×R1」よりもある程度深く規定するのが好ましい。したがって、
D1≧(1+R1)/(1+R2)×D2
の条件を満たすようにデータトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5bの深さD1を規定することにより、データトラックパターン形成領域Ats内の各凹部5b、およびバーストパターン形成領域Abs内の各凹部5b内を樹脂材料で確実に満たすことが可能となる。
In this case, in this stamper 1A, the area of the servo pattern formation region Ass is extremely narrow with respect to the area of the data track pattern formation region Ats in the same manner as the stamper 1 described above. In a state where the portion 5a cannot be sufficiently pushed into the resin layer 33, it is difficult to sufficiently push the convex portion 5a in the servo pattern formation region Ass into the resin layer 33 as well. For this reason, the stamper pressing process is completed when the concave portions 5b in the data track pattern forming area Ats are filled with the resin material before the sufficient pressing of the convex parts 5a in the servo pattern forming area Ass is completed. In order to avoid a situation in which the stamper pressing process is completed without filling the concave portions 5b in the servo pattern formation region Ass (burst pattern formation region Abs) with the resin material, the data track pattern formation region Ats It is preferable to define the depth D1 of each recess 5b to some extent deeper than “A + A × R1”. Therefore,
D1 ≧ (1 + R1) / (1 + R2) × D2
By defining the depth D1 of each recess 5b in the data track pattern formation region Ats so as to satisfy the condition, each recess 5b in the data track pattern formation region Ats and each recess 5b in the burst pattern formation region Abs The inside can be reliably filled with a resin material.

また、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR3とし、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さをD3とし、プリアンブルパターン形成領域Apsおよびバーストパターン形成領域Abs内の各凸部5aの押し込み深さをAとしたときには、
D3=A+A×R3、D2=A+A×R2
となる。したがって、
D3=(1+R3)/(1+R2)×D2
の条件を満たすようにプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さD3を規定することにより、スタンパー押付け処理時においてバーストパターン形成領域Abs内の凹部5bが樹脂材料で満たされれば、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bについても樹脂材料で満たすことが可能となる。
A value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the preamble pattern formation region Aps by the area of the concave portion 5b is R3, the depth of the concave portion 5b in the preamble pattern formation region Aps is D3, and the preamble pattern formation region Aps and burst When the indentation depth of each convex portion 5a in the pattern formation region Abs is A,
D3 = A + A × R3, D2 = A + A × R2
It becomes. Therefore,
D3 = (1 + R3) / (1 + R2) × D2
By defining the depth D3 of the recess 5b in the preamble pattern formation region Aps so as to satisfy the above condition, if the recess 5b in the burst pattern formation region Abs is filled with a resin material during the stamper pressing process, the formation of the preamble pattern The recess 5b in the region Aps can be filled with the resin material.

このように、このスタンパー1Aによれば、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、プリアンブルパターン形成領域Aps内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように、かつ、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さよりもプリアンブルパターン形成領域Aps内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成したことにより、凸部5aの押し込みによって移動する樹脂材料の量がバーストパターン形成領域Abs内よりも少ないプリアンブルパターン形成領域Apsについて、バーストパターン形成領域Absと同様にして、樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、プリアンブルパターンに対応する凹部34bにおける径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。   Thus, according to this stamper 1A, the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the preamble pattern formation region Aps is larger than the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the burst pattern forming region Abs. In addition, since the concave / convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b in the preamble pattern forming region Aps is shallower than the depth of the concave portion 5b in the burst pattern forming region Abs, the convex portion 5a is moved by pressing. For the preamble pattern formation region Aps in which the amount of the resin material to be performed is smaller than in the burst pattern formation region Abs, a sufficient gap is formed between the upper surface of the resin layer 33 and the bottom surface of the recess 5b in the same manner as the burst pattern formation region Abs. Or the recess 5b is filled with a resin material (a gap is formed). To avoid a situation) can be. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portion 34b corresponding to the preamble pattern are excessively widened.

また、このスタンパー1Aによれば、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aに対する凹部5bの面積比よりも、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きくなるように、かつ、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さよりもデータトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成したことにより、凸部5aの押し込みによって移動する樹脂材料の量がバーストパターン形成領域Abs内よりも少ないデータトラックパターン形成領域Atsについて、バーストパターン形成領域Absと同様にして、樹脂層33の上面と凹部5bの底面との間に生じる隙間を十分に小さくする、または、凹部5b内を樹脂材料で満たす(隙間が生じる事態を回避する)ことができる。したがって、ガードバンド部(またはデータ記録トラック)に対応する凹部34bにおける径方向の長さや周方向の長さが過剰に拡がる事態を回避することができる。   Further, according to the stamper 1A, the area ratio of the recess 5b to the protrusion 5a in the data track pattern formation region Ats is larger than the area ratio of the recess 5b to the protrusion 5a in the burst pattern formation region Abs. In addition, since the concave / convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b in the data track pattern forming region Ats is smaller than the depth of the concave portion 5b in the burst pattern forming region Abs, the concave portion 5b is moved by pressing the convex portion 5a. For the data track pattern formation region Ats in which the amount of the resin material to be processed is smaller than in the burst pattern formation region Abs, a gap formed between the upper surface of the resin layer 33 and the bottom surface of the recess 5b is formed in the same manner as the burst pattern formation region Abs. Make it small enough or fill the recess 5b with a resin material (a gap is created) To avoid a situation) can be. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the radial length and the circumferential length of the concave portion 34b corresponding to the guard band portion (or data recording track) are excessively widened.

この場合、データトラックパターン形成領域Ats内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凸部5aの面積を凹部5bの面積で除した値をR2とし、データトラックパターン形成領域Ats内の凹部5bの深さをD1とし、バーストパターン形成領域Abs内の凹部5bの深さをD2としたときに、D1≧(1+R1)/(1+R2)×D2の条件を満たすように凹凸パターン5を形成したことにより、データトラックパターン形成領域Atsおよびバーストパターン形成領域Absの双方について、スタンパー押付け処理に際して各凹部5b内を樹脂材料で満たすことができる。   In this case, a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the data track pattern formation region Ats by the area of the concave portion 5b is R1, and a value obtained by dividing the area of the convex portion 5a in the burst pattern formation region Abs by the area of the concave portion 5b. Is R2, D1 is the depth of the recess 5b in the data track pattern formation region Ats, and D2 is the depth of the recess 5b in the burst pattern formation region Abs, D1 ≧ (1 + R1) / (1 + R2) × By forming the concavo-convex pattern 5 so as to satisfy the condition of D2, the recesses 5b can be filled with the resin material in the stamper pressing process for both the data track pattern formation region Ats and the burst pattern formation region Abs.

さらに、本発明に係るスタンパー1には、上記のスタンパー1の凹凸形状をスタンパー形成材料に転写して製造したスタンパーをマスタースタンパーとして用いて、このマスタースタンパーの凹凸形状を他のスタンパー形成材料に転写することによって、すなわち、上記のスタンパー1の凹凸形状を偶数回だけ転写することによって形成したスタンパーがこれに含まれる。また、上記のスタンパー1の製造工程において製作した原盤18も本発明におけるスタンパーに含まれる。したがって、上記のスタンパー1に代えて、スタンパー1の凹凸形状を偶数回だけ転写して形成したスタンパーや原盤18をスタンパーとして用いて情報記録媒体40を製造することができる。また、平行四辺形状の単位バースト領域が周方向に並ぶバーストパターンを有するスタンパー1について説明したが、略楕円形(円形を含む)の単位バースト領域が周方向に並ぶバーストパターンを形成可能なスタンパーに本発明を適用することができる。   Furthermore, the stamper 1 according to the present invention uses the stamper manufactured by transferring the uneven shape of the stamper 1 to a stamper forming material as a master stamper, and transfers the uneven shape of the master stamper to another stamper forming material. In other words, the stamper formed by transferring the uneven shape of the stamper 1 only an even number of times is included. The master 18 manufactured in the manufacturing process of the stamper 1 is also included in the stamper according to the present invention. Therefore, instead of the stamper 1 described above, the information recording medium 40 can be manufactured using the stamper or the master 18 formed by transferring the uneven shape of the stamper 1 an even number of times as a stamper. Further, the stamper 1 having the burst pattern in which parallelogram-shaped unit burst regions are arranged in the circumferential direction has been described. However, a stamper capable of forming a burst pattern in which substantially elliptical (including circular) unit burst regions are arranged in the circumferential direction has been described. The present invention can be applied.

さらに、上記のインプリント装置による凹凸パターン形成方法(情報記録媒体40の製造の製造方法)では、中間体30(樹脂層33)に対するスタンパー1の押し付け処理開始前からスタンパー1の剥離処理が完了するまでの間において、樹脂層33およびスタンパー1の双方に対する加熱処理を継続して実行しているが、本発明はこれに限定されず、例えば、樹脂層33に対してある程度十分にスタンパー1を押し付けた後に、樹脂層33およびスタンパー1に対する加熱処理を終了し、その後にスタンパー1を剥離する工程を採用することもできる。この場合、スタンパー1の剥離に先立ってスタンパー1および中間体30の双方を樹脂層33のガラス転移点以下の温度まで冷却することもできる。また、そのガラス転移点が常温(一例として、25℃程度)よりも低い樹脂材料を用いて本発明における樹脂層を形成し、スタンパー押付け処理からスタンパー剥離処理までの間において加熱処理や冷却処理を実行することなく凹凸パターンを樹脂層に形成する方法を採用することもできる。さらに、本発明における樹脂材料として紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂などを使用して樹脂層を形成し、スタンパー押付け処理後に紫外線または電子線を照射して樹脂層硬化(または、半硬化)させてからスタンパー剥離処理を実行することで凹凸パターンを樹脂層に形成する方法を採用することもできる。   Furthermore, in the uneven pattern forming method using the above-described imprint apparatus (manufacturing method for manufacturing the information recording medium 40), the separation process of the stamper 1 is completed before the stamper 1 is pressed against the intermediate body 30 (resin layer 33). In the meantime, the heat treatment for both the resin layer 33 and the stamper 1 is continuously executed. However, the present invention is not limited to this, and for example, the stamper 1 is sufficiently pressed against the resin layer 33 to some extent. Thereafter, the heat treatment for the resin layer 33 and the stamper 1 may be terminated, and then the stamper 1 may be peeled off. In this case, both the stamper 1 and the intermediate 30 can be cooled to a temperature below the glass transition point of the resin layer 33 prior to the separation of the stamper 1. Further, the resin layer in the present invention is formed using a resin material whose glass transition point is lower than room temperature (for example, about 25 ° C.), and heat treatment and cooling treatment are performed between the stamper pressing treatment and the stamper peeling treatment. A method of forming a concavo-convex pattern on the resin layer without performing it can also be adopted. Furthermore, a resin layer is formed using an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin as the resin material in the present invention, and the resin layer is cured (or semi-cured) by irradiating ultraviolet rays or an electron beam after the stamper pressing treatment. It is also possible to adopt a method of forming a concavo-convex pattern on the resin layer by performing a stamper peeling process after the removal.

また、本発明における基材に相当する中間体30(磁性層32)の上に形成した樹脂層33にスタンパー1を押し付けて情報記録媒体40を製造する方法について説明したが、本発明に係る情報記録媒体製造方法は、これに限定されない。例えば、上記の中間体30と樹脂層33との間に1層以上のマスク層を形成すると共に、スタンパー1の押し付けによって樹脂層33に転写した凹凸パターン34,35をエッチング処理等によって下層側のマスク層(中間体30側のマスク層)に順次転写し、中間体30上のマスク層に転写した凹凸パターンをマスクとして用いて磁性層32をエッチング処理して凹凸パターン41を形成する製造方法を採用することができる。   Further, the method of manufacturing the information recording medium 40 by pressing the stamper 1 against the resin layer 33 formed on the intermediate 30 (magnetic layer 32) corresponding to the base material in the present invention has been described. The recording medium manufacturing method is not limited to this. For example, one or more mask layers are formed between the intermediate body 30 and the resin layer 33, and the uneven patterns 34 and 35 transferred to the resin layer 33 by pressing the stamper 1 are etched on the lower layer side. A manufacturing method in which the concavo-convex pattern 41 is formed by etching the magnetic layer 32 using the concavo-convex pattern transferred to the mask layer (the mask layer on the intermediate 30 side) sequentially and transferred to the mask layer on the intermediate 30 as a mask. Can be adopted.

さらに、例えば、データトラックパターン形成領域Atsについては、領域A1i,A1c,A1o内(図3参照)における凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど、その領域内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成し、プリアンブルパターン形成領域Apsについては、領域A2i,A2c,A2o内(図4参照)における凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど、その領域内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成し、バーストパターン形成領域Absについては、領域A3i,A3c,A3o内(図5参照)における凸部5aに対する凹部5bの面積比が大きい領域ほど、その領域内の凹部5bの深さが浅くなるように凹凸パターン5を形成した例について説明したが、上記の面積比を比較する対象の「領域」については、上記の例示のような狭い範囲に限定されない。例えば、同種のパターン(機能的に同種のパターン、または、形状的に同種のパターン)が形成されている領域を1つの領域とし、相違するパターンが形成されている領域毎の凸部5aに対する凹部5bの面積比を比較し、面積比が大きい領域内の凹部5bの深さを深くするように凹凸パターンを形成することができる。 Further, for example, in the data track pattern formation region Ats, the depth of the concave portion 5b in the region A1i, A1c, A1o (see FIG. 3) increases as the area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a increases. The concave / convex pattern 5 is formed so as to be shallower , and the preamble pattern formation region Aps has a larger area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the regions A2i, A2c, A2o (see FIG. 4). The concave / convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b becomes shallow , and the burst pattern formation region Abs has a large area ratio of the concave portion 5b to the convex portion 5a in the regions A3i, A3c, A3o (see FIG. 5). As described above, the example in which the concave / convex pattern 5 is formed so that the depth of the concave portion 5b in the region is shallow has been described. For "area" of the object for comparing the serial area ratio of it is not limited to a narrow range, such as in the above example. For example, a region in which the same type of pattern (functionally the same type of pattern or the same type of pattern in shape) is formed as one region, and the concave portion with respect to the convex portion 5a for each region in which a different pattern is formed By comparing the area ratio of 5b, the concave / convex pattern can be formed so as to increase the depth of the concave part 5b in the region having a large area ratio.

スタンパー1の平面図である。2 is a plan view of the stamper 1. FIG. スタンパー1におけるデータトラックパターン形成領域Atsおよびサーボパターン形成領域Ass(プリアンブルパターン形成領域Apsおよびバーストパターン形成領域Abs)の一例を示す平面図である。3 is a plan view showing an example of a data track pattern formation area Ats and a servo pattern formation area Ass (preamble pattern formation area Aps and burst pattern formation area Abs) in the stamper 1. FIG. スタンパー1におけるデータトラックパターン形成領域Atsの平面図である。3 is a plan view of a data track pattern formation region Ats in the stamper 1. FIG. スタンパー1におけるプリアンブルパターン形成領域Apsの平面図である。3 is a plan view of a preamble pattern formation region Aps in the stamper 1. FIG. スタンパー1におけるバーストパターン形成領域Absの平面図である。3 is a plan view of a burst pattern formation region Abs in the stamper 1. FIG. スタンパー1の断面図である。2 is a cross-sectional view of the stamper 1. FIG. スタンパー1の製造工程において基材11上にレジスト層12を形成して潜像12aを形成した状態の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a state in which a resist layer 12 is formed on a base material 11 to form a latent image 12a in the manufacturing process of the stamper 1. 図7に示す状態のレジスト層12を現像処理して凹凸パターン13を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which developed the resist layer 12 of the state shown in FIG. 7, and formed the uneven | corrugated pattern 13. FIG. 凹凸パターン13が形成されたレジスト層12をマスクとして用いて基材11をエッチング処理して凹凸パターン14を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which etched the base material 11 using the resist layer 12 in which the uneven | corrugated pattern 13 was formed as a mask, and formed the uneven | corrugated pattern 14. FIG. 凹凸パターン14の形成が完了した基材11上にレジスト層15を形成して潜像15aを形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the resist layer 15 on the base material 11 in which formation of the uneven | corrugated pattern 14 was completed, and formed the latent image 15a. 図10に示す状態のレジスト層15を現像処理して凹凸パターン16を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which developed the resist layer 15 of the state shown in FIG. 10, and formed the uneven | corrugated pattern 16. FIG. 凹凸パターン16が形成されたレジスト層15をマスクとして用いて基材11をエッチング処理して凹凸パターン17を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which formed the uneven | corrugated pattern 17 by etching the base material 11 using the resist layer 15 in which the uneven | corrugated pattern 16 was formed as a mask. レジスト層15を除去した状態の基材11の断面図である。It is sectional drawing of the base material 11 of the state which removed the resist layer 15. FIG. 基材11における凹凸パターン14,17の形成面にニッケル層19を形成した状態の断面図である。3 is a cross-sectional view of a state in which a nickel layer 19 is formed on the surface of the base material 11 where the concave and convex patterns 14 and 17 are formed. FIG. 図14に示す状態のニッケル層19(原盤20)から基材11を剥離した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which peeled the base material 11 from the nickel layer 19 (master 20) of the state shown in FIG. 原盤20における凹凸パターン21,22の形成面にニッケル層25を形成した状態の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a state in which a nickel layer 25 is formed on the formation surface of the concave and convex patterns 21 and 22 on the master 20. 磁性層32上に樹脂層33を形成した状態の中間体30の断面図である。3 is a cross-sectional view of the intermediate body 30 in a state where a resin layer 33 is formed on a magnetic layer 32. FIG. 樹脂層33にスタンパー1を押し付けた状態の断面図である。3 is a cross-sectional view of a state in which a stamper 1 is pressed against a resin layer 33. FIG. 図18に示す状態の中間体30(樹脂層33)からスタンパー1を剥離して凹凸パターン34,35を形成した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which peeled the stamper 1 from the intermediate body 30 (resin layer 33) of the state shown in FIG. 18, and formed the uneven | corrugated pattern 34,35. 図19に示す凹凸パターン34,35を用いて磁性層32をエッチングすることによって凹凸パターン41を形成した状態の断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view of a state in which a concavo-convex pattern 41 is formed by etching the magnetic layer 32 using the concavo-convex patterns 34 and 35 shown in FIG. 19. 図20に示す状態の樹脂層33を除去した情報記録媒体40の断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view of the information recording medium 40 with the resin layer 33 in the state shown in FIG. 20 removed. スタンパー1Aにおけるデータトラックパターン形成領域Atsおよびサーボパターン形成領域Ass(プリアンブルパターン形成領域Apsおよびバーストパターン形成領域Abs)の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the data track pattern formation area Ats and the servo pattern formation area Ass (preamble pattern formation area Aps and burst pattern formation area Abs) in the stamper 1A. スタンパー1Aにおけるバーストパターン形成領域Absの平面図である。It is a top view of burst pattern formation area Abs in stamper 1A. 従来のインプリント方法によってスタンパー10xを樹脂層20xに押し込んだ状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which stamped the stamper 10x in the resin layer 20x with the conventional imprint method. 図24に示す状態のスタンパー10xに撓みが生じた状態の断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view showing a state in which the stamper 10x in the state shown in FIG. 24 is bent. 従来のインプリント方法によってスタンパー10xを樹脂層20xに押し込んだ状態の他の断面図である。It is another cross-sectional view of a state in which the stamper 10x is pushed into the resin layer 20x by a conventional imprint method. 従来のインプリント方法においてスタンパー10xを樹脂層20xから剥離した状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which peeled the stamper 10x from the resin layer 20x in the conventional imprinting method. 従来のインプリント方法によって形成した凹凸パターン24xをマスクとして用いて製造した情報記録媒体100xの断面図である。It is sectional drawing of the information recording medium 100x manufactured using the uneven | corrugated pattern 24x formed by the conventional imprint method as a mask.

符号の説明Explanation of symbols

1,1A スタンパー
5,5s,5t,34,35,41 凹凸パターン
5a,34a,35a,41a 凸部
5b,34b,35b,41b 凹部
30 中間体
31 基材
32 磁性層
33 樹脂層
40 情報記録媒体
A1i,A1c,A1o,A2i,A2c,A2o,A3i,A3c,A3o 領域
Abs バーストパターン形成領域
Aps プリアンブルパターン形成領域
Ass サーボパターン形成領域
Ats データトラックパターン形成領域
D1,D2 深さ
L1a,L1b,L2ai,L2ac,L2ao,L2bi,L2bc,L2bo,L3ai,L3ac,L3ao,L3bi,L3bc,L3bo,L11s〜L13s,L11t〜L13t 長さ
1,1A Stamper 5,5s, 5t, 34,35,41 Concave and convex pattern 5a, 34a, 35a, 41a Convex part 5b, 34b, 35b, 41b Concave part 30 Intermediate body 31 Base material 32 Magnetic layer 33 Resin layer 40 Information recording medium A1i, A1c, A1o, A2i, A2c, A2o, A3i, A3c, A3o area Abs burst pattern forming area Aps preamble pattern forming area Ass servo pattern forming area Ats data track pattern forming area D1, D2 depth L1a, L1b, L2ai, L2ac, L2ao, L2bi, L2bc, L2bo, L3ai, L3ac, L3ao, L3bi, L3bc, L3bo, L11s to L13s, L11t to L13t Length

Claims (4)

データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、
前記スタンパー側凹凸パターンは、前記サーボパターンにおけるバーストパターンの領域に対応するバーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、前記データトラックパターンの領域に対応するデータトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように形成され、かつ、前記バーストパターン形成領域内の前記凹部の深さよりも前記データトラックパターン形成領域内の前記凹部の深さが浅くなるように形成されると共に、前記データトラックパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR1とし、前記バーストパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR2とし、前記データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、前記バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、
D1≧(1+R1)/(1+R2)×D2
の条件を満たし、かつ、前記各凸部の突端部がほぼ面一になるように形成されているスタンパー。
The stamper side uneven pattern is formed so that an information recording medium in which the data track pattern and the servo pattern are formed in the uneven pattern can be manufactured,
The stamper side concavo-convex pattern is formed in the data track pattern formation region corresponding to the data track pattern region rather than the area ratio of the concave portion to the convex portion in the burst pattern formation region corresponding to the burst pattern region in the servo pattern. The concave portion is formed so that the area ratio of the concave portion to the convex portion is large, and the depth of the concave portion in the data track pattern forming region is shallower than the depth of the concave portion in the burst pattern forming region. A value obtained by dividing the area of the convex portion in the data track pattern formation region by the area of the concave portion is R1, and a value obtained by dividing the area of the convex portion in the burst pattern formation region by the area of the concave portion Is R2, and the depth of the recess in the data track pattern formation region is D1, The depth of the recesses of the pattern forming region is taken as D2,
D1 ≧ (1 + R1) / (1 + R2) × D2
A stamper that satisfies the above condition and is formed so that the protruding end portions of the respective convex portions are substantially flush with each other.
データトラックパターンおよびサーボパターンが凹凸パターンで形成された情報記録媒体を製造可能にスタンパー側凹凸パターンが形成され、
前記スタンパー側凹凸パターンは、前記データトラックパターンの領域に対応するデータトラックパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比よりも、前記サーボパターンにおけるバーストパターンの領域に対応するバーストパターン形成領域内の凸部に対する凹部の面積比が大きくなるように形成され、かつ、前記データトラックパターン形成領域内の前記凹部の深さよりも前記バーストパターン形成領域内の前記凹部の深さが浅くなるように形成されると共に、前記データトラックパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR1とし、前記バーストパターン形成領域内の前記凸部の面積を前記凹部の面積で除した値をR2とし、前記データトラックパターン形成領域内の凹部の深さをD1とし、前記バーストパターン形成領域内の凹部の深さをD2としたときに、
D2≦(1+R2)/(1+R1)×D1
の条件を満たし、かつ、前記各凸部の突端部がほぼ面一になるように形成されているスタンパー。
The stamper side uneven pattern is formed so that an information recording medium in which the data track pattern and the servo pattern are formed in the uneven pattern can be manufactured,
The stamper side concavo-convex pattern is formed in the burst pattern forming region corresponding to the burst pattern region in the servo pattern, rather than the area ratio of the concave portion to the convex portion in the data track pattern forming region corresponding to the data track pattern region. The concave portion is formed so that the area ratio of the concave portion to the convex portion is large, and the depth of the concave portion in the burst pattern forming region is shallower than the depth of the concave portion in the data track pattern forming region. A value obtained by dividing the area of the convex portion in the data track pattern formation region by the area of the concave portion is R1, and a value obtained by dividing the area of the convex portion in the burst pattern formation region by the area of the concave portion Is R2, and the depth of the recess in the data track pattern formation region is D1, The depth of the recesses of the pattern forming region is taken as D2,
D2 ≦ (1 + R2) / (1 + R1) × D1
A stamper that satisfies the above condition and is formed so that the protruding end portions of the respective convex portions are substantially flush with each other.
基材の表面に樹脂材料を塗布して形成した樹脂層に請求項1または2記載のスタンパーにおける前記スタンパー側凹凸パターンを押し付けるスタンパー押付け処理と、前記樹脂層から前記スタンパーを剥離するスタンパー剥離処理とをこの順で実行して、前記スタンパー側凹凸パターンの凹凸形状を前記樹脂層に転写する凹凸パターン形成方法。 And the stamper pressing process presses the stamper side convex pattern in claim 1, wherein the stamper to the resin layer formed by a resin material is applied to the surface of the substrate, a stamper peeling process for peeling the stamper from the resin layer Are performed in this order, and the concavo-convex pattern forming method for transferring the concavo-convex shape of the stamper-side concavo-convex pattern to the resin layer. 請求項記載の凹凸パターン形成方法によって前記樹脂層に転写した凹凸パターンを用いて情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法。 An information recording medium manufacturing method for manufacturing an information recording medium using the uneven pattern transferred to the resin layer by the uneven pattern forming method according to claim 3 .
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