JP4583189B2 - 形状良否判定装置および形状良否判定方法 - Google Patents
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Description
かかる構成によれば、欠陥を有する基板を撮像した画像データの特徴値と、製品基板を撮像した画像データから得られる特徴値とを判別関数を利用して比較することができるため、製品基板を撮像した画像データと欠陥を有する基板を撮像した画像データとの類似性を判断することができた。すなわち、製品基板を撮像した画像データと欠陥を有する基板を撮像した画像データとの類似性が強い場合には、当該製品基板が欠陥を有していると判定することができ、製品基板を撮像した画像データと欠陥を有する基板を撮像した画像データとの類似性が弱い場合には当該製品基板が良品であると判定することが可能であった。
本発明は、上記課題にかんがみてなされたもので、予め教示用のサンプルを作成しなくて良否判定が実行できる形状良否判定装置の提供を目的とする。
上記のように構成した請求項4の発明において、鏡面反射と拡散反射の双方を考慮した上記反射挙動を推定することができる。
上記のように構成した請求項5の発明において、形状データ取得手段が上記良品または不良品の形状にばらつきを持たせた複数の3次元データを取得するため、形状のばらつきを考慮した上記推定特徴値を算出することができる。従って、上記良否判定手段が統計的手法により上記実特徴値と上記推定特徴値とを比較して良否判定を行う場合には、信頼性を向上させることができる。むろん、上記推定特徴値の度数も容易に増大させることができるため、統計的信頼性をより向上させることができる。
請求項2にかかる発明によれば、電磁波の挙動から推定イメージを推定することができる。
請求項3にかかる発明によれば、検査対象物の反射像を推定することができる。
請求項4にかかる発明によれば、反射像を正確に推定することができる。
請求項5にかかる発明によれば、良否判定を正確に行うことができる。
(1)形状良否判定装置の構成:
(2)不良データ蓄積処理:
(3)良データ蓄積処理:
(4)判別関数について:
(5)良否判定処理:
(6)変形例:
図1は、本発明にかかる形状良否判定装置の構成を示している。同図において、形状良否判定装置10は、相互に接続された撮像ユニット20とコンピュータ30とから構成されている。撮像ユニット20は検査対象物の実装基板50を撮像して撮像イメージを生成し、同撮像イメージをコンピュータ30に出力する。コンピュータ30は撮像イメージを入力し、同撮像イメージを解析することにより、撮像を行った実装基板50の良否を判定する。図1において、撮像ユニット20は、実装基板50が一定位置に載置されるとともに、コントローラ21の指令に基づいてX−Y(水平)方向に移動可能なX−Yステージ23を備えている。カメラ22は、所定の光学レンズからなる光学系22aを鉛直下方に配向させており、鉛直下方の像を入力することが可能となっている。カメラ22の内部にはCCD撮像板22bが備えられており、光学系22aは鉛直下方の像をCCD撮像板22bに結像することが可能となっている。
図4は、本発明において実行される不良データ蓄積処理の流れを示している。同図において、ステップS100において、形状データ取得部M2は、形状データ34dに基づいた複数のはんだ形状の画像をディスプレイ36に出力する。ここでは、はんだ小を不良として判定するための不良データを作成する手順を例に挙げて説明する。図5は、ステップS100でディスプレイ36に表示される画像の例を示している。同図において、予め6通り用意された形状データ34dに基づいて、チップ部品51を実装基板50に実装した際のはんだ52の中央断面形状がA〜Fの6通り示されている。形状データ34dは3次元の形状を表すデータであるが、ここでは形状を比較しやすくするために2次元画像で表現している。また、A〜Fは順にはんだ量が少なくなり、はんだの最高点の高さ(以下、はんだ高さhという。)も順に低くなる傾向を有している。
γ=arctan(d/r) ・・・(1)
ls'=li・(1−c)・cosmβ ・・・(2)
α=π/2−γ−θa,b ・・・(3)
β=θa,b−α=−π/2+γ+2θa,b ・・・(4)
なお、上記式(3),(4)において、αは画素Pa,bにおけるはんだ表面の法線と入射光Ciとがなす角を表している。上記式(2)に上記式(4)を代入することにより、下記式(5)を得ることができる。
ls'=li・(1−c)・cosm(−π/2+γ+2θa,b) ・・・(5)
以上により、鏡面反射に由来するCCD撮像素子への到達成分Cs'の光量ls'を入射光の光量liとはんだ表面の粗さcと鏡面反射の局所化度合mと入射角度γと平均傾斜角度θa,bとから算出することができる。
ld=li・c・cosα ・・・(6)
すなわち、拡散反射光Cdの光量ldは、画素Pa,bにおけるはんだ表面の法線と入射光Ciとがなす角αの余弦に比例する。また、拡散反射光Cdは、はんだ52の表面において入射光Ciが乱反射することにより生じる反射光であり、全方向一様な光量で反射すると考えることができる。従って、拡散反射に由来するCCD撮像素子への到達成分Cd'の光量ld'は、光量ldと同じとなる。さらに、上記式(6)に上記式(3)を代入すると下記式(7)を得ることができる。
ld=li・c・cos(π/2−γ−θa,b) ・・・(7)
lo=ls'+ld' ・・・(8)
lo=li・(1−c)・sinm(γ+2θa,b)
+li・c・sin(γ+θa,b) ・・・(9)
次に、良データ蓄積処理について説明する。良データ蓄積処理は、不良データ蓄積処理とは別途実行される。図11は、良データ蓄積処理の流れを示している。同図において、ステップS200では、実際に作成した実装基板50の撮像をカメラ22にて行う。撮像を行う際には、リングライト24から単位面積当たりの光量liで照明が行われる。なお、実装基板50を量産する際の製造条件を適用することにより、良品である実装基板50を作成することができるため、良品である実装基板50の作成が手間となることはない。
以上のようにして、推定特徴値F1〜F300と実特徴値G1〜G300が算出できると、これらに基づいて判別関数を算出することができる。図14は、判別関数を概念的に示している。同図において、横軸に実特徴値G1と推定特徴値F1をとり、縦軸に実特徴値G2と推定特徴値F2をとったグラフが示されており、実特徴値G1,G2と推定特徴値F1,F2の分布領域が示されている。(G1,G2)の分布は良品を撮像して得られたものであるため、良品の集合として示している。一方、(F1,F2)の分布は不良の形状データ34dから推定的に算出されたものであるため、不良品の集合として示している。(G1,G2)は製造工程のばらつきの範囲で分布することとなり、(F1,F2)はステップS110にて設定したばらつきの範囲で分布することとなる。
HG=s1G1+s2G2+s3
HF=s1F1+s2F2+s3 ・・・(10)
なお、上記式(10)において、HGおよびHFは判別関数を示しており、s1,s2,s3は係数を示している。すなわち、上記式(10)において、判別関数HG,HFは、実特徴値G1,G2および推定特徴値F1,F2の線形結合により与えられている。
図15は、良否判定処理の流れを示している。同図において、ステップS300において、検査対象の実装基板50の撮像を行う。ここでは、良データ蓄積処理のステップS200と同様にはんだ52の周辺以外をマスクした撮像イメージ33aがVRAM33に記憶される。ステップS310においては、ステップS210と同様に特徴値算出部M4が実特徴値Gの算出を行う。ステップS320では、判別関数HGをHDD34から読み出して、同判別関数HGに実特徴値Gを代入し、判別関数HGの値を算出する。
以上説明した実施形態において、不良品の形状を表す形状データ34dに基づいて不良品の推定特徴値Fを算出するものを例示したが、良品についても推定特徴値Fを算出してもよい。例えば、図5に示した良品の断面形状A,B,Cに対応する形状データ34dに基づいて推定特徴値Fを算出してもよい。その場合、図10に示す右欄において当該推定特徴値Fが良品のものであることを識別しておき、判別関数を算出する際に、図10に示す右欄を参照して、当該推定特徴値Fを良品の分布に帰属させればよい。このようにすることにより、良品についても実際に撮像を行う必要をなくすことができる。
20…撮像ユニット
21…コントローラ
21a…画像メモリ(VRAM)
22…カメラ
22a…光学系
22b…CCD撮像板
23…X−Yステージ
24…リングライト
30…コンピュータ
31…CPU
32…RAM
33…ビデオメモリ(VRAM)
33a…撮像イメージ
33b…推定イメージ
34…ハードディスク(HDD)
34b,M…良否判定プログラム
34c…基板データ
34d…形状データ
34e1,G…実特徴値
34e2,F…推定特徴値
34f,H…判別関数
36…ディスプレイ
38a…キーボード
38b…マウス
50…実装基板
51…チップ部品
52…はんだ
A〜F…断面形状
M1…撮像実行部
M2…形状データ取得部
M3…推定部
M3a…入射角度取得部
M3b…反射挙動推定部
M3c…到達光量推定部
M3d…推定イメージ生成部
M4…特徴値算出部
M5…判別関数算出部
M6…良否判定部
P…画素
S…視野
γ…入射角度
θ…平均傾斜角度
Claims (6)
- 検査対象物を撮像して撮像イメージを生成する撮像手段と、
上記撮像イメージの特徴値を実特徴値として算出する実特徴値算出手段と、
良品または不良品の形状を表す3次元データを取得する形状データ取得手段と、
上記3次元データに基づいて上記良品または不良品を撮像したときの上記撮像イメージを推定した推定イメージを生成する推定手段と、
同推定された上記推定イメージの上記特徴値を推定特徴値として算出する推定特徴値算出手段と、
上記実特徴値と上記推定特徴値とを比較することにより上記検査対象物の良否判定を行う良否判定手段とを具備し、
上記実特徴値算出手段と上記推定特徴値算出手段とは、上記撮像イメージと上記推定イメージとから複数の上記実特徴値と上記推定特徴値とを算出するとともに、
上記良否判定手段は、複数の上記実特徴値と上記推定特徴値とをそれぞれ線形結合させた判別値を比較することにより良否判定を行う、
ことを特徴とする形状良否判定装置。 - 上記撮像手段は、上記検査対象物を経由して入射される電磁波の状態を位置ごとに取得することにより上記撮像イメージを生成するとともに、
上記推定手段は、
上記撮像手段が上記検査対象物を撮像する際に同検査対象物に入射する上記電磁波の入射角度を取得する入射角度取得手段と、
上記3次元データと上記入射角度に基づいて、上記電磁波が上記良品または不良品に到達する際の挙動を推定する挙動推定手段と、
上記挙動に基づいて上記撮像手段に到達する上記電磁波の状態を推定する到達状態推定手段と、
上記撮像手段に到達する上記電磁波の状態を示す値を位置ごとに配列させることにより上記推定イメージを生成する推定イメージ生成手段とを具備することを特徴とする請求項1に記載の形状良否判定装置。 - 上記挙動推定手段は、上記電磁波が上記良品または不良品に到達する際の反射挙動を推定することを特徴とする請求項2に記載の形状良否判定装置。
- 上記挙動推定手段が上記反射挙動を推定するにあたり、鏡面反射と拡散反射とが考慮されることを特徴とする請求項3に記載の形状良否判定装置。
- 形状データ取得手段は、上記良品または不良品の形状にばらつきを持たせた複数の3次元データを取得することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の形状良否判定装置。
- 検査対象物を撮像して撮像イメージを生成する撮像工程と、
上記撮像イメージの特徴値を実特徴値として算出する実特徴値算出工程と、
良品または不良品の形状を表す3次元データを取得する形状データ取得工程と、
上記3次元データに基づいて上記良品または不良品を撮像したときの上記撮像イメージを推定した推定イメージを生成する推定工程と、
同推定された上記撮像イメージの上記特徴値を推定特徴値として算出する推定特徴値算出工程と、
上記実特徴値と上記推定特徴値とを比較することにより上記検査対象物の良否判定を行う良否判定工程とを含み、
上記実特徴値算出工程と上記推定特徴値算出工程では、上記撮像イメージと上記推定イメージとから複数の上記実特徴値と上記推定特徴値とを算出するとともに、
上記良否判定工程では、複数の上記実特徴値と上記推定特徴値とをそれぞれ線形結合させた判別値を比較することにより良否判定を行う、
ことを特徴とする形状良否判定方法。
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